JPWO2017188376A1 - ポリロタキサンの製造方法 - Google Patents

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Abstract

少ない工程数、かつ、短時間でポリロタキサンを高い収率で得ることを可能とするポリロタキサンの製造方法を提供する。本発明に係るポリロタキサンの製造方法は、直鎖状分子が環状分子の開口部を貫通した構造を有するポリロタキサンの製造方法であって、前記直鎖状分子と前記環状分子とを含む出発原料を、前記直鎖状分子の融解温度以上に加熱することによって、前記直鎖状分子と前記環状分子との包接化合物を得る加熱工程を具備する。

Description

本発明は、ポリロタキサンの製造方法に関する。
ポリロタキサンは、直鎖状分子が環状分子の開口部を貫通して串刺し状に包接された構造を有し、超分子の一種として知られる材料である。ポリロタキサンは、複数の環状分子が直鎖状分子によって貫通されて形成される包接化合物によって形成される。この包接化合物を構成する直鎖状分子の両末端は、かさ高い置換基(封鎖基)を有している。このような封鎖基の存在によって、環状分子が直鎖状分子の末端から遊離することが防止され得る。
ポリロタキサンは、多種多様な特性を有することから、例えば、種々の材料に導入されることで、従来には無い高機能特性が発揮される。そのため、ポリロタキサンの利用価値は極めて高いと考えられており、近年、その研究が盛んに進められている。例えば特許文献1には、ポリロタキサン分子間の環状分子どうしを、ホスト−ゲスト相互作用等による可逆的結合によって架橋させる技術が開示されており、このようなポリロタキサンを骨格とした三次元網目構造を有する高分子材料が、優れた自己修復特性等を有することも開示されている。その他、ポリロタキサン内の環状分子(例えば、シクロデキストリン)どうしを結合することにより、チューブ状の分子として得られることも知られている。
上記のようなポリロタキサンとしては、例えば、直鎖状分子がポリエチレングリコール(PEG)、環状分子がα−シクロデキストリン(αCD)で構成されることが知られている。このようなポリロタキサンは、一般的には、αCDの飽和水溶液とPEGとを混合することによりαCDがPEGとの包接化合物を形成する工程を経て合成されることが知られている(例えば、非特許文献1等を参照)。
国際公開第2016/006413号
Nature 356, 325 (1992)
しかしながら、上記非特許文献1に開示されているポリロタキサンの製造方法では、溶媒として水を多量に用いて室温付近で反応を行うため、その後の工程では水を除かなければならないという制約があり、工程数が桑めて多くなり、製造に時間と手間を要するものであった。また、環状分子と直鎖状分子とを混合して包接化合物を調製するにあたって、多くの水を使用するので、反応媒体が嵩高くなり、大量生産という観点からも課題を有するものであった。このような観点から、少ない工程数で、かつ、短時間でポリロタキサンを高収率で得ることが望まれていた。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、少ない工程数、かつ、短時間でポリロタキサンを高い収率で得ることを可能とするポリロタキサンの製造方法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、環状分子と直鎖状分子とを特定の温度で加熱することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、例えば以下の項に記載の主題を包含する。
項1.直鎖状分子が環状分子の開口部を貫通した構造を有するポリロタキサンの製造方法であって、
前記直鎖状分子と前記環状分子とを含む出発原料を、前記直鎖状分子の融解温度以上に加熱することによって、前記直鎖状分子と前記環状分子との包接化合物を得る加熱工程を具備する、ポリロタキサンの製造方法。
項2.上記包接化合物と、封鎖分子とを反応させて、前記包接化合物における前記直鎖状分子の末端に封鎖基を導入する工程を含む、上記項1に記載のポリロタキサンの製造方法。
項3.前記出発原料に溶剤を添加する工程を含む、上記項1又は2に記載のポリロタキサンの製造方法。
項4.前記環状分子がα−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン及びγ−シクロデキストリンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、上記項1〜3のいずれか1項に記載のポリロタキサンの製造方法。
