FI64169C - Anvaendning av aromatisk-alifatiska ketoner saosom initiatorerfoer fotopolymerisationen - Google Patents

Anvaendning av aromatisk-alifatiska ketoner saosom initiatorerfoer fotopolymerisationen Download PDF

Info

Publication number
FI64169C
FI64169C FI783919A FI783919A FI64169C FI 64169 C FI64169 C FI 64169C FI 783919 A FI783919 A FI 783919A FI 783919 A FI783919 A FI 783919A FI 64169 C FI64169 C FI 64169C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
methyl
compounds
initiators
hydroxy
alkyl
Prior art date
Application number
FI783919A
Other languages
English (en)
Other versions
FI64169B (fi
FI783919A7 (fi
Inventor
Louis Felder
Rudolf Kirchmayr
Rinaldo Huesler
Original Assignee
Ciba Geigy Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy Ag filed Critical Ciba Geigy Ag
Publication of FI783919A7 publication Critical patent/FI783919A7/fi
Publication of FI64169B publication Critical patent/FI64169B/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI64169C publication Critical patent/FI64169C/fi

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/10—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D295/104—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
    • C07D295/108—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings to an acyclic saturated chain
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
    • C07C49/703—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups
    • C07C49/747—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups containing six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C07C49/83—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups polycyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/84—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
    • C07D303/32—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by aldehydo- or ketonic radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/22—Radicals substituted by doubly bound hetero atoms, or by two hetero atoms other than halogen singly bound to the same carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/07—Aldehydes; Ketones
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/117—Free radical
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/12—Nitrogen compound containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/12—Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/122—Sulfur compound containing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

