JP2010183027A - 薄膜トランジスタおよび表示装置 - Google Patents
薄膜トランジスタおよび表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010183027A JP2010183027A JP2009027646A JP2009027646A JP2010183027A JP 2010183027 A JP2010183027 A JP 2010183027A JP 2009027646 A JP2009027646 A JP 2009027646A JP 2009027646 A JP2009027646 A JP 2009027646A JP 2010183027 A JP2010183027 A JP 2010183027A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide semiconductor
- semiconductor layer
- drain electrode
- source electrode
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 207
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 144
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 75
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 75
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 75
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 71
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 16
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 13
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 11
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 3
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 abstract description 11
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 27
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 27
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 21
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 17
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 10
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 9
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 8
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000583 Nd alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N aluminum neodymium Chemical compound [Al].[Nd] UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017073 AlLi Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- -1 neobium oxide Chemical compound 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N orlistat Chemical compound CCCCCCCCCCC[C@H](OC(=O)[C@H](CC(C)C)NC=O)C[C@@H]1OC(=O)[C@H]1CCCCCC AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/417—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/41725—Source or drain electrodes for field effect devices
- H01L29/41733—Source or drain electrodes for field effect devices for thin film transistors with insulated gate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/43—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/45—Ohmic electrodes
- H01L29/456—Ohmic electrodes on silicon
- H01L29/458—Ohmic electrodes on silicon for thin film silicon, e.g. source or drain electrode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
- H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
- H01L29/66742—Thin film unipolar transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
- H01L29/66969—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies not comprising group 14 or group 13/15 materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/78606—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film with supplementary region or layer in the thin film or in the insulated bulk substrate supporting it for controlling or increasing the safety of the device
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/7869—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film having a semiconductor body comprising an oxide semiconductor material, e.g. zinc oxide, copper aluminium oxide, cadmium stannate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
- H01L29/78696—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film characterised by the structure of the channel, e.g. multichannel, transverse or longitudinal shape, length or width, doping structure, or the overlap or alignment between the channel and the gate, the source or the drain, or the contacting structure of the channel
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
- H10K59/1213—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1222—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer
- H01L27/1225—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or crystalline structure of the active layer with semiconductor materials not belonging to the group IV of the periodic table, e.g. InGaZnO
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/302—Details of OLEDs of OLED structures
- H10K2102/3023—Direction of light emission
- H10K2102/3026—Top emission
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geometry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】TFT20のソース電極25Sおよびドレイン電極25Dに、酸化物半導体層23を露出させる開口部27を設ける。TFT20形成後に酸素アニールをする際に、開口部27から、酸化物半導体層23に酸素を供給しやすくし、良好なトランジスタ特性を回復させる。また、ソース電極25Sおよびドレイン電極25Dを、酸化物半導体層23を露出させる溝により、チャネル幅方向に分割するようにしてもよい。あるいは、ソース電極25Sまたはドレイン電極25Dのチャネル保護層24に重なる辺に対向する辺に沿って、酸化物半導体層23がソース電極25Sまたはドレイン電極25Dの端から露出しているはみ出し領域を設けてもよい。
【選択図】図4
Description
1.第1の実施の形態(ソース電極およびドレイン電極に開口部を設けた例)
2.第2の実施の形態(ソース電極およびドレイン電極を溝により分割した例)
3.第3の実施の形態(ソース電極およびドレイン電極の外側にはみ出し領域を設けた例)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る表示装置の構成を表すものである。この表示装置は、極薄型の有機発光カラーディスプレイ装置などとして用いられるものであり、例えば、後述するTFT基板1に、表示素子として後述する複数の有機発光素子10R,10G,10Bよりなる画素PXLCがマトリクス状に配置されてなる表示領域110が形成されると共に、この表示領域110の周辺に、信号部である水平セレクタ(HSEL)121と、スキャナ部であるライトスキャナ(WSCN)131および電源スキャナ(DSCN)132とが形成されたものである。
まず、図6(A)に示したように、ガラスよりなる基板10上に、例えばスパッタリング法により、上述した厚みおよび材料よりなる金属層を形成し、この金属層に対してフォトリソグラフィおよびエッチングを施すことにより、ゲート電極21を形成する。
TFT基板1を形成したのち、TFT基板1の全面に感光性樹脂を塗布し、露光および現像することにより、平坦化絶縁膜51および接続孔51Aを形成し、焼成する。次いで、例えば直流スパッタリングにより、上述した材料よりなるアノード52を成膜し、例えばリソグラフィ技術を用いて選択的にエッチングし、所定の形状にパターニングする。続いて、例えばCVD法により上述した厚みおよび材料よりなる電極間絶縁膜53を形成し、例えばリソグラフィ技術を用いて開口部を形成する。そののち、例えば蒸着法により、上述した材料よりなる有機層54およびカソード55を順次成膜し、有機発光素子10R,10G,10Bを形成する。続いて、有機発光素子10R,10G,10Bを、上述した材料よりなる保護膜56で覆う。
図8は、変形例1−1に係るTFT20の平面構成を表したものであり、図9は図8のIX−IX線に沿った断面構成を表したものである。このTFT20は、ドレイン電極25Dのチャネル幅Wdとソース電極25Sのチャネル幅Wsとが異なっており、ソース電極25Sまたはドレイン電極25Dのいずれかのチャネル幅方向の両側に、酸化物半導体層23を露出させる開口部27が設けられている。これにより、このTFT20では、酸化物半導体層23に酸素を供給しやすく、良好なトランジスタ特性を回復させることが可能となっている。
図11は、変形例1−2に係るTFT20の平面構成を表したものであり、図12は図11のXII−XII線に沿った断面構成を表したものである。このTFT20は、ドレイン電極25Dまたはソース電極25Sのいずれかがノズル形状または櫛歯形状とされており、櫛歯の間に、酸化物半導体層23を露出させる開口部27が設けられている。これにより、このTFT20では、酸化物半導体層23に酸素を供給しやすく、良好なトランジスタ特性を回復させることが可能となっている。
図14は、変形例1−3に係るTFT20の平面構成を表したものであり、図15は図14のXV−XV線に沿った断面構成を表したものである。このTFT20は、ドレイン電極25Dにチャネル幅の狭くなった狭チャネル幅領域25D2が設けられており、この狭チャネル幅領域25D2に、酸化物半導体層23を露出させる開口部27が設けられている。これにより、このTFT20では、酸化物半導体層23に酸素を供給しやすく、良好なトランジスタ特性を回復させることが可能となっている。
図18は、変形例1−4に係る画素回路140の平面構成を表したものであり、図19は、図18に示した駆動トランジスタ3Bの平面構成を拡大して表したものである。この画素回路140および駆動トランジスタ3Bは、酸化物半導体層23がドレイン電極25Dの下部から電源線DSLの下部まで延在し、電源線DSLに、酸化物半導体層23を露出させる開口部27が設けられている。これにより、この画素回路140では、駆動トランジスタ3Bの酸化物半導体層23に酸素を供給しやすく、良好なトランジスタ特性を回復させることが可能となっている。
図20は、変形例1−5に係る画素回路140の平面構成を表したものであり、図21は、図20のXXI−XXI線に沿った断面構成を表したものである。この画素回路140および駆動トランジスタ3Bは、酸化物半導体層23がドレイン電極25Dの下部から保持容量3Cの下部まで延在し、保持容量3Cに、酸化物半導体層23を露出させる開口部27が設けられている。これにより、この画素回路140では、駆動トランジスタ3Bの酸化物半導体層23に酸素を供給しやすく、良好なトランジスタ特性を回復させることが可能となっている。
図22は、本発明の第2の実施の形態に係るTFT20の平面構成を表したものであり、図23は図22のXXIII−XXIII線に沿った断面構成を表したものである。なお、図22には、TFT基板1の画素駆動回路140のうち、上述したサンプリング用トランジスタ3Aを構成するTFT20と、上述した保持容量3Cを構成するキャパシタ30とを表している。このTFT20は、ソース電極25Sおよびドレイン電極25Dをチャネル幅方向に分割したことを除いては、上記第1の実施の形態と同様に構成されている。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
図27は、本発明の第3の実施の形態に係るTFT20の平面構成を表したものである。このTFT20は、ドレイン電極25Dの片側に酸化物半導体層23を露出させたことを除いては、上記第1および第2の実施の形態と同様に構成されている。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
なお、上記実施の形態では、ドレイン電極25Dの片側にはみ出し領域29を設けた場合について説明したが、TFT20の構成によっては、図28および図29に示したように、ソース電極25Sおよびドレイン電極25Dの両方の外側にはみ出し領域29を設けるようにしてもよい。
図30は、変形例3−2に係る画素回路140の平面構成を表したものであり、図31は、図30に示したサンプリング用トランジスタ3Aおよび信号線DTLの断面構成を表したものである。この画素回路140は、酸化物半導体層23がソース電極25Sまたはドレイン電極25Dの下部から信号線DTLまたは電源線DSLなどの配線の下部まで延在し、信号線DTLまたは電源線DSLなどの配線に、はみ出し領域29が設けられている。これにより、この画素回路140では、サンプリング用トランジスタ3Aまたは駆動トランジスタ3Bの酸化物半導体層23に酸素を供給しやすく、良好なトランジスタ特性を回復させることが可能となっている。
