JP2006309994A - 転写用基板および転写方法ならびに表示装置の製造方法 - Google Patents
転写用基板および転写方法ならびに表示装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006309994A JP2006309994A JP2005128908A JP2005128908A JP2006309994A JP 2006309994 A JP2006309994 A JP 2006309994A JP 2005128908 A JP2005128908 A JP 2005128908A JP 2005128908 A JP2005128908 A JP 2005128908A JP 2006309994 A JP2006309994 A JP 2006309994A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transfer
- substrate
- layer
- transferred
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、支持基板21に発光層23が成膜されて成る転写用基板(ドナー要素20)において、支持基板21には、転写対象となる素子作成用基板との位置合わせを行うアライメントマークM1〜M3が、異なる合わせ関係に対応して複数設けられている。このドナー要素20を用いて転写を行うには、複数のアライメントマークM1〜M3のうち一つを用いて素子作成用基板との位置合わせを行って転写した後、別の素子作成用基板に対して別のアライメントマークを用いた位置合わせを行って転写を行う。これを繰り返すことで、ドナー要素20に成膜した発光層23を無駄なく利用できるようになる。
【選択図】図1
Description
Claims (20)
- 支持基板に少なくとも発光層を含む転写層が成膜されて成る転写用基板において、
前記支持基板には、転写対象となる素子作成用基板との位置合わせを行うマークが、異なる合わせ関係に対応して複数設けられている
ことを特徴とする転写用基板。 - 前記複数設けられているマークは、一定のピッチで設けられている
ことを特徴とする請求項1記載の転写用基板。 - 前記複数設けられているマークは、前記素子作成用基板に形成する画素のピッチに合わせて設けられている
ことを特徴とする請求項1記載の転写用基板。 - 前記複数設けられているマークは、前記素子作成用基板に1回で転写する前記発光材料の幅に合わせたピッチで設けられている
ことを特徴とする請求項1記載の転写用基板。 - 前記複数設けられているマークは、同一直線上に配置されている
ことを特徴とする請求項1記載の転写用基板。 - 前記マークが3つ設けられている場合、各マークは正三角形の頂点の位置に配置されている
ことを特徴とする請求項1記載の転写用基板。 - 支持基板に少なくとも発光層を含む転写層が成膜されて成る転写用基板と被転写基板とを対向配置して、前記転写用基板に熱源から熱を与えることによって前記転写層を前記被転写基板に熱転写する転写方法において、
前記転写用基板と第1の被転写基板とを第1の合わせ関係で位置合わせした状態で前記熱源から熱を与え、前記転写用基板から前記第1の被転写基板に向けて前記転写層を転写する第1の転写工程と、
前記第1の転写工程で用いた転写用基板と第2の被転写基板とを前記第1の合わせ関係とは異なる第2の合わせ関係で位置合わせし、前記熱源から熱を与えて前記転写用基板から前記第2の被転写基板に向けて前記転写層を転写する第2の転写工程と
を有することを特徴とする転写方法。 - 前記転写用基板の領域をN個(Nは2以上の整数)に分割し、
前記第1の転写工程では前記N個に分割したうちの第1の領域に前記熱源から熱を与えて前記転写層を前記第1の被転写基板に転写し、
前記第2の転写工程では前記N個に分割したうちの第2の領域に前記熱源から熱を与えて前記転写層を前記第2の被転写基板に転写し、
N回の転写工程によって1つの前記転写用基板に成膜された全ての前記転写層をN個の被転写基板に転写する
ことを特徴とする請求項7記載の転写方法。 - 前記第1の合わせ関係と前記第2の合わせ関係とは、前記被転写基板に形成する部材のピッチだけずれている
ことを特徴とする請求項7記載の転写方法。 - 前記第1の合わせ関係と前記第2の合わせ関係とは、前記被転写基板に1回で転写する前記転写材料の幅に合わせたピッチだけずれている
ことを特徴とする請求項7記載の転写方法。 - 前記被転写基板における前記転写用基板の分割された領域と対応する位置に、前記転写用基板と前記被転写基板とを対向配置した際の隙間を形成するスペーサが設けられている
ことを特徴とする請求項8記載の転写方法。 - 支持基板に少なくとも発光層を含む転写層が成膜されて成る転写用基板と素子作成用基板とを対向配置して、前記転写用基板に熱源から熱を与えることによって前記転写層を前記素子作成用基板に熱転写する表示装置の製造方法において、
前記転写用基板と第1の素子作成用基板とを第1の合わせ関係で位置合わせした状態で前記熱源から熱を与え、前記転写用基板から前記第1の素子作成用基板に向けて前記転写層を転写する第1の転写工程と、
前記第1の転写工程で用いた転写用基板と第2の素子作成用基板とを前記第1の合わせ関係とは異なる第2の合わせ関係で位置合わせし、前記熱源から熱を与えて前記料写用基板から前記第2の素子作成用基板に向けて前記転写層を転写する第2の転写工程と
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記転写用基板の領域をN個(Nは2以上の整数)に分割し、
前記第1の転写工程では前記N個に分割したうちの第1の領域に前記熱源から熱を与えて前記転写層を前記第1の素子作成用基板に転写し、
前記第2の転写工程では前記N個に分割したうちの第2の領域に前記熱源から熱を与えて前記転写層を前記第2の素子作成用基板に転写し、
N回の転写工程によって1つの前記転写用基板に成膜された全ての前記転写層をN個の素子作成用基板に転写する
ことを特徴とする請求項12記載の表示装置の製造方法。 - 前記第1の合わせ関係と前記第2の合わせ関係とは、前記素子作成用基板に形成する画素のピッチだけずれている
ことを特徴とする請求項12記載の表示装置の製造方法。 - 前記第1の合わせ関係と前記第2の合わせ関係とは、前記素子作成用基板に1回で転写する前記転写層の幅に合わせたピッチだけずれている
ことを特徴とする請求項12記載の表示装置の製造方法。 - 前記素子作成用基板における前記転写用基板の分割された領域と対応する位置に、前記転写用基板と前記素子作成用基板とを対向配置した際の隙間を形成するスペーサが設けられている
