JP2005154675A - ポリロタキサン及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 擬ポリロタキサンを大過剰で用いることなく、及び/又は活性化試薬を大過剰に用いることなく、収率良く且つコスト上も好ましいポリロタキサンの製造方法の提供。
【解決手段】 ポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールとシクロデキストリン分子とを混合して、複数のシクロデキストリン分子の開口部に前記カルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンを得る包接工程;及び擬ポリロタキサンと−NH基又は−OH基を有する封鎖基とを反応させて、−CO−NH−封鎖基又は−CO−O−封鎖基の両末端を有するポリロタキサンを得る封鎖工程;を有するポリロタキサンの製造方法により、上記課題を解決する。
【選択図】 なし

Description

本発明は、ポリロタキサン及びその製造方法に関し、特に両末端に−CO−NH−封鎖基又は−CO−O−封鎖基などのカルボキシル基と反応する基を有する封鎖基とカルボキシル基とが反応して得られる構造を有するポリロタキサン及びその製造方法に関する。
ポリロタキサンは、環状分子(回転子:rotator)の開口部が直鎖状分子(軸:axis)によって串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンの両末端(直鎖状分子の両末端)に、環状分子が遊離しないように封鎖基を配置して成る。例えば、環状分子としてα−シクロデキストリン(以降、シクロデキストリンを単に「CD」と略記する場合がある)、直鎖状分子としてポリエチレングリコール(以降、「PEG」と略記する場合がある)を用いたポリロタキサンは、種々の特性を有することから、その研究が近年、盛んに行われている。
ポリロタキサンの調製法は一般に、PEGの両末端である−OH基を−NH基に置換して、両末端が−NH基であるHN−PEG−NHを得た後、該HN−PEG−NHとα−CDとを混合してα−CDが包接された擬ポリロタキサンを得、その後、該擬ポリロタキサンと−COOH基を有する封鎖基(Bl−COOH)、例えばアダマンタン酢酸とを反応させて擬ポリロタキサンのPEG部位の両末端が−NH−CO−O−Bl基で封鎖されたポリロタキサンを得ていた(特許文献1を参照のこと)。
一般に、−NH基と−COOH基とのアミド化反応は、カルボキシル基を活性化して正電荷を帯びたカルボニル炭素にアミンの非共有電子対が求核的に攻撃して行う反応が多く用いられている。この場合、活性化カルボニルに対して大過剰のアミンを添加する場合が多い(非特許文献1を参照のこと)。
また、両末端が−NH基であるHN−PEG−NHは市販されているものの、PEGの分子量に関してその種類が乏しく、特にPEGの分子量が大であるものが乏しい。そのため、PEGの両末端−OH基をN,N’-カルボニルジイミダゾール及びエチレンジアミンで修飾して、種々のPEG分子量、特にPEG分子量が大であるHN−PEG−NHを調製していた(特許文献1及び非特許文献2を参照のこと)。これを、上述と同様の方法によりポリロタキサンへとさらに調製することにより、種々の分子量を有するポリロタキサンを得ていた。
WO 01/83566号公報。 P. Bulpitt, D. Aeschlimann, J. Biomed. Mater. Res., 47 (1999), 152-169。 H. Fujita, T. Ooya, N. Yui, Macromolecules 32 (1999), 2534-2541。
しかしながら、上記のアミド化反応、即ち、CDが包接されたHN−PEG−NHと−COOH基を有する封鎖基との反応において、大過剰のアミンを用いること、即ちHN−PEG−NHを大過剰で用いることは、収率上及びコスト上、好ましくない。また、反応を効率よく行うために、大過剰のカルボキシル基、即ち−COOH基を有する封鎖基を大過剰に用いる方策を採ることもできるが、この場合、活性化試薬、例えばBOP試薬(ベンゾトリアゾール-1-イル-オキシ-トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロフォスフェート)及び/又はHOBt試薬(1-ヒドロキシ-1H-ベンゾトリアゾール・モノヒドレート)が大量に必要となり、コスト上、好ましくない。
また、両末端が−NH基であるHN−PEG−NHを用いる場合、封鎖基はアミンと反応する物質、例えば−COOH基を有するものに限定される。したがって、封鎖基の選択性が限定されるか又は所望の封鎖基を得るためにさらにコストがかかる虞がある。
さらに、特許文献1及び非特許文献2の方法により、種々の分子量を有し、且つ両末端に−NH基を有するHN−PEG−NHを得ることができるが、その末端は詳細には−O−(CH−O−CO−NH−(CH−NHであった。このため、PEG部位と封鎖基との間に、ウレタン結合又はカルバメート結合(−O−CO−NH−)とアミド結合とが存在するため、化学的に不安定になる虞があった。
そこで、本発明の目的は、従来技術が有していた問題点を解決することにある。
具体的には、本発明の目的は、擬ポリロタキサンを大過剰で用いることなく、及び/又は活性化試薬を大過剰に用いることなく、収率良く且つコスト上も好ましいポリロタキサンの製造方法を提供することにある。
また、上記目的に加えて、又は上記目的の他に、本発明の目的は、従来技術が有していた問題点、即ち封鎖基の種類に関して、より選択性の幅を広げ、所望の封鎖基を有するポリロタキサン及びその製造方法を提供することにある。
さらに、上記目的に加えて、又は上記目的の他に、本発明の目的は、種々のPEG分子量を有し且つ化学的に安定な結合を有するポリロタキサン及びその製造方法を提供することにある。
具体的には、本発明の目的は、従来、封鎖基側の−COOH基とPEG側の−NH基との反応により得ていたポリロタキサンに替えて、PEG側を−COOH基とし且つ封鎖基側を該−COOHと反応する基、例えば−NH基又は−OH基とし、これらの反応により、例えば−CO−NH−Bl末端又は−CO−O−Bl末端などのPEG側の−COOH基と該−COOHと反応する基とが反応した結果得られる構造を有するポリロタキサン、及びその製造方法を提供することにある。
本発明者らは、以下の発明により、上記課題を解決できることを見出した。
<1> ポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールとシクロデキストリン分子とを混合して、複数のシクロデキストリン分子の開口部に前記カルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンを得る包接工程;及びカルボキシル基と反応する基を有する封鎖基と前記擬ポリロタキサンとを反応させて両末端に封鎖基を有するポリロタキサンを得る封鎖工程;を有するポリロタキサンの製造方法。
