ES2584422T3 - Obtención quimiomecánica de coloides funcionales - Google Patents
Obtención quimiomecánica de coloides funcionales Download PDFInfo
- Publication number
- ES2584422T3 ES2584422T3 ES04708754.9T ES04708754T ES2584422T3 ES 2584422 T3 ES2584422 T3 ES 2584422T3 ES 04708754 T ES04708754 T ES 04708754T ES 2584422 T3 ES2584422 T3 ES 2584422T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- obtaining
- chemomechanical
- particles
- procedure
- functional
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 126
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 65
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 42
- 238000003801 milling Methods 0.000 claims description 18
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 4
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(II) oxide Inorganic materials [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 claims description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical compound NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 21
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- -1 technical Chemical compound 0.000 description 41
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 18
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 15
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 14
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 8
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 8
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 8
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 8
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- YHBWXWLDOKIVCJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]acetic acid Chemical compound COCCOCCOCC(O)=O YHBWXWLDOKIVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxomagnesium;hydrate Chemical compound O.[Mg]=O.[Mg]=O.[Mg]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 229940024606 amino acid Drugs 0.000 description 4
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 4
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 4
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002118 epoxides Chemical group 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 3
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 3
- 235000012222 talc Nutrition 0.000 description 3
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethylbenzene Natural products CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 2,5-hexanedione Chemical compound CC(=O)CCC(C)=O OJVAMHKKJGICOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100055113 Caenorhabditis elegans aho-3 gene Proteins 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Chemical group 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Chemical compound O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N o-dimethylbenzene Natural products CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Chemical group 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 2
- IEWUCQVFAWBYOC-ZWKOTPCHSA-N (1r,2s)-1-(3,4-dimethoxyphenyl)-2-(2-methoxyphenoxy)propane-1,3-diol Chemical compound COC1=CC=CC=C1O[C@@H](CO)[C@H](O)C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 IEWUCQVFAWBYOC-ZWKOTPCHSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLLLODNOQBVIMS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)acetic acid Chemical compound COCCOCC(O)=O CLLLODNOQBVIMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTDBOYPERXQMIY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)-3-prop-2-enoyloxyprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(=COC(=O)C=C)C(=O)O VTDBOYPERXQMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical group CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRQKBLKVPFOOQJ-UHFFFAOYSA-N 2-aminohexanoic acid Chemical compound CCCCC(N)C(O)=O LRQKBLKVPFOOQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N Acetoacetic acid Natural products CC(=O)CC(O)=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- AIRCTMFFNKZQPN-UHFFFAOYSA-N AlO Inorganic materials [Al]=O AIRCTMFFNKZQPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000041 C6-C10 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N Caprylic acid Natural products CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Chemical class 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000519 Ferrosilicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005543 GaSe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- AGPKZVBTJJNPAG-WHFBIAKZSA-N L-isoleucine Chemical compound CC[C@H](C)[C@H](N)C(O)=O AGPKZVBTJJNPAG-WHFBIAKZSA-N 0.000 description 1
- ROHFNLRQFUQHCH-YFKPBYRVSA-N L-leucine Chemical compound CC(C)C[C@H](N)C(O)=O ROHFNLRQFUQHCH-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- KZSNJWFQEVHDMF-BYPYZUCNSA-N L-valine Chemical compound CC(C)[C@H](N)C(O)=O KZSNJWFQEVHDMF-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- ROHFNLRQFUQHCH-UHFFFAOYSA-N Leucine Natural products CC(C)CC(N)C(O)=O ROHFNLRQFUQHCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003112 MgO-Al2O3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020968 MoSi2 Inorganic materials 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N Nicotinamide Chemical group NC(=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003781 PbTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- KZSNJWFQEVHDMF-UHFFFAOYSA-N Valine Natural products CC(C)C(N)C(O)=O KZSNJWFQEVHDMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 229910052946 acanthite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003462 bioceramic Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical class [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000011132 calcium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- DXHPZXWIPWDXHJ-UHFFFAOYSA-N carbon monosulfide Chemical compound [S+]#[C-] DXHPZXWIPWDXHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- LQJWIXKJNVDYHH-UHFFFAOYSA-N chloro-(3-isocyanatopropyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCCN=C=O LQJWIXKJNVDYHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- WOWBFOBYOAGEEA-UHFFFAOYSA-N diafenthiuron Chemical compound CC(C)C1=C(NC(=S)NC(C)(C)C)C(C(C)C)=CC(OC=2C=CC=CC=2)=C1 WOWBFOBYOAGEEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 1
- XCLIHDJZGPCUBT-UHFFFAOYSA-N dimethylsilanediol Chemical compound C[Si](C)(O)O XCLIHDJZGPCUBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxosilane oxo(oxoalumanyloxy)alumane oxygen(2-) Chemical compound [O--].[K+].[K+].O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- DGCTVLNZTFDPDJ-UHFFFAOYSA-N heptane-3,5-dione Chemical compound CCC(=O)CC(=O)CC DGCTVLNZTFDPDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDOGLIPWGGRQCO-UHFFFAOYSA-N hexane-2,4-dione Chemical compound CCC(=O)CC(C)=O NDOGLIPWGGRQCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010316 high energy milling Methods 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000004021 humic acid Substances 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052588 hydroxylapatite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 229960000310 isoleucine Drugs 0.000 description 1
- AGPKZVBTJJNPAG-UHFFFAOYSA-N isoleucine Natural products CCC(C)C(N)C(O)=O AGPKZVBTJJNPAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N isonitrile group Chemical group N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002527 isonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002356 laser light scattering Methods 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N methoxyacetic acid Chemical compound COCC(O)=O RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003641 microbiacidal effect Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052627 muscovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N n-hexanoic acid Natural products CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010449 novaculite Substances 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolanthaniooxy)lanthanum Chemical compound O=[La]O[La]=O KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;hydroxide;triphosphate Chemical compound [OH-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000010451 perlite Substances 0.000 description 1
- 235000019362 perlite Nutrition 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052628 phlogopite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 229910052903 pyrophyllite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000006254 rheological additive Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FSJWWSXPIWGYKC-UHFFFAOYSA-M silver;silver;sulfanide Chemical compound [SH-].[Ag].[Ag+] FSJWWSXPIWGYKC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 230000000391 smoking effect Effects 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 229910052566 spinel group Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000005402 stannate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPEPIADELDNCED-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethanol Chemical compound CCO[Si](CO)(OCC)OCC HPEPIADELDNCED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N trioxidane Chemical compound OOO JSPLKZUTYZBBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten(VI) oxide Inorganic materials O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000004474 valine Substances 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000010455 vermiculite Substances 0.000 description 1
- 229910052902 vermiculite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019354 vermiculite Nutrition 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/40—Compounds of aluminium
- C09C1/407—Aluminium oxides or hydroxides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
- B01J13/0086—Preparation of sols by physical processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/6261—Milling
- C04B35/62615—High energy or reactive ball milling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62645—Thermal treatment of powders or mixtures thereof other than sintering
- C04B35/62655—Drying, e.g. freeze-drying, spray-drying, microwave or supercritical drying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/628—Coating the powders or the macroscopic reinforcing agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/628—Coating the powders or the macroscopic reinforcing agents
- C04B35/62886—Coating the powders or the macroscopic reinforcing agents by wet chemical techniques
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/63—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B using additives specially adapted for forming the products, e.g.. binder binders
- C04B35/632—Organic additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/36—Compounds of titanium
- C09C1/3607—Titanium dioxide
- C09C1/3615—Physical treatment, e.g. grinding, treatment with ultrasonic vibrations
- C09C1/3623—Grinding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/36—Compounds of titanium
- C09C1/3607—Titanium dioxide
- C09C1/3684—Treatment with organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/36—Compounds of titanium
- C09C1/3692—Combinations of treatments provided for in groups C09C1/3615 - C09C1/3684
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/006—Combinations of treatments provided for in groups C09C3/04 - C09C3/12
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/04—Physical treatment, e.g. grinding, treatment with ultrasonic vibrations
- C09C3/041—Grinding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/08—Treatment with low-molecular-weight non-polymer organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/12—Treatment with organosilicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/34—Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/349—Clays, e.g. bentonites, smectites such as montmorillonite, vermiculites or kaolines, e.g. illite, talc or sepiolite
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/48—Organic compounds becoming part of a ceramic after heat treatment, e.g. carbonising phenol resins
- C04B2235/483—Si-containing organic compounds, e.g. silicone resins, (poly)silanes, (poly)siloxanes or (poly)silazanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5409—Particle size related information expressed by specific surface values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5436—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5445—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5454—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof nanometer sized, i.e. below 100 nm
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S516/00—Colloid systems and wetting agents; subcombinations thereof; processes of
- Y10S516/924—Significant dispersive or manipulative operation or step in making or stabilizing colloid system
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S516/00—Colloid systems and wetting agents; subcombinations thereof; processes of
- Y10S516/924—Significant dispersive or manipulative operation or step in making or stabilizing colloid system
- Y10S516/928—Mixing combined with non-mixing operation or step, successively or simultaneously, e.g. heating, cooling, ph change, ageing, milling
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/773—Nanoparticle, i.e. structure having three dimensions of 100 nm or less
- Y10S977/775—Nanosized powder or flake, e.g. nanosized catalyst
- Y10S977/776—Ceramic powder or flake
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
Abstract
Procedimiento para la obtención quimiomecánica de un coloide funcional, en el que someten a desmenuzado reactivo por vía mecánica partículas en un agente dispersante en presencia de un agente de modificación, estando unido el agente de modificación al menos parcialmente a las partículas coloidales desmenuzadas mediante enlace químico, con la condición de que las partículas no sean de óxido de indio-estaño.
Description
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
DESCRIPCION
Obtencion quimiomecanica de coloides funcionales
La presente invencion se refiere a un procedimiento para la obtencion de coloides funcionales.
Coloides son conocidos desde hace tiempo. Se pueden producir, por ejemplo, a traves de tecnicas sol-gel o a traves de procesos naturales, como por ejemplo en aguas estancadas y en procesos de condensacion en la fase gaseosa. Para tales coloides es tfpico que sean estables en disolucion acuosa solo si se impide una agregacion en los mismos a traves de factores estabilizantes. Una agregacion se puede ocasionar mediante interacciones de las partfculas coloidales entre sf, por ejemplo a traves de fuerzas de van-der-Waals, puentes de hidrogeno, interacciones hidrofobas, interacciones dipolo-dipolo o enlaces qufmicos. Debido a la superficie, extraordinariamente grande, la tendencia a la agregacion es especialmente elevada. Las partfculas coloidales tienen habitualmente dimensiones de no mas de 0,2 pm.
La estabilizacion de coloides se efectua generalmente mediante un correspondiente potencial zeta, es decir, la formacion de una nube de carga doble alrededor de los coloides. Esto puede ser causado por un diferente trabajo de salida o por una carga de las partfculas con iones o electrones, por ejemplo mediante ajuste del valor de pH. No obstante, tambien se puede efectuar mediante adicion de determinadas moleculas en la superficie, por ejemplo mediante la adicion de acidos hummicos en aguas estancadas naturales. No obstante, todos estos procesos presuponen que los coloides se generaron mediante una reaccion previa, y en el entorno del coloide se han ajustado condiciones que conducen a tal estabilizacion.
