KR100700654B1 - 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법 - Google Patents

레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법 Download PDF

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Abstract

레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법을 제공한다. 패터닝용 레이저 발생기, 예열용 레이저 발생기, 상기 패터닝용 레이저 발생기 하부에 위치하는 패터닝된 마스크, 및 상기 패터닝된 마스크 하부에 위치하는 프로젝션 렌즈(projection lens)를 포함한다. 상기 레이저 열 전사법은 억셉터기판을 제공하고, 상기 억셉터기판 상에 도너기판을 라미네이션(lamination)하고, 패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기를 구비하는 레이저 조사 장치를 이용하여 상기 도너기판의 소정 영역에 레이저빔을 조사하여 전사시키는 것을 포함한다. 페터닝용 레이저 발생기에서 발생되는 높은 강도를 갖는 레이저빔을 이용함으로써 전사층이 열화되는 것을 방지함과 동시에, 예열용 레이저 발생기에서 발생되는 레이저빔으로 예열함으로써 억셉터기판의 단차가 있는 부분에서도 에지 오픈 불량이 발생되지 않고 전사가 잘 일어날 수 있게 하는 이점이 있다.
LITI, 마스크, 패터닝용 레이저 발생기, 예열용 레이저 발생기

Description

레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법{Laser Irradiation Device and Laser Induced Thermal Imaging}
도 1은 종래 기술에 따른 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법을 설명하는 모식도,
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법을 설명하는 모식도,
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법을 설명하는 모식도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100, 200, 300 : 레이저 조사 장치 110, 210, 310 : 레이저 발생기
211, 311 : 패터닝용 레이저 발생기 212, 312 : 예열용 레이저 발생기
120, 220, 320, 325 : 마스크 130, 230, 330, 335 : 프로젝션 렌즈
140, 240, 245, 340, 345 : 레이저빔 150 : 도너기판
151 : 기재(base)기판 152 : 광열변환층(LTHC)
153 : 전사층 160 : 억셉터기판
본 발명은 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기를 포함하는 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법에 관한 것이다.
일반적으로 평판표시소자인 유기전계발광소자는 애노드전극과 캐소드전극 그리고, 상기 애노드전극과 캐소드전극 사이에 개재된 유기막층들을 포함한다. 이러한 유기전계발광소자는 상기 유기막층 특히, 발광층을 이루는 물질에 따라서 고분자 유기 전계 발광 소자와 저분자 유기 전계 발광 소자로 나뉘어진다.
이러한 유기전계발광소자에 있어 풀칼라화를 구현하기 위해서는 상기 발광층을 패터닝해야 하는데, 상기 발광층을 패터닝하기 위한 방법으로 저분자 유기전계 발광소자의 경우 섀도우 마스크(shadow mask)를 사용하는 방법이 있고, 고분자 유기전계발광소자의 경우 잉크-젯 프린팅(ink-jet printing) 또는 레이저에 열 전사법(Laser Induced Thermal Imaging; 이하 LITI라 한다)이 있다. 이 중에서 상기 LITI는 상기 유기막층을 미세하게 패터닝할 수 있고, 대면적에 사용할 수 있으며 고해상도에 유리하다는 장점이 있을 뿐만 아니라, 상기 잉크-젯 프린팅이 습식 공정인데 반해 이는 건식 공정이라는 장점이 있다.
상기 LITI는 레이저를 이용한 전사 방법으로서, 이를 이용하여 유기막층 등을 형성하기 위해서는 적어도 광원, 기판 및 도너기판을 필요로 한다. 상기 광원으로는 레이저 조사 장치에서 발생되는 레이저빔을 이용한다. 이는 한국 특허 출원 제 1998-51844호 및 미국 특허 제 5,998,085호, 6,214,520호 및 6,114,088호에 개 시되어 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법을 설명하는 모식도이다.
도 1을 참조하면, 소정의 소자가 형성된 억셉터기판(160) 상에 도너기판(150)이 라미네이션되어 있다. 상기 도너기판(150)은 기재기판(151), 상기 기재기판(151) 상에 위치하는 광열변환층(152) 및 상기 광열변환층(152) 상에 위치하는 전사층(153)으로 이루어져 있다.
이때, 상기 도너기판(150) 상에 조사되는 광원으로서 레이저 조사 장치(100)에서 발생되는 레이저빔을 사용한다.