図32は、変形例3−3に係る画素回路140の平面構成を表したものであり、図33は、図32に示したサンプリング用トランジスタ3Aおよび信号線DTLの断面構成を表したものである。この画素回路140は、走査線WSL,信号線DTLまたは電源線DSLなどの配線の下部に、配線下酸化物半導体層23Cが設けられたものである。配線下酸化物半導体層23Cは、サンプリング用トランジスタ3Aまたは駆動トランジスタ3Bの活性層としての酸化物半導体層23とは、分離溝23Dによって分離されている。走査線WSL,信号線DTLまたは電源線DSLなどの配線は、配線下酸化物半導体層23Cよりも広い幅で設けられ、配線下酸化物半導体層23Cの表面全部を被覆している。そのため、配線下酸化物半導体層23Cは、製造工程において酸素が脱離したままで、酸化物半導体層23の特性回復のためのアニールによっても酸素を導入されず、金属としての性質を有していると共に配線の一部を構成している。また、配線下酸化物半導体層23Cは、酸化物半導体層23と同一のマスクで形成することが可能である。これにより、この画素回路140では、複数のマスクを用いずに、走査線WSL,信号線DTLまたは電源線DSLを低抵抗化することが可能となる。よって、低コストで、配線抵抗に起因するクロストークやシェーディングなどの画質不良が抑えられる。
以下、上記実施の形態で説明した表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置,デジタルカメラ,ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図34に示したようなモジュールとして、後述する適用例1〜5などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板11の一辺に、封止用基板71および接着層60から露出した領域210を設け、この露出した領域210に、信号線駆動回路120および走査線駆動回路130の配線を延長して外部接続端子(図示せず)を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板(FPC;Flexible Printed Circuit)220が設けられていてもよい。
図35は、上記実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル310およびフィルターガラス320を含む映像表示画面部300を有しており、この映像表示画面部300は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
図36は、上記実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部410、表示部420、メニュースイッチ430およびシャッターボタン440を有しており、その表示部420は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
図37は、上記実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体510,文字等の入力操作のためのキーボード520および画像を表示する表示部530を有しており、その表示部530は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
図38は、上記実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部610,この本体部610の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ620,撮影時のスタート/ストップスイッチ630および表示部640を有しており、その表示部640は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
図39は、上記実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体710と下側筐体720とを連結部(ヒンジ部)730で連結したものであり、ディスプレイ740,サブディスプレイ750,ピクチャーライト760およびカメラ770を有している。そのディスプレイ740またはサブディスプレイ750は、上記各実施の形態に係る表示装置により構成されている。
Claims (15)
- 基板上に、ゲート電極,ゲート絶縁膜,チャネル領域を含む酸化物半導体層および前記チャネル領域を覆うチャネル保護層を順に備え、
前記チャネル保護層の両側の前記酸化物半導体層上にソース電極およびドレイン電極が形成されており、前記ソース電極および前記ドレイン電極の少なくとも一方は、前記酸化物半導体層を露出させる開口部を有する
薄膜トランジスタ。 - 基板上に、ゲート電極,ゲート絶縁膜,チャネル領域を含む酸化物半導体層および前記チャネル領域を覆うチャネル保護層を順に備え、
前記チャネル保護層の両側の前記酸化物半導体層上にソース電極およびドレイン電極が形成されており、前記ソース電極および前記ドレイン電極は、前記酸化物半導体層を露出させる溝により、チャネル幅方向に分割されている
薄膜トランジスタ。 - 前記チャネル領域は、前記溝から20μm以内の領域に形成されている
請求項2記載の薄膜トランジスタ。 - 基板上に、ゲート電極,ゲート絶縁膜,チャネル領域を含む酸化物半導体層および前記チャネル領域を覆うチャネル保護層を順に備え、
前記チャネル保護層の両側の前記酸化物半導体層上にソース電極およびドレイン電極が形成されており、前記ソース電極および前記ドレイン電極の少なくとも一方の前記チャネル保護層に重なる辺に対向する辺に沿って、前記酸化物半導体層が前記ソース電極または前記ドレイン電極の端から露出しているはみ出し領域が設けられている
薄膜トランジスタ。 - 前記ソース電極および前記ドレイン電極の少なくとも一方は、前記チャネル保護層に重なる辺を除く辺に沿って、前記酸化物半導体層が前記ソース電極または前記ドレイン電極の端からはみ出した領域を有する
請求項4記載の薄膜トランジスタ。 - 前記チャネル領域は、前記はみ出した領域から20μm以内の領域に形成されている
請求項4記載の薄膜トランジスタ。 - 前記ソース電極および前記ドレイン電極は、アルミニウム,銅,銀あるいはモリブデンを主成分とする金属層を含み、前記金属層の単層膜、または、前記金属層と、チタン,バナジウム,ニオブ,タンタル,クロム,タングステン,ニッケル,亜鉛あるいはインジウムを主成分とする金属層あるいは金属化合物層との積層膜により構成されている
請求項1ないし6のいずれか1項に記載の薄膜トランジスタ。 - 前記ソース電極および前記ドレイン電極の前記酸化物半導体層と接する層は、前記酸化物半導体層から酸素を脱離させない金属、または前記酸化物半導体層から酸素を脱離させない金属化合物により構成されている
請求項7記載の薄膜トランジスタ。 - 前記ソース電極および前記ドレイン電極の前記酸化物半導体層と接する層は、モリブデン,モリブデンあるいはチタンの酸化物,窒化物あるいは酸窒化物,アルミニウム窒化物,または銅酸化物により構成されている
請求項7記載の薄膜トランジスタ。 - 前記ソース電極および前記ドレイン電極の最上層は、チタン,チタンの酸化物,窒化物あるいは酸窒化物により構成されている
請求項7記載の薄膜トランジスタ。 - 前記ソース電極および前記ドレイン電極の前記酸化物半導体層と接する層は、導電性の金属酸化物,金属窒化物または金属酸窒化物により構成されている
請求項1ないし6のいずれか1項に記載の薄膜トランジスタ。 - 薄膜トランジスタおよび表示素子を備え、
前記薄膜トランジスタは、
基板上に、ゲート電極,ゲート絶縁膜,チャネル領域を含む酸化物半導体層および前記チャネル領域を覆うチャネル保護層を順に備え、
前記チャネル保護層の両側の前記酸化物半導体層上にソース電極およびドレイン電極が形成されており、前記ソース電極および前記ドレイン電極の少なくとも一方は、前記酸化物半導体層を露出させる開口部を有する
表示装置。 - 薄膜トランジスタおよび表示素子を備え、
前記薄膜トランジスタは、
基板上に、ゲート電極,ゲート絶縁膜,チャネル領域を含む酸化物半導体層および前記チャネル領域を覆うチャネル保護層を順に備え、
前記チャネル保護層の両側の前記酸化物半導体層上にソース電極およびドレイン電極が形成されており、前記ソース電極および前記ドレイン電極は、前記酸化物半導体層を露出させる溝により、チャネル幅方向に分割されている
表示装置。 - 薄膜トランジスタおよび表示素子を備え、
前記薄膜トランジスタは、
基板上に、ゲート電極,ゲート絶縁膜,チャネル領域を含む酸化物半導体層および前記チャネル領域を覆うチャネル保護層を順に備え、
前記チャネル保護層の両側の前記酸化物半導体層上にソース電極およびドレイン電極が形成されており、前記ソース電極および前記ドレイン電極の少なくとも一方の前記チャネル保護層に重なる辺に対向する辺に沿って、前記酸化物半導体層が前記ソース電極または前記ドレイン電極の端から露出しているはみ出し領域が設けられている
表示装置。 - 前記表示素子は、アノードとカソードとの間に、発光層を含む有機層を有する有機発光素子である