Si bien otros metodos para la obtencion de partfculas reducidas, por ejemplo la molturacion de energfa elevada, conducen a una desintegracion de la estructura cristalina hasta dimensiones de nanoescala, no pueden impedir la siguiente agregacion. Tales partfculas agregadas, como se obtienen tambien parcialmente mediante la condensacion selectiva a partir de fases gaseosas, se pueden desagregar solo bajo circunstancias muy determinadas. De este modo se ha conseguido, por ejemplo, dispersar partfculas metalicas en aceites, ya que el aceite se puede desplazar entre superficies metalicas de interaccion suave. No obstante, se obtienen superficies metalicas solo si las partfculas metalicas se obtienen en alto vacfo, es decir, bajo condiciones ultrapuras, de modo que no se forma una superficie de oxido. Si este no es el caso, las partfculas ya no se pueden dispersar practicamente. Por lo tanto, en los procesos de molturacion de energfa elevada citados anteriormente ya no es posible una redispersion a tamano de cristalita primaria.
Como se muestra anteriormente para partfculas metalicas redispersables en aceite, solo en casos excepcionales se consigue dominar tales sistemas. Para el control tecnico de proceso selectivo es necesario un procedimiento que ajusta las partfculas coloidales en la obtencion de modo que cumplan los respectivos requisitos tecnicos de proceso. De este modo debe ser posible dotar las partfculas coloidales de las propiedades, o bien funciones deseadas en la obtencion. A modo de ejemplo debe ser posible estabilizar, compatibilizar, inertizar o reactivar las partfculas coloidales respecto al entorno.
Con agregados de molturacion comerciales se pueden obtener solo partfculas en el intervalo de submicrometros, y tambien solo con los denominados agentes auxiliares de molturacion, que impiden recombinar de nuevo fragmentos recien producidos. En general no es posible un desmenuzado a tamanos coloidales, y en especial en un intervalo de 0,002 a 0,05 pm.
Los documentos DE-A-19840527, DE-A-1949048 y WO 00/14017 se refieren a un procedimiento para la obtencion de polvos de oxido de indio-estano, en los que se precipitan precursores de oxido de indio y oxido de estano en presencia de componentes modificados superficialmente a partir de disoluciones, se calcina el polvo obtenido, y se somete el polvo obtenido a un desmenuzado o una dispersion en presencia de componentes modificados superficialmente y disolventes. Para una dispersion o un desmenuzado se pueden emplear molinos, como molinos de bolas con mecanismo agitador, y en especial molinos mortero y carros de tres rodillos.
El documento WO 02/08124 describe un procedimiento para la obtencion de polvos de corindon de nanoescala, en el que se hace reaccionar polvo de AhO3 en un agente dispersante con un modificador superficial, en dispositivos como molinos de bolas, molinos mortero, carros de tres rodillos o agregados de amasado.
Los documentos DE-A-19952040 y WO 93/21127 describen procedimientos para la obtencion de polvos de nanoescala modificados superficialmente mediante reaccion de los polvos con compuestos organicos, que pueden reaccionar o interaccionar con grupos superficiales en el polvo.
La tarea segun la invencion consistfa ahora en obtener coloides que presentaran una excelente estabilidad contra agregacion, pudiendo ser las partfculas coloidales marcadamente reducidas (preferentemente por debajo
2
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
de 0,2 pm, en especial por debajo de 0,05 pm), y pudiendose adaptar las propiedades, o bien funciones del coloide, o bien de las partmulas coloidales, a los respectivos requisitos. Sorprendentemente, la tarea segun la invencion se pudo solucionar al conseguirse una funcionalizacion y simultaneamente una estabilizacion contra agregacion de las partmulas coloidales obtenidas a traves de proceso de desmenuzado reactivo quimiomecanico.
Por consiguiente, la presente invencion pone a disposicion un procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional, en el que las partmulas se someten a desmenuzado reactivo por vfa mecanica en un agente dispersante, en presencia de un agente de modificacion, de modo que el agente de modificacion se une al menos parcialmente a las partmulas coloidales desmenuzadas mediante enlace qufmico, con la condicion de que las partmulas no sean de oxido de indio-estano.
Segun la invencion, en agregados de molturacion u otros agregados de dispersion, a partir de partmulas, mediante el empleo de agentes de modificacion, generalmente de bajo peso molecular, que pueden formar un enlace qufmico con las partmulas, se forman coloides funcionales que presentan restos moleculares del agente de modificacion unidos solidamente a la superficie de las partmulas como grupos funcionales, pudiendo situarse la dimension media minima de partmulas funcionalizadas, en caso necesario, hasta por debajo del intervalo de 0,01 a 0,002 pm. Mediante el procedimiento segun la invencion se posibilita obtener coloides estables con dimensiones medias mmimas preferentemente de no mas de 0,2 pm a partir de partmulas de grano grueso. Mediante la modificacion de partmulas coloidales con moleculas relativamente reducidas, que se pueden difundir rapidamente en la superficie recien formada, se impide o se inhibe una agregacion, y simultaneamente se consigue una funcionalizacion del coloide, o bien de las partmulas coloidales, adaptada a los respectivos requisitos.
En el caso de las partmulas empleadas se trata de partmulas solidas, o bien partmulas de producto solido constituida por cualquier material apropiado. Se puede tratar, por ejemplo, de partmulas organicas (tambien polfmeras) o inorganicas, siendo preferentes partmulas inorganicas. Son ejemplos de partmulas inorganicas partmulas de un elemento, una aleacion, o un compuesto elemental. Las partmulas inorganicas estan constituidas preferentemente por metales, aleaciones, y en especial por compuestos metalicos y compuestos de elementos semiconductores, por ejemplo Si o Ge, o boro.
Son ejemplos de partmulas de un elemento partmulas de carbono, como hollm o carbon activo; de un semiconductor, como silicio (incluyendo Si tecnico, ferrosilicio y silicio puro) o germanio, o un metal, como por ejemplo hierro (tambien acero), cromo, estano, cobre, aluminio, titanio, oro y cinc. Pueden ser ejemplos de partmulas constituidas por una aleacion partmulas de bronce o laton.
Son ejemplos de compuestos metalicos y compuestos de elementos semiconductores o boro preferentes oxidos (en caso dado hidratados), como ZnO, CdO, SiO2, GeO2, TO2, ZrO2, CeO2, SnO2, A^O3 (en todas las modificaciones, en especial como corindon, boehmita, AlO(OH), tambien como hidroxido de aluminio), ln2O3, La2O3, Fe2O3, CU2O, Ta2O5, Nb2O5, V2O5, MoO3 o WO3, oxidos mixtos correspondientes, por ejemplo oxido de antimonio- estano (ATO), oxido de estano dotado con fluor (FTO), y aquellos con estructura de perovskita, como BaTiO3 y PbTiO3, calcogenuros, como por ejemplo sulfuros (por ejemplo CdS, ZnS, PbS y Ag2S), seleniuros (por ejemplo GaSe, CdSe y ZnSe) y telururos (por ejemplo ZnTe o CdTe), halogenuros, como AgCl, AgBr, Agl, CuCl, CuBr, Cdl2 y Pbl2; carburos, como CdC2 o SiC, siliciuros, como MoSi2, arseniuros, como AlAs, GaAs y GeAs, antimoniuros, como InSb, nitruros, como BN, AIN, Si3N4 y Ti3N4, fosfuros, como GaP, InP, Zn3P2 y Cd3P2, as^ como carbonatos, sulfatos, fosfatos, silicatos, circonatos, aluminatos y estannatos de elementos, en especial de metales o Si, por ejemplo carbonato de calcio y/o magnesio, silicatos, como silicatos alcalinos, talco, arcillas (caolm) o mica, y sulfatos de bario o calcio. Otros ejemplos de partfculas convenientes son ademas magnetita, maghemita, espinelas (por ejemplo MgO-Al2O3), mulita, eskolafta, tialita, SO2TO2, o bioceramicas, por ejemplo fosfato de calcio e hidroxiapatita. Se puede tratar de partmulas de vidrio o ceramica.
En este caso se puede tratar, por ejemplo, de partfculas que se emplean habitualmente para la obtencion de vidrio (por ejemplo vidrio de borosilicato, vidrio de sosa y cal o vidrio silfcico), ceramica de vidrio o ceramica (por ejemplo a base de los oxidos SiO2, BeO, A^O3, ZrO2 o MgO, o los correspondientes oxidos mixtos, electroceramica y magnetoceramica, como titanatos y ferritas, o ceramicas no oxfdicas, como nitruro de silicio, carburo de silicio, nitruro borico o carburo borico). Tambien se puede tratar de partfculas que sirven como cargas o pigmentos. Cargas importantes tecnicamente son, por ejemplo, cargas a base de SiO2, como cuarzo, cristobalita, tripolita, novaculita, kieselgur, tierras de diatomeas, acidos silfcicos pirogenos, acidos silfcicos precipitados y geles de sflice, silicatos, como talco, pirofilita, caolm, mica, moscovita, flogopita, vermiculita, wolastonita y perlita, carbonatos, como calcitas, dolomitas, creta y carbonatos de calcio sinteticos, hollm, sulfatos, como espato pesado y espato ligero, hierro micaceo, vidrios, hidroxidos de aluminio, oxidos de aluminio y dioxido de titanio.
Tambien se pueden emplear mezclas de estas partfculas. Materiales para las partfculas especialmente preferentes son oxidos metalicos, oxidos de silicio y silicatos, en especial talco, ZrO2 A^O3, TiO2 y SiO2, o mezcla de los
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
mismos.
La obtencion de las partfculas empleadas segun la invencion se puede efectuar de modo habitual, por ejemplo mediante pirolisis a la llama, procedimientos de plasma, procedimientos de condensacion en fase gaseosa, tecnicas coloidales, procedimientos de precipitacion, procesos sol-gel, procesos de nucleacion y crecimiento controlados, procedimientos MOCVD y procedimientos de (micro)emulsion. Estos procedimientos se describen detalladamente en la bibliograffa. En especial se puede recurrir, por ejemplo, a metales (a modo de ejemplo tras la reduccion del procedimiento de precipitacion), sistemas ceramicos oxfdicos (mediante precipitacion a partir de disolucion), pero tambien sistemas salinos o sistemas multicomponente.
Las partfculas empleables tambien son adquiribles en el comercio generalmente. Son ejemplos de partfculas de SO2 productos de acido silfcico comerciales, por ejemplo soles de sflice, como los Levasile®, soles de sflice de Bayer AG, o acidos silfcicos pirogenos, por ejemplo los productos Aerosil de Degussa. Naturalmente, de modo habitual tambien se pueden adquirir en el comercio todas las partfculas empleadas como cargas.
Las partfculas se pueden emplear en forma de un polvo, o directamente como dispersion en un agente dispersantes. Las partfculas se pueden obtener tambien in situ en el agente dispersante mediante precipitacion de un precursor disuelto.
El tamano de partfcula de las partfculas empleables es generalmente mayor que el de las partfculas coloidales obtenidas conforme al procedimiento segun la invencion. Aunque el tamano de partfcula de las partfculas empleadas se puede seleccionar a voluntad, son convenientes partfculas con un diametro de partfcula de menos de 100 pm, preferentemente menos de 10 pm, y un diametro de partfcula medio de mas de O,o0l pm, preferentemente mas de 0,01 pm.
Como agente dispersante se puede emplear cualquier disolvente, en tanto no disuelva, o no disuelva sensiblemente las partfculas a tratar, y sea inerte o esencialmente inerte tambien frente al agente de modificacion empleado. El agente dispersante apropiado se selecciona en dependencia de las partfculas a tratar, preferentemente a partir de agua o disolventes organicos, pero tambien son concebibles disolventes inorganicos, como por ejemplo sulfuro de carbono.