상기 레이저 조사 장치(100)는 레이저 발생기(110), 패터닝되어 있는 마스크(120) 및 프로젝션 렌즈(130)를 포함하고 있다.
상기 레이저 발생기(110)를 이용하여 상기 기재기판(151)의 소정 영역에 레이저빔(140)을 조사한다. 이때, 상기 레이저 발생기(110)에서 발생한 레이저빔(140)은 패터닝 되어 있는 상기 마스크(120)를 통과하고, 상기 통과한 레이저빔(140)은 상기 프로젝션 렌즈(130)에 의해 굴절되어 상기 기재기판(151) 상에 조사된다. 상기 마스크(120)의 패터닝이 안된 부분에서는 상기 레이저빔(140)이 차단된다.
상기 기재기판(151)의 소정 영역에 조사된 상기 레이저빔(140)은 상기 광열변환층(152)에 흡수되어 열에너지로 변환된다. 흡수된 열에너지에 의해 상기 광열변화층(152)에서는 가스가 발생되고, 이로 인하여 상기 광열변환층(152)이 부풀어 오른다. 부풀어 오른 상기 광열변화층(152)은 상기 전사층(153)을 상기 억셉터기판(160) 상에 밀착시키고, 밀착된 상기 전사층(153)의 결합이 끊어지면서 전사층(153)은 상기 억셉터기판(160) 상으로 전사된다.
이때, 전달된 열에너지에 의해 온도가 지나치게 높게 올라가면 상기 전사층(153)의 열화가 일어날 수 있다. 이를 방지하기 위하여 높은 강도(intensity)를 갖는 레이저빔을 사용하면 상기 전사층(153)이 열화되는 것을 방지할 수는 있으나, 상기 억셉터기판(160)에 형성된 단차가 있는 부분에서는 전사층이 끊어져 전사되지 않는 부분이 발생하게 된다. 이를 에지 오픈 불량(edge open 또는 미전사 불량)이라 한다. 이는 레이저빔이 짧은 시간에 조사되므로 상기 광열변환층(152)의 온도가 미쳐 올라가지 못해 쉽게 변형이 이루어지지 않기 때문이다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, LITI를 이용하는 전사공정에 있어서 전사층이 열화되는 것을 방지하고, 단차가 있는 부분에서도 전사가 잘 일어날 수 있게 하는 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 기술적 과제들을 이루기 위하여 본 발명의 일 측면은 패터닝용 레이저 발생기; 예열용 레이저 발생기; 상기 패터닝용 레이저 발생기 하부에 위치하는 패터닝된 마스크; 및 상기 패터닝된 마스크 하부에 위치하는 프로젝션 렌즈(projection lens)를 포함한다.
상기 기술적 과제들을 이루기 위하여 본 발명의 다른 일 측면은 레이저 열 전사법 제공한다. 상기 방법은 억셉터기판을 제공하고, 상기 억셉터기판 상에 도너기판을 라미네이션(lamination)하고, 패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기를 구비하는 레이저 조사 장치를 이용하여 상기 도너기판의 소정 영역에 레이저빔을 조사하여 전사시키는 것을 포함한다.
상기 예열용 레이저 발생기 하부에는 빔 쉐이핑(beam shaping) 장치를 더욱 포함할 수 있다.
또한, 상기 레이저 조사 장치는 상기 예열용 레이저 발생기 하부에 위치하는 패터닝된 마스크 및 상기 패터닝된 마스크 하부에 위치하는 프로젝션 렌즈를 더욱 포함할 수 있다.
상기 패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기는 서로 다른 파장의 레이저빔을 발생시키는 것이 바람직하다.
상기 패터닝용 레이저 발생기에서 발생한 레이저빔은 상기 예열용 레이저 발생기에서 발생한 레이저빔보다 더 큰 강도(intensity)를 갖는다.
상기 패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기는 조사되는 영역에서 서로 중첩되는 부분을 갖도록 상기 레이저빔을 발생시키는 것이 바람직하다.
상기 도너기판은 기재(base)기판, 상기 기재기판 상에 위치하는 광열변환층(LTHC) 및 상기 광열변환층 상에 위치하는 전사층을 포함할 수 있으며, 상기 예열용 레이저 발생기에서 발생한 레이저빔은 상기 광열변환층을 상기 전사층의 유리전 이온도(Tg)까지 상승시키는 것이 바람직하다.
