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  1. 互いに向かい合って配置された第1の基板と第2の基板と、を有する表示装置であって
    前記第1の基板上に、
    端子部と、
    酸化物半導体を有するスイッチングトランジスタと、
    第1の光センサと、
    第2の光センサと、
    複数の画素を有する画素回路と、
    前記画素回路と基板端部の間に駆動回路と、を有し
    前記第1の光センサは、非晶質半導体を有する第1の光電変換素子と、第1の増幅回路と、を有し、
    前記第2の光センサは、多結晶半導体を有する第2の光電変換素子と、第2の増幅回路と、を有し、
    前記第2の基板は対向電極を有し、
    前記対向電極は、前記スイッチングトランジスタを介して前記端子部と電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
  2. 請求項1において、
    前記第1の光電変換素子は、非晶質シリコンを有していることを特徴とする表示装置。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記第2の光電変換素子は、多結晶シリコンまたは微結晶シリコンを有していることを特徴とする表示装置。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項において、
    前記酸化物半導体のキャリア濃度は、1×1014/cm未満であることを特徴とする表示装置。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一項において、
    前記駆動回路は、単結晶半導体で作製されていることを特徴とする表示装置。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか一項において、
    前記駆動回路は、COG法、ワイヤボンディング法、またはTAB法で接続されていることを特徴とする表示装置。
  7. 請求項1乃至請求項6のいずれか一項において、
    前記対向電極は、前記スイッチングトランジスタが非導通状態の時に、浮遊状態となることを特徴とする表示装置。
  8. 請求項1乃至請求項7のいずれか一項において、
    前記表示装置は液晶表示装置であることを特徴とする表示装置。
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Families Citing this family (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5100670B2 (ja) * 2009-01-21 2012-12-19 株式会社半導体エネルギー研究所 タッチパネル、電子機器
CN102667910B (zh) * 2009-12-18 2015-11-25 株式会社半导体能源研究所 液晶显示设备和电子设备
KR101887837B1 (ko) 2009-12-18 2018-08-10 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 광 센서를 포함하는 표시 장치 및 그 구동 방법
WO2011089844A1 (en) 2010-01-24 2011-07-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and manufacturing method thereof
US8803063B2 (en) * 2010-02-19 2014-08-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Photodetector circuit
WO2011108374A1 (en) * 2010-03-05 2011-09-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
KR101694771B1 (ko) * 2010-03-31 2017-01-11 삼성전자주식회사 휴대용 단말기에서 사용자의 입력 패턴을 판단하기 위한 장치 및 방법
JP5948025B2 (ja) 2010-08-06 2016-07-06 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置
JP5912404B2 (ja) 2010-10-29 2016-04-27 株式会社半導体エネルギー研究所 光電変換装置
US9209209B2 (en) 2010-10-29 2015-12-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Photoelectric conversion device and method for operating the same
KR101793534B1 (ko) * 2011-01-05 2017-11-06 삼성디스플레이 주식회사 포토센서 및 그의 제조방법
KR101829777B1 (ko) * 2011-03-09 2018-02-20 삼성디스플레이 주식회사 광 감지 센서
CN103135678A (zh) * 2011-11-29 2013-06-05 鑫成科技(成都)有限公司 电子装置
US9064451B2 (en) * 2012-02-01 2015-06-23 Apple Inc. Organic light emitting diode display having photodiodes
CN103258486A (zh) * 2012-02-17 2013-08-21 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 监控装置
TWI477848B (zh) * 2012-04-10 2015-03-21 E Ink Holdings Inc 電子裝置
US20130271437A1 (en) * 2012-04-13 2013-10-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Color performance of reflective-displays using environmental spectral sensing
JP2013232548A (ja) * 2012-04-27 2013-11-14 Panasonic Corp 薄膜トランジスタ装置の製造方法、薄膜トランジスタ装置および表示装置
JP6051605B2 (ja) * 2012-06-13 2016-12-27 ソニー株式会社 表示装置、および表示制御方法、並びにプログラム
CN104240674B (zh) * 2013-06-14 2016-10-05 联想(北京)有限公司 一种调节显示单元的方法及一种电子设备
US8933646B2 (en) * 2012-12-20 2015-01-13 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Protection circuit for backlight driver circuit, backlight module, and LCD device
JP2014126805A (ja) * 2012-12-27 2014-07-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 画像情報の処理および表示方法、プログラム、情報処理装置
US20140184484A1 (en) * 2012-12-28 2014-07-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
JP6370048B2 (ja) * 2013-01-21 2018-08-08 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
TWI485383B (zh) * 2013-01-21 2015-05-21 Nat Univ Chung Cheng 石墨烯薄膜層數檢測系統及檢測方法