請求項12ないし14のいずれか1項に記載の表示装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009027646A JP4752927B2 (ja) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | 薄膜トランジスタおよび表示装置 |
TW099102266A TWI412137B (zh) | 2009-02-09 | 2010-01-27 | 薄膜電晶體及顯示單元 |
US12/696,270 US8269217B2 (en) | 2009-02-09 | 2010-01-29 | Display unit with thin film transistor having through holes in source/drain electrode |
KR1020100008969A KR101651679B1 (ko) | 2009-02-09 | 2010-02-01 | 박막 트랜지스터 및 표시 장치 |
CN201010104366.5A CN101800248B (zh) | 2009-02-09 | 2010-02-02 | 薄膜晶体管和显示器件 |
US13/287,689 US8497504B2 (en) | 2009-02-09 | 2011-11-02 | Thin film transistor and display unit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009027646A JP4752927B2 (ja) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | 薄膜トランジスタおよび表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010183027A true JP2010183027A (ja) | 2010-08-19 |
JP4752927B2 JP4752927B2 (ja) | 2011-08-17 |
Family
ID=42539679
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009027646A Active JP4752927B2 (ja) | 2009-02-09 | 2009-02-09 | 薄膜トランジスタおよび表示装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8269217B2 (ja) |
JP (1) | JP4752927B2 (ja) |
KR (1) | KR101651679B1 (ja) |
CN (1) | CN101800248B (ja) |
TW (1) | TWI412137B (ja) |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012160718A (ja) * | 2011-01-14 | 2012-08-23 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体記憶装置 |
JP2012253752A (ja) * | 2011-05-06 | 2012-12-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
JP2013084939A (ja) * | 2011-09-29 | 2013-05-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
WO2013150981A1 (ja) * | 2012-04-04 | 2013-10-10 | シャープ株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2013541192A (ja) * | 2010-09-03 | 2013-11-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | スタガー薄膜トランジスタおよびその形成方法 |
US8866984B2 (en) | 2010-01-24 | 2014-10-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
JP2014239216A (ja) * | 2010-06-21 | 2014-12-18 | 株式会社アルバック | 半導体装置、半導体装置を有する液晶表示装置、半導体装置の製造方法 |
KR20150055334A (ko) * | 2013-11-13 | 2015-05-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터, 이를 포함하는 표시 기판 및 박막 트랜지스터의 제조 방법 |
JP2015158572A (ja) * | 2014-02-24 | 2015-09-03 | 株式会社Joled | 表示装置、電子機器 |
US9171942B2 (en) | 2011-07-29 | 2015-10-27 | Fujifilm Corporation | Semiconductor element manufacturing method |
WO2016035652A1 (ja) * | 2014-09-03 | 2016-03-10 | シャープ株式会社 | 金属積層膜の製造方法、半導体装置の製造方法、及び液晶表示装置の製造方法 |
JP2016034032A (ja) * | 2010-10-20 | 2016-03-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
JPWO2015122393A1 (ja) * | 2014-02-14 | 2017-03-30 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板 |
WO2017099024A1 (ja) * | 2015-12-09 | 2017-06-15 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板およびそれを備える液晶表示パネル |
US9812518B2 (en) | 2015-04-07 | 2017-11-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor array substrate and organic light-emitting display apparatus including the same |
JP2018032874A (ja) * | 2010-09-03 | 2018-03-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2018078340A (ja) * | 2012-11-16 | 2018-05-17 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2018164096A (ja) * | 2010-01-15 | 2018-10-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2018537861A (ja) * | 2015-12-16 | 2018-12-20 | 鴻富錦精密工業(深▲セン▼)有限公司 | 薄膜トランジスタの基板及びその製造方法 |
Families Citing this family (57)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101041144B1 (ko) * | 2009-08-13 | 2011-06-13 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막트랜지스터, 그의 제조방법 및 그를 포함하는 유기전계발광표시장치 |
CN102484135B (zh) * | 2009-09-04 | 2016-01-20 | 株式会社东芝 | 薄膜晶体管及其制造方法 |
KR102293198B1 (ko) * | 2009-09-16 | 2021-08-24 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
KR102321565B1 (ko) * | 2009-09-24 | 2021-11-05 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 산화물 반도체막 및 반도체 장치 |
CN107195328B (zh) * | 2009-10-09 | 2020-11-10 | 株式会社半导体能源研究所 | 移位寄存器和显示装置以及其驱动方法 |
