JP2009009935A5 - - Google Patents
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Claims (8)
- 第1の基板の一方の面上に、光が照射されることによりガスを発生する層を形成し、
前記ガスを発生する層上に材料層を形成し、
前記第1の基板の一方の面と、第2の基板とを対向させ、
前記第1の基板の他方の面から前記ガスを発生する層に前記光を照射することにより、前記材料層を前記第2の基板に付着させることを特徴とする成膜方法。 - 第1の基板の一方の面上に、光が照射されることによりガスを発生する層を形成し、
前記ガスを発生する層上に材料層を形成し、
前記第1の基板の一方の面と、第2の基板とを対向させ、
前記第1の基板の他方の面と、光制御手段とを対向させ、
前記第1の基板の他方の面から、前記光制御手段を介して前記ガスを発生する層に選択的に前記光を照射することにより、前記材料層の一部を前記第2の基板に付着させることを特徴とする成膜方法。 - 請求項2において、
前記光制御手段は、フォトマスク、スリット、またはメタルマスクであることを特徴とする成膜方法。 - 請求項3において、
前記光制御手段は、前記第1の基板の材料と同一の熱膨張係数を有する材料からなることを特徴とする成膜方法。 - 請求項1乃至4のいずれか一項において、
前記ガスを発生する層への光の照射は、矩形状又は線状のレーザビームを、前記レーザビームの長辺方向と直交する方向に走査することにより行うことを特徴とする成膜方法。 - 請求項1乃至5のいずれか一項において、
前記ガスを発生する層として、アモルファスシリコンを有する層を形成することを特徴とする成膜方法。 - 請求項1乃至5のいずれか一項において、
前記ガスを発生する層として、アジド化合物又はジアゾ化合物を有する層を形成し、
前記光として、紫外光を照射することを特徴とする成膜方法。 - 請求項1乃至7のいずれか一項において、
前記第1の基板を、水平面に対して垂直に配置することを特徴とする成膜方法。
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