i i
I·ΓβΊ KUULUTUSJULKAISU
J&Sa v ’ UTLAGGN!NGSSKRIFT OM 69 5¾¾ c (45) ric.L·: :::3 n3'^ 08 F 2/50, C 09 Γ M/10, (51) Kv.ik. /i«.ci. c 08 ? 20/' 0, C 08 G 63/52 SUOMI —FINLAND (21) P»t*nttlh«lt*mu« — PttentMMÖknlng ’3393 (22) H»k«ml»pllvi — Ar>»<Sknlng*<i»g 20 . l_o . γ,ς (23) Alkupllv*—GMtlghcttdag 20.12.7,3 (41) Tullut Julkiseksi — 3(lvlt offentlig 27.08 - q PMenttl· )· rekisterihänitus NfttMWp*oe j. kuuljuikaisun pvm.- ,0 PÖ 3
Patent- och registerstyrelsen Ansöksn utlagd och vtl.skrlften publlcerv! ~ ’ - - (32)(33)(31) Pyydetty etuoikeus—Segärd prlorltet 22.12.77 O8.O3.78 Sveitsi-Schveiz(OK) 1588)4/77, 2518/78 (71) Ciba-Geigy AG, CH-^002 Basel, Sveitsi-Schweiz ( OH) (72) Louis Felder, Basel, Rudolf Kirchmayr, Aosch, Rinaldo Hiisi or,
Binninger, Sveitsi-Schweiz(CH) (7*0 Oy Jalo Ant-Wuorinen Ab (5)4) Aromaattis-alifaattisten ke tönien käyttö initiaat toreina fotonoly-merointia varten - Användning av aromatisk-ali fatiska ketouer s&soni initiatorer för fotopolymerisationen
Keksintö koskee aromaattis-alifaattisten, a-asemassa subs-tituoitujen ketoneiden käyttöä initiaattoreina tyydyttämättömien yhdisteiden fotopolymeraatioon tai polyolefiinien sekä tällaisia initiaattoreita sisältävien fotopolymeroituvien vast, verkkora-kanteen muodostavien systeemien fotokemiallista verkkorakenteen muodostusta.
Fotokemialliset polymeraatioprosessit ovat saaneet tekniikassa tärkeän merkityksen, ennenkaikkea sellaisissa tapauksissa, joissa on lyhyessä ajassa kovetettava ohuita kerroksia, kuten esim. lakkapäällystysten kovetuksessa tai painovärien kuivauksessa. Fotoinitiaattoreiden läsnäollessa suoritettavalla UV-säteily-tyksellä on vastoin aikaisempia kovetusmenetelmiä joukko etuja, joista tärkeimpiä on varmaan fotokovetuksen suuri nopeus. Nopeus riippuu suuresti käytetystä fotoinitiaattorista, ja tutkimuksia, joissa aiempia initiaattoreita olisi pyritty korvaamaan yhä paremmilla ja tehokkaammilla yhdisteillä, on tehty runsaasti. Te-hokkaimpiin fotoinitiaattoreihin lukeutuvat bentsoiinijohdannaiset, ennenkaikkea bentsoiinieetteri, jota on kuvattu mm. patentti- 2 64169 julkaisussa DE 1694149, α-hydroksimetyylibentsoiinijohdannaiset, joita on kuvattu hakemusjulkaisussa Dfi 1923366, sekä dial-koksiasetofenonit ja bentsiili-monoketaalit, joita on kuvattu esimerkiksi hakemusjulkaisuissa DE 2261383 tai 2232365. a-amino-asetofenonit ja α-diaminoasetofenoneita on ehdotettu fotoinitiaat-toreiksi äskettäin patentissa US 4048034 ja a-hydroksi-a-alkyloli-asetofenoneita ja niiden eettereitä hakemusjulkaisussa DE 2357866.
Näiden tunnettujen fotoinitiaattoreiden puutteita on esimerkiksi tällaisten initiaattoreiden kanssa sekoitettujen fotopoly-meroituvien systeemien riittämätön pimeävarastointistabiliteetti. Eräillä bentsoiinijohdannaisilla on taipumus kellastaa kovetettuja massoja. Toisilla initiaattoreilla on riittämätön reaktiviteet-ti, mikä ilmenee suhteellisen pitkinä kovetusaikoina, tai ne ovat liian niukkaliukoisia fotopolymeroituviin systeemeihin tai inak-tivoituvat nopeasti ilman hapen vaikutuksesta.
Näin ollen tekniikassa on tarve saada fotoinitiaattoreita, jotka ovat substraattiin hyvin liukenevia, kestävät hyvin pimeä-varastointia ja saavat aikaan nopeamman fotopolymeraation ja suuremman polymeerisaannon aikayksikköä kohden kuin tunnetut fotoini-tiaattorit. Tällaisten parannettujen fotoinitiaattoreiden käytöllä voitaisiin kalliita teollisia UV-säteilytyslaitoksia hyödyntää paremmin.
Nyt on keksitty, että seuraavan kaavan I mukaisilla yhdisteillä on vaaditut ominaisuudet fotoinitiaatto-reina, ennenkaikkea ne aikaansaavat nopean polymeraation ja kuvattuja puutteita niillä ei ole joko lainkaan tai korkeintaan tunnettuja fotoinitiaattoreita vähäisemmässä määrin. Sitäpaitsi ne sopivat polyolefiinien fotokemialliseen verkkorakenteen muodostamiseen. Keksintö koskee kaavan i mukaisten yhdisteiden käyttöä
“OR -T
»♦ f
Ar--C - C - X I
TT *2 J ”
II
3 64169 jossa n on luku 1 tai 2,
Ar, kun n = 1, tarkoittaa 6-10 C-atomia sisältävää aryyliä, yhdellä tai useammalla tähteistä Cl, Br, C1-C4~alkyyli, CH3~0-, CH3S-, fe- noksi tai fenyylitio, substituoitua fenyyliä, tienyyliä tai furyy- liä, ja kun n = 2, tarkoittaa ryhmää -fenyleeni-T-fenyleeni-, jossa T on -O-, -S- tai -CH~-, ^4 5 6 X tarkoittaa ryhmää NR R tai -PR , R^ tarkoittaa 1-4 C-atomia sisältävää alkyyliä, joka voi olla subs- tituoitu -COO(C1-C4-alkyylillä) ja 2 ^ R tarkoittaa 1-4 C-atomia sisältävää alkyyliä tai 1 2 R ja R tarkoittavat yhdessä 4 tai 5 C-atomia sisältävää alkyleeniä, 4 5 R ja R tarkoittavat 1-4 C-atomia sisältävää alkyyliä tai 4 5 R ja R yhdessä tarkoittavat 4-5 C-atomia sisältävää alkyleeniä, joka voi olla ryhmän -O-, -NH- tai -N(CH3)- katkaisema, ja g ^ R tarkoittaa vetyä, metyyliä tai allyyliä, initiaattoreina tyydyttämättömien yhdisteiden fotopolymeraation.
Esimerkkejä keksinnön mukaisesti käytettävistä, kaavan I mukaisista yhdisteistä, joissa n on 1, ovat seuraavat: 2-hydroksi-2-metyyli-propiofenoni 2-hydroksi-2-etyyli-propiofenoni 2-hydroksi-2-butyyli-propiofenoni 2-metoksi-2-metyyli-propiofenoni 2-hydroksi-2-metyyli-(p-klooripropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(3,4-diklooripropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(p-metoksipropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(2,4-dimetoksipropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(p-fenoksipropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(p-metyylipropiofenoni) 2-metoksi-2-metyyli-(o-metyylipropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(m-metyylipropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(2,4-dimetyylipropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(3,4-dimetyylipropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(p-butyylipropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(p-tert.butyylipropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(p-isopropyylipropiofenoni) 2-metoksi-2-metyyli-(o-klooripropiofenoni) 2-hydroksi-2-metyyli-(p-metyylitio-propiofenoni) 2-fenoksi-2-metyyli-propiofenoni 4 64169 2- allyylioksi-2-metyyli-propiofenoni 3- bentsoyyli-3-hydroksi-heptaani 2- bentsoyyli-2-hydroksi-pentaani 3- bentsoyyli-3-hydroksi-pentaani 2-dimetyyliamino-2-metyyli-propiofenoni 2-dietyyliamino-2-metyyli-propiofenoni 2-dibutyyliamino-2-metyyli-propiofenoni 2-di-hydroksietyyliamino-2-metyyli-propiofenoni 2-piperidino-2-metyyli-propiofenoni 2-morfolino-2-metyyli-propiofenoni 2-piperatsino-2-metyyli-propiofenoni 2-(4-metyylipiperatsino)-2-metyyli-propiofenoni 2- pyrrolidino-2-metyyli-propiofenoni 1-bentsoyyli-sykloheksanoli 1- bentsoyyli-syklopentanoli 3- p-metoksibentsoyyli-3-dimetyyliaminoheptaani 2- (2-tenoyyli)-2-piperidinopropaani 1- metyyli-2-o-klooribentsoyyli-piperidiini 2- hydroksi-2-metyyli-(p-isopropyylipropiofenoni).
Esimerkkejä kaavan I mukaisista yhdisteistä, joissa n = 2, ovat: 4,4'-bis-(α-hydroksi-isobutyryyli)-difenyloksidi 4,4'-bis-(a-hydroksi-isobutyryyli)-difenyylisulfidi 4,4'-bis-(a-hydroksi-isobutyryyli)-difenyylimetaani 4,4'-bis-(α-piperidino-isobutyryyli)-difenyylioksidi.
Kaavan I mukaiset yhdisteet ovat osaksi tunnettuja yhdisteitä, osaksi on kyse uusista yhdisteistä. Ne voidaan valmistaa jäljempänä selitettyjen menetelmien A-K mukaisesti.
5 64169
Keksinnön mukaisesti voidaan kaavan I mukaisia yhdisteitä käyttää tyydyttämättömien yhdisteiden tai näitä sisältävien systeemien fotopolymeraation initiaattoreina.
Tällaisia yhdisteitä ovat esimerkiksi tyydyttämättömät mo-nomeerit, kuten akryyli- tai metakryylihapon esterit, esim. metyyli-, etyyli-, n- tai tert.butyyli-, iso-oktyyli- tai hydroksi-etyyliakrylaatti, metyyli tai etyylimetakrylaatti, etyleenidiak-rylaatti, neopentyyli-diakrylaatti, trimetylolipropaanitrisakrylaat-ti, pentaerytriitti-tetra-akrylaatti tai pentaerytriittitrisakry-laatti; akryylinitriili, metakryylinitriili, akryvliamidi, metak-ryyliamidi, N-substituoitu (met)akryyliamidit; vinyyliesterit, kuten esim. vinyyliasetaatti, -propionaatti, -akrylaatti tai -suk-kinaatti ; muut vinyyliyhdisteet, kuten vinyylieetteri, styreeni, alkyylistyreenit, halogeenistyreenit, divinyylibentseeni, vinyyli-naftaleeni, N-vinyylipyrrolidoni, vinyylikloridi tai vinylideeni-kloridi; allyyliyhdisteet, kuten diallyyliftalaatti, diallyyli-maleaatti, triallyyli-isosyanuraatti, triallyylifosfaatti tai etyleeniglykoli-diallyylieetteri ja tällaisten tyydyttämättömien monomeerien seokset.
Fotopolymeroituvia yhdisteitä ovat edelleen tyydyttämättömät oligomeerit tai polymeerit ja niiden seokset tyydyttämättömien monomeerien kanssa. Näihin on luettava termoplastiset hertsit, jotka sisältävät tyydyttämättömiä ryhmiä, kuten fumaarihappoes- 6 64169 tereitä, allyyliryhmiä tai akrylaatti- tai metakrylaattiryhmiä. Useimmiten ovat nämä tyydyttämättömät ryhmät sitoutuneet funktionaalisten ryhmien välityksellä näiden lineaaristen polymeerien pääketjuun. Suuri merkitys on oligomeerien ja yksinkertaisesti tai moninkertaisesti tyydyttämättömien monomeerien seoksilla. Esimerkkejä tällaisista oligomeereistä ovat tyydyttämättömät polyesterit, tyydyttämättömät akryvlihartsit ja isosyanaatti- tai epoksidi-modifioidut akrylaattioligomeerit sekä polyeetteriakry-laattioligomeerit. Esimerkkejä moninkertaisesti tyydyttämättömistä yhdisteistä ovat ennenkaikkea diolien ja polyolien akrylaatit, esim. heksametyleeni-diakrylaatti tai pentaerytriitti-tetra-ak-rylaatti. Yksinkertaisesti tyydyttämättöminä monomeereina pidetään edullisina myös akrylaatteja, esim. butyyliakrylaattia, fe-nyyliakrylaattia, bentsvyliakrylaattia, 2-etyyliheksyyliakrylaat-tia tai 2-hydroksipropyvliakrylaattia. Valitsemalla kolmesta erilaisesta käytettävästä komponentista eri komponentit voidaan poly-meroimattoman seoksen konsistenssia sekä polymeroidun hartsin plastisuutta muunnella.
Näiden kolmikomponentti-seosten ohella on tärkeä merkitys polyesterihartseilla, ennenkaikkea kaksikomponentti-seoksilla.
Nämä koostuvat useimmiten yhdestä tyydyttämättömästä polyesteristä ja vinyyliyhdisteestä. Tyydyttämättömät polyesterit ovat vähintään yhden tyydyttämättömän dikarbonihapon oligomeerisia este-röintituotteita, kuten esim. maleiini-, fumaari- tai sitrakoni-hapon, ja useimmiten vähintään yhden tyydytetyn dikarbonihapon, kuten esim. ftaalihapon, meripihkahapon, sebatsiinihapon tai isoftaalihapon esteröintituotteita glykolien kanssa, kuten esim. etyleeniglvkolin, propaanidioli-1,2:n, di- tai trietyleeniglyko-lin tai tetrametyleeniglykolin kanssa, jolloin muunnoksissa käytetään useimmiten mukana myös monokarbonihappoja ja monoalkoho-leja. Nämä tyydyttämättömät polyesterit liuotetaan tavanomaiseen tapaan vinyyli- tai allyyliyhdisteeseen, mieluimmin käytetään tähän styreeniä.
Fotopolymeroituvat systeemit, jollaisia käytetään erilaisiin tarkoituksiin, sisältävät useimmiten paitsi fotopolymeroituvia yhdisteitä ja fotoinitiaattoreita joukon muita tavallisia lisäaineita. Niinpä on usein tavallista lisätä termisiä inhibiitto-reita, joiden tarkoitus on suojata systeemejä ennenkaikkea valmistuksen aikana komponenttien sekoituksen avulla ennenaikaiselta 7 64169 polymeraatiolta. Tähän käytetään esimerkiksi hydrokinonia, hydrokinonijohdannaisia, p-metoksifenolia, β-naftyyliamiinia tai β-naftoleita. Edelleen voidaan lisätä pieniä määriä UV-ab-sorbantteja, kuten esim. bentsotriatsoli- tai bentsofenonityyppi-siä absorbantteja.