WO2011048945A1 (en) | 2009-10-21 | 2011-04-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device and electronic device including the same |
KR102426613B1 (ko) | 2009-11-28 | 2022-07-29 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 |
CN105304502B (zh) | 2010-03-26 | 2018-07-03 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置的制造方法 |
US9147768B2 (en) * | 2010-04-02 | 2015-09-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having an oxide semiconductor and a metal oxide film |
KR20130014562A (ko) * | 2010-04-02 | 2013-02-07 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
US9190522B2 (en) | 2010-04-02 | 2015-11-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having an oxide semiconductor |
KR101391964B1 (ko) | 2010-04-02 | 2014-05-07 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
US9196739B2 (en) * | 2010-04-02 | 2015-11-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including oxide semiconductor film and metal oxide film |
US8884282B2 (en) | 2010-04-02 | 2014-11-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US8653514B2 (en) | 2010-04-09 | 2014-02-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
US9246010B2 (en) * | 2010-07-14 | 2016-01-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | Thin film transistor substrate |
CN102097324B (zh) * | 2010-10-22 | 2012-12-12 | 友达光电股份有限公司 | 半导体元件及其制造方法 |
KR20120045178A (ko) * | 2010-10-29 | 2012-05-09 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터 및 이의 제조 방법 |
CN102610652A (zh) * | 2011-01-20 | 2012-07-25 | 元太科技工业股份有限公司 | 金属氧化物半导体结构及其制造方法 |
TWI602249B (zh) * | 2011-03-11 | 2017-10-11 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置的製造方法 |
JP5927523B2 (ja) * | 2011-11-29 | 2016-06-01 | 株式会社Joled | 薄膜トランジスタおよび薄膜トランジスタの製造方法 |
TWI463670B (zh) | 2012-03-28 | 2014-12-01 | E Ink Holdings Inc | 主動元件 |
KR101949225B1 (ko) | 2012-04-16 | 2019-04-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 및 이를 포함하는 표시 장치 |
JP6001308B2 (ja) * | 2012-04-17 | 2016-10-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9048323B2 (en) * | 2012-04-30 | 2015-06-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP5991668B2 (ja) * | 2012-08-23 | 2016-09-14 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置及びその製造方法 |
WO2014067463A1 (zh) | 2012-11-02 | 2014-05-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示装置和阻挡层 |
TWI582993B (zh) | 2012-11-30 | 2017-05-11 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置 |
CN103050441B (zh) * | 2012-12-10 | 2014-09-24 | 华映视讯(吴江)有限公司 | 氧化物薄膜晶体管制程方法 |
US20150295058A1 (en) * | 2012-12-28 | 2015-10-15 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Thin-film transistor and manufacturing method therefor |
CN103177970A (zh) * | 2013-02-26 | 2013-06-26 | 上海大学 | 一种氧化物薄膜晶体管制备方法 |
JP6151070B2 (ja) * | 2013-04-11 | 2017-06-21 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 薄膜トランジスタ及びそれを用いた表示装置 |
TWI513005B (zh) * | 2013-09-13 | 2015-12-11 | Au Optronics Corp | 薄膜電晶體及其製造方法 |
TWI677989B (zh) | 2013-09-19 | 2019-11-21 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置及其製造方法 |
KR102085099B1 (ko) * | 2013-10-15 | 2020-03-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 기판, 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
US9166181B2 (en) | 2014-02-19 | 2015-10-20 | International Business Machines Corporation | Hybrid junction field-effect transistor and active matrix structure |
US20150340539A1 (en) * | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Ultraviolet sensor and electronic device using ultraviolet sensor |
CN104167446B (zh) * | 2014-07-14 | 2017-09-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种薄膜晶体管、阵列基板和显示装置 |
CN104600123B (zh) | 2015-01-05 | 2018-06-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板及显示装置 |
CN104934330A (zh) * | 2015-05-08 | 2015-09-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示面板 |
CN106684125B (zh) * | 2015-11-05 | 2020-05-08 | 群创光电股份有限公司 | 显示设备 |