또한, 상기 도너 기판은 상기 광열변환층과 상기 전사층 사이에 위치하는 버퍼층을 더욱 포함할 수 있으며, 상기 예열용 레이저 발생기에서 발생한 레이저빔은 상기 전사층을 상기 전사층의 유리전이온도(Tg) 이하까지 가열하는 것이 바람직하다.
상기 억셉터기판은 유기전계발광소자를 이루는 화소전극이 형성되어 있을 수 있으며, 상기 전사층은 유기물질로 이루어질 수 있다.
이하, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐 동일한 참조 번호는 동일한 구성 요소를 나타낸다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법을 설명하는 모식도이다.
도 2a를 참조하면, 억셉터기판(160) 상에 도너기판(150)이 라미네이션되어 있다. 상기 도너기판(150)은 상기 억셉터기판(160) 전체를 덮을 수 있을 정도의 크기를 갖는 것이 바람직하나, 필요에 따라서는 상기 억셉터기판(160)보다 작은 크기를 갖는 것을 사용할 수도 있을 것이다.
상기 억셉터기판(160) 상에는 유기전계발광소자를 구성하는 소정의 소자가 형성되어 있을 수 있다. 즉, 박막트랜지스터 및 그 상부에 위치한 평탄화막과 상기 평탄화막 상에 화소전극이 형성되어 있을 수 있다.
상기 도너기판(150)은 유기전계발광소자용 도너기판일 수 있다. 즉, 기재 기판(151), 상기 기재기판(151) 상에 위치하는 광열변환층(152) 및 상기 광열변환층(152) 상에 위치하는 전사층(153)으로 이루어질 수 있다.
상기 기재기판(151)은 투명성 고분자로 이루어질 수 있는바, 이러한 고분자로는 폴레에틸렌, 테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르, 폴리아크릴, 폴리에폭시, 폴리에틸렌, 폴리스티렌 등을 사용할 수 있다.
상기 광열변환층(152)은 광원 즉, 레이저빔을 흡수하여 열로 변환하는 층으로서, 레이저빔 흡수 물질이 포함되어 있는 유기막, 금속 및 이들의 복합층 중 하나로 이루어질 수 있다.
상기 광열변환층(152)과 인접한 위치에 가스 생성층(도시하지 않음)을 형성할 수 있다. 상기 가스 생성층은 광 또는 열을 흡수하면 분해반응을 일으켜 질소가스나 수소가스 등을 방출함으로써 전사에너지를 제공하는 역할을 하며, 사질산펜타에리트리트(PETN), 트리니트로톨루엔(TNT) 등으로부터 선택된 물질로 이루어질 수 있다. 상기 가스 생성층은 상기 광열변환층(152)으로부터 열을 전달 받아야 하므로 상기 광열변환층(152)의 상부나 하부에 인접하거나 상기 광열변환층(152)을 이루는 물질과 혼합하여 하나의 층을 이룰 수 있다.
상기 전사층(153)은 상기 억셉터기판(160) 상에 패터닝하고자 하는 물질막으로서 유기물질로 이루어질 있다. 상기 도너기판(150)을 사용하여 유기전계발광소자를 제조하는 경우, 상기 도너기판(150)은 정공주입층용 유기막, 정공수송층용 유기막, 발광층용 유기막, 정공억제층용 유기막, 전자수송층용 유기막 및 전자주입층용 유기막으로 이루어진 군에서 선택되는 1종의 단층막 또는 2종 이상의 다층막 구조를 가질 수 있다. 더 나아가서, 상기 유기막들은 고분자 물질 또는 저분자 물질일 수 있다. 한편, 상기 전사층(153)은 압출, 스핀코팅, 나이프코팅, 진공증착 및 CVD(chemical vapor deposition)으로 이루어진 군에서 선택되는 하나의 방법을 사용하여 형성할 수 있다.
상기 광열변환층(152)과 상기 전사층(153) 사이에 위치하는 버퍼층을(도시하지 않음)을 더욱 형성할 수 있다. 상기 버퍼층은 전사패턴 특성이 향상될 수 있도록 상기 전사층(153)과의 접착력을 제어하는 역할을 한다.
상기 도너기판(150)은 상기한 층들 뿐만 아니라 다양한 용도를 갖는 층들을 더욱 포함할 수 있으며, 그 용도에 따라서 적층 구조를 변경하여 사용할 수 있다.
