JP2009231277A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. ロード室、該ロード室に連結された共通室、および該共通室に連結された複数の処理室と、レーザ光源とを有する製造装置であって、
   前記共通室のチャンバー壁は、レーザ光源からのレーザ光が通過する窓を有し、
   前記共通室は、真空排気手段と、２枚の基板の位置合わせ手段と、第１の基板及び第２の基板を固定した状態で移動させる基板移動手段とを有し、
   前記複数の処理室の一つは、前記第２の基板上に材料層を形成する手段を有し、
   前記位置合わせ手段は、前記第２の基板における前記材料層が形成された面と前記第１の基板の被成膜面とが対向するように位置合わせして基板間隔を固定する手段を有し、
   前記レーザ光は、前記第２の基板に照射されることを特徴とする製造装置。
2. ロード室、該ロード室に連結された共通室、および該共通室に連結された複数の処理室と、レーザ光源とを有する製造装置であって、
   前記共通室のチャンバー壁は、レーザ光源からのレーザ光が通過する窓を有し、
   前記共通室は、真空排気手段と、２枚の基板の位置合わせ手段と、第１の基板及び第２の基板を固定した状態で移動させる基板移動手段とを有し、
   前記複数の処理室の一つは、前記第２の基板上に材料層を形成する手段を有し、
   前記位置合わせ手段は、前記第２の基板における前記材料層が形成された面と前記第１の基板の被成膜面とが対向するように位置合わせして基板間隔を固定する手段を有し、
   前記レーザ光を前記第２の基板に照射し、前記第２の基板上の前記材料層を前記第１の基板に選択的に成膜することを特徴とする製造装置。
3. ロード室、該ロード室に連結された共通室、および該共通室に連結された複数の処理室と、レーザ光源とを有する製造装置であって、
   前記共通室のチャンバー壁は、レーザ光源からのレーザ光が通過する窓を有し、
   前記共通室は、真空排気手段と、２枚の基板の位置合わせ手段と、第１の基板及び第２の基板、または前記第１の基板及び第３の基板を固定した状態で移動させる基板移動手段とを有し、
   前記複数の処理室の一つは、前記第２の基板上に第１の材料層を形成する手段を有し、
   前記複数の処理室の他の一つは、前記第３の基板上に第２の材料層を形成する手段を有し、
   前記位置合わせ手段は、
   前記第２の基板における前記第１の材料層が形成された面と前記第１の基板の被成膜面とが対向するように位置合わせして基板間隔を固定する手段と、
   前記第３の基板における前記第２の材料層が形成された面と前記第１の基板の被成膜面とが対向するように位置合わせして基板間隔を固定する手段と、を有し、
   前記レーザ光を前記第２の基板に照射し、前記第２の基板上の前記第１の材料層を前記第１の基板に選択的に成膜し、
   前記レーザ光を前記第３の基板に照射し、前記第３の基板上の前記第２の材料層を前記第１の基板に選択的に成膜することを特徴とする製造装置。
4. 請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
   前記第２の基板は、レーザ光を吸収する光吸収層を選択的に有することを特徴とする製造装置。
5. 請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
   前記共通室は、少なくともプラズマ発生手段を有し、スパッタリングターゲットと、材料ガスを導入する手段とを有することを特徴とする製造装置。
6. 請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
   前記共通室は、スパッタリングターゲットを移動させる手段を有することを特徴とする製造装置。