JP2006173607A - 液浸リソグラフィにおける基板の配置 - Google Patents
液浸リソグラフィにおける基板の配置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006173607A JP2006173607A JP2005355549A JP2005355549A JP2006173607A JP 2006173607 A JP2006173607 A JP 2006173607A JP 2005355549 A JP2005355549 A JP 2005355549A JP 2005355549 A JP2005355549 A JP 2005355549A JP 2006173607 A JP2006173607 A JP 2006173607A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- recess
- center
- offset
- chuck
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/14—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/26—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/26—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
- G01B11/27—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes
- G01B11/272—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes using photoelectric detection means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7007—Alignment other than original with workpiece
- G03F9/7011—Pre-exposure scan; original with original holder alignment; Prealignment, i.e. workpiece with workpiece holder
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】基板の中心とチャックの凹所の中心との間のオフセットを決定するための方法には、寸法が凹所の寸法より小さい試験基板を凹所に提供するステップと、試験基板が凹所内に存在している間に、試験基板のアライメント・マークの位置を測定するステップと、アライメント・マークの位置から試験基板の中心と凹所の中心との間のオフセットを決定するステップが含まれている。
【選択図】図9
Description
放射ビームPB(たとえばUV放射或いはDUV放射)を条件付けるようになされた照明システム(イルミネータ)ILと、
パターン化デバイス(たとえばマスク)MAを支持するように構築された、特定のパラメータに従ってパターン化デバイスを正確に位置決めするようになされた第1のポジショナPMに接続された支持構造(たとえばマスク・テーブル)MTと、
基板(たとえばレジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構築された、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするようになされた第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえばウェハ・テーブル)WTと、
パターン化デバイスMAによって放射ビームPBに付与されたパターンを基板Wの目標部分C(たとえば1つ又は複数のダイが含まれている)に投影するようになされた投影システム(たとえば屈折投影レンズ系)PLと
を備えている。
1.ステップ・モード:ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:走査モードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:その他のモードでは、プログラム可能パターン化デバイスを保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン化デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン化デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
AM アライメント・マーク
BD ビーム引渡しシステム
C 基板の目標部分
CO コンデンサ
CD 凹所の中心
CS 基板の中心
DP チャックの空洞(凹所)
FM 基準マーク(フィデューシャル・マーク)
G、G1、G2 基板の縁と凹所の縁の間のギャップ
IF 位置センサ
IH 液浸フード
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
MA パターン化デバイス(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
PB 放射ビーム
PM 第1のポジショナ
PL 投影システム
PW 第2のポジショナ
P1、P2 基板アライメント・マーク
RD 凹所の半径方向の寸法
RW 基板の半径方向の寸法
SO 放射源
ST チャックの表面
W 基板(試験基板、生産基板)
WT 基板テーブル(チャック)
Δ 凹所の中心に対する基板の中心のオフセット
10 リザーバ
12 シール部材
14 第1の出口
15 入口
16 ガス・シール
20、20R、20L 基板の縁
22、22R、22L 凹所の縁
Claims (34)
- 基板の中心とチャックの凹所の中心との間のオフセットを決定するための方法であって、
寸法が前記凹所の寸法より小さい試験基板を前記凹所に提供するステップと、
前記試験基板が前記凹所内に存在している間に、前記試験基板のアライメント・マークの位置を測定するステップと、
前記アライメント・マークの位置から前記試験基板の中心と前記凹所の中心との間のオフセットを決定するステップとを含む方法。 - 前記試験基板を前記凹所に提供するステップが、基板ハンドラーを使用して前記試験基板を前記凹所内に装荷するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記試験基板の前記アライメント・マークの位置を測定するステップが、前記チャックの基準マークに対する前記アライメント・マークの位置を測定するステップ、或いは前記アライメント・マークに対する前記チャックの基準マークの位置を測定するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記チャックの基準マークの位置に対する前記凹所の中心位置を決定するステップ、或いは前記凹所の中心位置に対する前記チャックの基準マークの位置を決定するステップと、
前記試験基板の前記アライメント・マークの位置に対する前記試験基板の中心位置を決定するステップ、或いは前記試験基板の中心位置に対する前記試験基板の前記アライメント・マークの位置を決定するステップとをさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記試験基板の中心位置を測定するステップがプリアライナを使用して実行される、請求項4に記載の方法。
- 前記試験基板の寸法が、前記試験基板が前記凹所内にあるときに前記試験基板の縁と前記凹所の縁の間のギャップが最大オフセットより大きくなるように寸法化された、請求項1に記載の方法。
- 前記試験基板の前記アライメント・マークの位置を測定するステップが光学システムを使用して実行される、請求項1に記載の方法。
- 前記光学システムが干渉計及び光アライメント・システムを備えた、請求項7に記載の方法。
- 前記オフセットを考慮するために基板ハンドラーを較正するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板ハンドラーを較正するステップが、前記基板ハンドラーによって前記凹所に提供される後続する基板が実質的に前記凹所内の中心に位置するよう、前記基板ハンドラーによる基板の位置決めをシフトさせて前記オフセットを修正するステップを含む、請求項9に記載の方法。
- 基板の中心とチャックの凹所の中心との間のオフセットを決定するための方法であって、
前記凹所内に配置された前記基板の縁と前記凹所の縁の間のギャップを複数の位置で測定するステップと、
前記ギャップの測値を使用して前記基板の中心を決定するステップと、
前記凹所の中心と前記チャック部分で測定した前記基板の中心との間における前記基板のチャック心出しオフセットを決定するステップと、
前記基板をプリアライナに提供するステップ及び前記プリアライナにおける前記基板の中心を決定するステップと、
前記基板の公称中心と前記プリアライナ部分で測定した前記基板の中心との間におけるプリアライナ心出しオフセットを決定するステップと、
広域心出しオフセットを得るために、前記チャック心出しオフセットと前記プリアライナ心出しオフセットを結合するステップを含む方法。 - 前記凹所の縁の位置を決定するステップと、前記凹所の中心を計算するステップとをさらに含む、請求項11に記載の方法。
- 前記チャック心出しオフセットを決定するステップが、前記凹所の中心位置に対する前記基板の中心位置を決定するステップを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記ギャップを測定するステップが、前記ギャップの両端間を光ビームで走査するステップ及び反射した前記光ビームの強度変化を測定するステップを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記ギャップの測値を使用して前記基板の中心を決定するステップが、前記基板の縁の位置を決定するステップ及び前記縁の位置から前記基板の中心位置を計算するステップを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記基板が基板ハンドラーを使用して前記凹所内に配置され、且つ、前記凹所から除去される、請求項11に記載の方法。
- 前記広域心出しオフセットを考慮するために前記基板ハンドラーを較正するステップをさらに含む、請求項16に記載の方法。