Un agente dispersante especialmente preferente es agua, en especial agua desionizada. Como agentes dispersantes organicos son apropiados disolventes tanto polares, como tambien apolares y aproticos. Son ejemplos a tal efecto alcoholes, como por ejemplo alcoholes alifaticos y alidclicos con 1 a 8 atomos de carbono (en especial metanol, etanol, n- e i-propanol, butanol, octanol, ciclohexanol), cetonas, como por ejemplo cetonas alifaticas y alidclicas con 1 a 8 atomos de carbono (en especial acetona, butanona y ciclohexanona), esteres, como por ejemplo acetato de etilo y esteres glicolicos, esteres, como por ejemplo dietileter, dibutileter, anisol, dioxano, tetrahidrofurano y tetrahidropirano, eteres glicolicos, como mono-, di-, tri- y poliglicoleter, glicoles, como etilenglicol, dietilenglicol y propilenglicol, amidas y otros compuestos de nitrogeno, como por ejemplo dimetilacetamida, dimetilformamida, piridina, N-metilpirrolidina y acetonitrilo, sulfoxidos y sulfonas, como por ejemplo sulfalano y sulfoxido de dimetilo, nitrocompuestos, como nitrobenceno, hidrocarburos halogenados, como diclorometano, cloroformo, tetracloruro de carbono, tri-, tetracloroeteno, cloruro de etileno, hidrocarburos cloro-fluorados, hidrocarburos alifaticos, alidclicos o aromaticos, por ejemplo con 5 a 15 atomos de carbono, como por ejemplo pentano, hexano, heptano y octano, ciclohexano, bencinas, eter de petroleo, metilciclohexano, decalina, disolventes terpenicos, benceno, tolueno y xilenos. Naturalmente, tambien se pueden emplear mezclas de tales agentes dispersantes.
Agentes dispersantes organicos empleados preferentemente son alcoholes alifaticos y alidclicos, como etanol, n- e i-propanol, glicoles, como etilenglicol, e hidrocarburos alifaticos, alidclicos y aromaticos, como hexano, heptano, tolueno y o-, m- y p-xileno. Son agentes dispersantes especialmente preferentes etanol y tolueno.
Las partfculas se someten a desmenuzado reactivo por via mecanica en el agente dispersantes en presencia de un agente de modificacion, es decir, en el desmenuzado mecanico tiene lugar un enlace qmmico del agente de modificacion a la partfcula, o bien la partfcula desmenuzada, mediante una reaccion qmmica. Tal reaccion bajo esfuerzo mecanico se denomina tambien reaccion quimiomecanica. Por el especialista es sabido que sobre la superficie de partfculas se encuentran habitualmente grupos que no se pueden encontrar en esta forma en el interior de las partfculas. En el caso de estos grupos superficiales se trata habitualmente de grupos funcionales que son relativamente reactivos en general. A modo de ejemplo, sobre tales partfculas se encuentran como grupos superficiales valencias residuales, como grupos hidroxilo y grupos oxi, por ejemplo en partfculas de oxido metalico, o grupos tiol y grupos tio, por ejemplo en sulfuros metalicos, o grupos amino, amida e imida, por ejemplo en nitruros.
El agente de modificacion presenta en especial al menos un grupo funcional, que puede formar al menos un enlace qmmico con los grupos superficiales de las partfculas bajo las condiciones de desmenuzado mecanico. En el caso del enlace qmmico se trata preferentemente de un enlace covalente, ionico o coordinativo entre el agente de modificacion y la partfcula, pero tambien de enlaces por puentes de hidrogeno. Se entiende por un enlace
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
coordinativo una formacion de complejo. De este modo, entre los grupos funcionales del agente de modificacion y la partfcula puede tener lugar, por ejemplo, una reaccion acido/base segun Bronsted o Lewis, una formacion de complejo o una esterificacion.
En el caso del grupo funcional que comprende el agente de modificacion se trata preferentemente de grupos acido carboxflico, grupos cloruro de acido, grupos ester, grupos nitrilo e isonitrilo, grupos OH, grupos SH, grupos epoxido, grupos anhudrido, grupos amida de acido, grupos amino primarios, secundarios y terciarios, grupos Si-OH, restos hidrolizables de silanos (grupos Si-OH explicados a continuacion), o agrupaciones C-H acidas, como en compuestos p-dicarbomlicos.
El agente de modificacion puede comprender tambien mas de un grupo funcional de tal naturaleza, como por ejemplo en betamas, aminoacidos, EDTA.
En una variante del procedimiento segun la invencion, el agente de modificacion empleado puede actuar tambien como agente dispersante de manera simultanea, de modo que se puede emplear el mismo compuesto para ambos.
Los agentes de modificacion no son agentes tensioactivos. Esto significa que el agente de modificacion en el disolvente empleado como agente dispersante no es apto para formar micelas, incluso si se emplea en concentraciones elevadas. El agente de modificacion empleado segun la invencion, que es distinto de un agente tensioactivo, se disuelve de manera homogenea en el disolvente empleado como agente dispersante. Los agentes de modificacion se presentan entonces distribuidos de manera homogenea en la disolucion como moleculas discretas o iones moleculares. Por el contrario, los agentes tensioactivos en un disolvente a baja concentracion se concentran en una interfase y reducen la tension interfacial, y a mayores concentraciones forman micelas, es decir, estan distribuidos de manera heterogenea. Los anteriores datos se refieren al comportamiento en el agente dispersante puro. En presencia de partfculas, los agentes de modificacion tambien entran naturalmente en las interacciones qmmicas descritas segun la invencion.
Mientras que los agentes de modificacion, como se indica anteriormente, forman al menos parcialmente enlaces covalentes, ionicos o coordinativos con los grupos superficiales de las partfculas, las interacciones de agentes tensioactivos son generalmente inespedficas, por ejemplo se trata tfpicamente de interacciones de adsorcion o humectacion.
Ademas de al menos un grupo funcional, que puede formar un enlace qrnmico con el grupo superficial de la partfcula, el agente de modificacion presenta en general un resto molecular, que modifica las propiedades de la partfcula tras enlace del agente de modificacion a traves del grupo funcional. El resto molecular, o una parte del mismo, puede ser hidrofobo o hidrofilo, o portar un segundo grupo funcional para funcionalizar de este modo las partfculas coloidales respecto al entorno, es decir, para estabilizar, compatibilizar, inertizar o reactivar las mismas. De este modo, las partfculas coloidales obtenidas segun la invencion se dotan de una funcion, o bien funcionalizacion superficial, a traves de este resto molecular. En este sentido, en el caso de los coloides constituidos por partfculas coloidales modificadas con el agente de modificacion, o bien agente de modificacion superficial, se trata de coloides funcionales. A traves de la invencion se posibilita obtener coloides funcionales adaptados al fin de empleo deseado. Como principios para el acoplamiento en las partfculas se pueden presentar, segun sistema, enlaces covalentes, enlaces ionicos y enlaces complejos, pero tambien son apropiados enlaces por puentes de hidrogeno.
En el caso de restos moleculares hidrofobos se puede tratar, por ejemplo, de alquilo, arilo, aralquilo, aralquilo, o grupos alquilo que contienen fluor, que pueden conducir a la inertizacion o repulsion en un entorno apropiado. Senan ejemplos de grupos hidrofilos grupos hidroxi, alcoxi o polieter. En el caso del segundo grupo funcional del agente de modificacion, presente en caso dado, se puede tratar de un grupo acido, basico o ionico. Tambien se puede tratar de un grupo funcional apropiado para una reaccion qrnmica con un reactivo seleccionado. El segundo grupo funcional puede ser el mismo que es apropiado tambien como grupo funcional para el enlace en la partfcula, de modo que se remite a los ejemplos allf citados. Otros ejemplos de un segundo grupo funcional senan grupos epoxido, acriloxi, metacriloxi, acrilato o metacrilato. Pueden estar presentes dos o mas grupos funcionales de tal naturaleza iguales o diferentes.
El agente de modificacion presenta preferentemente un peso molecular de no mas de 500, preferentemente no mas de 400, y en especial no mas de 200. Los compuestos son preferentemente lfquidos bajo condiciones normales. Los grupos funcionales que portan estos compuestos se ajustan en primer termino a los grupos superficiales de las partfculas de producto solido y a la interaccion deseada con el entorno. El peso molecular juega un papel importante tambien para la difusion en las superficies de partfculas recien formadas. Las moleculas reducidas conducen a un revestimiento rapido de la superficie, e impiden de este modo la recombinacion.
Por consiguiente, son ejemplos de agentes de modoficacion apropiados acidos mono- y policarboxflicos saturados o insaturados, los correspondientes anhudridos de acido, cloruros de acido, esteres y amidas de acido, aminoacidos,
iminas, nitrilos, isonitrilos, epoxicompuestos, mono- y poliaminas, compuestos p-dicarbomlicos, silanos y compuestos metalicos que disponen de un grupo funcional que puede reaccionar con los grupos superficiales de las partfculas. Agentes de modificacion empleados de modo especialmente preferente son silanos, acidos carbox^licos, aminoacidos y aminas. Las cadenas de carbono de estos compuestos pueden estar interrumpidas por grupos O, S o 5 NH. Se puede emplear uno o varios agentes de modificacion.
Acidos mono- y policarboxflicos saturados o insaturados preferentes (preferentemente acidos monocarboxflicos) son aquellos con 1 a 24 atomos de carbono, como acido formico, acido acetico, acido propionico, acido butmco, acido pentanoico, acido hexanoico, acido acnlico, acido metacnlico, acido crotonico, acido cftrico, acido ad^pico, acido succmico, acido glutarico, acido oxalico, acido maleico, acido fumarico, acido itaconico y acido estearico, asf como 10 los correspondientes hidruros, cloruros, esteres y amidas de acido, por ejemplo caprolactama. De estos acidos carboxflicos citados anteriormente se incluyen tambien aquellos cuyas cadenas de carbono estan interrumpidas por grupos O, S o NH. Son especialmente preferentes acidos etercarboxflicos, como acidos mono- y polietercarboxflicos, asf como los correspondientes anlmdridos, cloruros, esteres y amidas de acido, por ejemplo acido metoxiacetico, acido 3,6-dioxaheptanoico y acido 3,6,9-trioxadecanoico.
15 Son ejemplos de mono- y poliaminas preferentes aquellas de la formula general Q3-nNHn, donde n = 0, 1 o 2, y los restos Q, independientemente entre sf, representan alquilo con 1 a 12, en especial 1 a 6, y de modo especialmente preferente 1 a 4 atomos de carbono, por ejemplo metilo, etilo, n- e i-propilo y butilo, asf como arilo, alcarilo o aralquilo con 6 a 24 atomos de carbono, como por ejemplo fenilo, naftilo, tolilo y bencilo, y polialquilenaminas de la formula general Y2N(-Z-NY)y-Y, donde Y, independientemente, es Q o H, definiendose Q como anteriormente, y siendo y un 20 numero entero de 1 a 6, preferentemente 1 a 3, y Z un grupo alquileno con 1 a 4, preferentemente 2 o 3 atomos de carbono. Son ejemplos concretos metilamina, dimetilamina, trimetilamina, etilamina, anilina, N-metilanilina, difenilamina, trifenilamina, toluidina, etilendiamina, dietilentriamina.
Compuestos p-dicarbomlicos preferentes son aquellos con 4 a 12, en especial 5 a 8 atomos de carbono, como por ejemplo dicetonas, como acetilacetona, 2,4-hexanodiona, 3,5-heptanodiona, acido acetoacetico, acetoacetato de 25 alquilo con 1 a 4 atomos de carbono, como acetoacetato de etilo, diacetilo y acetonilacetona.
Son ejemplos de aminoacidos p-alanina, glicina, valina, acido aminocapronico, leucina e isoleucina.