<2> 上記<1>において、カルボキシル基と反応する基を有する封鎖基が−NH基を有する封鎖基又は−OH基を有する封鎖基であり、ポリロタキサンの両末端はそれぞれ、−CO−NH−封鎖基又は−CO−O−封鎖基の構造を有するのがよい。
<3> ポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールとシクロデキストリン分子とを混合して、複数のシクロデキストリン分子の開口部に前記カルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンを得る包接工程;及び擬ポリロタキサンと−NH基又は−OH基を有する封鎖基とを反応させて、−CO−NH−封鎖基又は−CO−O−封鎖基の両末端を有するポリロタキサンを得る封鎖工程;を有するポリロタキサンの製造方法。
<4> 上記<1>〜<3>のいずれかにおいて、カルボキシル化ポリエチレングリコールは、ポリエチレングリコールを2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル(TEMPO)により酸化して得られるのがよい。
<5> 複数のシクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接され、該カルボキシル化ポリエチレングリコールの両末端に前記複数のシクロデキストリン分子が遊離しないように封鎖する封鎖基を有するポリロタキサンであって、前記両末端は、カルボキシル基と反応する基を有する封鎖基とカルボキシル基とが反応して得られる構造を有する、上記ポリロタキサン。
<6> 上記<5>において、カルボキシル基と反応する基を有する封鎖基が−NH基を有する封鎖基又は−OH基を有する封鎖基であり、それによって得られる構造がそれぞれ、−CO−NH−封鎖基又は−CO−O−封鎖基で表されるのがよい。
<7> 複数のシクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接され、該カルボキシル化ポリエチレングリコールの両末端に複数のシクロデキストリン分子が遊離しないように封鎖する封鎖基を有するポリロタキサンであって、両末端の封鎖基が−CO−NH−Bl基又は−CO−O−Bl基の構造を有する、上記ポリロタキサン。
<8> 2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル(TEMPO)によりポリエチレングリコールを酸化してポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールを得るカルボキシル化工程;及びカルボキシル化ポリエチレングリコールとシクロデキストリン分子とを混合して、シクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンを得る包接工程;を有する擬ポリロタキサンの製造方法。
<9> シクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンであって、カルボキシル化ポリエチレングリコールの両末端はCOOH基である擬ポリロタキサン。
<10> 2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル(TEMPO)によりポリエチレングリコールを酸化してポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールを得る、カルボキシル化ポリエチレングリコールの製造方法。
本発明により、擬ポリロタキサンを大過剰で用いることなく、及び/又は活性化試薬を大過剰に用いることなく、収率良く且つコスト上も好ましいポリロタキサンの製造方法を提供することができる。
また、上記効果に加えて、又は上記効果の他に、本発明により、封鎖基の種類に関して、より選択性の幅を広げ、所望の封鎖基を有するポリロタキサン及びその製造方法を提供することができる。
さらに、上記効果に加えて、又は上記効果の他に、本発明により、種々のPEG分子量を有し且つ化学的に安定な結合を有するポリロタキサン及びその製造方法を提供することができる。
具体的には、本発明により、従来、封鎖基側の−COOH基とPEG側の−NH基との反応により得ていたポリロタキサンに替えて、PEG側を−COOH基とし且つ封鎖基側を該−COOHと反応する基、例えば−NH基又は−OH基とし、これらの反応により、例えば−CO−NH−Bl末端又は−CO−O−Bl末端などのPEG側の−COOH基と該−COOHと反応する基とが反応した結果得られる構造を有するポリロタキサン、及びその製造方法を提供することができる。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、ポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールとシクロデキストリン分子とを混合して、複数のシクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンを得る包接工程;及びカルボキシル基と反応する基を有する封鎖基と前記擬ポリロタキサンとを反応させて、両末端に封鎖基、例えば−CO−NH−封鎖基又は−CO−O−封鎖基で表される封鎖基を有するポリロタキサンを得る封鎖工程;を有するポリロタキサンの製造方法を提供する。なお、カルボキシル基と反応する基を有する封鎖基は、−NH基を有する封鎖基又は−OH基を有する封鎖基であるのがよく、それぞれを用いることにより−CO−NH−封鎖基を有するポリロタキサン又は−CO−O−封鎖基を有するポリロタキサンを得るのがよい。
本発明のポリロタキサンの製法は、まず、ポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールとシクロデキストリン分子とを混合して、複数のシクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンを得る包接工程に付される。
本発明に用いられるポリエチレングリコール(PEG)は、その分子量が限定されず、高分子量のものであってもよい。
カルボキシル化PEG、即ちその両末端がカルボキシル化(−COOH)されているPEGは、従来より公知の方法により得られたもの、例えば過マンガン酸カリウムによる酸化、酸化マンガン/過酸化水素による酸化などによって得られたもの、無水コハク酸付加法によって得られたもの、又はブロモ酢酸エチルを付加した後にアルカリ加水分解するいわゆるカルボキシメチル化法によって得られたものなどを用いてもよい。
特に、カルボキシル化PEGは、PEGを2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル(TEMPO)により酸化して得られるものを用いるのが好ましい。