Pimeävarastointikestävyyden parantamiseksi voidaan lisätä kupariyhdisteitä, kuten kuparinaftenaattia, -stearaattia, tai -oktoaattia, fosforiyhdisteitä, kuten trifenyylifosfiinia, tri-butyylifosfiinia, trietyylifosfiittia, trifenyylifosfiittia tai tribentsyylifosfaattia, kvartäärisiä ammoniumyhdisteitä, kuten tetrametyyliammoniumkloridia tai trimetyyli-bentsyyliammonium-kloridia tai hydroksyyliamiinijohdannaisia, kuten esim.: N-di-etyylihydroksyyliamiinia. Edelleen voivat fotopolymeroituvat systeemit sisältää ketjua ylläpitäviä aineita, kuten esim. N-metyylidietanoliamiinia, trietanoliamiinia tai syklohekseeniä.
Ilman sisältämän hapen inhiboivan vaikutuksen poissulkemiseksi lisätään fotokovetettaviin systeemeihin usein parafiinia tai vastaavia vahamaisia aineita. Polymeraation alussa nämä jäävät pinnalle, koska ne eivät liukene polymeereihin, ja muodostavat läpinäkyvän pintakerroksen, joka estää ilman hapen läpipääsyn. Myös liittämällä kovetettavaan hartsiin itsestään hapettuvia ryhmiä, esimerkiksi allyyliryhmiä, voidaan ilman sisältämän hapen sisältämä happi deaktivoida.
Fotoinitiaattoreita voidaan käyttää myös yhdessä radikaalisten initiaattoreiden kanssa, kuten esim. peroksidien, hydroperok-sidien, ketoniperoksidien tai perkarbonihappoestereiden kanssa.
Fotopolymeroituvat systeemit sisältävät edelleen - kulloinkin käyttötarkoituksen mukaan - täyteaineita, kuten piihappoa, talkkia tai kipsiä, pigmenttejä, väriaineita, kuituja, tiksotropoin-tiaineita tai juoksevuuden säätelyaineita.
Lisäksi voidaan käyttää myös yhdistelmiä tunnettujen foto-initiaattoreiden kanssa, kuten bentsoiinieettereiden, dialkoksi-asetofenoneiden, tai bentsiiliketaalien kanssa.
Erikoisesti ohuiden kerrosten ja painovärien fotopolymeraa-tioon voidaan käyttää keksinnönmukaisia fotoinitiaattoreiden yhdistelmiä amiinien ja/tai aromaattisten ketonien kanssa. Esimerkkejä amiineista ovat trietvyliamiini, N-metyylietanoliamiini, N-dimetyylietanoliamiini tai p-dimetyyliaminobentsoehappoesteri. Esimerkkejä ketoneista ovat bentsofenoni, substituoidut bentso- 8 64169 fenonijohdannaiset, Michler'in ketonit, antrakinoni, ja antra-kinonijohdannaiset, sekä tioksantoni ja sen johdannaiset.
Tärkeä merkitys on painovärien fotokovetuksella, koska sideaineen kuivatusaika on määräävä tekijä graafisten tuotteiden tuotantonopeudelle ja sen on oltava sekunnin murto-osien suuruusluokkaa. Erittäin sopivia ovat keksinnönmukaiset initiaattorit myös painolevyjen valmistamiseen käytettyihin fotokovetettaviin systeemeihin. Tällöin käytetään esim. liukoisten lineaaristen polyamidien seoksia fotopolymeroituvien monomeerien kanssa, esimerkiksi akryyliamidien kanssa, ja jotain fotoinitiaattoria. Filmit tai levyt näistä systeemeistä valotetaan painettavan aineen negatiivia (tai positiivia) vastaan ja senjälkeen eluoidaan kovettumattomat aineosat sopivalla liuottimena.
UV-kovetuksen eräs sovellutusalue on edelleen metallin pinnoitus, esimerkiksi pelktien lakkaamisen yhteydessä tuubeja, rasioita tai pullon korkkeja varten, sekä muovipäällystysten UV-kovetus, esimerkiksi PVC-pohjäisten lattia- tai -seinäpinnoittei-den UV-kovetus.
Paperipinnoitteiden UV-kovetuksesta ovat esimerkkejä etikettien, äänilevykansien tai kirjankansien väritön lakkaus.
Kaavan I mukaisia yhdisteitä voidaan kek-sinnönmukaisesti käyttää myös initiaattoreina polyolefiinien fotokemialliseen verkkorakenteen muodostukseen. Tähän sopivat esim. polypropyleeni, polybuteeni, polyisobutyleeni sekä kopoly-meraatit, kuten esim. etyleeni-propyleeni-kopolymeerit, mieluimmin kuitenkin polyetyleeni, jonka tiheys on joko alhainen, keskinkertainen tai korkea.
Fotoinitiaattoreita käytetään mainittuihin käyttötarkoituksiin tarkoituksenmukaisesti 0,1-20 paino-%, mieluimmin noin 0,5-5 paino-% suhteessa fotopolymeroituvan vast, verkkorakenteen muodostavan systeemin määrään. Systeemillä tarkoitetaan tällöin fotopolymeroituvan vast, verkkorakenteen muodostavan yhdisteen, fotoinitiaattorin ja muiden täyte- ja lisäaineiden seosta, jollaisia käytetään kulloiseenkin käyttötarkoitukseen.
Fotoinitiaattoreiden lisäys fotopolymeroituviin systeemeihin tapahtuu yleensä yksinkertaisella sekoituksella, koska useimmat näistä systeemeistä ovat juoksevia tai hyvin liukenevia. Keksinnönmukaiset initiaattorit muodostavat liuoksen, jolloin niiden tasainen jakautuminen sekä polymeraatin läpinäkyvyys on taattu.
Il „ 64169 y
Polymeraatio tapahtuu fotopolymeraation tunnetuilla menetelmillä säteilyttämällä valolla, joka sisältää runsaasti lyhytaaltoista säteilyä. Valonlähteiksi sopivat esim. elohopeakeskipai-ne-, korkeapaine- ja -matalapainesäteilyttäjät, sekä superaktii-niset loisteputket, joiden emissiomaksimi on 250-400 nm.
Keksinnönmukaisten fotoinitiaattoreiden valmistus ja käyttö on kuvattu seuraavissa esimerkeissä. Tällöin tarkoittavat osat paino-osia, prosentit painoprosentteja ja lämpötilat on annettu Celsius-asteina.
Esimerkeissä 1-6 käytettyjen yhdisteiden valmistus ja ominaisuudet
Esimerkeissä 1-6 käytettyjen yhdisteiden valmistus ja ominaisuudet Taulukossa 1 esitettyjen yhdisteiden valmistus tapahtui yhden tai useamman menetelmistä A-L mukaan.
Menetelmä A. Aromaattis-alifaattisten ketonien klooraus
Ar{CO-CR1R2H)n + n Cl2 -> Ar{C0-CR1R2Cl) + n HCl
Reaktion suorittamiseksi ketoni liuotetaan johonkin inerttiin liuottimeen, mieluimmin tetrakloorimetaaniin, liuokseen johdetaan 40-80°C:ssa laskettu määrä klooria. Tämän jälkeen liuokseen johdetaan typpeä liuenneen HCl:n poistamiseksi. Lopuksi liuotin tislataan pois. Saadun klooriketonin puhdistus ei ole yleensä välttämätöntä, tuote voidaan tämän jälkeen saattaa reagoimaan menetelmien D, F tai H mukaan.
Menetelmä B: Aromaattis-alifaattisten ketonien bromaus
Ar-(CO-CR1R2H)n + n Br2 -^ Ar{CO-CR1 R2Br) + n HBr
Reaktion suorittamiseksi tiputetaan huoneen lämpötilassa laskettu määrä bromia ketonin liuokseen, esimerkiksi hiilitetraklori-dissa. Jatketaan kuten menetelmässä A.
Menetelmä C: Sulfuryylikloridin klooraus
Ar{CO-CR1R2H)n + n SC>2 Cl2-> Ar{C0-CR1 R2-Cl) + n S02 +n HCl
Sulfuryylikloridih tiputetaan 40°C:ssa ketonin hiilitetrakloridi-liuos. Jatketaan kuten menetelmässä A.
10 641 69
Menetelmä D: Epoksidi-välituotteiden valmistus
Ar-tCO-CR1R2Hal] + n NaOCH- —►Ar-fC CR R ] + n NaHal n j | 11 och3
Hai = Cl tai Br
Halogeeniketoni liuotetaan metanoliin ja liuokseen tiputetaan stökiömetrinen määrä natriummetoksidin metanoliliuosta palautus-jäähdytyslämpötilassa. Tämän jälkeen metanoli tislataan pois, jäännös kaadetaan jääveteen ja uutetaan eetterillä. Eetteriliuos pestään vedellä, kuivataan natriumsulfaatilla ja haihdutetaan kuiviin. Jäännös puhdistetaan uudelleenkiteyttämällä tai tyhjötis-lauksella. Epoksidi voidaan tämän jälkeen saattaa reagoimaan menetelmän E tai G mukaan.
Menetelmä E: Epoksidien hydrolyysi 12 H + 19
Ar—c-CR R n + n H?° -2-► Ar-fCO-CR^R^OH] +n CH-OH
l n 2 n 3 OCH^
Epoksidiin kaadetaan 2-5-kertainen painomäärä vettä ja sitä keitetään lisäten katalyyttinen määrä mineraalihappoa 1-2 tuntia palautusjäähdyttäen. Jäähtymisen jälkeen uutetaan eetterillä, eetteriliuos pestään vedellä, kuivataan natriumsulfaatilla ja haihdutetaan. Jäännös (raaka hydroksiketoni) puhdistetaan tislaamalla tai kiteyttämällä tai pylväskromatografoinnilla.
Puhtaiden α-hydroksiketonien ominaisuudet on esitetty taulukossa 1.
Menetelmä F: α-hydroksiketonit a-halogeeniketoneista
Ar-fC0-CR1 R2Hal) + n NaOH-* Ar{C0-CR1 R2OH) + n NaHal α-halogeeniketonia keitetään laimeassa tai väkevässä natriumli-peässä (20% ylimäärin NaOH:a) palautusjäähdyttäen. Hydrolyysin päätyttyä (kontrolli kromatografoinnilla) eristetään raaka hydroksiketoni, kuten kohdassa E on kuvattu ja puhdistetaan. Puhtaat hydroksiketonit on esitetty taulukossa 1.
li 641 69 11
Menetelmä G; α-aminoketonit epoksideista
AriC^CR^-R2] + R4R5NH -►AriCO-CR1R2-NR4R5] +n CH-,ΟΗ
! n n n J
0CH3
Epoksidi verkotetaan joko ilman liuotinta tai lisäten pieni määrä tolueenia tai ksyleeniä sekä stökiömetrinen määrä amiinia ja annetaan reagoida 10-20 tuntia 100-200°C:ssa. Alhaalla kiehuvien amiinien kohdalla, kuten esim. dimetyyliamiinin tai dietyyli-amiinin kohdalla reaktiot suoritetaan autoklaavissa. Reaktioseos laimennetaan bentseenillä, uutetaan laimealla suolahapolla. Vesipitoinen hapan liuos alkaloidaan natriumhydroksidilla, uutetaan eetterillä, eetteriliuos pestään vedellä, kuivataan natriumsul-faatilla ja haihdutetaan. Saatu raakatuote puhdistetaan tislaamalla tai kiteyttämällä.
α-aminoketonit on esitetty taulukossa 1.
Menetelmä H. α-aminoketonit a-halogeeniketoneista
Ar-fCO-CR1 R2Kal) + 2n R4P5NH -> Ar{C0-CR1 R2-NR4R5) + n R4R5NH2Hal α-halogeeniketoni sekoitetaan laimentamattomana tai tolueenilla laimennettuna kahden mooliekvivalentin kanssa amiinia ja sitä lämmitetään 10-20 tuntia 100-200°C:ssa. Alhaalla kiehuvien amiinien kohdalla, kuten dimetyyliamiinien tai dietyyliamiinin kohdalla, reaktio suoritetaan autoklaavissa. Eristys ja puhdistus tapahtuu kuten menetelmässä G.
Menetelmä I. Karbalkoksietyyliryhmän liittäminen CH 0CH-COOAlk | 2 2
Ar{C0-CHR2-x)n + n CH2 = CH-C00Alk —» Ar{C0-CR2-X )
Ketoni liuotetaan dimetyylisulfoksidiin, tähän lisätään 1,1 mooli-ekvivalenttia natriumhydroksidia 4-n natriumlipeän muodossa ja annetaan tippua 1,1-mooli-ekvivalenttia akryyliesteriä huoneen lämpötilassa samalla jäähdyttäen. Reaktioseos laimennetaan jää-vedellä ja uutetaan tolueenilla. Tolueeniliuos pestään neutraa- 12 64169 liksi vedellä, kuivataan natriumsulfaatilla ja haihdutetaan. Raakatuote puhdistetaan pylväskromatograafisesti tai kiteyttämällä.
Menetelmä K. Hydroksiketonin eetteröinti
Ar-fCO-CR1 R2-0H) n + n R6Hal + n NaOH-^ Ar{C0-CR1R2-0R6) + n NaHal α-hydroksiketoni liuotetaan noin 4-kertaiseen painomäärään di-metyylisulfoksidia ja siihen tiputetaan samalla jäähdyttäen 10-20°C:ssa ja sekoittaen kahdesta tiputussuppilosta samanaikaisesti 1 mooli-ekvivalentti alkyylihalogenidia RgHal ja 1 mooli-ekvivalentti väkevää natriumlipeää. Tämän jälkeen sekoitetaan 3 tuntia huoneen lämpötilassa, sitten suodatetaan pois erottunut natriumhalogenidi, suodos laimennetaan eetterillä, pestään vedellä, kuivataan natriumsulfaatilla ja haihdutetaan. Saatava raaka-tuote puhdistetaan pylväskromatografoinnilla, kiteyttämällä tai tyhjötislauksella. Esimerkkejä käyttökelpoisista halogeeniyhdis-teistä ovat metyylijodidi, isopropyylibromidi, allyylibromidi, sykloheksyylibromidi, bentsyylikloridi tai kloorietikkahappoetyy-liesteri. Alkyylihalogenidin sijasta voidaan käyttää myös dialkyy-lisulfaattia tai alkyyli-aryylisulfonaattia eetteröinti-reagens-sina.
Il 64169 1 3 . j O o oo
-P -P »- T- r-~ O
Q) QJ VO T— o ©
CO Ό CM CM · (N O
•h 3 *. o O4 t— tn
rl 2 O - · I
(0 CO . OH 00 CN
«3 -H 0j »3 · 'S· P4 CCS « (¾ CO PL, -H C Λ · U · &
CO -H CD A o O A
>1 Ei -H CD CN O CD H
i-H O & ·Η τ— 00 -H 3 _ ________τ- X,__W_
CO
3 I — I
P CO ·Η -H CO -Η -H
CO CO >|H S4 CO >,rH tn H 3 -P 0 CD 3 -POO)
XS CC P -P Π5 >.P-P
A Ή 0) -P -P iH CU+J-P
3 « -PCDO) CO p CD «
PU -H -H CU CD -Η -H O, CD
Ec ~ EH X'-'
co :nS 3 E +J H (0 CD
•H +J tn S 0) +
nj S E3 W W
> g + + + + o n qh o t. + + (¾ .+
® <2 _μ CQ
O
/ \ ·—· mm·· y \ K K II · \ U O · · \ / _ m Ά m m z m mom , ^ 32 I 32 32 I a a | a
u —— u 0 —— a 0 —— u I
o=u o=u 0 = u c=u II i 1 ns // \ // \ . // \ // \ s ·· · · · · · · (¾ 1 II I 11 ' I 11 I π frt ··.·· · · ·· <- « 'X/ "X/ X / -x/ _·__·__ · 0----
X CD
X -P
3 CO
I—I *H
3 Ό ns a
E-l >H 1—I CN Cl TT
14 641 69 I * * f
I -P -P
<U 0) O ,- ,- r- CO T3 v- «. ·. v
•HP O O O O
H 3 . O . . .
5 5 air> C, a a <0-H · <— »0 · ·
*2 >1 A AO AO AO
*H C ·η <D 0 LD (DO ΦΟ·
Oi "Η Ή *H -H T— -r-j ^ -h CO
>,g:Q « « feci «τ ο, o (0 (0 p P &1
i -p o to CO CO CO
; CO -P -H p p p P
