|
KR100962911B1
(ko)
*
|
2005-09-13 |
2010-06-10 |
칼 짜이스 에스엠테 아게 |
마이크로리소그라피 투영 광학 시스템, 디바이스 제작 방법 및 광학 표면을 설계하기 위한 방법
|
|
DE102006014380A1
(de)
*
|
2006-03-27 |
2007-10-11 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage mit negativer Schnittweite der Eintrittspupille
|
|
JP5479890B2
(ja)
|
2006-04-07 |
2014-04-23 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
マイクロリソグラフィ投影光学システム、装置、及び製造方法
|
|
DE102006035022A1
(de)
*
|
2006-07-28 |
2008-01-31 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Verfahren zum Herstellen einer optischen Komponente, Interferometeranordnung und Beugungsgitter
|
|
JP2008048293A
(ja)
*
|
2006-08-18 |
2008-02-28 |
Kyocera Corp |
撮像装置、およびその製造方法
|
|
EP1930771A1
(en)
|
2006-12-04 |
2008-06-11 |
Carl Zeiss SMT AG |
Projection objectives having mirror elements with reflective coatings
|
|
WO2008081903A1
(ja)
*
|
2006-12-27 |
2008-07-10 |
Kyocera Corporation |
撮像装置および情報コード読取装置
|
|
EP1950594A1
(de)
|
2007-01-17 |
2008-07-30 |
Carl Zeiss SMT AG |
Abbildende Optik, Projektionsbelichtunsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, durch das Herstellungsverfahren gefertigtes mikrostrukturiertes Bauelement sowie Verwendung einer derartigen abbildenden Optik
|
|
US8567678B2
(en)
*
|
2007-01-30 |
2013-10-29 |
Kyocera Corporation |
Imaging device, method of production of imaging device, and information code-reading device
|
|
US7692867B2
(en)
*
|
2007-03-23 |
2010-04-06 |
General Electric Company |
Enhanced parfocality
|
|
WO2009006919A1
(en)
*
|
2007-07-09 |
2009-01-15 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Method of measuring a deviation an optical surface from a target shape
|
|
DE102008002377A1
(de)
*
|
2007-07-17 |
2009-01-22 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Beleuchtungssystem sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einem derartigen Beleuchtungssystem
|
|
DE102007033967A1
(de)
*
|
2007-07-19 |
2009-01-29 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projektionsobjektiv
|
|
DE102008033341A1
(de)
|
2007-07-24 |
2009-01-29 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projektionsobjektiv
|
|
JP5269079B2
(ja)
*
|
2007-08-20 |
2013-08-21 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
反射コーティングを備えたミラー要素を有する投影対物系
|
|
DE102007045396A1
(de)
|
2007-09-21 |
2009-04-23 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Bündelführender optischer Kollektor zur Erfassung der Emission einer Strahlungsquelle
|
|
DE102007051671A1
(de)
*
|
2007-10-26 |
2009-05-07 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
JP2010257998A
(ja)
*
|
2007-11-26 |
2010-11-11 |
Nikon Corp |
反射投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法
|
|
DE102007062198A1
(de)
|
2007-12-21 |
2009-06-25 |
Carl Zeiss Microimaging Gmbh |
Katoptrisches Objektiv zur Abbildung eines im Wesentlichen linienförmigen Objektes
|
|
DE102008033342A1
(de)
|
2008-07-16 |
2010-01-21 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie
|
|
DE102008000800A1
(de)
|
2008-03-20 |
2009-09-24 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie
|
|
KR101656534B1
(ko)
*
|
2008-03-20 |
2016-09-09 |
칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 |
마이크로리소그래피용 투영 대물렌즈
|
|
DE102008015996A1
(de)
|
2008-03-27 |
2009-10-01 |
Carl Zeiss Sms Gmbh |
Mikroskop und Mikroskopierverfahren zur Untersuchung eines reflektierenden Objektes
|
|
DE102008001694A1
(de)
|
2008-05-09 |
2009-11-12 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Projektionsoptik für die Mikrolithografie
|
|
US8363129B2
(en)
*
|
2008-06-27 |
2013-01-29 |
Kyocera Corporation |
Imaging device with aberration control and method therefor
|
|
JP4658162B2
(ja)
*
|
2008-06-27 |
2011-03-23 |
京セラ株式会社 |
撮像装置および電子機器
|
|
DE102008033340B3
(de)
*
|
2008-07-16 |
2010-04-08 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Abbildende Optik
|
|
US8502877B2
(en)
*
|
2008-08-28 |
2013-08-06 |
Kyocera Corporation |
Image pickup apparatus electronic device and image aberration control method
|
|
DE102008046699B4
(de)
|
2008-09-10 |
2014-03-13 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik
|
|
WO2010032753A1
(ja)
|
2008-09-18 |
2010-03-25 |
株式会社ニコン |
開口絞り、光学系、露光装置及び電子デバイスの製造方法
|
|
JP4743553B2
(ja)
*
|
2008-09-29 |
2011-08-10 |
京セラ株式会社 |
レンズユニット、撮像装置、および電子機器
|
|
DE102008042438B4
(de)
|
2008-09-29 |
2010-11-04 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens zwei Arbeitszuständen
|
|
KR20100044625A
(ko)
*
|
2008-10-22 |