TEMPOを用いる酸化は、水に臭化ナトリウム及び次亜塩素酸ナトリウムを共存させた弱塩基性下の系、又は水−有機溶媒(例えば塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリルなど)の2相系もしくは混合系溶媒に炭酸水素ナトリウム又は臭化カリウムなどを共存させた系で行うことができる。また、圧力:大気圧下、温度:0℃〜室温などの条件で行うことができる。特に好ましいTEMPO酸化の条件は、水に臭化ナトリウム及び次亜塩素酸ナトリウムを共存させ、pHを10〜11に保持しながら、0℃〜室温、大気圧下で行うのがよい。
TEMPOを用いる酸化は、従来のカルボキシル化PEGの製法と異なり、1つの工程でカルボキシル化が行える点、修飾率が向上する点で好ましい。
カルボキシル化PEGと混合するシクロデキストリン(CD)は、各種のCDを用いることができる。例えば、α−CD、β−CD、γ−CDなどを挙げることができ、α−CDであるのが好ましい。
カルボキシル化PEGとCDとを混合する条件は、溶媒中に両者を添加し、温度:室温付近、圧力:大気圧、時間:数時間〜一昼夜、放置する条件であるのがよい。用いる溶媒は、カルボキシル化PEG及びCDを溶解する溶媒であれば、特に限定されないが、水、DMSO、DMFなどを挙げることができる。
包接工程によって得られた擬ポリロタキサンは、次いで、該擬ポリロタキサンと−NH基又は−OH基を有する封鎖基とを反応させて、−CO−NH−封鎖基又は−CO−O−封鎖基の両末端を有するポリロタキサンを得る封鎖工程に付される。
封鎖基は、カルボキシル基と反応する基、例えば−NH基又は−OH基を有し、得られるポリロタキサンのCDが串刺し状の包接状態から解放されないようにCDを封鎖する基であれば、特に限定されない。カルボキシル基と反応する基としては、−NH基又は−OH基であるのが好ましいが、これに限定されない。例えば、封鎖基は、カルボキシル基と反応する基を有する次のものを挙げることができる。ジニトロフェニル基類、アダマンタン基類、アントラセン基類、トリチル基類、シクロデキストリン類、フルオレセイン類及びピレン類、並びにこれらの誘導体基を挙げることができるが、これに限定されない。
封鎖工程の条件は、封鎖基が有するカルボキシル基と反応する基に依存して用いることができる。例えば、カルボキシル基と反応する基として−NH基又は−OH基を用いる場合、従来より公知のアミド化又はエステル化反応に用いられる条件を用いてもよい。なお、本発明において、アミド化反応を生じるカルボキシル基側が擬ポリロタキサンであり、アミノ基側が封鎖基である場合、擬ポリロタキサンを大過剰に用いる必要がないため、好ましい。また、一般のアミド化反応に用いられる活性化試薬、例えばBOP試薬及び/又はHOBt試薬についても大過剰に用いる必要がないため、好ましい。
上記の方法により、本発明は、複数のシクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接され、該カルボキシル化ポリエチレングリコールの両末端に複数のシクロデキストリン分子が遊離しないように封鎖する封鎖基を有するポリロタキサンであって、前記両末端は、カルボキシル基と反応する基を有する封鎖基とカルボキシル基とが反応して得られる構造を有するポリロタキサンを提供することができる。なお、カルボキシル基と反応する基を有する封鎖基として−NH基を有する封鎖基又は−OH基を有する封鎖基を用いるのがよく、この場合、得られるポリロタキサンの両末端が−CO−NH−Bl基又は−CO−O−Bl基の構造を有することができる。
ここで、シクロデキストリン分子、カルボキシル化PEG、及び封鎖基は、上述した通りである。また、「−CO−NH−Bl基」又は「−CO−O−Bl基」の「Bl」は、−NH基又は−OH基を有する封鎖基の−NH基又は−OH基以外の部位を意味する。
また、本発明は、ポリロタキサンの中間体である擬ポリロタキサン、及びその製造方法も提供する。
即ち、本発明の擬ポリロタキサンは、シクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンであって、カルボキシル化ポリエチレングリコールの両末端がCOOH基であることに特徴を有する。
また、本発明の擬ポリロタキサンの製造方法は、カルボキシル化ポリエチレングリコールとシクロデキストリン分子とを混合して、シクロデキストリン分子の開口部に前記カルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンを得る包接工程;を有する。特に、本発明の擬ポリロタキサンの製造方法は、カルボキシル化ポリエチレングリコールが2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル(TEMPO)によりポリエチレングリコールを酸化することにより、ポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールを得るのがよい。
さらに、本発明は、ポリロタキサンの中間体、擬ポリロタキサン、の主要部位である、カルボキシル化ポリエチレングリコールの製造方法をも提供する。即ち、本発明のカルボキシル化ポリエチレングリコールの製造方法は、2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル(TEMPO)によりポリエチレングリコールを酸化してポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールを得る。なお、この製法の条件等については、上述した通りである。
以下、実施例に基づいて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は本実施例に限定されるものではない。
<PEGのTEMPO酸化によるPEG−カルボン酸の調製>
PEG(分子量2万または3.5万)10g、TEMPO(2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル)100mg、及び臭化ナトリウム1gを水100mlに溶解した。得られた溶液に市販の次亜塩素酸ナトリウム水溶液(有効塩素濃度約5%)5mlを添加し、室温で攪拌しながら反応させた。反応が進行すると添加直後から系のpHは急激に減少するが、なるべくpH:10〜11を保つように1N NaOHを添加して調製した。pHの低下は概ね3分以内に見られなくなったが、さらに10分間攪拌した。エタノールを最大5mlまでの範囲で添加して反応を終了させた。塩化メチレン50mlでの抽出を3回繰返して無機塩以外の成分を抽出した後、エバポレータで塩化メチレンを留去した。温エタノール250mlに溶解させた後、−4℃の冷凍庫に一晩おいてPEG−カルボン酸のみを析出させた。析出したPEG−カルボン酸を遠心分離で回収した。この温エタノール溶解−析出−遠心分離のサイクルを数回繰り返し、最後に真空乾燥で乾燥させてPEG−カルボン酸を得た。収率95%以上。カルボキシル化率95%以上。
