DK157083B - Anvendelse af aromatisk-aliphatiske ketoner som initiatorer til fotopolymerisation af umaettede forbindelser samt til fotokemisk tvaerbinding af polyolefiner, fotopolymeriserbart system indeholdende saadanne ketoner samt fremgangsmaade til fotopolymerisation af umaettede forbindelser - Google Patents

Anvendelse af aromatisk-aliphatiske ketoner som initiatorer til fotopolymerisation af umaettede forbindelser samt til fotokemisk tvaerbinding af polyolefiner, fotopolymeriserbart system indeholdende saadanne ketoner samt fremgangsmaade til fotopolymerisation af umaettede forbindelser Download PDF

Info

Publication number
DK157083B
DK157083B DK576278AA DK576278A DK157083B DK 157083 B DK157083 B DK 157083B DK 576278A A DK576278A A DK 576278AA DK 576278 A DK576278 A DK 576278A DK 157083 B DK157083 B DK 157083B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
atoms
alkyl
compounds
phenylene
phenyl
Prior art date
Application number
DK576278AA
Other languages
English (en)
Other versions
DK576278A (da
DK157083C (da
Inventor
Louis Felder
Rudolf Kirchmayr
Rinaldo Huesler
Original Assignee
Ciba Geigy Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy Ag filed Critical Ciba Geigy Ag
Publication of DK576278A publication Critical patent/DK576278A/da
Publication of DK157083B publication Critical patent/DK157083B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK157083C publication Critical patent/DK157083C/da

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/10—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D295/104—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
    • C07D295/108—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings to an acyclic saturated chain
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
    • C07C49/703—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups
    • C07C49/747—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups containing six-membered aromatic rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/82—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups
    • C07C49/83—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing hydroxy groups polycyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
    • C07C49/84—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing ether groups, groups, groups, or groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
    • C07D303/32—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by aldehydo- or ketonic radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/22—Radicals substituted by doubly bound hetero atoms, or by two hetero atoms other than halogen singly bound to the same carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/07—Aldehydes; Ketones
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/117—Free radical
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/12—Nitrogen compound containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/12—Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/122—Sulfur compound containing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

