DE69830944T3

DE69830944T3 - Polierkissen mit Rillenmuster zur Verwendung in einer chemisch-mechanischen Poliervorrichtung

Info

Publication number: DE69830944T3
Application number: DE69830944.8T
Authority: DE
Inventors: Tom Osterheld; Sen-Hou Ko; Doyle Edward Bennett; Fred C. Redeker; Ginetto Addiego
Original assignee: Applied Materials Inc
Current assignee: Applied Materials Inc
Priority date: 1997-05-15
Filing date: 1998-05-12
Publication date: 2014-06-26
Anticipated expiration: 2018-05-13
Also published as: EP0878270A3; KR100801371B1; EP0878270B1; JP4937184B2; US20020137450A1; US20030092371A1; US6824455B2; KR100764988B1; SG83679A1; US5984769A; JPH1170463A; KR20060129140A; DE69830944T2; KR19980087060A; JP2008188768A; US5921855A; US6699115B2; DE69830944D1; US20040072516A1; US6645061B1

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich insgesamt auf ein Polierkissen nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Ein solches Kissen ist in der US-A-5,578,362 offenbart.
Integrierte Schaltungen werden gewöhnlich auf Substraten, insbesondere Siliziumwafern, durch aufeinander folgendes Abscheiden von leitenden, halbleitenden oder isolierenden Schichten gebildet. Nach dem Abscheiden jeder Schicht wird die Schicht geätzt, um die Schaltungselemente zu erzeugen. Wenn eine Reihe von Schichten nacheinander abgeschieden und geätzt worden ist, wird die äußere oder oberste Fläche des Substrats, d. h. die exponierte Oberfläche des Substrats, zunehmend uneben. Diese unebene äußere Fläche stellt ein Problem für den Hersteller von integrierten Schaltungen dar. Es besteht deshalb die Notwendigkeit, die Substratoberfläche periodisch zu planarisieren, um eine ebene Oberfläche zu bilden.
Das chemische mechanische Polieren (CMP) ist ein akzeptiertes Verfahren der Planarisierung. Dieses Verfahren erfordert gewöhnlich, dass das Substrat auf einem Träger oder einem Polierkopf angebracht wird. Die exponierte Fläche des Substrats wird dann an dem rotierenden Polierkissen angeordnet. Der Trägerkopf sorgt für eine steuerbare Last, d. h. einen Druck, auf das Substrat, um es gegen den Polierkopf zu drücken. Zusätzlich kann der Trägerkopf rotieren, um eine zusätzliche Bewegung zwischen dem Substrat und der Polieroberfläche bereitzustellen.
Dem Polierkissen kann eine Polierschlämme mit einem abrasiven und wenigstens einem chemisch reaktiven Mittel zugeführt werden, um an der Grenzfläche zwischen dem Kissen und dem Substrat eine abrasive chemische Lösung bereitzustellen. Das CMP ist ein ziemlich komplexer Prozess, der sich vom einfachen Nassfeinschleifen unterscheidet. Bei einem CMP-Prozess reagiert das reaktive Mittel in der Schlämme mit der äußeren Oberfläche des Substrats zur Bildung von reaktiven Stellen. Die Interaktion des Polierkissens und der abrasiven Teilchen mit den reaktiven Stellen auf dem Substrat führt zum Polieren des Substrats.
Ein effektiver CMP-Prozess hat nicht nur eine hohe Poliergeschwindigkeit, sondern bildet auch eine Substratoberfläche, die feinbearbeitet (es fehlen Rauhigkeiten im kleinen Maßstab) und eben ist (es fehlt eine Topographie im großen Maßstab). Die Poliergeschwindigkeit, die Feinbearbeitung und die Ebenheit werden von der Kombination von Kissen und Schlämme, der Relativgeschwindigkeit zwischen Substrat und Kissen und der Kraft bestimmt, die das Substrat gegen das Kissen drückt. Die Poliergeschwindigkeit bestimmt die Zeit, die erforderlich ist, um eine Schicht zu polieren. Da eine unzureichende Ebenheit und Feinbearbeitung defekte Substrate erzeugen kann, wird die Auswahl einer Kombination von Polierkissen und Schlämme üblicherweise durch die geforderte Oberflächengüte und Ebenheit vorgegeben. Bei diesen Beschränkungen bestimmt die Polierzeit, die erforderlich ist, um die gewünschte Oberflächengüte und Ebenheit zu erreichen, den maximalen Durchsatz der CMP-Vorrichtung.
Ein wiederkehrendes Problem bei dem CMP ist die Ungleichförmigkeit der Poliergeschwindigkeit über der Oberfläche des Substrats. Eine Ursache für diese Ungleichförmigkeit ist der so genannte ”Randeffekt”, d. h. die Tendenz, dass der Substratrand bei einer anderen Geschwindigkeit als die Mitte des Substrats poliert wird. Eine weitere Ursache der Nichtgleichförmigkeit wird als ”Zentrumsverlangsamungseffekt” bezeichnet, worunter die Tendenz verstanden wird, dass die Mitte des Substrats zu wenig poliert wird. Diese ungleichförmigen Polierwirkungen verringern die Gesamtebenheit des Substrats und der für die integrierte Schaltungsherstellung geeignete Substratfläche, was die Prozessausbeute verringert.
Ein weiteres Problem bezieht sich auf die Schlämmeverteilung, Wie oben angegeben, ist der CMP-Prozess ziemlich komplex und erfordert die Interaktion von Polierkissen, abrasiven Teilchen und reaktivem Mittel mit dem Substrat, um die gewünschten Polierergebnisse zu erhalten. Dementsprechend ergibt eine nicht effektive Schlämmeverteilung über der Polierkissenoberfläche weniger als optimale Polierergebnisse. Bisher verwendete Polierkissen wiesen eingeschlossene Perforationen über dem Kissen auf. Diese Perforationen verteilen, wenn sie gefüllt sind, die Schlämme in ihren jeweiligen örtlichen Bereichen, wenn das Polierkissen zusammengedrückt wird. Dieses Verfahren der Schlämmeverteilung hat eine begrenzte Wirksamkeit, da jede Perforation in Wirklichkeit unabhängig wirkt. Somit können einige der Perforationen zu wenig Schlämme aufweisen, während andere viel Schlämme haben können. Außerdem gibt es keinen Weg, die Überschussschlämme direkt dorthin zu leiten, wo sie am meisten benötigt wird.