•H 2 +* <0 rö rö (0 rO £i, 0 Ή I—I I—( i
A Ο -H CO W CO CO
3 M O -H *rl -H -H
Λ «·+: Eh E( Eh Eh i —————————— I in :nj ! 5» fci -P rH co a)
-Η -P
a q) u ω w w w -H p + + + + +
(0 0) Ω D Q Q Q
> £ + + + + + I ffl ra 03 03 03 * !
X 03 X
°—· mo m mo m mo m \ x I re x I a: x I re ( y· a o —— o o —— o o —— o ·-·- o 0 = 0 0 = 0 0 = 0 ro _ s I I ix
(Ί O on · · · O
____ * ?? // \ // \ // \ / 0=0 o ——— o · · · · · ·
I II I II I II
• 0 = 0 ·· ·· · · Λ // \ I Νχ / \ NX/ s · · ·=· · · m ·
« I " \ I IX I
S V · W <-> O O O
v- n\ / \ / ro. ro m · ·-· X X s a> !
-P
CO
zj » Ό ^ m vo r- oo σι lb 64169 * *
0 0 O
-P +> o o o -¾1 0 O ro in κη n- M Ό «- r-
•H 3 *- r- I O
Ή 3 *· - («g >· 3 cfl o O ei: o (Ö -H . ^ Λί (0 Oi di . Oj H C · · * CD -H Xi JO · rj >i Ei o o -d ©
O -H -H rn -H
___x__m_____x_ ω -h —*
3 CO iH -H
-P CQ CO >1 >t P CD
CD 3 3 +J >1 0) 3 •H (0 fO >i+> -P (Ö
Ό rH iH 0) © +J ,-H
J3 CD CD -P -H φ CD
3 -H -H -H t/ d) -H
_^__H_ H _Xy_ En CD :cd 3
P i—I
CD φ KJ El) El) M
•H -P + + + +
£ o Q Q Q Q
H C + + + + 3o cq m a a ^ ^«1^. ________
EC
X ro o ro
ro O ro X XIX
X I X ro o ro O -- O
O -- O ro X | X I
I X O —f— O 0 = 0
0 = 0 UI I
X I I O · ro O ro · OO // \ X I X /? \ \ / ··
o —— O · · ·=· I II
ä I i il / \ · · 0 = 0 ro ·· · · b\/ I K / \\ // ·
• O · ·—· I
// \ / I / \ X
• · O OP o ce i il i i · a / \ > · · O o o o «j/'V/ Π ro roro
(0 ro · X X XX
X
CD
•H
Ό | X 0) O * r-4 (N ro
ίο -P rH fH r-4 (H
15 64169 o * o * * p 4-> o o d) a) o in in o tn Tj <7 r- t- O 00 T-
•H 33 *· *· *— -O
H 3 5 o o o o ns tn O . . · in (0 -h ·— (¾ Cu Cu *- M ns •H G α λ λ mx w -h · o; <D .d <u >1 E. 3 Ή ·Η (C ·γΗ O Ö3 « . « > « ni
CO M
33 t7> -PO tn m tn 03 4-> -H 3 33 33 •H <Ö -M nS <0 <Ö Ό EC ή rH γ-ι ,C o -h 03 03 03 33 Cl O Ή ·Η ·Η CU « U-l tn Eh tn (0 M) a e
4-> iH
tn ω e « « « m <-* -r -r + ΛΦ ΐ Q Q o > £ I u £_g 5 n O m 53 | s g —!— g I 22 53 O = g no n nO n l n i 33 53 I 53 33 · g -- g
53 g —l··— g no n // \ I
U I 33 | 33 ·· 0 = 6 i O g —— g i ii i o g I · · · \__/ o = g / // \ ·=· i · · ·
/ \ · I I II
• · // \ o · ·
^// · · I
·—· I II · ·
/ \ · · // \ I
»eOr-l ·· tO
> i g · · i ii i I 2 O i · · g 5 J’1 --1 / oo
^ X o · · X
H
V
jC <U
>H 4-> tT in ID Γ" -1_li_I. _- 17 641 69 ”
o* * O
-P -P r--H 00 O O Γ" φ Φ G *- CN O 0\
Ui Ό <Ν Φ T- ^ I
H 3 *· E - o ° H 3 o g o ^ σ> (0 co · tn · o »> Φ -H C-ι ·Η £li · O · AC Φ · I ~ Cu •H C Ä Λ Λ γη · <β 4* « -Η φ Φ Ιπ-Ο X ι-1 >1 ·Η .. -Η -Η <0 φ Ο
In Ο | Κ σ__«_ « > ·Ρ_ Μ ω -η —« ^3 0) ι—I Ή 4J03 Ui C0 Μ >ι >η Ρ «3 φ 3 3 -Ρ >1 Φ Η φ (0 Φ Φ >ι-Ρ -Ρ ΌγΗ Η ιΗ Η φ φ -Ρ
Xl Ui Ui Ui Ui -Ρ ·Η φ 3 -Η ·Η ·Η ·Η ·ΗΌ 1) Ρ-ι Εη Η Ε-*__Ε-ι_« —' ω :φ 3 ε -Ρ ιΗ ω φ •Η -Ρ W W W Μ Ε φ + + + + h e q α ο h α φ φ + + + + + > ε__α__«__ω__m__co_
K K
m O ro ro O m
X X K X
o--o α--o
0=0 0 = 0 I I
• · // \ // \ X · · · ·
ro O «o I II I II
XX·· · · O--O / Ns / • ·
0 = 0 I I
ι O co • ι ι X // \ · · room ·· // \ // \ XIX in o· m x oi ··
p —f— O · · 1 II X o X I II
I "\ / ·· CN O···'
O · ns / O--O
O ι · ·
\·—· CO I 0 = 0 I
/?\ ns ι 0=0 ι 0=0 • ' · · · (Λ \ / //\ m m // \ m m
S ·=· ·· X .X ·· X X
Jrt / \ I II O - O ' I II o--o (rt · · * · · · * ^ Ns / · O NS/ o _— _·__X__·__X_ i
•H
Ό -C φ oo σ O r~ . f\|
| ^ (J I—I T— (N <N| I (N
1 β <6 4Ί -Β9 ~ I f-^-1—=-1
K
P -P O n 0) D O c> WO10 in •h ? <-12 . ^ d tn o o d h · .
λ: m I Λ & w -h < ·§ !-: -g fa o__ jo « d
« H
3 Cn -pm O in w p -P h 3 H ns d -p (rt 'OH EC i—i Λ en OH tn
3 H MO H
Cl ti Ui 4-1 £-1 tn :r0 3 e.
-P H
en o
e o) u ° O
J5 e ΐ + ' +
d S ? ? O
> ε cq cq ca o*
m m A
EK CN o · CN CN il O O ·—· m · · \ / / \ ne \ / h 2 m · · o mz m r s \ / — X x
O--U ·—·- 2 o--U
0=0 0=0 0 = 0 d // \ Z' \ A\ > · · · · · · d * 11 i li i n d · · · · · · « ^ / ^/. '\ / __·__·__ i en
•H
Ό X 0) m in
Sh -P <N CN (N
- - - i - - - -J
19 ., 64169 * — T *ο P+J ^ * O 1/1 <U CJ O _4 O ^ to rcs o □ in π •h 3 £ Τ' O’- ^ h 3 ’V Λ ^ o (0 to 71 3 oo o
(0 -H o Zl O
Λί «0 · M · · CU
h c λ · a λ to -H J’ P* · -· Λ >ig -S Ή -3 *§ 2
Fh Ο -H 3 3 -H -H
_____CO_ CO w « Ή
I P
O 0) to Jn +>
3 tO ft-P
4J to >1 ο ω 10 tO
to 3 -3 to 01 3 3 •rl 3 ·Η Ή (0 3
'CS I—I 0) I H rH <H
Λ t0 +» Ή >i t0 10
3 -Η -H r6 >1 -Η -H
ti E-I « Qj E-ι Eh t
to wd 3E
+J pH Ή to 0) (0 •H -P u U -P 0 _§ o + + + £ Q Q X Ω = ¢0 + + ++ + > 5 m oa u < oa o / \ · • · / \ II · · • · · It \ / / \ · · O ro z ro · · \/ / \ x as II ro z ro η · o--u · · as x II \ / o--u • · 0 — 0 ro2ro \ / I as I ns o = cj
m 2 00 · O-- U I
ns I as // \ I · u —— ο ·· o = o // \ I I n I · · nj o = cj ·· · I h > I ^ / \ // \ ·· td ·=· · O · · ~·\ / td \ I ro I II - ·
« co u as · · I
/ tn' rH
_ ·=·_ x _· CJ
to
•H
r0 x: α> ιχ) r* oo σ>
>H 4H ΓΗ_ (N CM_ CM
20 64 1 69 • * ηΓ Ρ ^ Ο °ο °ο Ο °ο fl) (U ΙΓ> 00 Ο τ— r-
to Τ3 ' *— CN I'm CM
•Η 3 , Γ* 3 °i ^ CO ^ ίβ “ Ρ Ρ Ρ Ρ ρ nj a a a, (¾ ο, ?.! i 5 i i i ^ o__££__«__«__CO £j
M
3 +> W W W W 01 zi 3 3 3 3 Ό <0 fÖ (C (¾
•C >-ί I—I I—I i-H
Ρ M 03 03 03
-Η ·Η -H -H
£-1__£-<__Eh_j H
01 :(0 3 E
4-> >—I
W 0) -H +J o o L <U + +
G C X X Q
03 + 4- 4* 4·
£ CD (33 CJ CD
/ \ • ·
I I
• · · o / \ \ / / \ • · · oo Z ro · · / \ Il X I 2 || II \ / 1 \ / • .· oo 2 00 o = U 00 2 00 \ / K I X I χ ι χ
oo 2 oo O —- U · CJ -- U
Dm X [ // \ J
U ——- cj O = CJ »e 0 = U
_ I I II I
O = CJ · · · · i \ // \ \
• · · · · · I
// \ I II I I II
° · · · o · · I 11 I \\ / • · · · ·
(0 / I //\ I
> · O · · co
* I Λ I tl I
(0 CJ CJ · · CJ
K JP CO . ^ / m ____ eg__s_·_1 X_
03 I
•H ! £ 0) ° *- (N 00 >1 -P_co_ 00 ro ro 21 64169
-P -P
<D ω to ^ •H 3 <H 3 (t) to it] *h X (0 *P 00 >i >1 >f >i (Λ -H *r~i ·ι—i *ΓΊ *n>
£- I—! I—I p^d «H
tu O __»__-o_;_SO_
III I
it] it] it] it]
10 P P 5-1 P
tr> O' O' tri P O O O 0
to -p ·Η -P -P -P -P -P -P
•p m-p ttj+J (tj-p ic-P
TJ EC EC EC EC
jC Ο -h ο ·ρ ο ·η O -h
3 P O P O PO PO
Οι SE Ip « »P « »P t<tp to :rj 3 E -P Ή to 0)
•Η -P
E <D rH C to <U
> S Ό *3 « S*5 co co cm
K X X
y o o
O cm O II
0—0 X
O CO O O
CM X CM CO CM
X O X X X
o — O X o u cm x co (NO co · co O CO co O co
X I X X I X X I X X X
u —j— ο o —-j— o o —-O o--u
0 = 0 0 = 0 0 = 0 0 = 0 I I I I
• · · ·
It] // \ // \ // \ // \ > · · ·· α · ·ο
It] I » I II I ' II · I II
It]·· ·· ··’ ·· ___·__·__·__·_ Q)
-P
to
'U
X p· m VO I" co co ro_co 22 6 4 1 69
•P -M O
α> <υ τ- tn τ» •φ
•Η 3 I
Η 3 CO
ίο tn rn
(C -H
λ; to •h g a, tn -h i>-i & Ή
Cm O 3 --&__ ! §
: -P
i tn ; -h
I 'V
i Λ j g _ i
tn »o 3 ε -P r-H
tn a) o rl P' + G q (ϋ ή C + tn K li a tn > £ ω - -—— tn
M
3 rö i 1-1 tn
H
-P
•H
Ai : -p m 3 E Ά
0 JS
1 m 2 2 / \ 3 • · r*· 1 · • · JJj i \ / ^ I tn 2 m 3 K I K £ u -4— u % ° = v ·* : -« > · · s
<0 1 " (U
«e · · V
X ^ / 3 • (0
-- -S
il 5 tn h •H 1 73 ~ JC 00
>H
_ ! * I, 23 6 4 1 69
Esimerkki 1;
Kartsiseos, jonka koostumus on 80 osaa Plex 6616 (akrylaatti-hartsi, firma Rohm, Darmstadt), 20 osaa trimetylolipropaani-tris-akrylaattia ja 2 osaa fotoinitiaattoria, levitetään filminveto-laitteella 40 pm:n paksuiseksi filmiksi lasilevyille. Näitä filmejä ilmastetaan noin 20 sekuntia ja tämän jälkeen säteilytetään Φ
Hg keskipainepolttirrolla (Hanovia-Gerät, Modell 45080) . Tällöin näytteet kulkevat kuljetushihnalla UV-lampun alitse sellaisella nopeudella, että valotusaika on läpiajoa kohden 0,16 sekuntia.
Seuraavassa taulukossa 2 on toisessa sarakkeessa mainittu läpiajojen lukumäärä (D), jotka vaadittiin liimattomien filmien saamiseksi.
Kolmannessa sarakkeessa on annettu filmien kovuudet eri läpiajokertojen jälkeen,mitattuna König'in mukaan heilurilait-teella.
Viimeinen sarake ilmoittaa hartsi-fotoinitiaattori-seoksen varastointistabiliteetin pimeässä 60°C:ssa.
24 641 69
Taulukko 2 ΓΓ~~ _ . ή~~Τ7~~ ")Keilurikovuudet König'in yaf'istointista- I Käytetty foto- .tarvittavat |nruka.3i\ läpiajokertojen lu- biliteetti vuo-i initiaattori läpiajot_|kjraääränä (D;_;_rokausissa_
i I
no. 1 4 78(40) 94(60) 98 (8D) >30 ! no. 2 4 101 (4D) 114(40) ,116(80) >30 ! j no. 3 4 116(40) ,119(80) 131(80) >30 no. 12 3 95(30) ;10l(4D) >103 (5D) no. 24 3 73(5D) i t
I I
no. 34 4 47 (3D) 72(4D) j 88(50) <30
I I
!---- jα-hydroksipro- 3 68(3D) 75(4D) 87(50) 1 ! piofenoni j (vertailu) j i [ a-inetvylibentso- 5 49(30) j 69(4D) 91(50) I iini “(vertailu) ! t
! I
i ! ‘ jbentsoiini-tert.T 5 93(50) 106(70) 113(9D) <30 butyy1ieetteri j ! (vertailu) 2-fenyyli-dixne- 6 112 (6D) 121 (8D) 130(10d) >30 toksiasetofeno- ni (vertailu) p-metyyli-α,a- 8 92 (8D) looaod) 109 CL2d) <5 cLirnorfolinoase- tofenoni , (vertailu) ! a t a-öiporf olino- 17 84 CL7D) 98CL9D) <1 asetofenoni 1 (vertailu) I___ 25 641 69
Esimerkki 2; 60 osaa Uvimer DV-530 (Fa. Polychrom uretaaniakrylaattia), 37 osaa heksaanidiolidiakrylaattia ja 3 osaa fotonitiaattoria sisältävät hartsiseokset levitettiin 30 pm: n filmipaksuuteen lasilevyille ja valotettiin esimerkin 1 mukaan. Tällöin saatiin seuraavat tulokset.
Taulukko 3 Käytetty Hiertolujuuteen tar- Heilurikovuudet König' initiaattori vittavat läpiajot in mukaan riippuen läpi ajoista (D) no. 1 3 129(3D) no. 2 3 157(7D)
Dietoksiaseto- 10 156(10D) fenoni (vertailu) bentsoiini-tert.- 12 136(12D) butyylieetteri (vertailu) 2-fenyylidime- 8 155(8D) toksiasetofenoni (vertailu)
Esimerkki 3 2 % fotoinitiaattoria liuotettiin tyydyttymättömään poly-esterihartsiin (Crystic PKE 306, Fa. Maeder, Killwangen, Sveitsi). Näillä hartsiseoksilla päällystettiin lasilevyt 60 μπ\:η paksuisella filmillä, Nämä filmit valotettiin, kuten esimerkissä 1 kuvattiin. Seuraava taulukko 4 antaa läpiajokertojen lukumäärän, joka vaaditaan filmien hiertolujuuden saamiseksi, sekä heiluriko-vuuksien riippuvuuden arvosta D.
26 641 69
Taulukko 4 Käytetty foto- Hiertolujuuteen tar- Heilurikovuudet König' initiaattori vittavat läpiajot in mukaan riippuen läpi ajoista (D) no. 1 13 21(13D) 34(15D) 62(17D) no. 2 8 20(8D) 31(10D) 89(12D) no. 3 10 28(10D) 71(1 2D)109(1 2D)
Esimerkki 4; 90 osaa Laromer LP. 8496 (akryylihartsi, firma BASF, BRD) , 10 osaa heksaanidiolidiakrylaattia, 0,5 osaa ByK 300 (juokse-vuutta edistävä aine, ByK-Mallinckrodt, BRD) ja 3 osaa fotoini-tiaattoria kovetuksen suorittamiseen ilmassa, vast. 0,5 osaa fotoinitiaattoria kovetuksen suorittamiseen typessä, sisältävä hartsiseos levitetään 15 μ-spiraalilla sähkömoottorin avulla kartongille. Lyhyen ilmastusajan jälkeen kovetetaan UV-laitteella (Malli PPG-QC-prosessori) 80 watin/cm UV-lampulla. Seuraavassa taulukossa 5 on annettu maksimaalinen kuljetusnopeus m/min. , ilmassa, vast, typessä liimattoroien filmien aikaansaamiseksi.
Taulukko 5 Käytetty foto- Kuljetusnopeus m/min initiaattori .. .
ilma typpi no. 3 20 100 no. 5 20 100 no. 7 30 100 no. 8 30 100 no. 9 5 80 no. 10 5 80 no. 12 3,3 80 no. 13 20 120 no. 29 10 90 no. 30 20 90 li 27 6 4 1 69
Esimerkki 5:
Hartsiseos, jonka koostumus on 70 osaa Ebecryl 593 (polyester iakrylaatti, firma UCB, Belgia), 30 osaa trimetylolipropaa-nitrisakrylaattia, 0,5 osaa ByK 300 (juoksevuutta edistävä aine, firma ByK-Mallinckrodt, BRD), ja 3 osaa fotoinitiaattoria, levitetään vetokehikolla 30-40 μιη:η kerrospaksuuteen lasilevyille. Lyhyen ilmastusajan jälkeen kovetetaan UV-laboratoriolaitteella (malli PPG/Q.C-prosessori) 80 watin/cm:n UV-lampulla. UV-kove-tuksen jälkeen varastoidaan $ tuntia tavallisissa lämpö- ja kosteusolosuhteissa ja tämän jälkeen määritetään heilurikovuus König'in mukaan. Seuraavassa taulukossa 6 mainitaan mitatut hei-lurikovuudet ja niiden riippuvuudet kuljetusnopeudesta lampun alla.
Taulukko 6 Käytetty fotoini- Heilurikovuudet/s tiaattori 10 m/min 25 m/min no. 3 154 146 no. 13 156 147 no. 14 138 137 no. 15 161 152 no. 16 160 144 no. 20 155 143 no. 21 151 127 no. 25 162 154 no. 28 129 98 no. 30 146 129 no. 33 134 108 no. 35 139 116 no. 36 162 149 no. 37 153 13! no. 38 164 152