DK 157083 B
Den foreliggende opfindelse angâr anvendelsen af aromatisk-aliphatiske ketoner, der er substituerede i a-stilling> som initiatorer til fotopolymerisation af umættede forbindel-ser samt til fotokemisk tværbinding af polyolefiner samt systemer, der kan fotopolymeriseres eller tværbindes og in-deholder sâdarme initiatorer, og en fremgangsmâde til foto-polymerisation af umættede forbindelser.
Potokemiske polymerisationsprocesser har fâet væsentlig be-tydning i teknikken, fremfor ait i sâdanne tilfælde, hvor . tynde lag skal hærdes pâ kort tid,sâsom ved hærdning af lak-overtræk eller ved torring af trykfarver. W-bestrâling un-der tilstedeværelse af fotoinitiatorer viser i sammenligning med traditionelle hærdningsfremgangsmâder en række fordele, hvoraf den vigtigste nok er den hé je hastighed ved fotohærd-ningen. Hastigheden er stærkt afhængig af den anvendte fotoinitiator, og der bar ikke manglet forsog pâ at erstatte de almindelige initiatorer med stadig bedre og mere virksom-me forbindelser. Til de mest virksomme fotoinitiatorer horer derivater af benzoin, fremfor ait benzoinethere, som eksem-pelvis beskrifes i DT-PS nr. 1.694.149, derivater af a-bydroxymetbylbenzoin, som er beskrevet i DT-OS nr. 1.923*266, samt dialkoxyacetophenoner og benzil-monoketaler, som eksem-pelvis er beskrevet i DT-OS nr. 2.261.383 eller nr. 2.232.365. a-Aminoacetophenoner og a-diaminoacetophenoner er for nylig foreslâet i USA-patentskrift nr. 4.048.034 og a-hydroxy-a-alkylolacetophenoner og deres ethere i DT-OS nr. 2.357*866 som fotoinitiatorer.
Ulemper, der er forbundet med disse kendte fotoinitiatorer, er til dels utilstrækkelig lagerstabilitet i morke af de med sâdanne initiatorer blandede fotopolymeriserbare systemer.
ÎTogle benzoinderivater har tilbo jelighed til at fremkalde gulning af de hærdede masser. André initiatorer har util-strækkelig reaktivitet, hvilket ytrer sig ved relativt lange hærdningstider, eller de er for lidt oploselige i de fotopolymeriserbare systemer, eller de inakbiveres hnrtigt af luftens oxygen.
2
DK 15708 3 B
I teknikken er der derfor bebov for fotoinitiatorer, som er letoploselige i substratet, og som ved god lagerstabilitet i m0rke burtigere udleser fotopolynerisation og giver et bojere polymerudbytte pr. tidsenhed end de kendte fotoinitiatorer. Ved anvendelse af sâdanne forbedrede fotoinitiatorer vil de kostbare industrielle W-bestrâlingsanlæg kunne udnyttes bedre.
Det bar vist sig, at forbindelser med de nedenstâende form-ler I, II, III og IV har de krævede egenskaber som fotoinitiatorer, fremfor ait bevirker de en burtig polymérisation, og de bar ikke eller kun i væsentligt ringere grad end de kendte fotoinitiatorer de skildrede ulemper. De egner sig desuden til fotokemisk tværbinding af polyolefiner.
Opfindelsen angâr anvendelsen af aromatisk-aliphatiske ke-. to-ner med formlen O R1 r H i -
Ar--G - C - Σ i (I) - lo J n ΙΓ
Ο Σ Σ O
« I , ! Il
Ar-G-C-R^-C-C-Ar (II) l2 l2 ΈΓ Έτ O R1 R1 o
II I I II
Ar-C-G-Σ' - C - C - Ar (III)
1 p I
R2 e2 eller
O
R1
AV
I Γ\χ an 3
DK 157083 B
hvori n er 1 eller 2,
Ar, nâr n er 1, betyder aryl med 6 til 14 C-atomer, med Cl,
Br, CN, OH, alk, -Oalk, -Salk, -S02alk, -S02phenyl, -COOalk, -SO2NH2/ -SQ2NHalk eller -S02N(alk)2 substitueret phenyl eller thienyl, pyridyl eller furyl, hvori alk betyder en alkylgruppe med 1 til 4 C-atomer, og nâr n er 2, arylen med 6-12 C-atomer eller en gruppe phenylen-T-phenylen-, hvori T betyder -O-, -S-, -S02~, -CH2- eller -CH=CH-, X er en af grupperne -NR^R^, -OR^ eller -O-Si(R^)(R®)9, 10 _ λ X* er en af grupperne -NR -, -N(phenyl)-, -N^ SN- eller -N<R10)-R11-N(R10)-, "-' Y er en direkte binding eller -CH2-, Z er -O-, -S-, “S02-, -CH2" eller -C(CH3)2-, R"*" betyder alkyl med 1-8 C-atomer, der kan være substitueret med OH, C-^^-alkoxy, C2-Cg-acyloxy, -COO-(C^-C^)-alkyl eller -CN, cycloalkyl med 5-6 C-atomer eller phenylalkyl med 7 til 9 C-atomer,
2 1 12 R har en af de for R angivne betydninger, eller R og R
betyder sammen alkylen med 4 til 6 C-atomer eller oxa- eller azaalkylen med 3 til 4 C-atomer, 3 R betyder en.direkte binding, alkylen med 1 til 6 C-atomer, oxaalkylen med 2 til 6 C-atomer, phenylen, diphenylen, en gruppe 2 -phenylen-T-phenylen-, eller de to substituenter R sammen med 3 R og de to C-atomer, hvortil disse substituenter er bundet, danner en cyclopentan- eller cyclohexanring, 4 R betyder alkyl med 1 til 12 C-atomer, med -OH eller -Oalk substitueret alkyl med 2 til 4 C-atomer, allyl, cyclohexyl, phenylalkyl med 7 til 9 C-atomer, phenyl eller med Cl, alk, OH, -Oalk eller -COOalk substitueret phenyl, 5 R betyder alkyl med 1 til 12 C-atomer, med -OH eller -Oalk substitueret alkyl med 2 til 4 C-atomer, allyl, cyclohexyl 4
eller phenylalkyl med 7 til 9 C-atomer, eller sammen med R
betyder alkylen med 4 til 5 C-atomer, der kan være afbrudt af -O-, -NH- eller -Nalk-, eller i tilfælde af forbindelser med 2 formlen I sammen med R alkylen eller phenylalkylen med 1 til 9 C-atomer eller oxa- eller azaalkylen med 2 til 3 C-atomer,
R^ betyder hydrogen, alkyl med 1 til 12 C-atomer, med -OH
DK 157083 B
4 eller -Oalk substitueret alkyl med 2 til 4 C-atomer, allyl, cyclohexyl, benzyl, phenyl eller med Cl eller alk substitue- 2 ret phenyl, eller sammen med R danner alkylen med 3 til 4 C-atomer, 7 8 R og R er ens eller forskellige og betyder alkyl med 1 til 4 C-atomer eller phenyl, R10 alkyl med 1 til 8 C-atomer, cyclohexyl eller benzyl, og R^ er alkylen med 2 til 8 C-atomer, xylylen, phenylen eller en gruppe -phenylen-T-phenylen-, med undtagelse af de forbin- delser med formlen I, hvori n er 1, Ar er phenyl eller med
Cl, Br, alkyl, alkoxy eller dialkylamino substitueret pheiiyl, 1 2 X er hydroxy eller alkoxy, og R og R er usubstitueret alkyl, som initiatorer til fotopolymerisation af umættede forbindel-ser samt til fotokemisk tværbinding af polyolefiner.
Det drejer sig ved disse forbindelser altsâ om aromatisk-aliphatiske ketoner, hvis α-C-atom er tertiært og substitueret med en hydroxyl- eller aminogruppe eller deres for-etherings- eller silyleringsprodukt. Derved kan den alipha-tiske gruppe ogsâ være cycloaliphatisk eller araliphatisk, eller være forbundet med den aromatiske gruppe under ring-slutning, hvilket svarer til de benzocycliske ketoner med formlen IV.
Af de ovenfor angivne substituenter kan R1, R^ og R10 være alkyl med 1 til 8 C-atomer, f.eks. metbyl, ethyl, h tr g propyl, butyl, hexyl eller octyl. R , Έ/ og R som alkyl kan være uforgrenet eller forgrenet alkyl med 1 til 12 C-atomer, sâsom metbyl, ethyl, isopropyl, tert.butyl, iso-amyl, n-hexyl, 2-ethylh.exyl, n-decyl eller n-dodecyl. Alk betyder en lavalkylgruppe med 1 til 4 C-atomer, sâsom metbyl, ethyl, isopropyl, n-butyl eller tert.butyl.
5
DK 157083 B
12 6 R, R og R° i betydning af hydroxyalkyl, alkoxyalkyl eller acyloxyalkyl kan f.eks. være hydroxymethyl, 1-hydroxyetîiyl, 2-hydroxyethyl, 2-isopropoxyeth.yl, 1-hydroxyisobutyl, l-acetyloxybutyl, 1-acryloyloxyîiexyl, 1-hydroxyoctyl, 3- benzoyloxypropyl, methoxymethyl eller isobutoxymethyl.
Acylgruppen kan derved være en rest af en alipbatisk eller
aromatisk carboxylsyre. Rortrinsvis drejer det sig om ΙΑ S
hydro^çyalkylgrupper og deres ethere eller estere. R og Έ/ som hydroxyallyl eller alkoxyalkyl kan f.eks. være 2-hydroxyethyl, 2-butoxyeth.yl, 2-methoxypr opyl, 3-hydroxy-propyl eller 2-etboxybutyl. Rortrinsvis drejer det sig derved om 2-h.ydroxyalkylgrnpper og deres ethere.
1 2
Med CN substitueret alkyl kan i tilfældet af R eller R , f.eks. være 2-cyanoethyl, 2-cyanopropyl eller 4-cyanobutyl, 12 4 i tilfælde af R , R og R ogsâ cyanomethyl, 2-cyanhexyl eller 4-cyanoctyl. Foretrukket er en 2-cyanethylgruppe.
1 2
Med -COQalk substitueret alkyl kan i tilfælde af R og R f.eks. være -CH2COOC2H5, -CH2CH2COOCH3, -(CH2)3-COOCH3 eller -ch2ch(c2h5)-cooc4h9.
1 2 R og R i betydning af cycloalkyl kan være cyclopentyl el- 12 4 5 1er cyclohexyl. R , R , R og R i betydning af phenylalkyl kan f.eks. være benzyl, phenylethyl eller dimethylbenzyl.
Ar sont ary.l eller substitueret phenyl kan f.eks. være phenyl, naphthyl, phenanthryl, anthracyl, diphenylyl, chlorphenyl, bromphenyl, dichlorphenyl, mesityl, isopropylphenyl, cyan-phenyl, hydroxyphenyl, tolyl, tert.butylphenyl, xylyl, iso-propyl-chlorphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, chlortolyl, bromxylyl, methylthiophenyl, butylsulfophenyl, phenylsulfo-phenyl, ethoxycarbonylphenyl, tert-butoxycarbonylphenyl, methylaminosulfophenyl eller dipropylaminosulfophenyl.
1 2 R og R sammen kan betyde alkylen eller oxa- eller aza- 1 2 alkylen. I dette tilfælde danner R og R sammen med carbon-atomet, hvortil de er bundet, en cyclopropan-, cyclobutan-, nvr·.! r>r>i»rvt-3n— _ nvpl nhpYan- . pvp! nhpnf an- . +-<=.-(-'r^hTrr1r,iTFnT'^n— _ 6
DK 157083 B
tetrahydropyran-, pyrrolidin- eller piperidinring.
2 5 R og R kan sammen betyde alkylen eller phenylalkylen med 1 til 9 carbonatomer eller oxa- eller azaalkylen. I dette 2 5 2
tilfælde danner R oq· R sammen med carbonatomet, hvortil R
5 er bundet, og N-atomet, hvortil R er bundet, en 3- til 6-leddet ring, sâsom en aziridin-, azetidin-, pyrrolidin-, imidazolidin-, piperidin, piperazin- eller morpholinring.
4 5 R og. R kan sammen betyde alkylen med 4 til 5 C-atomer, der kan være afbrudt af -O-, -NH- eller -Nalk-. I dette tilfælde 4 5 danner R og R . sammen med N-atomet, hvortil de er bundet, en pyrrolidin-, piperidin-, morpholin- eller 4-alkylpiperazinring.
3 11 R kan være alkylen med 1 til 6 C-atomer, R alkylen med 2 til 8 C-atomer. Eksempler herpâ er, indenfor det angivne antal C-atomer, methylen, 1,2-ethylen, 1,3-propylen, 1,4-butylen, 2,2-dimethyl-l,3-propylen, 1,6-hexylen, 2-methyl-3~ethyl-l,4- 3 butylen eller 1,8-octylen. R kan ogsâ være oxaalkylen med 2 til 6 C-atomer, sâsom 2-oxa-l,3-propylen, 3-oxa-2,4-pentylen eller 3-oxa-l,5-pentylen.
Ar kan betyde arylen med 6 til 12 C-atomer, sâsom phenylen, naphthylen eller diphenylen.
Forbindelserne med formlen 17 er, sâfremt Y er en direkte binding, derivater af indanon, cumaranon eller thioeumara-non. ITâr Y er CB^, drejer det sig om derivater af tetralon, chromanon eller thiochromanon.
Opfindelsen angâr især anvendelsen af forbindelser med formlen I eller II, hvori X er en gruppe -ER^R^. Disse forbindelser er ved α-C-atomet forgrenede og med aminogrupper substituerede aryl-allyl-ketoner.
Opfindelsen angâr endvidere især anvendelsen af forbindelser med formlen I eller II, hvori X betyder en gruppe -QR^.
Disse forbindelser er i α-stilling forgrenede og med hydroxyl- eller ethergrupper substituerede aryl-alkyl-keton-
7 DK 157083 B
Opfindelsen angâr endvidere især anvendelsen af f orMndel-ser med formlen I eller II, hvori X betyder an grappe -OSiR^CR^^· Disse forDindelser er i a-stilling forgrenede og med silyloxygrupper saistituerede aryl-alkyl-ketoner.
7 8
Eksempler pâ gruppen -OSiR'(R'©r f.eks. grupperne tri-methylsiloxy, dimethylplienylsiloxy, me t hy 1 dipheny1s i1oxy eller triplienylsiloxy.
Eksempler pâ ifolge opfindelsen anvendelige forbindelser med formlen I, livori n er 1, er folgende: 2-Bydroxy-2-metliyl-propiopîienon 2-Hydroxy-2-eth.yl-propiopli.enon 2-Hydroxy-2-’butyl-propioph.enon 2-Metlioxy-2-metliyl-propioplienon 2-Hydroxy-2-methyl-(p-acetylaminopropioplienon) 2-Hy dr oxy- 2-me tny 1- ( p-me thy 1 thi o-propi ophenon) 2-Hydroxy-2-metliyl-(p-car'betlioxy-propioplienon) 2-Ph.eno xy- 2-me t hy 1 -propi ophenon 2-Allyloxy-2-meth.yl-propioplienon 2-Benzyl oxy- 2-me thy 1-pr opi ophenon 2- ( 2-Meth.oxycarbonyl etb.oxy) -2-metliyl-propioplienon 2- ( 2-Cyane tlioxy ) -2-me tlhyl-pr opiophenon 2-Metlioxyethoxy-2-methyl-propiop]ienon 2-Hydr oxyme th.oxy-2-me thy 1-pr opi oplienon 2-HydroxyetllOxy-2-metL·yl-propiopllenon a-Hydroxy-a, a-bis- ( cyanetHyl ) -acetopHenon Y-Hydroxy-Y-benzoylpimelinsyre-diethylester 2-Di- ( 2-hydr oxye thyl ) -amino-2-me thyl- 3-phenyl-propiopiienon 2-Dimeth.ylamino-2-metliyl-propiop]ienon 2-ΰίβΐ^ΐ3Πΐίηο-2-ιαβΉ^·1-ρΓορΐορΙΐ6ηοη 2-Di~butylamino-2-metliyl-propioplienon 2-Di-llydroxyetL·ylamino-2-metllyl-propiopllenon 2-Piperidino-2-meth.yl-propiop]ienon
s DK 157083B
2- ( 2-Me thy lp iperi dino )-2-methyl-propioph.enon 2-Morpb.olino-2-methyl-propiopbenon 2-Piperazino-2-metliyl-propiopbenon 2- (4-Methylpiperazino ) -2-methyl-propi opbenon 2-Pyrrolidino-2-meth.yl-propioph.enon 2- Methylphenylamino-2-methyl-propiophenon 1-Benzoyl-cyclohexanol 1-Benzoyl-cyclopentanol 1- Benzoyl-cyelopropanol 3- p-Me thoxybenz oyl- 3-dîme thy 1 aminohep t an 6- ( 2-Bydroxyisobutyryl )-tetralin 5- ( 2-Hydr oxyisobutyry 1 ) -indan 6- ( 2-Dimetl]ylam.ino-is obutyryl ) -tetralin 6- (2-Morpholino-isobutyryl)-tetralin 6- ( 2-Piperidino-isobutyryl) -tetralin 6-(2-Piperazino-isobutyryl)-tetralin 2- ( 2-Me thoxybenzoyl ) -2-diallylaminopropan 2- ( 2-Thenoyl ) -2-piperidinopropan 2- ( 2 -U aphthoy 1 ) -2-ae e t oxybut an 2-p-Phenylbenzoyl-2-di-(2-hydroxyet]^l)-aminopropan 1- Methyl-2-o-cblorbenzoyl-piperidin 2- o-Toluyl-2-(trimethylsiloxy)-propan 2-ïïydroxymethoxy-2-methyl-propiophenon 2-Hydroxyme tboxy-2-metliyl- ( 2,5-dimethylpropiophenon) 2-Hydroxym.ethoxy-2-metliyl-(p-isopropylpropiophenon) 2-Hydroxy-2-benzyl-propiophenon 2-Bydroxy-2-(p-metbylbenzyl )-propiopbenon 2-Hydroxy-2-cyc 1 ohexy 1-propi ophenon 2-Hydroxy-2-cyclûpentyl-propiophenon 2- ( 2-Eydr oxyethoxy) -2-methyl-propi ophenon 2-ïïydroxy-2-allyl-propiopbenon
Eksempler pâ forbindelser med formlen I, hvori n er 2, er: 4,4-' -Bis- (α-hydroxy-is obutyryl ) -diphenyloxid 4,4’ -Bis-(a-bydroxy-isobutyryl)-dipnenyl 4,4' -Bis-(a-hydroxy-isobutyryl)-diphenylsulf id 4,4’ -Bis-(a-hydroxy-isobutyryl)-diphenylmethan 4,4' -Bis- (a-piperidino-is obutyryl) -diplienyloxid
9 DK 157083 B