- 前記基板ハンドラーを較正するステップが、続いて配置される基板が実質的に前記凹所内の中心に配置されるよう、前記基板ハンドラーによる基板の位置決めをオフセット分だけシフトさせて前記広域心出しオフセットを修正するステップを含む、請求項17に記載の方法。
- 前記基板ハンドラーを較正するステップが、続いて配置される基板のギャップが前記凹所内で一様に広がるように基板の位置決めを修正するステップを含む、請求項17に記載の方法。
- 基板の中心とチャックの凹所の中心との間のオフセットを決定するための方法であって、
前記チャックのピンの上に前記基板を装荷するステップ、及び前記基板が前記チャックの前記凹所の開口に到達するまで前記ピンを第1の方向に並進させることによって前記基板を移動させるステップと、
前記チャックの表面若しくは前記チャックの前記凹所の縁に衝突することなく前記基板が前記凹所に入るように、前記第1の方向に対して実質的に直角の平面内を並進させるべき前記基板の移動量を決定するステップと、
前記平面内における前記並進の決定に基づいて、前記凹所に対する前記基板のオフセットを決定するステップとを含む方法。 - 並進させるべき前記基板の移動量を決定するステップが、前記基板のフットプリントが前記凹所内に嵌合するまで、前記ピン上の前記平面内を前記チャックに対して前記基板を並進させるステップ、前記平面内を前記基板若しくは前記ピンに対して前記チャックを並進させるステップ、若しくはその両方のステップを含む、請求項20に記載の方法。
- 前記チャックのピンの上に前記基板を装荷するステップが基板ハンドラーを使用して実行される、請求項20に記載の方法。
- 前記オフセットを考慮するために前記基板ハンドラーを較正するステップをさらに含む、請求項20に記載の方法。
- 前記基板ハンドラーを較正するステップが、続いて配置される基板が実質的に前記凹所内の中心に配置されるよう、前記基板ハンドラーによる基板の位置決めを一定の量だけシフトさせて前記オフセットを修正するステップを含む、請求項23に記載の方法。
- 前記基板ハンドラーを較正するステップが、続いて配置される基板のギャップが前記凹所内で一様に広がるように基板の位置決めを修正するステップを含む、請求項23に記載の方法。
- 放射ビームを所望のパターンに従ってパターン化するようになされたパターン化デバイスを保持するようになされた支持構造と、
基板を保持するようになされた、前記基板を受け入れるようになされた凹所を有する基板テーブルと、
パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するようになされた投影システムと、
前記投影システムと前記基板の間の空間に、投射される前記パターン化されたビームが通過する液体を提供するようになされた液体供給システムと、
前記基板の位置を測定するようになされたセンサ、前記凹所内に配置された前記基板の縁と前記凹所の縁の間のギャップを測定するようになされたセンサ、或いは前記位置と前記ギャップの両方を測定するようになされたセンサと、
前記凹所内における前記基板の縁と前記凹所の縁の間のギャップが実質的に一様になるように前記基板を前記凹所内に配置するようになされたセンサと連絡している基板処理システムとを備えたリソグラフィ投影装置。 - 前記基板処理システムが較正され、それにより前記基板と前記凹所の間のオフセットを修正するようになされた、請求項26に記載の装置。
- 前記基板処理システムが、前記基板の中心と前記凹所の中心との間のオフセットを決定するようになされた、請求項26に記載の装置。
- 前記基板の位置を測定するようになされた前記センサが、前記凹所内に配置された試験基板のアライメント・マークの位置を測定するようになされ、前記基板処理システムが、前記センサを使用して測定した前記アライメント・マークの位置から前記試験基板の中心と前記凹所の中心との間のオフセットを決定するようになされた、請求項26に記載の装置。
- 前記基板処理システムが、前記基板テーブルの表面若しくは前記凹所の縁に衝突することなく前記基板が前記凹所に入るように、前記基板テーブルに対して実質的に平行の平面内を並進させるべき前記基板の移動量を決定するようになされた、請求項26に記載の装置。
- 前記基板処理システムが、前記平面内の前記並進の決定に基づいて前記基板と前記凹所の間のオフセットを決定するようになされた、請求項30に記載の装置。
- 前記基板処理システムが、前記ギャップの測値を使用して前記基板の中心を決定し、且つ、前記凹所の中心と前記基板の測定中心との間の前記基板のオフセットを決定するようになされた、請求項26に記載の装置。
- プリアライナであって、プリアライナにおける前記基板の中心を測定するようになされたプリアライナをさらに備え、前記基板処理システムが、前記基板の公称中心と前記プリアライナ部分で測定した前記基板の中心との間における前記プリアライナ部分の心出しオフセットを決定するようになされた、請求項32に記載の装置。
- 前記基板処理システムが、広域心出しオフセットを得るために、前記基板のオフセットと前記心出しオフセットを結合するようになされた、請求項33に記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/008,576 US7352440B2 (en) | 2004-12-10 | 2004-12-10 | Substrate placement in immersion lithography |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006173607A true JP2006173607A (ja) | 2006-06-29 |
JP4350086B2 JP4350086B2 (ja) | 2009-10-21 |
Family
ID=35788204
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005355549A Active JP4350086B2 (ja) | 2004-12-10 | 2005-12-09 | 液浸リソグラフィにおける基板の配置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (6) | US7352440B2 (ja) |
EP (1) | EP1669808A3 (ja) |
JP (1) | JP4350086B2 (ja) |
KR (1) | KR100737507B1 (ja) |
CN (1) | CN100565348C (ja) |
SG (2) | SG133595A1 (ja) |
TW (1) | TWI318726B (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009253291A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Asml Holding Nv | ロボット位置キャリブレーションツール(rpct) |
JP2010062228A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2010182966A (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-19 | Sinfonia Technology Co Ltd | ワークの中心位置合わせ装置 |
KR20210013345A (ko) * | 2018-09-04 | 2021-02-03 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 프로세스 키트 센터링을 측정하기 위한 방법 및 장치 |
JP2021535433A (ja) * | 2018-08-23 | 2021-12-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | ステージ装置および物体搭載プロセスの較正方法 |
JP2021535586A (ja) * | 2018-09-04 | 2021-12-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials, Incorporated | ヒータペデスタル上の基板の位置を測定するための方法および装置 |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI654661B (zh) | 2004-11-18 | 2019-03-21 | 日商尼康股份有限公司 | 位置測量方法、位置控制方法、測量方法、裝載方法、曝光方法及曝光裝置、及元件製造方法 |
US7352440B2 (en) | 2004-12-10 | 2008-04-01 | Asml Netherlands B.V. | Substrate placement in immersion lithography |
JP4607848B2 (ja) * | 2006-10-27 | 2011-01-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板受け渡し位置の調整方法及び記憶媒体 |
KR101579990B1 (ko) * | 2007-12-27 | 2015-12-23 | 램 리써치 코포레이션 | 적어도 광 소스를 이용하여 엔드 이펙터 정렬을 교정하는 방법 및 시스템 |
SG186664A1 (en) | 2007-12-27 | 2013-01-30 | Lam Res Corp | Systems and methods for dynamic alignment beamcalibration |
KR101571180B1 (ko) * | 2007-12-27 | 2015-11-23 | 램 리써치 코포레이션 | 위치 및 오프셋을 결정하는 장치 및 방법 |
SG187402A1 (en) * | 2007-12-27 | 2013-02-28 | Lam Res Corp | Systems and methods for calibrating end effector alignment in a plasma processing system |
US20090196717A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Holden Scott C | Apparatus for Handling a Substrate and a Method Thereof |
JP5184188B2 (ja) * | 2008-04-09 | 2013-04-17 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム描画装置及び位置ずれ量補正方法 |