ことを特徴とする請求項13記載の表示装置の製造方法。 - 支持基板に少なくとも発光層を含む転写層が成膜されて成る転写用基板と被転写基板とを対向配置して、前記転写用基板に熱源から熱を与えることによって前記転写層を前記被転写基板に熱転写する転写方法において、
前記熱源からの熱を遮蔽する遮蔽マスクと前記転写用基板と第1の被転写基板とを第1の合わせ関係で位置合わせした状態で前記熱源からの熱を前記転写用基板の全面に向けて与え、前記遮蔽マスクの開口に対応した前記転写用基板から前記第1の被転写基板に向けて前記転写層を転写する第1の転写工程と、
前記遮蔽マスクと前記第1の転写工程で用いた転写用基板と第2の被転写基板とを前記第1の合わせ関係とは異なる第2の合わせ関係で位置合わせし、前記熱源からの熱を前記転写用基板の全面に向けて与え、前記遮蔽マスクの開口に対応した前記転写用基板から前記第2の被転写基板に向けて前記転写層を転写する第2の転写工程と
を有することを特徴とする転写方法。 - 前記転写用基板の領域をN個(Nは2以上の整数)に分割し、
前記第1の転写工程では前記N個に分割したうちの第1の領域に前記遮蔽マスクの開口部を位置合わせし、前記熱源からの熱を全面照射して前記転写層を前記第1の被転写基板に転写し、
前記第2の転写工程では前記N個に分割したうちの第2の領域に前記遮蔽マスクの開口部を位置あわせし、前記熱源からの熱を全面照射して前記転写層を前記第2の被転写基板に転写し、
N回の転写工程によって1つの前記転写用基板に成膜された全ての前記転写層料をN個の被転写基板に転写する
ことを特徴とする請求項17記載の転写方法。 - 支持基板に少なくとも発光層を含む転写層が成膜されて成る転写用基板と素子作成用基板とを対向配置して、前記転写用基板に熱源から熱を与えることによって前記転写層を前記素子作成用基板に熱転写する表示装置の製造方法において、
前記熱源からの熱を遮蔽する遮蔽マスクと前記転写用基板と第1の素子作成用基板とを第1の合わせ関係で位置合わせした状態で前記熱源からの熱を前記転写用基板の全面に向けて与え、前記遮蔽マスクの開口に対応した前記転写用基板から前記第1の素子作成用基板に向けて前記転写層を転写する第1の転写工程と、
前記遮蔽マスクと前記第1の転写工程で用いた転写用基板と第2の被転写基板とを前記第1の合わせ関係とは異なる第2の合わせ関係で位置合わせし、前記熱源からの熱を前記転写用基板の全面に向けて与え、前記遮蔽マスクの開口に対応した前記転写用基板から前記第2の素子作成用基板に向けて前記転写層を転写する第2の転写工程と
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記転写用基板の領域をN個(Nは2以上の整数)に分割し、
前記第1の転写工程では前記N個に分割したうちの第1の領域に前記遮蔽マスクの開口部を位置合わせし、前記熱源からの熱を全面照射して前記転写層を前記第1の素子作成用基板に転写し、
前記第2の転写工程では前記N個に分割したうちの第2の領域に前記遮蔽マスクの開口部を位置あわせし、前記熱源からの熱を全面照射して前記転写層を前記第2の素子作成用基板に転写し、
N回の転写工程によって1つの前記転写用基板に成膜された全ての前記転写層をN個の素子作成用基板に転写する
ことを特徴とする請求項19記載の表示装置の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005128908A JP2006309994A (ja) | 2005-04-27 | 2005-04-27 | 転写用基板および転写方法ならびに表示装置の製造方法 |
TW095113099A TWI307612B (en) | 2005-04-27 | 2006-04-13 | Transfer method and transfer apparatus |
KR1020060037548A KR20060113456A (ko) | 2005-04-27 | 2006-04-26 | 전사 방법 및 전사 장치 |
US11/380,280 US7648944B2 (en) | 2005-04-27 | 2006-04-26 | Transfer method and transfer apparatus |
CNB2006100771264A CN100466333C (zh) | 2005-04-27 | 2006-04-27 | 转移方法和转移装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005128908A JP2006309994A (ja) | 2005-04-27 | 2005-04-27 | 転写用基板および転写方法ならびに表示装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006309994A true JP2006309994A (ja) | 2006-11-09 |
Family
ID=37426051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005128908A Pending JP2006309994A (ja) | 2005-04-27 | 2005-04-27 | 転写用基板および転写方法ならびに表示装置の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006309994A (ja) |
CN (1) | CN100466333C (ja) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009093984A (ja) * | 2007-10-11 | 2009-04-30 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置およびその製造方法 |
JP2009152187A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-07-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法および蒸着用基板 |
JP2009231277A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-10-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 製造装置 |