Claims (5)

28 6 4 1 69
1. Kaavan I mukaisten yhdisteiden käyttö O R1 Ar—C—C—x] I R2 jossa n on luku 1 tai 2, Ar, kun n = 1, tarkoittaa 6-10 C-atomia sisältävää aryyliä, yhdellä tai useammalla tähteistä Cl, Br, C^-C^-alkyyli, CH^-O-, CH.jS-, f enoksi tai fenyylitio, substituoitua fenyyliä, tienyyliä tai furyyliä, ja kun n = 2, tarkoittaa ryhmää -fenyleeni-T-fenylee-ni-, jossa T on -O-, -S-, tai -CI^-, X tarkoittaa ryhmää -NR^R^ tai -OR^, R·^ tarkoittaa 1-4 C-atomia sisältävää alkyyliä, joka voi olla substituoitu -COO(C,-C.-alkyylillä) ja 2 14 R tarkoittaa 1-4 C-atomia sisältävää alkyyliä tai 1 2 R ja R tarkoittavat yhdessä 4 tai 5 C-atomia sisältävää alkyleeniä, 4 5 R ja R tarkoittavat 1-4 C-atomia sisältävää alkyyliä tai 4 5 R ja R yhdessä tarkoittavat 4-5 C-atomia sisältävää alkyleeniä, joka voi olla ryhmän -O-, -NH- tai -N(CH-J- katkaisema, ja 6 ^ R tarkoittaa vetyä, metyyliä tai allyyliä, initiaattoreina tyydyttämättömien yhdisteiden fotopolymeraation.
2. 1-Bentsoyylisykloheksanolin käyttö patenttivaatimuksen 1 mukaisesti.
3. 2-Hydroksi-2-metyyli-(p-klooripropiofenonin) käyttö patenttivaatimuksen 1 mukaisesti.
4. Kaavan I mukaisten yhdisteiden käyttö patenttivaatimuksen 1 mukaisesti initiaattoreina akryyli- tai metakryylihapon esterei-den tai niiden seosten fotopolymeroimiseksi.
5. Kaavan I mukaisten yhdisteiden käyttö patenttivaatimuksen 1 mukaisesti initiaattoreina painovärien fotopolymeroimiseksi.
FI783919A 1977-12-22 1978-12-20 Anvaendning av aromatisk-alifatiska ketoner saosom initiatorerfoer fotopolymerisationen FI64169C (fi)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1588477 1977-12-22
CH1588477 1977-12-22
CH251878 1978-03-08
CH251878 1978-03-08
CH972378 1978-09-18
CH972378 1978-09-18