상기 억셉터기판(160) 상에 라미네이션되어 있는 상기 도너기판(150)의 소정 영역에 레이저빔을 조사하여 상기 전사층(153)을 상기 억셉터기판(160) 상에 전사시킨다.
이때, 상기 도너 기판(150) 상에 조사되는 광원으로서 레이저 조사 장치(200)에서 발생되는 레이저빔을 사용한다.
상기 레이저 조사 장치(200)는 레이저 발생기(210)를 포함하고 있다. 본 발명에서는 패터닝용 레이저 발생기(211) 들 예열용 레이저 발생기(212)를 구비한 레이저 발생기(210)를 채용하고 있다.
상기 패터닝용 레이저 발생기(211)는 상기 전사층(153)을 상기 도너기판(150)으로 부터 떼어내어 상기 억셉터기판(160) 상에 전사시켜 소정의 패턴을 형성 하는데 필요한 레이저빔(240)을 발생시킨다. 따라서, 상기 패터닝용 레이저 발생기(211)에서 발생한 레이저빔(240)의 강도(intensity)는 상기 전사층(153) 내의 결합을 끊을 수 있을 정도의 강도를 가진다.
상기 예열용 레이저 발생기(212)는 상기 도너기판(150)을 예열시키는 레이저빔(245)을 발생시킨다. 즉, 상기 광열변환층(152)이나 버퍼층을 일정한 온도까지 미리 가열하여 쉽게 변형이 가능하도록 만들어준다.
상기 예열용 레이저 발생기(212)에서 발생한 레이저빔(245)은 상기 광열변환층(152)에 의해 흡수되어 열로 변환된다. 이때 발생한 열에 의해 상기 광열변환층(152)의 온도는 상승하는바, 상기 전사층(153)의 유리전이온도(Tg)까지 상승하도록 상기 레이저빔(245)을 조사한다. 상기 유리전이온도라 함은 물질이 연화되는 온도를 말하며, 상기 유리전이는 고분자 물질에서 일어나는 현상이다. 즉, 고분자 물질은 유리전이온도 이상의 온도에서는 고무상태 처럼 작용하고, 유리전이온도 이하의 온도에서는 유리와 같이 딱딱하고 깨지기 쉬운 상태로 작용한다.
따라서, 상기 전사층(153)의 유리전이온도까지 상승한 상기 광열변환층(152)에서 상기 전사층으로 열이 전달되어 상기 전사층(153)은 쉽게 변형될 수 있는 상태로 유지된다. 그러나, 반드시 상기 광열변환층(152)을 상기 전사층(153)의 유리전이온도까지 상승시킬 필요는 없으며, 상기 전사층(153)의 변형이 쉽게 가능한 경우에는 상기 전사층(153)의 유리전이온도 이하의 온도까지 상승시켜도 무방하다.
상기 광열변환층(152)과 상기 전사층(153) 사이에 버퍼층을 형성하는 경우에는 상기 버퍼층을 상기 전사층의 유리전이온도까지 상승시킨다.
따라서, 상기 패터닝용 레이저 발생기(211)에서 발생된 높은 강도를 가진 레이저빔(240)이 조사되더라도 상기 예열용 레이저 발생기(212)에서 발생된 상기 레이저빔(245)에 의해 상기 도너기판(150)이 쉽게 변형되므로 억셉터기판(160)의 단차가 형성되어 있는 부분에서도 전사가 잘 일어날 수 있다.
상기 패터닝용 레이저 발생기(211)의 하부에는 패터닝된 마스크(220)가 위치하고 있으며, 상기 마스크(220) 하부에는 프로젝션 렌즈(230)가 위치하고 있다.
상기 패터닝용 레이저 발생기(211)에서 발생한 레이저빔(240)은 패터닝 되어 있는 상기 마스크(220)를 통과하고, 상기 통과한 레이저빔(240)은 상기 프로젝션 렌즈(230)에 의해 굴절되어 상기 기재 기판(151) 상에 조사된다. 상기 마스크(220)의 패터닝이 안된 부분에서는 상기 레이저빔(240)이 차단된다.
상기 예열용 레이저 발생기(212) 하부에는 빔 쉐이핑(beam shaping) 장치(235)가 위치하고 있다. 상기 빔 쉐이핑 장치(235)에는 플라이 아이 렌즈(fly eye lens)나 원통형 렌즈(cylindrical lens) 등이 형성되어 있을 수 있다. 따라서, 상기 패터닝용 레이저 발생기(211)에서 발생한 레이저빔(240)은 상기 빔 쉐이핑 장치(235)를 통해 균일한 강도를 갖게 되고, 일정 형태 예를 들어, 사각형 또는 원형 등의 형태로 쉐이핑된다.