本発明に係るポリロタキサンの製造方法によれば、少ない工程数、かつ、短時間でポリロタキサンを高い収率で得ることができる。
ポリロタキサンの製造スキームの一例を説明する模式図である。 実施例1〜3で得られた粉末の粉末X線回折測定結果を示す。 実施例1,4〜7で得られた各包接化合物において、加熱温度と収量との関係を示すグラフである。 実施例1〜3で得られた包接化合物の収率を示すグラフである。
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、本明細書中において、「含有」及び「含む」なる表現については、「含有」、「含む」、「実質的にからなる」及び「のみからなる」という概念を含む。
本発明は、直鎖状分子が環状分子の開口部を貫通した構造を有するポリロタキサンの製造方法であり、特に、前記直鎖状分子と前記環状分子とを含む出発原料を、前記直鎖状分子の融解温度以上に加熱することによって、前記直鎖状分子と前記環状分子との包接化合物を得る加熱工程を具備する。当該実施形態の製造方法によれば、少ない工程数、かつ、短時間でポリロタキサンを高い収率で得ることができる。
上記ポリロタキサンは、回転子(rotor)と軸(axle)とが組み合わさった分子(rotaxane)を含む構造を有することで知られている。具体的にポリロタキサンは、直鎖状分子に複数の環状分子が串刺し状に嵌まり込んだ構造を有している。
本実施形態の製造方法において、出発原料は、直鎖状分子と環状分子とを少なくとも含む。
直鎖状分子は、上記環状分子の環内を貫通し得るものである限りは、特にその種類は限定されない。例えば、従来からポリロタキサンの直鎖状分子として使用されている材料と同じ材料を直鎖状分子とすることができる。
上記直鎖状分子としては、例えば、ポリアルキレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアミン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアクリル系樹脂等が例示され、その他、主鎖にベンゼン環を有する直鎖状分子を挙げることができる。直鎖状分子は、イオン性高分子であってもよいし、あるいは、非イオン性高分子であってもよい。また、直鎖状分子は、親水性及び疎水性のいずれであってもよい。
具体的な直鎖状分子としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンオキサイド、ポリエチルビニルエーテル、ポリメチルビニルエーテル、ポリn−プロピルビニルエーテル、ポリオキシトリメチレン、ポリテトラヒドロフラン、ポリカプロラクトン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアセタール、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン等が挙げられる。もちろん、上記例示列挙した直鎖状分子に限定されず、その他の種類のポリマーを直鎖状分子として使用することができる。
直鎖状分子末端が有する官能基の種類は特に限定されず、後に述べるように、両末端に封鎖基を導入しやすいという観点から、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、アミド基が例示される。
直鎖状分子は、環状分子の環内を貫通できるように構成されている限りは、分岐鎖を有していてもよい。
さらに、直鎖状分子の重量平均分子量Mwは特に制限はないが、例えば、3000〜500000であることが好ましい。この場合、直鎖状分子を融解温度以上に加熱させやすく、直鎖状分子と環状分子との包接化合物が形成されやすくなる。また、直鎖状分子の重量平均分子量Mwが上記範囲であれば、ポリロタキサンの生産安定性も向上しやすい。尚、本明細書でいう重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリエチレングリコール換算値である。
出発原料には1種のみの直鎖状分子が含まれていてもよいし、あるいは、異なる2種以上の直鎖状分子が含まれていてもよい。
環状分子としては、従来からポリロタキサンに使用される化合物であれば特に限定されない。例えば、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、ジメチルシクロデキストリン、グルコシルシクロデキストリン及びこれらの誘導体又は変性体等のシクロデキストリン類、その他、環状のオリゴマー等が挙げられる。環状のオリゴマーとしては、例えば、エチレングリコールのオリゴマー、エチレンオキシドのオリゴマー、プロピレングリコールのオリゴマー、多糖類等である。環状分子は、1種を単独で又は異なる2種以上を組み合わせて、ポリロタキサンに使用することができる。もちろん、上記例示列挙した環状分子に限定されず、その他の種類の環状分子を使用してもよい。