JP2017143108A (ja) * | 2016-02-08 | 2017-08-17 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタの製造方法 |
TWI715699B (zh) * | 2016-10-21 | 2021-01-11 | 日商半導體能源硏究所股份有限公司 | 複合氧化物及電晶體 |
CN106653772B (zh) * | 2016-12-30 | 2019-10-01 | 惠科股份有限公司 | 一种显示面板及制程 |
KR20180099974A (ko) | 2017-02-27 | 2018-09-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 반도체 장치 |
US10510899B2 (en) | 2017-08-07 | 2019-12-17 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Thin film transistor, thin film transistor manufacturing method and liquid crystal display panel |
CN107369718A (zh) * | 2017-08-07 | 2017-11-21 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 薄膜晶体管及其制造方法、液晶显示面板 |
KR20190047365A (ko) | 2017-10-27 | 2019-05-08 | 경희대학교 산학협력단 | 산화물 반도체 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 |
JP2019153656A (ja) * | 2018-03-02 | 2019-09-12 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板およびデマルチプレクサ回路 |
CN109616510B (zh) | 2018-12-03 | 2020-04-14 | 惠科股份有限公司 | 薄膜晶体管结构及其制作方法、显示装置 |
JP7327940B2 (ja) * | 2019-01-10 | 2023-08-16 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 半導体装置及び表示装置 |
US10784341B2 (en) * | 2019-01-21 | 2020-09-22 | Northrop Grumnian Systems Corporation | Castellated superjunction transistors |
CN110707156B (zh) * | 2019-09-16 | 2023-11-28 | Tcl华星光电技术有限公司 | 薄膜晶体管及其制造方法 |
CN111244034A (zh) * | 2020-01-17 | 2020-06-05 | Tcl华星光电技术有限公司 | 阵列基板及其制造方法 |
US11631704B2 (en) * | 2020-04-21 | 2023-04-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix substrate and display device |
CN111682033A (zh) * | 2020-07-07 | 2020-09-18 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制作方法 |
WO2023239182A1 (ko) * | 2022-06-09 | 2023-12-14 | 서울대학교산학협력단 | 박막 트랜지스터 구동 소자 및 이의 제조방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0261620A (ja) * | 1988-08-29 | 1990-03-01 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2001209070A (ja) * | 2000-01-27 | 2001-08-03 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示素子 |
JP2005310881A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Fet型強誘電体メモリセルおよびfet型強誘電体メモリ |
JP2007123861A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-05-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及びその作製方法 |
JP2008218495A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Canon Inc | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3856901B2 (ja) * | 1997-04-15 | 2006-12-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置 |
JP2915397B1 (ja) * | 1998-05-01 | 1999-07-05 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | バックチャネル効果を防止する薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
US6346730B1 (en) * | 1999-04-06 | 2002-02-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device having a pixel TFT formed in a display region and a drive circuit formed in the periphery of the display region on the same substrate |
JP4403599B2 (ja) * | 1999-04-19 | 2010-01-27 | ソニー株式会社 | 半導体薄膜の結晶化方法、レーザ照射装置、薄膜トランジスタの製造方法及び表示装置の製造方法 |
JP2001119029A (ja) * | 1999-10-18 | 2001-04-27 | Fujitsu Ltd | 薄膜トランジスタ及びその製造方法及びそれを備えた液晶表示装置 |
US6559594B2 (en) * | 2000-02-03 | 2003-05-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device |
JP2001284592A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-12 | Sony Corp | 薄膜半導体装置及びその駆動方法 |
US6774397B2 (en) * | 2000-05-12 | 2004-08-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
SG103846A1 (en) * | 2001-02-28 | 2004-05-26 | Semiconductor Energy Lab | A method of manufacturing a semiconductor device |
JP4024508B2 (ja) * | 2001-10-09 | 2007-12-19 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
US6833556B2 (en) * | 2002-08-12 | 2004-12-21 | Acorn Technologies, Inc. | Insulated gate field effect transistor having passivated schottky barriers to the channel |
US7868957B2 (en) * | 2003-12-02 | 2011-01-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thin film transistor, display device and liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
CN1918672B (zh) * | 2004-03-09 | 2012-10-03 | 出光兴产株式会社 | 薄膜晶体管、薄膜晶体管基板、液晶显示装置、溅射靶、透明导电膜、透明电极及它们的制造方法 |