Los silanos empleados preferentemente presentan al menos un grupo no hidrolizable o un grupo hidroxi, de modo especialmente preferente se emplean organosilanos hidrolizables, que presentan adicionalmente al menos un resto no hidrolizable. Los silanos preferentes tienen la formula general (I)
30 RaSiX(4-a) (I)
donde los restos R son iguales o diferentes y respresentan grupos no hidrolizables, los restos X son iguales o diferentes, y significan grupos hidrolizables o grupos hidroxi, y a tiene el valor 1, 2 o 3. El valor a es preferentemente 1.
En la formula general (I), los grupos hidrolizables X, que pueden ser iguales o diferentes entre sf, son, a modo de 35 ejemplo, hidrogeno o halogeno (F, Cl, Br o I), alcoxi (preferentemente alcoxi con 1 a 6 atomos de carbono, como por ejemplo metoxi, etoxi, n-propoxi, i-propoxi y butoxi), ariloxi (preferentemente C6-10-ariloxi, como por ejemplo fenoxi), aciloxi (preferentemente C1-6-aciloxi, como por ejemplo acetoxi o propioniloxi), alquilcarbonilo (preferentemente C2-7- alquilcarbonilo, como por ejemplo acetilo), amino, monoalquilamino o dialquilamino, preferentemente con 1 a 12, en especial 1 a 6 atomos de carbono. Restos hidrolizables preferentes son halogeno, grupos alcoxi y grupos aciloxi. 40 Restos hidrolizables especialmente preferentes son grupos C-M-alcoxi, en especial metoxi y etoxi.
En el caso de los restos R no hidrolizables, que pueden ser iguales o diferentes, se puede tratar de restos R no hidrolizables con o sin un grupo funcional.
El resto R no hidrolizable sin grupo funcional es, a modo de ejemplo, alquilo (preferentemente C1_s-alquilo, como metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-butilo, sec-butilo y terc-butilo y terc-butilo, pentilo, hexilo, octilo o ciclohexilo), 45 alquenilo (preferentemente C2-6-alquenilo, como por ejemplo vinilo, 1-propenilo, 2-propenilo y butenilo), alquinilo (preferentemente C2-6-alquinilo, como por ejemplo acetilenilo y propargilo), arilo (preferentemente C6-10-arilo, como por ejemplo fenilo y naftilo), asf como correspondientes alcarilos y aralquilos (por ejemplo tolilo, bencilo y fenetilo). Los restos R y X pueden presentar, en caso dado, uno o varios substituyentes habituales, como por ejemplo halogeno o alcoxi. Son preferentes alquiltrialcoxisilano. Son ejemplos:
50 CHaSiCla, CHaSi^Hab, CHaSKOCHaH C2HaSiCl3, C2H3Si(OC2H5)3, C2HaSi(OCH3)3, C3H7Si(OC2Hs)3,
(C2H3O)3SiC3H6Cl, (CH3)2SiCh, (CH3)2Si(OC2H3)2, (CH3)2Si(OH)2, C6H3Si(OCH3)3, C6H3Si(OC2H5)3,
C6H3CH2CH2Si(OCH3)3, (C6H3)2SiCl2, (C6H3)2Si(OC2H5)2, (i-C3H7)3SiOH, CH2=CHSi(OOCCH3)3, CH2=CHSiCl3, CH2=CH-Si(OC2H3)3, CH2=CHSi(OC2H3)3, CH2=CH-Si(OC2H4OCH3)3, CH2=CH-CH2Si(OC2H3)3, CH2=CH-CH2-
6
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
Si(OC2H5)3, CH2=CH-CH2-Si(OOCCHa)3, n-CaHi3-CH2CH2Si(OC2H5)3, y n-C8Hi7-CH2-CH2-Si(OC2H5)a.
El resto R no hidrolizable con un grupo funcional puede contener como grupo funcional, por ejemplo, un grupo epoxido (por ejemplo glicidilo o glicidiloxi), hidroxi, eter, amino, monoalquilamino, dialquilamino, anilino, amida, carboxi, acrilo, acriloxi, metacrilo, metacriloxi, mercapto, ciano, alcoxi, isocianato, aldehudo, alquilcarbonilo, anhudrido de acido y acido fosforico, en caso dado substituido. Estos grupos funcionales estan unidos al atomo de silicio a traves de grupos puente alquileno, alquenileno o arileno, que pueden estar interrumpidos por oxfgeno o grupos NH. Los grupos puente contienen preferentemente 1 a 8, y en especial 1 a 6 atomos de carbono.
Los citados grupos puente divalentes, y en caso dado los substituyentes presentes, como en el caso de los grupos alquilamino, se derivan, por ejemplo, de los restos alquilo, alquenilo, arilo, alcarilo o aralquilo monovalentes citados anteriormente. El resto R tambien puede presentar naturalmente mas de un grupo funcional.
Ejemplos preferentes de restos R no hidrolizables con grupos funcionales son un resto glicidilo o un resto glicidiloxi- (Ci-2o)-alquileno, como p-glicidiloxietilo, Y-glicidiloxipropilo, 5-glicidiloxibutilo, e-glicidiloxipentilo, u>-glicidiloxihexilo y 2- (3,4-epoxiciclohexil)etilo, un resto (met)acriloxi-(Ci-6)-alquileno, por ejemplo (met)acriloximetilo, (met)acriloxietilo, (met)acriloxipropilo o (met)acriloxibutilo, y un resto 3-isocianatopropilo. Restos especialmente preferentes son y- glicidiloxipropilo y (met)acriloxipropilo. ((Met)acrilo representa metacrilo o acrilo).
Son ejemplos concretos de silanos correspondientes Y-glicidiloxipropiltrimetoxisilano (GPTS), y- glicidiloxipropiltrietoxisilano (GPTES), 3-isocianatopropiltrietoxisilano, 3-isocianatopropildimetilclorosilano, 3- aminopropiltrimetoxisilano (APTS), 3-aminopropiltrietoxisilano (APTES), N-(2-aminoetil)-3-aminopropiltrimetoxisilano, N-[N'-(2'-aminoetil)-2-aminoetil]-3-aminopropiltrimetoxisilano, hidroximetiltrietoxisilano, 2-[metoxi(polietilenoxi)propil]- trimetoxisilano, bis-(hidroxietil)-3-aminopropiltrietoxisilano, N-hidroxietil-N-metilaminopropiltrietoxisilano, 3- (met)acriloxipropiltrietoxisilano y 3-(met)acriloxipropiltrimetoxisilano.
Ademas, tambien es posible el empleo de silanos que presentan al menos parcialmente restos organicos que estan substituidos con fluor. Tales silanos se describen detalladamente en el documento WO 92/21729. A tal efecto se pueden emplear silanos hidrolizables con al menos un resto no hidrolizable, que presentan la formula general
Rf(R)bSiX(3-b) (II)
donde X y R se definen como en la formula (I), Rf es un grupo no hidrolizable, que presenta 1 a 30 atomos de fluor unidos a atomos de carbono, que estan separados de Si preferentemente por al menos dos atomos, preferentemente un grupo etileno, y b es 0, 1 o 2. R es en especial un resto sin grupo funcional, preferentemente un grupo alquilo, como metilo o etilo. Los grupos Rf contienen preferentemente 3 a 25, y en especial 3 a 18 atomos de fluor, que estan unidos a atomos de carbono alifaticos. Rf es preferentemente un grupo alquilo fluorado con 3 a 20 atomos de carbono, y son ejemplos CF3CH2CH2-, C2F5CH2CH2-, n-C6F13CH2CH2-, EC3F7OCH2CH2CH2-, n- C8F17CH2CH2- y n-C10F21,-CH2CH2-.
Son ejemplos de fluorsilanos empleables CF3CH2CH2SiCh(CH3), CF3CH2CH2SiCl(CH3)2,
CF3CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2, C2F5-CH2CH2-SiZ3, n-C6F^-CH2CH2SiZ3, n-C8F17-CH2CH2-SiZ3, n-C1oF21,-CH2CH2-SiZ3 con (Z = OCH3, OC2H5 o Cl), i-C3F7O-CH2CH2CH2-SiCl2(CH3), n-C6F13-CH2CH2-Si(OCH2CH3)2, n-C6F13-CH2CH2-
SiCl2(CH3) y n-C6F13-CH2CH2-SiCl(CH3)2.
Los silanos se pueden obtener segun metodos conocidos; vease W. Noll, "Chemie und Technologie der Silicone", Verlag Chemie GmbH, Weinheim/BergstraUe (1968).
Son ejemplos de compuestos metalicos que disponen de un grupo funcional compuestos metalicos de un metal M de los grupos principales III a V y/o de los grupos secundarios II a IV del sistema periodico de los elementos. Son preferentes compuestos de Al, Ti o Zr. Son ejemplos a tal efectoRcMX4-c (M = Ti o Zr y c = 1, 2, 3), definiendose X y R como anteriormente en la formula (I), pudiendo representar un R o varios R conjuntamente tambien un complejante, como por ejemplo un compuesto 13-dicarbomlico o un acido (mono)carboxflico. Son preferentes tetraalcoholatos de circonio y titanio, en los que una parte de grupos alcoxi estan substituidos por un complejante, como por ejemplo un compuesto 13-dicarbomlico o un acido carboxflico, preferentemente un acido monocarboxflico.
Las substancias empleadas segun la invencion se pueden mezclar entre sf en cualquier orden. La mezcla se puede efectuar directamente en la maquina de desmenuzado, o previamente en un deposito aislado, por ejemplo un mezclador. Por lo demas, preferentemente no se anaden otros aditivos, es decir, la mezcla a someter al desmenuzado reactivo esta constituida por al menos un agente dispersante, al menos un agente de modificacion, que puede coincidir con el agente dispersante en caso especial, y las partfculas en cuyo caso se trata preferentemente de partfculas constituidas por solo un material. Son ejemplos de aditivos, que se anaden en caso dado, antiespumantes, agentes auxiliares de prensado, aglutinantes organicos, fotocatalizadores, agentes conservantes y aditivos reologicos. La adicion de aditivos es necesaria solo si estos se requieren para la elaboracion
7
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
subsituiente. Por lo tanto, estos aditivos se pueden anadir tambien tras la elaboracion segun la invencion. Una ventaja de una adicion previa puede consistir en la mezla homogenea obtenida mediante la molturacion.
En la puesta en practica del procedimiento segun la invencion, el contenido en partfculas depende en gran medida del tipo de partfcula, pero en general asciende a hasta un 60 % en volumen de la suspension, habitualmente se situa entre un 50 y un 0,5 % en volumen, preferentemente entre un 30 y un 1 % en volumen, y en especial entre un 25 y un 2,5 % en volumen de la dispersion. El resto de suspension se compone de agente dispersante y agente de modificacion. En este caso, la proporcion ponderal partfculas/agente de modificacion asciende en general a 100 : 1 hasta 100 : 35, en especial 100 : 2 a 100 : 25, y de modo especialmente preferente 100 : 4 a 100 : 20.
La proporcion cuantitativa partfculas/cuerpo de molturacion, presente en el espacio de molturacion, resulta forzosamente del contenido en producto solido de la suspension y del grado de carga de bolas de molturacion empleado, y de la densidad aparente de las bolas de molturacion.
El desmenuzado mecanico tiene lugar generalmente en molinos, amasadoras, carros de rodillos, o tambien, por ejemplo, en dispersadores de chorro. Maquinas de desmenuzado apropiadas para el desmenuzado mecanico son, a modo de ejemplo, homogeneizadores, turboagitadores, molinos con mecanismos de molturacion sueltos, como molinos de bolas, varas, tambor, conicos, tubulares, autogenos, planetarios, oscilantes y agitadores, amasadoras de rodillo de cizallamiento, molinos mortero, molinos coloidales y carros de rodillos. El desmenuzado, que puede estar constituido por molturacion y homogeneizado, se realiza preferentemente a temperatura ambiente. El tiempo depende del tipo de mezcla y de maquina de desmenuzado empleada.