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI783919A7 FI783919A7 (fi) 1979-06-23
FI64169B FI64169B (fi) 1983-06-30
FI64169C true FI64169C (fi) 1983-10-10

Family

ID=27173751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI783919A FI64169C (fi) 1977-12-22 1978-12-20 Anvaendning av aromatisk-alifatiska ketoner saosom initiatorerfoer fotopolymerisationen

Country Status (15)

Country Link
US (4) US4318791A (fi)
EP (1) EP0003002B1 (fi)
JP (3) JPS5499185A (fi)
AR (1) AR226169A1 (fi)
AT (1) AT369392B (fi)
AU (1) AU529495B2 (fi)
BR (1) BR7808406A (fi)
CA (1) CA1234242A (fi)
DD (1) DD141320A5 (fi)
DK (1) DK157083C (fi)
FI (1) FI64169C (fi)
GR (1) GR71655B (fi)
HU (1) HU181680B (fi)
PL (1) PL117576B1 (fi)
SU (1) SU948300A3 (fi)

Families Citing this family (334)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2722264C2 (de) * 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
DE3107087A1 (de) * 1980-02-29 1981-12-24 CIBA-GEIGY AG, 4002 Basel "photopolymerisierbare gemische und verfahren zur photopolymerisation von kationisch polymerisierbaren verbindungen"
DE3008411A1 (de) * 1980-03-05 1981-09-10 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Neue aromatisch-aliphatische ketone, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche ketone
US4368253A (en) * 1981-01-28 1983-01-11 Ciba-Geigy Corporation Image formation process
DE3203096A1 (de) * 1982-01-30 1983-08-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen
EP0088050B1 (de) * 1982-02-26 1986-09-03 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare gefärbte Massen
US4504372A (en) * 1982-03-12 1985-03-12 Ciba-Geigy Corporation Acid-curable composition containing a masked curing catalyst, and a process for its preparation
DE3360384D1 (en) * 1982-05-07 1985-08-14 Ciba Geigy Ag Process for the preparation of 1-hydroxyketones
DE3367033D1 (en) * 1982-06-15 1986-11-20 Ciba Geigy Ag Process for the photopolymerisation of unsaturated compounds
US4518676A (en) * 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
EP0108037B1 (de) * 1982-10-01 1989-06-07 Ciba-Geigy Ag Propiophenonderivate als Photoinitiatoren für die Photopolymerisation
US4649062A (en) * 1983-01-05 1987-03-10 Ciba-Geigy Corporation Ultraviolet radiation curable vehicle for ceramic colors, composition and method
EP0117233B1 (de) * 1983-02-18 1987-08-26 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare gefärbte Massen
US4524221A (en) * 1983-02-22 1985-06-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for the production of acyloins
EP0117578A3 (en) * 1983-02-23 1985-01-30 Shionogi & Co., Ltd. Azole-substituted alcohol derivatives
US4563438A (en) * 1983-05-06 1986-01-07 Ciba Geigy Corporation Liquid mixture of photoinitiators
EP0138754B1 (de) * 1983-08-15 1988-05-25 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare Gemische
US5145885A (en) * 1983-08-15 1992-09-08 Ciba-Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing aminoaryl ketone photoinitiators
US5124212A (en) * 1983-10-26 1992-06-23 Dow Corning Corporation Articles prepared from fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US4780486A (en) * 1983-10-26 1988-10-25 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US5162389A (en) * 1983-10-26 1992-11-10 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition having a high refractive index
US5169879A (en) * 1983-10-26 1992-12-08 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US4946874A (en) * 1983-10-26 1990-08-07 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition containing two vinyl polymers
IT1176018B (it) * 1984-04-12 1987-08-12 Lamberti Flli Spa Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione
JPS6121104A (ja) * 1984-07-10 1986-01-29 Adeka Argus Chem Co Ltd 光重合開始剤
IT1208494B (it) * 1985-01-28 1989-07-10 Lamberti Flli Spa Polimerizzazione. derivati solforati di chetoni aromatico-alifatici e alifatici come fotoiniziatori di
US4666953A (en) * 1985-03-28 1987-05-19 Loctite Corporation Silicone polyphotoinitiators
DE3512179A1 (de) * 1985-04-03 1986-12-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen
FR2583759B1 (fr) * 1985-06-20 1988-01-15 Atochem Films de polyolefines photoreticulables et leur procede de fabrication
US4741981A (en) * 1985-07-30 1988-05-03 Ricoh Co., Ltd. Photosensitive material for electrophotography contains organic phosphite compounds
US4691059A (en) * 1985-08-30 1987-09-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Copolymerizable UV stabilizers
US5529728A (en) * 1986-01-28 1996-06-25 Q2100, Inc. Process for lens curing and coating
US5415816A (en) 1986-01-28 1995-05-16 Q2100, Inc. Method for the production of plastic lenses
US6201037B1 (en) 1986-01-28 2001-03-13 Ophthalmic Research Group International, Inc. Plastic lens composition and method for the production thereof
US6730244B1 (en) 1986-01-28 2004-05-04 Q2100, Inc. Plastic lens and method for the production thereof
US4879318A (en) * 1986-01-28 1989-11-07 Ophthalmic Research Group International, Inc. Plastic lens composition and method for the production thereof
US5364256A (en) * 1986-01-28 1994-11-15 Ophthalmic Research Group International, Inc. Apparatus for the production of plastic lenses
US4906675A (en) * 1986-02-12 1990-03-06 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Active energy ray-curable composition
US5288917A (en) * 1986-04-15 1994-02-22 Ciba-Geigy Corporation Liquid photoinitiator mixtures
DE3768919D1 (en) * 1986-11-26 1991-05-02 Ciba Geigy Ag Fluessige photoinitiatorgemische.
US5238782A (en) * 1986-12-26 1993-08-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
DE3880868D1 (en) * 1987-03-26 1993-06-17 Ciba Geigy Ag Neue alpha-aminoacetophenone als photoinitiatoren.
GB8715435D0 (en) * 1987-07-01 1987-08-05 Ciba Geigy Ag Forming images
DE3880920T2 (de) * 1987-08-05 1993-10-07 Ciba Geigy Verbindungen.
US4824875A (en) * 1987-11-06 1989-04-25 Dow Corning Corporation UV curable conformal coating with moisture shadow cure
US4956221A (en) * 1987-11-06 1990-09-11 Dow Corning Corporation UV curable conformal coating with moisture shadow cure
US4791045A (en) * 1988-01-25 1988-12-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosensitizers and polymerizable compositions with mannich bases and iodonium salts
FR2626880B1 (fr) * 1988-02-10 1990-06-08 Lafon Labor Derives n-substitues de 2-amino-1-phenylpropanone, procede de preparation et utilisation en therapeutique
DE3816304A1 (de) * 1988-05-13 1989-11-23 Merck Patent Gmbh Fotoinitiator-copolymere
DE3826947A1 (de) * 1988-08-09 1990-02-22 Merck Patent Gmbh Thioxanthonderivate, ihre verwendung als fotoinitiatoren, fotopolymerisierbare bindemittelsysteme sowie verfahren zur herstellung einer strahlungsgehaerteten beschichtung
US5081308A (en) * 1988-12-15 1992-01-14 Ici Americas Inc. Ultraviolet radiation absorbing compositions of bis-1,3-diketone derivatives of cyclohexane
JPH03115267A (ja) * 1989-09-28 1991-05-16 Maruho Kk プロピオフエノン誘導体、その製造方法、それを含む中枢性筋弛緩剤および抗痙攣剤
US4987159A (en) * 1990-04-11 1991-01-22 Fratelli Lamberti S.P.A. Carbonyl derivatives of 1-phenylindan suitable for use as polymerization photoinitiators, their preparation and use
DE4022234A1 (de) * 1990-07-12 1992-01-16 Herberts Gmbh Verfahren zur herstellung von schutz-, hilfs- und isoliermaterialien auf faserbasis, fuer elektrische zwecke und optische leiter unter verwendung von durch energiereiche strahlung haertbaren impraegniermassen
JPH0453573U (fi) * 1990-09-10 1992-05-07
US5160868A (en) * 1990-10-19 1992-11-03 Yang Tai Her Adjustable brush ac/dc servo motor
US5262232A (en) * 1992-01-22 1993-11-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Vibration damping constructions using acrylate-containing damping materials
US5252694A (en) * 1992-01-22 1993-10-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-polymerization adhesive, coating, film and process for making the same
US6492413B2 (en) * 1993-01-15 2002-12-10 G.D. Searle & Co. 3.4-diaryl thiophenes and analogs thereof having use as antiinflammatory agents
DE4302123A1 (de) * 1993-01-27 1994-07-28 Herberts Gmbh Verfahren zum Bedrucken von Glashohlkörpern
DK0693002T3 (da) † 1993-04-01 1998-06-02 Ppg Industries Inc Midler til og fremgangsmåder til fremstilling af strålingshærdbare højglansovertræk
WO1994029355A1 (en) * 1993-06-04 1994-12-22 Henkel Corporation Citral acetal ethers of alpha-hydroxy phenyl ketones and polymerizable compositions
US5474995A (en) * 1993-06-24 1995-12-12 Merck Frosst Canada, Inc. Phenyl heterocycles as cox-2 inhibitors
US5865471A (en) 1993-08-05 1999-02-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photo-erasable data processing forms
CA2120838A1 (en) 1993-08-05 1995-02-06 Ronald Sinclair Nohr Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation
US5721287A (en) 1993-08-05 1998-02-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of mutating a colorant by irradiation
US5700850A (en) 1993-08-05 1997-12-23 Kimberly-Clark Worldwide Colorant compositions and colorant stabilizers
US5733693A (en) 1993-08-05 1998-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for improving the readability of data processing forms
US5645964A (en) 1993-08-05 1997-07-08 Kimberly-Clark Corporation Digital information recording media and method of using same
US5773182A (en) 1993-08-05 1998-06-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of light stabilizing a colorant
US6017661A (en) 1994-11-09 2000-01-25 Kimberly-Clark Corporation Temporary marking using photoerasable colorants
US6211383B1 (en) 1993-08-05 2001-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nohr-McDonald elimination reaction
US5681380A (en) 1995-06-05 1997-10-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Ink for ink jet printers
US5643356A (en) 1993-08-05 1997-07-01 Kimberly-Clark Corporation Ink for ink jet printers
US6017471A (en) 1993-08-05 2000-01-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
WO1997001605A1 (en) 1995-06-28 1997-01-16 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel colorants and colorant modifiers
US5514214A (en) * 1993-09-20 1996-05-07 Q2100, Inc. Eyeglass lens and mold spin coater
US5739175A (en) 1995-06-05 1998-04-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer
US6071979A (en) 1994-06-30 2000-06-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor
US6242057B1 (en) 1994-06-30 2001-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition and applications therefor
US5685754A (en) 1994-06-30 1997-11-11 Kimberly-Clark Corporation Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor
US6008268A (en) 1994-10-21 1999-12-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
WO1996039646A1 (en) 1995-06-05 1996-12-12 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel pre-dyes
US5786132A (en) 1995-06-05 1998-07-28 Kimberly-Clark Corporation Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color
US5798015A (en) 1995-06-05 1998-08-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition
US5811199A (en) 1995-06-05 1998-09-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Adhesive compositions containing a photoreactor composition
US5747550A (en) 1995-06-05 1998-05-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material
US5849411A (en) 1995-06-05 1998-12-15 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition
EP0850253B1 (en) * 1995-09-11 1999-12-01 LAMBERTI S.p.A. Betaketosulfonic derivatives suitable to the use as polymerization photoinitiators and photopolymerizable systems containing the same
US6099628A (en) 1996-03-29 2000-08-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5782963A (en) 1996-03-29 1998-07-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
JPH10513502A (ja) 1995-11-28 1998-12-22 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド 改良された着色剤安定剤
US5855655A (en) 1996-03-29 1999-01-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
DE19546899C1 (de) * 1995-12-15 1997-01-09 Herberts Gmbh Überzugsmittel und Verwendung des Überzugsmittels
US5891229A (en) 1996-03-29 1999-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US6022498A (en) 1996-04-19 2000-02-08 Q2100, Inc. Methods for eyeglass lens curing using ultraviolet light
US5712401A (en) * 1996-04-29 1998-01-27 First Chemical Corporation Processes for preparing thioxanthone and derivatives thereof
US6280171B1 (en) 1996-06-14 2001-08-28 Q2100, Inc. El apparatus for eyeglass lens curing using ultraviolet light
SG53043A1 (en) * 1996-08-28 1998-09-28 Ciba Geigy Ag Molecular complex compounds as photoinitiators
DE19635447C1 (de) * 1996-08-31 1997-11-20 Herberts Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Reparaturlackierung
AU7176098A (en) * 1997-05-05 1998-11-27 First Chemical Corporation Biradical photoinitiators
US5989462A (en) * 1997-07-31 1999-11-23 Q2100, Inc. Method and composition for producing ultraviolent blocking lenses
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6150420A (en) * 1998-06-01 2000-11-21 Theramax, Inc. Method for enhanced brain delivery of bupropion
AU4320799A (en) 1998-06-03 1999-12-20 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Neonanoplasts and microemulsion technology for inks and ink jet printing
JP2002517523A (ja) 1998-06-03 2002-06-18 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド 新規な光開始剤およびその利用
WO2000004104A1 (en) 1998-07-20 2000-01-27 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Improved ink jet ink compositions
US6451226B1 (en) 1998-09-25 2002-09-17 Q2100, Inc. Plastic lens compositions
ATE323725T1 (de) 1998-09-28 2006-05-15 Kimberly Clark Co Chelate mit chinoiden gruppen als photoinitiatoren
JP2002528435A (ja) * 1998-10-27 2002-09-03 メルク エンド カムパニー インコーポレーテッド メチルチオフェニルヒドロキシケトンの合成
DE50003989D1 (de) 1999-01-12 2003-11-13 Clariant Finance Bvi Ltd Benzophenone und ihre verwendung als photoinitiatoren
ATE238393T1 (de) 1999-01-19 2003-05-15 Kimberly Clark Co Farbstoffe, farbstoffstabilisatoren, tintenzusammensetzungen und verfahren zu deren herstellung
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6419873B1 (en) 1999-03-19 2002-07-16 Q2100, Inc. Plastic lens systems, compositions, and methods
US6294698B1 (en) 1999-04-16 2001-09-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoinitiators and applications therefor
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
US6960312B2 (en) 2000-03-30 2005-11-01 Q2100, Inc. Methods for the production of plastic lenses
US6698708B1 (en) 2000-03-30 2004-03-02 Q2100, Inc. Gasket and mold assembly for producing plastic lenses
US6723260B1 (en) 2000-03-30 2004-04-20 Q2100, Inc. Method for marking a plastic eyeglass lens using a mold assembly holder
US6716375B1 (en) 2000-03-30 2004-04-06 Q2100, Inc. Apparatus and method for heating a polymerizable composition
US6632535B1 (en) 2000-06-08 2003-10-14 Q2100, Inc. Method of forming antireflective coatings
JP2004501987A (ja) 2000-06-19 2004-01-22 キンバリー　クラーク　ワールドワイド　インコーポレイテッド 新規な光開始剤及びその用途
DE60136005D1 (en) 2000-12-13 2008-11-13 Ciba Holding Inc Oberflächenaktive photoinitiatoren
US6840752B2 (en) 2001-02-20 2005-01-11 Q2100, Inc. Apparatus for preparing multiple eyeglass lenses
US6962669B2 (en) 2001-02-20 2005-11-08 Q2100, Inc. Computerized controller for an eyeglass lens curing apparatus
US7124995B2 (en) 2001-02-20 2006-10-24 Q2100, Inc. Holder for mold assemblies and molds
US7025910B2 (en) 2001-02-20 2006-04-11 Q2100, Inc Method of entering prescription information
US7074352B2 (en) 2001-02-20 2006-07-11 Q2100, Inc. Graphical interface for monitoring usage of components of a lens forming apparatus
US6893245B2 (en) 2001-02-20 2005-05-17 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a computer system controller
US6875005B2 (en) 2001-02-20 2005-04-05 Q1200, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a gating device
US6712331B2 (en) 2001-02-20 2004-03-30 Q2100, Inc. Holder for mold assemblies with indicia
US6726463B2 (en) 2001-02-20 2004-04-27 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a dual computer system controller
US7045081B2 (en) 2001-02-20 2006-05-16 Q2100, Inc. Method of monitoring components of a lens forming apparatus
US7051290B2 (en) 2001-02-20 2006-05-23 Q2100, Inc. Graphical interface for receiving eyeglass prescription information
US7060208B2 (en) 2001-02-20 2006-06-13 Q2100, Inc. Method of preparing an eyeglass lens with a controller
US7052262B2 (en) 2001-02-20 2006-05-30 Q2100, Inc. System for preparing eyeglasses lens with filling station
US6709257B2 (en) 2001-02-20 2004-03-23 Q2100, Inc. Eyeglass lens forming apparatus with sensor
US6808381B2 (en) 2001-02-20 2004-10-26 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller
US6863518B2 (en) 2001-02-20 2005-03-08 Q2100, Inc. Mold filing apparatus having multiple fill stations
US7037449B2 (en) 2001-02-20 2006-05-02 Q2100, Inc. Method for automatically shutting down a lens forming apparatus
US6655946B2 (en) 2001-02-20 2003-12-02 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for conveyor and curing units
US6676399B1 (en) 2001-02-20 2004-01-13 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having sensors for tracking mold assemblies
US6758663B2 (en) 2001-02-20 2004-07-06 Q2100, Inc. System for preparing eyeglass lenses with a high volume curing unit
US6899831B1 (en) 2001-02-20 2005-05-31 Q2100, Inc. Method of preparing an eyeglass lens by delayed entry of mold assemblies into a curing apparatus
US6790024B2 (en) 2001-02-20 2004-09-14 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having multiple conveyor systems
US6790022B1 (en) 2001-02-20 2004-09-14 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a movable lamp mount
US6676398B2 (en) 2001-02-20 2004-01-13 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a prescription reader
US6702564B2 (en) 2001-02-20 2004-03-09 Q2100, Inc. System for preparing an eyeglass lens using colored mold holders
US7139636B2 (en) 2001-02-20 2006-11-21 Q2100, Inc. System for preparing eyeglass lenses with bar code reader
US6752613B2 (en) 2001-02-20 2004-06-22 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for initiation of lens curing
US7083404B2 (en) 2001-02-20 2006-08-01 Q2100, Inc. System for preparing an eyeglass lens using a mold holder
US6612828B2 (en) 2001-02-20 2003-09-02 Q2100, Inc. Fill system with controller for monitoring use
US7004740B2 (en) 2001-02-20 2006-02-28 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a heating system
US7011773B2 (en) 2001-02-20 2006-03-14 Q2100, Inc. Graphical interface to display mold assembly position in a lens forming apparatus
ITMI20010733A1 (it) 2001-04-05 2002-10-05 Recordati Chem Pharm Uso di inibitori dell'isoenzina cox-2 per il trattamento dell'incontinenza urinaria
GB0118936D0 (en) * 2001-08-02 2001-09-26 Unilever Plc Improvements relating to colour-safe fabric treatment compositions
TWI312786B (en) * 2001-11-08 2009-08-01 Ciba Sc Holding Ag Novel difunctional photoinitiators
AU2002359715A1 (en) * 2001-12-19 2003-07-09 The University Of Texas Health Science Center At San Antonio Implant coatings
GB0205276D0 (en) * 2002-03-06 2002-04-17 Unilever Plc Bleaching composition
US7044429B1 (en) 2002-03-15 2006-05-16 Q2100, Inc. Methods and systems for coating eyeglass lens molds
US6464484B1 (en) 2002-03-30 2002-10-15 Q2100, Inc. Apparatus and system for the production of plastic lenses
JP2004043433A (ja) * 2002-04-26 2004-02-12 Kitai Kagi Kofun Yugenkoshi モルフォリノケトン誘導体及びその用途
US20030225179A1 (en) * 2002-04-26 2003-12-04 Chiu Chingfan Chris Novel morpholinoketone derivatives, and preparation process and uses of the same
CN100523007C (zh) * 2002-07-19 2009-08-05 西巴特殊化学品控股有限公司 新的双官能团光引发剂
US20060209098A1 (en) * 2003-04-16 2006-09-21 Andre Fuchs Radiation curable ink-jet ink containing an alpha hydroxy ketone as photoinitiator
MXPA05011543A (es) * 2003-05-06 2005-12-14 Ciba Sc Holding Ag Novedosos fotoiniciadores tri-funcionales.
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
ITVA20030028A1 (it) * 2003-08-07 2005-02-08 Lamberti Spa Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore.
JP4348253B2 (ja) 2003-08-20 2009-10-21 富士フイルム株式会社 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
ITVA20030040A1 (it) * 2003-10-27 2005-04-28 Lamberti Spa Fotoiniziatore solido bianco in polvere e procedimento per la sua preparazione.
EP2664629B1 (en) 2004-02-02 2014-11-12 Basf Se Functionalised photoinitiators
JP3968089B2 (ja) * 2004-05-25 2007-08-29 シャープ株式会社 電子写真感光体およびそれを備える画像形成装置
JP5080974B2 (ja) * 2004-07-08 2012-11-21 チバ ホールディング インコーポレーテッド α−ヒドロキシ及びα−アミノケトンの製造
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
ATE402920T1 (de) * 2004-09-29 2008-08-15 Ciba Holding Inc Verfahren zur herstellung aromatischer thiophenylketone
TWI378127B (en) * 2004-10-29 2012-12-01 Dainippon Ink & Chemicals Radiation curable ink for ink-jet recording
JP4967378B2 (ja) * 2005-03-29 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 インク組成物
JP2006276640A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Taiyo Ink Mfg Ltd 感光性ペースト及びそれを用いて得られる焼成物パターン
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
ITVA20050032A1 (it) * 2005-05-13 2006-11-14 Lamberti Spa Esteri fenilgliossilici generanti residui a bassa migrabilita' e odore
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
US7884136B2 (en) 2005-06-27 2011-02-08 Biovail Laboratories International S.R.L. Modified-release formulations of a bupropion salt
JP4317853B2 (ja) * 2006-01-12 2009-08-19 シャープ株式会社 電子写真感光体、その製造方法およびそれを用いた画像形成装置
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
US20080132599A1 (en) 2006-11-30 2008-06-05 Seiko Epson Corporation. Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
EP1944173B1 (en) * 2007-01-15 2010-04-21 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP5472670B2 (ja) 2007-01-29 2014-04-16 セイコーエプソン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法及び記録物
EP1955858B1 (en) 2007-02-06 2014-06-18 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording method and device
DE602008006279D1 (de) 2007-02-07 2011-06-01 Fujifilm Corp Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung mit Wartungsvorrichtung für Tintenstrahldruckkopf und Wartungsverfahren für einen Tintenstrahldruckkopf
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
US8894197B2 (en) * 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP5098397B2 (ja) * 2007-03-29 2012-12-12 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェットインク、及びインクジェット記録方法
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
JP4601009B2 (ja) * 2007-03-30 2010-12-22 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インクセット及びインクジェット記録方法
US9199934B2 (en) * 2007-04-04 2015-12-01 Basf Se Alpha-hydroxyketones
EP2028241A1 (en) * 2007-08-09 2009-02-25 Seiko Epson Corporation Photocurable ink composition, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter
JP4816976B2 (ja) * 2007-08-09 2011-11-16 セイコーエプソン株式会社 光硬化型インク組成物
EP2048539A1 (en) 2007-09-06 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
JP4766281B2 (ja) * 2007-09-18 2011-09-07 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物
JP5255369B2 (ja) * 2007-09-25 2013-08-07 富士フイルム株式会社 光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法
US9442372B2 (en) 2007-09-26 2016-09-13 Fujifilm Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
US8129447B2 (en) * 2007-09-28 2012-03-06 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
EP2218756B1 (en) 2007-11-01 2013-07-31 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, curable color composition, color filter and method for producing the same
GB0724863D0 (en) 2007-12-21 2008-01-30 Unilever Plc Fabric treatment active
JP5457636B2 (ja) * 2008-01-22 2014-04-02 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、光硬化性インク組成物、光硬化物の製造方法、及び、インクジェット記録方法
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
JP5147499B2 (ja) 2008-02-13 2013-02-20 富士フイルム株式会社 感光性着色組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP2009269397A (ja) * 2008-02-29 2009-11-19 Seiko Epson Corp 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
KR101671249B1 (ko) 2008-03-17 2016-11-01 후지필름 가부시키가이샤 착색 감광성 조성물, 컬러필터, 액정표시소자, 및 고체촬상소자
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5155920B2 (ja) 2008-03-31 2013-03-06 富士フイルム株式会社 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
KR101646284B1 (ko) 2008-06-06 2016-08-05 바스프 에스이 광개시제 혼합물
JP2010024277A (ja) * 2008-07-16 2010-02-04 Fujifilm Corp インクジェット用インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5106285B2 (ja) * 2008-07-16 2012-12-26 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法
JP5258428B2 (ja) * 2008-07-16 2013-08-07 富士フイルム株式会社 水性インク組成物、インクジェット記録用水性インク組成物およびインクジェット記録方法
JP5441369B2 (ja) * 2008-07-16 2014-03-12 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、インク組成物及びそれを用いたインクジェット記録方法
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
CN102203136B (zh) 2008-11-03 2013-11-13 巴斯夫欧洲公司 光敏引发剂混合物
JP5344892B2 (ja) * 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5340198B2 (ja) 2009-02-26 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物
JP2010209183A (ja) 2009-03-09 2010-09-24 Fujifilm Corp インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
WO2010119924A1 (ja) 2009-04-16 2010-10-21 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子
CN101923282B (zh) * 2009-06-09 2012-01-25 清华大学 纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法
CA2769210A1 (en) 2009-06-29 2011-01-06 Dic Corporation Michael addition reaction product and active energy ray-curable composition
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5692490B2 (ja) * 2010-01-28 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP2011152747A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Seiko Epson Corp 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5554114B2 (ja) 2010-03-29 2014-07-23 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法
EP2371912B1 (en) 2010-03-31 2014-04-30 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
JP2012031388A (ja) 2010-05-19 2012-02-16 Fujifilm Corp 印刷方法、オーバープリントの作製方法、ラミネート加工方法、発光ダイオード硬化性コーティング組成物、及び、発光ダイオード硬化性インク組成物
BR112012032820A2 (pt) * 2010-06-28 2016-11-08 Basf Se uso de uma composição, composição, processo para o alvejamento de manchas ou de sujeira sobre materiais têxteis ou pratos, composição detergentes, de limpeza ou de alvejamento, grânulo, e,composto da fórmula
JP5606817B2 (ja) 2010-07-27 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法
EP2423277A3 (en) 2010-08-27 2012-05-09 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
CN103601628B (zh) * 2010-11-12 2015-11-18 深圳市有为化学技术有限公司 对位或间位官能团化芳香酮类化合物、其制备方法及其光聚合引发剂
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
EP2682438B1 (en) 2011-02-28 2017-04-05 FUJIFILM Corporation Ink composition and image forming method
JP2012201874A (ja) 2011-03-28 2012-10-22 Fujifilm Corp インク組成物、及び画像形成方法
JP5300904B2 (ja) 2011-03-31 2013-09-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
JP5764416B2 (ja) 2011-07-08 2015-08-19 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
JP5756071B2 (ja) 2011-09-29 2015-07-29 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、及びインクジェット記録方法
CN102504054B (zh) * 2011-11-01 2014-07-02 长沙新宇高分子科技有限公司 降低直至消除voc排放的多官能团羟基酮光引发剂
EP2791187A4 (en) * 2011-12-16 2015-07-15 Univ Akron SUBSTITUTED PHENACYLMOLECULES AND LIGHT-SENSITIVE POLYMERS
EP2824149B1 (en) 2012-03-09 2016-07-06 Fujifilm Corporation Radiation-curable ink-jet ink set and ink-jet recording method
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
JP5606567B2 (ja) 2012-04-19 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品
CN104603168B (zh) 2012-09-14 2016-07-06 富士胶片株式会社 固化性组合物及图像形成方法
EP2902096A4 (en) 2012-09-28 2016-01-27 Fujifilm Corp FUNCTIONAL POLYMER MEMBRANE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
ES2655681T3 (es) 2012-09-28 2018-02-21 Fujifilm Corporation Membrana polimérica funcional y método para su producción
EP2909165B1 (en) * 2012-10-19 2018-05-30 IGM Group B.V. Hybrid photoinitiators
CN103012317B (zh) * 2012-12-23 2014-10-15 惠州市华泓新材料有限公司 烷基苯基衍生物和其作为光引发剂的应用
JP6126498B2 (ja) 2013-02-15 2017-05-10 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
EP2965803B1 (en) 2013-03-07 2019-05-15 FUJIFILM Corporation Functional polymer membrane and manufacturing method therefor
JP6004971B2 (ja) 2013-03-12 2016-10-12 富士フイルム株式会社 加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェットインク組成物、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェット記録方法、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクセット、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用加飾シート、加飾シート成形物、及び、インモールド成形品の製造方法
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
CN103709036B (zh) * 2013-12-03 2015-07-29 天津久日化学股份有限公司 双官能团苯甲酰基甲酸羟基酮酯类化合物及含该类化合物的光引发剂
EP3119843B1 (en) * 2014-03-20 2019-10-23 Fujifilm Speciality Ink Systems Limited Printing ink
JP6066960B2 (ja) 2014-05-30 2017-01-25 富士フイルム株式会社 成形加工用活性光線硬化型インク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、成形加工用加飾シート、加飾シート成形物及びインモールド成形品の製造方法
WO2016017537A1 (ja) * 2014-08-01 2016-02-04 株式会社Adeka 新規重合開始剤及び該重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物
CN104151267B (zh) * 2014-08-08 2016-04-27 广东鑫钰新材料股份有限公司 芳基上含氮杂环取代的1-羟基环己基苯甲酮的制备方法
JP6449445B2 (ja) 2014-09-04 2019-01-09 アイ ジー エム マルタ リミテッド 多環式光開始剤
EP3342792B1 (en) 2015-08-27 2020-04-15 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin and film
WO2017135085A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
AU2017214830B2 (en) 2016-02-05 2019-08-29 Fujifilm Corporation Aqueous dispersion, method for manufacturing the same, and image forming method
WO2017135084A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
CN108602367B (zh) 2016-02-10 2020-07-14 富士胶片株式会社 喷墨记录方法
WO2018139658A1 (ja) 2017-01-30 2018-08-02 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物及びインクジェット記録方法
CN110366584B (zh) 2017-02-24 2022-08-23 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像形成方法
EP3587512B1 (en) 2017-02-24 2023-11-29 FUJIFILM Corporation Photocurable ink composition and image forming method
WO2018179947A1 (ja) 2017-03-30 2018-10-04 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
CN110475830B (zh) 2017-04-03 2022-03-25 富士胶片株式会社 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法
WO2018186225A1 (ja) 2017-04-03 2018-10-11 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
ES2867807T3 (es) * 2017-04-24 2021-10-20 Igm Group B V Proceso para la preparación de cetonas a-funcionalizadas
CN110573582B (zh) 2017-04-26 2022-04-19 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像形成方法
EP3643755B1 (en) 2017-06-20 2022-07-13 FUJIFILM Corporation Photocurable ink composition and image forming method
CN111032794B (zh) 2017-07-26 2022-09-06 富士胶片株式会社 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法
WO2019044511A1 (ja) 2017-08-29 2019-03-07 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
CN111133060A (zh) 2017-09-27 2020-05-08 富士胶片株式会社 活性能量射线固化型喷墨油墨、遮光膜及遮光膜的制造方法
WO2019188482A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
EP3778792B1 (en) 2018-03-27 2025-01-22 FUJIFILM Corporation Photocurable ink composition and image forming method
GB201815407D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
GB201815405D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
EP3902878A1 (en) * 2018-12-28 2021-11-03 IGM Resins Italia S.r.l. Photoinitiators
EP3936579A4 (en) 2019-03-06 2022-04-20 FUJIFILM Corporation INK-JET INK COMPOSITION, IMAGE RECORDING METHOD AND IMAGE RECORDED OBJECT
WO2020202628A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像記録方法
GB201904581D0 (en) 2019-04-02 2019-05-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes and processes for their preparation
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
JPWO2022014292A1 (fi) 2020-07-15 2022-01-20
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
GB202015379D0 (en) 2020-09-29 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202015440D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
GB202015436D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compositions and polymer films
GB202015546D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
GB202101153D0 (en) 2021-01-28 2021-03-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer films
GB202104403D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer Film
GB202104408D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Cationically charged membranes
JPWO2023026884A1 (fi) * 2021-08-26 2023-03-02
GB202113996D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Films and their uses
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113997D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
CN113861010B (zh) * 2021-10-13 2024-09-03 湖南勤润新材料有限公司 单取代及多取代官能团芳香酮类化合物、其制备方法及其光聚合引发剂
CN116283520A (zh) * 2021-12-20 2023-06-23 安庆莱霆光电科技有限公司 芳酮、α-羟基酮及α-胺基酮的制备方法
GB202201759D0 (en) 2022-02-11 2022-03-30 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202204625D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202204633D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202204631D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202207568D0 (en) 2022-05-24 2022-07-06 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
EP4594400A1 (en) 2022-09-29 2025-08-06 Fujifilm Manufacturing Europe BV Membranes
CN119948087A (zh) 2022-09-29 2025-05-06 富士胶片制造欧洲有限公司 膜
JP2025532297A (ja) 2022-09-29 2025-09-29 フジフィルム・マニュファクチュアリング・ヨーロッパ・ベスローテン・フエンノートシャップ 膜
WO2024132498A1 (en) 2022-12-22 2024-06-27 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
JP2025540558A (ja) 2022-12-22 2025-12-16 フジフィルム・マニュファクチュアリング・ヨーロッパ・ベスローテン・フエンノートシャップ 膜
IT202300004737A1 (it) 2023-03-14 2024-09-14 Igm Resins Italia Srl Uso di fotoiniziatori specifici in un processo di fotopolimerizzazione utilizzando lunghezze d’onda combinate di luce a led