Ein weiteres Problem ist das ”Glattwerden” des Polierkissens. Das Glattwerden tritt ein, wenn das Polierkissen in Bereichen erhitzt und zusammengedrückt wird, an denen das Substrat gegen das Kissen gedrückt wird. Die Spitzen des Polierkissens werden nach unten gepresst, und die Vertiefungen werden aufgefüllt, so dass die Polierkissenoberfläche glatter und weniger abrasiv wird. Als Folge nimmt die Polierzeit zu. Deshalb muss die Polierkissenoberfläche periodisch in einen abrasiven Zustand zurückgeführt oder ”konditioniert” werden, um einen hohen Durchsatz aufrechtzuerhalten.
Zusätzlich können während des Konditionierprozesses Abfallmaterialien, die durch das Konditionieren des Kissens erzeugt werden, die Perforationen in dem Kissen füllen oder verstopfen. Mit solchen Abfallstoffen verstopfte Perforationen halten Schlämme nicht mehr wirksam, wodurch die Effektivität des Polierprozesses verringert wird.
Ein gefüllten oder verstopften Kissenperforationen zugeordnetes zusätzliches Problem bezieht sich auf die Trennung des Polierkissens von dem Substrat, nachdem das Polieren abgeschlossen worden ist. Der Polierprozess erzeugt eine hochgradige Oberflächenspannung zwischen dem Kissen und dem Substrat. Die Perforationen verringern die Oberflächenspannung, indem die Kontaktfläche zwischen dem Kissen und dem Substrat verringert wird. Wenn sich jedoch die Perforationen mit dem Abfallmaterial füllen oder verstopfen, nimmt die Oberflächenspannung zu, wodurch es schwieriger wird, Kissen und Substrat zu trennen. Dabei ist es wahrscheinlicher, dass das Substrat während des Trennprozesses beschädigt wird.
Ein weiteres Problem bei dem CMP ist der ”Planarisierungseffekt”. Im Idealfall poliert ein Polierkissen nur Spitzen in die Topographie des Substrats. Nach einem bestimmten Polierzeitraum gleichen sich schließlich diese Spitzen im Niveau mit den Vertiefungen aus, was eine im Wesentlichen planare Oberfläche ergibt. Wenn ein Substrat jedoch dem ”Planarisierungseffekt” ausgesetzt ist, werden die Spitzen und Vertiefungen gleichzeitig poliert. Der ”Planarisierungseffekt” ergibt sich aus der kompressiblen Natur des Polierkissens ansprechend auf Punktbelastung. Insbesondere wenn das Polierkissen zu flexibel ist, verformt es sich und kontaktiert einen großen Oberflächenbereich des Substrats sowohl mit Spitzen als auch mit Vertiefungen in der Substratoberfläche.
Deshalb ist es zweckmäßig, eine CMP-Vorrichtung bereitzustellen, die einige dieser Probleme, wenn nicht alle, verbessert.
Die vorliegende Erfindung ist auf ein Polierkissen zum Polieren eines Substrats in einem chemischen mechanischen Poliersystem gerichtet, wie es im Anspruch 1 offenbart ist.
Zu den Vorteilen der Erfindung gehören die folgenden: Das Polierkissen führt zu einer verbesserten Poliergleichförmigkeit. Die Nuten des Polierkissens bilden eine effektive Maßnahme, die Schlämme über dem Kissen zu verteilen. Die Nuten sind ausreichend breit, dass durch den Konditionierprozess erzeugtes Abfallmaterial aus den Nuten gespült werden kann. Das Polierkissen ist ausreichend starr, um den ”Planarisierungseffekt” zu vermeiden. Die relativ tiefen Nuten des Polierkissens verbessern auch die Lebensdauer des Kissens.
Weitere Merkmale und Vorteile werden aus der folgenden Beschreibung unter Bezug auf die beiliegenden Zeichnungen ersichtlich, in denen die 5 bis 16 nicht in den Schutzbereich von Anspruch 1 fallen.
1 ist eine schematische, auseinandergezogene perspektivische Ansicht einer Vorrichtung zum chemischen mechanischen Polieren.
2 ist eine schematische Schnittansicht eines Trägerkopfs und eines Polierkissens.
3 ist eine schematische Draufsicht auf ein Polierkissen mit konzentrischen kreisförmigen Nuten nach der vorliegenden Erfindung.
4 ist eine schematische Schnittansicht längs der Linie 4-4 des Polierkissens von 3.
5 ist eine schematische Draufsicht auf ein Polierkissen, das eine Spiralnut verwendet.
6 ist eine schematische Draufsicht auf ein Polierkissen nach der vorliegenden Erfindung, das Bereiche mit unterschiedlichen Nutabständen hat.
7 ist eine Schnittansicht längs der Linie 7-7 des Polierkissens von 6.
8 ist eine schematische Draufsicht auf ein Polierkissen, das Bereiche mit unterschiedlichen Nutbreiten hat.
9 ist eine Schnittansicht längs der Linie 9-9 des Polierkissens von 8.
10 ist eine schematische Draufsicht auf ein Polierkissen, das Bereiche mit unterschiedlichen Nutbreiten und unterschiedlichen Nutabständen hat.
11 ist eine Schnittansicht längs der Linie 11-11 des Polierkissens von 10.
12 ist eine schematische Draufsicht auf ein Polierkissen, das eine Spiralnut und Bereiche unterschiedlicher Nutteilung hat.
13 ist eine schematische Draufsicht auf ein Polierkissen, das konzentrische, kreisförmige Nuten und schlangenförmige Nuten hat.
14 ist eine schematische Draufsicht auf ein Polierkissen, das kreisförmige Nuten mit unterschiedlichen radialen Mittelpunkten hat.
15 ist eine schematische Draufsicht auf ein Polierkissen, das konzentrische kreisförmige Nuten und Nutbogensegmente hat.
16 ist eine schematische Draufsicht auf ein Polierkissen, das sowohl konzentrische kreisförmige Nuten als auch eine Spiralnut hat.