Preferentemente se emplean molinos con herramientas de molturacion sueltas. Las herramientas de molturacion o los cuerpos de molturacion son, por ejemplo, bolas, varas o piezas cilmdricas cortas. El deposito ejerce, por ejemplo, un movimiento giratorio, planetario o vibratorio, o los cuerpos de molturacion se mueven con un mecanismo agitador.
Molinos especialmente preferentes son molinos de bolas agitadores, con un mecanismo agitador en movimiento y bolas de molturacion como cuerpos de molturacion.
Preferentemente se emplean molinos con cuerpos de molturacion muy reducidos, mediante lo cual se puede aplicar fuerzas de cizallamiento de dimensionado reducido. Para el paso de dispersion ultrafina se emplean preferentemente cuerpos de molturacion con un diametro de no mas de 2,5 mm, preferentemente no mas de 1,5 mm, y de modo especialmente preferente no mas de 1,0 mm, y no menores que 0,05 mm, preferentemente no menores que 0,07 mm, y de modo especialmente preferente no menores que 0,09 mm. Los cuerpos de molturacion estan constituidos habitualmente por acero, material sintetico, metal duro, AhO3, agata, silicato de circonio, ZrO2, Y- ZrO2, Ce-ZrO2, Mg-ZrO2, vidrio, SiC, SiN o mezclas de estos materiales, materiales para cuerpos de molturacion especialmente preferentes son oxidos de circonio estabilizados, silicato de circonio y acero.
El desmenuzado se puede efectuar tambien en un procedimiento de dos o mas etapas. Este puede estar constituido, por ejemplo, por un desmenuzado pre-conectado (desmenuzado previo) y un desmenuzado ultrafino siguiente, pudiendo estar presente el agente de modificacion en cada etapa o solo en al menos una etapa, por ejemplo la ultima. Por ejemplo en el caso de molturacion con cuerpos de molturacion se puede pre-conectar un paso de molturacion con cuerpos de molturacion mas gruesos, para alcanzar el tamano de partfcula de partida optimo, eficiente, para el paso de desmenuzado ultrafino.
El tamano de partfcula prefernete (diametro medio o dimension minima media) para el proceso de desmenuzado ultrafino asciende a 30 hasta 1000 nm, preferentemente 50 a 500 nm, y de modo especialmente preferente 60 a 150 nm.
En dependiencia del tipo de construccion de la maquina de desmenuzado empleada, en especial un molino, se emplean, por ejemplo, grados de carga de un 50 a un 100 % de cuerpos de molturacion, son preferentes grados de llenado de un 60 a un 98 %, de modo especialmente preferente de un 70 a un 95 %.
El proceso de desmenuzado en molinos de bolas agitadores se efectua, por ejemplo, a indices de revoluciones del mecanismo de agitacion de 900 a 5000 rpm, son preferentes indices de revoluciones de 1000 a 4500 rpm, son especialmente preferentes indices de revoluciones de 2000-4200 rpm.
El tiempo de molturacion depende en especial del tipo de partfculas empleadas, puede ascender a varios minutos hasta dfas, por ejemplo 10 minutos a 5 dfas, preferentemente entre 1 hora y 12 horas.
El desmenuzado reactivo se puede favorecer mediante alimentacion de energfa adicional (ademas de la energfa mecanica activa), por ejemplo por medio de microondas y/o ultrasonido, pudiendose emplear tambien simultaneamente ambos metodos. La alimentacion de energfa en la dispersion se efectua con especial preferencia directamente en la maquina de desmenuzado, pero tambien se puede efectuar fuera de la maquina de
8
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
desmenuzado en el circuito de producto.
El procedimiento segun la invencion se lleva a cabo preferentemente a una temperature de temperatura ambiente (aproximadamente 20°C) hasta la temperatura de ebullicion del medio dispersante. Mediante temperado apropiado (refrigeracion) del espacio de molturacion del molino son ajustables estas temperaturas de trabajo correspondientes.
El procedimiento se puede llevar a cabo tanto de manera continua en operacion de un paso, operacion de varios pasos (procedimiento pendular) o procedimiento en circuito, como tambien de manera discontinua en operacion por cargas.
A traves del desmenuzado reactivo segun la invencion, el agente de modificacion se une a las partreulas desmenuzadas mediante enlace qrnmico. En este caso, al menos una parte de las moleculas de agente de modificacion empleadas se unen a las partfculas. La fraccion que se une mediante enlace qrnmico depende, por ejemplo, del tipo de partfculas, de la cantidad empleada en relacion con las partfculas, del tamano obtenido, y con este de la superficie de partreulas disponible.
Mediante la combinacion de empleo de agentes de modificacion y un desmenuzado mecanico segun la invencion se pueden generar coloides funcionales que presentan componentes qmmicos unidos solidamente a las partreulas coloidales. De este modo se posibilita obtener partfculas coloidales con una dimension minima, incluso por debajo de un intervalo de 0,01 a 0,002 pm.
La dimension media minima (diametro medio, altura o anchura media) de las partfculas obtenidas mediante el procedimiento segun la invencion no debe ascender a mas de 0,2 pm, preferentemente no mas de 1 pm, y de modo especialmente preferente no mas de 0,05 pm. Segun demanda, el desmenuzado puede proporcionar incluso partfculas con una dimension media minima de no mas de 0,01, e incluso no mas de 0,002 pm.
La dimension media minima, por ejemplo para partreulas esfericas, es el diametro medio de partfcula, y para partfculas en forma de plaquetas, la altura media. En la presente descripcion, se entiende por diametro medio de partfcula el valor d50 de la distribucion de volumen. Por el especialista son conocidos procedimientos para la determinacion de estos tamanos de partfcula, asf como las particularidades de estos procedimientos. Son ejemplos de procedimientos de medida apropiados dispersion de luz laserica (por ejemplo con un analizador de partreulas ultrafinas (UPA)), centnfuga discoidal de rayos X, o analisis grafico cuantitativo en tomas de microscopfa electronica.
En caso deseado, a partir del coloide funcional obtenido, mediante eliminacion del agente dispersante, se puede obtener las partfculas coloidales funcionales, que son empleables como polvo. Para la eliminacion se puede emplear cualquier procedimiento conocido por el especialista, por ejemplo vaporizacion, centrifugado o filtracion. Otra posibilidad de separacion consiste en ajustar el punto isoelectrico, mediante procedimientos conocidos por el especialista, para obtener una floculacion, que se puede separar por filtracion a continuacion. En las partreulas coloidales funcionales obtenidas se encuentran en la superficie las moleculas de agentes de modificacion unidas mediante enlace qrnmico, a traves de cuya funcionalidad se puede controlar las propiedades de las partfculas. Las partfculas coloidales se pueden absorber a continuacion en el mismo o en otro agente dispersante apropiado, mostrandose una agregacion nula o relativamente reducida, de modo que el diametro medio de partfcula se puede mantener esencialmente.
Los coloides funcionales o las partfculas de coloide funcional se pueden elaborar adicionalmente mediante metodos conocidos por el especialista. Por ejemplo se puede hacer reaccionar con otros modificadores de superficie, se puede dispersar en disolventes organicos o acuosos, y se pueden anadir polfmeros, oligomeros o monomeros organicos o soles o aditivos solubles, por ejemplo los citados anteriormente. Tales mezclas, elaboraciones, o los coloides funcionales o partfculas de coloide funcional segun la invencion como tales, se pueden emplear, por ejemplo, para la obtencion de revestimientos o para otras aplicaciones.
Los ejemplos de empleo de coloides funcionales, de partfculas de coloide funcional o de mezclas que comprenden estos coloides funcionales o partfculas de coloide funcional, comprenden la obtencion de cuerpos moldeados ceramicos, laminas, membranas y revestimientos, o de compuestos de matriz polfmeros. Los revestimientos, o bien las capas, pueden servir para los mas diversos fines, por ejemplo como revestimientos con superficies de baja energfa, o como capas resistentes a la abrasion, microbicidas, fotocatalfticas, microestructurables, o bien microestructuradas, holograficas, conductivas, absorbentes en UV, fotocromicas y/o electrocromicas.
Los siguientes ejemplos sirven para la explicacion adicional de la presente invencion.
Ejemplos
Los ejemplos 1 a 5 se llevaron a cabo con un molino (Drais Perl Mill PML-H/V). Especificaciones: volumen bruto de espacio de molturacion: 1,2 l, mecanismo agitador, revestimiento de espacio de molturacion y separacion de cuerpos
9
5
10
15
20
25
30
35
40
45
de molturacion (cartucho de tamizado) de oxido de circonio, rendimiento de motor propulsor principal 4,0 kW, mdice de revoluciones de motor propulsor principal 3000 rpm, mdice de revoluciones del mecanismo agitador 900-4100 rpm.
Ejemplo 1
En un recipiente de reaccion se introducen 600 ml de tolueno, 50 g de polvo de talco (< 10 micrones, superficie BET 14 m2/g) y 5 g de metiltrimetoxisilano, y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se carga en un molino de bolas agitador, que contiene 1300 g de bolas de molturacion (silicato de circonio, diametro de bola 0,6-1,0 mm).
Se moltura 4 h a 4000 rpm. Despues se vada el molino con 2 l de tolueno. El disolvente se elimina mediante
centrifugado (4000 rpm, 15 min). El polvo remanente se seca a 130°C 24 h en estufa secadora de vado y posee una superficie BET de 200 m2/g.
Ejemplo 2
En un recipiente de reaccion se introducen 600 ml de tolueno, 50 g de polvo de talco (< 10 micrones, superficie BET 14 m2/g) y 7,2 g de feniltrimetoxisilano, y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se carga en un molino de bolas agitador, que contiene 1300 g de bolas de molturacion (silicato de circonio, diametro de bola 0,6-1,0 mm).
Se moltura 4 h a 4000 rpm. Despues se vada el molino con 2 l de tolueno. El disolvente se elimina mediante
centrifugado (4000 rpm, 15 min). El polvo remanente se seca a 130°C 24 h en estufa secadora de vado y posee una superficie BET de 194 m2/g.
Ejemplo 3
En un recipiente de reaccion se introducen 600 ml de tolueno, 50 g de polvo de talco (< 10 micrones, superficie BET 14 m2/g) y 8,9 g de metacrilato de [3-trimetoxisililpropilo], y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se carga en un molino de bolas agitador, que contiene 1300 g de bolas de molturacion (silicato de circonio, diametro de bola 0,6-1,0 mm). Se moltura 4 h a 4000 rpm. Despues se vada el molino con 2 l de tolueno. El disolvente se elimina mediante centrifugado (4000 rpm, 15 min). El polvo remanente se seca a 130°C 24 h en estufa secadora de vado y posee una superficie BET de 153 m2/g.
Ejemplo 4
En un recipiente de reaccion se introducen 600 ml de tolueno, 50 g de polvo de talco (< 10 micrones, superficie BET 14 m2/g) y 5 g de 2-[metoxi(polietilenoxi)propil]trimetoxisilano, y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se carga en un molino de bolas agitador, que contiene 1300 g de bolas de molturacion (silicato de circonio, diametro de bola 0,6-1,0 mm). Se moltura 4 h a 4000 rpm. Despues se vada el molino con 2 l de tolueno. El disolvente se elimina mediante centrifugado (4000 rpm, 15 min). El polvo remanente se seca a 130°C 24 h en estufa secadora de vado y posee una superficie BET de 101 m2/g.
