JP3076291B2 - Polishing equipment - Google Patents

Polishing equipment

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JP3076291B2
JP3076291B2 JP33201997A JP33201997A JP3076291B2 JP 3076291 B2 JP3076291 B2 JP 3076291B2 JP 33201997 A JP33201997 A JP 33201997A JP 33201997 A JP33201997 A JP 33201997A JP 3076291 B2 JP3076291 B2 JP 3076291B2
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JP
Japan
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polishing
base plate
edge
pad
pressure
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JP33201997A
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一雄 小林
貴弘 小野寺
喜宏 林
Original Assignee
日本電気株式会社
株式会社岡本工作機械製作所
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    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/11Lapping tools
    • B24B37/20Lapping pads for working plane surfaces
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B24B37/27Work carriers
    • B24B37/30Work carriers for single side lapping of plane surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/06Work supports, e.g. adjustable steadies
    • B24B41/068Table-like supports for panels, sheets or the like

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板、特に半導体
デバイスパターンが形成された半導体ウエハの表面を平
坦化処理する研磨装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a polishing apparatus for flattening a surface of a substrate, particularly a semiconductor wafer having a semiconductor device pattern formed thereon.

【0002】[0002]

【従来の技術】デバイスの形成された半導体ウエハの表
面層を平坦化処理する研磨装置として特開平8−330
261号公報には、回転テーブル(プラテン)上に研磨
布を貼付け、その上方にウエハ保持部を配置し、その下
面に半導体ウエハを吸着させ、これを回転テーブル上の
研磨布に押しつけ、回転テーブルおよびウエハ保持部の
双方を回転させつつ半導体ウエハの表面層を研磨する装
置が開示されている。
2. Description of the Related Art Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 8-330 discloses a polishing apparatus for flattening a surface layer of a semiconductor wafer having devices formed thereon.
No. 261 discloses a polishing table attached to a rotating table (platen), a wafer holder is disposed above the rotating table, a semiconductor wafer is sucked to a lower surface thereof, and the semiconductor wafer is pressed against the polishing cloth on the rotating table. An apparatus for polishing a surface layer of a semiconductor wafer while rotating both the wafer holder and the wafer holder is disclosed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記装置
によるときには、回転テーブル上の研磨布に、ウエハ保
持部の下面に保持させた半導体ウエハを押し付けて研磨
を行うため、半導体ウエハの研磨面を直接視認できない
という問題がある。また、研磨液を回転テーブルの研磨
布上に供給するため、その大部分が回転による遠心力で
飛散して研磨液を有効利用することができない。
However, in the case of the above apparatus, the semiconductor wafer held on the lower surface of the wafer holder is pressed against the polishing cloth on the rotary table to perform polishing. There is a problem that can not be. Further, since the polishing liquid is supplied onto the polishing cloth on the rotary table, most of the liquid is scattered by centrifugal force due to rotation, and the polishing liquid cannot be used effectively.

【0004】ところで、昨今の情報化時代の到来ととも
に電子機器の需要は、高い水準を保っている。なかで
も、パーソナルコンピュータの需要は、今後、最も期待
できるものの一つである。半導体産業はこれに伴って、
次世代のウエハ製造プロセスへと移行してゆくものと考
えられる。来るべき300mm(400mm)ウエハに
形成されるデバイスの表面層を平坦化処理するCMP装
置の開発と、ペアシリコンウエハの研磨装置に対する対
応が急務である。
[0004] By the way, with the advent of the information age in recent years, the demand for electronic devices has been maintained at a high level. In particular, demand for personal computers is one of the most promising ones in the future. As a result, the semiconductor industry
It is considered that the process will shift to the next-generation wafer manufacturing process. There is an urgent need to develop a CMP apparatus for flattening the surface layer of a device to be formed on an upcoming 300 mm (400 mm) wafer and to cope with a polishing apparatus for a paired silicon wafer.

【0005】CMPでは膜厚みの均一性や面あらさ、ペ
アシリコンウエハでは形状精度(平坦度)が、品質特性
の第1の条件であると考えられる。
It is considered that the uniformity of the film thickness and surface roughness in the CMP and the shape accuracy (flatness) in the paired silicon wafer are the first conditions of the quality characteristics.

【0006】大口径ウエハを従来の研磨方法で研磨した
場合に、従来の研磨剤(スラリ)供給方法ではウエハの
中心と、外側との研磨剤供給の均一性の確保が難しく、
また、ウエハのうねりに対す追随性を磨布の粘弾性
特性だけに依存しても実際のウエハ表面のうねりに追従
させるのは困難である。
When a large-diameter wafer is polished by a conventional polishing method, it is difficult to ensure uniform supply of the abrasive between the center and the outside of the wafer by the conventional method of supplying a slurry (slurry).
Further, it is difficult to follow undulation of the actual wafer surface also depends only on the viscoelastic properties of the traceability Migaku Ken cloth against the waviness of the wafer.

【0007】また、現行の研磨装置では、研磨作業中に
ウエハの形状特性を把握することが難しいという問題が
ある。従来より、研磨中のウエハの形状特性を知る方法
として、テーブル又は研磨ヘッドを駆動するモータの負
荷変動を測定する方式、研磨定盤に孔をあけて膜厚みを
測定する方式などが提案されているが、未だいずれの方
式も実用化には到っていない。
Further, the current polishing apparatus has a problem that it is difficult to grasp the shape characteristics of the wafer during the polishing operation. Conventionally, as a method of knowing the shape characteristics of a wafer being polished, a method of measuring a load variation of a motor for driving a table or a polishing head, a method of measuring a film thickness by making a hole in a polishing platen, and the like have been proposed. However, none of these methods has been put to practical use yet.

【0008】大口径ウエハは高価であり、1枚毎に形状
を把握し、しかもそのデータをもとに、形状を修正し
て、目的とする形状に加工する必要があり、このために
も研磨形状の制御は不可欠である。
Large-diameter wafers are expensive, and it is necessary to grasp the shape of each wafer, modify the shape based on the data, and process the wafer to the desired shape. Shape control is essential.

【0009】さらに現行の研磨作業において、研磨剤
(スラリ)の変動費に占める割合が大きく、実に変動費
に占める割合は3割に達しているといわれている。しか
も、スラリコストの低減は、廃液処理の観点でみれば環
境問題に重大な影響を及ぼす。大定盤上にスラリを供給
する方式では、スラリの利用効率に限界があり、スラリ
コストの低減は急務である。
Furthermore, in the current polishing operation, the ratio of the abrasive (slurry) to the variable cost is large, and it is said that the ratio to the variable cost actually reaches 30%. Moreover, the reduction of the slurry cost has a significant effect on environmental problems from the viewpoint of waste liquid treatment. In the method of supplying the slurry on the large surface plate, there is a limit in the use efficiency of the slurry, and reduction of the slurry cost is urgently required.

【0010】最後の問題として、ウエハの研磨加工はク
リーンルーム内で行われる。クリーンルームの清浄度に
は高い清浄度が要求され、高清浄度のクリーンルーム内
での単位面積当りのコストは当然に高くなり、クリーン
ルーム内に持ち込まれる装置は必然的にコンパクト化が
要求される。
As a final problem, polishing of the wafer is performed in a clean room. High cleanliness is required for cleanliness of the cleanroom, and the cost per unit area in the cleanroom of high cleanliness is naturally high, and the equipment brought into the cleanroom is necessarily required to be compact.

【0011】本発明の目的は、小径の研磨パッドで基板
の表面の修正を可能とし、研磨剤を研磨パッド全面に供
給して研磨効率を高め、しかも装置のコンパクト化を実
現しうる研磨装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a polishing apparatus capable of correcting the surface of a substrate with a small-diameter polishing pad, supplying polishing agent to the entire surface of the polishing pad, improving polishing efficiency, and realizing a compact apparatus. To provide.

【0012】本発明の他の目的は、研磨治具の送り機構
の機械精度、周速の違い、ウエハの表面性状に左右され
ずにウエハ全面について均一に研磨しうる研磨装置を提
供することにある。
Another object of the present invention is to provide a polishing apparatus which can uniformly polish the entire surface of a wafer without being affected by differences in mechanical accuracy and peripheral speed of a feed mechanism of a polishing jig and surface properties of the wafer. is there.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による研磨装置においては、テーブルと、ポ
リッシングヘッドとを有する研磨装置であって、テーブ
ルは、研磨すべき基板を定位置に上向きに保持するもの
であり、ポリッシングヘッドは、加圧シリンダと、ベー
スプレートとを含む組立体であり、回転可能であり、
面の少なくとも一部に研磨面を有し、回転駆動され、
磨面は、回転しつつテーブル上の基板を研磨する面であ
り、研磨パッドが貼り付けられ、三次元方向に揺動可能
であり、 加圧シリンダと、ベースプレートとの間に、ド
ライブプレートと、ダイアフラムとが介装され、 加圧シ
リンダは、スピンドルに回転可能に支持してテーブルの
上方から垂下され、内部に圧入された空気圧の調整によ
り研磨加工時に、ベースプレートを三次元方向に揺動可
能とし、研磨パッドの目立て時に、ベースプレートを固
定させるものであり、 ベースプレートは、研磨面の三次
元方向の変位に追従させるものであり、周縁は、フラン
ジに支えられ、 フランジは、環状で内周縁に張り出し縁
を有し、張り出し縁上にベースプレートの外周縁の張出
し縁を三次元方向に揺動可能に支持して加圧シリンダの
下縁に固定するものであり、 ドライブプレートと、ダイ
アフラムとは、その周縁が加圧シリンダと、べースプレ
ート間に緊締され、 ドライブプレートは、ベースプレー
トの三次元方向の変位に追従させるとともにベースプレ
ートに支持強度を与えるものであり、 ダイアフラムは、
加圧シリンダ内と、ベースプレート間の気密を保持する
ものである。
In order to achieve the above object, a polishing apparatus according to the present invention is a polishing apparatus having a table and a polishing head, wherein the table faces a substrate to be polished upward in a fixed position. The polishing head consists of a pressurizing cylinder and a base.
An assembly that includes a polishing plate, is rotatable , has a polishing surface on at least a portion of a lower surface thereof, and is rotationally driven, and the polishing surface is a surface for polishing a substrate on a table while rotating. pad attached, Ri swingably der in three-dimensional directions, and the pressing cylinder, between the base plate, de
A live plate and a diaphragm are interposed, and a pressurized
The Linda is supported rotatably on the spindle and
By adjusting the air pressure that is drooped from above and
The base plate can be swung three-dimensionally during polishing.
The base plate when sharpening the polishing pad.
The base plate is tertiary of the polished surface.
To follow the displacement in the original direction.
The flanges are annular and project from the inner peripheral edge.
With the outer periphery of the base plate overhanging the overhanging edge
The supporting edge is swingably supported in three dimensions,
It is fixed to the lower edge, and the drive plate and die
An aram is a pressurized cylinder with a base
And the drive plate is
To follow the three-dimensional displacement of the
To provide support strength to the plate, and the diaphragm is
The airtightness between the pressurized cylinder and the base plate is maintained .