Gemäß 1 werden ein oder mehrere Substrate 10 von einer Vorrichtung 20 zum chemischen mechanischen Polieren poliert. Eine vollständige Beschreibung der Poliervorrichtung findet sich in dem US-Patent 5,738,574 . Die Poliervorrichtung 20 hat eine untere Maschinenbasis 22 und eine darauf angebrachte Tischoberseite 23 sowie eine entfernbare äußere Abdeckung (nicht gezeigt). Die Tischoberseite 23 trägt eine Reihe von Polierstationen 25a, 25b und 25c sowie eine Überführungsstation 27. Die Überführungsstation 27 bildet mit den drei Polierstationen 25a, 25b und 25c eine insgesamt quadratische Anordnung. Die Überführungsstation 27 übt mehrere Funktionen aus, zu denen die Aufnahme einzelner Substrate 10 aus einer Ladevorrichtung (nicht gezeigt), das Waschen der Substrate, das Laden der Substrate in Trägerköpfe (wird nachstehend beschrieben), die Aufnahme der Substrate von den Trägerköpfen, das erneute Waschen der Substrate und schließlich das Überführen der Substrate zurück zu der Ladevorrichtung gehören.
Jede Polierstation hat eine drehbare Platte 30, auf der ein Polierkissen 100 angeordnet ist. Wenn das Substrat 10 eine Scheibe mit einem Durchmesser von 8 Zoll (200 mm) oder 12 Zoll (300 mm) ist, haben die Platte 30 und das Polierkissen 100 einen Durchmesser von etwa 20 Zoll (500 mm). Die Platte 20 kann eine drehbare Platte aus Aluminium oder rostfreiem Stahl sein, die mit einem Plattenantriebsmotor (nicht gezeigt) verbunden ist. Bei den meisten Polierprozessen dreht der Plattenantriebsmotor die Platte 30 mit dreißig bis zweihundert Umdrehungen pro Minute, obwohl auch geringere oder höhere Drehzahlen verwendet werden können.
Jede Polierstation 25a bis 25c kann weiterhin eine zugeordnete Kissenkonditioniervorrichtung 40 aufweisen. Jede Kissenkonditioniervorrichtung 40 hat einen drehbaren Arm 42, der einen unabhängig drehenden Konditionierkopf 44 hält, sowie ein zugehöriges Waschbecken 46. Die Konditioniervorrichtung hält den Zustand des Polierkissens aufrecht, so dass es, während es sich dreht, jedes Substrat wirksam poliert, das gegen es gepresst wird.
Der Oberfläche des Polierkissens 100 wird durch einen kombinierten Schlämme-/Spülarm 52 eine Schlämme 50 zugeführt, die ein reaktives Mittel (beispielsweise deionisiertes Wasser für Oxidpolieren), abrasive Teilchen (beispielsweise Siliziumdioxid für Oxidpolieren) und einen chemisch-reaktiven Katalysator enthält. Der Schlämme-/Spülarm kann zwei oder mehr Schlämmezuführrohre aufweisen, um Schlämme zur Oberfläche des Polierkissens zu liefern. Zur Bedeckung und Benutzung des gesamten Polierkissens 100 wird ausreichend Schlämme zugeführt. Der Schlämme-/Spülarm 52 hat auch mehrere Sprühdüsen (nicht gezeigt), die für ein Hochdruckspülen des Polierkissens 100 am Ende eines jeden Polier- und Konditionierzyklus sorgen.
Zwischen benachbarten Polierstationen 25a, 25b und 25c können zwei oder mehr Zwischenwaschstationen 55a und 55b angeordnet werden. Die Waschstationen spülen die Substrate, wenn sie von einer Polierstation zur anderen gehen.
Über der unteren Maschinenbasis 22 ist ein drehbares Mehrfachkopfkarussell 60 angeordnet. Das Karussell 60 wird von einer zentralen Säule 62 gehalten und daran um eine Karussellachse 64 durch eine Karussellmotoranordnung gedreht, die sich in der Basis 22 befindet. Die Mittelsäule 62 trägt eine Karussellhalteplatte 60 und einen Deckel 68. Das Karussell 60 hat vier Trägerkopfsysteme 70a, 70b, 70c und 70d. Drei der Trägerkopfsysteme nehmen Substrate auf, halten sie und polieren sie, indem sie gegen die Polierkissen 100 auf den Platten 30 der Polierstationen 25a bis 25c gedrückt werden. Eines der Trägerkopfsysteme nimmt ein Substrat von der Überführungsstation 27 auf und transportiert ein Substrat zu ihr.
Die vier Trägerkopfsysteme 70a bis 70d sind an der Karussellträgerplatte 66 mit gleichen Winkelabständen um die Karussellachse 84 herum angeordnet. Die Mittelsäule 62 ermöglicht es, dass der Karussellmotor die Karussellhalteplatte 66 dreht und die Trägerkopfsysteme 70a bis 70d und die daran befestigten Substrate um die Karussellachse 64 umlaufen lässt.
Jedes Trägerkopfsystem 70a bis 70d hat einen Träger oder Trägerkopf 80. Jeder Trägerkopf 80 dreht unabhängig um seine eigene Achse. Eine Trägerantriebswelle 74 verbindet einen Trägerkopf-Drehmotor 76 (durch Weglassen eines Viertels des Deckels 68 gezeigt) mit dem Trägerkopf 80. Für jeden Kopf gibt es eine Trägerantriebswelle und einen Motor. Zusätzlich schwenkt jeder Trägerkopf 80 unabhängig seitlich in einem radialen Schlitz 72, der in der Karussell-Halteplatte 66 ausgebildet ist. Ein Schlitten (nicht gezeigt) hält jede Antriebswelle 74 in einem radialen Schlitz 72. Ein radialer Antriebsmotor (nicht gezeigt) kann den Schlitten bewegen, damit der Trägerkopf seitlich verschwenkt wird.
Der Trägerkopf 80 führt mehrere mechanische Funktionen aus. Insgesamt hält der Trägerkopf das Substrat gegen das Polierkissen, verteilt einen Abwärtsdruck gleichmäßig über die Rückseite des Substrats, überträgt ein Drehmoment von der Antriebswelle auf das Substrat und gewährleistet, dass das Substrat nicht unter dem Trägerkopf während der Poliervorgänge herausrutscht.
Gemäß 2 hat jeder Trägerkopf 80 eine Gehäuseanordnung 82, eine Basisanordnung 84 und eine Halteringanordnung 86. Ein Lademechanismus kann die Basisanordnung 84 mit der Gehäuseanordnung 82 verbinden. Die Basisanordnung 84 kann eine flexible Membran 88 aufweisen, die eine Substrataufnahmefläche für den Trägerkopf bildet. Eine Beschreibung des Trägerkopfs 80 findet sich in der US-Patentanmeldung Serial No. 08/745,679 mit dem Titel ”Trägerkopf mit einer flexiblen Membran für ein chemisches mechanisches Poliersystem”, eingereicht am 8. November 1996 von Steven M. Zuniga et al. und übertragen auf die Zessionarin der vorliegenden Erfindung.