EP2196857A3 (en) * | 2008-12-09 | 2010-07-21 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
TW201133703A (en) * | 2010-03-19 | 2011-10-01 | Els System Technology Co Ltd | Carrying apparatus and exposure machine having the same |
US9465305B2 (en) * | 2010-05-18 | 2016-10-11 | Nikon Corporation | Method for determining a commutation offset and for determining a compensation map for a stage |
US20120050711A1 (en) * | 2010-09-01 | 2012-03-01 | Gary Hillman | Chuck assembly back side reticle cleaner |
USD707192S1 (en) | 2010-11-18 | 2014-06-17 | Cree, Inc. | Light emitting device |
US8564000B2 (en) | 2010-11-22 | 2013-10-22 | Cree, Inc. | Light emitting devices for light emitting diodes (LEDs) |
USD721339S1 (en) * | 2010-12-03 | 2015-01-20 | Cree, Inc. | Light emitter device |
USD712850S1 (en) | 2010-11-18 | 2014-09-09 | Cree, Inc. | Light emitter device |
US9300062B2 (en) | 2010-11-22 | 2016-03-29 | Cree, Inc. | Attachment devices and methods for light emitting devices |
US9490235B2 (en) | 2010-11-22 | 2016-11-08 | Cree, Inc. | Light emitting devices, systems, and methods |
US8575639B2 (en) | 2011-02-16 | 2013-11-05 | Cree, Inc. | Light emitting devices for light emitting diodes (LEDs) |
US9000470B2 (en) | 2010-11-22 | 2015-04-07 | Cree, Inc. | Light emitter devices |
US8624271B2 (en) | 2010-11-22 | 2014-01-07 | Cree, Inc. | Light emitting devices |
USD706231S1 (en) * | 2010-12-03 | 2014-06-03 | Cree, Inc. | Light emitting device |
US8455908B2 (en) | 2011-02-16 | 2013-06-04 | Cree, Inc. | Light emitting devices |
US8809880B2 (en) | 2011-02-16 | 2014-08-19 | Cree, Inc. | Light emitting diode (LED) chips and devices for providing failure mitigation in LED arrays |
US8729589B2 (en) | 2011-02-16 | 2014-05-20 | Cree, Inc. | High voltage array light emitting diode (LED) devices and fixtures |
USD702653S1 (en) | 2011-10-26 | 2014-04-15 | Cree, Inc. | Light emitting device component |
USD705181S1 (en) | 2011-10-26 | 2014-05-20 | Cree, Inc. | Light emitting device component |
US9735198B2 (en) | 2012-03-30 | 2017-08-15 | Cree, Inc. | Substrate based light emitter devices, components, and related methods |
US10134961B2 (en) | 2012-03-30 | 2018-11-20 | Cree, Inc. | Submount based surface mount device (SMD) light emitter components and methods |
WO2013181598A1 (en) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | The Regents Of The University Of Michigan | Laser-based edge detection |
USD740768S1 (en) * | 2012-06-15 | 2015-10-13 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Light emitting diode |
USD740453S1 (en) | 2013-06-27 | 2015-10-06 | Cree, Inc. | Light emitter unit |
USD739565S1 (en) | 2013-06-27 | 2015-09-22 | Cree, Inc. | Light emitter unit |
JP6294633B2 (ja) * | 2013-10-23 | 2018-03-14 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置、決定方法及び物品の製造方法 |
US9620400B2 (en) * | 2013-12-21 | 2017-04-11 | Kla-Tencor Corporation | Position sensitive substrate device |
WO2015161225A1 (en) | 2014-04-18 | 2015-10-22 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for susceptor temperature verification and methods of use |
US10196741B2 (en) | 2014-06-27 | 2019-02-05 | Applied Materials, Inc. | Wafer placement and gap control optimization through in situ feedback |
TWI619145B (zh) | 2015-04-30 | 2018-03-21 | 佳能股份有限公司 | 壓印裝置,基板運送裝置,壓印方法以及製造物件的方法 |
US9966290B2 (en) | 2015-07-30 | 2018-05-08 | Lam Research Corporation | System and method for wafer alignment and centering with CCD camera and robot |
JP6207671B1 (ja) * | 2016-06-01 | 2017-10-04 | キヤノン株式会社 | パターン形成装置、基板配置方法及び物品の製造方法 |
WO2018004511A1 (en) * | 2016-06-27 | 2018-01-04 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and method for the measurement of pattern placement and size of pattern and computer program therefor |
USD823492S1 (en) | 2016-10-04 | 2018-07-17 | Cree, Inc. | Light emitting device |
US10794681B2 (en) | 2018-09-04 | 2020-10-06 | Applied Materials, Inc. | Long range capacitive gap measurement in a wafer form sensor system |
US11521872B2 (en) | 2018-09-04 | 2022-12-06 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for measuring erosion and calibrating position for a moving process kit |
US11342210B2 (en) | 2018-09-04 | 2022-05-24 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for measuring wafer movement and placement using vibration data |
US20220260933A1 (en) * | 2019-07-30 | 2022-08-18 | Asml Netherlands B.V. | Method of determining a mark measurement sequence, stage apparatus and lithographic apparatus |
Family Cites Families (174)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE206607C (ja) | ||||
DE221563C (ja) | ||||
DE242880C (ja) | ||||
DE224448C (ja) | ||||
GB1242527A (en) * | 1967-10-20 | 1971-08-11 | Kodak Ltd | Optical instruments |