상기 패터닝용 레이저 발생기(211)와 상기 예열용 레이저 발생기(212)는 각각 상기 도너기판(150)의 기재기판(151) 상에 레이저빔(240, 245)을 조사한다.
상기 발생되는 각각의 레이저빔(240, 245)은 서로 다른 파장을 갖는 것이 바람직하다. 특히, 상기 패터닝용 레이저 발생기(211)에서 발생한 레이저빔(240)의 강도가 상기 예열용 레이저 발생기(212)에서 발생한 레이저빔(245)의 강도보다 더 크다. 상기 패터닝용 레이저 발생기(211)에서 발생한 레이저빔(240)은 상기 전사층(153) 내의 결합을 끊는데 사용되므로, 상기 도너기판(150)을 미리 가열하는 데에 사용되는 레이저빔(245)보다 강도가 더 크다.
도 2b는 도너기판 상에 조사된 레이저빔을 나타낸 것이다.
도 2b를 참조하면, 상기 패터닝용 레이저 발생기(211)에서 발생한 레이저빔(240)은 상기 패터닝된 마스크(220)에 의해 일정한 패턴을 가진 멀티빔으로 상기 기재기판(151) 상에 조사된다.
반면에, 상기 예열용 레이저 발생기(212)에서 발생한 레이저빔(245)은 상기 빔 쉐이핑 장치(235)에 의해 사각형 모양을 갖는 단일의 레이저빔(245)으로 쉐이핑되어 조사된다.
이때, 상기 레이저빔(240, 245)들은 서로 중첩되는 영역(246)을 갖는다. 상기 레이저 조사 장치(200)는 화살표 방향대로 스캔하면서 전사공정을 진행하기 때문에, 상기 도너기판(150)을 예열함과 동시에 상기 전사층(150)을 상기 억셉터기판(160) 상에 전사시킬 수 있다.
상기 레이저빔(240, 245)들이 서로 중첩되는 영역을 갖지 않는다면, 상기 도너기판(150)을 예열한 다음 일정 시간 후에 패터닝이 이루어지게 되므로 상기 도너기판(150)의 온도 저하가 일어날 수 있다.
이로써, 상기 억셉터기판(160) 상에 원하는 패턴을 갖는 층을 전사시킬 수 있다. 특히, 상기 억셉터기판(160) 상에 유기전계발광소자를 이루는 화소전극이 형 성되어 있는 경우에는 상기 억셉터기판(160) 상에 유기발광층 등을 전사시킬 수 있다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법을 설명하는 모식도이다.
도 3a을 참조하면, 억셉터기판(160) 상에 도너기판(150)이 라미네이션되어 있다. 상기 레이저 조사 장치(300)는 레이저 발생기(310)를 포함하고 있다.
상기 패터닝용 레이저 발생기(311)의 하부에는 패터닝된 마스크(320)가 위치하고 있으며, 상기 마스크(320) 하부에는 프로젝션 렌즈(330)가 위치하고 있다.
상기 예열용 레이저 발생기(312)의 하부에는 패터닝된 마스크(325)가 위치하고 있으며, 상기 마스크(325) 하부에는 프로젝션 렌즈(335)가 위치하고 있다.
상기 패터닝용 레이저 발생기(311) 및 상기 예열용 레이저 발생기(312)에서 발생한 레이저빔(340, 345)은 패터닝 되어 있는 상기 마스크(320, 325)를 통과하고, 상기 통과한 레이저빔(340, 345)은 상기 프로젝션 렌즈(330, 335)에 의해 굴절되어 상기 기재 기판(151) 상에 조사된다. 상기 마스크(320, 325)의 패터닝이 안된 부분에서는 상기 레이저빔(340, 345)이 차단된다.
본 실시예에서는 상기 예열용 레이저 발생기(312) 하부에 패터닝된 마스크(325) 및 프로젝션 렌즈(335)를 위치시키고 있다. 따라서, 상기 레이저빔(345)을 멀티빔으로 조사하고 있다.