KR102140235B1 (ko) * 2013-05-31 2020-08-03 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 이의 구동 방법
JP6192391B2 (ja) * 2013-07-05 2017-09-06 キヤノン株式会社 光電変換システム
US9336729B2 (en) 2013-07-19 2016-05-10 Google Inc. Optical configurations in a tileable display apparatus
US20150022754A1 (en) * 2013-07-19 2015-01-22 Google Inc. Configurations for tileable display apparatus with multiple pixel arrays
JP6426402B2 (ja) * 2013-08-30 2018-11-21 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
US9461126B2 (en) * 2013-09-13 2016-10-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Transistor, clocked inverter circuit, sequential circuit, and semiconductor device including sequential circuit
JP6207321B2 (ja) * 2013-09-26 2017-10-04 ローム株式会社 光センサ装置
US10051211B2 (en) * 2013-12-05 2018-08-14 Omnivision Technologies, Inc. Image sensors for capturing both visible light images and infrared light images, and associated systems and methods
JPWO2016020802A1 (ja) * 2014-08-08 2017-06-15 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、変換回路及び電子機器
US9704704B2 (en) * 2014-10-28 2017-07-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and display device including the same
KR102524529B1 (ko) 2015-04-01 2023-04-24 삼성디스플레이 주식회사 발열 패키지 테스트 장치 및 그 작동 방법
US10306168B2 (en) * 2015-05-04 2019-05-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, imaging system, and electronic device
US10360855B2 (en) * 2015-08-17 2019-07-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, display panel, and electronic device
WO2017046673A1 (ja) * 2015-09-18 2017-03-23 株式会社半導体エネルギー研究所 電極および半導体装置の作製方法
CN105679664B (zh) * 2016-03-18 2018-07-13 武汉华星光电技术有限公司 平坦化层去残留的方法
TWI588716B (zh) * 2016-03-23 2017-06-21 友達光電股份有限公司 光感測電路與應用此光感測電路的顯示面板
JP6672936B2 (ja) * 2016-03-24 2020-03-25 コニカミノルタ株式会社 光書込み装置及び画像形成装置
JP6901829B2 (ja) * 2016-04-04 2021-07-14 株式会社ジャパンディスプレイ フォトセンサ及びフォトセンサを有する表示装置
JP6630228B2 (ja) * 2016-05-11 2020-01-15 株式会社沖データ 画像形成装置
WO2018002784A1 (en) * 2016-06-29 2018-01-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronic device, operation method of the electronic device, and moving vehicle
CN106019737A (zh) * 2016-07-26 2016-10-12 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置
WO2018042285A1 (en) 2016-08-30 2018-03-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, display device, and electronic device
US10650727B2 (en) * 2016-10-04 2020-05-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, display device, and electronic device
KR102599536B1 (ko) * 2017-01-26 2023-11-08 삼성전자 주식회사 생체 센서를 갖는 전자 장치
JP7139327B2 (ja) 2017-06-27 2022-09-20 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置および電子部品
KR102470567B1 (ko) * 2017-07-10 2022-11-24 엘지디스플레이 주식회사 광학센서 내장형 표시장치
TWI652534B (zh) 2017-12-21 2019-03-01 友達光電股份有限公司 畫素結構與顯示面板
CN108172197A (zh) * 2017-12-29 2018-06-15 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示器色温调整方法、电子设备及计算机可读存储介质
KR102422767B1 (ko) * 2018-01-19 2022-07-20 삼성전자주식회사 누설 전류를 감소시키기 위한 디스플레이 및 전자 장치
KR102017866B1 (ko) * 2018-01-24 2019-09-03 연세대학교 산학협력단 이미지 센서 내장형 디스플레이
US10310655B1 (en) * 2018-06-11 2019-06-04 Capital One Services, Llc Heated ATM touch screen
CN109032405B (zh) * 2018-07-06 2021-09-21 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板、显示装置及显示面板的制作方法
CN208795984U (zh) * 2018-10-23 2019-04-26 北京京东方光电科技有限公司 电子墨水屏的显示基板和显示装置
US20200219455A1 (en) * 2019-01-03 2020-07-09 Innolux Corporation Display device
CN110297614B (zh) * 2019-06-24 2022-03-25 合肥联宝信息技术有限公司 显示调整方法及电子设备
US11538846B2 (en) 2019-07-30 2022-12-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Display, electronic device having the display, and method of estimating bio-information using the electronic device