Das Polierkissen 100 kann ein Verbundmaterial mit einer aufgerauten Polierfläche 102 sein. Das Polierkissen 100 kann eine obere Schicht 36 und eine untere Schicht 38 aufweisen. Die untere Schicht 38 kann an der Platte 30 durch eine Kontaktkleberschicht 39 befestigt sein. Die obere Schicht 36 kann härter als die untere Schicht 38 sein. Die obere Schicht 36 kann aus Polyurethan oder Polyurethan gemischt mit einem Füllstoff bestehen. Die untere Schicht 38 kann aus komprimierten Filzfasern bestehen, durch das Urethan gesickert ist. Ein zweischichtiges Polierkissen mit der oberen Schicht aus IC-1000 und der unteren Schicht aus SUBA-4 wird von Rodel, Inc., Neward, Delaware, geliefert (IC-1000 und SUBA-4 sind Produktnamen von Rodel, Inc.).
Gemäß 3 und 4 ist eine Vielzahl von konzentrischen, kreisförmigen Nuten 104 in der Polierfläche 102 des Polierkissens 100 angeordnet. Vorteilhafterweise sind diese Nuten gleichförmig mit einer Teilung P beabstandet. Die Teilung P ist, wie besonders deutlich in 4 gezeigt ist, der radiale Abstand zwischen benachbarten Nuten. Zwischen jeder Nut befindet sich eine kreisförmige Trennwand 106 mit einer Breite Wp. Jede Nut 104 hat Wände 110, die in einem im Wesentlichen U-förmigen Basisabschnitt 112 enden. Jede Nut kann eine Tiefe Dg und eine Breite Wg haben. Alternativ können die Nuten einen Rechtecksquerschnitt aufweisen.
Die Wände 110 sind insgesamt senkrecht und können an der U-förmigen Basis 112 enden. Jeder Polierzyklus führt zu einem Verschleiß an dem Polierkissen, gewöhnlich in der Form, dass das Polierkissen dünner wird, wenn die Polierfläche 102 verschleißt. Die Breite Wg einer Nut mit senkrechten Wänden 110 verändert sich nicht, wenn das Polierkissen verschleißt. Somit gewährleisten die insgesamt senkrechten Wände, dass das Polierkissen einen im Wesentlichen gleichförmigen Oberflächenbereich über seiner Betriebslebensdauer hat.
Zu den verschiedenen Ausgestaltungen des Polierkissens gehören breite und tiefe Nuten verglichen mit denjenigen, wie sie bisher verwendet wurden. Die Nuten 104 haben eine minimale Breite Wg von etwa 0,38 mm (0,015 Zoll). Jede Nut 104 hat eine Breite Wg zwischen etwa 0,38 mm und 1,0 mm (0,015 und 0,04 Zoll). Insbesondere können die Nuten eine Breite Wg von etwa 0,50 mm (0,020 Zoll) aufweisen. Jede Trennwand 106 kann eine Breite Wp zwischen etwa 1,9 und 5,1 mm (0,075 und 0,20 Zoll) haben. Insbesondere können die Trennwände eine Breite Wp von etwa 2,5 mm (0,10 Zoll) haben. Dementsprechend liegt die Teilung P zwischen den Nuten zwischen etwa 2,3 und 6,1 mm (0,09 und 0,24 Zoll). Die Teilung kann speziell etwa 3,0 mm (0,12 Zoll) betragen.
Das Verhältnis von Nutbreite Wg zur Trennwandbreite Wp wird zwischen etwa 0,10 und 0,25 ausgewählt. Das Verhältnis kann etwa 0,2 betragen. Wenn die Nuten zu breit sind, wird das Polierkissen zu flexibel, und es tritt der ”Planarisierungseffekt” auf. Wenn andererseits die Nuten zu schmal sind, wird es schwierig, Abfallmaterial aus den Nuten zu entfernen. In gleicher Weise sind die Nuten, wenn die Teilung zu klein ist, zu nahe beieinander, und das Polierkissen wird zu flexibel. Wenn andererseits die Teilung zu groß ist, wird die Schlämme nicht gleichmäßig zu der gesamten Oberfläche des Substrats transportiert.
Die Nuten 104 haben auch eine Tiefe Dg von wenigstens etwa 0,50 mm (0,02 Zoll). Die Tiefe Dg liegt zwischen etwa 0,50 und 1,3 mm (0,02 und 0,05 Zoll). Insbesondere kann die Tiefe Dg der Nuten etwa 0,76 mm (0,03 Zoll) betragen. Die obere Schicht 36 kann eine Dicke T zwischen etwa 1,5 und 3,0 mm (0,06 und 0,12 Zoll) haben. Als solche kann die Dicke T etwa 1,8 mm (0,07 Zoll) betragen. Die Dicke T wird so ausgewählt, dass die Entfernung Dp zwischen dem Boden des Basisabschnitts 112 und der unteren Schicht 138 zwischen etwa 0,88 und 2,2 mm (0,035 und 0,085 Zoll) liegt. Insbesondere kann der Abstand Dp etwa 1,0 mm (0,04 Zoll) betragen. Wenn der Abstand Dp zu klein ist, ist das Polierkissen zu flexibel. Wenn andererseits der Abstand Dp zu groß ist, wird das Polierkissen dick und demzufolge teurer. Andere Ausgestaltungen des Polierkissens können Nuten mit einer ähnlichen Tiefe haben.
Gemäß 3 bilden die Nuten 104 ein Muster, das eine Vielzahl von ringförmigen Inseln oder Vorsprüngen bestimmt. Der Oberflächenbereich, der durch diese Inseln zum Polieren dargestellt wird, liegt zwischen etwa 90% und 75% des gesamten Oberflächenbereichs des Polierkissens 100. Als Folge wird die Oberflächenspannung zwischen dem Substrat und dem Polierkissen verringert, was die Trennung des Polierkissens von dem Substrat nach Abschluss des Polierzyklus erleichtert.