4-,4-1 -Bis-[ oc- (isopropylamino ) -isobutyryl] -diphenyl 4-, 4- ' -Bis- ( α-b enz oyl oxy-i s obutyryl ) - diphenyl oxi d
Eksempler pâ forbindelser med formlen II er: 1.4— Diphenyl-2,3-dimethyl-2,3-dihydroxy-bu.tandion- 1,4 2.4— Dibenzoyl-2,4— dihydroxy-pentan 2,9-Dibenzoyl-2,9-dimethyl-3,8-dioxadecan 2,7-dibenzoyl-2,7-dimethyl-3,6-dioxaoctan 1,6-Diphenyl-2,5-dimethyl-2,5-dihydroxy-hexandion- 1,6 1.4— Diphenyl-2,3-dimetliyl-2,3-bis- ( dime thylamino ) -but an-dion-1 , 4- 1.4— Diphenyl-2,3-dim.etb.yl-2,3-dipiperidyl-but andion-1,4- 1.2- Bis-hydroxy-l, 2-bis-benzoyl-cyclohexan 1.2- Bis-dimethylamino-l, 2-bis-benzoyl-cyclonexan 1.2- Bi s -mo rpbo 1 ino -1,2-bis-benzoyl-cyclohexan
Eksempler pâ forbindelser med formlen III er: 1.4— Bis-(l-benzoyl-isopropyl)-piperazin N,K-Bi s-(α-benzoy1-isopropyl)-butylamin H ,N'-Dimethyl-Ν,ΙΓ -bis-(a-benzoyl-isopropyl)-ethylendiamin.
Eksempler pâ forbindelser med formlen IY er: l-0xo-2-dimethylamino~2-methyl-l ,2,3,4~tetrahydronaphthalen l-0xo-2-hydroxy-2-methyl-l ,2,3,4-tetrahydronaphthalen l-0xo-2-hydroxy-2-methylindan.
Eorbindelserne med formlerne I, II, III og IY er til dels kendte forbindelser, til dels drejer det sig om nye forbindelser.
DK 157083B
10
Disse nye forhindelser kan fremstilles analogt med de kendte forhindelser, hvortil forskellige metoder kommer pâ taie.
Sâledes kan forhindelser med formlen I fremstilles ud fra aromatisk-alipîiatiske ketoner ved felgende reaktionstrin: i o tj 2 -i p CEUONa
Ar--CO-GHRTr __> Ar--CO-CBrE E^ —> J η I— _ln ~ Ό E1 ~f Γ 0 E1
Ar--0-C -Ar--C—C—X
I \ 2 >2 L0CH3 R Jn ]_ E Jn
Som HX kan derved anvendes aminer [C. L. Stevens, Ch. Hung Chang, J. Org. Chem. 27 (1962), 4392] eller vand [C. L.
Stevens, E. Earkas, J. Am. Chem. Soc. 74 (1952), 618,og C. L. Stevens, S. J. IDykstra, J. Am. Chem. Soc. 75 (1953)5 5976].
I mange tilfælde lykkes ogsâ den direkte omsætning af a-hromketoner til forhindelser med formlen Γθ l1 1 ? TTY 11 1
Ar— CO— CBrE j± - > Ar--C — C — X (I) ‘2 — n 1_ — n eksempelvis med aminer, alkalimetalliydroxider eller alkali-phenoxider. I stedet for bromforhindelser kan ogsâ anvendes de tilsvarende chlorforhindelser.
De sâledes opnâede hydroxyketoner med formlen I (X=0H) kan foretheres eller O-silyleres ved de sædvanlige metoder.
Anvender man ved de ovenfor angivne reaktioner i stedet for den monofunktionelle forhindelse HX en difunktionel forhin-delse H-X’-H, opnâc man forhindelser med formlen III.
11 DK 157083 B
Rorbindelser meà formlen II kan fremstilles analogt med dem med formlen I, idet man som udgangsmateriale an vende r di-ketoner med den almene formel R2 R2
I 7 I
Ar - CO - CH - Έ? - CH - CO - Ar
Ligeledes pâ analog mâde opnâr man forbindelserne med formlen IY ud fra cycliske ketoner med formlen 0 1 crÿ som udgangsmateriale.
Eorbindelser med formlen I, hvori R^ er en substitueret alkylgruppe, kan opnâs ud fra forbindelser med formlen
Ar-0 GO-GÏÏ(R2) -X] ^ ved reaktion med aldehyder (R^ = hydroxy- alkyl) eller med en additionsdygtig vinylforbindelse, f.eks.
1 2 med acrylsyreestere eller acrylonitril. Uâr sâvel R som R er substitueret alkyl, kan begge substituenter indfores sam-men ved reaktion mellem en forbindelse Ar-Ë-C0-CH2-Xln og mindst 2 mol af et aldehyd eller en viny 1 fortinde 1 se. Ud fra bydroxyalkylgrupperne R og/eller R kan der ved forethe-ring eller forestering opnâs de tilsvarende alkoxyalkyl-og acyloxyalkylgrupper. Analogt kan ogsâ fremstilles forbindelser med formlen II, III eller IY med substituerede 1 2 alkylgrupper som R eller R .
Kedens aile disse omtalte syntesemetoder gâr ud fra en aro-matisk-aliphatisk keton, hvori en substituent X indfores pâ forskellige mâder, er det i bestemte tilfælde ogsâ mu-ligt at indfore substituenten X allerede under keton-synte-sen ifolge Rriedel-Crafts efter reaktionsligningen: R1 R1
I A1C1, I
X - C - C0C1 + Arïï -*·> Ar - GO - C - X
DK 15 70 83 B
12
Dette fomdsætter, at substituenten Σ ikke angribes imder reaktionsbetingelserne ved Priedel-Crafts-reaktion. Pâ den-ne mâde kan der f.eks. ved anvendelse af heterocycliske carboxylsyrecblorider fremstilles forbindelser med formlen I, hvori X og R1 sammen med G-atomet, hvortil de er bundet, danner en beteroring.
Det fotopolymeriserbare System if0lge opfindelsen er ejen-dommeligt ved, at det bestâr af mindst én umættet fotopoly-meriserbar forbindelse og 0,1 til 20 vægtprocent, fortrins-vis 0,5 til 5 vægtprocent, af en af forbindelserne med den ovenfor anf0rte formel I, II, III eller IV som fotoinitiator samt eventuelt yderligere kendte og almindelige tilsætnings-stoffer.
Fremgangsmâden if0lge opfindelsen til fotopolymerisation af umættede forbindelser er ejendommelig ved, at man som fotoinitiator anvender en forbindelse med den ovenfor anf0rte formel I, “II, III eller IV.
Sâdanne forbindelser er eksempelvis nmættede monomère, sâsom estere af acryl- eller methacrylsyre, f.eks. metbyl-, etbyl-, n- eller tert.butyl-, isooctyl- eller bydroxyetbyl-acrylat, metbyl- eller ethylmetbacrylat, ethylendiaerylat, neopentyl-diacrylat, trimetbylolpropantrisacrylat, penta-erytbrito 1-tetraacrylat eller pentaerytbritoltrisacrylat, acrylonitril, methacrylonitril, acrylamid, metbacrylamid, ÏT-substituerede (metb)acrylamider, vinylestere, sâsom vinyl-acetat, -propionat, -acrylat eller -snccinat, andre vinyl-forbindelser, sâsom vinyletbere, styren, -altylstyrener, ' balogenstyrener, divinylbenzen, vinylnaphthalen, R-vinyl-pyrrolidon, vinylcblorid eller vinylidenchlorid, allylfor-bindelser, sâsom diallylplitbalat, diallylmaleat, triallyl-isocyanurat, triallylpbospbat eller etbylenglycol-diallyl-ether,og blandinger af sâdanne nmættede monomère.
Potopolymeriserbare forbindelser er desnden nmættede oligo- mere eller polymère og deres blandinger med nmættede mono-
13 DK 157083 B
mere. ïïertil 3i0rer termoplastiske barpikser, der indeholder umættede grupper, sâsom fumarsyreestere, allylgrupper eller acrylat- aller methacrylatgrupper. For det meste er disse umættede grupper bundet via funktionelle grupper til hoved-kæden i disse lineære polymère. Stor betydning bar blan-dinger af oligomere med mono- og polyumættede monomère.
Eksempler pâ sâdanne oligomere er umættede polyestere, umættede acrylharpikser og isocyanat- eller epoxid-modifi-cerede acrylatoligomere samt polyetheracrylatoligomere.
Eksempler pâ polyumættede forbindelser er fremfor ait acrylater af dioler og polyoler, f.eks. hexamethylen-di-acrylat eller pentaerythritol-tetracrylat. Ogsâ som mono-umættede monomère foretræfckes acrylater, sâsom. butylacrylat, plienylacrylat, benzylacrylat, 2-eth.yl-h.exylacrylat eller 2-h.ydroxypropylacrylat. Man kan ved valg blandt de forskel-lige repræs entant er for de tre komponenter variere konsi-stensen af den upolymeriserede blanding samt plasticiteten af den polymeriserede barpiks.
Ved siden af disse tre komponentblandinger spiller ved polyesterharpikser fremfor ait to komponentblandinger en stor rolle. Disse bestâr for det meste af en umættet polyester og en vinylforbindelse. De umættede polyestere er oligomere foresteringsprodukter af mindst én umættet di-carboxylsyre, sâsom malein-, fumar- eller citraconsyre, og for det meste mindst én mættet dicarboxylsyre, sâsom pbthal-syre, ravsyre, sebacinsyre eller isoph-tbalsyre, med glycoler, sâsom etbylenglycol, propandiol-1,2, di- eller triethylen-glycol eller tetrametbylenglycol, idet der til modificering for det meste ogsâ medanvendes monocarboxylsyrer og mono-alkoiioler. Disse umættede polyestere oploses sædvanligvis i en vinyl- eller allylforbindelse, fortrinsvis anvendes hertil styren.
Fotopolymeriserbare systemer, som anvendes til de forskel-lige formâl, indebolder for det meste udover de fotopolymeriserbare forbindelser og fotoinitiatoren en række andre tilsætninger.Sâledes er· det i mange tilfælde almindeligt at tilsætte termiske inbibitorer,der fremfor ait skal beskytte mod
14 DK 157083B
for tidlig polymérisation ved fremstilling af systemerne ved blanding af komponenterne. ïïertil anvendes eksempelvis hydroquinon, bydro çjuinonderivater, p-metboxypbenyl, β-napbthylamin eller β-napbtholer. Endvidere kan der tilsæt-tes mindre mængder W-absorbere, f.eks. sâdanne af benz-triazol- eller benzopbenontypen.
. . Œil forhojelse af lagerstabiliteten i morke kan tilsættes kobberforbindelser, sâsom kobbernapb.tb.enat, -stearat eller -octoat, phosphorforbindelser, sâsom tripbenylpbospbin, tributylpbospbin, trietbylphoSphit, tripbenylpbospbit eller tribenzylpbosphat, kvaternære ammonium!orbinde 1ser, sâsom tetramethylammoniumcblorid eller trimetbyl-benzylammonium-chlorid, eller bydroxylaminderivater, sâsom U-diethyl-hydroxylamin. Endvidere kan de fotopolymeriserbare systemer indeholde kædeoverforingsmidler, sâsom ΪΓ-methy 1 dietbano 1-amin, trietbanolamin eller cyclohexen.
For at udelukke den inbiberende virkning af luftens oxygen sætter man hyppigt paraffin eller lignende voksagtige stof-fer til fotobærdelige systemer. Disse stoffer svommer oven-pâ ved polymerisationens begyndelse pâ grund af manglende oploseligbed i den polymère og damier et transparent over-fladelag, der forhindrer luftens adgang. Ogsâ ved indforing af autooxiderbare grupper, eksempelvis allylgrupper, i barpiksen, der skal bærdes, kan luftens oxygen desaktiveres.
Fotoinitiatorerne kan ogsâ anvendes i kombination med radikalinitiatorer, sâsom peroxider, bydroperoxider, keton-peroxider eller percarboxylsyreestere.
Fotopolymeriserbare systemer indeholder endvidere ait ef-ter anvendelsesformâlet fyldstoffer, sâsom kiselsyre, tal-kum eller gips, pigmenter, farvestoffer, fibre, tbixotropi-midler eller flydehjælpemidler.
Eadvidere kan der ogsâ anvendes kombinationer med kendte fotoinitiatorer, sâsom benzoinetbere, dialkoxyacetopbenoner eller benzilketaler.
DK 157083 B
15
Især til f otopolymerisationen af tyn.de lag og trykfarver kan anvendes kombinationer af de omhandlede fotoinitiatorer med aminer og/eller aromatiske ketoner. Eksempler pâ aminer er triethylamin, N-methyldiethanolamin, N-dimethylethanol-amin eller p-dimethylaminobenzoesyreester. Eksempler pâ ketoner er benzophenon, substituerede benzophenonderivater,
Miobier's keton, antraquinon og antbraquinonderivater samt thioxantbon og dets derivater.
Stor betydning har fotohærdningen ved trykfarver, da binde-midlets torringstid er en afgorende faktor for produktions-bastigheden for grafiske produkter og skal vasre af storrel-sesordenen brokdele af sekonder. De omhandlede initiatorer er ogsâ velegnede til fotohærdelige systemer til fremstil-ling af trykplader. Herved anvendes f.eks. blandinger af oploselige lineære polyamider med fotopolymeriserbare monomère, eksempelvis acrylamider, og en fotoinitiator. Eilm eller plader af disse systemer belyses over negativet (eller positivet) af trykforlaget, og de uhærdede bestanddele elueres derefter med et oplesningsmiddel.
Et andet anvendelsesomrâde for W-bærdningen er metalbelæg-ningen, eksempelvis ved lakering af blik til tnber, dâser eller flaskekapsler samt W-hærdning af kunststofbelægnin-ger, eksempelvis af gulv- eller vægbelægninger pâ FVO-basis.
Eksempler pâ UV-hærdning af papirbelœgninger er den farve-lese lakering af etiketter, pladeomslag eller bogomslag.
Ifolge opfindelsen kan forbindelserne med formleme I, II, III og IV ogsâ anvendes som initiatorer til fotokemisk tværbinding af polyolefiner. Pâ taie bertil konmer f.eks. polypropylen, polybuten, polyisobutylen samt copolymerisa-ter, sâsom ethylen-propylen-copolymere, dog fortrinsvis polyetbylen med lav, mellemliggende eller hoj vægtfylde.
Eotoinitiatoreme anvendes til de angivne anvendelsesomrâ-
16 DK 157083B
cent, fortrinsvis ca. 0,5 til 5 vægtprocent, beregnet pâ systemet, der kan fotopolymeriseres eller tværbindes. Ved System menes herved blandingen af den forbindelse, der kan fotopolymeriseres eller t’værtiindes, fotoinitiatoren og de evrige fyld- og tilsætningsstoffer, som anvendes i den pâ-gældende applikation.
Tilsætningen af fotoinitiatorerne til de fotopolymeriser-bare systemer sker i almndelighed ved simpel ire ring, da , de fleste af disse systemer er flydende eller letoploselige.
For det meste dames en oplesning af de ombandlede initia-torer, ivorved deres ensartede fordeling samt transparensen af polymerisaterne er sikret.
Polymerisationen sker ved de kendte fotopolymerisationsme-toder ved bestrâling med lys, der er rigt pâ kortbelget strâling. Egnede som lyskilder er f.eks. kviksolvmiddel-tryk-, -hejtryk- og -lavtrykstrâlere samt superaktiniske lysstofrer, bvis emissiônsmaksima ligger i omrâdet mellem 250 og 400 nm.
Fremstillingen og anvendelsen af de omhandlede fotoinitia-torer er beskrevet nærmere i de felgende eksempler. Heri betyder dele vægtdele og procenter vægtprocenter.
Fremstilling og egenskaber af de i eksemplerne 1 til 6 anvendte forbindelser.
Fremstillingen af de i tabel 1 anferte forbindelser sker ifelge en eller flere af meto-deme A til L.
Metode A. Cblorering af aromatisk-aliphatiske ketoner
Ar-^00-0^½¾] n + n Cl2 —^ Ar-4C0-CE1E2Cl3;a + n HCl
Til gememforelse oploses ketonen i et inert oplosningsmid- del, fortrinsvis i tetrachlormethan, og ved 40-80°C tille-
DK 157083 B
17 des den beregnede mængde cHlor til oplosningen. Derefter til-ledes nitrogen til fjernelse af det opl0ste HCl. Til slut afdestilleres oplosningsmidlet. Eu rensning af den opnâede chlorketon er for det meste ikke nedvendig; produktet kan derefter omsættes ifolge metode D, Τ' eller H.
Metode B. Bromering af aromatisk-alipliatiske ketoner
Ar-tCO-CE1B2H3n + n Br2 —> Ar-tC0-CE1R2Br]n + n HBr
Til germemforelse drypper man ved stuetemperatur den bereg-nede mængde brom til en oplesning af ketonen, eksempelvis i CCl^. Opar"bejdningen og videreforarbejdningen sker som i metode A.