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE651543C (de) * 1936-03-21 1937-10-16 Chemische Werke Vorm H & E Alb Verfahren zur Herstellung von ªÏ-Dimethylaminoalkylarylketonen
DE671786C (de) * 1937-11-16 1939-02-13 Albert Ag Chem Werke Verfahren zur Herstellung von N-[(Benzoylphenyl)-methyl]-tetrahydro-p-oxazin
US2588123A (en) * 1946-11-13 1952-03-04 Gen Electric Preparation of vinyltetrahydronaphthalenes
US2722512A (en) * 1952-10-23 1955-11-01 Du Pont Photopolymerization process
BE565446A (fi) * 1957-03-06
CH365381A (fr) * 1957-03-29 1962-11-15 Morren Henri Procédé pour la préparation de dérivés de la pipérazine
NL246399A (fi) * 1958-12-19
DE1164388B (de) * 1959-03-02 1964-03-05 Temmler Werke Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Aryl-alkylbromketonen
BE622585A (fi) * 1961-09-18
US3465039A (en) * 1962-09-17 1969-09-02 Andreas J Rottendorf Chem Fab Therapeutically active secondary and tertiary 1 - halogenphenyl - 2 - amino-alkanones (1)
US3171858A (en) * 1963-08-30 1965-03-02 Parke Davis & Co alpha-ethylamino-o-methylisobutyrophenone
NL125868C (fi) * 1964-01-29
DE1694149C2 (de) * 1967-05-06 1976-01-02 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Polyester-Form- und Überzugsmassen
DE1769854C3 (de) * 1968-07-26 1982-08-19 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation
DE1807301A1 (de) * 1968-11-06 1970-06-04 Bayer Ag Neue Buttersaeurederivate
DE1902051A1 (de) * 1969-01-16 1970-08-13 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung alpha-substituierter Benzoine und Benzoinäther
US3578682A (en) * 1969-03-20 1971-05-11 Ash Stevens Inc 2,5-bis-(2-n-lower alkyl amino isopropyl)-1,3,4-trithiolanes and process for the preparation thereof
DE1923266B2 (de) * 1969-05-07 1977-09-29 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Alpha-hydroxymethylbenzoinaether
BE759838A (fr) * 1969-12-04 1971-06-03 Wellcome Found Cetones a activite biologique
US3657088A (en) * 1969-12-17 1972-04-18 Bayer Ag Moulding and coating masses hardenable by uv irradiation
GB1408265A (en) * 1971-10-18 1975-10-01 Ici Ltd Photopolymerisable composition
DE2161085A1 (de) * 1971-12-09 1973-06-14 Basf Ag Bindemittel fuer lichthaertende druckfarben
US3715293A (en) * 1971-12-17 1973-02-06 Union Carbide Corp Acetophenone-type photosensitizers for radiation curable coatings
DE2232365C2 (de) * 1972-07-01 1982-06-09 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Durch UV-Bestrahlung polymerisierbare Gemische
US3829467A (en) * 1972-07-03 1974-08-13 Rorer Inc William H Tetrahydronaphthylalkanoic acids and their derivatives
DE2357866A1 (de) * 1972-12-06 1974-06-12 Sun Chemical Corp Unter strahlungseinwirkung haertbare massen
US3900478A (en) * 1973-01-29 1975-08-19 Squibb & Sons Inc 2-methyl-2-piperidino-3'-(trifluoromethyl) propiophenone
JPS5314041B2 (fi) * 1973-03-31 1978-05-15
GB1469643A (en) * 1973-11-19 1977-04-06 Ici Ltd Photopolymerisable composition
US4048038A (en) * 1974-07-08 1977-09-13 J. M. Huber Corporation Electroflocculation cell
US4017652A (en) * 1974-10-23 1977-04-12 Ppg Industries, Inc. Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same
US4024324A (en) * 1975-07-17 1977-05-17 Uop Inc. Novel polyolefin composition of matter
US3988228A (en) * 1975-08-29 1976-10-26 Eastman Kodak Company Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing aromatic ketones
US4040923A (en) * 1976-06-03 1977-08-09 Eastman Kodak Company Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing aromatic ketones
US4101584A (en) * 1976-12-10 1978-07-18 Napp Chemicals Inc. Bisbenzoin ethers and method of producing benzoin ethers
US4141807A (en) * 1977-03-01 1979-02-27 Stauffer Chemical Company Photopolymerizable composition stabilized with nitrogen-containing aromatic compounds
DE2808459A1 (de) 1977-05-17 1979-08-30 Merck Patent Gmbh Hydroxyalkylphenone und ihre verwendung als photosensibilisatoren
DE2722264C2 (de) 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
US4279720A (en) * 1978-07-13 1981-07-21 Ciba-Geigy Corporation Photocurable composition
EP0007468B1 (de) * 1978-07-13 1982-04-07 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare Zusammensetzungen