Gemäß 5 ist bei einer weiteren Ausgestaltung eine Spiralnut 124 in einer Polierfläche 122 eines Polierkissens 120 angeordnet. Vorteilhafterweise hat die Nut einen gleichförmigen Abstand mit einer Teilung P. Eine Spiraltrennwand 126 trennt die Ringe der Spirale. Die Spiralnut 124 und die Spiraltrennwand 126 können die gleichen Abmessungen wie die kreisförmige Nut 104 und die kreisförmige Trennwand 106 von 3 haben. D. h., dass die Spiralnut 124 eine Tiefe von wenigstens etwa 0,50 mm (0,02 Zoll), eine Breite von wenigstens etwa 0,38 mm (0,015 Zoll) und eine Teilung von wenigstens etwa 2,3 mm (0,09 Zoll) haben kann. Insbesondere kann die Spiralnut 124 eine Tiefe zwischen 0,50 und 1,3 mm (0,02 und 0,05 Zoll) sowie 0,76 mm (0,03 Zoll), eine Breite zwischen etwa 0,38 und 10,1 mm (0,015 und 0,40 Zoll), beispielsweise 5,1 mm (0,20 Zoll) und eine Teilung P zwischen etwa 2,3 und 6,1 mm (0,09 und 0,24 Zoll), beispielsweise 3,0 mm (0,12 Zoll) haben.
Bei einer anderen Ausführungsform gemäß 6 und 7 ist eine Vielzahl von konzentrischen, kreisförmigen Nuten 144 in einer Polierfläche 142 eines Polierkissens 140 angeordnet. Diese Nuten haben jedoch keinen gleichförmigen Abstand. Stattdessen ist die Polierfläche 142 in Bereiche unterteilt, in denen die Nuten mit unterschiedlichen Teilungen voneinander beabstandet sind. Zusätzlich haben die Nuten nicht notwendigerweise eine gleichförmige Tiefe.
Bei einer Ausführung ist die Polierfläche 142 in vier konzentrische Bereiche unterteilt, zu denen ein innerster Bereich 150, ein ringförmiger äußerster Bereich 156 und zwei Zwischenbereiche 152 und 154 gehören. Der Bereich 150 kann mit Nuten versehen sein, und die Nuten im Bereich 154 können in einem geringeren Abstand als die Nuten in den Bereich 152 und 156 angeordnet sein. Somit sind die Nuten im Bereich 154 mit einer Teilung P2 beabstandet, während die Nuten in den Bereichen 152 und 156 mit einer Teilung P1 beabstandet sind, wobei P2 kleiner als P1 ist. Jede Nut 144 kann eine Breite Wg haben. Die Breite Wg kann zwischen etwa 0,38 und 1,0 mm (0,015 und 0,04 Zoll) liegen, beispielsweise bei etwa 0,50 mm (0,02 Zoll). Die Nuten können auch eine gleichförmige Tiefe Dg von etwa 0,50 mm (0,02 Zoll) bei einer 1,3 mm (0,05 Zoll) dicken oberen Schicht 36 oder von etwa 0,76 mm (0,03 Zoll) für eine 2,0 mm (0,08 Zoll) dicke obere Schicht haben.
Zwischen jeder Nut in den Bereichen 152 und 156 mit weiter Teilung ist eine breite ringförmige Trennwand 146a mit einer Breite Wp1 angeordnet, während zwischen jeder Nut in dem Bereich 154 mit schmaler Teilung eine schmale ringförmige Trennwand 146b mit einer Breite Wp2 vorgesehen ist. Jede breite Trennwand 146a kann eine Breite Wp1 zwischen etwa 3,0 und 6,1 mm (0,12 und 0,24 Zoll), beispielsweise etwa 4,6 mm (0,18 Zoll) haben. Dementsprechend kann die Teilung P1 zwischen den Nuten in den breiten Trennwandbereichen zwischen etwa 2,3 und 6,1 mm (0,09 und 0,24 Zoll), beispielsweise 5,1 mm (0,2 Zoll) liegen. Somit kann die Teilung P1 etwa doppelt so groß wie die Teilung P2 sein. Der Oberflächenbereich, der von den breiten Trennwänden 146a präsentiert wird, beträgt etwa 90% des verfügbaren Oberflächenbereichs der breiten Trennwandbereiche.
Wie vorher erwähnt, können die Nuten in dem Bereich 154 enger zueinander beabstandet sein. Jede schmale Trennwand 146b kann eine Breite Wp2 zwischen etwa 1,0 und 3,0 mm (0,04 und 0,12 Zoll), beispielsweise etwa 2,0 mm (0,08 Zoll) haben. Dementsprechend kann die Teilung P2 zwischen den Nuten in dem schmalen Trennwandbereich zwischen etwa 1,1 und 5,1 mm (0,045 und 0,2 Zoll), beispielsweise bei 2,5 mm (0,10 Zoll) liegen. Der Oberflächenbereich, der von den schmalen Trennwänden 146b präsentiert wird, beträgt etwa 75% des verfügbaren Oberflächenbereichs des schmalen Oberflächenbereichs.
Das Polierkissen 140 ist insbesondere dafür geeignet, die Poliergleichförmigkeitsprobleme zu verringern, beispielsweise den so genannten ”Schnellbandeffekt”. Der Schnellbandeffekt tritt manchmal beim Oxidpolieren unter Verwendung eines zweischichtigen Polierkissens mit einer SS12-Schlämme auf, die Quarzstaub enthält. Der Schnellbandeffekt führt dazu, dass ein ringförmiger Bereich des Substrats, dessen Zentrum sich etwa 15 mm von Substratrand entfernt befindet, merklich überpoliert wird. Dieser ringförmige Bereich kann etwa 20 mm breit sein. Wenn das Polierkissen 140 so gebaut ist, dass es dem Schnellbandeffekt entgegenwirkt, können der erste Bereich 150 einen Radius W1 von etwa 81 mm (3,2 Zoll), der zweite Bereich 152 eine Breite W2 von etwa 120 mm (4,8 Zoll), der dritte Bereich 154 eine Breite W3 von etwa 30 mm (1,2 Zoll) und der vierte Bereich 156 eine Breite W4 von etwa 20 mm (0,8 Zoll) haben. Diese Breiten gelten, wenn das Polierkissen einen Durchmesser von etwa 500 mm (20 Zoll) hat und das Substrat über die Polierkissenoberfläche mit einem Überstreichbereich von etwa 20 mm (0,8 Zoll) bewegt wird, so dass das Substrat sich etwa 5,1 mm (0,2 Zoll) vom Rand des Kissens am äußersten Überstreichpunkt und etwa 25 mm (1,0 Zoll) von der Mitte des Kissens am innersten Überstreichpunkt befindet.