Ejemplo comparativo
En un recipiente de reaccion se introducen 600 ml de tolueno y 50 g de polvo de talco (< 10 micrones, superficie BET 14 m2/g), y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se carga en un molino de bolas agitador, que contiene 1300 g de bolas de molturacion (silicato de circonio, diametro de bola 0,6-1,0 mm). Se moltura 4 h a 4000 rpm. Despues se vada el molino con 2 l de tolueno. El disolvente se elimina mediante centrifugado (4000 rpm, 15 min). El polvo remanente se seca a 130°C 24 h en estufa secadora de vado y posee una superficie BET de 18 m2/g.
Ejemplo 5
En un recipiente de reaccion se introducen 1350 ml de tolueno, 150 g de polvo de talco (< 10 micrones, superficie BET 14 m2/g) y 15 g de metacrilato de [3-trimetoxisililpropilo], y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se bombea continuamente a traves de un molino de bolas agitador cargado en un 90 % con bolas de molturacion (oxido de circonio, diametro de bola 0,4 mm) (Netzsch LabStar LS1). Se moltura 2 h a 3000 rpm. Despues se vada el molino con 2 l de tolueno. El disolvente se elimina mediante centrifugado (4000 rpm, 15 min). El polvo remanente se seca a 130°C 24 h en estufa secadora de vado y posee una superficie BET de 180 m2/g.
Ejemplo 6
En un recipiente de reaccion se introducen 1000 ml de agua destilada, 400 g de oxido de circonio (superficie BET 150 ± 10 m2/g) y 60 g de acido 3,6,9-trioxadecanoico, y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se moltura 4 h en un molino de bolas agitador (Drais Perl Mill PML-H/V, revestimiento de espacio de molturacion oxido de circonio, volumen de espacio de molturacion bruto 1,2 l, 4100 rpm, 1700 g de bolas de molturacion, silicato de
circonio, diametro de bola 0,3-0,4 mm, operacion continua en procedimiento dclico). El coloide obtenido de este modo contiene partfculas con un diametro medio de partfcula de dso = 0,0118 pm (UPA).
Ejemplo 7
En un recipiente de reaccion se introducen 880 ml de agua destilada, 800 g de oxido de circonio (superficie BET 150 5 ± 10 m2/g) y 120 g de acido 3,6,9-trioxadecanoico, y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se moltura
4,5 h en un molino de bolas agitador (Drais Perl Mill PML-H/V, revestimiento de espacio de molturacion oxido de circonio, volumen de espacio de molturacion bruto 1,2 l, 4100 rpm, 1700 g de bolas de molturacion, silicato de circonio, diametro de bola 0,3-0,4 mm, operacion continua en procedimiento dclico). El coloide obtenido de este modo contiene partfculas con un diametro medio de partfcula de d50 = 0,0123 pm (UPA).
10 Ejemplo 8
En un recipiente de reaccion se introducen 150 ml de agua destilada, 1500 ml de i-propanol, 800 g de oxido de circonio (superficie BET 150 ± 10 m2/g), 40 g de acido 3,6,9-trioxadecanoico, y 36,6 g de acido metacnlico, y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se moltura 4,5 h en un molino de bolas agitador (Drais Perl Mill PML-H/V, revestimiento de espacio de molturacion oxido de circonio, volumen de espacio de molturacion bruto 1,2 l, 15 4100 rpm, 1700 g de bolas de molturacion, silicato de circonio, diametro de bola 0,3-0,4 mm, operacion continua en
procedimiento dclico). El coloide obtenido de este modo contiene partfculas con un diametro medio de partfcula de d50 = 0,0110 pm (UPA).
Ejemplo 9
En un recipiente de reaccion se introducen 800 ml de agua destilada, 400 g de oxido de circonio (Degussa, ZrO2-VP, 20 superficie BET 40 ± 10 m2/g (dato de la firma), lavado con polvo) y 60 g de acido 3,6,9-trioxadecanoico, y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se moltura 4,5 h en un molino de bolas agitador (Drais Perl Mill PML-H/V, revestimiento de espacio de molturacion oxido de circonio, volumen de espacio de molturacion bruto 1,2 l, 4100 rpm, 1700 g de bolas de molturacion, silicato de circonio, diametro de bola 0,3-0,4 mm, operacion continua en procedimiento dclico). El coloide obtenido de este modo contiene partfculas con un diametro medio de partfcula de 25 d50 = 0,023 pm (UPA), superficie BET 75 m2/g.
Ejemplo 10
En un recipiente de reaccion se introducen 800 ml de agua destilada, 400 g de oxido de circonio (Tosoh, ZrO2/TZ-O, superficie BET 14 m2/g (dato de la firma)) y 60 g de acido 3,6,9-trioxadecanoico, y se mezcla 30 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se moltura en un molino de bolas agitador (Drais Perl Mill PML-H/V, revestimiento de espacio de 30 molturacion oxido de circonio, volumen de espacio de molturacion bruto 1,2 l, 4100 rpm, 1700 g de bolas de molturacion, silicato de circonio, diametro de bola 0,3-0,4 mm, operacion continua en procedimiento dclico). El coloide obtenido de este modo contiene partfculas con un diametro medio de partfcula de d50 = 0,073 pm (UPA), superficie BET 48 m2/g.
Ejemplo 11
35 En un recipiente de reaccion se introducen 1180 ml de agua destilada, 800 g de oxido de aluminio (Sumitomo, AKP53, superficie BET 9-15 m2/g (dato de la firma)) y 40 g de acido 3,6,9-trioxadecanoico, y se mezcla 14 h bajo agitacion. La mezcla obtenida se moltura 12 h en un molino de bolas agitador (Drais Perl Mill PML-H/V, revestimiento de espacio de molturacion oxido de circonio, volumen de espacio de molturacion bruto 1,2 l, 4100 rpm, 1700 g de bolas de molturacion, silicato de circonio, diametro de bola 0,3-0,4 mm, operacion continua en procedimiento dclico). 40 Despues de 4 h y 5,5 h se anaden respectivamente 20 g de acido 3,6,9-trioxadecanoico. El coloide obtenido de este modo presenta una superficie BET de 54 m2/g, d50 = 0,044 pm (centnfuga discoidal de rayos X).
Ejemplo 12
En un recipiente de reaccion se introducen 1035 ml de etanol, 201 g de dioxido de titanio (Sachtleben, Hombitec RM300, superficie BET 60 m2/g (dato de la firma), lavado con polvo), 20,16 g de APTES y 4,8 ml de agua destilada, 45 y se mezcla 5 min bajo agitacion. La mezcla obtenida se moltura 4 h en un molino de bolas agitador (Drais Perl Mill PML-H/V, revestimiento de espacio de molturacion oxido de circonio, volumen de espacio de molturacion bruto 1,2 l, 4100 rpm, 1700 g de bolas de molturacion, silicato de circonio, diametro de bola 0,3-0,4 mm, operacion continua en procedimiento dclico). Mediante substitucion siguiente de disolvente por centrifugado y doble lavado con agua destilada (pH = 7) se obtiene, tras redispersion en agua con pH 4,5, un coloide con un diametro medio de partfcula 50 de d50 = 0,063 (uPa), superficie BET 99 m2/g.
Claims (13)
- 5101520253035REIVINDICACIONES1. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional, en el que someten a desmenuzado reactivo por via mecanica partfculas en un agente dispersante en presencia de un agente de modificacion, estando unido el agente de modificacion al menos parcialmente a las partfculas coloidales desmenuzadas mediante enlace qmmico, con la condicion de que las partfculas no sean de oxido de indio-estano.
- 2. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun la reivindicacion 1, caracterizado por que para el desmenuzado reactivo se emplea un molino con cuerpos de molturacion sueltos.
- 3. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun la reivindicacion 2, caracterizado por que se emplean cuerpos de molturacion con un diametro de no mas de 2,5 mm.
- 4. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun la reivindicacion 1, caracterizado por que para el desmenuzado reactivo se emplea un dispersador segun el principio de chorro.
- 5. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun una de las reivindicaciones 1 a4, caracterizado por que el agente de modificacion se une a las partfculas coloidales mediante enlace covalente, ionico o coordinativo, o a traves de puentes de hidrogeno.
- 6. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun una de las reivindicaciones 1 a5, caracterizado por que el agente de modificacion presenta un peso molecular de no mas de 500.
- 7. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun la reivindicacion 1 a 6, caracterizado por que las partfculas coloidales formadas presentan una dimension media minima de no mas de 0,2 pm.
- 8. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun una de las reivindicaciones 1 a7, caracterizado por que el agente de modificacion en el agente dispersante no presenta propiedades tensioactivas.
- 9. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun una de las reivindicaciones 1 a8, caracterizado por que el agente de modificacion es un silano, un acido carboxflico, un acido aminocarboxflico o una amina.
- 10. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun una de las reivindicaciones 1 a9, caracterizado por que el agente de modificacion se emplea tambien como agente dispersante.
- 11. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun una de las reivindicaciones 1 a10, caracterizado por que el desmenuzado reactivo se favorece mediante una alimentacion de energfa adicional en la dispersion, introduciendose la energfa adicional directamente en la maquina de desmenuzado, o fuera de la maquina de desmenuzado.
- 12. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de un coloide funcional segun la reivindicacion 11, caracterizado por que la alimentacion de energfa adicional se efectua a traves de ultrasonido y/o a traves de microondas, pudiendose efectuar la alimentacion de energfa adicional tambien simultaneamente a traves de ultrasonido y microondas.