US3573975A (en) * | 1968-07-10 | 1971-04-06 | Ibm | Photochemical fabrication process |
JPS5919912Y2 (ja) | 1978-08-21 | 1984-06-08 | 清水建設株式会社 | 複合熱交換器 |
DE2963537D1 (en) | 1979-07-27 | 1982-10-07 | Tabarelli Werner W | Optical lithographic method and apparatus for copying a pattern onto a semiconductor wafer |
FR2474708B1 (fr) | 1980-01-24 | 1987-02-20 | Dme | Procede de microphotolithographie a haute resolution de traits |
JPS5754317A (en) * | 1980-09-19 | 1982-03-31 | Hitachi Ltd | Method and device for forming pattern |
US4346164A (en) * | 1980-10-06 | 1982-08-24 | Werner Tabarelli | Photolithographic method for the manufacture of integrated circuits |
US4509852A (en) * | 1980-10-06 | 1985-04-09 | Werner Tabarelli | Apparatus for the photolithographic manufacture of integrated circuit elements |
US4390273A (en) * | 1981-02-17 | 1983-06-28 | Censor Patent-Und Versuchsanstalt | Projection mask as well as a method and apparatus for the embedding thereof and projection printing system |
JPS57153433A (en) * | 1981-03-18 | 1982-09-22 | Hitachi Ltd | Manufacturing device for semiconductor |
JPS58202448A (ja) | 1982-05-21 | 1983-11-25 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
DD206607A1 (de) | 1982-06-16 | 1984-02-01 | Mikroelektronik Zt Forsch Tech | Verfahren und vorrichtung zur beseitigung von interferenzeffekten |
JPS5919912A (ja) | 1982-07-26 | 1984-02-01 | Hitachi Ltd | 液浸距離保持装置 |
DD242880A1 (de) | 1983-01-31 | 1987-02-11 | Kuch Karl Heinz | Einrichtung zur fotolithografischen strukturuebertragung |
DD221563A1 (de) | 1983-09-14 | 1985-04-24 | Mikroelektronik Zt Forsch Tech | Immersionsobjektiv fuer die schrittweise projektionsabbildung einer maskenstruktur |
DD224448A1 (de) | 1984-03-01 | 1985-07-03 | Zeiss Jena Veb Carl | Einrichtung zur fotolithografischen strukturuebertragung |
JPS61113376A (ja) | 1984-11-07 | 1986-05-31 | Sony Corp | テレビジヨン信号の動き検出装置 |
JPS6265326A (ja) | 1985-09-18 | 1987-03-24 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
JPS6265326U (ja) | 1985-10-16 | 1987-04-23 | ||
JPS62121417A (ja) | 1985-11-22 | 1987-06-02 | Hitachi Ltd | 液浸対物レンズ装置 |
JPS62121417U (ja) | 1986-01-24 | 1987-08-01 | ||
JPS63157419A (ja) | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Toshiba Corp | 微細パタ−ン転写装置 |
JPS63157419U (ja) | 1987-03-31 | 1988-10-14 | ||
US5040020A (en) * | 1988-03-31 | 1991-08-13 | Cornell Research Foundation, Inc. | Self-aligned, high resolution resonant dielectric lithography |
JP2510282B2 (ja) | 1989-04-13 | 1996-06-26 | 富士電機株式会社 | ウエハ搬送装置 |
JPH03209479A (ja) | 1989-09-06 | 1991-09-12 | Sanee Giken Kk | 露光方法 |
US5121256A (en) * | 1991-03-14 | 1992-06-09 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Lithography system employing a solid immersion lens |
JPH04305917A (ja) | 1991-04-02 | 1992-10-28 | Nikon Corp | 密着型露光装置 |
JPH04305915A (ja) | 1991-04-02 | 1992-10-28 | Nikon Corp | 密着型露光装置 |
JPH0562877A (ja) | 1991-09-02 | 1993-03-12 | Yasuko Shinohara | 光によるlsi製造縮小投影露光装置の光学系 |
FR2688059A1 (fr) | 1992-02-28 | 1993-09-03 | Vareille Aime | Procede optique de determination de positions relatives de deux pieces et dispositif pour sa mise en óoeuvre. |
JPH05299322A (ja) | 1992-04-17 | 1993-11-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | ウェハのアライメント方法 |
JPH06124873A (ja) | 1992-10-09 | 1994-05-06 | Canon Inc | 液浸式投影露光装置 |
EP0597637B1 (en) | 1992-11-12 | 2000-08-23 | Applied Materials, Inc. | System and method for automated positioning of a substrate in a processing chamber |
JP2753930B2 (ja) * | 1992-11-27 | 1998-05-20 | キヤノン株式会社 | 液浸式投影露光装置 |
JP2520833B2 (ja) | 1992-12-21 | 1996-07-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 浸漬式の液処理装置 |
DE69404397T2 (de) | 1993-07-13 | 1997-11-13 | Applied Materials Inc | Verbesserte Suszeptor Ausführung |
JPH07220990A (ja) | 1994-01-28 | 1995-08-18 | Hitachi Ltd | パターン形成方法及びその露光装置 |
JP3757430B2 (ja) | 1994-02-22 | 2006-03-22 | 株式会社ニコン | 基板の位置決め装置及び露光装置 |
US6225012B1 (en) | 1994-02-22 | 2001-05-01 | Nikon Corporation | Method for positioning substrate |
US5563798A (en) * | 1994-04-05 | 1996-10-08 | Applied Materials, Inc. | Wafer positioning system |
JP3387075B2 (ja) | 1994-12-12 | 2003-03-17 | 株式会社ニコン | 走査露光方法、露光装置、及び走査型露光装置 |
JPH08316125A (ja) | 1995-05-19 | 1996-11-29 | Hitachi Ltd | 投影露光方法及び露光装置 |
JPH08316124A (ja) * | 1995-05-19 | 1996-11-29 | Hitachi Ltd | 投影露光方法及び露光装置 |
JPH0961111A (ja) | 1995-08-28 | 1997-03-07 | Nikon Corp | パターン座標測定方法および装置 |
JP2966794B2 (ja) | 1996-07-25 | 1999-10-25 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | ウェハ位置決め装置 |
US6104687A (en) * | 1996-08-26 | 2000-08-15 | Digital Papyrus Corporation | Method and apparatus for coupling an optical lens to a disk through a coupling medium having a relatively high index of refraction |