WO2010113357A1 (ja) * | 2009-04-03 | 2010-10-07 | シャープ株式会社 | ドナー基板、転写膜の製造方法、及び、有機電界発光素子の製造方法 |
WO2011001599A1 (ja) * | 2009-07-02 | 2011-01-06 | シャープ株式会社 | 有機el素子、有機el素子の製造方法、および有機el照明装置 |
JP2011003558A (ja) * | 2010-10-07 | 2011-01-06 | Hitachi Displays Ltd | 表示装置の製造方法 |
WO2011001598A1 (ja) * | 2009-07-02 | 2011-01-06 | シャープ株式会社 | 有機el素子、有機el素子の製造方法、および有機el表示装置 |
US8093612B2 (en) | 2008-10-08 | 2012-01-10 | Hitachi Displays, Ltd. | Organic EL display device and manufacturing method thereof |
US8232720B2 (en) | 2007-03-14 | 2012-07-31 | Sony Corporation | Display with organic light emitting elements including a light emitting layer provided by transferring a transfer layer from a donor substrate to an acceptor substrate |
JP2012178357A (ja) * | 2007-09-13 | 2012-09-13 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 照明装置の作製方法、及び照明装置 |
US8267733B2 (en) | 2007-05-18 | 2012-09-18 | Sony Corporation | Method of manufacturing display unit using laser removal of organic material |
JP2013127977A (ja) * | 2007-06-01 | 2013-06-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法及び発光装置 |
WO2014157657A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 大日本印刷株式会社 | 素子製造方法および素子製造装置 |
US9337428B2 (en) | 2014-05-23 | 2016-05-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Donor mask and method of manufacturing organic light emitting display apparatus using the same |
US9362503B2 (en) | 2014-06-30 | 2016-06-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Donor mask and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus |
JP7111916B1 (ja) * | 2021-07-20 | 2022-08-02 | 信越化学工業株式会社 | 再転写方法及びリフト方法 |
JP2023015998A (ja) * | 2021-07-20 | 2023-02-01 | 信越化学工業株式会社 | 不良箇所の除去方法、リフト方法、フォトマスク及びリフトシステム |
JP7490848B2 (ja) | 2022-06-15 | 2024-05-27 | 信越化学工業株式会社 | レーザ加工方法、フォトマスク及びレーザ加工システム |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10254374A (ja) * | 1997-03-14 | 1998-09-25 | Canon Inc | 画像形成装置とその製造方法 |
JP2003318372A (ja) * | 2002-04-25 | 2003-11-07 | Seiko Epson Corp | 電子装置の製造方法及び製造装置 |
JP2004087143A (ja) * | 2002-08-22 | 2004-03-18 | Sony Corp | 転写基板、転写装置および転写方法 |
JP2005502987A (ja) * | 2001-09-10 | 2005-01-27 | セイコーエプソン株式会社 | 可溶性材料の堆積 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6695029B2 (en) * | 2001-12-12 | 2004-02-24 | Eastman Kodak Company | Apparatus for permitting transfer of organic material from a donor to form a layer in an OLED device |
US20030162108A1 (en) * | 2002-01-30 | 2003-08-28 | Eastman Kodak Company | Using spacer elements to make electroluminscent display devices |
US6610455B1 (en) * | 2002-01-30 | 2003-08-26 | Eastman Kodak Company | Making electroluminscent display devices |
-
2005
- 2005-04-27 JP JP2005128908A patent/JP2006309994A/ja active Pending
-
2006
- 2006-04-27 CN CNB2006100771264A patent/CN100466333C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10254374A (ja) * | 1997-03-14 | 1998-09-25 | Canon Inc | 画像形成装置とその製造方法 |