<PEG−カルボン酸とα−CDとを用いた包接錯体の調製>
上記で調製したPEG−カルボン酸3g及びα−CD12gをそれぞれ別々に用意した70℃の温水50mlに溶解させた後、両者を混合し、その後、冷蔵庫(4℃)中で一晩静置した。クリーム状に析出した包接錯体を凍結乾燥し回収した。収率90%以上(収量約14g)。
<アダマンタンアミンとBOP試薬反応系を用いた包接錯体の封鎖>
室温でジメチルホルムアミド(DMF)50mlにアダマンタンアミン0.13gを溶解し、上記で得られた包接錯体14gに添加した後、すみやかによく振りまぜた。続いて、BOP試薬(ベンゾトリアゾール-1-イル-オキシ-トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロフォスフェート)0.38gをDMF25mlに溶解したものを添加し、同様によく振りまぜた。さらに、ジイソプロピルエチルアミン0.14mlをDMF25mlに溶解したものを添加し、同様によく振り混ぜた。得られた混合物を冷蔵庫中で一晩静置した。その後、DMF/メタノール=1:1混合溶液100mlを加えてよく混ぜ、遠心分離して上澄みを捨てた。このDMF/メタノール混合溶液による洗浄を2回繰り返した後、さらにメタノール100mlを用いた洗浄を同様の遠心分離により2回繰り返した。得られた沈澱を真空乾燥した後、ジメチルスルホキシド(DMSO)50mlに溶解し、得られた透明な溶液を水700ml中に滴下してポリロタキサンを析出させた。析出したポリロタキサンを遠心分離で回収し、真空乾燥又は凍結乾燥させた。このDMSO溶解−水中で析出−回収−乾燥のサイクルを2回繰り返し、最終的に精製ポリロタキサンを得た。添加した包接錯体をベースにした収率約68%(包接錯体14gからの収量は、分子量3.5万のPEGの場合9.6g)であった。
<シクロデキストリンとBOP試薬反応系を用いた包接錯体の封鎖>
室温でDMF50mlに、BOP試薬3g、HOBt1g、シクロデキストリン3.0g、ジイソプロピルエチルアミン1.25mlをこの順番で溶解させた。これに、実施例1で得られた包接錯体14gを添加した後、速やかによく振り混ぜた。スラリー状になった試料を冷蔵庫中で一晩静置した。その後、DMF/メタノール=1:1混合溶液50mlを加えてよく混ぜ、遠心分離して上澄みを捨てた。このDMF/メタノール混合溶液による洗浄を2回繰り返した後、さらにメタノール100mlを用いた洗浄を同様の遠心分離により2回繰り返した。得られた沈澱を真空乾燥した後、DMSO50mlに溶解し、得られた透明な溶液を水700ml中に滴下してポリロタキサンを析出させた。析出したポリロタキサンを遠心分離で回収し、真空乾燥又は凍結乾燥させた。このDMSO溶解−水中で析出−回収−乾燥のサイクルを2回繰り返し、最終的に精製ポリロタキサンを得た。添加した包接錯体をベースにした収率約57%(包接錯体14gからの収量は、分子量3.5万のPEGの場合8.0g)であった。

Claims (8)

  1. ポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールとシクロデキストリン分子とを混合して、複数のシクロデキストリン分子の開口部に前記カルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンを得る包接工程;及びカルボキシル基と反応する基を有する封鎖基と前記擬ポリロタキサンとを反応させて両末端に封鎖基を有するポリロタキサンを得る封鎖工程;を有するポリロタキサンの製造方法。
  2. ポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールとシクロデキストリン分子とを混合して、複数のシクロデキストリン分子の開口部に前記カルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンを得る包接工程;及び前記擬ポリロタキサンと−NH基又は−OH基を有する封鎖基とを反応させて、−CO−NH−封鎖基又は−CO−O−封鎖基の両末端を有するポリロタキサンを得る封鎖工程;を有するポリロタキサンの製造方法。
  3. 前記カルボキシル化ポリエチレングリコールは、ポリエチレングリコールを2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル(TEMPO)により酸化して得られる請求項1又は2記載の方法。
  4. 複数のシクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接され、該カルボキシル化ポリエチレングリコールの両末端に前記複数のシクロデキストリン分子が遊離しないように封鎖する封鎖基を有するポリロタキサンであって、前記両末端は、カルボキシル基と反応する基を有する封鎖基とカルボキシル基とが反応して得られる構造を有する、上記ポリロタキサン。
  5. 複数のシクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接され、該カルボキシル化ポリエチレングリコールの両末端に前記複数のシクロデキストリン分子が遊離しないように封鎖する封鎖基を有するポリロタキサンであって、前記両末端の封鎖基が−CO−NH−Bl基又は−CO−O−Bl基の構造を有する、上記ポリロタキサン。
  6. 2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル(TEMPO)によりポリエチレングリコールを酸化してポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールを得るカルボキシル化工程;及び前記カルボキシル化ポリエチレングリコールとシクロデキストリン分子とを混合して、シクロデキストリン分子の開口部に前記カルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンを得る包接工程;を有する擬ポリロタキサンの製造方法。
  7. シクロデキストリン分子の開口部にカルボキシル化ポリエチレングリコールが串刺し状に包接されてなる擬ポリロタキサンであって、前記カルボキシル化ポリエチレングリコールの両末端はCOOH基である擬ポリロタキサン。
  8. 2,2,6,6-テトラメチル-1-ピペリジニルオキシラジカル(TEMPO)によりポリエチレングリコールを酸化してポリエチレングリコールの両末端がカルボキシル化されたカルボキシル化ポリエチレングリコールを得る、カルボキシル化ポリエチレングリコールの製造方法。