2010-04-30 |
삼성전자주식회사 |
주기적으로 활성화되는 복제 경로를 구비하는 지연 동기 루프를 구비하는 반도체 장치
|
|
DE202008016307U1
(de)
|
2008-12-09 |
2009-04-02 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Retikel mit einer abzubildenden Struktur, Projektionsoptik zur Abbildung der Struktur sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Projektionsoptik
|
|
DE102009008644A1
(de)
|
2009-02-12 |
2010-11-18 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
JP5525550B2
(ja)
|
2009-03-06 |
2014-06-18 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
マイクロリソグラフィ用の照明光学系及び光学系
|
|
DE102009034028A1
(de)
*
|
2009-03-30 |
2010-10-07 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
WO2010115500A1
(en)
|
2009-03-30 |
2010-10-14 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Imaging optics and projection exposure installation for microlithography with an imaging optics of this type
|
|
US8269981B1
(en)
|
2009-03-30 |
2012-09-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Method and an apparatus for measuring a deviation of an optical test surface from a target shape
|
|
DE102009030501A1
(de)
*
|
2009-06-24 |
2011-01-05 |
Carl Zeiss Smt Ag |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes
|
|
WO2011032572A1
(en)
|
2009-09-18 |
2011-03-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Method of measuring a shape of an optical surface and interferometric measuring device
|
|
DE102009045163B4
(de)
*
|
2009-09-30 |
2017-04-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
|
|
US8743342B2
(en)
*
|
2009-11-17 |
2014-06-03 |
Nikon Corporation |
Reflective imaging optical system, exposure apparatus, and method for producing device
|
|
EP2506061A4
(en)
|
2009-11-24 |
2017-12-20 |
Nikon Corporation |
Image-forming optical system, exposure apparatus, and device producing method
|
|
DE102009047179B8
(de)
|
2009-11-26 |
2016-08-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsobjektiv
|
|
WO2011131289A1
(en)
|
2010-04-22 |
2011-10-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Imaging optics, and a projection exposure apparatus for microlithography having such an imaging optics
|
|
US8317344B2
(en)
|
2010-06-08 |
2012-11-27 |
Nikon Corporation |
High NA annular field catoptric projection optics using Zernike polynomial mirror surfaces
|
|
WO2012013241A1
(en)
|
2010-07-30 |
2012-02-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Imaging optical system and projection exposure installation for microlithography with an imaging optical system of this type
|
|
DE102010039745A1
(de)
|
2010-08-25 |
2012-03-01 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik
|
|
DE102010040811A1
(de)
|
2010-09-15 |
2012-03-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik
|
|
DE102011080437A1
(de)
*
|
2010-09-30 |
2012-04-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildendes optisches System für die Mikrolithographie
|
|
WO2012041341A1
(en)
*
|
2010-09-30 |
2012-04-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projection exposure system and projection exposure method
|
|
DE102010062597A1
(de)
*
|
2010-12-08 |
2012-06-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Reflektives optisches Abbildungssystem
|
|
DE102011076752A1
(de)
|
2011-05-31 |
2012-12-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik
|
|
DE102011078928A1
(de)
|
2011-07-11 |
2013-01-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
|
|
CN102402135B
(zh)
*
|
2011-12-07 |
2013-06-05 |
北京理工大学 |
一种极紫外光刻投影物镜设计方法
|
|
DE102011088980A1
(de)
|
2011-12-19 |
2012-10-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektlithografie mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
KR102330570B1
(ko)
|
2012-02-06 |
2021-11-25 |
가부시키가이샤 니콘 |
반사 결상 광학계, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
|
|
DE102012202675A1
(de)
|
2012-02-22 |
2013-01-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithografie mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102012208793A1
(de)
|
2012-05-25 |
2013-11-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102012212753A1
(de)
|
2012-07-20 |
2014-01-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsoptik
|
|
WO2014019617A1
(en)
|
2012-08-01 |
2014-02-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Imaging optical unit for a projection exposure apparatus
|
|
DE102012218558A1
(de)
|
2012-10-11 |
2013-08-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102013204441A1
(de)
|
2013-03-14 |