KR100601370B1 (ko) * | 2004-04-28 | 2006-07-13 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 트랜지스터 및 그를 이용한 유기 전계 발광 표시 장치 |
US20050258427A1 (en) * | 2004-05-20 | 2005-11-24 | Chan Isaac W T | Vertical thin film transistor electronics |
JP2006126692A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Seiko Epson Corp | 薄膜パターン基板、デバイスの製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器 |
JP5053537B2 (ja) | 2004-11-10 | 2012-10-17 | キヤノン株式会社 | 非晶質酸化物を利用した半導体デバイス |
JP5138163B2 (ja) | 2004-11-10 | 2013-02-06 | キヤノン株式会社 | 電界効果型トランジスタ |
WO2006103853A1 (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Japan Science And Technology Agency | 二酸化チタンを活性層として用いる半導体装置およびその製造方法 |
EP3614442A3 (en) * | 2005-09-29 | 2020-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufactoring method thereof |
JP2007115808A (ja) | 2005-10-19 | 2007-05-10 | Toppan Printing Co Ltd | トランジスタ |
JP2007212699A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 反射型tft基板及び反射型tft基板の製造方法 |
WO2007108181A1 (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Sharp Kabushiki Kaisha | アクティブマトリクス基板、表示装置、テレビジョン受像機 |
US20080023703A1 (en) * | 2006-07-31 | 2008-01-31 | Randy Hoffman | System and method for manufacturing a thin-film device |
KR100851215B1 (ko) * | 2007-03-14 | 2008-08-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기 전계 발광표시장치 |
US20090278120A1 (en) * | 2008-05-09 | 2009-11-12 | Korea Institute Of Science And Technology | Thin Film Transistor |
TWI642113B (zh) * | 2008-08-08 | 2018-11-21 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置的製造方法 |
-
2009
- 2009-02-09 JP JP2009027646A patent/JP4752927B2/ja active Active
-
2010
- 2010-01-27 TW TW099102266A patent/TWI412137B/zh active
- 2010-01-29 US US12/696,270 patent/US8269217B2/en active Active
- 2010-02-01 KR KR1020100008969A patent/KR101651679B1/ko active IP Right Grant
- 2010-02-02 CN CN201010104366.5A patent/CN101800248B/zh active Active
-
2011
- 2011-11-02 US US13/287,689 patent/US8497504B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0261620A (ja) * | 1988-08-29 | 1990-03-01 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
JP2001209070A (ja) * | 2000-01-27 | 2001-08-03 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示素子 |
JP2005310881A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Fet型強誘電体メモリセルおよびfet型強誘電体メモリ |
JP2007123861A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-05-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及びその作製方法 |
JP2008218495A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Canon Inc | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
Cited By (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018164096A (ja) * | 2010-01-15 | 2018-10-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US8866984B2 (en) | 2010-01-24 | 2014-10-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
US11362112B2 (en) | 2010-01-24 | 2022-06-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
US9117732B2 (en) | 2010-01-24 | 2015-08-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
US11935896B2 (en) | 2010-01-24 | 2024-03-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
JP2014239216A (ja) * | 2010-06-21 | 2014-12-18 | 株式会社アルバック | 半導体装置、半導体装置を有する液晶表示装置、半導体装置の製造方法 |
JP2018032874A (ja) * | 2010-09-03 | 2018-03-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US10269563B2 (en) | 2010-09-03 | 2019-04-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing semiconductor device |
JP2013541192A (ja) * | 2010-09-03 | 2013-11-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | スタガー薄膜トランジスタおよびその形成方法 |
JP2016034032A (ja) * | 2010-10-20 | 2016-03-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
US9786668B2 (en) | 2011-01-14 | 2017-10-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including multilayer wiring layer |
US11805637B2 (en) | 2011-01-14 | 2023-10-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising first and second conductors |