US5825043A (en) * | 1996-10-07 | 1998-10-20 | Nikon Precision Inc. | Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus |
JP3612920B2 (ja) | 1997-02-14 | 2005-01-26 | ソニー株式会社 | 光学記録媒体の原盤作製用露光装置 |
JPH10247681A (ja) | 1997-03-04 | 1998-09-14 | Nikon Corp | 位置ずれ検出方法及び装置、位置決め装置並びに露光装置 |
JPH10255319A (ja) | 1997-03-12 | 1998-09-25 | Hitachi Maxell Ltd | 原盤露光装置及び方法 |
JPH10281029A (ja) * | 1997-04-09 | 1998-10-20 | Nkk Corp | ジメチルエーテル用ディーゼル機関 |
JP3747566B2 (ja) | 1997-04-23 | 2006-02-22 | 株式会社ニコン | 液浸型露光装置 |
JP3817836B2 (ja) | 1997-06-10 | 2006-09-06 | 株式会社ニコン | 露光装置及びその製造方法並びに露光方法及びデバイス製造方法 |
US5900354A (en) * | 1997-07-03 | 1999-05-04 | Batchelder; John Samuel | Method for optical inspection and lithography |
US6197117B1 (en) * | 1997-07-23 | 2001-03-06 | Applied Materials, Inc. | Wafer out-of-pocket detector and susceptor leveling tool |
US6126382A (en) * | 1997-11-26 | 2000-10-03 | Novellus Systems, Inc. | Apparatus for aligning substrate to chuck in processing chamber |
WO1999028220A1 (fr) | 1997-12-03 | 1999-06-10 | Nikon Corporation | Dispositif et procede de transfert de substrats |
JPH11176727A (ja) | 1997-12-11 | 1999-07-02 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
EP1039511A4 (en) | 1997-12-12 | 2005-03-02 | Nikon Corp | PROJECTION EXPOSURE PROCESSING METHOD AND PROJECTION APPARATUS |
WO1999049504A1 (fr) | 1998-03-26 | 1999-09-30 | Nikon Corporation | Procede et systeme d'exposition par projection |
US6032512A (en) * | 1998-06-02 | 2000-03-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. | Wafer centering device and method of using |
JP2000058436A (ja) | 1998-08-11 | 2000-02-25 | Nikon Corp | 投影露光装置及び露光方法 |
US6405101B1 (en) | 1998-11-17 | 2002-06-11 | Novellus Systems, Inc. | Wafer centering system and method |
US6332751B1 (en) | 1999-04-02 | 2001-12-25 | Tokyo Electron Limited | Transfer device centering method and substrate processing apparatus |
TWI242111B (en) * | 1999-04-19 | 2005-10-21 | Asml Netherlands Bv | Gas bearings for use in vacuum chambers and their application in lithographic projection apparatus |
US6342705B1 (en) | 1999-09-10 | 2002-01-29 | Chapman Instruments | System for locating and measuring an index mark on an edge of a wafer |
JP4504479B2 (ja) | 1999-09-21 | 2010-07-14 | オリンパス株式会社 | 顕微鏡用液浸対物レンズ |
TWI240849B (en) | 2000-02-10 | 2005-10-01 | Asml Netherlands Bv | Object positioning method for a lithographic projection apparatus |
JP2001332490A (ja) | 2000-03-14 | 2001-11-30 | Nikon Corp | 位置合わせ方法、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
TW591653B (en) * | 2000-08-08 | 2004-06-11 | Koninkl Philips Electronics Nv | Method of manufacturing an optically scannable information carrier |
US6516244B1 (en) | 2000-08-25 | 2003-02-04 | Wafermasters, Inc. | Wafer alignment system and method |
JP2002158154A (ja) | 2000-11-16 | 2002-05-31 | Canon Inc | 露光装置 |
US7160515B2 (en) * | 2000-12-05 | 2007-01-09 | The Procter & Gamble Company | Volatile material-containing article |
JP2002207710A (ja) | 2001-01-11 | 2002-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | マルチプロセッサ信号処理装置 |
JP4756766B2 (ja) | 2001-04-23 | 2011-08-24 | 不二越機械工業株式会社 | ワークの供給装置 |
WO2002091078A1 (en) * | 2001-05-07 | 2002-11-14 | Massachusetts Institute Of Technology | Methods and apparatus employing an index matching medium |
US7008802B2 (en) | 2001-05-29 | 2006-03-07 | Asm America, Inc. | Method and apparatus to correct water drift |
DE10228441B4 (de) | 2001-07-11 | 2005-09-08 | Peter Wolters Werkzeugmaschinen Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum automatischen Beladen einer Doppelseiten-Poliermaschine mit Halbleiterscheiben |
US6600547B2 (en) * | 2001-09-24 | 2003-07-29 | Nikon Corporation | Sliding seal |
US6801301B2 (en) | 2001-10-12 | 2004-10-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
CN1791839A (zh) * | 2001-11-07 | 2006-06-21 | 应用材料有限公司 | 光点格栅阵列光刻机 |
JP3908054B2 (ja) | 2002-02-20 | 2007-04-25 | 株式会社ジェーイーエル | アライナー装置 |
JP3600228B2 (ja) | 2002-03-01 | 2004-12-15 | 株式会社リコー | 光走査装置および画像形成装置 |
DE10229818A1 (de) * | 2002-06-28 | 2004-01-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Fokusdetektion und Abbildungssystem mit Fokusdetektionssystem |
US6987593B2 (en) | 2002-03-08 | 2006-01-17 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device and image forming apparatus using the same |
US20030178145A1 (en) * | 2002-03-25 | 2003-09-25 | Applied Materials, Inc. | Closed hole edge lift pin and susceptor for wafer process chambers |
US6965432B2 (en) * | 2002-06-07 | 2005-11-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Non-invasive wafer transfer position diagnosis and calibration |
JP2004027698A (ja) | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Matsushita Electric Works Ltd | 外曲がり吊具 |
JP2004027696A (ja) | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Takuo Yukimoto | 水辺の保全ブロックおよびその敷設方法 |
US7362508B2 (en) | 2002-08-23 | 2008-04-22 | Nikon Corporation | Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same |
US6788477B2 (en) * | 2002-10-22 | 2004-09-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Apparatus for method for immersion lithography |
JP3953460B2 (ja) * | 2002-11-12 | 2007-08-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ投影装置 |
DE60335595D1 (de) * | 2002-11-12 | 2011-02-17 | Asml Netherlands Bv | Lithographischer Apparat mit Immersion und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
EP1429188B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-06-19 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus |
EP1420299B1 (en) | 2002-11-12 | 2011-01-05 | ASML Netherlands B.V. | Immersion lithographic apparatus and device manufacturing method |
CN101382738B (zh) * | 2002-11-12 | 2011-01-12 | Asml荷兰有限公司 | 光刻投射装置 |
SG121822A1 (en) * | 2002-11-12 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
CN100470367C (zh) * | 2002-11-12 | 2009-03-18 | Asml荷兰有限公司 | 光刻装置和器件制造方法 |
SG131766A1 (en) * | 2002-11-18 | 2007-05-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4314021B2 (ja) | 2002-12-02 | 2009-08-12 | パナソニック株式会社 | ウェハの中心検出方法、並びに半導体チップのピックアップ方法及び装置 |
AU2003302831A1 (en) | 2002-12-10 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure apparatus and method for manufacturing device |
KR101085372B1 (ko) | 2002-12-10 | 2011-11-21 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
JP4352874B2 (ja) | 2002-12-10 | 2009-10-28 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
SG152063A1 (en) | 2002-12-10 | 2009-05-29 | Nikon Corp | Exposure apparatus and method for producing device |
CN101872135B (zh) | 2002-12-10 | 2013-07-31 | 株式会社尼康 | 曝光设备和器件制造法 |
WO2004053956A1 (ja) | 2002-12-10 | 2004-06-24 | Nikon Corporation | 露光装置及び露光方法、デバイス製造方法 |
JP4645027B2 (ja) | 2002-12-10 | 2011-03-09 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、デバイス製造方法 |
AU2003289272A1 (en) | 2002-12-10 | 2004-06-30 | Nikon Corporation | Surface position detection apparatus, exposure method, and device porducing method |
SG165169A1 (en) | 2002-12-10 | 2010-10-28 | Nikon Corp | Liquid immersion exposure apparatus |
DE10257766A1 (de) | 2002-12-10 | 2004-07-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Einstellung einer gewünschten optischen Eigenschaft eines Projektionsobjektivs sowie mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage |
EP1571700A4 (en) | 2002-12-10 | 2007-09-12 | Nikon Corp | OPTICAL DEVICE AND PROJECTION EXPOSURE DEVICE USING THE OPTICAL DEVICE |
KR20120127755A (ko) | 2002-12-10 | 2012-11-23 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광장치 및 디바이스 제조방법 |
JP4232449B2 (ja) | 2002-12-10 | 2009-03-04 | 株式会社ニコン | 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 |
US7242455B2 (en) * | 2002-12-10 | 2007-07-10 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and method for producing device |
EP1573730B1 (en) | 2002-12-13 | 2009-02-25 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Liquid removal in a method and device for irradiating spots on a layer |
KR100971441B1 (ko) | 2002-12-19 | 2010-07-21 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 레이어 상의 스폿을 조사하기 위한 방법 및 장치 |
AU2003295177A1 (en) | 2002-12-19 | 2004-07-14 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and device for irradiating spots on a layer |
US6990430B2 (en) * | 2002-12-20 | 2006-01-24 | Brooks Automation, Inc. | System and method for on-the-fly eccentricity recognition |
US6950774B2 (en) * | 2003-01-16 | 2005-09-27 | Asm America, Inc. | Out-of-pocket detection system using wafer rotation as an indicator |
US6903338B2 (en) | 2003-01-30 | 2005-06-07 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Method and apparatus for reducing substrate edge effects in electron lenses |
JP4035510B2 (ja) | 2003-02-12 | 2008-01-23 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | ガス洗浄システムを含むリソグラフィ装置 |
JP4604452B2 (ja) | 2003-02-26 | 2011-01-05 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
SG115631A1 (en) | 2003-03-11 | 2005-10-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection assembly, load lock and method for transferring objects |
JP4488004B2 (ja) | 2003-04-09 | 2010-06-23 | 株式会社ニコン | 液浸リソグラフィ流体制御システム |
WO2004090633A2 (en) | 2003-04-10 | 2004-10-21 | Nikon Corporation | An electro-osmotic element for an immersion lithography apparatus |
EP2921905B1 (en) | 2003-04-10 | 2017-12-27 | Nikon Corporation | Run-off path to collect liquid for an immersion lithography apparatus |
KR20140139139A (ko) | 2003-04-10 | 2014-12-04 | 가부시키가이샤 니콘 | 액침 리소그래피 장치용 운반 영역을 포함하는 환경 시스템 |