Es scheint, dass die Poliergeschwindigkeit mit dem Prozentsatz des Polierkissen-Oberflächenbereichs vergleichbar ist, der das Substrat während des Polierens kontaktiert. Dadurch, dass das Polierkissen mit einem Bereich versehen ist, in welchem von den Nuten ein größerer Oberflächenbereich eingenommen wird, wird die Poliergeschwindigkeit in diesem Bereich verringert. Insbesondere verringern die nahe beabstandeten Nuten im Bereich 154 die Poliergeschwindigkeit in den sonst überpolierten Abschnitten des Substrats. Demzufolge gleicht das Polierkissen den Schnellbandeffekt aus und verbessert die Poliergleichförmigkeit.
Bei einer anderen Ausführungsform gemäß 8 und 9 ist eine Vielzahl von konzentrischen kreisförmigen Nuten 164a und 164b in einer Polierfläche 162 eines Polierkissens 160 angeordnet. Diese Nuten 164a und 164b können gleichförmig mit einer Teilung P beabstandet sein. Die Nuten haben jedoch keine gleichförmige Breite.
Bei einer Ausführung ist die Polierfläche 162 in vier konzentrische Bereiche unterteilt, zu denen ein innerster Bereich 170, ein äußerster Bereich 176 und zwei Zwischenbereiche 172 und 174 gehören. Der Bereich 170 kann frei von Nuten sein, während die Nuten 164b im Bereich 174 breiter als die Nuten 164a in den Bereichen 172 und 176 sein können. Die schmalen Nuten 164a können eine Breite Wg1 haben, während die breiten Nuten 164b eine Breite Wg2 haben. Zwischen jeder schmalen Nut 164a befindet sich eine breite ringförmige Trennwand 166a mit einer Breite Wp1, während sich zwischen jeder breiten Nut 164b eine schmale ringförmige Trennwand 166b mit einer Breite Wp2 befindet.
Die breiten Nuten können zwei- bis zwanzigmal, beispielsweise sechsmal, breiter sein als die schmalen Nuten. Die schmalen Nuten 164a können eine Breite Wg1 zwischen etwa 0,38 und 1,0 mm (0,015 und 0,04 Zoll), beispielsweise 0,50 mm (0,02 Zoll) haben, während die breiten Nuten 164b eine Breite Wg2 zwischen etwa 1,0 und 7,6 mm (0,04 und 0,3 Zoll), beispielsweise 3,2 mm (0,125 Zoll) haben können. Die breiten Trennwände 166a können eine Breite Wp1 von zwischen etwa 2,5 und 9,8 mm (0,10 und 0,385 Zoll), beispielsweise 4,6 mm (0,18 Zoll) haben, während die schmalen Trennwände 166b eine Breite Wp2 zwischen etwa 1,3 und 2,5 mm (0,05 und 0,10 Zoll), beispielsweise 1,9 mm (0,075 Zoll) haben können. Die Nuten können einen gleichen Abstand mit einer Teilung P zwischen etwa 2,3 und 10 mm (0,09 und 0,40 Zoll), beispielsweise 5,1 mm (0,2 Zoll) haben. In den Bereichen 172 und 176 mit schmaler Nut bedecken die Trennwände etwa 75% des verfügbaren Oberflächenbereichs ab, während in dem Bereich 174 mit breiter Nut die Trennwände etwa 50% des verfügbaren Oberflächenbereichs abdecken.
Zu erwähnen ist, dass eine Vielzahl von Nutbreiten und/oder Abständen verwendet werden kann, um den gewünschten Kontaktoberflächenbereich zu erzielen. Der Schlüsselfaktor ist, dass der Oberflächenbereich für den Kontakt mit den Abschnitten des Substrats kleiner ist, die sonst überpoliert würden. Ein Polierkissen mit nicht gleichförmigen Nutabständen und Breiten kann auch bei Prozessen zweckmäßig sein, bei denen ein nicht gleichförmiges Polieren eines Substrats erwünscht ist.
Bei einer anderen Ausführungsform gemäß 10 und 11 ist eine Vielzahl von konzentrischen kreisförmigen Nuten 184a und 184b in einer Polierfläche 184 eines Polierkissens 180 angeordnet. Diese Nuten 184a und 184b haben sowohl eine nicht gleichförmige Teilung als auch eine nicht gleichförmige Breite.
Bei einer Ausführung ist die Polierfläche 182 in vier konzentrische Bereiche unterteilt, zu denen ein innerster Bereich 190, ein äußerster Bereich 196 und zwei Zwischenbereiche 192 und 194 gehören. Der Bereich 190 kann mit Nuten versehen sein, und die Nuten 184b im Bereich 194 können breiter, jedoch weiter beabstandet als die Nuten 184a in den Bereichen 192 und 196 sein. Die schmalen Nuten 184a können eine Breite Wg1 von etwa 0,5 mm (0,02 Zoll) haben, während die breiten Nuten 194b eine Breite Wg2 von etwa 3,2 mm (0,125 Zoll) haben können. Die schmalen Nuten 184a können mit einer Teilung P1 von etwa 3,0 mm (0,12 Zoll) angeordnet werden, während die breiten Nuten 184b im Bereich 194 mit einer Teilung P2 von etwa 5 mm (0,2 Zoll) angeordnet werden können. Zwischen jeder schmalen Nut 184a befindet sich eine ringförmige Trennwand 186a mit einer Breite Wp1 von etwa 2,5 mm (0,1 Zoll), während sich zwischen jeder breiten Nut 184b eine ringförmige Trennwand 186b mit einer Breite Wp2 von etwa 1,9 mm (0,075 Zoll) befindet.
Bei einer anderen Ausführungsform nach 12 ist in einer Polierfläche 202 eines Polierkissens 200 eine Spiralnut 204 angeordnet. Die Ringe der Spirale trennt eine Spiraltrennwand 206. Die Nut 204 hat eine nicht gleichförmige Teilung. Die Breite der Nut 204 kann gleichförmig oder nicht gleichförmig sein.
Die Polierfläche 202 kann in vier konzentrische Bereiche unterteilt werden, zu denen ein innerster Bereich 210, ein äußerster Bereich 216 und zwei Zwischenbereiche 212 und 214 gehören. Im Bereich 214 hat die Spiralnut eine schmalere Teilung als in den Bereich 212 und 216. Insbesondere kann die Spiralnut 204 eine Teilung P1 von etwa 5,1 mm (0,20 Zoll) in den Bereichen 212 und 226 sowie eine Teilung P2 von etwa 3,0 mm (0,12 Zoll) im Bereich 214 haben. Die Spiralnut 204 erstreckt sich nicht in den Bereich 210.