Metode C. Chlorering med sulfurylchlorid
Ar-£-G0-GE1E2H]n + n S02 Cl2 Ar-tGO-CR1E2-Gl]n + n S02 + n HCl
Sulfurylchloridet dryppes ved 40°0 til CCl^-oplesningen af ketonen. Oparbejdning og videreforarbe jdning som ved metode A.
Metode H. Eremstilling af epoxid-mellemprodukterne
Ar-E G0-CE1E2Hal] n + n NaOCH^ Ar-tG^'OE1R23I1 + MaHal OGH-z
O
Hal = Cl eller Br ïïalogenketonen oploses i metlianol, og en oplosning af den stekiometriske mængde natriummetîioxid i metlianol tildryppes ved tilbagesvalingstemperatur. Derefter afdestilleres metbanolet, og remanensen bældes pâ isvand og ekstraberes med etber. Etheroplosningen vaskes med vand, terres over og inddampes. Eemanensen renses ved omkiystallisation
DK 157083B
18 eller vakaumdestillation. Epoxidet kan derefter omsættes ved metode E eller G.
Met ode E. Hydrolyse af epoxiderne ir— 0—(æV + n HgO H > Ar-fCO-CE^OHl + n CH,OH
lAch, Ja 0
Epoxidet overhældes med den 2-til 5-dobbelte vægtmæagde vand og koges under tilsætning af en katalytisk mængde mineral-syre i 1 til 2 timer under tilbagesvaling. Efter afkoling ekstraberes med etber, og etheroplesningen vaskes med vand, torres over og inddampes. Remanensen (râ hydrosy- keton) rens es ved destination eller krystallisation eller se glekromatografi.
Egenskaberne af de rene α-hydroxyketoner er angivet i tabel 1.
Metode E. α-Hydroxyketoner nd fra halogenketoner
Ar-t G0-GE1R2Hal]n + n HaOH Ar-f G0-CR1R20H]n + n NaHal α-Halogenketonen koges i fortyndet eller koncentreret natri-umhydroxidoplosning (20% overskud af NaOH) under tilbagesvaling. Efter endt hydrolyse (kontrol ved kromatografi) isole-res og rens es den râ hydroxyketon som beskrevet i E.
De rene hydroxyketoner er opfert i tabel 1.
Metode G. α-Aminoketoner ud fra epoxiderne
Ar-fd^GR1R2]n + n R^R^NE —> Ar~i 00-011½2^¾¾ n + n CH^OH
OOH-.
y
Epoxidet tvserbindes enten uden oplosningsmiddel eller under 19
DK 157083 B
tilsætning af liât toluen eller xylen me à den stekiometri-ske mængde af aminen, og man lader blandingen reagere i ca.
10-20 timer ved 100-200°0. Yed lavtkogende aminer, sâsom dimethylamin eller diethylamin,udf0res reaktionen i auto-klav. Reaktionsblandingen fortyndes med benzen og ekstraheres med fortyndet saltsyre. Den vandige, sure oplosning g0res alkalisk med NaOH og ekstraheres med etlier, og ether-oplosningen vaskes med vand, terres over ïïa^SO^ og inddam-pes. Det opnâede râprodukt renses ved destination eller krystallisation.
α-Aminoketonerne er opfert i tabel 1.
Metode H. α-Aminoketoner ud fra a-halogenketoner
Ar-tC0-0R1E2Hal]n + 2n Ar-0 C0-CR1E2-Ee\^] + n R^E^M^al α-Halogenketonen blandes ufortyndet eller fortyndet med toluen med 2 molækvivalenter af aminen og opvarmes i 10-20 timer til 100-200°C. I tilfælde af lavtkogende aminer, sâsom dimethylamin eller diethylamin ,gennemfores omsætningen i autoklav. Isolering og rensning sker som ved metode G.
Metode I. Indfering af en carbalkoxyethylgruppe CH2CH2C00Alk
Ar-E-00-CHE1-X]n + n 0¾ = CÏÏ-COOAlk-^Ar-E-CO-OE1-^ 3n
Eetonen opleses i dimethylsulfoxid, dertil sætter man 1,1 molækvivalent EaOH i form af 4 K natriumhydroxidoplesning og tildrypper ved stuetemperatur under afkeling 1,1 molækvivalent acrylester. Reaktionsblandingen fortyndes med is-vand og ekstraheres med toluen. Toluenoplesningen vaskes neutral med vand, terres over Es^SO^ og inddampes. Râpro-duktet renses ved sejlekromatografi eller krystallisation.
20
DK 1570 83 B
Netode K. Forethering af hydroxyketoner
Ar-tC0-CR1E2-0H]n + n R6Hal + n RaOÏÏ -> Âr^ C0-CR1R2-0R6]n + n RaHal α-Eydroxyketonen opl0ses i den ca. 4-dobbelte ‘TOsgtmærLgde dimetRylsulf oxid, og under afk0ling til 10-20°G og omrering tildryppes fra to tildrypningstragte samtidig 1 molækvivalent af alkylhalogenidet R^îal og 1 molækvivalent koncentre-ret natrinmRydroxidoplesning. Der omrores derefter i J ti-mer ved stuetemperatur, Rvorefter det udskilte natrium-halogenld frafiltreres, og filtratet fortyndes med etRer, vaskes med vand, terres over og inddampes. Det resul- terende râprodukt renses ved sejlekromatografi, krystalli-sation eller vakuumdestillation. Eksempler pâ anvendelige RalogenforRindelser er metbyliodid, isopropylRromid, allyl-Rromid, cycloRexyrbromid, RenzylcRlorid eller cRloreddike-syreetbylester. I stedet for et aRkylRalogenid kan ogsâ et dialkylsulfat eller alkyl-arylsulfonat anvendes som for-.etReringsreagens.
21 f
DK 157083 B
ii I CQ O *
S o 2^0 P
60®. 2 ’ un O
® £ - * 2 m <N. <M H
5 μ n . o ^
•H rû O O? U * O
0. an O & - 5 ' - a- 01 h g ^ 5-4 <D m 50 · A 2 à . 4J -5 .
•d m φ +> Π · * j4 rt S : £ · -p : g d +1 P H 01 5j Ο +1 tS m bm -h>+* M « W <U & ® k <D Λί <1)
02 50 S -H
i—I i—I
Sx + + + w ca gR Q O O + +
S ω + + + I Q P
£ 1 « < ffl - ! + + • -I H . ------------- -.__! CQ__ffl_ ! / N ·—·. I v n <n · * / \ N„ a rc ii * · 1/ -,
Uv \ / \ / K . I—— O
aT ? .Τ’ üT f I m δ u { ^ ü—|—u I 3 = i 3-4—u H ° = v ° = v c " V l o = i 0) · · // \ 1 p //\ //\ //\ ? · T=\ o I II i π i h · .· \ )n \s / · ·“· :_· · · . i .. —— -——-
rH S
H CD
H P M ,
CD P-l i—I
rQ O CD
CT3 Pr ncJ en n< 10 ^ EH -L-—-----—-1-'-
DK 157083 B
' 22 i --: ~ 1-1 ^ "Γ T * *
* * VD
o 55 O O O
1 rv ο Ο Ο ο ^ O
p P in CO O O M O
ω covo H m ^ g co
rû ΙΠ iH rH HO H
φ co i in . . in
1d H ^H O H Oi-H H
WW lD ·. ·> ,W * v I "*
•H si .0 G -MO O a O
Μ Φ P, T . O · ï>a 50 £ p P . i> P P·· Cu P Μ M rM rM j*i . 8. .23 .
50 si •H * * · si +3 -P +3 M 02 02 M +» - +> si (D ω Φ en ω Φ H H ^ ô) <]>
Pi id H
02 50 fl ! •H ' i—I ! 1—f •H i if i s ? f f
JP h ! Q Q O Q
PM + + + + +
P S 0 G P3 pa CQ
I, I — - --·.·- , ! 1........... . Ml - - 1 en O m en O en sa i œ ce a O —— o Ü ——- o I es i 0 = 0 en O en 0 = 0
I es I a I
• o — O · cs // \ 1 a /y x m O en · · 0 = 0 ip 9 J10 T » k i a ι π i a _T a ' " o —H— ο · · · o -4— o · ·
H I ^ / # \ I
g n è i : V· a g / x. i v Λ \ i \ ' x._/ ·-· · * 02 T ή • · · · o · · · · \/ N^/ Γ0 ^ // ·-. »__' a____!_
H
Φ 51 Ή »gS__pis 5 a
25 DK 157083 B
r * ° 0° Ο ο 3
ÎH Ο ο' η H
ω es rH ^ l
.û es en J H
Φ Φ I -^r
M çn - O ^ H
CQ CQ O cq O v φ •H H **^j Ο ·Η
0 ® ° O * H CU
K’s&û k, ‘S* Cu o S
êh ® Λ ? 6 Μ . - -φ --:---- Μ- . m .. --------:------- 'ΤΓ ! Φ | 3> Ü ν νί d . .èt . . ε £5 ri ί ω'ω μ 2 1 I fra- -ί * ι-η ^ ,ÿv-^ ι
CQ
50 ri •Η rH ι—I •Η -Ρ Φ ' F! Ο . Η Η 9 . ^ +
' Ρ Ί""* + + Q Q Q
g Ω Q 9 + + ^a a__s «___β__μ κ κ /A.
en o en en Q en · · ta ta ta ι ta ι ii rj--O U -- O · · 0 = 0 0 = 0 \/ Il , ! /A /A 0 = 0 • · · · m en I ι π ι h ta ta \/ \/ uH—°
1 Λ J. in in A
0 w ta ta es · · 1 i es es ' <-* Il * · oc) ·—· en · · //\ //\ \/ / \ ta \/ H ' : > ' X ? sf \ / ~ m ? »Γ
ι : X/ V/· 5-f-o a O—|—O
q l ? ! 0=0 0=0 0=0 2 ί ο = o 0 = 0 i. i · co m en en // \ \ ^ \ ta. ta ta ® ι ιι ι ιι ι h o--ο o——o ; . ; . 1 .
o o · · · _ ta _ta------------- ι
rH
Φ 1 'd ri ri
Ο -H Φ , _ H·® en CO
fri & Μ M es I 01 _N __il_
,, DK 157083 B
24 — T ο —.
* ο * Ο Ο q rsj ο ο U ° ο* Η Ο ο ω Ο ο ή rû 5£î m I Ο Η CD co > η Ο ο Ο Μ Μ ί - . ιΗ "<3· ιη ld cq w ; *-ι · ,η Η η Ο η η fl : *. - * cq 0 Ο Ο . · Ο Ο ί>5 60 · Qj Cli ëh ω ' Φ a g g Oj Oj
^ ’M S - ra X S
PU
O
60 . îh’/^· d -pu d< •H o a>.
d X --P 03 rd
ra · . CQ-H-P
d +> jj 0 -P +> 0 « m dndH w m fd J φ 1¾ Q) -¾ 'a . 'ti t3
CQ
60 d
•H
I—1
t—I
H
-P <D
2¾ ç ο ο o g o + + + · +
®-P 9 a O W Ω K
d 0 4- .j. ++ +
P^gQ fQ pq o <S O
O
/ \ A
A · · *11 . A\ \ / / \ · · ·· O co Z π ·· \ /
Il / \ œia II m Z ro
V/ ï ; °-+-° \/ S-μ B
Ha"? a" \/ o = V £ ? a" ο ΓΪΓ
0 u —J— u . „ V « i u —o I
g . o = u g —1— g \ o = u //\ r? ' I I H I · ·
· o = o ·· · III
• · ·=· · O · · A / I II I \ I CO I II · • · I tn η tri · · i
A/ J / m A/ >H
• · = · tC · __ _O, „1. !...
--a--—i---- cq rH 0 I Ί3 d d r° o ' f" 00 en O 'd
A1 ^ ^ 04 ÇN) CO CO
1 ·ΐ I
25 DK 157083 B
*"* * * * ο Ο ο · O O .
r o cr ο ο o m O O O r-) g O in 00 O r-t
0J £ H Ή CM I Μ O
WM 00 e
,2« -i °i Ί “ 1 S
o. o. a sa e 1 ! ' Μ M' m Μ- ω ÿ 5 -p d «
m · · * . .· S
H -P -P ·Ρ 4J P
S 01 01 01 m P
cS <D . ω <u m & w ^ e. «o...__ 01
bO
ri ri
H
H
m-S ' O ^ ' do + +
§ 4^ O - » W Q
C_| φ + + + + ij a m « o__n__a / \ • ·.
Il
• · · Q
/ \ \ / / \ * ·· co 3 co · ·
/ \ Il W | W II
Il \ / I \ /
• · 003 CO 0 = 0 co 3 CO
\ / W I W I 313
co 3 co O --0*0 -- O
3 I W I /X \ I
o —- O 0 = 0 ·· 0 = 0
I I I II I CO
0 = 0 · ·· · WW
I //\ ^ / //\ OO
H · · · · ·· \ /
Φ // \ I II I I II X
Ph III I / \ o * · · · · O =· ·
Cq / I //\ I \ / • o · · CO ·=· I I I II I / \ o o · · o · · CO 00 N\ / CO ^ // __3__^_W_ V W__·—· 1 d
•rl CD
,û 01 " "
f-i H
Ο Φ CM CO ^ in MD
fn rd co co ro co co
26 DK 157083 B
!
- J
; i ü Φ « ^ t-i Φ CO ^ MM 7 ra ra - '
•rl ri Φ m ® S
ra φ ·Η ·α -H Π i>a bû H H H n.
fq Φ O O ° g
CQ
bO · ?H * · · •d +> - +i -p 5 «j ni 2 B S S ë
m 0 O O
Φ Sj Jj M
6 Μ Μ M
ra
bD
•H
i—1 •h d
40 φ U O
ω S « £§ |_*. .. * “ “ . 3 ra φ >d ra
U
f4 Φ
iH
^ m: μ n cm ri w s as a Y ^ ü y y 2: 'd O <n O £ /\ φ o —> O a · * > ü tn O U 1 , mm n _p» ; , 43 K U . K s V / Φ _l O Ο Π O ro Z n rd
Vj m Z ro MO m ro O 00 æ 1 M d § K 1 as Μ 1 M a I a g_—g p
jq u——ο o—-\—ο o——o u j w -P
£ o = i o = u 0 = 0 o = u y
I I I · H
//\ /y \ 'H
• · ·· · · 111 CO
I II I H 1 II i il ·· ·· · · s\ / &
Ns. / d • · · ____43
-- CO
I ^ b g
•H Φ B
rQ ra 5 f-l H ® Ο Φ r-4 I-1 ü, irj r* CO O r^· ^ ü en _ co__^_ _ λ 27
DK 157083 B
Eksempel 1.
En harpiksblanding af 80 dele "Plex 6616" (acrylatharpiks fra firmaet Rohm, Darmstadt), 20 dele trimetbylolpropan-tris-acrylat og 2 dele fotoinitiator udstryges med et filmtrækningsapparat i en tykkelse pâ 40 /im pâ glasplader.
Risse film afluîtes i ca. 20 sekunder og bestrâles derefter med en ïïg-midde11rykbrænder (ïïanovia-Gerat, model 45080).
Derved bevæges provenue pâ et transportbând forbi under en UV-lampe med en sâdan bastigbed, at der resulterer en effektiv belysningstid pâ 0,16 sekunder pr. gennemlob.
I den folgende tabel 2 er der i den anden spalte angivet det antal gennemlob (D), der er nedvendig for at opnâ klæ-befri film.
I den tredie spalte angives nârdlieden af filmene efter for-skellige antal gennemlob, mâlt med et pendulapparat ifpige Konig.
Den sidste spalte viser lagerstabiliteten af barpiks-foto-initiator-blandingen i morke ved 60°C.
28 DK 157083B
Îabel 2
PendulMrdliecL if0lge
Anvendt Kesd-vendig Eonig efter antal lagerstabili-· fotoinitiator genneml0b genneml^b (D)_tet i dage
Nr. 1 4 78 (4D) 94 (6D) 98(8D) >30
Nr. 2 4 . 101(4D) 114(4D) L16(8D) >30
Nr. 24 3 73(5D)
Nr. 26 3 95(3D) 102(4D) L07(5D) >30
Nr. 37 4 47 (3D) 72 (4D) 88(5D) >30 a-Hydroxypro= 3 68(3D) 75(4D) 87(5D) 1 piophenon (sammenlig-ning) a-Méthylbenzoin 5 49(3D) 69(4D) 91(5D) (sammenlig- ning)
Benzoin-tert.- 5 93(5D) 106(7D) L13(9D) -£30 butyl'ther (sammenlig- ning) 2-Phenyl-di- 6 . 112 (6D) 121(80) L30(10D) ? 30 methoxyaceto- phenon (sammenlig- nmg) o-Methyl-α,a-di- 8 92 (8D) lOO(LOd) 1O9 0.2D) ^5 morpholinoace- tophenon (sammenlig- ning) α,α-DimoipholinQ- 17 84CL7D) 98CL9D) <1 acetophenon (sammenlig- ning)______
29 DK 157083 B
Eksempel 2.
Harpiksb 1 andinger af 60 dele "Uvimer DY-530" (uretban-acrylat fra fa. Polycbrom), 37 dele bexandioldiacrylat og 3 dele fotoinitiator udstryges i en filmtykkelse pâ 30 pâ glasplader og belyses som beskrevet i eksempel 1. Derved opnâ felgende resultater.
Babel 3«
Anvendt foto- Eedvendige Pendulh.ârdh.ed if0lge Konig
initiator germemleb til i affteengiglied af D
gnidefasthed
Er. 1 3 129 (3D)
Kr. 2 3 157 (7D)
Diethoxy- acetopbenon 10 136 (10D) (sammenlig- ning)
Benz o in-1 ert.
butyletber 12 136 (12D) (sammenlig- ning) 2-Phenyldi- methoxyaceto- pbenon 8 155 (8D) (sammenlig- ning)
Eksempel 5.
2% fotoinitiator oploses i en umættet polyesterharpiks ("Orystic PEE 306", fa. Maeder, Eillwangen, Schweiz). Disse barpiksblandinger pâfores i en filmtykkelse pâ 60 jLum pâ glasplader. Disse film belyses som beskrevet i eksempel 1.
Den folgende tabel 4- gengiver antallet af gennemlob gennem belysningsapparatet til gnidefasthed af filmene samt pen-dulbârdheden i afhængighed af D.
, DK 157083 B
30 label 4-,
Anvendt Eodvendige Pendulhâr dhed ifelge Konig
fotoinitia- gennemlob i afhængiglied af D
tor til gnide- fastïLed
Er. 1 13 21 (13D) 34- (15D) 62 (17D)
Nr. 2 8 20 (8D) 31 (10D) 89 (12D)
Eksempel 4.
En LarpiEsblanding af 90 dele "Laromer IR 84-96" (acrylat-harpiks fra firmaet EASP, BRD), 10 dele hexandioldiacrylat, 0,5 dele "Bÿk 300" (fly delg ælpemidde 1 fra firmaet ByK-Mallinckrodt, BRD) og 3 dele fotoinitiator til iiærdning un-der luft eller 0,5 dele fotoinitiator til hærdning under nitrogen pâfores med en 15 μ-spiral elektromotorisk pâ karton. Efter en kort afluftningstid udbœrdes med et TTV-ap-parat (model PPG-QC-Pro zessor) med en W-lampe pâ 80 Watt/ cm. I den folgende tabel 5 er angivet den maksimale trans-porthastighed i m/min., hvorved der under lnft, henholdsvis •under nitrogen, opnâs klæbefri film.
label 5»
Anvendt foto- Transporthastighed (m/min.) initiator Lnft Nitrogen
Nr. 5 20 100
Nr. 29 10 90
Nr. 30 _20__ 90_
31 DK 157083 B
Eksempel 5»
En harpiksblanding af 70 dele "Ebecryl 593" (polyester-acrylat fra firmaet UCB, Belgien), 30 dele trimethylol-propantrisacrylat, 0,5 dele "ByK 500" (flydehgælpemiddel fra firmaet ByK-Mallinckrodt, BED) og 3 dele fotoinitiator pâfores med en pâstrygningsramme i en lagtykkelse pâ 30-40 yU/pâ glasplader. Efter en kort afluftningstid udhærdes med et UV-laboratorieapparat (model PPG/Q.C-Prozessor) med en W-lampe pâ 80 ¥att/cm. Efter UY-hærdningen lagres i 1/2 time i normalklima, og derefter bestemmes pendulbârd-beden ifolge Konig. I den fzlgende tabel 6 er angivet de mâlte pendulbârdbeder i afhængigbed af transporthastigbe-den under lampen.
Tabel 6.
Anvendt foto- Pendulhârdbed i sek. initiator 10 m/min. 25 m/min.
Er. 15 150 132
Er. 17 160 144
Er. 21 155 143
Er. 27 162 154
Er. 30 129 98
Nr. 32 146 129
Nr. 35 134 108
Nr. 38 139 " 116
Nr. 40 153 131
Nr. 41 164 152