- 13. - Procedimiento para la obtencion quimiomecanica de partfculas coloidales funcionales, caracterizado por que se obtiene un coloide funcional segun el procedimiento de una de las reivindicaciones 1 a 12, y se elimina el agente dispersante.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10304849A DE10304849A1 (de) | 2003-02-06 | 2003-02-06 | Chemomechanische Herstellung von Funktionskolloiden |
DE10304849 | 2003-02-06 | ||
PCT/EP2004/001121 WO2004069400A1 (de) | 2003-02-06 | 2004-02-06 | Chemomechanische herstellung von funktionskolloiden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2584422T3 true ES2584422T3 (es) | 2016-09-27 |
Family
ID=32730819
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES04708754.9T Expired - Lifetime ES2584422T3 (es) | 2003-02-06 | 2004-02-06 | Obtención quimiomecánica de coloides funcionales |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7989504B2 (es) |
EP (6) | EP1900426A3 (es) |
JP (1) | JP2006520258A (es) |
KR (1) | KR100693970B1 (es) |
CN (1) | CN100364655C (es) |
BR (1) | BRPI0406961A (es) |
CA (1) | CA2514699C (es) |
DE (1) | DE10304849A1 (es) |
DK (1) | DK1592503T3 (es) |
EA (1) | EA011356B1 (es) |
ES (1) | ES2584422T3 (es) |
MX (1) | MXPA05008374A (es) |
NO (1) | NO20053591L (es) |
NZ (1) | NZ541619A (es) |
UA (1) | UA82218C2 (es) |
WO (1) | WO2004069400A1 (es) |
ZA (1) | ZA200505655B (es) |
Families Citing this family (59)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7223266B2 (en) | 2003-02-04 | 2007-05-29 | Cardiodex Ltd. | Methods and apparatus for hemostasis following arterial catheterization |
DE10304849A1 (de) * | 2003-02-06 | 2004-08-19 | Institut für Neue Materialien gemeinnützige Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Chemomechanische Herstellung von Funktionskolloiden |
JP2005008727A (ja) * | 2003-06-18 | 2005-01-13 | Toshiba Tec Corp | 加工顔料、顔料分散液、インクジェット用インク、加工顔料の製造方法および顔料分散液の製造方法 |
DE102004030104A1 (de) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Degussa Ag | Wässerig/organische Metalloxid-Dispersion und mit damit hergestellte beschichtete Substrate und Formkörper |
DE102004048230A1 (de) * | 2004-10-04 | 2006-04-06 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Verfahren zur Herstellung von Nanopartikeln mit maßgeschneiderter Oberflächenchemie und entsprechenden Kolloiden |
US8435236B2 (en) | 2004-11-22 | 2013-05-07 | Cardiodex, Ltd. | Techniques for heat-treating varicose veins |
DE102005039435A1 (de) * | 2005-08-18 | 2007-03-01 | Clariant International Limited | Verfahren zur Herstellung von mit Silanen oberflächenmodifiziertem Nanokorund |
DE102005039436B4 (de) * | 2005-08-18 | 2009-05-07 | Clariant International Limited | Beschichtungsmassen enthaltend mit Silanen modifizierte Nanopartikel |
JP2009504562A (ja) * | 2005-08-18 | 2009-02-05 | クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド | 酸化アルミニウムおよび周期系の第1および第2主族の元素の酸化物からの表面修飾されたナノ粒子ならびにそれらの製造 |
EP1922368B1 (de) * | 2005-08-18 | 2016-12-21 | Clariant Finance (BVI) Limited | Beschichtungsmassen enthaltend mischoxid-nanopartikel bestehend aus 50-99,9 gew% al2o3 und 0,1-50 gew% oxiden von elementen der i. oder ii. hauptgruppe des periodensystems |
DE102005050593A1 (de) * | 2005-10-21 | 2007-04-26 | Esk Ceramics Gmbh & Co. Kg | Dauerhafte siliciumnitridhaltige Hartbeschichtung |
DE102006007888A1 (de) * | 2006-02-21 | 2007-08-23 | Degussa Gmbh | Aluminiumoxid enthaltende Dispersion, Zubereitung enthaltend diese Dispersion und ein Melaminharz und mittels dieser Zubereitung hergestelles gehärtetes Produkt |
JP5177970B2 (ja) * | 2006-07-18 | 2013-04-10 | 株式会社日本触媒 | 金属酸化物ナノ粒子の製造方法、金属ナノ粒子、処理金属ナノ粒子およびその用途 |
WO2008010533A1 (en) * | 2006-07-18 | 2008-01-24 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Metal oxide nanoparticle and method for producing the same |
WO2008022760A1 (de) * | 2006-08-24 | 2008-02-28 | Clariant Finance (Bvi) Limited | Druckfarben enthaltend mischoxid-nanopartikel |
DE102007003435A1 (de) | 2007-01-23 | 2008-07-24 | Clariant International Ltd. | Druckfarbenbeschichtungsmassen enthaltend Mischoxid-Nanopartikel |
DE102006053326A1 (de) * | 2006-11-10 | 2008-05-15 | Bühler PARTEC GmbH | Ausrüstung von Substraten |
US8322754B2 (en) * | 2006-12-01 | 2012-12-04 | Tenaris Connections Limited | Nanocomposite coatings for threaded connections |
CA2696504A1 (en) | 2007-08-15 | 2009-02-19 | Cardiodex Ltd. | Systems and methods for puncture closure |
DE102007044302A1 (de) | 2007-09-17 | 2009-03-19 | Bühler PARTEC GmbH | Verfahren zur Dispergierung von feinteiligen anorganischen Pulvern in flüssigen Medien unter Verwendung von reaktiven Siloxanen |
CN101952116A (zh) * | 2007-11-16 | 2011-01-19 | 瓦林格光催化股份有限公司 | 光催化板或面板及其制造方法 |
EP2080503B1 (de) * | 2008-01-18 | 2011-09-14 | Ivoclar Vivadent AG | Dentalmaterialien mit oberflächenfunktionalisierten Füllstoffen |
EP2086019A1 (en) | 2008-02-02 | 2009-08-05 | RENOLIT Belgium N.V. | Profiles for fixing rigid plates |
AT506089B1 (de) * | 2008-03-03 | 2009-06-15 | Ke Kelit Kunststoffwerk Gmbh | Formkörper aus einem polymer, insbesondere rohr |
JP5599797B2 (ja) * | 2008-09-04 | 2014-10-01 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 変性された粒子、及びこれらを含む分散液 |
ES2421032T3 (es) | 2009-02-03 | 2013-08-28 | Bühler PARTEC GmbH | Partículas de óxido de zinc modificadas con ácido fosfonocarboxílico y uso de partículas de óxido de zinc |
EP2241602A1 (de) | 2009-04-17 | 2010-10-20 | Bühler PARTEC GmbH | Mit Phosphonocarbonsäure modifizierte Zinkoxid-Partikel und Verwendung von Zinkoxid-Partikeln |
DK2411141T3 (da) | 2009-03-23 | 2014-03-31 | Vaelinge Photocatalytic Ab | Frembringelse af kolloide titandioxidnanopartikelopslæm-ninger med opretholdt krystallinitet ved anvendelse af en perlemølle med perler i mikrometerstørrelse |
JP5330047B2 (ja) * | 2009-03-24 | 2013-10-30 | 日本碍子株式会社 | 分散性の向上したセラミックス粉末の製造方法、及びセラミックス粉末の分散液の製造方法 |
DE102009037992A1 (de) | 2009-08-20 | 2011-02-24 | Eckart Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Dispersionen mit metalloxidischen Nanopartikeln und Dispersion |
DE102011010580A1 (de) | 2011-02-08 | 2012-07-12 | Clariant International Ltd. | Flüssige, wasserbasierende, universale Pigmentpräparationen |
WO2015120485A1 (en) * | 2014-02-10 | 2015-08-13 | Peerless Worldwide, Llc | Water, bubble collapse and syngas species in the synthesis of graphene and its derivatives |
KR101258402B1 (ko) | 2011-05-27 | 2013-05-02 | (주)창성 | 전자 인쇄용 구리 미립자 콤플렉스 및 구리 페이스트 |
EP2729640A4 (en) | 2011-07-05 | 2015-07-08 | Välinge Photocatalytic Ab | COATED WOOD PRODUCTS AND METHOD FOR PRODUCING COATED WOOD PRODUCTS |
RU2643148C2 (ru) | 2012-03-20 | 2018-01-31 | Велинге Фотокаталитик Аб | Фотокаталитические композиции, содержащие диоксид титана и добавки против фотообесцвечивания |
CN102675920B (zh) * | 2012-05-15 | 2013-12-25 | 福建丰力机械科技有限公司 | 电离吸附式粉体改性方法及装置 |
JP5343224B1 (ja) * | 2012-09-28 | 2013-11-13 | Roca株式会社 | 半導体装置および結晶 |
JP6028529B2 (ja) * | 2012-11-08 | 2016-11-16 | 住友大阪セメント株式会社 | 表面修飾金属酸化物微粒子、それを含有する分散液、樹脂組成物、複合体及び光学部材 |
CN102974380B (zh) * | 2012-11-13 | 2014-07-23 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种铁、氮共掺杂炭黑催化剂及其制备方法 |
CN102974381B (zh) * | 2012-11-30 | 2014-07-23 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种氟、氮共掺杂炭黑催化剂及其制备方法 |
US9375750B2 (en) | 2012-12-21 | 2016-06-28 | Valinge Photocatalytic Ab | Method for coating a building panel and a building panel |
KR101345855B1 (ko) * | 2013-01-21 | 2013-12-30 | 이길문 | 실리콘을 이용한 분쇄방법 |
JP6416247B2 (ja) | 2013-06-27 | 2018-10-31 | イフォクレール ビバデント, インコーポレイテッド | ナノ結晶ジルコニアおよびその加工方法 |
US9945075B2 (en) | 2013-09-25 | 2018-04-17 | Valinge Photocatalytic Ab | Method of applying a photocatalytic dispersion |
AR100953A1 (es) | 2014-02-19 | 2016-11-16 | Tenaris Connections Bv | Empalme roscado para una tubería de pozo de petróleo |
RU2615562C1 (ru) * | 2015-12-29 | 2017-04-05 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ измельчения смеси карбоната бария и оксида железа в производстве гексаферритов бария |
RU2611814C1 (ru) * | 2015-12-29 | 2017-03-01 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ измельчения смеси карбоната стронция и оксида железа в производстве гексаферритов стронция |
RU2618781C1 (ru) * | 2015-12-29 | 2017-05-11 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ измельчения смеси карбоната бария и оксида железа в производстве гексаферритов бария |
RU2614005C1 (ru) * | 2015-12-29 | 2017-03-22 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ измельчения смеси карбоната бария и оксида железа в производстве гексаферритов бария |
RU2615565C1 (ru) * | 2015-12-29 | 2017-04-05 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ измельчения смеси карбоната бария и оксида железа в производстве гексаферритов бария |
US9822039B1 (en) | 2016-08-18 | 2017-11-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Metal oxide ceramic nanomaterials and methods of making and using same |
RU2637705C1 (ru) * | 2016-12-23 | 2017-12-06 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ измельчения смеси карбоната стронция и оксида железа в производстве гексаферритов стронция |
RU2645192C1 (ru) * | 2016-12-23 | 2018-02-16 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ измельчения смеси карбоната стронция и оксида железа в производстве гексаферритов стронция |
RU2638069C1 (ru) * | 2016-12-23 | 2017-12-11 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ измельчения смеси карбоната стронция и оксида железа в производстве гексаферритов стронция |
RU2637703C1 (ru) * | 2016-12-23 | 2017-12-06 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС" | Способ измельчения смеси карбоната стронция и оксида железа в производстве гексаферритов стронция |
CN107793899A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-03-13 | 中车青岛四方机车车辆股份有限公司 | 一种耐磨防污型丙烯酸改性醇酸涂料及其制备方法 |
US10385075B1 (en) | 2018-10-11 | 2019-08-20 | Nanostar, Inc. | Mechanochemical functionalization of silicon |
EP3854484A3 (de) * | 2020-10-05 | 2021-08-18 | Kronos International, Inc. | Mahlhilfsmittel zum mahlen von titandioxid |
RU2760689C1 (ru) * | 2021-02-19 | 2021-11-29 | АЙДАРОВА Амина Ильшатовна | Способ улучшения растворения золота в воде, и водный золото-кварцевый концентрат, полученный этим способом |
Family Cites Families (54)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE421318C (de) * | 1923-05-19 | 1925-11-12 | Eisengiesserei A G | Verfahren zur Herstellung von festen, trockenen, kolloiden Stoffen |