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Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007026577A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Nissan Motor Co., Ltd. 疎水性直鎖状分子ポリロタキサン及び架橋ポリロタキサン
JP2007070553A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Tokyo Institute Of Technology 擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンの製造方法
WO2007097365A1 (ja) 2006-02-23 2007-08-30 Lintec Corporation 粘着剤組成物およびこれを用いた粘着シート
JP2007254570A (ja) * 2006-03-23 2007-10-04 Lintec Corp 擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンの製造方法
JP2007262402A (ja) * 2006-03-03 2007-10-11 Univ Of Tokyo 液晶性ポリロタキサン
JP2008019371A (ja) * 2006-07-14 2008-01-31 Lintec Corp ポリロタキサンおよびポリロタキサンの製造方法
JP2009013253A (ja) * 2007-07-03 2009-01-22 Lintec Corp ポリロタキサンの製造方法
JP2009040872A (ja) * 2007-08-08 2009-02-26 Lintec Corp アシル化ロタキサンおよびその製造方法
JP2009204725A (ja) * 2008-02-26 2009-09-10 Fujifilm Corp ハードコートフィルム、偏光板、および画像表示装置
WO2010067745A1 (ja) 2008-12-10 2010-06-17 リンテック株式会社 粘着シート
WO2010067744A1 (ja) 2008-12-10 2010-06-17 リンテック株式会社 粘着剤組成物及び粘着シート
WO2010079681A1 (ja) * 2009-01-08 2010-07-15 リンテック株式会社 高分子架橋体および高分子架橋体の製造方法
JP2012025923A (ja) * 2010-07-28 2012-02-09 Univ Of Tokyo ポリロタキサンの合成方法及び新規ポリロタキサン
WO2012081432A1 (ja) 2010-12-16 2012-06-21 住友精化株式会社 精製ポリロタキサンの製造方法
JP2012162737A (ja) * 2012-04-26 2012-08-30 Lintec Corp 粘着シート
WO2012124219A1 (ja) 2011-03-14 2012-09-20 住友精化株式会社 ポリロタキサン組成物
JP2013140028A (ja) * 2011-12-28 2013-07-18 Neos Co Ltd 放射性物質吸着除去材料
JP2013178152A (ja) * 2012-02-28 2013-09-09 Neos Co Ltd 放射性物質吸着除去材料
WO2013147301A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 宇部興産株式会社 ブロック基を有するポリロタキサンの製造方法
WO2014045921A1 (ja) 2012-09-19 2014-03-27 住友精化株式会社 ポリロタキサンの製造方法
WO2014112234A1 (ja) 2013-01-21 2014-07-24 住友精化株式会社 軟質材料用組成物及び軟質材料
WO2014196636A1 (ja) 2013-06-07 2014-12-11 アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社 ポリロタキサン、並びにオキシラン基及び/又はオキセタン基を2以上有する化合物を有する架橋用組成物
WO2015052931A1 (en) 2013-10-10 2015-04-16 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Electorically conductive film
WO2015064308A1 (ja) 2013-10-31 2015-05-07 住友精化株式会社 ポリロタキサン含有組成物
WO2016084345A1 (en) 2014-11-27 2016-06-02 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Sheet-shaped stretchable structure, and resin composition for stretchable resin sheet and stretchable resin sheet used for the structure
KR101840504B1 (ko) * 2010-12-16 2018-03-20 스미또모 세이까 가부시키가이샤 유사 폴리로탁산 수성 분산체의 제조 방법
US9938382B2 (en) 2010-12-16 2018-04-10 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Method for producing pseudopolyrotaxane
US11345784B2 (en) 2018-11-09 2022-05-31 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition, and resin film, metal foil with resin, metal clad laminate, wiring board, and circuit mount component using same
US11401369B2 (en) 2019-12-26 2022-08-02 Sumitomo Rubber Industries, Ltd. Rotaxane, crosslinked product of rotaxane, and methods for producing the same

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101231292B1 (ko) * 2005-02-21 2013-02-07 도꾜 다이가꾸 폴리로탁산 및 중합체를 갖는 재료, 및 그의 제조 방법
JP4521875B2 (ja) * 2005-08-31 2010-08-11 日産自動車株式会社 疎水性修飾ポリロタキサン