【0014】また、テーブルは回転駆動され、ポリッシ
ングヘッドは、テーブル上方を、直線方向に移動送りが
与えられるものである。
The table is driven to rotate , and the polishing head is moved and fed in a linear direction above the table.

【0015】また、レールを有し、レールは、テーブル
上の基板に対する研磨位置と、テーブルから離れた退避
位置との間でポリッシングヘッドを往復動させるガイド
である。
Also, the rail has a rail, and the rail is a guide for reciprocating the polishing head between a polishing position for the substrate on the table and a retracted position away from the table.

【0016】また、レールは、機体に組付けられた機枠
に吊下げてテーブルの上方空間に配置されたものであ
る。
The rail is suspended from a machine frame attached to the machine body and arranged in a space above the table.

【0017】また、テーブルと、ポリッシングヘッド
と、送り駆動機構とを有する研磨装置であって、 テーブ
ルは、研磨すべき基板を定位置に上向きに保持して回転
駆動するものであり、 ポリッシングヘッドは、下面の少
なくとも一部に研磨面を有し、 研磨面は、テーブル上の
基板を研磨する面であり、研磨パッドが貼り付けられ、
三次元方向に揺動可能であり、 レールは、テーブル上の
基板に対する研磨位置と、テーブルから離れた退避位置
との間でポリッシングヘッドを往復動させるガイドであ
り、送り駆動機構は、レールに沿ってポリッシングヘッ
ドに往復移動送りを与え、テーブル上に保持されて回転
する基板の研磨位置に応じてポリッシングヘッドの送り
速度を制御するものである。
Also, a table and a polishing head
And a feed drive mechanism, wherein the tape
The substrate is rotated while holding the substrate to be polished
Drive, and the polishing head is
At least a part has a polished surface, and the polished surface is
A surface to polish the substrate, a polishing pad is attached,
It can swing in three dimensions and the rail
Polishing position for substrate and retreat position away from table
Guide to reciprocate the polishing head between
Ri, feed drive mechanism, e given a reciprocating feed the polishing head along the rail, and controls the feed speed of the polishing head according to the polishing position of the rotating substrate is held on the table.

【0018】また、ポリッシングヘッドは、レールに沿
って移動送りが与えられるキャリアにセットされ、キャ
リアは、上下駆動機構と、回転駆動機構とを装備し、上
下駆動機構は、キャリアを上下動させるものであり、回
転駆動機構は、ポリッシングヘッドを回転駆動するもの
である。
Also, the polishing head is set on a carrier to which a moving feed is given along a rail, and the carrier is equipped with a vertical drive mechanism and a rotary drive mechanism, and the vertical drive mechanism moves the carrier up and down. The rotation drive mechanism is for rotating the polishing head.

【0019】また、ポリッシングヘッドは、給液管を有
し、給液管は、ポリッシングヘッドの回転中心を通して
外部から供給された研磨剤を研磨パッドに給液する給液
孔を有するものである。
The polishing head has a liquid supply pipe, and the liquid supply pipe has a liquid supply hole for supplying an externally supplied abrasive to the polishing pad through the center of rotation of the polishing head.

【0020】また、加圧シリンダは、キャリアに一定角
度姿勢で支えられているものである。
The pressure cylinder is supported by the carrier at a fixed angle.

【0021】また、摩耗した研磨パッドは、ポリッシン
グヘッドが直線方向に移動される延長線上に設けられた
パッドコンディショナ手段のディスクに押付けて目立て
されるものであり、目立ての際には、クランプされ、揺
動を停止するものである。
[0021] In addition, polishing pads wear, Porisshin
The head is pressed and sharpened against the disk of the pad conditioner means provided on an extension line which is moved in a linear direction. In sharpening, the head is clamped and stops swinging. is there.

【0022】また、パッドコンディショナ手段は、退避
位置に設置されたものである。
Further, the pad conditioner means is provided at the retracted position.

【0023】また、ポリッシングヘッドは、加圧シリン
ダと、ベースプレートとを含む組立体であり、下面の少
なくとも一部に研磨面を有し、回転駆動され、 研磨面
は、回転しつつテーブル上の基板を研磨する面であり、
研磨パッドが貼り付けられ、三次元方向に揺動可能であ
り、 加圧シリンダと、ベースプレートとの間に、ドライ
ブプレートと、ダイアフラムとが介装され、 加圧シリン
ダは、スピンドルに回転可能に支持してテーブルの上方
から垂下され、研磨加工時に、ベースプレートを三次元
方向に揺動可能とし、研磨パッドの目立て時に、ベース
プレートを固定させるものであり、 ベースプレートは、
研磨面の三次元方向の変位に追従させるものであり、周
縁は、フランジに支えられ、 フランジは、環状で内周縁
に張り出し縁を有し、張り出し縁上にベースプレートの
外周縁の張出し縁を三次元方向に揺動可能に支持して加
圧シリンダの下縁に固定するものであり、 ドライブプレ
ートと、ダイアフラムとは、その周縁が加圧シリンダ
と、べースプレート間に緊締され、 ドライブプレート
は、ベースプレートの三次元方向の変位に追従させると
ともにベースプレートに支持強度を与えるものであり、
ダイアフラムは、加圧シリンダ内と、ベースプレート間
の気密を保持するものである。
The polishing head is a pressurized syringe.
Assembly including a base and a base plate.
At least a part has a polished surface, is driven to rotate and has a polished surface
Is a surface for polishing the substrate on the table while rotating,
A polishing pad is attached and can be swung in three dimensions.
Between the pressurizing cylinder and the base plate.
And Bupureto, and a diaphragm is interposed, the pressure cylinder
Is rotatably supported on the spindle and above the table.
3D from the base plate during polishing
And can be swung in any direction.
The plate is fixed, and the base plate is
This is to follow the three-dimensional displacement of the polished surface.
The rim is supported by a flange, which is annular and has an inner peripheral edge
The overhanging edge has a base plate on the overhanging edge.
The projecting edge of the outer peripheral edge is supported so that it can swing in three dimensions.
It is intended to fix the lower edge of the pressure cylinder, the drive pre
And the diaphragm are pressurized cylinders
And the base plate is tightened between the drive plate
Follows the three-dimensional displacement of the base plate
Both give support strength to the base plate,
Diaphragm is in the pressurized cylinder and between the base plate
It is intended to maintain the airtightness.

【0024】また、加圧シリンダは、高圧空気の送気孔
を有し、加圧シリンダ内には、送気孔を通して高圧空気
が圧入され、ベースプレートは、圧入された高圧空気の
圧力によって固定されるものである。
The pressurizing cylinder has a high-pressure air supply hole.
High-pressure air in the pressurized cylinder
Is press-fitted, and the base plate is
It is fixed by pressure.

【0025】また、研磨面の揺動の程度は、加圧シリン
ダ内に圧入される高圧空気の圧入量によって制御される
ものである。
The degree of swing of the polishing surface is controlled by the amount of high-pressure air press-fitted into the pressurizing cylinder.

【0026】また、研磨パッドは、研磨布であり、拡散
溝を有し、拡散溝は、供給された研磨剤を研磨面に分散
させる溝である。
The polishing pad is a polishing cloth and has a diffusion groove, and the diffusion groove is a groove for dispersing the supplied abrasive on the polishing surface.

【0027】また、研磨布は、円形帯状をなし、拡散溝
は、研磨布の内周に開放され、外周には開放されずに研
磨布の範囲内似形成された溝である。
Further, the polishing cloth has a circular band shape, and the diffusion groove is a groove which is formed on the inner periphery of the polishing cloth and is not formed on the outer periphery, but is formed within the range of the polishing cloth.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下に本発明による自動研磨装置
を、半導体ウエハの一次研磨と、二次研磨との二段階研
磨によって表面を平坦化処理する装置に適用した例につ
いてその実施形態を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which an automatic polishing apparatus according to the present invention is applied to an apparatus for flattening a surface by two-stage polishing of primary polishing and secondary polishing of a semiconductor wafer will be described below. I do.

【0029】図1に本発明を適用した自動研磨装置の正
面図、図2にその平面図を示す。図3は、自動研磨装置
の構造を略示的に示す平面図、図4は斜視図である。以
下図3、4を用いて本発明を適用した自動研磨装置の基
本的構成を説明する。
FIG. 1 is a front view of an automatic polishing apparatus to which the present invention is applied, and FIG. 2 is a plan view thereof. FIG. 3 is a plan view schematically showing the structure of the automatic polishing apparatus, and FIG. 4 is a perspective view. Hereinafter, a basic configuration of an automatic polishing apparatus to which the present invention is applied will be described with reference to FIGS.

【0030】図3,4において、自動研磨装置において
は、ウエハ保持用のテーブルとしてインデックステーブ
ル1を有し、インデックステーブル1の周上にローディ
ングステーションS1と、一次研磨ステーションS2と、
二次研磨ステーションS3と、アンローディングステー
ションS4とが設定されたものである。インデックステ
ーブル1は、ウエハを保持させる複数のホルダ2を同心
上に有し、各ステーションS1〜S4に順次転回送りが与
えられ、各ステーションS1〜S4は、インデックステー
ブル1の停止位置に割り付けられたものである。
3 and 4, the automatic polishing apparatus has an index table 1 as a table for holding a wafer, and a loading station S 1 and a primary polishing station S 2 are arranged on the periphery of the index table 1.
The secondary polishing station S 3 and the unloading station S 4 are set. The index table 1 has a plurality of holders 2 for holding wafers concentrically, and each station S 1 to S 4 is sequentially fed with revolving feed. Each of the stations S 1 to S 4 has a stop position of the index table 1. It is assigned to

【0031】ローディングステーションS1は、インデ
ックステーブル1上にウエハを搬入する領域であり、ア
ンローディングステーションS4は、テーブル1上から
ウエハを搬出する領域である。この実施形態において、
一次研磨ステーションS2は、インデックステーブル1
上に搬入されたウエハの表面を平坦化処理する領域であ
り、二次研磨ステーションS3は、平坦化処理後のウエ
ハの表面を仕上げ処理する領域である。
The loading station S 1 is an area for loading wafers onto the index table 1, and the unloading station S 4 is an area for loading wafers from the table 1. In this embodiment,
The primary polishing station S 2 has an index table 1
An area where the surface is flattened wafers carried in the above, the secondary polishing station S 3 is a region that handles finishing the surface of the wafer after planarization.