US11832464B2 (en) 2019-08-02 2023-11-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Functional panel, display device, input/output device, and data processing device
US10796639B1 (en) * 2019-09-27 2020-10-06 Int Tech Co., Ltd. Display device and method for calibrating the same
JP2021071680A (ja) * 2019-11-01 2021-05-06 セイコーエプソン株式会社 表示装置、頭部装着型表示装置および表示方法
US11694606B2 (en) 2020-11-23 2023-07-04 Industrial Technology Research Institute Display device with sensing element
CN114765681A (zh) * 2021-01-13 2022-07-19 深圳市万普拉斯科技有限公司 检测色温的方法、装置、终端、系统和存储介质
CN113866125B (zh) * 2021-09-29 2022-05-17 之江实验室 一种利用液晶传感器实现气体特异性定量检测的方法
KR20230171053A (ko) * 2022-06-10 2023-12-20 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치

Family Cites Families (131)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2148332C2 (de) 1970-09-30 1983-01-27 The Procter & Gamble Co., 45202 Cincinnati, Ohio Süßmittel und Verfahren zum Süßen von einnehmbaren Stoffen
JPS51112324A (en) 1975-03-27 1976-10-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd A keyboad electronic musical instrument
JPS5512232A (en) 1978-07-11 1980-01-28 Tadakatsu Ishimi Method of feeding air to rotary engine combustion chamber
JPS5651359A (en) 1979-10-03 1981-05-08 Ricoh Co Ltd Etching device in lithographic press
JPS60198861A (ja) 1984-03-23 1985-10-08 Fujitsu Ltd 薄膜トランジスタ
JPH0244256B2 (ja) 1987-01-28 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn2o5deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPS63210023A (ja) 1987-02-24 1988-08-31 Natl Inst For Res In Inorg Mater InGaZn↓4O↓7で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法
JPH0244258B2 (ja) 1987-02-24 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn3o6deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244260B2 (ja) 1987-02-24 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn5o8deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244262B2 (ja) 1987-02-27 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn6o9deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244263B2 (ja) 1987-04-22 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn7o10deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH05224626A (ja) * 1992-02-14 1993-09-03 Fujitsu Ltd 液晶表示装置
JPH05251705A (ja) 1992-03-04 1993-09-28 Fuji Xerox Co Ltd 薄膜トランジスタ
KR950003894A (ko) * 1993-07-27 1995-02-17 김광호 액정 표시장치의 제조방법
JP3479375B2 (ja) 1995-03-27 2003-12-15 科学技術振興事業団 亜酸化銅等の金属酸化物半導体による薄膜トランジスタとpn接合を形成した金属酸化物半導体装置およびそれらの製造方法
KR100394896B1 (ko) * 1995-08-03 2003-11-28 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. 투명스위칭소자를포함하는반도체장치
JP3625598B2 (ja) * 1995-12-30 2005-03-02 三星電子株式会社 液晶表示装置の製造方法
JPH11355797A (ja) 1998-06-04 1999-12-24 Olympus Optical Co Ltd カラー液晶表示装置
JP4170454B2 (ja) 1998-07-24 2008-10-22 Hoya株式会社 透明導電性酸化物薄膜を有する物品及びその製造方法
JP2000112382A (ja) * 1998-09-30 2000-04-21 Casio Comput Co Ltd 表示装置
JP2000150861A (ja) * 1998-11-16 2000-05-30 Tdk Corp 酸化物薄膜
JP3276930B2 (ja) * 1998-11-17 2002-04-22 科学技術振興事業団 トランジスタ及び半導体装置
TW460731B (en) * 1999-09-03 2001-10-21 Ind Tech Res Inst Electrode structure and production method of wide viewing angle LCD
WO2001047033A1 (fr) * 1999-12-20 2001-06-28 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Transducteur photoelectrique et substrat pour transducteur photoelectrique
US7030551B2 (en) * 2000-08-10 2006-04-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Area sensor and display apparatus provided with an area sensor
JP4089858B2 (ja) 2000-09-01 2008-05-28 国立大学法人東北大学 半導体デバイス
KR20020038482A (ko) * 2000-11-15 2002-05-23 모리시타 요이찌 박막 트랜지스터 어레이, 그 제조방법 및 그것을 이용한표시패널
JP3997731B2 (ja) * 2001-03-19 2007-10-24 富士ゼロックス株式会社 基材上に結晶性半導体薄膜を形成する方法
JP2002289859A (ja) 2001-03-23 2002-10-04 Minolta Co Ltd 薄膜トランジスタ