WO2007058247A1 (ja) * 2005-11-17 2007-05-24 Daikin Industries, Ltd. フルオロポリエーテル分子の包接化合物
CN100460446C (zh) * 2006-03-14 2009-02-11 四川大学 自聚集超分子形状记忆材料及其制备方法
KR101504771B1 (ko) 2007-03-06 2015-03-20 아도반스토 소후토 마테리아루즈 가부시키가이샤 폴리로탁산 및 폴리로탁산을 갖는 재료, 가교 폴리로탁산 및 상기 가교 폴리로탁산을 갖는 재료, 및 이들의 제조 방법
JP5250796B2 (ja) * 2008-03-06 2013-07-31 株式会社不二製作所 ゲル状研磨材の製造方法及びゲル状研磨材
EP2287206B1 (en) 2008-05-30 2014-01-01 Advanced Softmaterials Inc. Polyrotaxane, aqueous polyrotaxane dispersion composition, crosslinked body of polyrotaxane and polymer and method for producing the same
US8785552B2 (en) 2008-09-01 2014-07-22 Advanced Softmaterials Inc. Solvent-free crosslinked polyrotaxane material and process for production of same
JP5569893B2 (ja) * 2008-11-12 2014-08-13 リンテック株式会社 修飾擬ポリロタキサンおよび修飾ポリロタキサンの製造方法
JP5907646B2 (ja) 2009-02-16 2016-04-26 日産自動車株式会社 微粒子−ポリロタキサン含有塗料、微粒子−ポリロタキサン含有塗膜及び塗装物品
CN103221431B (zh) * 2010-12-16 2016-06-08 住友精化株式会社 准聚轮烷的制造方法
WO2012124218A1 (ja) 2011-03-14 2012-09-20 住友精化株式会社 親水性修飾ポリロタキサンの製造方法
ES2621975T3 (es) 2011-03-14 2017-07-05 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Composición de polirrotaxano hidrófilo modificado
CA2829862C (en) 2011-03-14 2017-10-24 Advanced Softmaterials Inc PROCESS FOR THE PRODUCTION OF POWDERED HYDROPHILIC MODIFIED POLYROTAXANE
CN103102492B (zh) * 2013-03-07 2016-01-20 天津工业大学 一种基于环糊精的聚轮烷制造方法
EP3070142B1 (en) * 2013-11-11 2019-05-22 Tokuyama Corporation Photochromic composition
JP6369788B2 (ja) 2014-11-27 2018-08-08 パナソニックIpマネジメント株式会社 エレクトロニクス用構造体
US10308772B2 (en) 2015-01-09 2019-06-04 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Method for producing pseudopolyrotaxane aqueous dispersion
CN105153909B (zh) * 2015-09-23 2017-07-25 上海贻赛新材料科技有限公司 一种高柔韧性pu涂料及其制备方法
JP6613812B2 (ja) * 2015-10-29 2019-12-04 住友ゴム工業株式会社 ゴルフボール
JPWO2017188376A1 (ja) * 2016-04-27 2018-12-20 国立大学法人大阪大学 ポリロタキサンの製造方法
JP7133227B2 (ja) 2017-06-06 2022-09-08 株式会社Asm 環状分子にポリアルキレンオキシド鎖又はその誘導体を有する置換基を有するポリロタキサン及びその製造方法
WO2019067786A1 (en) 2017-09-29 2019-04-04 The Regents Of The University Of California MULTI-ARM POLYROTAXANE PLATFORM FOR PROTECTED ADMINISTRATION OF NUCLEIC ACIDS
CN107474162B (zh) * 2017-10-09 2019-07-19 重庆科技学院 一种通用型凝胶类聚轮烷交联剂及其制备方法
CN112654562B (zh) * 2018-07-20 2023-06-02 赫尔克里士有限公司 水溶性或水分散性组合物
EP3845567A4 (en) 2018-08-27 2022-05-04 ASM Inc. POLYROTAXANE, THERMALLY CURABLE COMPOSITION WITH SAID POLYROTAXANE, THERMALLY CURED CROSSLINKED ARTICLE, METHOD OF MAKING POLYROTAXANE AND METHOD OF MAKING A THERMALLY CURED CROSSLINKED ARTICLE
US11230497B2 (en) 2019-04-10 2022-01-25 Saudi Arabian Oil Company Cement additives
US11279864B2 (en) 2019-10-04 2022-03-22 Saudi Arabian Oil Company Method of application of sliding-ring polymers to enhance elastic properties in oil-well cement
JP2021178909A (ja) 2020-05-13 2021-11-18 株式会社Asm 環状分子にプロピレンオキシ繰り返し単位を有して形成される鎖を有する基を有するポリロタキサン
US11688689B2 (en) 2021-05-06 2023-06-27 Micron Technology, Inc. Electronic devices including stair step structures, and related memory devices, systems, and methods