環状分子は、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン及びγ−シクロデキストリンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましく、この場合、直鎖状分子と環状分子との包接化合物の形成がされやすく、生産安定性に優れる。
出発原料には1種のみの環状分子が含まれていてもよいし、あるいは、異なる2種以上の環状分子が含まれていてもよい。
出発原料に含まれる直鎖状分子と環状分子との配合割合は特に限定されない。包接化合物が形成されやすいという観点から、直鎖状分子1モルに環状分子1〜50モルが好ましく、直鎖状分子1モルに環状分子1〜30モルがより好ましく、直鎖状分子1モルに環状分子1〜20モルが特に好ましい。
出発原料の調整方法は特に限定的ではなく、直鎖状分子と環状分子とを所定の配合量で混合することで調整すればよい。混合方法も特に制限されない。
出発原料は、直鎖状分子及び環状分子のみで構成されていてもよいし、あるいは、本発明の効果が阻害されない程度であれば、直鎖状分子及び環状分子以外の材料が含まれていてもよい。直鎖状分子及び環状分子以外の材料としては、例えば、後述する溶剤が挙げられる。
加熱工程では、上記出発原料を、直鎖状分子の融解温度以上に加熱する。この加熱によって、直鎖状分子と環状分子との包接化合物が得られる。
ここでいう直鎖状分子の融解温度とは、例えば、示差走査熱量測定(DSC)によって測定された融解温度の値をいう。
加熱工程において、直鎖状分子を融解温度以上に加熱すると、直鎖状分子が融解し始めて、液状へと形態が変化し始める。この液状中において、直鎖状分子と環状分子との包接化合物、すなわち、直鎖状分子が複数の環状分子の環状内を順次貫通して包接化合物が形成される。従って、融解温度以上に加熱されて融解した直鎖状分子が、包接化合物を形成するための媒体ともなり得るものである。
加熱工程において、上記加熱温度の下限は、直鎖状分子の融解温度以上である限り、特に制限はない。例えば、加熱温度の下限は、直鎖状分子の融解温度よりも10℃以上高いことが好ましく、20℃以上高いことがより好ましく、30℃以上高いことがさらに好ましく、40℃以上高いことが特に好ましい。なお、「融解温度よりもX℃以上高い」とは、融解温度に幅がある場合(例えば、ポリエチレングリコールは、融解温度45−55℃の幅がある)は、その幅の最小値に対してX℃以上高いことを示す。
さらなる具体例として、例えば、直鎖状分子が融解温度45−55℃のポリエチレングリコールである場合、加熱温度の下限は、90℃であることが好ましく、110℃であることがより好ましく、115℃であることが特に好ましい。
また、加熱工程において、上記加熱温度の上限は、直鎖状分子の融解温度以上であって、直鎖状分子が分解しない温度であれば、特に制限はなく、例えば、200℃以下である。直鎖状分子が融解温度45−55℃のポリエチレングリコールである場合、上記加熱温度の上限温度は200℃であることが好ましく、150℃であることがより好ましく、120℃であることが特に好ましい。
加熱の方法は特に限定的でなく、一般に有機反応等の合成で使用されている公知の加熱手段を採用することができる。
加熱工程は、大気圧下、加圧下及び減圧下のいずれの条件でも行うことができる。反応工程をより簡便にでき、安定した包接化合物が得られやすいという観点からは、大気圧下で行うことが好ましい。
出発原料を加熱するにあたっては、出発原料を撹拌等してもよい。あるいは、静置させた状態で出発原料を加熱してもよい。直鎖状分子と環状分子との包接化合物がより速やかに形成されて、包接化合物の収率がより高まるという観点からは、出発原料に対して撹拌等のせん断応力を与えながら加熱することが好ましい。
例えば、直鎖状分子の融解温度以上で加熱した出発原料を撹拌機等で撹拌しながら加熱する方法、直鎖状分子の融解温度以上で加熱した出発原料を振とう機で振とうしながら加熱する方法、直鎖状分子の融解温度以上で加熱した出発原料をミル等で混合しながら加熱する方法、等が挙げられる。これらの中でも、包接化合物がより速やかに形成されやすく、全反応時間をより短縮することができ、収率も向上するという観点から、ミル等で混合しながら加熱する方法が好ましい。ミルの種類は、特に限定されず、例えば、市販されているミル、例えば、ボールミル、遊星ボールミル、ビーズミル等を広く使用することができる。
