DE2602410C2 - Photopolymerisierbares Material - Google Patents

Photopolymerisierbares Material

Info

Publication number
DE2602410C2
DE2602410C2 DE2602410A DE2602410A DE2602410C2 DE 2602410 C2 DE2602410 C2 DE 2602410C2 DE 2602410 A DE2602410 A DE 2602410A DE 2602410 A DE2602410 A DE 2602410A DE 2602410 C2 DE2602410 C2 DE 2602410C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
film
solution
photopolymerizable
units
copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2602410A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE2602410A1 (de
Inventor
Melvin A. Lipson
Eugene Fullerton Calif. Zador
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DYNACHEM CORP TUSTIN CALIF US
Original Assignee
DYNACHEM CORP TUSTIN CALIF US
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to ZA00757984A priority Critical patent/ZA757984B/xx
Priority to SE7600431A priority patent/SE7600431L/
Application filed by DYNACHEM CORP TUSTIN CALIF US filed Critical DYNACHEM CORP TUSTIN CALIF US
Priority to DE2602410A priority patent/DE2602410C2/de
Priority to FR7602048A priority patent/FR2339185B1/fr
Priority to NL7600794.A priority patent/NL160004C/xx
Priority to GB3624/76A priority patent/GB1521372A/en
Priority to BE163988A priority patent/BE838135A/xx
Priority to JP994776A priority patent/JPS5294388A/ja
Priority to DD191055A priority patent/DD125491A5/xx
Priority to BR7601434A priority patent/BR7601434A/pt
Publication of DE2602410A1 publication Critical patent/DE2602410A1/de
Priority to JP59257283A priority patent/JPS61134756A/ja
Application granted granted Critical
Publication of DE2602410C2 publication Critical patent/DE2602410C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F257/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of aromatic monomers as defined in group C08F12/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F291/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00
    • C08F291/18—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00 on to irradiated or oxidised macromolecules
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
DE2602410A 1974-10-04 1976-01-23 Photopolymerisierbares Material Expired DE2602410C2 (de)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ZA00757984A ZA757984B (en) 1974-10-04 1975-12-23 Polymers for aqueous processed photoresists
SE7600431A SE7600431L (sv) 1974-10-04 1976-01-16 Polymer for fotoresist for behandling i vattenlosningar
DE2602410A DE2602410C2 (de) 1974-10-04 1976-01-23 Photopolymerisierbares Material
FR7602048A FR2339185B1 (fr) 1974-10-04 1976-01-26 Composition photoresistante
NL7600794.A NL160004C (nl) 1974-10-04 1976-01-27 Droge filmfotoresist.
GB3624/76A GB1521372A (en) 1974-10-04 1976-01-29 Photopolymerisable compositions for aqueous processed photoresists
BE163988A BE838135A (fr) 1974-10-04 1976-01-30 Polymeres pour masques photographiques developpes en milieu aqueux
JP994776A JPS5294388A (en) 1974-10-04 1976-01-31 Photopolymerizable composition and preparation thereof
DD191055A DD125491A5 (forum.php) 1974-10-04 1976-02-02
BR7601434A BR7601434A (pt) 1974-10-04 1976-03-10 Composicao fotopolimerizavel,laminado,processo para preparar um fotoprotetor e produto obtido pela exposicao da composicao fotopolimerizavel a luz actinica
JP59257283A JPS61134756A (ja) 1974-10-04 1984-12-05 フオトレジストの製法