CN105700301B (zh) | 2003-04-10 | 2018-05-25 | 株式会社尼康 | 包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统 |
JP4582089B2 (ja) | 2003-04-11 | 2010-11-17 | 株式会社ニコン | 液浸リソグラフィ用の液体噴射回収システム |
CN101002140B (zh) | 2003-04-11 | 2010-12-08 | 株式会社尼康 | 保持平板印刷投射透镜下面的浸没流体的设备和方法 |
EP1614001B1 (en) | 2003-04-11 | 2009-11-25 | Nikon Corporation | Cleanup method for optics in immersion lithography |
ATE542167T1 (de) | 2003-04-17 | 2012-02-15 | Nikon Corp | Lithographisches immersionsgerät |
TWI295414B (en) * | 2003-05-13 | 2008-04-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7274472B2 (en) * | 2003-05-28 | 2007-09-25 | Timbre Technologies, Inc. | Resolution enhanced optical metrology |
KR101015778B1 (ko) * | 2003-06-03 | 2011-02-22 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리장치 및 기판 수수 위치의 조정 방법 |
EP2261742A3 (en) * | 2003-06-11 | 2011-05-25 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
JP4343597B2 (ja) * | 2003-06-25 | 2009-10-14 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2005019616A (ja) * | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Canon Inc | 液浸式露光装置 |
EP1498778A1 (en) * | 2003-06-27 | 2005-01-19 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP3862678B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2006-12-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP4697138B2 (ja) | 2003-07-08 | 2011-06-08 | 株式会社ニコン | 液浸リソグラフィ装置、液浸リソグラフィ方法、デバイス製造方法 |
SG109000A1 (en) * | 2003-07-16 | 2005-02-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7070915B2 (en) * | 2003-08-29 | 2006-07-04 | Tokyo Electron Limited | Method and system for drying a substrate |
US6954256B2 (en) * | 2003-08-29 | 2005-10-11 | Asml Netherlands B.V. | Gradient immersion lithography |
KR101238114B1 (ko) | 2003-09-03 | 2013-02-27 | 가부시키가이샤 니콘 | 액침 리소그래피용 유체를 제공하기 위한 장치 및 방법 |
JP4378136B2 (ja) * | 2003-09-04 | 2009-12-02 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP3870182B2 (ja) * | 2003-09-09 | 2007-01-17 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
GB0321167D0 (en) | 2003-09-10 | 2003-10-08 | Hewlett Packard Development Co | Printing digital documents |
JP2005159322A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-06-16 | Nikon Corp | 定盤、ステージ装置及び露光装置並びに露光方法 |
TW201804262A (zh) | 2003-12-03 | 2018-02-01 | 尼康股份有限公司 | 曝光裝置、曝光方法、元件製造方法 |
JP2005175016A (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-30 | Canon Inc | 基板保持装置およびそれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP2005175034A (ja) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Canon Inc | 露光装置 |
US7589818B2 (en) * | 2003-12-23 | 2009-09-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, alignment apparatus, device manufacturing method, and a method of converting an apparatus |
JP2005191381A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Canon Inc | 露光方法及び装置 |
JP2005191393A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Canon Inc | 露光方法及び装置 |
US20050160948A1 (en) | 2003-12-31 | 2005-07-28 | Paul Irwin | Ventilated dissection table |
JP4429023B2 (ja) * | 2004-01-07 | 2010-03-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP4018647B2 (ja) * | 2004-02-09 | 2007-12-05 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2005286068A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Canon Inc | 露光装置及び方法 |
JP4510494B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2010-07-21 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
TW200615706A (en) | 2004-09-17 | 2006-05-16 | Nikon Corp | Substrate for exposure, exposure method and method for manufacturing a device |
TWI654661B (zh) | 2004-11-18 | 2019-03-21 | 日商尼康股份有限公司 | 位置測量方法、位置控制方法、測量方法、裝載方法、曝光方法及曝光裝置、及元件製造方法 |
US7214552B2 (en) | 2004-11-19 | 2007-05-08 | Infineon Technologies Richmond, Lp | Eliminating systematic process yield loss via precision wafer placement alignment |
US7365827B2 (en) * | 2004-12-08 | 2008-04-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7352440B2 (en) * | 2004-12-10 | 2008-04-01 | Asml Netherlands B.V. | Substrate placement in immersion lithography |
JP4006004B2 (ja) | 2004-12-28 | 2007-11-14 | 株式会社東芝 | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 |
US7381576B2 (en) | 2005-08-15 | 2008-06-03 | Infineon Technologies Richmond, Lp. | Method and apparatus for monitoring precision of water placement alignment |
US7417710B2 (en) | 2005-09-26 | 2008-08-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP2196857A3 (en) * | 2008-12-09 | 2010-07-21 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
2004
- 2004-12-10 US US11/008,576 patent/US7352440B2/en active Active
-
2005
- 2005-11-23 SG SG200704377-1A patent/SG133595A1/en unknown
- 2005-11-23 SG SG200507420A patent/SG123670A1/en unknown
- 2005-11-28 TW TW094141774A patent/TWI318726B/zh active
- 2005-12-01 EP EP05257411A patent/EP1669808A3/en not_active Withdrawn