加熱工程における加熱時間は特に制限はなく、所望の包接量とすべく、適宜調節することができる。加熱工程における加熱時間は、反応工程全体にかかる時間をより短縮させるという観点から、1〜48時間が好ましく、1〜24時間がより好ましい。原料の種類によっては加熱時間を8時間程度とすることもできる。
上記加熱工程によって包接化合物が沈殿物として得られる。この包接化合物の合成の確認は、例えば、粉末X線回折測定により判断することができる。具体的には、包接化合物が形成されると、環状分子がチャネル状に並んだ構造を形成し得るので、この構造に特有のピークの有無によって、包接化合物の合成の確認を行うことができる。
包接化合物において、直鎖状分子に串刺し状にされる環状分子の個数、すなわち、一つの直鎖状分子が貫通する環状分子の個数(包接量ともいう)には特に制限はないが、環状分子がシクロデキストリンであれば、その最大包接量を1とすると、包接量の下限値は0.15であることが好ましい。包接量の上限値は0.70であることが好ましく、0.60であることがより好ましく、0.50であることがより好ましく、0.40であることが特に好ましい。この場合、包接化合物の生産安定性が高く、しかも、最終的に得られるポリロタキサンの各種物性も優れる。
上記加熱工程において、出発原料には、溶剤が含まれていてもよい。すなわち、本実施形態の製造方法では、前記出発原料に溶剤を添加する工程を含むこともできる。出発原料への溶剤の添加は、いずれの段階で行ってもよく、例えば、出発原料の調製時に溶剤を添加してもよいし、あらかじめ調製した出発原料に、加熱工程の前の段階で溶剤を添加してもよいし、あるいは、加熱工程中に出発原料に溶剤を添加してもよい。
溶剤の種類としては、水が好ましいが、その他、各種の有機溶剤であってもよい。
溶剤の添加量は、例えば、直鎖状分子及び環状分子の総量に対して環状分子と同重量とすることができる。このような量で出発原料が溶剤を含む場合、包接化合物の形成がより促進されると共に、直鎖状分子からの環状分子の脱落も起こりにくいので、短時間で所望の包接化合物を得ることができ、しかも、より高い収率となりやすい。また、溶剤の添加量は、直鎖状分子及び環状分子の総量に対して50%以下が好ましく、30%以下がより好ましく、10%以下が特に好ましい。
加熱工程で得られた生成物は、必要に応じて洗浄、乾燥等の処理により精製して、包接化合物として得ることができる。洗浄方法は特に限定されず、例えば、熱水に懸濁させ超音波洗浄する方法が挙げられる。これにより、未包接物を除去することができる。洗浄後は、遠心分離及び凍結乾燥等による処理で包接化合物を得ることができる。
上記得られた包接化合物は、後述するように直鎖状分子の両末端に封鎖基を有していない構造であるため、このような包接化合物は、いわゆる、ポリ擬ロタキサンと称される。従って、上記の加熱工程で得られる生成物の粉末は、ポリ擬ロタキサンともいえる。
上記加熱工程で得られた包接化合物は、そのままポリ擬ロタキサンとして、各種の用途に使用してもよいし、あるいは、このように得られたポリ擬ロタキサン(包接化合物)は、環状分子が直鎖状分子から脱落しないようにするために、直鎖状分子の両末端をかさ高い官能基で封鎖することもできる。
つまり、本実施形態の製造方法では、上記包接化合物と、封鎖分子とを反応させて、前記包接化合物における前記直鎖状分子の末端に封鎖基を導入する工程を含むことができる。
封鎖分子の種類は特に限定されず、例えば、ポリ擬ロタキサンに対して封鎖基を導入するために用いられている化合物が挙げられる。
具体的に封鎖基としては、アダマンタン基、ジニトロフェニル基類、シクロデキストリンに由来する基、N−カルボベンゾキシ−L−チロシン類(Z−L−チロシン類)、トリチル基、ピレニル基、フェニル基等のアリール基、2−ブチルデシル基、フルオレセイン類、ピレン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。上記例示列挙した封鎖基は置換基を有していてもよい。従って、封鎖分子としては、直鎖状分子の末端と反応して上記封鎖基を導入することができる分子が挙げられる。
尚、環状分子がイオン性の官能基を有している場合には、封鎖基もイオン性を有する官能基を有する基であってもよい。この場合、封鎖基のイオン性と、環状分子の有するイオン性とが反発し合うことにより、環状分子が直鎖状分子に串刺しにされた状態を保持することができる。
直鎖状分子の末端と封鎖分子を反応させる方法は特に限定的ではなく、例えば、従来と同様の方法を採用できる。
封鎖基は、直鎖状分子の両末端に、例えば、アミド結合、エステル結合等を介して直接的又は間接的に結合し得る。
なお、封鎖基は、直鎖状分子の両末端に導入されることが好ましいが、一部のポリロタキサンは、片末端にのみ封鎖基が導入されていても構わない。