【0032】ローディングステーションS1において
は、ウエハキャリア10内に保管されているウエハWが
1枚ずつロボットアーム7によってピンクランプ11上
に取り出され、その裏面がウエハ裏面洗浄手段8で洗浄
された後、ウエハ・チャック7aを用いて洗浄後のウエ
ハWは、ローディングステーションS1のホルダ2上に
搬入され、バキュームチャック4で吸着保持してインデ
ックステーブル1の90°転回送りにより、ホルダ2上
のウエハWは、一次研磨ステーションS2に搬入され
る。もっとも、ウエハ表面洗浄手段8で洗浄した後、前
記ロボットアーム7を用いてウエハWをローディングス
テーションS1のホルダ2上に搬入することもできる。
In the loading station S 1 , the wafers W stored in the wafer carrier 10 are taken out one by one by the robot arm 7 onto the pin clamp 11, and the back surface thereof is cleaned by the wafer back surface cleaning means 8. , the wafer W after the cleaning by using the wafer chuck 7a is carried onto the holder 2 of the loading station S 1, the 90 ° turning feed of the index table 1 and retained by suction by the vacuum chuck 4, the wafer on the holder 2 W is carried into the first polishing station S 2. However, after cleaning by the wafer surface cleaning means 8, the wafer W can be carried into the holder 2 of the loading station S 1 using the robot arm 7.

【0033】一次研磨ステーションS2において、ウエ
ハWは、ポリッシングヘッド18による平坦化処理を受
け、次いで二次研磨ステーションS3に移され、ポリッ
シングヘッド35による表面仕上げ処理を受けた後、ア
ンローディングステーションS4に移され、次いでウエ
ハWは、ウエハの研磨面が、ウエハ表面洗浄手段38に
よって洗浄される。
At the primary polishing station S 2 , the wafer W is subjected to a flattening process by the polishing head 18, then transferred to a secondary polishing station S 3, and subjected to a surface finishing process by the polishing head 35, and then to an unloading station. transferred to S 4, then the wafer W is polished surface of the wafer is cleaned by the wafer surface cleaning means 38.

【0034】洗浄後、ウエハWは、ウエハ・チャック3
9aによって、ホルダ2上からピンクランプ40上に移
され、ウエハ裏面はウエハ裏面洗浄手段42で洗浄され
る。あるいは、洗浄後、ロボットアーム39を用いてウ
エハWをピンクランプ40上に移し、ウエハ表面はウエ
ハ表面洗浄手段42で洗浄し、次いで、ロボットアーム
39でコンベア41上に移すこともできる。次いで、ロ
ボットアーム39でピンクランプ40上からコンベア4
1上に移され、次工程に搬出される。
After the cleaning, the wafer W is transferred to the wafer chuck 3
The wafer 9 is transferred from the holder 2 onto the pin clamp 40 by 9a, and the wafer back surface is cleaned by the wafer back surface cleaning means 42. Alternatively, after cleaning, the wafer W can be transferred onto the pin clamp 40 using the robot arm 39, the wafer surface can be cleaned by the wafer surface cleaning means 42, and then transferred onto the conveyor 41 by the robot arm 39. Next, the conveyor 4 is moved from above the pin clamp 40 by the robot arm 39.
And transferred to the next step.

【0035】一方、インデックステーブル1は一定角度
転回し、ウエハWが取外されたホルダ2をローディング
ステーションS1に移し、次のウエハの搬入に備える。
本発明において、一次研磨ステーションS2には、図5
に示すようにポリッシングヘッド18と、パッドコンデ
ィショナ手段19と、パッドクリーニング手段20とを
装備している。
On the other hand, the index table 1 is a predetermined angle turn, transferred to the holder 2 in which the wafer W is removed in the loading station S 1, comprising the loading of the next wafer.
In the present invention, the primary polishing station S 2 is 5
As shown in FIG. 1, a polishing head 18, pad conditioner means 19, and pad cleaning means 20 are provided.

【0036】ポリッシングヘッド18は、図6に示すよ
うに、加圧シリンダ21と、ベースプレート22と、研
磨布張り付板23との組立体からなり、研磨面に研磨パ
ッドとして硬質の円形研磨布24を有し、加圧シリンダ
21を支えるスピンドル17によって上方から垂下さ
れ、図5に示すように退避位置から一次研磨ステーショ
ンS2のバキュームチャック4上に進出し、図7に示す
ようにバキュームチャック4上に吸着されたウエハW上
に下降し、研磨布24をウエハWの表面に押し付け、粗
研磨によって平坦化処理する。粗研削工程は、ウエハW
を保持するホルダ2を回転させ、ポリッシングヘッド1
8を一方向に回転駆動し、研磨剤供給ポンプより圧送し
た研磨剤(スラリ)を回転中心の給液孔18aより、研
磨布2に供給しつつ行う。これによって研磨剤は、研磨
布24の外周方向に一様に分散し、ホルダ2の高速回転
が可能となる。また、研磨剤を軸心から供給するに際
し、研磨液を圧送することは、研磨剤を研磨布全面に均
一に供給するうえに極めて重要である。圧送の圧力は
0.01kg/cm2〜0.1kg/cm2とした。
As shown in FIG. 6, the polishing head 18 is composed of an assembly of a pressure cylinder 21, a base plate 22, and a polishing pad 23, and a hard circular polishing pad 24 as a polishing pad is provided on the polishing surface. has, suspended from above by a spindle 17 which supports the pressing cylinder 21, to advance on the vacuum chuck 4 of the primary polishing station S 2 from the retracted position as shown in FIG. 5, the vacuum chuck 4 as shown in FIG. 7 The polishing pad 24 descends onto the wafer W adsorbed thereon, presses the polishing pad 24 against the surface of the wafer W, and performs a flattening process by rough polishing. In the rough grinding step, the wafer W
Of the polishing head 1 by rotating the holder 2 holding the
8 is rotated in one direction, and the polishing agent (slurry) pumped from the polishing agent supply pump is supplied to the polishing pad 2 from the liquid supply hole 18a at the center of rotation. As a result, the abrasive is uniformly dispersed in the outer peripheral direction of the polishing pad 24, and the holder 2 can be rotated at a high speed. Also, when the polishing agent is supplied from the axis, pumping the polishing liquid is extremely important for uniformly supplying the polishing agent over the entire polishing cloth. The pressure of the pumping was 0.01 kg / cm 2 to 0.1 kg / cm 2 .

【0037】図9において、研磨布24の布面には、給
液孔18aに通ずる拡散溝32が刻まれている。拡散溝
32は、給液孔18aから送出された研磨剤(スラリ)
を研磨布24の外周方向に導いて研磨面に均一に分散さ
せる溝であり、図9(a)〜(c)に示すように、給液
孔18aを中心として研磨布24の布面に放射状、螺旋
状あるいは中心から外縁に向けた任意の曲線状の溝によ
って形成されたものである。
In FIG. 9, a diffusion groove 32 leading to the liquid supply hole 18a is formed on the cloth surface of the polishing cloth 24. The diffusion groove 32 is formed by an abrasive (slurry) delivered from the liquid supply hole 18a.
9 (a) to 9 (c), the grooves are distributed radially on the polishing surface of the polishing pad 24 around the liquid supply holes 18a as shown in FIGS. Formed by a spiral or any curved groove extending from the center to the outer edge.

【0038】研磨布の材質は発泡ポリウレタン等の硬質
高分子膜が最適である。(例えば研磨布としてロデール
・ニッタ社製のIC−1000がある。) 研磨布24の直径に制限はないが、研磨するウエハの直
径の半分程度、例えば8インチウエハ(200mm)の
場合では110mm〜90mm程度である。研磨液を効
率よく分散させる拡散溝の幅は0.5mm〜2mm程度
が適当である。また、必ずしも研磨布24の形状は円板
状である必要はなく、図10に示すように、研磨布張り
付け板23に円板の中心部をくりぬいた円形帯状の研磨
布24としても良い。
The most suitable material for the polishing cloth is a hard polymer film such as foamed polyurethane. (For example, there is IC-1000 manufactured by Rodel Nitta as a polishing cloth.) The diameter of the polishing cloth 24 is not limited, but is about half the diameter of a wafer to be polished, for example, 110 mm to 8 inch wafer (200 mm). It is about 90 mm. The width of the diffusion groove for efficiently dispersing the polishing liquid is suitably about 0.5 mm to 2 mm. Further, the shape of the polishing cloth 24 does not necessarily have to be a disk shape, and as shown in FIG. 10, a circular band-shaped polishing cloth 24 in which the center portion of the disk is cut out on the polishing cloth attaching plate 23 may be used.

【0039】この研磨布24にも研磨液を分散させる拡
散溝32を設けているが、拡散溝32は、研磨布24の
内周に解放され、外周縁には解放されずに研磨布の範囲
内に形成された溝であってもよい。拡散溝32の終点が
研磨布の範囲内に形成されていることによって、研磨剤
が研磨パッド外へ放出されてしまうのを抑制し、すなわ
ち研磨布内に研磨剤が滞留する時間を長くすることがで
きる。研磨布の外径は、ウエハ径と同等からその半分程
度であり、その帯幅は5mmから50mm程度である。
例えば、8インチウエハ(200mm)の場合では、研
磨布24の外径は150mmで帯幅30mm、拡散溝の
幅2mmである。ここでは、拡散溝を十文字状に4本配
置したが、その本数や配置形状に制限はない。また研磨
布としてポリエステル繊維型研磨布(ロデール・ニッタ
社製:SUB400)上に発泡ポリウレタン研磨布を積
層したものを用いても良い。なお、円形帯状の研磨布を
用いた場合、研磨布張り付け板23の表面に研磨液が接
触することになるため、その材質としてはアルミナ焼結
板やステンレス板表面にアルミナ焼結板を張り合わせた
合板として、耐薬品性を高める必要がある。
The polishing pad 24 is also provided with a diffusion groove 32 for dispersing the polishing liquid. The diffusion groove 32 is opened at the inner periphery of the polishing pad 24 and is not released at the outer peripheral edge thereof. It may be a groove formed therein. Since the end point of the diffusion groove 32 is formed within the range of the polishing pad, the polishing agent is prevented from being released to the outside of the polishing pad, that is, the time for which the polishing agent stays in the polishing pad is lengthened. Can be. The outer diameter of the polishing cloth is about the same as the diameter of the wafer and about half thereof, and the band width is about 5 mm to 50 mm.
For example, in the case of an 8-inch wafer (200 mm), the outer diameter of the polishing pad 24 is 150 mm, the band width is 30 mm, and the width of the diffusion groove is 2 mm. Here, four diffusion grooves are arranged in a cross shape, but the number and arrangement shape are not limited. Further, a polishing cloth obtained by laminating a foamed polyurethane polishing cloth on a polyester fiber type polishing cloth (SUB400 manufactured by Rodale Nitta) may be used as the polishing cloth. When a circular strip-shaped polishing cloth is used, the polishing liquid comes into contact with the surface of the polishing cloth pasting plate 23, and therefore, as a material thereof, an alumina sintered plate or an alumina sintered plate is bonded to the surface of a stainless steel plate. It is necessary to increase the chemical resistance of the plywood.