Applications Claiming Priority (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US51192974A 1974-10-04 1974-10-04
ZA00757984A ZA757984B (en) 1974-10-04 1975-12-23 Polymers for aqueous processed photoresists
SE7600431A SE7600431L (sv) 1974-10-04 1976-01-16 Polymer for fotoresist for behandling i vattenlosningar
DE2602410A DE2602410C2 (de) 1974-10-04 1976-01-23 Photopolymerisierbares Material
FR7602048A FR2339185B1 (fr) 1974-10-04 1976-01-26 Composition photoresistante
NL7600794.A NL160004C (nl) 1974-10-04 1976-01-27 Droge filmfotoresist.
GB3624/76A GB1521372A (en) 1974-10-04 1976-01-29 Photopolymerisable compositions for aqueous processed photoresists
BE163988A BE838135A (fr) 1974-10-04 1976-01-30 Polymeres pour masques photographiques developpes en milieu aqueux
JP994776A JPS5294388A (en) 1974-10-04 1976-01-31 Photopolymerizable composition and preparation thereof
DD191055A DD125491A5 (forum.php) 1974-10-04 1976-02-02
BR7601434A BR7601434A (pt) 1974-10-04 1976-03-10 Composicao fotopolimerizavel,laminado,processo para preparar um fotoprotetor e produto obtido pela exposicao da composicao fotopolimerizavel a luz actinica
JP59257283A JPS61134756A (ja) 1974-10-04 1984-12-05 フオトレジストの製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2602410A1 DE2602410A1 (de) 1977-07-28
DE2602410C2 true DE2602410C2 (de) 1985-11-21

Family

ID=27582848

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2602410A Expired DE2602410C2 (de) 1974-10-04 1976-01-23 Photopolymerisierbares Material

Country Status (10)

Country Link
JP (2) JPS5294388A (forum.php)
BE (1) BE838135A (forum.php)
BR (1) BR7601434A (forum.php)
DD (1) DD125491A5 (forum.php)
DE (1) DE2602410C2 (forum.php)
FR (1) FR2339185B1 (forum.php)
GB (1) GB1521372A (forum.php)
NL (1) NL160004C (forum.php)
SE (1) SE7600431L (forum.php)
ZA (1) ZA757984B (forum.php)