Claims (5)

32 DK 157083 B PATENTERA Y.
1. Anvendelse af aromatisk-aliphatiske ketoner med formlen
0 R1 r 11 I “f Ar—C - C - Z (I) -^2 J n O Z Z 0 fl I , I II Ar-C-G-R^-C-C-Ar (II) *2 *2 & ΈΓ OR1 R1 O Il I lu , Ar - G - C - Σ' -C-C-Ar (III) *2 *2 eller î e1 I (iy) hvori n er 1 eller 2, Ar, nâr n er 1, betyder aryl med 6 til 14 C-atomer, med Cl, Br, CN, OH, alk, -Oalk, -Salk, -S02alk, -S02phenyl, -COOalk, -S02NH2, -S02NHalk eller -S02N(alk)2 substitueret phenyl eller thienyl, pyridyl eller furyl, hvori alk betyder en alkylgruppe med 1 til 4 C-atomer, og nâr n er 2, ' arylen med 6-12 C-atomer eller en gruppe phenylen-T-phenylen-, hvori T betyder -O-, -S-, -SO,-, -CH,- aller -CH=CH-, “ a c ^ ç. IR X er en af grupperne -NR R , -OR eller -0-Si(R )(R°),, in ^ XI er en af grupperne -NR -, -N(phenyl)-, -N-' ^N- eller -N(R10)-R11-N(R10)-, Y er en direkte binding eller -CH2~,
53 DK 15708 3 B Z er -O-, -S-, -SO^-, -CH2“ eller R·*" betyder alkyl med 1-8 C-atomer, der kan være substitueret med OH, C^_^-alkoxy, C2~Cg-acyloxy, -COO-(C^-C^)-alkyl eller -CN, cycloalkyl med 5-6 C-atomer eller phenylalkyl med 7 til 9 C-atomer, 2 1 12 R har en af de for R angivne betydninger, eller R og R betyder sammen alkylen med 4 til 6 C-atomer eller oxa- eller azaalkylen med 3 til 4 C-atomer, 3 R betyder en.direkte binding, alkylen med 1 til 6 C-atomer, oxaalkylen med 2 til 6 C-atomer, phenylen, diphenylen, en gruppe 2 -phenylen-T-phenylen-, eller de to substituenter R sammen med 3 R og de to C-atomer, hvortil disse substituenter er bundet, danner en cyclopentan- eller cyclohexanring, 4 R betyder alkyl med 1 til 12 C-atomer, med -OH eller -Oalk substitueret alkyl med 2 til 4 C-atomer, allyl, cyclohexyl, phenylalkyl med 7 til 9 C-atomer, phenyl eller med Cl, alk, OH, -Oalk eller -COOalk substitueret phenyl, 5 R betyder alkyl med 1 til 12 C-atomer, med -OH eller -Oalk substitueret alkyl med 2 til 4 C-atomer, allyl, cyclohexyl 4 eller phenylalkyl med 7 til 9 C-atomer, eller sammen med R betyder alkylen med 4 til 5 C-atomer, der kan være afbrudt af -O-, -NH- eller -Nalk-, eller i tilfælde af forbindelser med 2 formlen I sammen med R alkylen eller phenylalkylen med 1 til
9 C-atomer eller oxa- eller azaallylen med 2 til 3 C-atomer, R^ betyder hydrogen, alkyl med 1 til 12 C-atomer, med -OH eller -Oalk substitueret alkyl med 2 til 4 C-atomer, allyl, cyclohexyl, benzyl, phenyl eller med Cl eller alk substitue- 2 ret phenyl, eller sammen med R danner alkylen med 4 til 4 C-atomer, 7 8 R og R er ens eller forskellige og betyder alkyl med 1 til 4 C-atomer eller phenyl, R^ alkyl med 1 til 8.C-atomer, cyclohexyl eller benzyl, og R^ er allylen med 2 til 8 C-atomer, xylylen, phenylen eller en gruppe -phenylen-T-phenylen-, med undtagelse af de forbindelser med formlen I, hvori n er 1, Ar er phenyl eller med Cl, Br, alkyl, alkoxy eller dialkylamino substitueret phenyl, 1 2 X er hydroxy eller alkoxy, og R og R er usubstitueret alkyl, som initiatorer til fotopolymerisation af umasttede forbindel- DK 157083 B
2. Fotopolymeriserbart System, kendetegnet ved, at det bestâr af mindst ên umættet fotopolymeriserbar for-bindelse og 0,1 til 20 vægtprocent, fortrinsvis 0,5 til 5 vægtprocent, af en af de i krav 1 nævnte forbindelser med formlen I, II, III eller IV som fotoinltiator samt even-tuelt yderligere kendte og almindelige tilsætningsstoffer.
3. Fotopolymeriserbart System if0lge krav 2, kendetegnet ved, at det som umættet forbindelse indeholder en eller flere estere af acryl- eller methacrylsyre.
4. Fotopolymeriserbart System if0lge krav 2, kendetegnet ved, at det drejer sig om en trykfarve.
5. Fremgangsmâde til fotopolymerisation af umættede forbindelser, kendetegnet ved, at man som fotoini-tiator anvender en af de i krav 1 nævnte forbindelser med formlen I, II, ni eller IV.
DK576278A 1977-12-22 1978-12-21 Anvendelse af aromatisk-aliphatiske ketoner som initiatorer til fotopolymerisation af umaettede forbindelser samt til fotokemisk tvaerbinding af polyolefiner, fotopolymeriserbart system indeholdende saadanne ketoner samt fremgangsmaade til fotopolymerisation af umaettede forbindelser DK157083C (da)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1588477 1977-12-22
CH1588477 1977-12-22
CH251878 1978-03-08
CH251878 1978-03-08
CH972378 1978-09-18
CH972378 1978-09-18