JP4588936B2 (ja) * 2001-07-12 2010-12-01 シャープ株式会社 液晶表示装置とその自動調光制御方法
JP3925839B2 (ja) 2001-09-10 2007-06-06 シャープ株式会社 半導体記憶装置およびその試験方法
JP4090716B2 (ja) 2001-09-10 2008-05-28 雅司 川崎 薄膜トランジスタおよびマトリクス表示装置
JP4164562B2 (ja) 2002-09-11 2008-10-15 独立行政法人科学技術振興機構 ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ
WO2003040441A1 (en) * 2001-11-05 2003-05-15 Japan Science And Technology Agency Natural superlattice homologous single crystal thin film, method for preparation thereof, and device using said single crystal thin film
JP4083486B2 (ja) * 2002-02-21 2008-04-30 独立行政法人科学技術振興機構 LnCuO(S,Se,Te)単結晶薄膜の製造方法
CN1445821A (zh) * 2002-03-15 2003-10-01 三洋电机株式会社 ZnO膜和ZnO半导体层的形成方法、半导体元件及其制造方法
JP3933591B2 (ja) * 2002-03-26 2007-06-20 淳二 城戸 有機エレクトロルミネッセント素子
US7339187B2 (en) * 2002-05-21 2008-03-04 State Of Oregon Acting By And Through The Oregon State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University Transistor structures
JP2004022625A (ja) * 2002-06-13 2004-01-22 Murata Mfg Co Ltd 半導体デバイス及び該半導体デバイスの製造方法
US7105868B2 (en) * 2002-06-24 2006-09-12 Cermet, Inc. High-electron mobility transistor with zinc oxide
US7067843B2 (en) * 2002-10-11 2006-06-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Transparent oxide semiconductor thin film transistors
JP4166105B2 (ja) 2003-03-06 2008-10-15 シャープ株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2004273732A (ja) 2003-03-07 2004-09-30 Sharp Corp アクティブマトリクス基板およびその製造方法
JP4108633B2 (ja) * 2003-06-20 2008-06-25 シャープ株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに電子デバイス
US7262463B2 (en) * 2003-07-25 2007-08-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Transistor including a deposited channel region having a doped portion
US7282782B2 (en) * 2004-03-12 2007-10-16 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Combined binary oxide semiconductor device
JP4620046B2 (ja) 2004-03-12 2011-01-26 独立行政法人科学技術振興機構 薄膜トランジスタ及びその製造方法
US7297977B2 (en) * 2004-03-12 2007-11-20 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Semiconductor device
US7145174B2 (en) * 2004-03-12 2006-12-05 Hewlett-Packard Development Company, Lp. Semiconductor device
US7211825B2 (en) * 2004-06-14 2007-05-01 Yi-Chi Shih Indium oxide-based thin film transistors and circuits
JP2006100760A (ja) * 2004-09-02 2006-04-13 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタおよびその製造方法
US7285501B2 (en) * 2004-09-17 2007-10-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of forming a solution processed device
US7214922B2 (en) 2004-09-17 2007-05-08 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor photosensor device and information apparatus with sensitivity region for wide dynamic range
JP4387905B2 (ja) * 2004-09-17 2009-12-24 株式会社東芝 半導体光センサ装置及びこれを組込んだ情報機器
US7298084B2 (en) * 2004-11-02 2007-11-20 3M Innovative Properties Company Methods and displays utilizing integrated zinc oxide row and column drivers in conjunction with organic light emitting diodes
KR100953596B1 (ko) * 2004-11-10 2010-04-21 캐논 가부시끼가이샤 발광장치
KR100911698B1 (ko) * 2004-11-10 2009-08-10 캐논 가부시끼가이샤 비정질 산화물을 사용한 전계 효과 트랜지스터
US7829444B2 (en) * 2004-11-10 2010-11-09 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor manufacturing method
US7601984B2 (en) * 2004-11-10 2009-10-13 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor with amorphous oxide active layer containing microcrystals and gate electrode opposed to active layer through gate insulator
US7863611B2 (en) * 2004-11-10 2011-01-04 Canon Kabushiki Kaisha Integrated circuits utilizing amorphous oxides
US7453065B2 (en) * 2004-11-10 2008-11-18 Canon Kabushiki Kaisha Sensor and image pickup device
US7791072B2 (en) * 2004-11-10 2010-09-07 Canon Kabushiki Kaisha Display