CN113527545B (zh) * 2021-08-19 2022-05-17 北京理工大学 一种具有准确穿嵌量的β-环糊精聚轮烷、制备方法及其应用
US11858039B2 (en) 2022-01-13 2024-01-02 Saudi Arabian Oil Company Direct ink printing of multi-material composite structures

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5256819A (en) * 1992-12-24 1993-10-26 Shell Oil Company Preparation of polyoxyalkylene-alpha,omega-dicarboxylic acids
JP3538744B2 (ja) 1996-05-09 2004-06-14 独立行政法人 科学技術振興機構 刺激応答型超分子集合体
JP2972861B2 (ja) * 1997-05-08 1999-11-08 北陸先端科学技術大学院大学長 超分子構造の血液適合性材料
US6113880A (en) * 1997-12-17 2000-09-05 Schering Aktiengesellschaft Polyrotaxane derivatives for x-ray and nuclear magnetic resonance imaging
JP3547616B2 (ja) 1998-05-11 2004-07-28 独立行政法人 科学技術振興機構 超分子埋植材料
WO2001083566A1 (fr) * 2000-04-28 2001-11-08 Center For Advanced Science And Technology Incubation, Ltd. Compose contenant du polyrotaxane reticule

Cited By (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7893168B2 (en) 2005-08-31 2011-02-22 Nissan Motor Co., Ltd. Hydrophobic linear polyrotaxane molecule and crosslinked polyrotaxane
WO2007026577A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Nissan Motor Co., Ltd. 疎水性直鎖状分子ポリロタキサン及び架橋ポリロタキサン
JP2007070553A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Tokyo Institute Of Technology 擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンの製造方法
WO2007097365A1 (ja) 2006-02-23 2007-08-30 Lintec Corporation 粘着剤組成物およびこれを用いた粘着シート
JP2007224133A (ja) * 2006-02-23 2007-09-06 Lintec Corp 粘着剤組成物およびこれを用いた粘着シート
JP2007262402A (ja) * 2006-03-03 2007-10-11 Univ Of Tokyo 液晶性ポリロタキサン
JP2007254570A (ja) * 2006-03-23 2007-10-04 Lintec Corp 擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンの製造方法
JP2008019371A (ja) * 2006-07-14 2008-01-31 Lintec Corp ポリロタキサンおよびポリロタキサンの製造方法
JP2009013253A (ja) * 2007-07-03 2009-01-22 Lintec Corp ポリロタキサンの製造方法
JP2009040872A (ja) * 2007-08-08 2009-02-26 Lintec Corp アシル化ロタキサンおよびその製造方法
JP2009204725A (ja) * 2008-02-26 2009-09-10 Fujifilm Corp ハードコートフィルム、偏光板、および画像表示装置
WO2010067745A1 (ja) 2008-12-10 2010-06-17 リンテック株式会社 粘着シート
WO2010067744A1 (ja) 2008-12-10 2010-06-17 リンテック株式会社 粘着剤組成物及び粘着シート
WO2010079681A1 (ja) * 2009-01-08 2010-07-15 リンテック株式会社 高分子架橋体および高分子架橋体の製造方法
JP2012025923A (ja) * 2010-07-28 2012-02-09 Univ Of Tokyo ポリロタキサンの合成方法及び新規ポリロタキサン
KR101840504B1 (ko) * 2010-12-16 2018-03-20 스미또모 세이까 가부시키가이샤 유사 폴리로탁산 수성 분산체의 제조 방법
JP6111072B2 (ja) * 2010-12-16 2017-04-05 住友精化株式会社 精製ポリロタキサンの製造方法
US9068051B2 (en) 2010-12-16 2015-06-30 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Method for producing refined polyrotaxane
JPWO2012081432A1 (ja) * 2010-12-16 2014-05-22 住友精化株式会社 精製ポリロタキサンの製造方法
WO2012081432A1 (ja) 2010-12-16 2012-06-21 住友精化株式会社 精製ポリロタキサンの製造方法
US9938382B2 (en) 2010-12-16 2018-04-10 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Method for producing pseudopolyrotaxane
KR101840505B1 (ko) * 2010-12-16 2018-03-20 스미또모 세이까 가부시키가이샤 정제 폴리로탁산의 제조 방법
WO2012124219A1 (ja) 2011-03-14 2012-09-20 住友精化株式会社 ポリロタキサン組成物
JP6013319B2 (ja) * 2011-03-14 2016-10-25 住友精化株式会社 ポリロタキサン組成物
US9266972B2 (en) 2011-03-14 2016-02-23 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Polyrotaxane composition