Bei einer anderen Ausführungsform gemäß 13 sind in einer Polierfläche 224 eines Polierkissens 220 eine Vielzahl von konzentrischen kreisförmigen Nuten 224a und eine Vielzahl von schlangenförmigen Nuten 224b angeordnet. Die schlangenförmig verlaufenden Nuten 224b können breiter als die kreisförmigen Nuten 224a sein. Zwischen jeder kreisförmigen Nut 224a befindet sich eine ringförmige Trennwand 226a, während sich zwischen jeder schlangenförmig verlaufenden Nut 224b eine schlangenförmig verlaufende Trennwand 226b befindet. Obwohl es nicht gezeigt ist, können sich einige der schlangenförmig verlaufenden Nuten 224b mit einigen der kreisförmigen Nuten 224a schneiden.
Die Polierfläche 222 kann in vier konzentrische Bereiche unterteilt sein, zu denen ein innerster Bereich 230, ein äußerster Bereich 236 und zwei Zwischenbereiche 232 und 234 gehören. Der Bereich 230 kann frei von Nuten sein, während sich die schlangenförmig verlaufenden Nuten im Bereich 234 und kreisförmige Nuten in den Bereichen 232 und 236 befinden können. Die kreisförmigen Nuten 224a können eine Breite von etwa 0,50 mm (0,02 Zoll) und eine Teilung von etwa 3,0 mm (0,12 Zoll) haben. Jede der schlangenförmig verlaufenden Nuten 224b kann sich zwischen seinem innersten und seinem äußersten Radius mit einer Amplitude A von etwa 2,5 bis 13 mm (0,1 bis 0,5 Zoll), beispielsweise 5,1 oder 10 mm (0,2 oder 0,4 Zoll) wellen. Jede Wellung einer schlangenförmig verlaufenden Nut kann sich über einen Winkel α zwischen etwa 5 und 180 Grad, beispielsweise 15 Grad, erstrecken. Somit kann jede schlangenförmig verlaufende Nut 224b zwischen etwa 2 und 72, beispielsweise 24, Wellungen aufweisen. Die schlangenförmig verlaufenden Nuten 224b können eine Breite von etwa 3,2 mm (0,125 Zoll) und eine Teilung von etwa 5,1 mm (0,20 Zoll) haben. Die zweite Teilung der schlangenförmig verlaufenden Nuten 224 kann zwischen dem Ein- und Zweifachen ihrer Amplitude oder zwischen etwa dem Eineinhalb- und Zweifachen ihrer zweiten Breite liegen.
Bei einem beispielsweisen Polierkissen kann sich der Bereich 232 von einem Radius von etwa 81 mm (3,2 Zoll) zu einem Radius von etwa 200 mm (8,0 Zoll), der Bereich 234 von einem Radius von etwa 200 mm (8,0 Zoll) zu einem Radius von etwa 230 mm (9,2 Zoll) und der Bereich 236 von einem Radius von etwa 230 mm (9,2 Zoll) zu einem Radius von etwa 250 mm (9,92 Zoll) erstrecken.
Bei einer weiteren Ausführungsform sind gemäß 14 kreisförmigen Nuten 244a und 244b in einer Polierfläche 242 eines Polierkissens 240 angeordnet. Diese Nuten haben eine nicht gleichförmige Breite. Zusätzlich sind die Nuten 244a um einen Punkt 248a konzentrisch, während die Nuten 224b um einen anderen Punkte 248b konzentrisch sind. Die Nuten 244a sind durch ringförmige Trennwände 246a getrennt, während die Nuten 244b durch ringförmige Trennwände 246b getrennt sind. Die Mittelpunkte 248a und 248b können durch einen Abstand d getrennt sein, der in etwa gleich der Teilung zwischen den Nuten 244b ist. Obwohl es nicht gezeigt ist, können einige der kreisförmigen Nuten 244a einige der kreisförmigen Nuten 244b schneiden.
Die Polierfläche 242 ist in vier konzentrische Bereiche unterteilt, zu denen ein innerster Bereich 250, ein äußerster Bereich 256 und zwei Zwischenbereiche 252 und 254 gehören. Die Nuten in den Bereichen 252 und 256 sind um einen Punkt 248a konzentrisch, während die Nuten in dem Bereich 254 um einen Punkt 248b konzentrisch sind. Die Nuten 244a und 244b können jeweils Breiten von 0,50 und 3,2 mm (0,02 und 0,125 Zoll) und jeweils Teilungen von 5,1 und 6,1 mm (0,20 und 0,24 Zoll) haben.
Bei einer weiteren Ausführungsform gemäß 15 sind in einer Polierfläche 262 eines Polierkissens 260 eine Vielzahl von konzentrischen kreisförmigen Nuten 284a und eine Vielzahl von segmentierten Nutenbögen 264b ausgebildet. Die segmentierten Nutenbögen 264b sind längs benachbarter konzentrischer kreisförmiger Bahnen 268a und 268b angeordnet. Die Bögen können so versetzt sein, dass die Bögen auf den Bahnen 268a zu den Bögen auf den Bahnen 268b nicht benachbart sind. Eine ringförmige Trennwand 266a trennt jede kreisförmige Nut 264a, während eine einzige Trennwand 266b die Nutenbögen 264b umschließt.
Die Polierfläche 262 kann in vier konzentrische Bereiche unterteilt sein, zu denen ein innerster Bereich 270, ein äußerster Bereich 276 und zwei Zwischenbereiche 272 und 274 gehören. Der Bereich 270 kann frei von Nuten sein, während sich die Nutenbögen 264b im Bereich 274 und die kreisförmigen Nuten 264a sich in den Bereichen 272 und 276 befinden können. Die kreisförmigen Nuten 264a können eine Breite von etwa 0,51 mm (0,02 Zoll) und eine Teilung von etwa 5,1 mm (0,20 Zoll) haben. Die Nutenbögen 264b können eine Breite von etwa 3,2 mm (0,125 Zoll) haben, während die kreisförmigen Bahnen 268a und 268b voneinander um etwa 5,1 mm (0,2 Zoll) beabstandet sein können. Bei dieser Ausführungsform wird die Teilung als zwischen benachbarten kreisförmigen Bahnen liegend angesehen.
Bei einer weiteren Ausführungsform gemäß 16 sind in einer Polierfläche 282 eines Polierkissens 280 eine Vielzahl von konzentrischen kreisförmigen Nuten 284a und eine Spiralnut 284b ausgebildet. Eine ringförmige Trennwand 286a trennt jede kreisförmige Nut 284a, während die Spiralnut 284b eine Spiraltrennwand 286b bildet.
Die Polierfläche 282 kann in vier konzentrische Bereiche geteilt werden, zu denen ein innerster Bereich 290, ein äußerster Bereich 296 und zwei Zwischenbereiche 292 und 294 gehören. Der Bereich 290 kann frei von Nuten sein, während sich die Spiralnut 284b im Bereich 294 befinden kann und sich die kreisförmigen Nuten 284a in den Bereichen 292 und 296 befinden können. Die kreisförmigen Nuten 284a können ähnlich wie die kreisförmigen Nuten 264a gestaltet sein, d. h. mit einer Breite von etwa 0,50 mm (0,02 Zoll) und einer Teilung von etwa 3,0 mm (0,12 Zoll). Die Spiralnut 284b kann eine Breite von etwa 3,2 mm (0,125 Zoll) und eine Teilung von etwa 5,1 mm (0,2 Zoll) haben. Bei einem beispielsweisen Polierkissen kann sich der Bereich 282 von einem Radius von etwa 81 mm (3,2 Zoll) zu einem Radius von etwa 200 mm (7,88 Zoll), der Bereich 284 von einem Radius von etwa 200 mm (8,0 Zoll) zu einem Radius von etwa 230 mm (9,2 Zoll) und der Bereich 286 von einem Radius von etwa 240 mm (9,32 Zoll) zu einem Radius von etwa 252 mm (9,92 Zoll) erstrecken.
Zusätzlich kann es bei allen Ausführungsformen Gradienten in der Nutbreite und/oder Trennwandbreite zwischen benachbarten Bereichen geben. Diese Gradienten sorgen für ein Polieren mit Geschwindigkeiten zwischen den Geschwindigkeiten in den benachbarten Bereichen. Da das Substrat über die Polierkissenoberfläche geschwenkt wird, sorgen die Zwischenpoliergeschwindigkeiten für ein gleichförmigeres Polieren zwischen benachbarten Bereichen des Substrats.
Die Nuten der vorstehend beschriebenen Ausführungsformen bilden Luftkanäle, die jeden Vakuumaufbau zwischen dem Polierkissen und dem Substrat verringern. Wenn jedoch der für das Polieren zur Verfügung stehende Oberflächenbereich abnimmt, kann eine gleichzeitige Erhöhung der Polierzeit erforderlich werden, um die gleichen Polierergebnisse zu erreichen.
Die Nuten können in der Polierfläche durch Schneiden oder Fräsen ausgebildet werden. Insbesondere kann an einem Fräser ein Sägeblatt verwendet werden, um die Nuten in die Polierfläche zu schneiden. Alternativ können die Nuten durch Prägen oder Einpressen der Polierfläche durch eine hydraulische oder pneumatische Presse ausgebildet werden. Das relativ einfache Nutmuster vermeidet eine teure spanabhebende Bearbeitung. Die Nuten können auch dadurch ausgebildet werden, dass das Polierkissen in einer Form hergestellt wird. Beispielsweise können die Nuten während einer Polymerisierreaktion gebildet werden, bei der das Polierkissen in einer Form gegossen wird, die ein negatives Bild der Nuten enthält.
Wie oben beschrieben, führt der Schlämme-/Spülarm Schlämme zu der Polierfläche. Die im Polierkissen ausgebildeten, fortlaufenden Kanäle erleichtern das Wandern der Schlämme um das Polierkissen. So kann Überschussschlämme in jedem Bereich des Kissens zu einem anderen Bereich durch den Nutaufbau geführt werden, was eine gleichförmigere Abdeckung mit Schlämme über der Polierfläche ergibt. Dementsprechend wird die Schlämmeverteilung verbessert und jede Änderung der Poliergeschwindigkeit verringert, die einer schlechten Schlämmeverteilung zuzurechnen ist.
Zusätzlich verringern die Nuten die Möglichkeit, dass während der Polier- und Konditionierzyklen erzeugte Abfallmaterialien die Schlämmeverteilung beeinträchtigen. Die Nuten erleichtern das Abwandern des Abfallmaterials von der Polierkissenoberfläche, was die Möglichkeit einer Verstopfung verringert. Die Breite der Nuten ermöglicht ein effektives Ausspülen von Abfallmaterialien aus den Nuten durch eine Sprühspülung aus dem Schlämme-/Spülarm 52.
Die Tiefe der Nuten verbessert die Polierkissenlebensdauer. Wie oben erwähnt, reibt der Konditionierprozess Material von der Oberfläche des Polierkissens ab und entfernt es, wodurch die Tiefe der Nuten reduziert wird. Demzufolge kann die Lebensdauer des Kissen durch Erhöhung der Nuttiefe gesteigert werden.

Claims

Polierkissen (100) zum Polieren eines Substrats in einem chemischen mechanischen Poliersystem, wobei das Polierkissen eine für die Herstellung von integrierten Schaltungen geeignete Polierfläche (102) mit einer ersten Vielzahl von im Wesentlichen kreisförmigen Nuten (104) hat, dadurch gekennzeichnet, dass die Nuten eine Tiefe zwischen etwa 0,50 mm und 1,3 mm (0,02 und 0,05 Zoll), eine Breite zwischen etwa 0,38 und 1,0 mm (0,015 und 0,04 Zoll) und eine Teilung zwischen etwa 2,3 und 6,1 mm (0,09 und 0,24 Zoll) haben, und dass jede der Nuten Seitenwände hat, die senkrecht zu der Polierfläche sind, wobei die Nuten durch Trennwände getrennt sind und das Verhältnis der Breite der Nuten zu den Trennwänden zwischen etwa 0,10 und 0,25 liegt, und wobei das Kissen eine obere Schicht, die die Polierfläche bildet, und eine untere Schicht aufweist, die für das Halten des Kissens ausgelegt ist, wobei der Abstand (Dp) zwischen dem Boden der Nut und der unteren Schicht zwischen etwa 0,89 mm und 2,2 mm (0,035 Zoll und 0,085 Zoll) liegt.
Polierkissen nach Anspruch 1, bei welchem die Nuten eine Tiefe von etwa 0,76 mm (0,03 Zoll), eine Breite von etwa 0,50 mm (0,02 Zoll) und eine Teilung von etwa 3,0 mm (0,12 Zoll) haben.
Polierkissen nach Anspruch 1, bei welchem die obere Schicht eine Dicke zwischen etwa 1,5 mm und 3,0 mm (0,06 Zoll und 0,12 Zoll) aufweist.