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DK576278A DK576278A (da) 1979-06-23
DK157083B true DK157083B (da) 1989-11-06
DK157083C DK157083C (da) 1990-03-19

Family

ID=27173751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK576278A DK157083C (da) 1977-12-22 1978-12-21 Anvendelse af aromatisk-aliphatiske ketoner som initiatorer til fotopolymerisation af umaettede forbindelser samt til fotokemisk tvaerbinding af polyolefiner, fotopolymeriserbart system indeholdende saadanne ketoner samt fremgangsmaade til fotopolymerisation af umaettede forbindelser

Country Status (15)

Country Link
US (4) US4318791A (da)
EP (1) EP0003002B1 (da)
JP (3) JPS5499185A (da)
AR (1) AR226169A1 (da)
AT (1) AT369392B (da)
AU (1) AU529495B2 (da)
BR (1) BR7808406A (da)
CA (1) CA1234242A (da)
DD (1) DD141320A5 (da)
DK (1) DK157083C (da)
FI (1) FI64169C (da)
GR (1) GR71655B (da)
HU (1) HU181680B (da)
PL (1) PL117576B1 (da)
SU (1) SU948300A3 (da)

Families Citing this family (330)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2722264C2 (de) * 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
DE3107087A1 (de) * 1980-02-29 1981-12-24 CIBA-GEIGY AG, 4002 Basel "photopolymerisierbare gemische und verfahren zur photopolymerisation von kationisch polymerisierbaren verbindungen"
DE3008411A1 (de) * 1980-03-05 1981-09-10 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Neue aromatisch-aliphatische ketone, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche ketone
US4368253A (en) * 1981-01-28 1983-01-11 Ciba-Geigy Corporation Image formation process
DE3203096A1 (de) * 1982-01-30 1983-08-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von hydroxyalkylphenonen als initiatoren fuer die strahlungshaertung waessriger prepolymerdispersionen
EP0088050B1 (de) * 1982-02-26 1986-09-03 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare gefärbte Massen
US4504372A (en) * 1982-03-12 1985-03-12 Ciba-Geigy Corporation Acid-curable composition containing a masked curing catalyst, and a process for its preparation
DE3360384D1 (en) * 1982-05-07 1985-08-14 Ciba Geigy Ag Process for the preparation of 1-hydroxyketones
US4498964A (en) * 1982-06-15 1985-02-12 Ciba-Geigy Corporation Process for the photopolymerization of unsaturated compounds
US4518676A (en) * 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
EP0108037B1 (de) * 1982-10-01 1989-06-07 Ciba-Geigy Ag Propiophenonderivate als Photoinitiatoren für die Photopolymerisation
US4649062A (en) * 1983-01-05 1987-03-10 Ciba-Geigy Corporation Ultraviolet radiation curable vehicle for ceramic colors, composition and method
DE3465636D1 (en) * 1983-02-18 1987-10-01 Ciba Geigy Ag Coloured photo-curable mouldings
US4524221A (en) * 1983-02-22 1985-06-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for the production of acyloins
EP0117578A3 (en) * 1983-02-23 1985-01-30 Shionogi & Co., Ltd. Azole-substituted alcohol derivatives
US4563438A (en) * 1983-05-06 1986-01-07 Ciba Geigy Corporation Liquid mixture of photoinitiators
US5145885A (en) * 1983-08-15 1992-09-08 Ciba-Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing aminoaryl ketone photoinitiators
DE3471486D1 (de) * 1983-08-15 1988-06-30 Ciba Geigy Ag Photocurable compositions
US5124212A (en) * 1983-10-26 1992-06-23 Dow Corning Corporation Articles prepared from fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US5162389A (en) * 1983-10-26 1992-11-10 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition having a high refractive index
US4946874A (en) * 1983-10-26 1990-08-07 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition containing two vinyl polymers
US4780486A (en) * 1983-10-26 1988-10-25 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition
US5169879A (en) * 1983-10-26 1992-12-08 Dow Corning Corporation Fast ultraviolet radiation curing silicone composition
IT1176018B (it) * 1984-04-12 1987-08-12 Lamberti Flli Spa Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione
JPS6121104A (ja) * 1984-07-10 1986-01-29 Adeka Argus Chem Co Ltd 光重合開始剤
IT1208494B (it) * 1985-01-28 1989-07-10 Lamberti Flli Spa Polimerizzazione. derivati solforati di chetoni aromatico-alifatici e alifatici come fotoiniziatori di
US4666953A (en) * 1985-03-28 1987-05-19 Loctite Corporation Silicone polyphotoinitiators
DE3512179A1 (de) * 1985-04-03 1986-12-04 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Fotoinitiatoren fuer die fotopolymerisation in waessrigen systemen
FR2583759B1 (fr) * 1985-06-20 1988-01-15 Atochem Films de polyolefines photoreticulables et leur procede de fabrication
US4741981A (en) * 1985-07-30 1988-05-03 Ricoh Co., Ltd. Photosensitive material for electrophotography contains organic phosphite compounds
US4691059A (en) * 1985-08-30 1987-09-01 Minnesota Mining And Manufacturing Company Copolymerizable UV stabilizers
US4879318A (en) * 1986-01-28 1989-11-07 Ophthalmic Research Group International, Inc. Plastic lens composition and method for the production thereof
US5364256A (en) * 1986-01-28 1994-11-15 Ophthalmic Research Group International, Inc. Apparatus for the production of plastic lenses
US6201037B1 (en) 1986-01-28 2001-03-13 Ophthalmic Research Group International, Inc. Plastic lens composition and method for the production thereof
US5529728A (en) * 1986-01-28 1996-06-25 Q2100, Inc. Process for lens curing and coating
US6730244B1 (en) 1986-01-28 2004-05-04 Q2100, Inc. Plastic lens and method for the production thereof
US5415816A (en) 1986-01-28 1995-05-16 Q2100, Inc. Method for the production of plastic lenses
US4906675A (en) * 1986-02-12 1990-03-06 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Active energy ray-curable composition
US5288917A (en) * 1986-04-15 1994-02-22 Ciba-Geigy Corporation Liquid photoinitiator mixtures
EP0269573B1 (de) * 1986-11-26 1991-03-27 Ciba-Geigy Ag Flüssige Photoinitiatorgemische
US5238782A (en) * 1986-12-26 1993-08-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
ES2054861T3 (es) * 1987-03-26 1994-08-16 Ciba Geigy Ag Nuevas alfa-aminoacetofenonas como fotoiniciadores.
GB8715435D0 (en) * 1987-07-01 1987-08-05 Ciba Geigy Ag Forming images
EP0302831B1 (en) * 1987-08-05 1993-05-12 Ciba-Geigy Ag Compounds
US4956221A (en) * 1987-11-06 1990-09-11 Dow Corning Corporation UV curable conformal coating with moisture shadow cure
US4824875A (en) * 1987-11-06 1989-04-25 Dow Corning Corporation UV curable conformal coating with moisture shadow cure
US4791045A (en) * 1988-01-25 1988-12-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosensitizers and polymerizable compositions with mannich bases and iodonium salts
FR2626880B1 (fr) * 1988-02-10 1990-06-08 Lafon Labor Derives n-substitues de 2-amino-1-phenylpropanone, procede de preparation et utilisation en therapeutique
DE3816304A1 (de) * 1988-05-13 1989-11-23 Merck Patent Gmbh Fotoinitiator-copolymere
DE3826947A1 (de) * 1988-08-09 1990-02-22 Merck Patent Gmbh Thioxanthonderivate, ihre verwendung als fotoinitiatoren, fotopolymerisierbare bindemittelsysteme sowie verfahren zur herstellung einer strahlungsgehaerteten beschichtung
US5081308A (en) * 1988-12-15 1992-01-14 Ici Americas Inc. Ultraviolet radiation absorbing compositions of bis-1,3-diketone derivatives of cyclohexane
JPH03115267A (ja) * 1989-09-28 1991-05-16 Maruho Kk プロピオフエノン誘導体、その製造方法、それを含む中枢性筋弛緩剤および抗痙攣剤
US4987159A (en) * 1990-04-11 1991-01-22 Fratelli Lamberti S.P.A. Carbonyl derivatives of 1-phenylindan suitable for use as polymerization photoinitiators, their preparation and use
DE4022234A1 (de) * 1990-07-12 1992-01-16 Herberts Gmbh Verfahren zur herstellung von schutz-, hilfs- und isoliermaterialien auf faserbasis, fuer elektrische zwecke und optische leiter unter verwendung von durch energiereiche strahlung haertbaren impraegniermassen
JPH0453573U (da) * 1990-09-10 1992-05-07
US5160868A (en) * 1990-10-19 1992-11-03 Yang Tai Her Adjustable brush ac/dc servo motor
US5252694A (en) * 1992-01-22 1993-10-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-polymerization adhesive, coating, film and process for making the same
US5262232A (en) * 1992-01-22 1993-11-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Vibration damping constructions using acrylate-containing damping materials
US6492413B2 (en) 1993-01-15 2002-12-10 G.D. Searle & Co. 3.4-diaryl thiophenes and analogs thereof having use as antiinflammatory agents
DE4302123A1 (de) * 1993-01-27 1994-07-28 Herberts Gmbh Verfahren zum Bedrucken von Glashohlkörpern
EP0693002B2 (en) † 1993-04-01 2001-05-02 PPG Industries Ohio, Inc. Methods for producing high gloss radiaton curable coatings
AU6916394A (en) * 1993-06-04 1995-01-03 Henkel Corporation Citral acetal ethers of alpha-hydroxy phenyl ketones and polymerizable compositions
US5474995A (en) 1993-06-24 1995-12-12 Merck Frosst Canada, Inc. Phenyl heterocycles as cox-2 inhibitors
US5681380A (en) 1995-06-05 1997-10-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Ink for ink jet printers
US5645964A (en) 1993-08-05 1997-07-08 Kimberly-Clark Corporation Digital information recording media and method of using same
US6211383B1 (en) 1993-08-05 2001-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nohr-McDonald elimination reaction
US6017661A (en) 1994-11-09 2000-01-25 Kimberly-Clark Corporation Temporary marking using photoerasable colorants
US6017471A (en) 1993-08-05 2000-01-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
US5733693A (en) 1993-08-05 1998-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for improving the readability of data processing forms
US5773182A (en) 1993-08-05 1998-06-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of light stabilizing a colorant
CA2120838A1 (en) 1993-08-05 1995-02-06 Ronald Sinclair Nohr Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation
US5643356A (en) 1993-08-05 1997-07-01 Kimberly-Clark Corporation Ink for ink jet printers
US5865471A (en) 1993-08-05 1999-02-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photo-erasable data processing forms
US5721287A (en) 1993-08-05 1998-02-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of mutating a colorant by irradiation
US5700850A (en) 1993-08-05 1997-12-23 Kimberly-Clark Worldwide Colorant compositions and colorant stabilizers
US5514214A (en) * 1993-09-20 1996-05-07 Q2100, Inc. Eyeglass lens and mold spin coater
US5739175A (en) 1995-06-05 1998-04-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer
US6242057B1 (en) 1994-06-30 2001-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition and applications therefor
US6071979A (en) 1994-06-30 2000-06-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor
US5685754A (en) * 1994-06-30 1997-11-11 Kimberly-Clark Corporation Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor
US6008268A (en) 1994-10-21 1999-12-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US5849411A (en) 1995-06-05 1998-12-15 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Polymer film, nonwoven web and fibers containing a photoreactor composition
US5747550A (en) 1995-06-05 1998-05-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material
US5798015A (en) 1995-06-05 1998-08-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition
WO1996039646A1 (en) 1995-06-05 1996-12-12 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel pre-dyes
US5811199A (en) 1995-06-05 1998-09-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Adhesive compositions containing a photoreactor composition
US5786132A (en) 1995-06-05 1998-07-28 Kimberly-Clark Corporation Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color
MX9710016A (es) 1995-06-28 1998-07-31 Kimberly Clark Co Colorantes novedosos y modificadores de colorante.
EP0850253B1 (en) * 1995-09-11 1999-12-01 LAMBERTI S.p.A. Betaketosulfonic derivatives suitable to the use as polymerization photoinitiators and photopolymerizable systems containing the same
US6099628A (en) 1996-03-29 2000-08-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5855655A (en) 1996-03-29 1999-01-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5782963A (en) 1996-03-29 1998-07-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
ES2175168T3 (es) 1995-11-28 2002-11-16 Kimberly Clark Co Compuestos de colorantes estabilizados por la luz.
DE19546899C1 (de) 1995-12-15 1997-01-09 Herberts Gmbh Überzugsmittel und Verwendung des Überzugsmittels
US5891229A (en) 1996-03-29 1999-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US6022498A (en) 1996-04-19 2000-02-08 Q2100, Inc. Methods for eyeglass lens curing using ultraviolet light
US5712401A (en) * 1996-04-29 1998-01-27 First Chemical Corporation Processes for preparing thioxanthone and derivatives thereof
US6280171B1 (en) 1996-06-14 2001-08-28 Q2100, Inc. El apparatus for eyeglass lens curing using ultraviolet light
SG53043A1 (en) * 1996-08-28 1998-09-28 Ciba Geigy Ag Molecular complex compounds as photoinitiators
DE19635447C1 (de) * 1996-08-31 1997-11-20 Herberts Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Reparaturlackierung
WO1998050437A1 (en) * 1997-05-05 1998-11-12 First Chemical Corporation Biradical photoinitiators
US5989462A (en) 1997-07-31 1999-11-23 Q2100, Inc. Method and composition for producing ultraviolent blocking lenses
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6150420A (en) * 1998-06-01 2000-11-21 Theramax, Inc. Method for enhanced brain delivery of bupropion
EP1000090A1 (en) 1998-06-03 2000-05-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel photoinitiators and applications therefor
JP2002517540A (ja) 1998-06-03 2002-06-18 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド インク及びインクジェット印刷用のネオナノプラスト及びマイクロエマルション技術
CA2336641A1 (en) 1998-07-20 2000-01-27 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Improved ink jet ink compositions
US6228289B1 (en) 1998-09-25 2001-05-08 Q2100, Inc. Plastic lens systems and methods
DE69930948T2 (de) 1998-09-28 2006-09-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc., Neenah Chelate mit chinoiden gruppen als photoinitiatoren
JP2002528435A (ja) * 1998-10-27 2002-09-03 メルク エンド カムパニー インコーポレーテッド メチルチオフェニルヒドロキシケトンの合成
DK1140761T3 (da) 1999-01-12 2004-01-26 Clariant Finance Bvi Ltd Benzophenoner og anvendelse deraf som fotoinitiatorer
EP1144512B1 (en) 1999-01-19 2003-04-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6419873B1 (en) 1999-03-19 2002-07-16 Q2100, Inc. Plastic lens systems, compositions, and methods
US6294698B1 (en) 1999-04-16 2001-09-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoinitiators and applications therefor
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
US6698708B1 (en) 2000-03-30 2004-03-02 Q2100, Inc. Gasket and mold assembly for producing plastic lenses
US6716375B1 (en) 2000-03-30 2004-04-06 Q2100, Inc. Apparatus and method for heating a polymerizable composition
US6960312B2 (en) 2000-03-30 2005-11-01 Q2100, Inc. Methods for the production of plastic lenses
US6723260B1 (en) 2000-03-30 2004-04-20 Q2100, Inc. Method for marking a plastic eyeglass lens using a mold assembly holder
US6632535B1 (en) 2000-06-08 2003-10-14 Q2100, Inc. Method of forming antireflective coatings
EP1297022B1 (en) 2000-06-19 2006-07-19 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel photoinitiators
ATE409708T1 (de) * 2000-12-13 2008-10-15 Ciba Holding Inc Oberflächenaktive photoinitiatoren
US6893245B2 (en) 2001-02-20 2005-05-17 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a computer system controller
US6790024B2 (en) 2001-02-20 2004-09-14 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having multiple conveyor systems
US6702564B2 (en) 2001-02-20 2004-03-09 Q2100, Inc. System for preparing an eyeglass lens using colored mold holders
US7052262B2 (en) 2001-02-20 2006-05-30 Q2100, Inc. System for preparing eyeglasses lens with filling station
US7045081B2 (en) 2001-02-20 2006-05-16 Q2100, Inc. Method of monitoring components of a lens forming apparatus
US6875005B2 (en) 2001-02-20 2005-04-05 Q1200, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a gating device
US7004740B2 (en) 2001-02-20 2006-02-28 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a heating system
US7083404B2 (en) 2001-02-20 2006-08-01 Q2100, Inc. System for preparing an eyeglass lens using a mold holder
US7037449B2 (en) 2001-02-20 2006-05-02 Q2100, Inc. Method for automatically shutting down a lens forming apparatus
US6752613B2 (en) 2001-02-20 2004-06-22 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for initiation of lens curing
US6726463B2 (en) 2001-02-20 2004-04-27 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a dual computer system controller
US6676399B1 (en) 2001-02-20 2004-01-13 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having sensors for tracking mold assemblies
US7025910B2 (en) 2001-02-20 2006-04-11 Q2100, Inc Method of entering prescription information
US7124995B2 (en) 2001-02-20 2006-10-24 Q2100, Inc. Holder for mold assemblies and molds
US6790022B1 (en) 2001-02-20 2004-09-14 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a movable lamp mount
US6676398B2 (en) 2001-02-20 2004-01-13 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a prescription reader