上記のような嵩高い封鎖基が直鎖状分子の両末端に結合していることにより、環状分子が直鎖状分子によって串刺し状に貫通された状態が保持され得る。つまり、ポリロタキサンの環状分子は、直鎖状分子を包接させつつ自由に動くことができるが、両末端の封鎖基によって、直鎖状分子から外れることはない。
封鎖基の導入の有無については、例えば、公知のように、H−NMRスペクトルによる環状分子由来のピークと直鎖状分子由来のピークとから判断することができる。あるいは、包接化合物の合成の確認は、例えば、公知のように、GPCクロマトグラムからも判断することができる。
上記のように封鎖基を導入した後は、必要に応じて洗浄、乾燥を行うことができ、末端が封鎖されたポリロタキサンが粉末として得られる。洗浄及び乾燥の方法は、例えば、常法に従えばよい。
本実施形態の製造方法は、上記の加熱工程を含み、必要に応じて出発原料に溶剤を添加する工程及び封鎖基を導入する工程の少なくとも一方を含むことができる。従って、本実施形態の製造方法で得られるポリロタキサンは、直鎖状分子の末端に封鎖基を有していなくてもよいし、末端に封鎖基を有していてもよい。
本実施形態の製造方法で得られるポリロタキサンの重量平均分子量Mwは、特に限定されず、例えば、15000〜1000000とすることができる。
本実施形態に係るポリロタキサンの製造方法によれば、従来よりも少ない工程数、かつ、短時間でポリロタキサンを高い収率で得ることができる。特に、本実施形態では、加熱工程において、直鎖状分子の融解温度以上で加熱することで、包接化合物の形成が進行しやすく、容易に包接化合物を得ることができる。しかも、包接化合物の形成にあたって、多量の溶剤(水等)を使用する必要が無いか、もしくは溶剤を全く使用しなくてもよいので、得られた包接化合物から溶剤を除去する工程が不要となる。従って、より簡便な方法でポリロタキサンを製造することができる。
特に、直鎖状分子の融解温度以上で加熱することで、直鎖状分子に対する環状分子の包接割合(包接量)を制御することが容易となる。従来のような、水を多量に使用して室温付近でポリロタキサンを製造する方法では、直鎖状分子に対する環状分子の包接割合を制御することが難しく、また、溶剤中で加熱を行うと環状分子の脱落が起こりやすかったため、所望の包接量に制御することが難しい。これに対して、直鎖状分子の融解温度以上で加熱すれば、環状分子の脱落が起こりにくいので、直鎖状分子に対する環状分子の包接量を制御し易いものとなる。
また、環状分子と直鎖状分子とを混合して包接化合物を調製するにあたって、無溶剤もしくは溶剤使用したとしても上述のような少量の範囲であるので、反応媒体が嵩高くなりにくく、より優れた効率でポリロタキサンを製造することができる。従って、本実施形態のポリロタキサンの製造方法は、ポリロタキサンの大量生産という観点からも有利となる。
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例の態様に限定されるものではない。
(実施例1−1)
図1に示す反応スキームによって、包接化合物(ポリ擬ロタキサン)を製造した。直鎖状分子として、両末端にヒドロキシ基を有するポリエチレングリコール(PEG、重量平均分子量2×10g/mol、融解温度45−55℃、和光純薬工業社製「165−09105」)2.2gと、環状分子としてα−シクロデキストリン(αCD)2.0gを混合して出発原料を調製した。この出発原料を120℃に加熱し、24時間撹拌した。その後、60℃の熱水40mLに懸濁させて超音波洗浄することにより、未包接物を溶出させて除去した。沈殿物は、遠心分離し、次いで、凍結乾燥することにより粉末を得た。得られた粉末の粉末X線回折測定を行った。
(実施例1−2)
図1に示す反応スキームによって、包接化合物(ポリ擬ロタキサン)を製造した。直鎖状分子として、両末端にヒドロキシ基を有するポリエチレングリコール(PEG、重量平均分子量2×10g/mol、融解温度45−55℃)0.4gを80℃に加熱し融解させた。そこへ、環状分子としてα−シクロデキストリン(αCD)1.6gを混合して出発原料を調製した。この出発原料を120℃に加熱し、24時間撹拌した。その後、60℃の熱水40mLに懸濁させて超音波洗浄することにより、未包接物を溶出させて除去した。沈殿物は、遠心分離し、次いで、凍結乾燥することにより粉末を得た。得られた粉末の粉末X線回折測定を行った。
(実施例2)
直鎖状分子として、両末端のヒドロキシ基をカルボキシ基で置換したPEG(重量平均分子量2×10g/mol、融解温度45−55℃、和光純薬工業社製「165−09105」)に変更したこと以外は、実施例1−2と同様に粉末を得た。得られた粉末の粉末X線回折測定を行った。