【0040】ウエハWは、図7に示すようにバキューム
チャック4の吸着孔26にクランプされているが、バキ
ュームチャック4には、吸着孔26の開口領域の外側
に、環状溝として上面に開口された水シール室27を有
し、水シール室27は、バキュームチャック4の側面に
開口した通水溝28に通じ、通水溝28は、インデック
ステーブル側すなわち、固定側であるシールリング29
の内壁に開口した給水孔30に連通させ、給水孔30内
に洗浄水を圧入し、これを水シール室27より溢流させ
ている。これによって研磨液がウエハWの下面に回り込
んで研磨中にウエハ保持面に固着するのを防いでいる。
あわせて、バキュームチャック4の吸着孔26への研磨
液の進入は防止される。
The wafer W is clamped in the suction hole 26 of the vacuum chuck 4 as shown in FIG. 7, and the vacuum chuck 4 is opened on the upper surface as an annular groove outside the opening area of the suction hole 26. The water seal chamber 27 communicates with a water passage groove 28 opened on the side surface of the vacuum chuck 4, and the water passage groove 28 has a seal ring 29 on the index table side, that is, the fixed side.
The cleaning water is press-fitted into the water supply hole 30 and overflows from the water seal chamber 27. This prevents the polishing liquid from flowing around the lower surface of the wafer W and sticking to the wafer holding surface during polishing.
At the same time, the polishing liquid is prevented from entering the suction holes 26 of the vacuum chuck 4.

【0041】ポリッシングヘッド18は、加圧シリンダ
21と、ベースプレート22と、研磨布張り付板23と
の組立体であるが、図8に示すように、加圧シリンダ2
1とベースプレート22との間には、ドライブプレート
3と、ダイアフラム5とを介在させ、その積層の周縁部
分をフランジ6で支え、加圧シリンダ21の下縁にボル
ト12で緊締している。フランジ6は環状で内周縁に張
り出し縁6aを有し。張り出し縁6a上にベースプレー
ト22の外周の張出し縁22aを支持している。
The polishing head 18 is an assembly of a pressure cylinder 21, a base plate 22, and a polishing cloth-attached plate 23. As shown in FIG.
The drive plate 3 and the diaphragm 5 are interposed between the base plate 1 and the base plate 22, and the peripheral portion of the stack is supported by the flange 6, and is fastened to the lower edge of the pressure cylinder 21 by the bolt 12. The flange 6 is annular and has an overhanging edge 6a on the inner peripheral edge. The overhanging edge 22a on the outer periphery of the base plate 22 is supported on the overhanging edge 6a.

【0042】ダイアフラム5は、加圧シリンダ21内と
ベースプレート22間の気密を保持するものであり、ド
ライブプレート3は、ベースプレート22の三次元方向
の変位に追従させるとともにベースプレート22の支持
強度を与えるものである。
The diaphragm 5 maintains the airtightness between the pressure cylinder 21 and the base plate 22, and the drive plate 3 follows the three-dimensional displacement of the base plate 22 and provides the support strength of the base plate 22. It is.

【0043】ダイアフラム5の材質としては合成ゴムや
天然ゴム、バイトン樹脂,ベークライト樹脂が最適であ
るが、その材質に制限があるのでなく、加圧シリンダ2
1内とベースプレート22間の機密を保つ機能と3次元
方向に微動できる機能を有している物質であればよい。
As the material of the diaphragm 5, a synthetic rubber, a natural rubber, a viton resin, and a bakelite resin are most suitable.
Any substance can be used as long as it has a function of maintaining the confidentiality between the inside 1 and the base plate 22 and a function of allowing fine movement in three-dimensional directions.

【0044】この実施形態においては、ドライブプレー
ト3として金属板の板面に円弧状の透孔9a,9b,9
c…を開口し、板面に可撓性、屈撓性を付与した例を示
している。加圧シリンダ21と、ベースプレート22と
の間にドライブプレート3と、ダイヤフラム5との積層
を介装することにより、加圧シリンダ21に対し、ベー
スプレート22は三次元方向に揺動可能となる。
In this embodiment, arc-shaped through holes 9a, 9b, 9 are formed as drive plates 3 in the surface of a metal plate.
An example is shown in which c is opened to impart flexibility and flexibility to the plate surface. By interposing a stack of the drive plate 3 and the diaphragm 5 between the pressure cylinder 21 and the base plate 22, the base plate 22 can swing three-dimensionally with respect to the pressure cylinder 21.

【0045】ドライブプレート3は、スピンドル17の
回転をベースプレートに伝える機能を有するとともに、
三次元方向(ここでは、特に上下方向)に微動できる機
能を有している必要がある。従って、厚さ0.5mm〜
3mm程度の金属板に、円弧状の透孔9を形成してあ
る。ここでは、同心円半径の異なる3段構造の透孔9
a,9b,9cを形成した。透孔の幅は3mm〜30m
m程度であり、最外輪に位置する透孔9aと最内輪に位
置する透孔9cとをドライブプレート3内の同一中心線
上に設置し、透孔9bを別の中心線上に設置すること
で、回転方向には剛性を保ちつつ三次元方向(上下方
向)に微動できる性質を可能ならしめているのである。
The drive plate 3 has a function of transmitting the rotation of the spindle 17 to the base plate.
It is necessary to have a function capable of finely moving in a three-dimensional direction (in this case, particularly in the vertical direction). Therefore, thickness 0.5mm ~
An arc-shaped through hole 9 is formed in a metal plate of about 3 mm. Here, the through-hole 9 having a three-stage structure with different concentric radii is used.
a, 9b and 9c were formed. The width of the through hole is 3mm-30m
m, the through-hole 9a located at the outermost ring and the through-hole 9c located at the innermost ring are installed on the same center line in the drive plate 3, and the through-hole 9b is installed on another center line. This makes it possible to finely move in the three-dimensional direction (vertical direction) while maintaining rigidity in the rotation direction.

【0046】ポリッシングヘッド18の揺動による三次
元方向の微動機能は、本発明による研磨装置において極
めて重要である。すなわち、ポリッシングヘッド18は
図5に示すように、キャリア13に支えられ、キャリア
13は、図1に示すように機枠50に吊下げてインデッ
クステーブル1の上方に設置されたレール14をガイド
とし、インデックステーブル1の一次研磨ステーション
2におけるホルダ2上と、インデックステーブル1か
ら離れた退避位置との間を往復移動するわけであるが、
ポリッシングヘッド18が完全剛体で構成されている
と、ウエハ表面とレール14とに完全平行性が要求され
る。
The fine movement function in the three-dimensional direction due to the swing of the polishing head 18 is extremely important in the polishing apparatus according to the present invention. That is, the polishing head 18 is supported by the carrier 13 as shown in FIG. 5, and the carrier 13 is suspended from the machine frame 50 as shown in FIG. Reciprocating between the holder 2 in the primary polishing station S2 of the index table 1 and the retracted position away from the index table 1,
If the polishing head 18 is made of a completely rigid body, the wafer surface and the rail 14 must be completely parallel.

【0047】もし、この平行性が崩れていた場合、レー
ル14に沿ってポリッシングヘッド18に移動送りを与
えてゆくと、ポリッシングヘッド18の送りとともに研
磨圧力が変化し、ウエハ面内で研磨量が不均一になって
しまう。本発明においては、ポリッシングヘッド18に
三次元方向の構造的遊びをもたせてレール14の機械的
精度又はウエハ表面の凹凸などの形状の不同に起因して
生ずる研磨圧力の変化を補償しているのである。ポリッ
シングヘッド18の微動機能は、加圧シリンダ21内の
圧力調整によって制御することができる。また、レール
14を機枠50から吊下げることによって、インデック
ステーブルの上方空間を有効利用し、省スペース化を図
っている。機枠50は、研磨装置の機体に組つけて機体
の上方空間に設置されたものである。
If the parallelism is lost, if the polishing head 18 is moved and fed along the rail 14, the polishing pressure changes with the movement of the polishing head 18 and the polishing amount is reduced within the wafer surface. It will be uneven. In the present invention, the polishing head 18 is provided with a three-dimensional structural play to compensate for the change in polishing pressure caused by the mechanical accuracy of the rail 14 or the unevenness of the wafer surface such as unevenness. is there. The fine movement function of the polishing head 18 can be controlled by adjusting the pressure in the pressure cylinder 21. Further, by suspending the rail 14 from the machine frame 50, the space above the index table is effectively used, and space is saved. The machine frame 50 is attached to the body of the polishing apparatus and installed in the space above the machine body.

【0048】加圧シリンダ21の加圧室31内へは、図
11に示すように外部の送気配管15からノズル16を
通してスピンドル17内へ高圧空気が供給され、加圧シ
リンダ21内の圧力を調整して三次元方向の微動の程度
を調整できる。なお、前記給液孔18aは、図6に示す
ようにスピンドル17内に挿通された給液管30に連通
させてある。
As shown in FIG. 11, high-pressure air is supplied from an external air supply pipe 15 through a nozzle 16 into the spindle 17 into the pressurizing chamber 31 of the pressurizing cylinder 21 to reduce the pressure in the pressurizing cylinder 21. By adjusting, the degree of fine movement in the three-dimensional direction can be adjusted. The liquid supply hole 18a communicates with a liquid supply pipe 30 inserted into the spindle 17, as shown in FIG.

【0049】ポリッシングヘッド18は、スピンドル1
7に着脱可能に装着してキャリア13にセットされる。
キャリア13は、図1、図5に示すように、ポリッシン
グヘッド18を上下に移動させる上下駆動機構(エアシ
リンダ)46と、ポリッシングヘッドを回転駆動する回
転駆動機構(モータ)47とを装備し、レール側に設置
されたキャリア13の送り駆動機構(モータ)48の回
転駆動により送りねじ49が転回し、キャリア13は退
避位置から、送りねじ49の転回による送り駆動によ
り、レール14に沿って移動し、図11に示すステーシ
ョンS2のホルダ2上へ送られ、次いで上下駆動機構4
8に制御されて、図12のようにホルダ2上を降下し、
さらにポリッシングヘッド18は、レール14に沿って
直線方向の送り移動が与えられつつ回転駆動機構47に
制御されて回転し、ホルダ2上で回転しているウエハW
の研磨を行う。
The polishing head 18 includes the spindle 1
7 and detachably mounted on the carrier 13.
As shown in FIGS. 1 and 5, the carrier 13 is equipped with a vertical drive mechanism (air cylinder) 46 for moving the polishing head 18 up and down, and a rotary drive mechanism (motor) 47 for rotating and driving the polishing head. The feed screw 49 rotates by the rotation of the feed drive mechanism (motor) 48 of the carrier 13 installed on the rail side, and the carrier 13 moves from the retracted position along the rail 14 by the feed drive by the rotation of the feed screw 49. and sent to the upper holder 2 of the station S 2 shown in FIG. 11, and then the vertical drive mechanism 4
8 to descend on the holder 2 as shown in FIG.
Further, the polishing head 18 rotates while being controlled by the rotation driving mechanism 47 while being fed in a linear direction along the rail 14, and rotates the wafer W rotating on the holder 2.
Is polished.

【0050】送り駆動機構48は、キャリア13にセッ
トされているポリッシングヘッド18をレールに沿って
往復動させると共に、ウエハWの研磨に際しては、その
研磨位置に応じて送り速度が制御される。例えば、周速
度のおそいウエハの中心部の研磨時には送り速度を遅
く、周縁の研磨に対しては送り速度を早くしてウエハ全
面を均一に研磨することもできる。上下駆動機構により
加えられる圧力は、0.05kg/cm2〜1kg/c
2である。ポリッシングヘッド18の回転速度は30
rmp〜1000rmp程度であり、ウエハの回転速度
は10rmp〜300rmp程度である。ポリッシング
ヘッド18の回転は、ウエハ回転と順方向あるいは逆方
向の両方が選択できる。例えば、10rmpで時計回り
に回転しているウエハ上に、500rmpで反時計回り
に回転しているポリッシングヘッド18を、1cm/秒
で往復走査するのである。
The feed drive mechanism 48 reciprocates the polishing head 18 set on the carrier 13 along the rail, and at the time of polishing the wafer W, controls the feed speed in accordance with the polishing position. For example, the feed rate may be reduced during polishing of a central portion of a wafer having a low peripheral speed, and the feed rate may be increased during polishing of a peripheral edge to uniformly polish the entire surface of the wafer. The pressure applied by the vertical drive mechanism is 0.05 kg / cm 2 to 1 kg / c.
m 2 . The rotation speed of the polishing head 18 is 30
The rotation speed of the wafer is about 10 rpm to 300 rpm. The rotation of the polishing head 18 can be selected from both wafer rotation and forward or reverse rotation. For example, the polishing head 18 rotating counterclockwise at 500 rpm is reciprocally scanned at 1 cm / sec on a wafer rotating clockwise at 10 rpm.

【0051】この際、ポリッシングヘッド18の走査速
度を常に一定とする必要はない。実際には、本研磨装置
に組み込まれている制御コンピュータに、ウエハの回転
速度、ウエハ内の走査座標とポリッシングヘッドの走査
速度、往復範囲、回転速度および研磨圧力を入力するこ
とで、任意に研磨条件を設定するのである。なお、レー
ル14、上下駆動機構46,回転駆動機構47を含むキ
ャリア13並びに送りねじ49などは機枠50に取り付
けられたカバー51にて覆い、さらに局部排気を行なっ
てカバー内を負圧とし、レール14や送りねじ49の摩
耗によって生ずる粉塵や駆動機構46、47などから飛
散するかもしれない油分などが下方に落下するのを阻止
している。
At this time, it is not necessary to always keep the scanning speed of the polishing head 18 constant. Actually, by inputting the rotation speed of the wafer, the scanning coordinates within the wafer and the scanning speed of the polishing head, the reciprocating range, the rotation speed, and the polishing pressure into the control computer incorporated in this polishing apparatus, the polishing can be arbitrarily performed. Set the conditions. The rail 14, the carrier 13 including the vertical drive mechanism 46 and the rotary drive mechanism 47, the feed screw 49, and the like are covered with a cover 51 attached to the machine frame 50, and local exhaust is performed to make the inside of the cover negative pressure. Dust generated by wear of the rail 14 and the feed screw 49 and oil that may be scattered from the drive mechanisms 46 and 47 are prevented from falling downward.

【0052】スピンドル17の回転により、回転トルク
は加圧シリンダ21内のドライブプレート3とダイアフ
ラム5との積層を介してベースプレート22に伝えられ
る。研磨中、ポンプにより圧送された研磨液は研磨液供
給孔25より供給管30に送り込まれ、給液孔18aよ
りウエハに供給されるが、研磨終了と同時にバルブが切
り替えられて研磨液供給孔25に純水が供給されて、給
液管30内の研磨液を純水に置換するとともに、ウエハ
上の研磨液を純水置換して研磨の進行を停止させる。給
液管30は内壁がテフロンコーティングされた金属管で
あるが、銅薄膜の研磨に用いる金属に対してエッチング
作用のある研磨液を用いる場合(例えば、ロデール・ニ
ッタ社製:QCTT1010)、研磨終了とともに速や
かに給液管30を純水置換することは、給液管30の耐
用年数を伸ばすのに極めて重要である。
By the rotation of the spindle 17, the rotation torque is transmitted to the base plate 22 via the lamination of the drive plate 3 and the diaphragm 5 in the pressure cylinder 21. During the polishing, the polishing liquid pumped by the pump is fed into the supply pipe 30 through the polishing liquid supply hole 25 and supplied to the wafer through the liquid supply hole 18a. Is supplied with pure water to replace the polishing liquid in the liquid supply pipe 30 with pure water, and replace the polishing liquid on the wafer with pure water to stop the progress of polishing. The liquid supply pipe 30 is a metal pipe whose inner wall is coated with Teflon. However, when a polishing liquid having an etching effect on a metal used for polishing a copper thin film is used (for example, QCTT1010 manufactured by Rodel Nitta), polishing is completed. Immediately replacing the liquid supply pipe 30 with pure water is extremely important for extending the service life of the liquid supply pipe 30.

【0053】なお、図12に示すようにポリッシングヘ
ッド18は、キャリア13に取付けられたフード33で
覆われ、ウエハの研磨加工中及び加工完了後は、フード
33の内面に沿って洗浄水fを流し続けることにより、
飛散した研磨液の固化、ひいては研磨液の固形物の落下
によるウエハWの破損を防止できる。研磨加工中に、ホ
ルダ2の外周部に設置されたシーリング部からも純水が
供給されて、基板裏面への研磨液の回り込みを回避して
いる。
As shown in FIG. 12, the polishing head 18 is covered with a hood 33 attached to the carrier 13, and the cleaning water f is supplied along the inner surface of the hood 33 during and after the polishing of the wafer. By continuing to flow,
It is possible to prevent the wafer W from being damaged due to solidification of the scattered polishing liquid and, consequently, falling of a solid substance of the polishing liquid. During the polishing process, pure water is also supplied from a sealing portion provided on the outer peripheral portion of the holder 2 to prevent the polishing liquid from flowing to the back surface of the substrate.

【0054】一方、図5において、ウエハWの研磨によ
ってポリッシングヘッド18の研磨布24に生ずる目づ
まり、目の不揃いは、ポリッシングヘッド18を退避位
置に戻してパッドコンディショナ手段19によって修正
する。パッドコンディショナ手段19は、回転するパッ
ドコンディショニングディスク34を有し、図13に示
したようにこのディスクを回転させながらポリッシング
ヘッド18の研磨布24に押し付けて目立て(ドレスア
ップ)を行う。この際、研磨液供給孔25には純水が供
給され、給液孔18aより排出する純水で研磨布24の
表面を水洗する。
On the other hand, in FIG. 5, the clogging and irregularity of the polishing cloth 24 of the polishing head 18 caused by the polishing of the wafer W are corrected by the pad conditioner 19 by returning the polishing head 18 to the retracted position. The pad conditioner means 19 has a rotating pad conditioning disc 34, and performs dressing by pressing the polishing pad 24 against the polishing pad 24 while rotating the disc as shown in FIG. At this time, pure water is supplied to the polishing liquid supply hole 25, and the surface of the polishing cloth 24 is washed with pure water discharged from the liquid supply hole 18a.

【0055】通常、パッドコンディショニングディスク
34は10μm〜500μmのダイヤモンド粒子の電着
板を用いるが、研磨布の目立ての際にダイヤモンド粒子
が離脱する場合がある。本研磨装置の場合、研磨布24
が下向きになっているため、離脱ダイヤモンド粒子が研
磨布に付着しにくいよう配慮されているのである。
Normally, the pad conditioning disk 34 uses an electrodeposited plate of diamond particles of 10 μm to 500 μm, but diamond particles may come off during dressing of the polishing cloth. In the case of this polishing apparatus, the polishing cloth 24
Because of the downward orientation, care has been taken to make the detached diamond particles less likely to adhere to the polishing cloth.

【0056】なお、研磨布24を目立てするときには、
図6において、加圧シリンダ21の加圧室31内にさら
に高圧空気を圧入し、ダイヤフラム5を通じてベースプ
レート22の張出し縁22aをフランジ6の張り出し縁
6aにポリッシング圧力より強い所定圧で圧着すれば、
研磨布24を取り付けたベースプレート22は、加圧シ
リンダ21にクランプされて研磨布24が安定する。研
磨布24の目立て後は、パットクリーニング手段20と
してのブラシを回転しつつ進退動させ、研磨布24の表
面に付着している脱落砥粒や研磨粉などを除去して次の
ウエハの粗研磨に備え、インデックステーブル1を一定
角度(90°)転回させ、粗研磨による平坦化処理が終
了したウエハWを二次研磨ステーションS3に移行させ
る。
When sharpening the polishing pad 24,
In FIG. 6, if high-pressure air is further injected into the pressurizing chamber 31 of the pressurizing cylinder 21, and the overhanging edge 22 a of the base plate 22 is pressed to the overhanging edge 6 a of the flange 6 through the diaphragm 5 at a predetermined pressure higher than the polishing pressure,
The base plate 22 to which the polishing pad 24 is attached is clamped by the pressure cylinder 21 so that the polishing pad 24 is stabilized. After the dressing of the polishing pad 24, the brush as the pad cleaning means 20 is moved forward and backward while rotating to remove the dropped abrasive grains and abrasive powder adhering to the surface of the polishing pad 24 to roughly polish the next wafer. in comprising, an index table 1 is a predetermined angle (90 °) turn, shifts the wafer W to flattening treatment by rough polishing is completed in the secondary polishing station S 3.

【0057】図3,4において、二次研磨ステーション
3においては、一次研磨による平坦化処理されたウエ
ハ表面の面粗度をさらに小さくすることを目的として研
磨処理が行われる。研磨液は、一次研磨処理に用いた研
磨液とは異なり、仕上げ研磨処理に適したものが用いる
のが一般的である。
[0057] In FIGS. 3 and 4, in the secondary polishing station S 3, the polishing process is performed for the purpose of further reducing the surface roughness of the flattened treated wafer surface by the primary polishing. The polishing liquid is generally different from the polishing liquid used for the primary polishing treatment and is suitable for the final polishing treatment.

【0058】例えば、開口部の形成された層間絶縁膜上
の銅薄膜を研磨して除去して前記開口部に銅を埋め込む
場合、一次研磨処理にはpH=1〜2程度の酸性シリカ
スラリーを用いて銅のエッチング作用の大きい研磨液を
用い、層間絶縁膜が現れる二次研磨処理にはpH=4〜
6.5程度の弱酸性シリカスラリーを用いて銅のエッチ
ング作用を抑制し、開口部に埋め込まれた銅のディッシ
ングを回避する。二次研磨ステーションS3においても
一次研磨ステーションS2と同様にポリッシングヘッド
35のほかにパッドコンディショナ手段36及びパット
クリーニング手段37を備えている。
For example, when the copper thin film on the interlayer insulating film in which the opening is formed is polished and removed to bury copper in the opening, an acidic silica slurry having a pH of about 1 to 2 is used for the primary polishing treatment. A polishing solution having a large copper etching effect is used, and a pH of 4 to 4 is used for the secondary polishing process in which an interlayer insulating film appears.
The etching action of copper is suppressed using a weakly acidic silica slurry of about 6.5 to avoid dishing of the copper embedded in the opening. And a addition to pad conditioner unit 36 and the pad cleaning means 37 similarly polishing head 35 and the primary polishing station S 2 is also in the secondary polishing station S 3.

【0059】二次研磨ステーションS3に移送されてき
たウエハWは、ポリッシングヘッド35にて表面仕上げ
処理が行われるほか、パッドコンディショナ手段36及
びパットクリーニング手段37によるポリッシングヘッ
ド35の研磨布のコンディショニング並びにクリーニン
グの処理を行う点は、一次研磨ステーションS2での処
理と、処理の操作としては全く同じである。
The wafer W transferred to the secondary polishing station S 3 is subjected to surface finishing by the polishing head 35, and conditioning of the polishing cloth of the polishing head 35 by the pad conditioner means 36 and the pad cleaning means 37. and that performs processing of cleaning, and for primary polishing station S 2, as the operation of the process is exactly the same.

【0060】また、図11〜13に示すように、この実
施形態においては、ウエハの一次研磨、二次研磨の処理
中はともにウエハの研磨加工中及びその前後に渡り、洗
浄水を流し続けているが、ウエハの研磨加工中を除い
て、図11及び図13に示すように使用された洗浄水
は、水槽43中に一旦受け止め、排水側バルブ44を開
いて外部へ排水しているが、研磨加工中においては図1
2に示すように、リサイクル側バルブ45を開き、ポリ
ッシングヘッドに供給された研磨剤(スラリー)ととも
にリサイクル側管路に回収している。リサイクル側管路
に回収された研磨排液は、純水によって希釈される。従
って、限外フィルターを用いて研磨排液を濃縮した後、
再び研磨液として利用する。その際、必要に応じて研磨
排液中のCu2+イオン等を除去する。
As shown in FIGS. 11 to 13, in this embodiment, the cleaning water is continuously supplied during and after the wafer polishing process during the primary polishing and the secondary polishing of the wafer. However, the cleaning water used as shown in FIGS. 11 and 13 is temporarily received in the water tank 43 and drained to the outside by opening the drain side valve 44, except during the polishing of the wafer. Figure 1 during polishing
As shown in FIG. 2, the recycle side valve 45 is opened, and the polishing agent (slurry) supplied to the polishing head is collected in the recycle side pipeline. The polishing effluent collected in the recycle line is diluted with pure water. Therefore, after concentrating the polishing effluent using an ultrafilter,
It is used again as a polishing liquid. At this time, Cu 2+ ions and the like in the polishing waste liquid are removed as necessary.

【0061】二次研磨ステーションS3に設置されたポ
リッシングヘッド35に用いられる研磨パッドとしての
研磨布は、一次研磨ステーションS2のポリッシングヘ
ッド18に用いられた研磨布の硬度に比して軟質であ
り、仕上げ処理は、平坦化処理よりも長い時間をかけて
研磨加工が行われる場合が一般的である。仕上げ処理用
には、例えばポリウレタン含浸ポリエステル繊維型研磨
布(ロデール・ニッタ社製:SUBA800)である。
一次研磨ステーションと同じく硬質研磨布を用いること
もできる。仕上げ処理が完了すると、インデックステー
ブル1は一定角度転回し、ウエハWはアンローディング
ステーションS4に移送され、表面が洗浄される。
The polishing cloth used as the polishing pad for the polishing head 35 installed in the secondary polishing station S 3 is softer than the polishing cloth used for the polishing head 18 in the primary polishing station S 2. In some cases, the finishing process is generally performed by polishing for a longer time than the flattening process. For the finishing treatment, for example, a polyurethane-impregnated polyester fiber type polishing cloth (manufactured by Rodel Nitta: SUBA800) is used.
As with the primary polishing station, a hard polishing cloth can be used. When finishing the process is complete, the index table 1 is a predetermined angle turn, the wafer W is transferred to the unloading station S 4, the surface is cleaned.

【0062】その後、図4に示したようにウエハはロボ
ットアーム39でコンベア41でスクラブ洗浄装置へと
移送される。移送中のウエハ表面には純水が噴霧されて
乾燥を防止している。スクラブ洗浄装置(図示せず)で
は、第1処理室でウエハ表面と裏面とを同時にブラシ洗
浄を行い、研磨剤粒子を除去する。ここでは、洗浄液と
しては電解水を用いた。第2処理室では、直径10mm
〜20mmのピンブラシでウエハ表面を洗浄する。銅を
埋め込んだウエハ表面の洗浄にはクエン酸あるいは0.
01%〜0.1%程度のフッ化水素水と過酸化水素水
(1%〜20%)を添加した弱酸性洗浄液あるいは電解
水を用いた。
Thereafter, as shown in FIG. 4, the wafer is transferred by the robot arm 39 to the scrub cleaning device on the conveyor 41. Pure water is sprayed on the wafer surface during transfer to prevent drying. In a scrub cleaning apparatus (not shown), the first and second processing chambers simultaneously perform brush cleaning on the front and back surfaces of the wafer to remove abrasive particles. Here, electrolytic water was used as the cleaning liquid. In the second processing chamber, the diameter is 10 mm
Clean the wafer surface with a ブ ラ シ 20 mm pin brush. For cleaning the surface of the wafer in which copper is embedded, citric acid or 0.
A weakly acidic cleaning solution or electrolyzed water to which about 01% to 0.1% of hydrogen fluoride water and hydrogen peroxide water (1% to 20%) was added was used.

【0063】第3処理室では、ウエハを高速回転した状
態でウエハ表面には純水を供給し、一方ウエハ裏面には
0.1%〜5%程度のフッ化水素水と過酸化水素水(1
%〜20%)の混合液を供給してスピン洗浄し、ウエハ
両面に純水を供給して洗浄を行った後スピン乾燥する。
かかる一連のスクラブ洗浄装置内での処理より、研磨剤
粒子を完全に除去するとともに、ウエハ表面の層間絶縁
膜表面およびウエハ裏面から銅等の金属を除去して、L
SI製造ラインへとウエハを移送するのである。
In the third processing chamber, pure water is supplied to the front surface of the wafer while the wafer is rotating at a high speed, while about 0.1% to 5% of hydrogen fluoride water and hydrogen peroxide water ( 1
% To 20%), spin cleaning is performed, pure water is supplied to both surfaces of the wafer to perform cleaning, and then spin drying is performed.
By performing a series of processes in the scrub cleaning apparatus, the abrasive particles are completely removed, and metals such as copper are removed from the interlayer insulating film surface on the wafer surface and the wafer back surface.
The wafer is transferred to the SI manufacturing line.

【0064】以上、実施形態においては、ローディング
ステーションS1にウエハを搬入し、以後、インデック
ステーブルを一定角度(90°)づつ転回させてウエハ
を順次一次研磨ステーションS2、二次研磨ステーショ
ンS3を経由させて平坦化処理、仕上げ処理を行い、ア
ンローディングステーションから外部へ搬出しつつ次々
に搬入されたウエハの平坦化処理と仕上げ処理を同じイ
ンデックステーブル上で行う例を示した。しかし、本発
明は、このような実施の形態に限らず、テーブル上に保
持させたウエハその他基板類の研磨処理に広く利用する
ことができる。
As described above, in the embodiment, the wafer is carried into the loading station S 1 , and thereafter, the index table is turned by a predetermined angle (90 °), and the wafers are sequentially turned into the primary polishing station S 2 and the secondary polishing station S 3. An example is shown in which the flattening process and the finishing process are performed via the, and the flattening process and the finishing process of the wafers successively carried in while being carried out of the unloading station are performed on the same index table. However, the present invention is not limited to such an embodiment, and can be widely used for polishing a wafer or other substrates held on a table.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上のように本発明によるときには、基
板の研磨面を上向きに保持し、その上方から研磨を行
い、また、基板表面に押し付ける研磨布は三次元方向の
揺動による微動が可能であり、揺動の程度は調整でき、
さらに研磨布に直接スラリを給液しつつ研磨を行うもの
であるために以下に述べる効果がある。
As described above, according to the present invention, the polishing surface of the substrate is held upward, the polishing is performed from above, and the polishing cloth pressed against the substrate surface can be finely moved by the three-dimensional swing. And the degree of swing can be adjusted,
Further, since the polishing is performed while the slurry is directly supplied to the polishing cloth, the following effects are obtained.

【0066】(1)基板の研磨面を上方から観察してそ
の形状の測定が可能であり、研磨作業を中断することな
く研磨面の形状を修正できる。
(1) The shape of the polished surface of the substrate can be measured by observing the polished surface of the substrate from above, and the shape of the polished surface can be corrected without interrupting the polishing operation.

【0067】(2)ポリッシングヘッドに基板径より小
径のディスクを用いて高速回転させつつ研磨を行うこと
が可能となる。ポリッシングヘッドに取付ける研磨布
は、研磨中に粘弾性変形をするが、短時間(0.1秒)
以内の変形挙動では、その変形は時間に比例する。した
がって基板と研磨布間の相対速度を上げれば、研磨布
は、見かけ上硬くなり、研磨布が硬くなれば、基板への
研磨面の転写性がよくなり、基板面の研磨精度を向上で
きる。
(2) Polishing can be performed while rotating the disk at a high speed using a disk smaller in diameter than the substrate diameter as the polishing head. The polishing cloth attached to the polishing head undergoes viscoelastic deformation during polishing, but in a short time (0.1 second)
For deformation behaviors within, the deformation is proportional to time. Therefore, when the relative speed between the substrate and the polishing cloth is increased, the polishing cloth becomes apparently hard, and when the polishing cloth becomes hard, the transferability of the polished surface to the substrate is improved, and the polishing accuracy of the substrate surface can be improved.

【0068】(3)基板全面についての研磨の均一性に
関して、従来は、研磨精度は専ら研磨布の粘弾性特性に
依存しており、操作のパラメータが限られていたが、本
発明においては、基板の外径より小径のディスクのポリ
ッシングヘッドを用いて基板の表面に形成されているう
ねりに追従させることができる。また、部分的な研磨の
均一性に関しては、研磨布と基板との相対速度が早いた
め、研磨布が見かけ上硬質化し、極めて均一な平坦化加
工が可能となる。
(3) Regarding the uniformity of polishing over the entire surface of the substrate, the polishing accuracy has hitherto solely depended on the viscoelastic characteristics of the polishing cloth, and the operation parameters were limited. The undulation formed on the surface of the substrate can be followed by using a polishing head for a disk having a smaller diameter than the outer diameter of the substrate. In addition, regarding the uniformity of partial polishing, since the relative speed between the polishing pad and the substrate is high, the polishing pad is apparently hardened, and extremely uniform flattening can be performed.

【0069】(4)研磨面をモニタして研磨面形状、研
磨面厚み、研磨温度を研磨作業中に計測が可能のため、
研磨面情報から形状修正パターンを算出して研磨状況に
応じた研磨条件を設定できる。
(4) Since the polished surface is monitored and the polished surface shape, polished surface thickness, and polishing temperature can be measured during the polishing operation,
The shape correction pattern is calculated from the polished surface information, and the polishing conditions according to the polishing state can be set.

【0070】(5)研磨におけるランニングコストは研
磨剤(スラリ)と研磨布の使用量が大半を占めている。
研磨布を貼り付けたプラテン上に研磨剤を供給したとき
には、その殆どの研磨剤は基板の研磨に使用されないま
まに排水されるが、本発明においては、研磨剤はスピン
ドルを通して研磨布と基板との間に圧入されるために、
ウエハの研磨に対する使用効率は高い。また、研磨布の
全面が基板に接触するために研磨布の全面が均等に使用
され、ひいては研磨布に無駄が生じない。
(5) Most of the running cost in polishing is based on the amount of abrasive (slurry) and polishing cloth used.
When the polishing agent is supplied onto the platen to which the polishing cloth is attached, most of the polishing agent is drained without being used for polishing the substrate.In the present invention, however, the polishing agent is supplied through the spindle to the polishing cloth and the substrate. To be pressed in between
The usage efficiency for polishing a wafer is high. Further, since the entire surface of the polishing cloth is in contact with the substrate, the entire surface of the polishing cloth is used evenly, and thus the polishing cloth is not wasted.

【0071】(6)基板の研磨によって研磨布に生じた
目づまりは、目立てを行うことによって再生でき、研磨
布をパットコンディショニングディスクに押しつけて目
立てを行うに際しては、加圧シリンダ内に高圧空気を圧
入してベースプレートを固定し、研磨布に振れ止めを施
した状態で目立てを行うことができる。
(6) The clogging generated on the polishing cloth by polishing the substrate can be reproduced by sharpening. When the sharpening is performed by pressing the polishing cloth against the pad conditioning disc, high-pressure air is supplied into the pressurizing cylinder. The base plate can be fixed by press-fitting, and sharpening can be performed with the polishing pad being rested.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態を示す正面図である。FIG. 1 is a front view showing an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施形態を略示的に示す平面図であ
る。
FIG. 3 is a plan view schematically showing an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施形態を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing one embodiment of the present invention.

【図5】一次研磨ステーションの設備を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing equipment of a primary polishing station.

【図6】ポリッシングヘッドを示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a polishing head.

【図7】バキュームチャックの構造を示す図である。FIG. 7 is a view showing a structure of a vacuum chuck.

【図8】ポリッシングヘッドの分解図である。FIG. 8 is an exploded view of the polishing head.

【図9】研磨布に付された研磨剤の誘導用の溝の例を示
す図である。
FIG. 9 is a view showing an example of a groove for guiding an abrasive applied to a polishing cloth.

【図10】(a)は研磨布の設置例を示す断面図,
(b)は底面図である。
FIG. 10A is a cross-sectional view showing an example of setting a polishing cloth,
(B) is a bottom view.

【図11】ポリッシングヘッドによるウエハの研磨開始
時の状況を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a state at the start of polishing of a wafer by a polishing head.

【図12】ウエハの研磨作業中の状況を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a state during a wafer polishing operation.

【図13】ポリッシングヘッドの研磨布の目立てを行な
っている状況を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a situation in which the polishing head of the polishing head is dressing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 インデックステーブル 2 ホルダ 3 ドライブプレート 4 バキュームチャック 5 ダイアフラム 6 フランジ 7 ロボットアーム 7a ウエハ・チャック 9 透孔 10 ウエハキャリア 11 ピンクランプ 12 ボルト 13 キャリア 14 レール 15 送気配管 16 ノズル 17 スピンドル 18 ポリッシングヘッド 18a 給液孔 19 パッドコンディショナ手段 20 パッドクリーニング手段 21 加圧シリンダ 21a 鍔部分 22 ベースプレート 22a 張出し縁 23 研磨布張り付板 24 研磨布 25 研磨液供給口 26 吸着孔 27 水シール室 28 通水溝 29 シールリング 30 給液管 31 加圧室 32 拡散溝 33 フード 34 パッドコンディショニングディスク 35 ポリッシングヘッド 36 パッドコンディショナ手段 37 パッドクリーニング手段 38 ウエハ表面洗浄手段 39 ロボットアーム 39a ウエハ・チャック 40 ピンクランプ 41 コンベア 42 ウエハ裏面洗浄手段 43 水槽 44 排水側バルブ 45 リサイクル側バルブ 46 上下駆動機構 47 回転駆動機構 48 キャリアの送り駆動機構 49 送りねじ 50 機枠 51 カバー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Index table 2 Holder 3 Drive plate 4 Vacuum chuck 5 Diaphragm 6 Flange 7 Robot arm 7a Wafer chuck 9 Through hole 10 Wafer carrier 11 Pink lamp 12 Bolt 13 Carrier 14 Rail 15 Air supply pipe 16 Nozzle 17 Spindle 18 Polishing head 18a Supply Liquid hole 19 Pad conditioner means 20 Pad cleaning means 21 Pressurizing cylinder 21a Flange portion 22 Base plate 22a Overhanging edge 23 Plate with polishing cloth 24 Polishing cloth 25 Polishing liquid supply port 26 Suction hole 27 Water seal chamber 28 Water passage groove 29 Seal Ring 30 Liquid supply pipe 31 Pressurizing chamber 32 Diffusion groove 33 Hood 34 Pad conditioning disk 35 Polishing head 36 Pad conditioner means 37 Pad Cleaning means 38 Wafer surface cleaning means 39 Robot arm 39a Wafer chuck 40 Pink lamp 41 Conveyor 42 Wafer backside cleaning means 43 Water tank 44 Drain side valve 45 Recycle side valve 46 Vertical drive mechanism 47 Rotation drive mechanism 48 Carrier drive drive mechanism 49 Feed Screw 50 Machine frame 51 Cover

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 21/304 622 H01L 21/304 622E 622F 622M (72)発明者 小林 一雄 神奈川県厚木市上依知3009番地 株式会 社岡本工作機械製作所内 (56)参考文献 特開 平7−29223(JP,A) 特開 平9−277160(JP,A) 特開 平7−52033(JP,A) 特開 平7−88759(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B24B 37/00,37/04 H01L 21/304 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H01L 21/304 622 H01L 21/304 622E 622F 622M (72) Inventor Kazuo Kobayashi 3009 Jyochi, Atsugi-shi, Kanagawa Pref. (56) References JP-A-7-29223 (JP, A) JP-A-9-277160 (JP, A) JP-A-7-52033 (JP, A) JP-A-7-88759 (JP, A) (58) Fields surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B24B 37/00, 37/04 H01L 21/304