JP2005502987A (ja) * | 2001-09-10 | 2005-01-27 | セイコーエプソン株式会社 | 可溶性材料の堆積 |
JP2003318372A (ja) * | 2002-04-25 | 2003-11-07 | Seiko Epson Corp | 電子装置の製造方法及び製造装置 |
JP2004087143A (ja) * | 2002-08-22 | 2004-03-18 | Sony Corp | 転写基板、転写装置および転写方法 |
Cited By (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8232720B2 (en) | 2007-03-14 | 2012-07-31 | Sony Corporation | Display with organic light emitting elements including a light emitting layer provided by transferring a transfer layer from a donor substrate to an acceptor substrate |
US8587195B2 (en) | 2007-03-14 | 2013-11-19 | Sony Corporation | Display |
US8803421B2 (en) | 2007-03-14 | 2014-08-12 | Sony Corporation | Display with organic light emitting elements |
US8267733B2 (en) | 2007-05-18 | 2012-09-18 | Sony Corporation | Method of manufacturing display unit using laser removal of organic material |
US8708763B2 (en) | 2007-05-18 | 2014-04-29 | Sony Corporation | Method of manufacturing display unit |
JP2013127977A (ja) * | 2007-06-01 | 2013-06-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法及び発光装置 |
JP2015092504A (ja) * | 2007-06-01 | 2015-05-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置の作製方法 |
JP2012178357A (ja) * | 2007-09-13 | 2012-09-13 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 照明装置の作製方法、及び照明装置 |
JP2009093984A (ja) * | 2007-10-11 | 2009-04-30 | Hitachi Displays Ltd | 有機el表示装置およびその製造方法 |
US8425974B2 (en) | 2007-11-29 | 2013-04-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Evaporation donor substrate and method for manufacturing light-emitting device |
JP2009152187A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-07-09 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の作製方法および蒸着用基板 |
JP2009231277A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-10-08 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 製造装置 |
US8093612B2 (en) | 2008-10-08 | 2012-01-10 | Hitachi Displays, Ltd. | Organic EL display device and manufacturing method thereof |
WO2010113357A1 (ja) * | 2009-04-03 | 2010-10-07 | シャープ株式会社 | ドナー基板、転写膜の製造方法、及び、有機電界発光素子の製造方法 |
US8651912B2 (en) | 2009-07-02 | 2014-02-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Organic EL element, method for manufacturing the same, and organic EL lighting apparatus |
WO2011001599A1 (ja) * | 2009-07-02 | 2011-01-06 | シャープ株式会社 | 有機el素子、有機el素子の製造方法、および有機el照明装置 |
US9093648B2 (en) | 2009-07-02 | 2015-07-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Organic EL element, method for manufacturing the same, and organic EL display device |
WO2011001598A1 (ja) * | 2009-07-02 | 2011-01-06 | シャープ株式会社 | 有機el素子、有機el素子の製造方法、および有機el表示装置 |
JP2011003558A (ja) * | 2010-10-07 | 2011-01-06 | Hitachi Displays Ltd | 表示装置の製造方法 |
US9680098B2 (en) | 2013-03-29 | 2017-06-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Element manufacturing method and element manufacturing apparatus |