(実施例3)
直鎖状分子として、両末端のヒドロキシ基をアミノ基で置換したPEG(重量平均分子量2×10g/mol、融解温度45−55℃、和光純薬工業社製「165−09105」)に変更したこと以外は、実施例1−2と同様に粉末を得た。得られた粉末の粉末X線回折測定を行った。
(実施例4〜7)
出発原料の加熱温度をそれぞれ、90℃、100℃、110℃、130℃に変更したこと以外は実施例1−1と同様に粉末を得た。
(実施例8)
αCDの使用量を24gに変更し、加熱時の撹拌を遊星ボールミルに変更し、遊星ボールミルによる処理時間を6時間としたこと以外は、実施例2と同様に粉末を得た。
(実施例9)
実施例2で得られた包接化合物4.2gに、有機溶媒であるN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)及び塩基としてN,N−ジイソプロピルエチルアミン(DIPEA)、封鎖分子としてアダマンタンアミン塩酸塩(AdNHCl)、縮合剤としてベンゾトリアゾール−1−イルオキシ−トリスジメチルアミノホスホニウム塩(BOP)を加え、懸濁条件下室温で3日間反応させた。遠心分離によって回収した沈殿をジメチルスルホキシド(DMSO)、水の順に透析し凍結乾燥によって目的物を得た(図1参照)。NMRおよびGPC測定によりポリロタキサンが形成されていることを確認した。
<評価方法>
(NMR)
NMR測定は、JEOL社製「JNM−ECA400、400MHz」を使用し、測定溶媒を1wt%NaODのDO溶液とした。
(GPC)
GPC測定は、TOSOH社製「HLC−8320GPC」を使用し、測定溶媒をDMSO(10mM LiBr)とした。
図2には、実施例1−2,2及び3で得られた粉末の粉末X線回折測定結果を示している。各実施例で得られた粉末のスペクトルはいずれも原料であるαCDとは異なったパターンを示した。いずれの実施例においても、従来法にて得られた標品のポリロタキサンに見られる、2θ=20°付近の特徴的なピーク(すなわち、αCDがチャネル状に並んだ構造に由来するピーク)の出現により、得られた粉末が包接化合物であることを確認した。
図3には、実施例1−1及び4〜7で得られた各包接化合物において、加熱温度と収量を示す。いずれの温度でも高い収量で包接化合物が得られていることがわかるが、加熱温度120℃の場合に最も高い収量となることがわかった。
図4には、実施例1−2,2及び3で得られた包接化合物の収率をしている。なお、図4における縦軸(Y軸)は、最終的に収量が飽和した状態を1として、この飽和収量を基準とした収量の相対値を表す。いずれの末端基を有したPEGを用いた場合でも最終的にはほぼ最大収量の包接化合物が形成されることを確認した。
Figure 2017188376
表1には、実施例1−1の加熱工程において、所定時間毎に反応液を採取し、環状分子の包接量を示している。なお、表1における包接量は、直鎖状分子に対する最大包接量を1としたときの相対値である。この結果から、加熱工程における加熱時間を調節することで、所望の包接量を有する包接化合物を製造できることがわかる。

Claims (4)

  1. 直鎖状分子が環状分子の開口部を貫通した構造を有するポリロタキサンの製造方法であって、
    前記直鎖状分子と前記環状分子とを含む出発原料を、前記直鎖状分子の融解温度以上に加熱することによって、前記直鎖状分子と前記環状分子との包接化合物を得る加熱工程を具備する、ポリロタキサンの製造方法。
  2. 上記包接化合物と、封鎖分子とを反応させて、前記包接化合物における前記直鎖状分子の末端に封鎖基を導入する工程を含む、請求項1に記載のポリロタキサンの製造方法。
  3. 前記出発原料に溶剤を添加する工程を含む、請求項1又は2に記載のポリロタキサンの製造方法。
  4. 前記環状分子がα−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン及びγ−シクロデキストリンからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリロタキサンの製造方法。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10106628B2 (en) * 2012-04-27 2018-10-23 Osaka University Gel with self-restorability and shape-memory property and process for producing same