도 3b를 참조하면, 상기 패터닝용 레이저 발생기(311)에서 발생한 레이저빔(340)과 상기 예열용 레이저 발생기(312)에서 발생한 레이저빔(345)이 멀티빔으로 조사하고 있음을 알 수 있다.
이때, 상기 레이저빔(340, 345)들은 서로 중첩되는 영역(346)을 갖는다.
상술한 것을 제외하고는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 레이저 조사 장치 및 레이저 열 전사법과 동일하다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, LITI를 이용하는 전사공정에 있어서 패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기를 구비하는 레이저 조사 장치를 이용한다. 페터닝용 레이저 발생기에서 발생되는 높은 강도를 갖는 레이저빔을 이용함으로써 전사층이 열화되는 것을 방지함과 동시에, 예열용 레이저 발생기에서 발생되는 레이저빔으로 예열함으로써 억셉터기판의 단차가 있는 부분에서도 에지 오픈 불량이 발생되지 않고 전사가 잘 일어날 수 있게 하는 이점이 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이다.

Claims (20)

  1. 패터닝용 레이저 발생기;
    예열용 레이저 발생기;
    상기 패터닝용 레이저 발생기 하부에 위치하는 패터닝된 마스크; 및
    상기 패터닝된 마스크 하부에 위치하는 프로젝션 렌즈(projection lens)를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 예열용 레이저 발생기 하부에 위치하는 빔 쉐이핑(beam shaping) 장치를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 예열용 레이저 발생기 하부에 위치하는 패터닝된 마스크; 및
    상기 패터닝된 마스크 하부에 위치하는 프로젝션 렌즈를 더욱 포함하는 것을 특징으로하는 레이저 조사 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기는 서로 다른 파장의 레이저빔을 발생하는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 패터닝용 레이저 발생기에서 발생한 레이저빔은 상기 예열용 레이저 발생기에서 발생한 레이저빔보다 더 큰 강도(intensity)를 갖는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기에서 각각 발생한 레이저빔은 조사되는 영역에서 서로 중첩되는 부분을 갖는 것을 특징으로 하는 레이저 조사 장치.
  8. 억셉터기판을 제공하고;
    상기 억셉터기판 상에 도너기판을 라미네이션(lamination)하고;
    패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기를 구비하는 레이저 조사 장치를 이용하여 상기 도너기판의 소정 영역에 레이저빔을 조사하여 전사시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법(LITI:Laser Induced Thermal Imaging).
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 레이저 조사 장치는
    상기 패터닝용 레이저 발생기 하부에 위치하는 패터닝된 마스크; 및
    상기 패터닝된 마스크 하부에 위치하는 프로젝션 렌즈를 더욱 포함하는 것을 특징으로하는 레이저 열 전사법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 레이저 조사 장치는
    상기 예열용 레이저 발생기 하부에 위치하는 빔 쉐이핑 장치를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 레이저 조사 장치는
    상기 예열용 레이저 발생기 하부에 위치하는 패터닝된 마스크; 및
    상기 패터닝된 마스크 하부에 위치하는 프로젝션 렌즈를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  12. 제 8 항에 있어서,
    상기 패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기는 서로 다른 파장의 레이저빔을 발생시키는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  13. 제 8 항에 있어서,
    상기 패터닝용 레이저 발생기에서 발생한 레이저빔은 상기 예열용 레이저 발생기에서 발생한 레이저빔보다 더 큰 강도(intensity)를 갖는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  14. 제 8 항에 있어서,
    상기 패터닝용 레이저 발생기와 예열용 레이저 발생기는 조사되는 영역에서 서로 중첩되는 부분을 갖도록 상기 레이저빔을 각각 발생시키는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  15. 제 8 항에 있어서,
    상기 도너기판은
    기재(base)기판;
    상기 기재기판 상에 위치하는 광열변환층(LTHC); 및
    상기 광열변환층 상에 위치하는 전사층을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 예열용 레이저 발생기에서 발생한 레이저빔은 상기 광열변환층을 상기 전사층의 유리전이온도(Tg)까지 상승시키는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 도너 기판은
    상기 광열변환층과 상기 전사층 사이에 위치하는 버퍼층을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 예열용 레이저 발생기에서 발생한 레이저빔은 상기 버퍼층을 상기 전사층의 유리전이온도(Tg)까지 상승시키는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  19. 제 15 항에 있어서,
    상기 억셉터기판 상에는 유기전계발광소자를 이루는 화소전극이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 전사층은 유기물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
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