JP2012160718A (ja) * | 2011-01-14 | 2012-08-23 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体記憶装置 |
US11139301B2 (en) | 2011-01-14 | 2021-10-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including side surface conductor contact |
US10763261B2 (en) | 2011-01-14 | 2020-09-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor memory device comprising memory cell over driver |
US10249626B2 (en) | 2011-01-14 | 2019-04-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor memory device including multilayer wiring layer |
JP2012253752A (ja) * | 2011-05-06 | 2012-12-20 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
US9171942B2 (en) | 2011-07-29 | 2015-10-27 | Fujifilm Corporation | Semiconductor element manufacturing method |
JP2013084939A (ja) * | 2011-09-29 | 2013-05-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
WO2013150981A1 (ja) * | 2012-04-04 | 2013-10-10 | シャープ株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2021093546A (ja) * | 2012-11-16 | 2021-06-17 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP2018078340A (ja) * | 2012-11-16 | 2018-05-17 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
KR20150055334A (ko) * | 2013-11-13 | 2015-05-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터, 이를 포함하는 표시 기판 및 박막 트랜지스터의 제조 방법 |
KR102232539B1 (ko) * | 2013-11-13 | 2021-03-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터, 이를 포함하는 표시 기판 및 박막 트랜지스터의 제조 방법 |
JPWO2015122393A1 (ja) * | 2014-02-14 | 2017-03-30 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板 |
JP2015158572A (ja) * | 2014-02-24 | 2015-09-03 | 株式会社Joled | 表示装置、電子機器 |
WO2016035652A1 (ja) * | 2014-09-03 | 2016-03-10 | シャープ株式会社 | 金属積層膜の製造方法、半導体装置の製造方法、及び液晶表示装置の製造方法 |
US9812518B2 (en) | 2015-04-07 | 2017-11-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor array substrate and organic light-emitting display apparatus including the same |
WO2017099024A1 (ja) * | 2015-12-09 | 2017-06-15 | シャープ株式会社 | アクティブマトリクス基板およびそれを備える液晶表示パネル |
JP2018537861A (ja) * | 2015-12-16 | 2018-12-20 | 鴻富錦精密工業(深▲セン▼)有限公司 | 薄膜トランジスタの基板及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100091108A (ko) | 2010-08-18 |
CN101800248B (zh) | 2012-06-20 |
US8269217B2 (en) | 2012-09-18 |
US20100200843A1 (en) | 2010-08-12 |
JP4752927B2 (ja) | 2011-08-17 |
TWI412137B (zh) | 2013-10-11 |
CN101800248A (zh) | 2010-08-11 |
KR101651679B1 (ko) | 2016-08-26 |
US8497504B2 (en) | 2013-07-30 |
TW201044593A (en) | 2010-12-16 |
US20120043548A1 (en) | 2012-02-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4752927B2 (ja) | 薄膜トランジスタおよび表示装置 | |
JP4752925B2 (ja) | 薄膜トランジスタおよび表示装置 | |
JP4844617B2 (ja) | 薄膜トランジスタ基板および表示装置 | |
US8426851B2 (en) | Thin film transistor and display device | |
JP5515281B2 (ja) | 薄膜トランジスタ、表示装置、電子機器および薄膜トランジスタの製造方法 | |
JP5552753B2 (ja) | 薄膜トランジスタおよび表示装置 | |
TWI455320B (zh) | 薄膜電晶體及其製造方法,及顯示裝置 | |
JP6019507B2 (ja) | 薄膜トランジスタ基板及び薄膜トランジスタ基板の製造方法 | |
US9324741B2 (en) | Display device, manufacturing method of display device and electronic equipment | |
JP5737550B2 (ja) | 表示装置、表示装置の製造方法および電子機器 | |
JP6175740B2 (ja) | 薄膜トランジスタおよびその製造方法並びに表示装置および電子機器 | |
JP6500202B2 (ja) | 薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタの製造方法 | |
JP6019330B2 (ja) | 薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタの製造方法、表示装置および電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110308 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110426 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110509 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140603 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4752927 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140603 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S303 | Written request for registration of pledge or change of pledge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316303 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316803 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |