JP2006140311A - レーザーダイシング用保護膜剤及び該保護膜剤を用いたウエーハの加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】水溶性樹脂と、水溶性染料、水溶性色素及び水溶性紫外線吸収剤からなる群より選択された少なくとも1種のレーザー光吸収剤とが溶解した溶液を保護膜剤として使用し、この保護膜剤をウエーハ2加工面に塗布、乾燥して保護膜24を形成し、この保護膜24を通してのレーザー光の照射により、レーザー加工を行う。
【選択図】図4
Description
(1)前記溶液の固形分の波長355nmのレーザー光に対するg吸光係数kが3×10−3乃至2.5×10−1abs・L/g(abs:吸光度)の範囲にあること、
(2)前記レーザー光吸収剤を、前記水溶性樹脂100重量部当り、0.01乃至10重量部の量で含有していること
が好ましい。
(3)前記レーザー光の波長が355nmであること、
(4)前記ウエーハには、格子状のストリートにより区画された複数の半導体チップが形成されており、前記保護膜を介して該ストリートにレーザー光が照射されて溝が形成されること、
(5)レーザー光照射後、前記保護膜を水洗により除去すること、
という手段が採用される。
本発明の保護膜剤は、水溶性樹脂と、水溶性のレーザー光吸収剤とを含有する溶液からなる。
D(μm)=4×λ×f/(π×W)
式中、λは、パルスレーザー光線の波長(μm)、
Wは、対物集光レンズ724aに入射されるパルスレーザー光の直径(mm)、
fは、対物集光レンズ724aの焦点距離(mm)、
で規定される。
このレーザー光照射工程では、先ず上述した図6に示すレーザー加工装置7のチャックテーブル71上に半導体ウエーハ2を、保護膜24が形成されている側を上にして載置し、該チャックテーブル71上に半導体ウエーハ2を吸着保持する。なお、図6においては、保護テープ6が装着された環状のフレーム5を省いて示しているが、環状のフレーム5はチャックテーブル71に配設された適宜のフレーム保持手段に保持されている。
レーザー光の光源 ;YVO4レーザーまたはYAGレーザー
波長 ;355nm
繰り返し周波数 :50〜100kHz
出力 ;0.3〜4.0W
集光スポット径 ;φ9.2μm
加工送り速度 ;1〜800mm/秒
切削ブレード ;外径52mm、厚さ20μm
切削ブレードの回転速度;30000rpm
切削送り速度 ;50mm/秒
レーザー光の光源 ;YVO4レーザー
波長 ;355nm
繰り返し周波数 :50〜100kHz
出力 ;0.3〜4.0W
集光スポット径 ;φ9.2μm
加工送り速度 ;1〜800mm/秒
下記組成の保護膜剤を調製した。
水溶性樹脂; 20g
ケン化度88%、重合度300のポリビニルアルコール
水溶性レーザー光吸収剤; 0.2g
フェルラ酸
水; 80g
固形分のg吸光係数k=1.56×10−1
水溶性レーザー光吸収剤であるフェルラ酸の量を0.8gに変更した以外は、実施例1と全く同様にして、保護膜剤を調製した。この保護膜剤の固形分のg吸光係数kは5.61×10−1であった。
水溶性樹脂として、ケン化度75%、重合度500のポリビニルアルコールを用いた以外は、実施例1と同様にして保護膜剤を調製した。この保護膜剤の固形分のg吸光係数kは、実施例1と同様、1.56×10−1である。
水溶性レーザー光吸収剤として、フェルラ酸の代わりに水溶性モノアゾ染料(保土ヶ谷化学製AIZEN SWTW3)を用いた以外は、実施例3と全く同様にして、保護膜剤を調製した。この保護膜剤の固形分のg吸光係数kは7.9×10−2であった。
可塑剤として15gのグリセリンを添加した以外は実施例5と全く同様にして、保護膜剤を調製した。この保護膜剤の固形分のg吸光係数kは、実施例5と同様、7.9×10−2であった。
水溶性レーザー光吸収剤であるフェルラ酸を使用しない以外は、実施例1と同様にして保護膜剤を調製した。この保護膜剤の固形分のg吸光係数kは、1.94×10−3であった。
20:基板
21:積層体
22:半導体チップ
23:ストリート
24:樹脂被膜
25:レーザー加工溝
26:切削溝
3:スピンコーター
5:環状のフレーム
6:保護テープ
7:レーザー加工装置
71:レーザー加工装置のチャックテーブル
72:レーザー光線照射手段
8:切削装置
81:切削装置のチャックテーブル
82:切削手段
Claims (7)
- 水溶性樹脂と、水溶性染料、水溶性色素及び水溶性紫外線吸収剤からなる群より選択された少なくとも1種の水溶性のレーザー光吸収剤とが溶解した溶液からなることを特徴とするレーザーダイシング用保護膜剤。
- 前記溶液の固形分は、波長355nmのレーザー光に対するg吸光係数kが3×10−3乃至2.5×10−1abs・L/g(abs:吸光度)の範囲にある請求項1に記載のレーザーダイシング用保護膜剤。
- 前記レーザー光吸収剤を、前記水溶性樹脂100重量部当り、0.01乃至10重量部の量で含有している請求項1または2に記載のレーザーダイシング用保護膜剤。
- ウエーハの加工面に、請求項1乃至3の何れかに記載のレーザーダイシング用保護膜剤を塗布・乾燥して保護膜を形成し、該保護膜を介して加工面にレーザー光を照射して加工を施すことを特徴とするウエーハの加工方法。
- 前記レーザー光の波長が355nmである請求項4に記載の加工方法。
- 前記ウエーハには、格子状のストリートにより区画された複数の半導体チップが形成されており、前記保護膜を介して該ストリートにレーザー光が照射されて溝が形成される請求項4または5に記載の加工方法。
- レーザー光照射後、前記保護膜を水洗により除去する請求項4乃至6のいずれかに記載の加工方法。
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