US6808381B2 (en) 2001-02-20 2004-10-26 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller
US7060208B2 (en) 2001-02-20 2006-06-13 Q2100, Inc. Method of preparing an eyeglass lens with a controller
US6655946B2 (en) 2001-02-20 2003-12-02 Q2100, Inc. Apparatus for preparing an eyeglass lens having a controller for conveyor and curing units
US7074352B2 (en) 2001-02-20 2006-07-11 Q2100, Inc. Graphical interface for monitoring usage of components of a lens forming apparatus
US6612828B2 (en) 2001-02-20 2003-09-02 Q2100, Inc. Fill system with controller for monitoring use
US6962669B2 (en) 2001-02-20 2005-11-08 Q2100, Inc. Computerized controller for an eyeglass lens curing apparatus
US6899831B1 (en) 2001-02-20 2005-05-31 Q2100, Inc. Method of preparing an eyeglass lens by delayed entry of mold assemblies into a curing apparatus
US6758663B2 (en) 2001-02-20 2004-07-06 Q2100, Inc. System for preparing eyeglass lenses with a high volume curing unit
US7139636B2 (en) 2001-02-20 2006-11-21 Q2100, Inc. System for preparing eyeglass lenses with bar code reader
US6709257B2 (en) 2001-02-20 2004-03-23 Q2100, Inc. Eyeglass lens forming apparatus with sensor
US6712331B2 (en) 2001-02-20 2004-03-30 Q2100, Inc. Holder for mold assemblies with indicia
US7051290B2 (en) 2001-02-20 2006-05-23 Q2100, Inc. Graphical interface for receiving eyeglass prescription information
US7011773B2 (en) 2001-02-20 2006-03-14 Q2100, Inc. Graphical interface to display mold assembly position in a lens forming apparatus
US6840752B2 (en) 2001-02-20 2005-01-11 Q2100, Inc. Apparatus for preparing multiple eyeglass lenses
US6863518B2 (en) 2001-02-20 2005-03-08 Q2100, Inc. Mold filing apparatus having multiple fill stations
ITMI20010733A1 (it) 2001-04-05 2002-10-05 Recordati Chem Pharm Uso di inibitori dell'isoenzina cox-2 per il trattamento dell'incontinenza urinaria
GB0118936D0 (en) * 2001-08-02 2001-09-26 Unilever Plc Improvements relating to colour-safe fabric treatment compositions
TWI312786B (en) * 2001-11-08 2009-08-01 Ciba Sc Holding Ag Novel difunctional photoinitiators
US7413806B2 (en) * 2001-12-19 2008-08-19 Board Of Regents, The University Of Texas System Implant coatings
GB0205276D0 (en) * 2002-03-06 2002-04-17 Unilever Plc Bleaching composition
US7044429B1 (en) 2002-03-15 2006-05-16 Q2100, Inc. Methods and systems for coating eyeglass lens molds
US6464484B1 (en) 2002-03-30 2002-10-15 Q2100, Inc. Apparatus and system for the production of plastic lenses
US20030225179A1 (en) * 2002-04-26 2003-12-04 Chiu Chingfan Chris Novel morpholinoketone derivatives, and preparation process and uses of the same
JP2004043433A (ja) * 2002-04-26 2004-02-12 Kitai Kagi Kofun Yugenkoshi モルフォリノケトン誘導体及びその用途
EP1523506B1 (en) * 2002-07-19 2012-09-12 Basf Se New difunctional photoinitiators
CA2519524A1 (en) * 2003-04-16 2004-10-28 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Radiation curable ink-jet ink containing an alpha hydroxy ketone as photoinitiator
WO2004099262A1 (en) * 2003-05-06 2004-11-18 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Novel trifunctional photoinitiators
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
ITVA20030028A1 (it) * 2003-08-07 2005-02-08 Lamberti Spa Sistemi fotopolimerizzabili trasparenti per la preparazione di rivestimenti ad elevato spessore.
JP4348253B2 (ja) 2003-08-20 2009-10-21 富士フイルム株式会社 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
ITVA20030040A1 (it) * 2003-10-27 2005-04-28 Lamberti Spa Fotoiniziatore solido bianco in polvere e procedimento per la sua preparazione.
CN1914560A (zh) * 2004-02-02 2007-02-14 西巴特殊化学品控股有限公司 功能化学引发剂
JP3968089B2 (ja) * 2004-05-25 2007-08-29 シャープ株式会社 電子写真感光体およびそれを備える画像形成装置
DE602005015747D1 (de) * 2004-07-08 2009-09-10 Ciba Holding Inc Herstellung von Alphahydroxyketonen
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
WO2006034966A1 (en) * 2004-09-29 2006-04-06 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Process for preparing aromatic thiophenyl ketones
KR20070083840A (ko) * 2004-10-29 2007-08-24 다이니혼 잉키 가가쿠 고교 가부시키가이샤 활성 에너지선 경화형 잉크젯 기록용 잉크
JP4967378B2 (ja) * 2005-03-29 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 インク組成物
JP2006276640A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Taiyo Ink Mfg Ltd 感光性ペースト及びそれを用いて得られる焼成物パターン
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
ITVA20050032A1 (it) * 2005-05-13 2006-11-14 Lamberti Spa Esteri fenilgliossilici generanti residui a bassa migrabilita' e odore
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
EP2502621A1 (en) 2005-06-27 2012-09-26 Valeant International (Barbados) SRL Crystalline forms of bupropion HBr
JP4317853B2 (ja) * 2006-01-12 2009-08-19 シャープ株式会社 電子写真感光体、その製造方法およびそれを用いた画像形成装置
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
US20080132599A1 (en) 2006-11-30 2008-06-05 Seiko Epson Corporation. Ink composition, two-pack curing ink composition set, and recording method and recorded matter using these
EP1944173B1 (en) * 2007-01-15 2010-04-21 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP5472670B2 (ja) 2007-01-29 2014-04-16 セイコーエプソン株式会社 インクセット、インクジェット記録方法及び記録物
US8541063B2 (en) 2007-02-06 2013-09-24 Fujifilm Corporation Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device
EP1955850B1 (en) 2007-02-07 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording device having ink-jet head maintenance device and ink-jet head maintenance method
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
US8894197B2 (en) 2007-03-01 2014-11-25 Seiko Epson Corporation Ink set, ink-jet recording method, and recorded material
JP5098397B2 (ja) * 2007-03-29 2012-12-12 コニカミノルタホールディングス株式会社 インクジェットインク、及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
JP4601009B2 (ja) * 2007-03-30 2010-12-22 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インクセット及びインクジェット記録方法
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
US9199934B2 (en) * 2007-04-04 2015-12-01 Basf Se Alpha-hydroxyketones
JP4816976B2 (ja) * 2007-08-09 2011-11-16 セイコーエプソン株式会社 光硬化型インク組成物
EP2028241A1 (en) * 2007-08-09 2009-02-25 Seiko Epson Corporation Photocurable ink composition, ink cartridge, inkjet recording method and recorded matter
TW200925214A (en) 2007-09-06 2009-06-16 Fujifilm Corp Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
JP4766281B2 (ja) * 2007-09-18 2011-09-07 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録用非水系インク組成物、インクジェット記録方法および記録物
JP5255369B2 (ja) * 2007-09-25 2013-08-07 富士フイルム株式会社 光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法
US9442372B2 (en) 2007-09-26 2016-09-13 Fujifilm Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
US8129447B2 (en) * 2007-09-28 2012-03-06 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
EP2218756B1 (en) 2007-11-01 2013-07-31 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, curable color composition, color filter and method for producing the same
GB0724863D0 (en) 2007-12-21 2008-01-30 Unilever Plc Fabric treatment active
JP5457636B2 (ja) * 2008-01-22 2014-04-02 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、光硬化性インク組成物、光硬化物の製造方法、及び、インクジェット記録方法
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
JP5147499B2 (ja) 2008-02-13 2013-02-20 富士フイルム株式会社 感光性着色組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP2009269397A (ja) * 2008-02-29 2009-11-19 Seiko Epson Corp 不透明層の形成方法、記録方法、インクセット、インクカートリッジ、記録装置
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
CN101978004B (zh) 2008-03-17 2013-11-06 富士胶片株式会社 颜料分散组合物、着色感光性组合物、光固化性组合物、滤色器、液晶显示元件及固体摄像元件
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5155920B2 (ja) 2008-03-31 2013-03-06 富士フイルム株式会社 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
EP2285836B1 (en) 2008-06-06 2012-01-18 Basf Se Photoinitiator mixtures
JP5258428B2 (ja) * 2008-07-16 2013-08-07 富士フイルム株式会社 水性インク組成物、インクジェット記録用水性インク組成物およびインクジェット記録方法
JP5441369B2 (ja) * 2008-07-16 2014-03-12 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、インク組成物及びそれを用いたインクジェット記録方法
JP5106285B2 (ja) * 2008-07-16 2012-12-26 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法
JP2010024277A (ja) * 2008-07-16 2010-02-04 Fujifilm Corp インクジェット用インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
EP2342237B1 (en) 2008-11-03 2014-04-23 Basf Se Photoinitiator mixtures
JP5344892B2 (ja) * 2008-11-27 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物、及びインクジェット記録方法
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5340198B2 (ja) 2009-02-26 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物
JP2010209183A (ja) 2009-03-09 2010-09-24 Fujifilm Corp インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
WO2010119924A1 (ja) 2009-04-16 2010-10-21 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子
CN101923282B (zh) * 2009-06-09 2012-01-25 清华大学 纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法
WO2011001928A1 (ja) 2009-06-29 2011-01-06 Dic株式会社 マイケル付加反応物及び活性エネルギー線硬化性組成物
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
JP2011152747A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Seiko Epson Corp 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5692490B2 (ja) * 2010-01-28 2015-04-01 セイコーエプソン株式会社 水性インク組成物、およびインクジェット記録方法ならびに記録物
JP5554114B2 (ja) 2010-03-29 2014-07-23 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物の製造方法、印刷物成形体、及び印刷物成形体の製造方法
US8573765B2 (en) 2010-03-31 2013-11-05 Fujifilm Corporation Active radiation curable ink composition, ink composition for inkjet recording, printed matter, and method of producing molded article of printed matter
CN102336081A (zh) 2010-05-19 2012-02-01 富士胶片株式会社 印刷方法、套印物的制作方法、层压加工方法、发光二极管固化性涂布组合物及墨液组合物
WO2012000846A1 (en) * 2010-06-28 2012-01-05 Basf Se Metal free bleaching composition
JP5606817B2 (ja) 2010-07-27 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性放射線硬化型インクジェット用インク組成物、印刷物、印刷物成形体、及び印刷物の製造方法
EP2423277A3 (en) 2010-08-27 2012-05-09 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method and inkjet printed article
CN103601628B (zh) * 2010-11-12 2015-11-18 深圳市有为化学技术有限公司 对位或间位官能团化芳香酮类化合物、其制备方法及其光聚合引发剂
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
EP3124557B1 (en) 2011-02-28 2018-08-22 Fujifilm Corporation Ink composition and image forming method
JP2012201874A (ja) 2011-03-28 2012-10-22 Fujifilm Corp インク組成物、及び画像形成方法
JP5300904B2 (ja) 2011-03-31 2013-09-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
JP5764416B2 (ja) 2011-07-08 2015-08-19 富士フイルム株式会社 インク組成物及び画像形成方法
CN103842449B (zh) 2011-09-29 2015-12-23 富士胶片株式会社 喷墨油墨组合物及喷墨记录方法
CN102504054B (zh) * 2011-11-01 2014-07-02 长沙新宇高分子科技有限公司 降低直至消除voc排放的多官能团羟基酮光引发剂
WO2013090892A1 (en) * 2011-12-16 2013-06-20 The University Of Akron Substituted phenacyl molecules and photoresponsive polymers
JP5770765B2 (ja) 2012-03-09 2015-08-26 富士フイルム株式会社 放射線硬化型インクジェットインクセット及びインクジェット記録方法
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
JP5606567B2 (ja) 2012-04-19 2014-10-15 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法、加飾シート、加飾シート成形物、インモールド成形品の製造方法及びインモールド成形品
CN104603168B (zh) 2012-09-14 2016-07-06 富士胶片株式会社 固化性组合物及图像形成方法
SG11201502454PA (en) 2012-09-28 2015-06-29 Fujifilm Corp Functional polymer membrane, and method of producing same
CN104684634B (zh) 2012-09-28 2017-04-26 富士胶片株式会社 高分子功能性膜及其制造方法
WO2014060450A1 (en) * 2012-10-19 2014-04-24 Basf Se Hybrid photoinitiators
CN103012317B (zh) * 2012-12-23 2014-10-15 惠州市华泓新材料有限公司 烷基苯基衍生物和其作为光引发剂的应用
JP6126498B2 (ja) 2013-02-15 2017-05-10 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜及びその製造方法
WO2014136697A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 高分子機能性膜、その製造方法、高分子機能性膜を具備したイオン交換膜およびプロトン伝導膜、およびイオン交換装置
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
JP6004971B2 (ja) 2013-03-12 2016-10-12 富士フイルム株式会社 加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェットインク組成物、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクジェット記録方法、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用インクセット、加飾シート成形物又はインモールド成形品製造用加飾シート、加飾シート成形物、及び、インモールド成形品の製造方法
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
CN103709036B (zh) * 2013-12-03 2015-07-29 天津久日化学股份有限公司 双官能团苯甲酰基甲酸羟基酮酯类化合物及含该类化合物的光引发剂
WO2015140541A1 (en) * 2014-03-20 2015-09-24 Fujifilm Speciality Ink Systems Limited Printing ink
JP6066960B2 (ja) 2014-05-30 2017-01-25 富士フイルム株式会社 成形加工用活性光線硬化型インク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、成形加工用加飾シート、加飾シート成形物及びインモールド成形品の製造方法
CN106470971B (zh) * 2014-08-01 2020-03-03 株式会社艾迪科 新型聚合引发剂及含有该聚合引发剂的自由基聚合性组合物
CN104151267B (zh) * 2014-08-08 2016-04-27 广东鑫钰新材料股份有限公司 芳基上含氮杂环取代的1-羟基环己基苯甲酮的制备方法
WO2016034963A1 (en) 2014-09-04 2016-03-10 Basf Se Polycyclic photoinitiators
EP3686225B1 (en) 2015-08-27 2021-09-22 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition, image forming method, film forming method, resin, image, and film
CN108603024B (zh) 2016-02-05 2021-06-08 富士胶片株式会社 水分散物及其制造方法、以及图像形成方法
CN108602931B (zh) 2016-02-05 2021-03-09 富士胶片株式会社 水分散物及其制造方法、以及图像形成方法
WO2017135088A1 (ja) 2016-02-05 2017-08-10 富士フイルム株式会社 水分散物及びその製造方法、並びに画像形成方法
JP6505875B2 (ja) 2016-02-10 2019-04-24 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP6755339B2 (ja) 2017-01-30 2020-09-16 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インク組成物及びインクジェット記録方法
WO2018155515A1 (ja) 2017-02-24 2018-08-30 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法
CN110366585B (zh) 2017-02-24 2022-04-29 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像形成方法
CN110392718B (zh) 2017-03-30 2022-03-25 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像形成方法
CN110475829B (zh) 2017-04-03 2022-09-20 富士胶片株式会社 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法
JP6900465B2 (ja) 2017-04-03 2021-07-07 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
ES2867807T3 (es) * 2017-04-24 2021-10-20 Igm Group B V Proceso para la preparación de cetonas a-funcionalizadas
JP6924260B2 (ja) 2017-04-26 2021-08-25 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物、及び、画像形成方法
CN110753731B (zh) 2017-06-20 2022-10-28 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像形成方法
CN111032794B (zh) 2017-07-26 2022-09-06 富士胶片株式会社 油墨组合物及其制造方法、以及图像形成方法
JP6820429B2 (ja) 2017-08-29 2021-01-27 富士フイルム株式会社 インク組成物及びその製造方法、並びに画像形成方法
CN111133060A (zh) 2017-09-27 2020-05-08 富士胶片株式会社 活性能量射线固化型喷墨油墨、遮光膜及遮光膜的制造方法
WO2019188482A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
WO2019188481A1 (ja) 2018-03-27 2019-10-03 富士フイルム株式会社 光硬化性インク組成物及び画像形成方法
GB201815407D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules and metal-ions
GB201815405D0 (en) 2018-09-21 2018-11-07 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes suitable for detecting, filtering and/or purifying biomolecules
JP7472429B2 (ja) * 2018-12-28 2024-04-23 アイジーエム レシンス イタリア ソチエタ レスポンサビリタ リミタータ 光開始剤
WO2020179155A1 (ja) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、画像記録方法及び画像記録物
CN113557271B (zh) 2019-03-29 2023-06-02 富士胶片株式会社 光固化性油墨组合物及图像记录方法
GB201904581D0 (en) 2019-04-02 2019-05-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes and processes for their preparation
GB201917710D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
GB201917711D0 (en) 2019-12-04 2020-01-15 Fujifilm Mfg Europe Bv Affinity membranes, compounds, compositions and processes for their preparation and use
EP4183845A4 (en) 2020-07-15 2023-12-06 FUJIFILM Corporation INK SET FOR RECORDING A SECURITY IMAGE, SECURITY IMAGE RECORDING METHOD AND SECURITY IMAGE RECORDING
GB202013838D0 (en) 2020-09-03 2020-10-21 Fujifilm Mfg Europe Bv Composite membrane
GB202015379D0 (en) 2020-09-29 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202015546D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202015440D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compounds, compositions and polymer films
GB202015436D0 (en) 2020-09-30 2020-11-11 Fujifilm Mfg Europe Bv Compositions and polymer films
GB202019478D0 (en) 2020-12-10 2021-01-27 Fujifilm Corp Purifying polar liquids
GB202101153D0 (en) 2021-01-28 2021-03-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer films
GB202104403D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Polymer Film
GB202104408D0 (en) 2021-03-29 2021-05-12 Fujifilm Mfg Europe Bv Cationically charged membranes
CN117545783A (zh) * 2021-08-26 2024-02-09 富士胶片株式会社 固化性组合物、固化物的制造方法、膜、光学元件、图像传感器、固体摄像元件、图像显示装置及自由基聚合引发剂
GB202113999D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113997D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202113996D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Films and their uses
GB202114000D0 (en) 2021-09-30 2021-11-17 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
CN113861010A (zh) * 2021-10-13 2021-12-31 深圳市芯研材料科技有限公司 单取代及多取代官能团芳香酮类化合物、其制备方法及其光聚合引发剂
GB202201759D0 (en) 2022-02-11 2022-03-30 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202204633D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202204631D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
GB202204625D0 (en) 2022-03-31 2022-05-18 Fujifilm Mfg Europe Bv Bipolar membranes
GB202207568D0 (en) 2022-05-24 2022-07-06 Fujifilm Mfg Europe Bv Membranes
WO2024068595A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068598A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes
WO2024068601A1 (en) 2022-09-29 2024-04-04 Fujifilm Manufacturing Europe Bv Membranes

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH459750A (fr) * 1964-01-29 1968-07-15 Horizons Inc Procédé de préparation d'un matériel photosensible, matériel photosensible obtenu et utilisation de ce matériel
FR2013828A1 (da) * 1968-07-26 1970-04-10 Bayer Ag
FR2022723A1 (da) * 1968-11-06 1970-08-07 Bayer Ag
FR2028477A1 (da) * 1969-01-16 1970-10-09 Bayer Ag
US3657088A (en) * 1969-12-17 1972-04-18 Bayer Ag Moulding and coating masses hardenable by uv irradiation
FR2156760A1 (da) * 1971-10-18 1973-06-01 Ici Ltd
FR2162609A1 (en) * 1971-12-09 1973-07-20 Basf Ag Printing colour binders - with uv-light hardenable component
FR2209789A1 (en) * 1972-12-06 1974-07-05 Sun Chemical Corp Photosensitive coating composition - contg ethylenically unsatd ester monomer and acyloin deriv as photosensitiser

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE651543C (de) * 1936-03-21 1937-10-16 Chemische Werke Vorm H & E Alb Verfahren zur Herstellung von ªÏ-Dimethylaminoalkylarylketonen
DE671786C (de) * 1937-11-16 1939-02-13 Albert Ag Chem Werke Verfahren zur Herstellung von N-[(Benzoylphenyl)-methyl]-tetrahydro-p-oxazin
US2588123A (en) * 1946-11-13 1952-03-04 Gen Electric Preparation of vinyltetrahydronaphthalenes
US2722512A (en) * 1952-10-23 1955-11-01 Du Pont Photopolymerization process
BE565446A (da) * 1957-03-06
CH365381A (fr) * 1957-03-29 1962-11-15 Morren Henri Procédé pour la préparation de dérivés de la pipérazine
NL246399A (da) * 1958-12-19
DE1164388B (de) * 1959-03-02 1964-03-05 Temmler Werke Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Aryl-alkylbromketonen
NL283329A (da) * 1961-09-18
US3465039A (en) * 1962-09-17 1969-09-02 Andreas J Rottendorf Chem Fab Therapeutically active secondary and tertiary 1 - halogenphenyl - 2 - amino-alkanones (1)
US3171858A (en) * 1963-08-30 1965-03-02 Parke Davis & Co alpha-ethylamino-o-methylisobutyrophenone
DE1694149C2 (de) * 1967-05-06 1976-01-02 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Polyester-Form- und Überzugsmassen
US3578682A (en) * 1969-03-20 1971-05-11 Ash Stevens Inc 2,5-bis-(2-n-lower alkyl amino isopropyl)-1,3,4-trithiolanes and process for the preparation thereof
DE1923266B2 (de) * 1969-05-07 1977-09-29 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Alpha-hydroxymethylbenzoinaether
BE759838A (fr) * 1969-12-04 1971-06-03 Wellcome Found Cetones a activite biologique
US3715293A (en) * 1971-12-17 1973-02-06 Union Carbide Corp Acetophenone-type photosensitizers for radiation curable coatings
DE2232365C2 (de) * 1972-07-01 1982-06-09 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Durch UV-Bestrahlung polymerisierbare Gemische
US3829467A (en) * 1972-07-03 1974-08-13 Rorer Inc William H Tetrahydronaphthylalkanoic acids and their derivatives
US3900478A (en) * 1973-01-29 1975-08-19 Squibb & Sons Inc 2-methyl-2-piperidino-3'-(trifluoromethyl) propiophenone
JPS5314041B2 (da) * 1973-03-31 1978-05-15
GB1469643A (en) * 1973-11-19 1977-04-06 Ici Ltd Photopolymerisable composition
US4048038A (en) * 1974-07-08 1977-09-13 J. M. Huber Corporation Electroflocculation cell
US4017652A (en) * 1974-10-23 1977-04-12 Ppg Industries, Inc. Photocatalyst system and ultraviolet light curable coating compositions containing the same
US4024324A (en) * 1975-07-17 1977-05-17 Uop Inc. Novel polyolefin composition of matter
US3988228A (en) * 1975-08-29 1976-10-26 Eastman Kodak Company Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing aromatic ketones
US4040923A (en) * 1976-06-03 1977-08-09 Eastman Kodak Company Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing aromatic ketones
US4101584A (en) * 1976-12-10 1978-07-18 Napp Chemicals Inc. Bisbenzoin ethers and method of producing benzoin ethers
US4141807A (en) * 1977-03-01 1979-02-27 Stauffer Chemical Company Photopolymerizable composition stabilized with nitrogen-containing aromatic compounds
DE2808459A1 (de) * 1977-05-17 1979-08-30 Merck Patent Gmbh Hydroxyalkylphenone und ihre verwendung als photosensibilisatoren
DE2722264C2 (de) * 1977-05-17 1984-06-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verwendung von substituierten Oxyalkylphenonen als Photosensibilisatoren
US4279720A (en) * 1978-07-13 1981-07-21 Ciba-Geigy Corporation Photocurable composition
DE2962442D1 (de) * 1978-07-13 1982-05-19 Ciba Geigy Ag Compositions photodurcissables

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH459750A (fr) * 1964-01-29 1968-07-15 Horizons Inc Procédé de préparation d'un matériel photosensible, matériel photosensible obtenu et utilisation de ce matériel
FR2013828A1 (da) * 1968-07-26 1970-04-10 Bayer Ag
FR2022723A1 (da) * 1968-11-06 1970-08-07 Bayer Ag
FR2028477A1 (da) * 1969-01-16 1970-10-09 Bayer Ag
US3657088A (en) * 1969-12-17 1972-04-18 Bayer Ag Moulding and coating masses hardenable by uv irradiation
FR2156760A1 (da) * 1971-10-18 1973-06-01 Ici Ltd
FR2162609A1 (en) * 1971-12-09 1973-07-20 Basf Ag Printing colour binders - with uv-light hardenable component
FR2209789A1 (en) * 1972-12-06 1974-07-05 Sun Chemical Corp Photosensitive coating composition - contg ethylenically unsatd ester monomer and acyloin deriv as photosensitiser

Also Published As

Publication number Publication date
DD141320A5 (de) 1980-04-23
FI783919A (fi) 1979-06-23
BR7808406A (pt) 1980-05-20
US4321118A (en) 1982-03-23
JPS5499185A (en) 1979-08-04
AU529495B2 (en) 1983-06-09
JPH0134242B2 (da) 1989-07-18
EP0003002A2 (de) 1979-07-11
JPH0257081B2 (da) 1990-12-04
AR226169A1 (es) 1982-06-15
PL117576B1 (en) 1981-08-31
AT369392B (de) 1982-12-27
JPH0248536B2 (da) 1990-10-25
SU948300A3 (ru) 1982-07-30
CA1234242A (en) 1988-03-15
US4318791A (en) 1982-03-09
FI64169B (fi) 1983-06-30
US4308400A (en) 1981-12-29
JPH01139554A (ja) 1989-06-01
FI64169C (fi) 1983-10-10
AU4277578A (en) 1979-06-28
ATA917678A (de) 1982-05-15
PL212042A1 (pl) 1979-09-10
US4315807A (en) 1982-02-16
JPH01308404A (ja) 1989-12-13
DK576278A (da) 1979-06-23
EP0003002A3 (en) 1980-01-09
GR71655B (da) 1983-06-20
EP0003002B1 (de) 1984-06-13
HU181680B (en) 1983-11-28
DK157083C (da) 1990-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK157083B (da) Anvendelse af aromatisk-aliphatiske ketoner som initiatorer til fotopolymerisation af umaettede forbindelser samt til fotokemisk tvaerbinding af polyolefiner, fotopolymeriserbart system indeholdende saadanne ketoner samt fremgangsmaade til fotopolymerisation af umaettede forbindelser
TW452575B (en) New Α-aminoacetophenone photoinitiators and photopolymerizable compositions comprising these photoinitiators
JP3250072B2 (ja) α−アミノアセトフェノンからの光によるアミンの発生
TWI651328B (zh) 多功能醯基膦氧化物光起始劑
DE60308052T2 (de) Verbesserung bei der haltbarkeit von photoinitiatoren
JP4171073B2 (ja) 不揮発性フェニルグリオキシル酸エステル
JP3271052B2 (ja) α−アミノアセトフェノン誘導体
CN109790137B (zh) 多环乙醛酸酯作为光引发剂
KR101804646B1 (ko) 하이브리드 광개시제
JP2009191179A (ja) 光重合開始剤、重合性組成物、および重合物の製造方法。
WO2016034963A1 (en) Polycyclic photoinitiators
EP2129659B1 (en) Alpha-hydroxyketones
US4950795A (en) Oligomeric benzil ketals and their use as photoinitiators
JP2017179172A (ja) 新規脂環式エポキシ化合物および硬化性組成物
US5095044A (en) Oligomeric benzil ketals and their use as photoinitiators
CA1142949A (en) Sensitizers for photopolymerisation
JPS6259691B2 (da)
CA1155863A (en) Sensitizers for photopolymerisation