WO2019067786A1 (en) 2017-09-29 2019-04-04 The Regents Of The University Of California MULTI-ARM POLYROTAXANE PLATFORM FOR PROTECTED ADMINISTRATION OF NUCLEIC ACIDS
CN113527581A (zh) * 2020-04-13 2021-10-22 晶硕光学股份有限公司 水胶组成物及水胶镜片

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005052026A1 (ja) * 2003-11-28 2005-06-09 The University Of Tokyo ポリロタキサン及びその製造方法
WO2005080469A1 (ja) * 2004-01-08 2005-09-01 The University Of Tokyo 架橋ポリロタキサンを有する化合物及びその製造方法
WO2005095493A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 The University Of Tokyo ポリロタキサンを有するポリマー材料、並びにその製造方法
WO2007026578A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Nissan Motor Co., Ltd. 疎水性修飾ポリロタキサン及び架橋ポリロタキサン
WO2007026594A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Nissan Motor Co., Ltd. 親水性修飾ポリロタキサン及び架橋ポリロタキサン
WO2007043434A1 (ja) * 2005-10-06 2007-04-19 Nissan Motor Co., Ltd. 硬化型水系上塗り塗料用材料及びこれを用いた塗料
WO2008035728A1 (en) * 2006-09-21 2008-03-27 Advanced Softmaterials Inc. Sheet for pack
JP2008291208A (ja) * 2007-04-27 2008-12-04 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置
JP2011122106A (ja) * 2009-12-11 2011-06-23 Canon Inc インクジェット用インク
WO2012081432A1 (ja) * 2010-12-16 2012-06-21 住友精化株式会社 精製ポリロタキサンの製造方法
JP2012144591A (ja) * 2011-01-07 2012-08-02 Toyota Central R&D Labs Inc 摺動部材および摺動部品
JP2012156104A (ja) * 2011-01-28 2012-08-16 Japan Aviation Electronics Industry Ltd 多段スイッチ
JP2012172083A (ja) * 2011-02-22 2012-09-10 Sumitomo Chemical Co Ltd ポリロタキサン及び硬化性組成物
WO2015041322A1 (ja) * 2013-09-19 2015-03-26 国立大学法人 東京大学 環状分子が重合鎖を有するポリロタキサン及びその製造方法
WO2015129513A1 (ja) * 2014-02-25 2015-09-03 東レ株式会社 エポキシ樹脂組成物、樹脂硬化物、繊維強化複合材料およびプリプレグ

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005052026A1 (ja) * 2003-11-28 2005-06-09 The University Of Tokyo ポリロタキサン及びその製造方法
WO2005080469A1 (ja) * 2004-01-08 2005-09-01 The University Of Tokyo 架橋ポリロタキサンを有する化合物及びその製造方法
WO2005095493A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 The University Of Tokyo ポリロタキサンを有するポリマー材料、並びにその製造方法
WO2007026578A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Nissan Motor Co., Ltd. 疎水性修飾ポリロタキサン及び架橋ポリロタキサン