2014-04-03 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Kollektor
|
|
JP5746259B2
(ja)
*
|
2013-05-07 |
2015-07-08 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
反射コーティングを備えたミラー要素を有する投影対物系
|
|
US9291751B2
(en)
|
2013-06-17 |
2016-03-22 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Imaging optical unit and projection exposure apparatus for projection lithography comprising such an imaging optical unit
|
|
DE102013213545A1
(de)
|
2013-07-10 |
2015-01-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
|
|
DE102014208770A1
(de)
|
2013-07-29 |
2015-01-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen Projektionsoptik
|
|
DE102014203187A1
(de)
|
2014-02-21 |
2015-08-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
|
|
NL2014267A
(en)
*
|
2014-02-24 |
2015-08-25 |
Asml Netherlands Bv |
Lithographic apparatus and method.
|
|
KR101882633B1
(ko)
|
2014-07-22 |
2018-07-26 |
칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 |
리소그래피 마스크의 3d 에어리얼 이미지를 3차원으로 측정하는 방법
|
|
DE102014218474A1
(de)
|
2014-09-15 |
2016-03-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren für die EUV-Mikrolithographie
|
|
DE102014223452A1
(de)
|
2014-11-18 |
2016-05-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Teilsystem für die Projektionslithographie sowie Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
|
|
WO2016078819A1
(en)
|
2014-11-18 |
2016-05-26 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Illumination optical unit for euv projection lithography
|
|
DE102014223811B4
(de)
|
2014-11-21 |
2016-09-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik für die EUV-Projektionslithographie, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines strukturierten Bauteils
|
|
DE102015201138A1
(de)
|
2015-01-23 |
2016-01-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie
|
|
DE102015226531A1
(de)
|
2015-04-14 |
2016-10-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102015221985A1
(de)
|
2015-11-09 |
2017-05-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
KR102868300B1
(ko)
|
2015-05-28 |
2025-10-13 |
칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 |
대물 필드를 이미지 필드 내로 이미징하기 위한 이미징 광학 유닛, 및 이러한 이미징 광학 유닛을 포함하는 투영 노광 장치
|
|
DE102015209827B4
(de)
|
2015-05-28 |
2019-06-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld, optisches System sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102015212619A1
(de)
|
2015-07-06 |
2017-01-12 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102015221983A1
(de)
|
2015-11-09 |
2017-05-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102015221984A1
(de)
|
2015-11-09 |
2017-05-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102015224597A1
(de)
|
2015-12-08 |
2016-10-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Feldfacettenspiegel für die EUV-Projektionslithographie
|
|
KR102106041B1
(ko)
|
2015-12-22 |
2020-05-04 |
에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. |
토포그래피 측정 시스템
|
|
DE102015226529A1
(de)
|
2015-12-22 |
2017-06-22 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102016205617A1
(de)
|
2016-04-05 |
2017-10-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage
|
|
DE102016212578A1
(de)
|
2016-07-11 |
2018-01-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsoptik für die EUV-Projektionslithographie
|
|
JP6559105B2
(ja)
*
|
2016-08-31 |
2019-08-14 |
富士フイルム株式会社 |
ヘッドアップディスプレイ装置
|
|
JP6573586B2
(ja)
*
|
2016-08-31 |
2019-09-11 |
富士フイルム株式会社 |
ヘッドアップディスプレイ装置
|
|
DE102016218996A1
(de)
|
2016-09-30 |
2017-09-07 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik für die Projektionslithographie
|
|
DE102017201520B4
(de)
|
2017-01-31 |
2018-10-04 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Projektionsoptik, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung von mikro- oder nanostrukturierten Bauelementen
|
|
DE102017205130A1
(de)
|
2017-03-27 |
2017-07-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102017207542A1
(de)
|
2017-05-04 |
2017-06-29 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102017210269A1
(de)
|
2017-06-20 |
2017-08-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102017210990A1
(de)
|
2017-06-28 |
2017-08-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld mit EUV-Abbildungslicht
|
|
DE102017212869A1
(de)
|
2017-07-26 |
2019-01-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
|
|
TWI812626B
(zh)
|
2017-07-26 |
2023-08-21 |
德商卡爾蔡司Smt有限公司 |
投射微影中用於成像光之光束導引的光學元件
|
|
DE102018200152A1
(de)