WO2014157657A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 大日本印刷株式会社 | 素子製造方法および素子製造装置 |
JP2014209481A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 素子製造方法および素子製造装置 |
US9337428B2 (en) | 2014-05-23 | 2016-05-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Donor mask and method of manufacturing organic light emitting display apparatus using the same |
US9362503B2 (en) | 2014-06-30 | 2016-06-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Donor mask and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus |
JP7111916B1 (ja) * | 2021-07-20 | 2022-08-02 | 信越化学工業株式会社 | 再転写方法及びリフト方法 |
WO2023002555A1 (ja) * | 2021-07-20 | 2023-01-26 | 信越化学工業株式会社 | 走査型縮小投影光学系及びこれを用いたレーザ加工装置 |
JP2023015998A (ja) * | 2021-07-20 | 2023-02-01 | 信越化学工業株式会社 | 不良箇所の除去方法、リフト方法、フォトマスク及びリフトシステム |
JP7255000B2 (ja) | 2021-07-20 | 2023-04-10 | 信越化学工業株式会社 | 不良箇所の除去方法、リフト方法、フォトマスク及びリフトシステム |
JP7490848B2 (ja) | 2022-06-15 | 2024-05-27 | 信越化学工業株式会社 | レーザ加工方法、フォトマスク及びレーザ加工システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1867215A (zh) | 2006-11-22 |
CN100466333C (zh) | 2009-03-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006309994A (ja) | 転写用基板および転写方法ならびに表示装置の製造方法 | |
JP6479738B2 (ja) | 有機デバイス上の非共通キャッピング層 | |
KR101255740B1 (ko) | 발광 디바이스용 패턴화 방법 | |
US6165543A (en) | Method of making organic EL device and organic EL transfer base plate | |
US6366016B1 (en) | Multicolor organic electroluminescent panel and process for production thereof | |
US7951521B2 (en) | Transfer substrate, transfer method, and method of manufacturing display device | |
US7662663B2 (en) | OLED patterning method | |
US20090004419A1 (en) | Multi-layer masking film | |
JP2006309995A (ja) | 転写用基板および表示装置の製造方法ならびに表示装置 | |
JPH10319870A (ja) | シャドウマスク及びこれを用いたカラー薄膜el表示装置の製造方法 | |
JP2010517207A (ja) | 色変換層のパターニング方法およびこれを用いた有機elディスプレイの製造方法 | |
JP2009043572A (ja) | 蒸発源、蒸発源の製造方法、及び有機el表示装置の製造方法 | |
JP4396864B2 (ja) | 表示装置およびその製造方法 | |
JP2009146715A (ja) | ドナー基板および表示装置の製造方法 | |
JP2009146716A (ja) | 表示装置およびドナー基板 | |
JP4595232B2 (ja) | 薄膜パターンの形成方法および有機電界発光表示装置の製造方法 | |
US20080261478A1 (en) | Patterning method for light-emitting devices | |
US7635609B2 (en) | Patterning method for light-emitting devices | |
JP2008311103A (ja) | 表示装置の製造方法および表示装置 | |
US7317469B2 (en) | Laser induced thermal imaging apparatus | |
JP4053302B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造装置及び製造方法 | |
US20070290955A1 (en) | Organic electroluminescent display device and manufacturing method thereof | |
KR20080102982A (ko) | 전사 방법 및 전사 장치 및 유기 발광 소자의 제조 방법 | |
US7521270B2 (en) | OLED patterning method | |
KR100860005B1 (ko) | 유기 전계 발광 소자의 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20091009 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20091009 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20091104 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110614 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120110 |