WO2007026594A1 (ja) * 2005-08-31 2007-03-08 Nissan Motor Co., Ltd. 親水性修飾ポリロタキサン及び架橋ポリロタキサン
WO2007043434A1 (ja) * 2005-10-06 2007-04-19 Nissan Motor Co., Ltd. 硬化型水系上塗り塗料用材料及びこれを用いた塗料
WO2008035728A1 (en) * 2006-09-21 2008-03-27 Advanced Softmaterials Inc. Sheet for pack
JP2008291208A (ja) * 2007-04-27 2008-12-04 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置
JP2011122106A (ja) * 2009-12-11 2011-06-23 Canon Inc インクジェット用インク
WO2012081432A1 (ja) * 2010-12-16 2012-06-21 住友精化株式会社 精製ポリロタキサンの製造方法
JP2012144591A (ja) * 2011-01-07 2012-08-02 Toyota Central R&D Labs Inc 摺動部材および摺動部品
JP2012156104A (ja) * 2011-01-28 2012-08-16 Japan Aviation Electronics Industry Ltd 多段スイッチ
JP2012172083A (ja) * 2011-02-22 2012-09-10 Sumitomo Chemical Co Ltd ポリロタキサン及び硬化性組成物
WO2015041322A1 (ja) * 2013-09-19 2015-03-26 国立大学法人 東京大学 環状分子が重合鎖を有するポリロタキサン及びその製造方法
WO2015129513A1 (ja) * 2014-02-25 2015-09-03 東レ株式会社 エポキシ樹脂組成物、樹脂硬化物、繊維強化複合材料およびプリプレグ

Non-Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHEMISTRY LETTERS, vol. 34, no. 4, JPN6019046539, 2005, pages 542 - 543, ISSN: 0004264852 *
HARADA AKIRA, ET AL.: "Complex formation of poly(E-caprolactone) with cyclodextrin", MACROMOLECULE RAPID COMMUNNICATION, vol. 18, JPN6017019542, 1997, pages 535 - 539, XP000698021, ISSN: 0004109368, DOI: 10.1002/marc.1997.030180701 *
KAWAGUCHI YOSHINORI, ET AL.: "Complex Formation of Poly(ε-caprolactone) with Cyclodextrins", MACROMOLECULES, vol. 33, JPN6017019544, 2000, pages 4472 - 4477, XP055438278, ISSN: 0004109369, DOI: 10.1021/ma992103b *
メルク試薬カタログ 2002-2003, JPN6019046542, 1 April 2002 (2002-04-01), pages 1168 - 1169, ISSN: 0004264858 *
原田 明: "分子情報プロセッシングエレメント:ロタキサン", 応用物理, vol. 第68巻,第2号, JPN6017019539, 1999, pages 146 - 151, ISSN: 0004264857 *
大矢裕一、他: "両末端アミノ化ポリ乳酸とシクロデキストリンからなる生分解性ポリロタキサンの合成", 高分子学会予稿集, vol. 55, no. 1, JPN6017019534, 2006, pages 1 - 29, ISSN: 0004109366 *
高御堂成剛、他: "減圧溶融法によるポリ乳酸とシクロデキストリンかならなる生分解性ポリロタキサンの調製と評価", 高分子学会予稿集, vol. 55, no. 2, JPN6017019537, 2006, pages 1 - 20, ISSN: 0004109367 *

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