JP2013140028A (ja) * 2011-12-28 2013-07-18 Neos Co Ltd 放射性物質吸着除去材料
JP2013178152A (ja) * 2012-02-28 2013-09-09 Neos Co Ltd 放射性物質吸着除去材料
WO2013147301A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 宇部興産株式会社 ブロック基を有するポリロタキサンの製造方法
JPWO2013147301A1 (ja) * 2012-03-30 2015-12-14 宇部興産株式会社 ブロック基を有するポリロタキサンの製造方法
JP2012162737A (ja) * 2012-04-26 2012-08-30 Lintec Corp 粘着シート
US9487630B2 (en) 2012-09-19 2016-11-08 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Method for manufacturing polyrotaxane
KR102049137B1 (ko) 2012-09-19 2020-01-08 스미또모 세이까 가부시키가이샤 폴리로탁산의 제조 방법
WO2014045921A1 (ja) 2012-09-19 2014-03-27 住友精化株式会社 ポリロタキサンの製造方法
JP5604610B2 (ja) * 2012-09-19 2014-10-08 住友精化株式会社 ポリロタキサンの製造方法
KR20150058290A (ko) 2012-09-19 2015-05-28 스미또모 세이까 가부시키가이샤 폴리로탁산의 제조 방법
WO2014112234A1 (ja) 2013-01-21 2014-07-24 住友精化株式会社 軟質材料用組成物及び軟質材料
WO2014196636A1 (ja) 2013-06-07 2014-12-11 アドバンスト・ソフトマテリアルズ株式会社 ポリロタキサン、並びにオキシラン基及び/又はオキセタン基を2以上有する化合物を有する架橋用組成物
US9839119B2 (en) 2013-10-10 2017-12-05 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Electrically conductive film
WO2015052931A1 (en) 2013-10-10 2015-04-16 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Electorically conductive film
WO2015052853A1 (en) 2013-10-10 2015-04-16 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition and film using same
US9468092B2 (en) 2013-10-10 2016-10-11 Panasonic intellectual property Management co., Ltd Electrically conductive film
WO2015052932A1 (en) 2013-10-10 2015-04-16 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Electorically conductive film
US10009994B2 (en) 2013-10-10 2018-06-26 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition and film using same
US10791624B2 (en) 2013-10-10 2020-09-29 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition and film using same
WO2015064308A1 (ja) 2013-10-31 2015-05-07 住友精化株式会社 ポリロタキサン含有組成物
WO2016084345A1 (en) 2014-11-27 2016-06-02 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Sheet-shaped stretchable structure, and resin composition for stretchable resin sheet and stretchable resin sheet used for the structure
US10299379B2 (en) 2014-11-27 2019-05-21 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Sheet-shaped stretchable structure, and resin composition for stretchable resin sheet and stretchable resin sheet used for the structure
US10966317B2 (en) 2014-11-27 2021-03-30 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Sheet-shaped stretchable structure, and resin composition for stretchable resin sheet and stretchable resin sheet used for the structure
US11345784B2 (en) 2018-11-09 2022-05-31 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Resin composition, and resin film, metal foil with resin, metal clad laminate, wiring board, and circuit mount component using same
US11401369B2 (en) 2019-12-26 2022-08-02 Sumitomo Rubber Industries, Ltd. Rotaxane, crosslinked product of rotaxane, and methods for producing the same

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