Also Published As

Publication number Publication date
DD141320A5 (de) 1980-04-23
AU4277578A (en) 1979-06-28
AT369392B (de) 1982-12-27
FI64169B (fi) 1983-06-30
PL212042A1 (pl) 1979-09-10
DK157083C (da) 1990-03-19
EP0003002B1 (de) 1984-06-13
JPH0134242B2 (fi) 1989-07-18
FI783919A7 (fi) 1979-06-23
JPH01308404A (ja) 1989-12-13
DK576278A (da) 1979-06-23
EP0003002A2 (de) 1979-07-11
CA1234242A (en) 1988-03-15
EP0003002A3 (en) 1980-01-09
US4308400A (en) 1981-12-29
SU948300A3 (ru) 1982-07-30
GR71655B (fi) 1983-06-20
JPH01139554A (ja) 1989-06-01
PL117576B1 (en) 1981-08-31
AU529495B2 (en) 1983-06-09
US4318791A (en) 1982-03-09
JPH0248536B2 (fi) 1990-10-25
BR7808406A (pt) 1980-05-20
JPH0257081B2 (fi) 1990-12-04
US4321118A (en) 1982-03-23
AR226169A1 (es) 1982-06-15
HU181680B (en) 1983-11-28
JPS5499185A (en) 1979-08-04
ATA917678A (de) 1982-05-15
US4315807A (en) 1982-02-16
DK157083B (da) 1989-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI64169C (fi) Anvaendning av aromatisk-alifatiska ketoner saosom initiatorerfoer fotopolymerisationen
TWI651328B (zh) 多功能醯基膦氧化物光起始劑
KR100591030B1 (ko) 옥심 유도체를 포함하는 광중합성 조성물
US20090137771A1 (en) Resin composition
TW200424766A (en) Photocurable compositions
KR20040028996A (ko) 장파장 모노- 및 비스-아실포스핀 옥사이드 및 설파이드와광개시제로서의 이의 용도
MXPA05004015A (es) Mejora en la estabilidad al almacenamiento de fotoiniciadores.
KR102888120B1 (ko) 광개시제
WO2022238591A1 (en) Novel photoinitiators
ES2207485T3 (es) Benzofenonas y su uso como fotoiniciadores.
US4251341A (en) Photoinitiators for UV-curable systems
CN100554234C (zh) 用于制备高厚度涂层的透明的光可聚合体系
US6287749B1 (en) Biradical photoinitiators and photopolymerizable compositions
JP5354353B2 (ja) 自己光重合性化合物を含有する光硬化性組成物及びその硬化方法
EP4482881A1 (en) Photoinitiators
EP4225812B1 (en) Ketoquinolones as photonitiators
EP4598967A1 (en) Polymeric (meth)acrylate photoinitiators
US20040122125A1 (en) Lactone compounds as novel photoinitiators
CA1155863A (en) Sensitizers for photopolymerisation
CN117769557A (zh) 双官能硅基光引发剂

Legal Events

Date Code Title Description
MA Patent expired
PC Transfer of assignment of patent

Owner name: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.

TC Name/ company changed in patent

Owner name: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.

MA Patent expired

Owner name: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.