- 2005-12-09 CN CNB200510137044XA patent/CN100565348C/zh active Active
- 2005-12-09 KR KR1020050120522A patent/KR100737507B1/ko active IP Right Grant
- 2005-12-09 JP JP2005355549A patent/JP4350086B2/ja active Active
-
2007
- 2007-10-09 US US11/907,045 patent/US8077291B2/en active Active
-
2011
- 2011-11-03 US US13/288,714 patent/US8441617B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-11-08 US US13/672,539 patent/US9182222B2/en active Active
-
2015
- 2015-11-03 US US14/931,560 patent/US9740106B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2017
- 2017-08-21 US US15/682,135 patent/US10345711B2/en active Active
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009253291A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Asml Holding Nv | ロボット位置キャリブレーションツール(rpct) |
JP2010062228A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2010182966A (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-19 | Sinfonia Technology Co Ltd | ワークの中心位置合わせ装置 |
US11556064B2 (en) | 2018-08-23 | 2023-01-17 | Asml Netherlands B.V. | Stage apparatus and method for calibrating an object loading process |
JP2021535433A (ja) * | 2018-08-23 | 2021-12-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | ステージ装置および物体搭載プロセスの較正方法 |
JP7234345B2 (ja) | 2018-08-23 | 2023-03-07 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | ステージ装置および物体搭載プロセスの較正方法 |
KR20210013345A (ko) * | 2018-09-04 | 2021-02-03 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 프로세스 키트 센터링을 측정하기 위한 방법 및 장치 |
US11387122B2 (en) | 2018-09-04 | 2022-07-12 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for measuring process kit centering |
US11404296B2 (en) | 2018-09-04 | 2022-08-02 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for measuring placement of a substrate on a heater pedestal |
JP2021536120A (ja) * | 2018-09-04 | 2021-12-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials, Incorporated | プロセスキットの中心合わせ測定のための方法及び装置 |
JP2021535586A (ja) * | 2018-09-04 | 2021-12-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials, Incorporated | ヒータペデスタル上の基板の位置を測定するための方法および装置 |
JP7284248B2 (ja) | 2018-09-04 | 2023-05-30 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ヒータペデスタル上の基板の位置を測定するための方法および装置 |
JP7286754B2 (ja) | 2018-09-04 | 2023-06-05 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | プロセスキットの中心合わせ測定のための方法及び装置 |
US11908724B2 (en) | 2018-09-04 | 2024-02-20 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for measuring placement of a substrate on a heater pedestal |
KR102639660B1 (ko) * | 2018-09-04 | 2024-02-21 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 프로세스 키트 센터링을 측정하기 위한 방법 및 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9740106B2 (en) | 2017-08-22 |
KR100737507B1 (ko) | 2007-07-09 |
TWI318726B (en) | 2009-12-21 |
US20160054665A1 (en) | 2016-02-25 |
US20080106723A1 (en) | 2008-05-08 |
US10345711B2 (en) | 2019-07-09 |
US20060126038A1 (en) | 2006-06-15 |
US8077291B2 (en) | 2011-12-13 |
TW200625022A (en) | 2006-07-16 |
US20130182231A1 (en) | 2013-07-18 |
JP4350086B2 (ja) | 2009-10-21 |
EP1669808A2 (en) | 2006-06-14 |
KR20060065559A (ko) | 2006-06-14 |
US20120050740A1 (en) | 2012-03-01 |
US8441617B2 (en) | 2013-05-14 |
EP1669808A3 (en) | 2007-06-06 |
US9182222B2 (en) | 2015-11-10 |
US20180067401A1 (en) | 2018-03-08 |
SG123670A1 (en) | 2006-07-26 |
US7352440B2 (en) | 2008-04-01 |
CN1786833A (zh) | 2006-06-14 |
CN100565348C (zh) | 2009-12-02 |
SG133595A1 (en) | 2007-07-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4350086B2 (ja) | 液浸リソグラフィにおける基板の配置 | |
JP6469761B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
US20050219483A1 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP2006054460A (ja) | 位置合せマークを提供する方法、基板を位置合せする方法、デバイス製造方法、コンピュータ・プログラム及びデバイス | |
JP2006140494A (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4405462B2 (ja) | 較正用基板およびリソグラフィ装置の較正方法 | |
US7426011B2 (en) | Method of calibrating a lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP4271692B2 (ja) | リソグラフィ装置及びこのような装置を較正する方法 | |
US20090033896A1 (en) | Exposure apparatus and method, and device manufacturing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060904 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20070529 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081030 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090130 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090714 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090721 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120731 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4350086 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120731 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130731 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |