JP2966794B2 - ウェハ位置決め装置 - Google Patents
ウェハ位置決め装置Info
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- JP2966794B2 JP2966794B2 JP19610496A JP19610496A JP2966794B2 JP 2966794 B2 JP2966794 B2 JP 2966794B2 JP 19610496 A JP19610496 A JP 19610496A JP 19610496 A JP19610496 A JP 19610496A JP 2966794 B2 JP2966794 B2 JP 2966794B2
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- wafer
- stage
- monitors
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ウェハよりわず
かに大きいウェハ落とし込み段差を有したウェハステー
ジにウェハを位置決めする時に使用されるウェハ位置決
め装置に関する。
かに大きいウェハ落とし込み段差を有したウェハステー
ジにウェハを位置決めする時に使用されるウェハ位置決
め装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ウェハの位置決めとしては、例え
ば次の方法がある。 1)ウェハのエッジをステージ上に設けた位置決め用ピン
に押しつけて行なう方法。
ば次の方法がある。 1)ウェハのエッジをステージ上に設けた位置決め用ピン
に押しつけて行なう方法。
【０００３】2)ウェハのエッジを予め絶対座標のわかっ
ている位置決めステージにて、一対もしくは複数のセン
サにてウェハ外周座標を認識し、中心座標を求め、補正
する方法。 3)ウェハ上にある位置決め用のマークを複数個のセンサ
にてモニタし、位置補正する方法。
ている位置決めステージにて、一対もしくは複数のセン
サにてウェハ外周座標を認識し、中心座標を求め、補正
する方法。 3)ウェハ上にある位置決め用のマークを複数個のセンサ
にてモニタし、位置補正する方法。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術によれば、位置決め用ピン，位置決めステージ，また
はウェハ±の位置決め用マークがない場合、ウェハより
もわずかに大きなウェハ落とし込み段差がついたウェハ
ステージにウェハを確実にセットすることが困難であ
る。また、前記ウェハステージは可動式であるため、あ
るばらつきを持ってウェハ受け渡し位置に停止する。更
に、ウェハ搬送と位置決めを短時間で行なうことが困難
である。
術によれば、位置決め用ピン，位置決めステージ，また
はウェハ±の位置決め用マークがない場合、ウェハより
もわずかに大きなウェハ落とし込み段差がついたウェハ
ステージにウェハを確実にセットすることが困難であ
る。また、前記ウェハステージは可動式であるため、あ
るばらつきを持ってウェハ受け渡し位置に停止する。更
に、ウェハ搬送と位置決めを短時間で行なうことが困難
である。
【０００５】この発明は上記事情を考慮してなされたも
ので、ウェハよりもわずかに大きなウェハ落とし込み段
差がついたウェハステージに、ウェハを確実に短時間で
セットすることができるウェハ位置決め装置を提供する
ことを目的とする。
ので、ウェハよりもわずかに大きなウェハ落とし込み段
差がついたウェハステージに、ウェハを確実に短時間で
セットすることができるウェハ位置決め装置を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明は、ウェハより
わずかに大きいウェハ落とし込み段差を有したウェハス
テージと、ウェハを前記ウェハステージ上に載せるアー
ム機能と位置補正機能を兼ねたウェハ移動機構と、各々
がウェハのエッジ位置とウェハステージ上のウェハ落と
し込み段差のエッジ位置を検出する、少なくとも２つの
モニタと、これらモニタに電気的に接続された画像位置
補正値演算装置と、前記ウェハを上下させるプッシャ上
下機構を具備することを特徴とするウェハ位置決め装置
である。
わずかに大きいウェハ落とし込み段差を有したウェハス
テージと、ウェハを前記ウェハステージ上に載せるアー
ム機能と位置補正機能を兼ねたウェハ移動機構と、各々
がウェハのエッジ位置とウェハステージ上のウェハ落と
し込み段差のエッジ位置を検出する、少なくとも２つの
モニタと、これらモニタに電気的に接続された画像位置
補正値演算装置と、前記ウェハを上下させるプッシャ上
下機構を具備することを特徴とするウェハ位置決め装置
である。
【０００７】この発明において、前記モニタはウェハス
テージの開口内壁面とウェハの縁との距離を測るもの
で、この距離に基づいてウェハの移動量を前記画像位置
補正値演算装置により計算するものである。従って、前
記モニタは少なくとも２つ必要である。しかるに、複数
のモニタが前記ウェハステージの円周方向に沿って等間
隔で配置された３つのモニタである場合、ウェハステー
ジの段差のエッジとウェハのエッジの差を３等配された
ウェハ外周で等しくなるよう補正するため、ウェハステ
ージが絶対値に対してウェハ受け渡し位置がある範囲
（モニタ視野）内でばらついても、確実にウェハ位置決
め補正ができる。
テージの開口内壁面とウェハの縁との距離を測るもの
で、この距離に基づいてウェハの移動量を前記画像位置
補正値演算装置により計算するものである。従って、前
記モニタは少なくとも２つ必要である。しかるに、複数
のモニタが前記ウェハステージの円周方向に沿って等間
隔で配置された３つのモニタである場合、ウェハステー
ジの段差のエッジとウェハのエッジの差を３等配された
ウェハ外周で等しくなるよう補正するため、ウェハステ
ージが絶対値に対してウェハ受け渡し位置がある範囲
（モニタ視野）内でばらついても、確実にウェハ位置決
め補正ができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施例に係る
ウェハ位置決め装置について図１及び図２を参照して説
明する。ここで、図１はこのウェハ位置決め装置の全体
図、図２は同装置の一構成であるウェハステージ及びモ
ニタの概略的な平面図である。
ウェハ位置決め装置について図１及び図２を参照して説
明する。ここで、図１はこのウェハ位置決め装置の全体
図、図２は同装置の一構成であるウェハステージ及びモ
ニタの概略的な平面図である。
【０００９】図中の符番１は、ウェハ２よりわずかに大
きいウェハ落とし込み段差１ａを有しかつ中央部に開口
部１ｂを有した可動式のウェハステージである。このウ
ェハステージ１は、あるばらつきを持ってウェハ受け渡
し位置に停止するようになっている。前記ウェハステー
ジ開口部１ｂ付近には、前記ウェハ２を上下に動かすプ
ッシャ上下機構３が配置されている。また、前記ウェハ
ステージ１付近には、ウェハ２を前記ウェハステージ１
上に載せるアーム４を備えたウェハ移動機構５が配置さ
れている。このウェハ移動機構５は、前記ウェハ２をウ
ェハステージ１上に載せるのみならず、ウェハ２の位置
補正も行う機能も備えている。
きいウェハ落とし込み段差１ａを有しかつ中央部に開口
部１ｂを有した可動式のウェハステージである。このウ
ェハステージ１は、あるばらつきを持ってウェハ受け渡
し位置に停止するようになっている。前記ウェハステー
ジ開口部１ｂ付近には、前記ウェハ２を上下に動かすプ
ッシャ上下機構３が配置されている。また、前記ウェハ
ステージ１付近には、ウェハ２を前記ウェハステージ１
上に載せるアーム４を備えたウェハ移動機構５が配置さ
れている。このウェハ移動機構５は、前記ウェハ２をウ
ェハステージ１上に載せるのみならず、ウェハ２の位置
補正も行う機能も備えている。
【００１０】前記ウェハステージ１の上方には、ウェハ
２のエッジ部を認識する３のモニタ６1 ，６2 ，６3 が
ウェハステージ１の円周方向に１２０度の等間隔で配置
されている。これらモニタ６1 〜６3 には、画像位置補
正値演算装置７が電気的に接続されている。前記演算装
置７には前記ウェハ移動機構５が電気的に接続されてい
る。前記演算装置７により、前記各モニタ６1 〜６3 の
ウェハエッジと段差エッジの隙間が等しくなるウェハ２
の移動距離を計算し、ウェハ２を移動する。また、前記
プッシャ上下機構３によりウェハ２をアーム４より持ち
上げてアームを退避した後、ウェハ２を下降し、段差内
に落とし込む。
２のエッジ部を認識する３のモニタ６1 ，６2 ，６3 が
ウェハステージ１の円周方向に１２０度の等間隔で配置
されている。これらモニタ６1 〜６3 には、画像位置補
正値演算装置７が電気的に接続されている。前記演算装
置７には前記ウェハ移動機構５が電気的に接続されてい
る。前記演算装置７により、前記各モニタ６1 〜６3 の
ウェハエッジと段差エッジの隙間が等しくなるウェハ２
の移動距離を計算し、ウェハ２を移動する。また、前記
プッシャ上下機構３によりウェハ２をアーム４より持ち
上げてアームを退避した後、ウェハ２を下降し、段差内
に落とし込む。
【００１１】次に、こうした構成のウェハ位置決め装置
の作用について説明する。まず、ウェハ移動機構５によ
るアーム４にウェハ２を載せ、ウェハステージ１の方へ
移動する。ウェハ２を載せたアーム４がウェハステージ
１のほぼ上方に搬送したら、図２におけるモニタ６1 の
Ａ寸法、モニタ６2 のＢ寸法、モニタ６3 のＣ寸法を前
記演算装置７により画像処理し求め、寸法Ａ，Ｂ，Ｃが
等しくなるようアーム４により位置補正する。位置補正
が済んだら、プッシャ上下機構３を上方へ移動させ、ウ
ェハ２をプッシャ上下機構３上へ移動させる。この後、
アーム４をウェハステージ１の上方から遠ざける。更
に、プッシャ上下機構３を降下させてウェハ２をウェハ
ステージ１の段差１ａに落とし込む。なお、ウェハ２が
段差エッジに重なった状態では位置補正の計算ができな
くなるので、ウェハ搬送前に段差エッジを認識する必要
がある。
の作用について説明する。まず、ウェハ移動機構５によ
るアーム４にウェハ２を載せ、ウェハステージ１の方へ
移動する。ウェハ２を載せたアーム４がウェハステージ
１のほぼ上方に搬送したら、図２におけるモニタ６1 の
Ａ寸法、モニタ６2 のＢ寸法、モニタ６3 のＣ寸法を前
記演算装置７により画像処理し求め、寸法Ａ，Ｂ，Ｃが
等しくなるようアーム４により位置補正する。位置補正
が済んだら、プッシャ上下機構３を上方へ移動させ、ウ
ェハ２をプッシャ上下機構３上へ移動させる。この後、
アーム４をウェハステージ１の上方から遠ざける。更
に、プッシャ上下機構３を降下させてウェハ２をウェハ
ステージ１の段差１ａに落とし込む。なお、ウェハ２が
段差エッジに重なった状態では位置補正の計算ができな
くなるので、ウェハ搬送前に段差エッジを認識する必要
がある。
【００１２】こうした構成のウェハ位置決め装置は、図
１及び図２に示すように、ウェハ２よりわずかに大きい
ウェハ落とし込み段差１ａを有したウェハステージ１
と、ウェハ２を前記ウェハステージ１上に載せるアーム
４を備えウェハの位置補正機能を有したウェハ移動機構
５と、ウェハ位置、ウェハステージ１上のウェハ落とし
込み位置を検出する複数のモニタ６1 〜６3 と、これら
モニタ６1 〜６3 に電気的に接続された画像位置補正値
演算装置７と、前記ウェハ２を上下させるプッシャ上下
機構３を備えた構成となっている。こうした位置決め装
置によれば、下記に述べる効果を有する。
１及び図２に示すように、ウェハ２よりわずかに大きい
ウェハ落とし込み段差１ａを有したウェハステージ１
と、ウェハ２を前記ウェハステージ１上に載せるアーム
４を備えウェハの位置補正機能を有したウェハ移動機構
５と、ウェハ位置、ウェハステージ１上のウェハ落とし
込み位置を検出する複数のモニタ６1 〜６3 と、これら
モニタ６1 〜６3 に電気的に接続された画像位置補正値
演算装置７と、前記ウェハ２を上下させるプッシャ上下
機構３を備えた構成となっている。こうした位置決め装
置によれば、下記に述べる効果を有する。
【００１３】1)ウェハ落とし込み用の段差１ａのエッジ
とウェハ２のエッジの差を３等配されたウェハ外周で等
しくなるよう補正するため、ウェハステージ１が絶対値
に対してウェハ受け渡し位置がある範囲（モニタ視野）
内でばらついても、確実にウェハ位置決め補正ができ
る。
とウェハ２のエッジの差を３等配されたウェハ外周で等
しくなるよう補正するため、ウェハステージ１が絶対値
に対してウェハ受け渡し位置がある範囲（モニタ視野）
内でばらついても、確実にウェハ位置決め補正ができ
る。
【００１４】2)ウェハ２の外形、ウェハと落とし込み用
の段差１ａの外形がばらついてもそれらのエッジの差を
補正制御するため、確実にウェハ２を段差１ａ内にセッ
トできる。
の段差１ａの外形がばらついてもそれらのエッジの差を
補正制御するため、確実にウェハ２を段差１ａ内にセッ
トできる。
【００１５】3)ウェハ搬送前に位置決めステージなどで
ウェハ位置決めを行う必要がなく、ウェハ搬送処理時間
を短縮できる。 4)従来のようなピン突きあてによる位置決めと異なり、
位置補正はウェハ移動機構５にて行うため、ウェハ表面
及びエッジ部は非接触であり、さらにウェハ裏面も他の
ものとこすれないためパーティクルの発生がない。
ウェハ位置決めを行う必要がなく、ウェハ搬送処理時間
を短縮できる。 4)従来のようなピン突きあてによる位置決めと異なり、
位置補正はウェハ移動機構５にて行うため、ウェハ表面
及びエッジ部は非接触であり、さらにウェハ裏面も他の
ものとこすれないためパーティクルの発生がない。
【００１６】なお、上記実施例では、３つのモニタがウ
ェハステージの円周方向に１２０度の等間隔で配置され
ている場合について述べたが、これに限定されるもので
はない。また、モニタの数を３つでなく、２つ以上であ
ればよい。
ェハステージの円周方向に１２０度の等間隔で配置され
ている場合について述べたが、これに限定されるもので
はない。また、モニタの数を３つでなく、２つ以上であ
ればよい。
【００１７】
【発明の効果】以上詳述した如くこの発明によれば、ウ
ェハよりもわずかに大きなウェハ落とし込み段差がつい
たウェハステージに、ウェハを確実に短時間でセットす
ることできるとともにパーティクルの発生のないウェハ
位置決め装置を提供できる。
ェハよりもわずかに大きなウェハ落とし込み段差がつい
たウェハステージに、ウェハを確実に短時間でセットす
ることできるとともにパーティクルの発生のないウェハ
位置決め装置を提供できる。
【図１】この発明の一実施例に係るウェハ位置決め装置
の説明図。
の説明図。
【図２】図１のウェハ位置決め装置の一構成部材である
ウェハステージ及びモニタの概略的な平面図。
ウェハステージ及びモニタの概略的な平面図。
１…ウェハステージ、 １ａ…段差、 １ｂ…開口部、 ２…ウェハ、 ３…プッシャ上下機構、 ４…アーム、 ５…ウェハ移動機構、 ６1 〜６3 …モニタ、 ７…画像位置補正演算装置。
Claims (2)
- 【請求項１】 ウェハよりわずかに大きいウェハ落とし
込み段差を有したウェハステージと、ウェハを前記ウェ
ハステージ上に載せるアーム機能と位置補正機能を兼ね
たウェハ移動機構と、各々がウェハのエッジ位置とウェ
ハステージ上のウェハ落とし込み段差のエッジ位置を検
出する、少なくとも２つのモニタと、これらモニタに電
気的に接続された画像位置補正値演算装置と、前記ウェ
ハを上下させるプッシャ上下機構を具備することを特徴
とするウェハ位置決め装置。 - 【請求項２】 前記モニタは前記ウェハステージの円周
方向に沿って等間隔で配置された３つのモニタであるこ
とを特徴とする請求項１記載のウェハ位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19610496A JP2966794B2 (ja) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | ウェハ位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19610496A JP2966794B2 (ja) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | ウェハ位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1041372A JPH1041372A (ja) | 1998-02-13 |
| JP2966794B2 true JP2966794B2 (ja) | 1999-10-25 |
Family
ID=16352306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19610496A Expired - Fee Related JP2966794B2 (ja) | 1996-07-25 | 1996-07-25 | ウェハ位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2966794B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4756766B2 (ja) * | 2001-04-23 | 2011-08-24 | 不二越機械工業株式会社 | ワークの供給装置 |
| US7352440B2 (en) | 2004-12-10 | 2008-04-01 | Asml Netherlands B.V. | Substrate placement in immersion lithography |
-
1996
- 1996-07-25 JP JP19610496A patent/JP2966794B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1041372A (ja) | 1998-02-13 |
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