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】(57) [Claims]
  1. 【請求項1】 テーブルと、ポリッシングヘッドとを有
    する研磨装置であって、 テーブルは、研磨すべき基板を定位置に上向きに保持す
    るものであり、 ポリッシングヘッドは、加圧シリンダと、ベースプレー
    トとを含む組立体であり、下面の少なくとも一部に研磨
    面を有し、回転駆動され、 研磨面は、回転しつつテーブル上の基板を研磨する面で
    あり、研磨パッドが貼り付けられ、三次元方向に揺動可
    能であり、 加圧シリンダと、ベースプレートとの間に、ドライブプ
    レートと、ダイアフラムとが介装され、 加圧シリンダは、スピンドルに回転可能に支持してテー
    ブルの上方から垂下され、内部に圧入された空気圧を調
    整して研磨加工時に、ベースプレートを三次元方向に揺
    動可能とし、研磨パッドの目立て時に、ベースプレート
    を固定させるものであり、 ベースプレートは、研磨面の三次元方向の変位に追従さ
    せるものであり、周縁は、フランジに支えられ、 フランジは、環状で内周縁に張り出し縁を有し、張り出
    し縁上にベースプレートの外周縁の張出し縁を三次元方
    向に揺動可能に支持して加圧シリンダの下縁に固定する
    ものであり、 ドライブプレートと、ダイアフラムとは、その周縁が加
    圧シリンダと、べースプレート間に緊締され、 ドライブプレートは、ベースプレートの三次元方向の変
    位に追従させるとともにベースプレートに支持強度を与
    えるものであり、 ダイアフラムは、加圧シリンダ内と、ベースプレート間
    の気密を保持する ものであることを特徴とする研磨装
    置。
    1. A polishing apparatus having a table and a polishing head, wherein the table holds a substrate to be polished upward at a fixed position, and the polishing head comprises a pressure cylinder, a base plate,
    And an assembly including a polishing surface on at least a part of the lower surface , the polishing surface is a surface for polishing a substrate on a table while rotating , and a polishing pad is attached, Ri swingably der in three-dimensional directions, and the pressing cylinder, between the base plate, drive-flop
    The pressure and the diaphragm are interposed, and the pressurizing cylinder is rotatably supported on the spindle by the table.
    To adjust the air pressure
    During the polishing process, the base plate is swung in three dimensions.
    The base plate can be moved when the polishing pad is sharpened.
    The base plate follows the three-dimensional displacement of the polished surface.
    The periphery of which is supported by a flange , the flange being annular and having an overhanging edge at the inner periphery,
    On the outer edge of the base plate on the edge
    And fixed to the lower edge of the pressure cylinder
    The drive plate and the diaphragm have additional edges.
    The pressure plate is tightened between the pressure cylinder and the base plate , and the drive plate is
    Position and support strength to the base plate
    The diaphragm is located between the pressure cylinder and the base plate.
    A polishing apparatus characterized by maintaining airtightness .
  2. 【請求項2】 テーブルは回転駆動され、ポリッシング
    ヘッドは、テーブル上方を、直線方向に移動送りが与え
    られるものであることを特徴とする請求項1に記載の研
    磨装置。
    2. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the table is driven to rotate , and the polishing head is given a moving feed in a linear direction above the table.
  3. 【請求項3】 レールを有し、 レールは、テーブル上の基板に対する研磨位置と、テー
    ブルから離れた退避位置との間でポリッシングヘッドを
    往復動させるガイドであることを特徴とする請求項2に
    記載の研磨装置。
    3. The apparatus according to claim 2, further comprising a rail, wherein the rail is a guide for reciprocating the polishing head between a polishing position for the substrate on the table and a retracted position away from the table. The polishing apparatus according to the above.
  4. 【請求項4】 レールは、機体に組付けられた機枠に吊
    下げてテーブルの上方空間に配置されたものであること
    を特徴とする請求項3に記載の研磨装置。
    4. The polishing apparatus according to claim 3, wherein the rail is suspended from a machine frame mounted on the machine body and arranged in a space above the table.
  5. 【請求項5】 テーブルと、ポリッシングヘッドと、送
    り駆動機構とを有する研磨装置であって、 テーブルは、研磨すべき基板を定位置に上向きに保持し
    て回転駆動するものであり、 ポリッシングヘッドは、下面の少なくとも一部に研磨面
    を有し、 研磨面は、テーブル上の基板を研磨する面であり、研磨
    パッドが貼り付けられ、三次元方向に揺動可能であり、 レールは、テーブル上の基板に対する研磨位置と、テー
    ブルから離れた待避位置との間でポリッシングヘッドを
    往復動させるガイドであり、 送り駆動機構は、レールに沿ってポリッシングヘッドに
    往復移動送りを与え、テーブル上に保持されて回転する
    基板の研磨位置に応じてポリッシングヘッドの送り速度
    を制御するものであることを特徴とする研磨装置。
    5. A table, a polishing head, and a feeder.
    A polishing apparatus having a driving mechanism, wherein the table holds the substrate to be polished upward in a fixed position.
    The polishing head has a polished surface on at least a part of the lower surface.
    And the polishing surface is a surface for polishing the substrate on the table, the polishing
    Pad is adhered is swingable three-dimensional directions, the rail includes a polishing position with respect to the substrate on the table, tape
    The polishing head between the retracted position away from the
    A guide for reciprocating the feed drive mechanism, e given a reciprocating feed the polishing head along the rails, to control the feed speed of the polishing head according to the polishing position of the rotating substrate is held on tables A polishing apparatus characterized in that it is a polishing apparatus.
  6. 【請求項6】 ポリッシングヘッドは、レールに沿って
    送り移動が与えられるキャリアにセットされ、 キャリアは、上下駆動機構と、回転駆動機構とを装備
    し、 上下駆動機構は、キャリアを上下動させるものであり、 回転駆動機構は、ポリッシングヘッドを回転駆動するも
    のであることを特徴とする請求項3又は5に記載の研磨
    装置。
    6. The polishing head is set on a carrier to which a feeding movement is given along a rail, the carrier is provided with a vertical drive mechanism and a rotary drive mechanism, and the vertical drive mechanism moves the carrier up and down. The polishing apparatus according to claim 3 , wherein the rotation drive mechanism is configured to rotationally drive the polishing head.
  7. 【請求項7】 ポリッシングヘッドは、給液管を有し、 給液管は、ポリッシングヘッドの回転中心を通して外部
    から供給された研磨剤を研磨パッドに給液する給液孔を
    有するものであることを特徴とする請求項1又は5に記
    載の研磨装置。
    7. The polishing head has a liquid supply pipe, and the liquid supply pipe has a liquid supply hole for supplying a polishing agent supplied from outside through a rotation center of the polishing head to the polishing pad. The polishing apparatus according to claim 1, wherein:
  8. 【請求項8】 加圧シリンダは、キャリアに一定角度姿
    勢で支えられているものであることを特徴とする請求項
    6に記載の研磨装置。
    8. The polishing apparatus according to claim 6, wherein the pressure cylinder is supported by the carrier at a fixed angle.
  9. 【請求項9】 摩耗した研磨パッドは、ポリッシングヘ
    ッドが直線方向に移動される延長線上に設けられたパッ
    ドコンディショナ手段のディスクに押付けて目立てされ
    るものであり、目立ての際には、クランプされ、揺動を
    停止するものであることを特徴とする請求項1又は3
    記載の研磨装置。
    9. The worn polishing pad is subjected to polishing.
    The pad is sharpened by pressing against a disk of pad conditioner means provided on an extension line which is moved in a linear direction , and at the time of sharpening, it is clamped and stops swinging. The polishing apparatus according to claim 1 , wherein the polishing apparatus is a polishing apparatus.
  10. 【請求項10】 パッドコンディショナ手段は、退避位
    置に設置されたものであることを特徴とする請求項9
    記載の研磨装置。
    10. The polishing apparatus according to claim 9 , wherein the pad conditioner is provided at a retracted position.
  11. 【請求項11】 ポリッシングヘッドは、加圧シリンダ
    と、ベースプレートとを含む組立体であり、下面の少な
    くとも一部に研磨面を有し、回転駆動され、研磨面は、
    回転しつつテーブル上の基板を研磨する面であり、研磨
    パッドが貼り付けられ、三次元方向に揺動可能であり、 加圧シリンダと、ベースプレートとの間に、ドライブプ
    レートと、ダイアフラムとが介装され、 加圧シリンダは、スピンドルに回転可能に支持してテー
    ブルの上方から垂下され、内部に圧入された空気圧を調
    整して研磨加工時に、ベースプレートを三次元方向に揺
    動可能とし、研磨パッドの目立て時に、ベースプレート
    を固定させるものであり、 ベースプレートは、研磨面の三次元方向の変位に追従さ
    せるものであり、周縁は、フランジに支えられ、 フランジは、環状で内周縁に張り出し縁を有し、張り出
    し縁上にベースプレートの外周縁の張出し縁を三次元方
    向に揺動可能に支持して加圧シリンダの下縁に固定する
    ものであり、 ドライブプレートと、ダイアフラムとは、その周縁が加
    圧シリンダと、べースプレート間に緊締され、 ドライブプレートは、ベースプレートの三次元方向の変
    位に追従させるとともにベースプレートに支持強度を与
    えるものであり、 ダイアフラムは、加圧シリンダ内と、ベースプレート間
    の気密を保持するものであることを特徴とする請求項5
    に記載の研磨装置。
    11. The polishing head includes a pressure cylinder.
    And an assembly including a base plate,
    At least a part has a polishing surface, is rotationally driven, the polishing surface is
    This is the surface on which the substrate on the table is polished while rotating.
    The pad is attached and can be swung in three dimensions.The drive plate is located between the pressure cylinder and the base plate.
    The pressure and the diaphragm are interposed, and the pressurizing cylinder is rotatably supported on the spindle by the table.
    To adjust the air pressure
    During the polishing process, the base plate is swung in three dimensions.
    The base plate can be moved when the polishing pad is sharpened.
    The base plate follows the three-dimensional displacement of the polished surface.
    The periphery of which is supported by a flange , the flange being annular and having an overhanging edge at the inner periphery,
    On the outer edge of the base plate on the edge
    And fixed to the lower edge of the pressure cylinder
    The drive plate and the diaphragm have additional edges.
    The pressure plate is tightened between the pressure cylinder and the base plate , and the drive plate is
    Position and support strength to the base plate
    The diaphragm is located between the pressure cylinder and the base plate.
    6. The airtightness of the air conditioner is maintained.
    A polishing apparatus according to claim 1.
  12. 【請求項12】 加圧シリンダは、高圧空気の送気孔を
    有し、加圧シリンダ内には、送気孔を通して高圧空気が
    圧入され、ベースプレートは、圧入された高 圧空気の圧
    力によって固定されるものであることを特徴とする請求
    項1又は11に記載の研磨装置。
    12. The pressurizing cylinder has a high-pressure air supply hole.
    High-pressure air in the pressurized cylinder
    Is press-fitted, the base plate, pressure of the high-pressure air, which is press-fitted
    Claim characterized by being fixed by force
    Item 12. The polishing apparatus according to Item 1 or 11 .
  13. 【請求項13】 研磨面の揺動の程度は、加圧シリンダ
    内に圧入される高圧空気の圧入量によって制御されるも
    のであることを特徴とする請求項1又は11に記載の研
    磨装置。
    13. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the degree of swing of the polishing surface is controlled by the amount of high-pressure air press-fitted into the pressurizing cylinder.
  14. 【請求項14】 研磨パッドは、研磨布であり、拡散溝
    を有し、 拡散溝は、供給された研磨剤を研磨面に分散させる溝で
    あることを特徴とする請求項1又は11に記載の研磨装
    置。
    14. The polishing pad according to claim 1, wherein the polishing pad is a polishing cloth and has a diffusion groove, and the diffusion groove is a groove for dispersing the supplied abrasive on the polishing surface. Polishing equipment.
  15. 【請求項15】 研磨布は、円形帯状をなし、拡散溝
    は、研磨布の内周に開放され、外周には開放されずに研
    磨布の範囲内に形成された溝であることを特徴とする請
    求項14に記載の研磨装置。
    15. The polishing cloth has a circular band shape, and the diffusion groove is a groove formed in an area of the polishing cloth without being opened to an inner circumference of the polishing cloth and being opened to an outer circumference thereof. The polishing apparatus according to claim 14, which performs the polishing.
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