Families Citing this family (142)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4208211A (en) * 1978-05-23 1980-06-17 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Fabrication based on radiation sensitive resists and related products
DE3120052A1 (de) * 1981-05-20 1982-12-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
DE3223104A1 (de) * 1982-06-21 1983-12-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
EP0097864B1 (de) * 1982-06-21 1986-11-12 Hoechst Aktiengesellschaft Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
US4539286A (en) * 1983-06-06 1985-09-03 Dynachem Corporation Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
DD250593A1 (de) * 1984-04-03 1987-10-14 Wolfen Filmfab Veb Fotopolymerisierbares material
JPH0642073B2 (ja) * 1984-04-10 1994-06-01 三菱レイヨン株式会社 光重合性樹脂組成物
JPS638735A (ja) * 1986-06-30 1988-01-14 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd パタ−ン形成用感光性樹脂板
JPH0820735B2 (ja) * 1987-08-26 1996-03-04 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物
JPS6456442A (en) * 1987-08-27 1989-03-03 Okamoto Kagaku Kogyo Kk Production of printing plate
DE3805706A1 (de) * 1988-02-24 1989-09-07 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
JP2697738B2 (ja) * 1988-02-26 1998-01-14 マックダーミッド イメージング テクノロジー，インコーポレイテッド 光重合可能な組成物
JP2826330B2 (ja) * 1988-12-15 1998-11-18 ダイセル化学工業株式会社 光重合性組成物
JP2856746B2 (ja) * 1988-12-15 1999-02-10 ダイセル化学工業株式会社 光重合性組成物
JP2776522B2 (ja) * 1988-12-15 1998-07-16 ダイセル化学工業株式会社 光重合性組成物
JP2826329B2 (ja) * 1988-12-15 1998-11-18 ダイセル化学工業株式会社 光重合性組成物
DE3931467A1 (de) * 1989-09-21 1991-04-04 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch und verfahren zur herstellung einer loetstopmaske
JP2756623B2 (ja) * 1992-02-26 1998-05-25 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH07311462A (ja) 1994-05-16 1995-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物および画像形成方法
JPH08101498A (ja) 1994-08-03 1996-04-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および１，３−ジヒドロ−１−オキソ−２ｈ−インデン誘導体化合物
JP4137577B2 (ja) 2002-09-30 2008-08-20 富士フイルム株式会社 感光性組成物
JP2004126050A (ja) 2002-09-30 2004-04-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
DE60327141D1 (de) 2002-09-30 2009-05-28 Fujifilm Corp Polymerisierbare Zusammensetzung und Flachdruckplattenvorläufer
US8110337B2 (en) 2002-12-18 2012-02-07 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor
JP4150261B2 (ja) 2003-01-14 2008-09-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の製版方法
JP2004252201A (ja) 2003-02-20 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2004252285A (ja) 2003-02-21 2004-09-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4299639B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-22 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた画像記録材料
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2005099284A (ja) 2003-09-24 2005-04-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及び平版印刷版原版
JP2005227554A (ja) 2004-02-13 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
US7842440B2 (en) 2004-08-02 2010-11-30 Fujifilm Corporation Colored curable composition, color filter and manufacturing method thereof
JP2006065074A (ja) 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
EP1701213A3 (en) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
JP4406617B2 (ja) 2005-03-18 2010-02-03 富士フイルム株式会社 感光性組成物および平版印刷版原版
JP4538350B2 (ja) 2005-03-18 2010-09-08 富士フイルム株式会社 感光性組成物および画像記録材料並びに画像記録方法
US20060216646A1 (en) 2005-03-22 2006-09-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1790984B1 (en) 2005-11-25 2013-08-28 FUJIFILM Corporation A method for producing a biosensor having a covalently bound thin polymeric coat
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP4911455B2 (ja) 2006-09-27 2012-04-04 富士フイルム株式会社 光重合型感光性平版印刷版原版
JP4777226B2 (ja) 2006-12-07 2011-09-21 富士フイルム株式会社 画像記録材料、及び新規化合物
EP1935910A3 (en) 2006-12-19 2009-03-04 FUJIFILM Corporation Process for producing acrylonitrile-containing polymer latex
EP1959276B1 (en) 2007-02-14 2014-11-12 FUJIFILM Corporation Color Filter and Method of Manufacturing the same, and Solid-State Image Pickup Element
JP4855299B2 (ja) 2007-02-27 2012-01-18 富士フイルム株式会社 着色感光性組成物、カラーフィルター及びその製造方法
JP4860525B2 (ja) 2007-03-27 2012-01-25 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及び平版印刷版原版
JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2012-09-19 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ及びその製造方法
EP1975702B1 (en) 2007-03-29 2013-07-24 FUJIFILM Corporation Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
JP5075450B2 (ja) 2007-03-30 2012-11-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4992534B2 (ja) * 2007-04-27 2012-08-08 三菱化学株式会社 光重合性組成物
US8524425B2 (en) 2007-05-11 2013-09-03 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP5535063B2 (ja) 2007-05-11 2014-07-02 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア オキシムエステル光重合開始剤
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
CN102617445B (zh) 2007-07-17 2015-02-18 富士胶片株式会社 感光性组合物、可固化组合物、新化合物、可光聚合组合物、滤色器和平版印刷版原版
JP4777315B2 (ja) 2007-08-29 2011-09-21 富士フイルム株式会社 バイオセンサー用チップおよびその製造方法並びに表面プラズモン共鳴分析用センサー
EP2048539A1 (en) 2007-09-06 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
JP5247093B2 (ja) 2007-09-14 2013-07-24 富士フイルム株式会社 アゾ化合物、硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP2009091555A (ja) 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
US9442372B2 (en) 2007-09-26 2016-09-13 Fujifilm Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
ATE475906T1 (de) 2007-09-28 2010-08-15 Fujifilm Corp Negatives lichtempfindliches material und negativer planographischer druckplattenvorläufer
JP5448416B2 (ja) 2007-10-31 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、ならびに固体撮像素子
WO2009057523A1 (ja) 2007-11-01 2009-05-07 Fujifilm Corporation 顔料分散組成物、着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
EP2218519A4 (en) 2007-11-14 2012-03-21 Fujifilm Corp METHOD FOR DRYING A COATING FILM AND METHOD FOR PRODUCING A PRECURSOR FOR A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
JP2009145189A (ja) 2007-12-13 2009-07-02 Fujifilm Corp バイオセンサー
JP5068640B2 (ja) 2007-12-28 2012-11-07 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5052360B2 (ja) 2008-01-31 2012-10-17 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5147499B2 (ja) 2008-02-13 2013-02-20 富士フイルム株式会社 感光性着色組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
JP2009198664A (ja) 2008-02-20 2009-09-03 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその製造方法並びに固体撮像素子
JP5448352B2 (ja) 2008-03-10 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
KR101671249B1 (ko) 2008-03-17 2016-11-01 후지필름 가부시키가이샤 착색 감광성 조성물, 컬러필터, 액정표시소자, 및 고체촬상소자
JP5334624B2 (ja) 2008-03-17 2013-11-06 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
KR20090100262A (ko) 2008-03-18 2009-09-23 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5305704B2 (ja) 2008-03-24 2013-10-02 富士フイルム株式会社 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5422134B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像方法
JP5473239B2 (ja) 2008-03-25 2014-04-16 富士フイルム株式会社 金属フタロシアニン染料混合物、硬化性組成物、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法
JP5020871B2 (ja) 2008-03-25 2012-09-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法
JP2009236355A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Fujifilm Corp 乾燥方法及び装置
JP5535444B2 (ja) 2008-03-28 2014-07-02 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法
JP5173528B2 (ja) 2008-03-28 2013-04-03 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5137662B2 (ja) 2008-03-31 2013-02-06 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5528677B2 (ja) 2008-03-31 2014-06-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法
JP5155920B2 (ja) 2008-03-31 2013-03-06 富士フイルム株式会社 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター
KR101441998B1 (ko) 2008-04-25 2014-09-18 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5222624B2 (ja) 2008-05-12 2013-06-26 富士フイルム株式会社 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法
JP5248203B2 (ja) 2008-05-29 2013-07-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法
JP5228631B2 (ja) 2008-05-29 2013-07-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法
JP5171506B2 (ja) 2008-06-30 2013-03-27 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP2010044273A (ja) 2008-08-14 2010-02-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子
EP2320274A4 (en) 2008-08-22 2011-12-14 Fujifilm Corp METHOD FOR MANUFACTURING A LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
JP5171483B2 (ja) 2008-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2010097175A (ja) 2008-09-22 2010-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP2010102330A (ja) 2008-09-24 2010-05-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP5079653B2 (ja) 2008-09-29 2012-11-21 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5393092B2 (ja) 2008-09-30 2014-01-22 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
EP2204698B1 (en) 2009-01-06 2018-08-08 FUJIFILM Corporation Plate surface treatment agent for lithographic printing plate and method for treating lithographic printing plate
JP5669386B2 (ja) 2009-01-15 2015-02-12 富士フイルム株式会社 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版
JP5371824B2 (ja) 2009-02-19 2013-12-18 富士フイルム株式会社 分散組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物の製造方法、遮光性カラーフィルタの製造方法
JP2010198735A (ja) 2009-02-20 2010-09-09 Fujifilm Corp 光学部材及び該光学部材を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP2010197620A (ja) 2009-02-24 2010-09-09 Fujifilm Corp 平版印刷版原版の自動現像装置及び処理方法
JP5315267B2 (ja) 2009-03-26 2013-10-16 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、キノフタロン色素
JP5479163B2 (ja) 2009-03-31 2014-04-23 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5554106B2 (ja) 2009-03-31 2014-07-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置
JP5451235B2 (ja) 2009-07-31 2014-03-26 富士フイルム株式会社 複屈折パターンを有する物品の製造方法及び複屈折パターン作製材料
WO2011024896A1 (ja) 2009-08-27 2011-03-03 富士フイルム株式会社 ジクロロジケトピロロピロール顔料、これを含有する色材分散物およびその製造方法
JP5535814B2 (ja) 2009-09-14 2014-07-02 富士フイルム株式会社 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物
JP5657243B2 (ja) 2009-09-14 2015-01-21 ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド カラーフィルタ及び発光表示素子
JP2011068837A (ja) 2009-09-28 2011-04-07 Fujifilm Corp フタロシアニン化合物を含有する緑色顔料分散体
JP5501175B2 (ja) 2009-09-28 2014-05-21 富士フイルム株式会社 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5535842B2 (ja) 2009-09-30 2014-07-02 富士フイルム株式会社 ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP2012003225A (ja) 2010-01-27 2012-01-05 Fujifilm Corp ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法
KR20110098638A (ko) 2010-02-26 2011-09-01 후지필름 가부시키가이샤 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치
US8152863B2 (en) 2010-06-01 2012-04-10 Fujifilm Corporation Pigment dispersion composition, red colored composition, colored curable composition, color filter for a solid state imaging device and method for producing the same, and solid state imaging device
KR101831912B1 (ko) 2010-10-05 2018-02-26 바스프 에스이 벤조카르바졸 화합물의 옥심 에스테르 유도체 및 광중합성 조성물에서의 광개시제로서의 그의 용도
JP5417364B2 (ja) 2011-03-08 2014-02-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法
JP5514781B2 (ja) 2011-08-31 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法
CN103782241B (zh) 2011-09-15 2017-04-26 富士胶片株式会社 制版处理废液的再循环方法
BR112014010571A2 (pt) 2011-11-04 2017-06-13 Fujifilm Corporation Método para reciclagem de líquido residual proveniente de um processo para fabricação de placas para um precursor de placa de impressão planográfica
CN103998427A (zh) 2011-12-07 2014-08-20 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
JP5771738B2 (ja) 2012-02-23 2015-09-02 富士フイルム株式会社 発色性組成物、発色性硬化組成物、平版印刷版原版及び製版方法、並びに発色性化合物
CN105198793B (zh) 2012-05-09 2019-08-13 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
CN104619512A (zh) 2012-09-20 2015-05-13 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及制版方法
WO2014050435A1 (ja) 2012-09-26 2014-04-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
WO2014087900A1 (ja) 2012-12-03 2014-06-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用保持基板及びその製造方法、固体撮像装置
WO2014087901A1 (ja) 2012-12-03 2014-06-12 富士フイルム株式会社 Ｉｒカットフィルタ及びその製造方法、固体撮像装置、遮光膜の形成方法
JP5899371B2 (ja) 2013-02-27 2016-04-06 富士フイルム株式会社 赤外線感光性発色組成物、赤外線硬化性発色組成物、平版印刷版原版及び製版方法
JP6097128B2 (ja) 2013-04-12 2017-03-15 富士フイルム株式会社 遠赤外線遮光層形成用組成物
CN105358527B (zh) 2013-07-08 2018-09-25 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
JP6271594B2 (ja) 2014-01-31 2018-01-31 富士フイルム株式会社 赤外線感光性発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、赤外線感光性発色剤
KR102134138B1 (ko) 2016-03-14 2020-07-15 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 막, 경화막, 광학 센서 및 막의 제조 방법
KR102453516B1 (ko) 2018-03-13 2022-10-12 후지필름 가부시키가이샤 경화막의 제조 방법, 고체 촬상 소자의 제조 방법
CN112601912A (zh) 2018-09-07 2021-04-02 富士胶片株式会社 车辆用前照灯单元、前照灯用遮光膜、前照灯用遮光膜的制造方法
EP3950753A4 (en) 2019-03-29 2022-05-25 FUJIFILM Corporation COMPOSITION OF PHOTOSENSITIVE RESIN, HARDENED FILM, INDUCTOR AND ANTENNA
TWI851818B (zh) 2019-09-26 2024-08-11 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
WO2022059706A1 (ja) 2020-09-18 2022-03-24 富士フイルム株式会社 組成物、磁性粒子含有膜、及び、電子部品
EP4220669A4 (en) 2020-09-24 2024-03-20 FUJIFILM Corporation COMPOSITION, CURED PRODUCT CONTAINING MAGNETIC PARTICLES, SUBSTRATE INTRODUCED BY MAGNETIC PARTICLES AND ELECTRONIC MATERIAL

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3440047A (en) * 1964-08-10 1969-04-22 Gen Aniline & Film Corp Photopolymer offset printing plates of the etch type
US3796578A (en) * 1970-12-26 1974-03-12 Asahi Chemical Ind Photopolymerizable compositions and elements containing addition polymerizable polymeric compounds
US3887450A (en) * 1971-02-04 1975-06-03 Dynachem Corp Photopolymerizable compositions containing polymeric binding agents
ZA72345B (en) * 1971-02-04 1973-03-28 Dynachem Corp Polymerization compositions and processes
DE2363806B2 (de) * 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
JPS5425957A (en) * 1977-07-29 1979-02-27 Nippon Zeon Co Ltd Curable rubber composition having excellent resistance to rancid gasoline

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5425957B2 (forum.php) 1979-08-31
FR2339185A1 (fr) 1977-08-19
DD125491A5 (forum.php) 1977-04-20
NL160004B (nl) 1979-04-17
FR2339185B1 (fr) 1980-03-14
DE2602410A1 (de) 1977-07-28
NL160004C (nl) 1979-09-17
ZA757984B (en) 1976-12-29
JPH0359416B2 (forum.php) 1991-09-10
GB1521372A (en) 1978-08-16
BR7601434A (pt) 1977-09-06
JPS61134756A (ja) 1986-06-21
NL7600794A (nl) 1977-07-29
SE7600431L (sv) 1977-07-17
JPS5294388A (en) 1977-08-08
BE838135A (fr) 1976-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2602410C2 (de) Photopolymerisierbares Material
US4239849A (en) Polymers for aqueous processed photoresists
DE2602409A1 (de) Photopolymerisierbare masse und deren verwendung
DE2205146C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch, Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung einer Photomaske
CA1129237A (en) Photopolymerizable mixture including a polyurethane and a compound with at least two terminal acrylic or methacrylic acid ester groups
DE3136818C2 (de) Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches und eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Bildung einer Lötmaske
CA1213092A (en) Flexible, fast processing, photopolymerizable composition
EP0071789B2 (de) Für die Herstellung von Photoresistschichten geeignetes Schichtübertragungsmaterial
US4088498A (en) Photopolymerizable copying composition
DE3139909C3 (de) Verwendung eines lichtempfindlichen Gemisches und eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials zur Bildung einer Lötmaske
DE3779450T2 (de) Verfahren zur adhaesionsverbesserung bei photolack-laminierung und -verarbeitung.
EP0063304A2 (de) Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
DE69506982T3 (de) Flüssiger Photoresist
DE3028136C2 (forum.php)
US4248958A (en) Photopolymerizable mixture containing polyurethanes
DE2615055A1 (de) Lichtempfindliche beschichtungsmasse und laminiertes lichtempfindliches element fuer die herstellung einer resistschicht
EP0002805B1 (de) Photopolymerisierbare Überzugs- und Aufzeichnungsmaterialien, wie Photolackübertragungsfolien und Photoresistmaterialien, enthaltend einen Photoinitiator und eine organische Halogenverbindung
EP0141921A1 (de) Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Kopiermaterial
US4230790A (en) Photopolymerizable compositions useful in dry film photoresist
US4885229A (en) Photopolymerizable compositions
US4339527A (en) Process for using photopolymerizable compositions
EP0497819B1 (en) A release layer for an aqueous or semi-aqueous processible flexographic printing plate
JPH02161442A (ja) 光重合性組成物
DE3786099T2 (de) Durch ein Lösungsmittel entwickelbarer Photolack und Anwendung.
DE2628562A1 (de) Neue monomere fuer photopolymerisierbare stoffmischungen und ihre verwendung

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
8125 Change of the main classification

Ipc: G03C 1/68

8181 Inventor (new situation)

Free format text: LIPSON, MELVIN A. ZADOR, EUGENE, FULLERTON, CALIF., US

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition