JP4781654B2 - 研磨クロス及びウェーハ研磨装置 - Google Patents
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Description
その後、面取り工程でウェーハ周縁部の面取り加工を行い、ラッピング工程による平坦化加工及びエッチング処理工程を経て、一次研磨・二次研磨した後、ウェーハ表面にエピタキシャル成長処理を施して鏡面ウェーハとなる。
しかしながら、上記の工程を経て作製されたウェーハの表面平坦度が低いと、回路を形成するフォトリソグラフィ工程における露光時にレンズ焦点が部分的に合わなくなり、回路の微細パターン形成が難しくなるという問題が生ずる。
このように極めて高い平坦度を有するウェーハを製造するために、ウェーハの表面研磨は非常に重要である。一般に、ウェーハの表面研磨を行う研磨装置としては、両面研磨装置、枚葉式片面研磨装置、バッチ式片面研磨装置等が広く知られている。
両面研磨装置は、上方から見た場合に円環状をなす上定盤1aと下定盤1bを、図17(B)に示すように研磨クロス2を貼り付けた面を互いに対向させた状態で平行に保持している。
研磨ヘッド64は、研磨定盤1の上方に位置し、研磨定盤1の定盤回転軸から外れた位置にヘッド回転軸を配置し、このヘッド回転軸を中心として回転するように構成されている。
真空チャック機構65は、ウェーハWの一方の面を吸引するために、複数の吸引穴を設けた吸着面と、研磨ヘッド64のヘッド回転軸の中心に設けられた吸引管、及び、吸引管に接続された吸引ポンプなどから構成されている。
図13において、符号1は所定方向(例えば、上方から見たときに反時計回り方向)に回転可能な円板状を呈する定盤、符号2は定盤1の表面に貼付された不織布よりなる研磨用の研磨クロス、符号4は研磨クロス2の上方に配置されて支持軸3を回転中心として回転するポリッシングヘッド、符号9はポリッシングヘッド4の下面に配置されるキャリアプレート、符号6はキャリアプレート9の下面に固着されてウェーハWをウェーハ位置決め穴6aで保持するテンプレート、符号8は研磨クロス2の表面に向けてスラリーを供給するスラリー管である。
上記の発明によれば、研磨クロスの適切な場所に研磨量が少なくなるような処理を施すことによって、部分的なウェーハの過剰研磨を低減することができる。
上記の発明によれば、研磨クロスとウェーハが逆方向に移動する中心部位においてウェーハが過剰に研磨されることを低減することができる。
上記の発明によれば、研磨クロス上で、ウェーハが過剰に研磨され易いウェーハ外周部での研磨量を低減することができ、ウェーハの面ダレを低減することができる。
上記の発明によれば、研磨クロス上で、ウェーハが過剰に研磨され易い部位での研磨量を低減することができ、ウェーハの面ダレを低減することができる。
上記の発明によれば、ウェーハの平坦度をより一層向上させることができる。
上記の発明によれば、ウェーハ全体の平坦度を高度に維持しつつ、ウェーハの外周部における過剰研磨を適切にコントロールすることができ、ウェーハの面ダレを低減することができる。
上記の研磨装置によれば、研磨クロスの適切な場所に研磨量が少なくなるような処理を施されているため、部分的な過剰研磨が少ない高平坦なウェーハを提供することができる。
上記の発明によれば、各ウェーハ間隔の均一化を図ることができ、研磨クロスの動的粘弾性による弾性応力の差を解消することができ、ウェーハの平坦度をさらに高く維持することができる。
上記の発明によれば、隣接するウェーハ間の距離に応じて生じる面ダレのような不都合を、研磨クロスへの処理や補填部材などの手段を用いることによって低減することができ、ウェーハの平坦度をさらに高く維持することができる。
上記の発明によれば、隣接するウェーハ間の距離に応じて生じる面ダレのような不都合を、研磨クロスへの処理や補填部材などの手段を用いることによって低減することができ、ウェーハの平坦度をさらに高く維持することができる。
このような研磨クロスへの処理としては種々のものが考えられるが、以下の説明では、研磨クロスに施す処理の一例として、溝を形成する場合を例に説明する。
図1(A)において、本発明のウェーハ研磨装置10は、図示を略する回転駆動装置によって例えば反時計回り方向に回転制御される定盤11と、この定盤11の上面に貼り付け固定された研磨クロス12と、図示を略する回転駆動装置によって支持軸13を回転中心として例えば反時計回り方向に独立して回転制御される複数のポリッシングヘッド14と、このポリッシングヘッド14の底面に配置されて研磨クロス12と対向配置された研磨ブロック15とを備えている。
具体的には、研磨クロス12は、直径1524mmの不織布により形成され、回転中心から半径712mmまでの一般部位12bの溝16は50mm角の格子状、半径712mmから半径762mmまでの外周部位12cの溝16は25mm角の格子状に形成されている。また、各溝16の幅は2.0mm、深さは0.4mmである。
研磨ブロック15の直径は約570mmであり、直径200mmのウェーハWを放射状に5枚配置可能である。各ウェーハWは研磨ブロック15の中心から約80mmの位置に配置した。
また、ウェーハWはワックス等の接着剤によって研磨ブロック15の下面に貼り付け固定されていなくても良く、ポリッシングヘッド14からの加圧により研磨ブロック15の下面に接触しているだけで、摩擦力により研磨ブロック15の下面に対して位置固定しても良い。
若しくは、バッキングパッドによる水貼りなどのソフトチャックを用いて、ポリッシングヘッド14からの加圧により研磨ブロック15の下面に接触させるだけでも良い。ソフトチャックを用いた場合には、研磨ブロック15の下でウェーハW自身も自転を行う。
一方、研磨クロス12は、定盤11の回転に伴って回転する。
この状態で、研磨荷重300g/cm2、定盤回転速度30rpm、ポリッシングヘッド回転速度30rpm、研磨時間9分の条件で研磨加工を行う。
その結果、ウェーハの外周部における面ダレの少ない、高平坦なウェーハを供給することができる。
図19(B)に示すように研磨クロス12には、ウェーハが摺動されるクロス表面上に互いに交差する多数の溝16が形成されている。その溝16の形成密度は、中心部位12aと中心部位12aよりも外側の領域における一般部位12bの2つの区画エリアによって異なっている。図19(B)に示すように、研磨クロス12の中心部位12aでは互いに交差する溝16の間隔が密であり、その中心部位12aを取り巻く一般部位12bでは互いに交差する溝16の間隔が、中心部位12aにおける溝間隔よりも疎となっている。
その結果、ウェーハの外周部における面ダレの少ない、高平坦なウェーハを供給することができる。
ウェーハWの自転を固定して研磨する場合、研磨クロス12の外周付近においては、図15に示すようにウェーハWの移動方向(矢印b)と研磨クロス12の移動方向(矢印a)はほぼ同方向になる。しかしながら、研磨クロス12の回転方向と研磨ブロック15の回転方向が同じであっても、研磨クロス12の中心付近においては、ウェーハWの移動方向(矢印c)と研磨クロス2の移動方向(矢印d)が逆方向になる。
その結果、ウェーハの外周部における面ダレの少ない、高平坦なウェーハを供給することができる。
図8(A)に示す左側に描画された半円形のウェーハWの中心から反時計回りにパラメータθをとり、任意の角度θの位置におけるウェーハWの間の円弧距離Lを示したものが図8(B)である。
図4及び図5は本発明のウェーハ研磨装置の実施例2を示し、図4(A)は本発明のウェーハ研磨装置の概略図、図4(B)は本発明の研磨クロスの平面図、図5は本発明のウェーハ研磨装置の縦断面図である。尚、本実施例と上記実施例1のウェーハ研磨装置の概略構成はほぼ同様であるため、上記実施例1と同一の構成については同一の符号を付してその説明を省略する。
図4(B)に示すように研磨クロス22には、ウェーハが摺動されるクロス表面上に互いに交差する多数の溝16が形成されている。その溝16の形成密度は、中心部位22a、一般部位22b、外周部位22cの3つの区画エリアによって異なっている。図4(B)に示すように、研磨クロス22の中心部位22aでは互いに交差する溝16の間隔が密であり、その中心部位22aを取り巻く一般部位22bでは互いに交差する溝16の間隔が、中心部位22aにおける溝間隔よりも疎となっている。
研磨ブロック15及びウェーハWの大きさや構成は、実施例1と同様である。
一方、研磨クロス22は、定盤11の回転に伴って回転する。
この状態で、研磨荷重300g/cm2、定盤回転速度30rpm、ポリッシングヘッド回転速度30rpm、研磨時間9分の条件で研磨加工を行う。
その結果、ウェーハの外周部における過剰研磨を防止することができ、ウェーハ外周部の面ダレの少ない、高平坦なウェーハを供給することができる。
外周部位22cを大きな領域で形成すると、ウェーハの外周の面ダレを防止する以上に、ウェーハ全体の平坦度が悪くなる。そのため、外周部位22cは、研磨クロス22の外周若しくはウェーハWが通過する領域の外周から研磨クロス22の中心側に向かって60mm以下の領域であることが望ましい。
研磨ブロック15及びウェーハWの大きさや構成は、実施例1と同様である。
ところで、上記各実施例1〜3においては、隣接する各ウェーハW同士の円弧距離Lの変化は、ウェーハの円形形状に基づくものであった。このようにウェーハWの外周部分での円弧距離Lが変化すると、上述した動的粘弾性による弾性応力の影響を全く受けずに研磨加工をすることは困難である。
例えば、図9(A)に示すように、イチョウ葉形とすることが好ましい。
補填部材18の材質としては、ウェーハ研磨の際にウェーハに金属汚染を起こさないものを使用する。
上記実施例2,3の研磨クロス22,32においては、外周部位22c,32cに密の溝16を形成したものを開示した。しかし、密な溝16を形成せずとも同様の効果を奏する手段として、研磨クロスの外周部位22c,32cに相当する部位において、研磨クロスの高さ(布厚や毛の長さ等)を他の部位よりも低くする方法がある。
または、上記の実施例1〜3における溝16とは別に、特に研磨クロスの外周部位においてのみ本応用例を組みあわせて、切り欠きを設けても良い。
上記の実施例1〜3に示した研磨クロス12,22,32では、溝16の深さ並びに幅を同一とし、その溝同士の間隔のみを異ならせたものを開示したが、図11(A)に示すように、溝間隔を異ならせる代わりに、幅狭の溝26と幅広の溝36とを格子状に形成してもよい。この場合、幅狭の溝26を形成した領域は溝の密度が疎であることに対応し、幅広の溝36を形成した領域は溝の密度が密であることに対応する。
すなわち、本願において溝の密度とは、溝の本数の頻度のみを意味するものではなく、溝の幅や深さをも含めて考慮されるものである。
2…研磨クロス 2a…中心部位 2b…一般部位 2c…外周部位
3…支持軸
4…ポリッシングヘッド
6…テンプレート 6a…ウェーハ位置決め穴
8…スラリー管
9…キャリアプレート
10…ウェーハ研磨装置
11…定盤
12…研磨クロス 12a…中心部位 12b…外周部位
13…支持軸
14…ポリッシングヘッド
15…研磨ブロック
16…溝
18…補填部材
22…研磨クロス 22a…中心部位 22b…一般部位 22c…外周部位
26…幅狭の溝
36…幅広の溝
32…研磨クロス 32a…中心部位 32b…一般部位 32c…外周部位 32d…中間部位
42…研磨クロス 42a…切り欠き
46…溝
51…キャリア
52…装填穴
53…プラネットギヤ
54…インターナルギヤ
55…サンギヤ
64…研磨ヘッド
65…真空チャック機構
68…リテーナ
W…ウェーハ Wa,Wb,Wc,Wd…ウェーハ。
Claims (4)
- 円形の研磨ブロックの下面に該研磨ブロックと同心円上に配置されて保持された複数の被研磨物と摺り合わせることにより、前記被研磨物を研磨する研磨クロスにおいて、
前記研磨クロスの中心部位と外周部位における前記被研磨物の研磨量が、前記研磨クロスの前記中心部位と前記外周部位に挟まれた一般部位における前記被研磨物の研磨量よりも少なくなるように、前記研磨クロスに処理を施し、
前記一般部位の一部であって少なくとも前記研磨ブロック中心が通過する領域であり且つ前記各被研磨物の前記研磨ブロック中心に最も近い外周端が通過する領域における前記被研磨物の研磨量が、前記一般部位の前記一部以外の領域における前記被研磨物の研磨量よりも少なくなるように、前記研磨クロスに処理を施したことを特徴とする研磨クロス。 - 前記研磨クロスの外周部位は、前記研磨クロスの外周若しくは前記被研磨物が通過する領域の外周から前記研磨クロスの中心側に向かって60mm以下の領域であることを特徴とする請求項1に記載の研磨クロス。
- 前記研磨クロスへの処理は、研磨クロスの回転中心から放射状に延びる複数の溝を形成することであり、前記研磨量が少なくなる領域は、その他の領域におけるよりも溝の幅が広いことを特徴とする請求項1または2に記載の研磨クロス。
- 研磨ブロックによって保持された複数のウェーハを研磨クロスに押し付けた状態で、前記ウェーハと前記研磨クロスを相対変位させることにより、前記ウェーハを研磨するウェーハ研磨装置において、
前記研磨クロスが上記請求項1〜3の何れか1つに記載された研磨クロスであることを特徴とするウェーハ研磨装置。
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