US3342424A (en) * | 1961-06-14 | 1967-09-19 | American Cyanamid Co | Titanium dioxide pigment and preparation |
US3097801A (en) * | 1961-08-09 | 1963-07-16 | Minerals & Chem Philipp Corp | Method for comminuting kaolin clay |
US3313492A (en) * | 1964-12-24 | 1967-04-11 | Minerals & Chem Philipp Corp | Grinding method |
US3333776A (en) * | 1965-04-05 | 1967-08-01 | Dow Corning | Hydrophobic silica as a grinding aid |
US3868345A (en) * | 1972-03-09 | 1975-02-25 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Elastomers made from hardenable masses based on diorganopolysiloxanes |
DE2344388B2 (de) * | 1973-09-03 | 1978-06-22 | Elektroschmelzwerk Kempten Gmbh, 8000 Muenchen | Verfahren zum Herstellen von hydrophobem Siliciumdioxyd |
US4482656A (en) * | 1983-09-29 | 1984-11-13 | Battelle Development Corporation | Method for manufacturing a composition for coating substrates with an abrasion-resistant transparent and translucent film |
JPH0659397B2 (ja) * | 1985-10-11 | 1994-08-10 | 有限会社三好化成 | 表面処理粉体及びその製造方法 |
EP0232772B1 (de) * | 1986-02-05 | 1989-12-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung eines pulverförmigen amorphen Materials unter Vornahme eines Mahlprozesses |
JPH0730213B2 (ja) * | 1986-11-10 | 1995-04-05 | 出光石油化学株式会社 | 熱可塑性樹脂組成物 |
US5065946A (en) * | 1988-07-21 | 1991-11-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Media agitating mill and method for milling ceramic powder |
DE3839900A1 (de) * | 1988-11-25 | 1990-05-31 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur hydrophobierung von si-oh-gruppen enthaltendem, teilchenfoermigem feststoff und verwendung des erhaltenen, hydrophoben, teilchenfoermigen feststoffes in einem verfahren zur herstellung von zu elastomeren haertbaren massen auf basis von diorganopolysiloxanen |
JPH02194065A (ja) * | 1989-01-20 | 1990-07-31 | Teika Corp | 微粒子二酸化チタン組成物 |
US5246173A (en) * | 1989-10-04 | 1993-09-21 | Hoechst Aktiengesellschaft | Vibrating stirred ball mill |
US5122317A (en) * | 1990-01-12 | 1992-06-16 | The Regents Of The University Of Michigan | Method of superplastically deforming zirconia materials |
JP3060530B2 (ja) * | 1990-11-26 | 2000-07-10 | 信越化学工業株式会社 | 無機質粒子の表面処理方法及び熱硬化性樹脂組成物 |
JP2909519B2 (ja) * | 1991-03-01 | 1999-06-23 | 宇部興産株式会社 | 表面処理無機充填材の製造方法 |
US5270076A (en) * | 1991-04-11 | 1993-12-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for coating alkyl ketene dimer on titanium dioxide |
DE4118184A1 (de) | 1991-06-03 | 1992-12-10 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Beschichtungszusammensetzungen auf der basis von fluorhaltigen anorganischen polykondensaten, deren herstellung und deren verwendung |
DE4212633A1 (de) * | 1992-04-15 | 1993-10-21 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter nanoskaliger keramischer Pulver |
JP2745363B2 (ja) * | 1992-09-25 | 1998-04-28 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH06279017A (ja) * | 1993-03-24 | 1994-10-04 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 珪酸カルシウム水和物の処理方法および処理装置 |
JPH06329948A (ja) * | 1993-05-21 | 1994-11-29 | Nara Kikai Seisakusho:Kk | 粉体の表面改質方法 |
US6193795B1 (en) * | 1993-08-02 | 2001-02-27 | Degussa Corporation | Low structure pyrogenic hydrophilic and hydrophobic metallic oxides, production and use |
DE4411862A1 (de) * | 1994-04-06 | 1995-10-12 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung homogener Mehrkomponenten-Dispersionen und davon abgeleiteter Produkte |
US20030109588A1 (en) * | 1994-04-06 | 2003-06-12 | Helmut Schmidt | Method of producing homogeneous multicomponent dispersions and products derived from such dispersions |
JP3274024B2 (ja) * | 1994-05-31 | 2002-04-15 | テイカ株式会社 | 化粧料の製造方法 |
EP0707051B1 (en) * | 1994-10-14 | 2001-05-16 | Tioxide Group Services Limited | Inorganic particles coated with an alkylphosphonic acid or an ester thereof, their preparation and their use |
US5609907A (en) * | 1995-02-09 | 1997-03-11 | The Penn State Research Foundation | Self-assembled metal colloid monolayers |
US5474237A (en) * | 1995-02-28 | 1995-12-12 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for eliminating screen plugging in wet grinding mills |
JP3412320B2 (ja) * | 1995-03-14 | 2003-06-03 | 三菱化学フォームプラスティック株式会社 | 懸濁剤含有スラリーとその製造法、及び、それを用いた懸濁重合法 |
JP3891449B2 (ja) * | 1995-11-20 | 2007-03-14 | 大日本印刷株式会社 | 赤外線吸収材料の製造方法 |
DE69720122T2 (de) * | 1996-08-16 | 2003-10-16 | Nippon Telegraph & Telephone | Wasserabweisende Beschichtung, Verfahren zu ihrer Herstellung, sowie deren Verwendung in Beschichtungen und für beschichtete Gegenstände |
DE19849048A1 (de) * | 1998-10-23 | 2000-04-27 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Suspensionen und Pulvern von Indium-Zinn-Oxid und deren Verwendung |
DE19840527B4 (de) * | 1998-09-06 | 2008-01-24 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Verfahren zur Herstellung von Suspensionen und Pulvern von Indium-Zinn-Oxid |
ES2268881T3 (es) * | 1998-09-06 | 2007-03-16 | Leibniz-Institut Fur Neue Materialien Gemeinnutzige Gmbh | Metodo para la fabricacion de suspensiones y polvos a base de oxido de zinc y de indio y su utilizacion. |
US6488730B2 (en) * | 1999-07-01 | 2002-12-03 | Cheil Industries, Inc. | Polishing composition |
DE19938759A1 (de) * | 1999-08-16 | 2001-02-22 | Basf Coatings Ag | Beschichtungsstoff und seine Verwendung zur Herstellung hochkratzfester mehrschichtiger Klarlackierungen |
JP4523684B2 (ja) * | 1999-10-04 | 2010-08-11 | 石原産業株式会社 | 有機化合物処理二酸化チタン顔料の製造方法 |
DE19952040A1 (de) | 1999-10-28 | 2001-05-03 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Substrat mit einem abriebfesten Diffusionssperrschichtsystem |
JP4688286B2 (ja) * | 1999-12-17 | 2011-05-25 | 石原産業株式会社 | 二酸化チタン顔料及びその製造方法 |
JP3698248B2 (ja) * | 2000-01-21 | 2005-09-21 | Tdk株式会社 | コイル部品用酸化物磁性材料の製造方法 |
GB2360438B (en) * | 2000-03-22 | 2004-04-07 | Kerry Ingredients | Liquid dough conditioner |
DE10035679A1 (de) * | 2000-07-21 | 2002-01-31 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Nanoskalige Korundpulver, daraus gefertigte Sinterkörper und Verfahren zu deren Herstellung |
EP1199335B1 (de) * | 2000-10-21 | 2010-12-22 | Evonik Degussa GmbH | Funktionalisierte Kieselsäuren |
US6656241B1 (en) * | 2001-06-14 | 2003-12-02 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Silica-based slurry |
SG118142A1 (en) * | 2001-07-06 | 2006-01-27 | Toray Industries | Resin composition adhesive film for semiconductor device and laminated film with metallic foil and semiconductor device using the same |
DE10140155A1 (de) * | 2001-08-16 | 2003-03-06 | Basf Coatings Ag | Thermisch sowie thermisch und mit aktinischer Strahlung härtbare Beschichtungsstoffe und ihre Verwendung |
DE10145162A1 (de) * | 2001-09-13 | 2003-04-10 | Wacker Chemie Gmbh | Kieselsäure mit geringem Gehalt an Kieselsäure-Silanolgruppen |
DE10151478C1 (de) * | 2001-10-18 | 2003-03-13 | Wacker Chemie Gmbh | Mit Aminogruppen oberflächenmodifizierte Feststoffe, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
JP2003335979A (ja) * | 2002-03-13 | 2003-11-28 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 二酸化チタン顔料の製造方法及び該二酸化チタン顔料を配合した樹脂組成物 |
JP2004010807A (ja) * | 2002-06-10 | 2004-01-15 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 水性分散体の製造方法 |
DE10304849A1 (de) * | 2003-02-06 | 2004-08-19 | Institut für Neue Materialien gemeinnützige Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Chemomechanische Herstellung von Funktionskolloiden |
-
2003
- 2003-02-06 DE DE10304849A patent/DE10304849A1/de not_active Ceased
-
2004
- 2004-02-06 EP EP07123088A patent/EP1900426A3/de not_active Withdrawn
- 2004-02-06 EP EP04708754.9A patent/EP1592503B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-06 JP JP2006501761A patent/JP2006520258A/ja active Pending
- 2004-02-06 EP EP07123086A patent/EP1918021A3/de not_active Withdrawn
- 2004-02-06 MX MXPA05008374A patent/MXPA05008374A/es unknown
- 2004-02-06 WO PCT/EP2004/001121 patent/WO2004069400A1/de active IP Right Grant
- 2004-02-06 KR KR1020057014460A patent/KR100693970B1/ko active IP Right Grant
- 2004-02-06 CN CNB2004800036578A patent/CN100364655C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-02-06 BR BR0406961-7A patent/BRPI0406961A/pt not_active IP Right Cessation
- 2004-02-06 EP EP07123087A patent/EP1902778A3/de not_active Withdrawn
- 2004-02-06 DK DK04708754.9T patent/DK1592503T3/en active
- 2004-02-06 EP EP07123085A patent/EP1902777A3/de not_active Withdrawn
- 2004-02-06 ES ES04708754.9T patent/ES2584422T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2004-02-06 CA CA002514699A patent/CA2514699C/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-02-06 EP EP20070123084 patent/EP1902776A3/de not_active Withdrawn
- 2004-02-06 EA EA200501254A patent/EA011356B1/ru unknown
- 2004-02-06 US US10/544,003 patent/US7989504B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-02-06 NZ NZ541619A patent/NZ541619A/en unknown
- 2004-06-02 UA UAA200507806A patent/UA82218C2/uk unknown
-
2005
- 2005-07-15 ZA ZA200505655A patent/ZA200505655B/en unknown
- 2005-07-25 NO NO20053591A patent/NO20053591L/no not_active Application Discontinuation
-
2011
- 2011-06-09 US US13/157,045 patent/US20110288183A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ES2584422T3 (es) | Obtención quimiomecánica de coloides funcionales | |
US20090004098A1 (en) | Process for the Production of Nanoparticles with Tailor-Made Surface Chemistry and Corresponding Colloids | |
ES2268881T3 (es) | Metodo para la fabricacion de suspensiones y polvos a base de oxido de zinc y de indio y su utilizacion. | |
JP4864205B2 (ja) | ナノサイズ酸化亜鉛粒子の製造方法 | |
JP5412109B2 (ja) | 酸化アルミニウム及び元素周期律表の第1及び2主族の元素の酸化物よりなるナノ粒子ならびにその製造方法 | |
JP2009501690A (ja) | ナノ結晶α−Al2O3の製造方法 | |
CN107922198B (zh) | 具有高盐稳定性的含SiO2的分散体 | |
ES2365822T3 (es) | Procedimiento para la producción de nanopartículas a partir de espinelas de aluminio y su aplicación. | |
CN107922199B (zh) | 具有高盐稳定性的含SiO2的分散体 | |
JP6468457B2 (ja) | 酸化チタン粒子およびその製造方法 | |
JP4569597B2 (ja) | 酸化亜鉛の製造方法及び酸化亜鉛 | |
Lu et al. | Synthesis and Characterization of Nanoscaled Cerium (IV) Oxide via a Solid‐State Mechanochemical Method | |
JP6195524B2 (ja) | 疎水性シリカ粉末およびその製造方法 | |
JP2007001796A (ja) | 炭酸ストロンチウム微粒子の製造方法 | |
Shiaw-Tseh Chiang | The production of dispersible zirconia nanocrystals: A recent patent review | |
JP6257243B2 (ja) | 希土類チタン酸塩粉末及びその製造方法並びにそれを含む分散液 |