|
2018-01-08 |
2019-07-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
|
|
DE102017216458A1
(de)
|
2017-09-18 |
2019-03-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines Spiegels als optischer Komponente für ein optisches System einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie
|
|
DE102017216893A1
(de)
|
2017-09-25 |
2019-03-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
|
|
DE102018200955A1
(de)
|
2018-01-22 |
2019-01-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Spiegel-Baugruppe zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
|
|
DE102018200956A1
(de)
|
2018-01-22 |
2018-12-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
|
|
DE102018200954A1
(de)
|
2018-01-22 |
2019-07-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
|
|
DE102018201170A1
(de)
|
2018-01-25 |
2019-07-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik für die EUV-Mikrolithographie
|
|
DE102018203283A1
(de)
|
2018-03-06 |
2018-05-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines optischen Systems einer Projektionsbestimmungsanlage für die Projektionslithographie
|
|
DE102018207277A1
(de)
|
2018-05-09 |
2019-11-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Lithografiemaske, optisches System zur Übertragung von Original Strukturabschnitten der Lithografiemaske sowie Projektionsoptik zur Abbildung eines Objektfeldes, in dem mindestens ein Original-Strukturabschnitt einer Lithografiemaske anordenbar ist
|
|
DE102018208373A1
(de)
|
2018-05-28 |
2019-06-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht bei der Projektionslithographie
|
|
DE102018214437A1
(de)
|
2018-08-27 |
2018-10-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102018216832A1
(de)
|
2018-10-01 |
2018-11-22 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Bereitstellung einer Optik-Baugruppe
|
|
DE102018217707A1
(de)
|
2018-10-16 |
2018-12-27 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Feldfacettenspiegel zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektonslithographie
|
|
DE102019202759A1
(de)
|
2019-02-28 |
2019-04-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projek-tionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
DE102019203423A1
(de)
|
2019-03-13 |
2020-01-16 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik
|
|
DE102019205271A1
(de)
|
2019-04-11 |
2020-10-15 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
|
|
TWI704342B
(zh)
*
|
2019-11-28 |
2020-09-11 |
雷科股份有限公司 |
Aoi(自動光學檢測)應用在雷射蝕薄銅線圈的方法及其設備
|
|
DE102019219209A1
(de)
|
2019-12-10 |
2020-01-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Oberflächenprofil-Messeinrichtung zur Vermessung der Spiegel einer abbildenden Optik
|
|
EP4001987A1
(en)
|
2020-11-18 |
2022-05-25 |
Coretronic Corporation |
Imaging system and projection device
|
|
DE102021205774A1
(de)
|
2021-06-08 |
2022-12-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik
|
|
DE102021205775A1
(de)
|
2021-06-08 |
2022-12-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik
|
|
DE102021211181A1
(de)
|
2021-10-05 |
2022-08-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
EUV-Projektionsoptik
|
|
CN114371548B
(zh)
*
|
2021-12-28 |
2023-03-21 |
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
一种二维大视场成像平面对称自由曲面光学系统
|
|
DE102022206110A1
(de)
|
2022-06-20 |
2023-12-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
|
|
DE102022206112A1
(de)
|
2022-06-20 |
2023-12-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
|
|
DE102022212382A1
(de)
|
2022-11-21 |
2023-02-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Design einer Projektionsoptik sowie Projektionsoptik
|
|
DE102023203224A1
(de)
|
2023-04-06 |
2024-10-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
|
|
DE102023203225A1
(de)
|
2023-04-06 |
2024-10-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
|
|
DE102023203223A1
(de)
|
2023-04-06 |
2024-10-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
|
|
WO2025108821A2
(en)
|
2023-11-21 |
2025-05-30 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Imaging optical unit for imaging an object field into an image field, and projection exposure apparatus having such an imaging optical unit
|
|
DE102024203605A1
(de)
|
2024-04-18 |
2025-10-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende Optik für die Projektionslithographie
|
|
DE102024203869A1
(de)
|
2024-04-25 |
2025-03-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld
|