JP4955262B2 (ja) 2004-12-07 2012-06-20 サムスン エレクトロニクス カンパニー リミテッド 液晶表示装置、光感知素子、及びバックライト光源の照度制御装置
US7579224B2 (en) * 2005-01-21 2009-08-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing a thin film semiconductor device
TWI472037B (zh) * 2005-01-28 2015-02-01 Semiconductor Energy Lab 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
US7608531B2 (en) * 2005-01-28 2009-10-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, electronic device, and method of manufacturing semiconductor device
US7858451B2 (en) * 2005-02-03 2010-12-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronic device, semiconductor device and manufacturing method thereof
US7948171B2 (en) * 2005-02-18 2011-05-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
US20060197092A1 (en) * 2005-03-03 2006-09-07 Randy Hoffman System and method for forming conductive material on a substrate
US8681077B2 (en) * 2005-03-18 2014-03-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, and display device, driving method and electronic apparatus thereof
WO2006105077A2 (en) * 2005-03-28 2006-10-05 Massachusetts Institute Of Technology Low voltage thin film transistor with high-k dielectric material
US7645478B2 (en) * 2005-03-31 2010-01-12 3M Innovative Properties Company Methods of making displays
US8300031B2 (en) * 2005-04-20 2012-10-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device comprising transistor having gate and drain connected through a current-voltage conversion element
JP2006344849A (ja) * 2005-06-10 2006-12-21 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタ
US7402506B2 (en) * 2005-06-16 2008-07-22 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7691666B2 (en) * 2005-06-16 2010-04-06 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7507618B2 (en) * 2005-06-27 2009-03-24 3M Innovative Properties Company Method for making electronic devices using metal oxide nanoparticles
KR100711890B1 (ko) * 2005-07-28 2007-04-25 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광표시장치 및 그의 제조방법
JP2007059128A (ja) * 2005-08-23 2007-03-08 Canon Inc 有機el表示装置およびその製造方法
JP4560502B2 (ja) 2005-09-06 2010-10-13 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ
JP5116225B2 (ja) * 2005-09-06 2013-01-09 キヤノン株式会社 酸化物半導体デバイスの製造方法
JP2007073705A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Canon Inc 酸化物半導体チャネル薄膜トランジスタおよびその製造方法
JP4850457B2 (ja) * 2005-09-06 2012-01-11 キヤノン株式会社 薄膜トランジスタ及び薄膜ダイオード
JP4280736B2 (ja) * 2005-09-06 2009-06-17 キヤノン株式会社 半導体素子
JP2007094098A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Sanyo Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置及び電子機器
EP1998374A3 (en) * 2005-09-29 2012-01-18 Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufacturing method thereof
JP5037808B2 (ja) * 2005-10-20 2012-10-03 キヤノン株式会社 アモルファス酸化物を用いた電界効果型トランジスタ、及び該トランジスタを用いた表示装置
KR101112655B1 (ko) * 2005-11-15 2012-02-16 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 액티브 매트릭스 디스플레이 장치 및 텔레비전 수신기
TWI292281B (en) * 2005-12-29 2008-01-01 Ind Tech Res Inst Pixel structure of active organic light emitting diode and method of fabricating the same
US7867636B2 (en) * 2006-01-11 2011-01-11 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transparent conductive film and method for manufacturing the same
JP4977478B2 (ja) * 2006-01-21 2012-07-18 三星電子株式会社 ZnOフィルム及びこれを用いたTFTの製造方法
US7576394B2 (en) * 2006-02-02 2009-08-18 Kochi Industrial Promotion Center Thin film transistor including low resistance conductive thin films and manufacturing method thereof
US7977169B2 (en) * 2006-02-15 2011-07-12 Kochi Industrial Promotion Center Semiconductor device including active layer made of zinc oxide with controlled orientations and manufacturing method thereof
JP2007271782A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 画像取込機能付き表示装置
KR20070101595A (ko) * 2006-04-11 2007-10-17 삼성전자주식회사 ZnO TFT
US20070252928A1 (en) * 2006-04-28 2007-11-01 Toppan Printing Co., Ltd. Structure, transmission type liquid crystal display, reflection type display and manufacturing method thereof
JP5028033B2 (ja) * 2006-06-13 2012-09-19 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4999400B2 (ja) * 2006-08-09 2012-08-15 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4609797B2 (ja) * 2006-08-09 2011-01-12 Nec液晶テクノロジー株式会社 薄膜デバイス及びその製造方法
JP5727120B2 (ja) * 2006-08-25 2015-06-03 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 液晶表示装置
JP4332545B2 (ja) * 2006-09-15 2009-09-16 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ及びその製造方法
JP5164357B2 (ja) * 2006-09-27 2013-03-21 キヤノン株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP4274219B2 (ja) * 2006-09-27 2009-06-03 セイコーエプソン株式会社 電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機薄膜半導体装置
US7622371B2 (en) * 2006-10-10 2009-11-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fused nanocrystal thin film semiconductor and method
US7772021B2 (en) * 2006-11-29 2010-08-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Flat panel displays comprising a thin-film transistor having a semiconductive oxide in its channel and methods of fabricating the same for use in flat panel displays
JP2008140684A (ja) * 2006-12-04 2008-06-19 Toppan Printing Co Ltd カラーelディスプレイおよびその製造方法
US8514165B2 (en) 2006-12-28 2013-08-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device
KR101303578B1 (ko) * 2007-01-05 2013-09-09 삼성전자주식회사 박막 식각 방법
US8207063B2 (en) * 2007-01-26 2012-06-26 Eastman Kodak Company Process for atomic layer deposition
KR100851215B1 (ko) * 2007-03-14 2008-08-07 삼성에스디아이 주식회사 박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기 전계 발광표시장치
JP2008235756A (ja) * 2007-03-23 2008-10-02 Sony Corp 受光素子およびそれを備えた表示装置
US7795613B2 (en) * 2007-04-17 2010-09-14 Toppan Printing Co., Ltd. Structure with transistor
KR101325053B1 (ko) * 2007-04-18 2013-11-05 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법
KR20080094300A (ko) * 2007-04-19 2008-10-23 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법과 박막 트랜지스터를포함하는 평판 디스플레이
KR101334181B1 (ko) * 2007-04-20 2013-11-28 삼성전자주식회사 선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법
KR101345376B1 (ko) * 2007-05-29 2013-12-24 삼성전자주식회사 ZnO 계 박막 트랜지스터 및 그 제조방법
TWI334023B (en) 2007-06-21 2010-12-01 Coretronic Corp Optical sensing module and display device using the same
TWI358533B (en) * 2007-11-21 2012-02-21 Wintek Corp Light sensing apparatus and display thereof
JP2009128835A (ja) * 2007-11-28 2009-06-11 Sony Corp 液晶表示装置
JP2009135188A (ja) 2007-11-29 2009-06-18 Sony Corp 光センサーおよび表示装置
KR101455316B1 (ko) * 2007-11-30 2014-11-03 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 구동방법
JP4924393B2 (ja) * 2007-12-05 2012-04-25 ソニー株式会社 ディスプレイ装置
JP5014971B2 (ja) 2007-12-19 2012-08-29 ソニーモバイルディスプレイ株式会社 ディスプレイ装置
JP2009211053A (ja) * 2008-02-06 2009-09-17 Canon Inc 表示パネルの駆動回路および表示装置
JP2009258219A (ja) 2008-04-14 2009-11-05 Denso Corp 表示装置
JP5175136B2 (ja) 2008-05-22 2013-04-03 株式会社ジャパンディスプレイウェスト 電気光学装置及び電子機器
JP5333964B2 (ja) * 2008-06-27 2013-11-06 株式会社ジャパンディスプレイ 光検出装置、電気光学装置及び電子機器
TWI535037B (zh) 2008-11-07 2016-05-21 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置和其製造方法
WO2010064468A1 (ja) * 2008-12-05 2010-06-10 シャープ株式会社 表示装置用基板及び表示装置
US8927981B2 (en) 2009-03-30 2015-01-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the same
KR101887837B1 (ko) 2009-12-18 2018-08-10 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 광 센서를 포함하는 표시 장치 및 그 구동 방법

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