JPH0642073B2 - 光重合性樹脂組成物 - Google Patents

光重合性樹脂組成物

Info

Publication number
JPH0642073B2
JPH0642073B2 JP59071348A JP7134884A JPH0642073B2 JP H0642073 B2 JPH0642073 B2 JP H0642073B2 JP 59071348 A JP59071348 A JP 59071348A JP 7134884 A JP7134884 A JP 7134884A JP H0642073 B2 JPH0642073 B2 JP H0642073B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
composition
resist
acrylate
binder resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59071348A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60214354A (ja
Inventor
広幸 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Rayon Co Ltd filed Critical Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority to JP59071348A priority Critical patent/JPH0642073B2/ja
Priority to CA000477889A priority patent/CA1236236A/en
Priority to US06/719,567 priority patent/US4692396A/en
Priority to DE19853512684 priority patent/DE3512684A1/de
Priority to KR1019850002376A priority patent/KR910008790B1/ko
Publication of JPS60214354A publication Critical patent/JPS60214354A/ja
Publication of JPH0642073B2 publication Critical patent/JPH0642073B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L29/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical; Compositions of hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Compositions of derivatives of such polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C09D4/06Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/111Polymer of unsaturated acid or ester

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は,特にプリント配線板用アルカリ現像型ドライ
フイルムレジストの形成に用いられる光重合性樹脂組成
物に関する。
〔従来技術〕
アルカリ現像型ドライフイルムレジストに用いられるバ
インダ樹脂は,アルカリ性希薄水溶液に対して可溶性も
しくは膨潤性で,かつ水に対して不溶性でなくてはなら
ない。かかるバインダ樹脂としては,従来カルボン酸基
含有のビニル付加重合体が用いられている。特に,市販
のアルカリ現像型レジストでは,共重合成分としてカル
ボン酸基含有量が現像して微細パターンを解像できる必
要最少量になつており、さらにまたカルボン酸基含有の
ビニル単量体の他の共重合成分の選択により,バインダ
樹脂としてのアルカリ水溶液に対する溶解性も低く設計
されている。このようなレジストは,露光後の剥離工程
においてアルカリ水溶液単独の剥離液に浸漬すると,硬
化レジストは膨潤し,小片になることなくパターンの形
態を保持したまま剥離される。このため剥離物が剥離機
中の搬送ロールに巻きついたり,オーバーハングしたメ
ツキの下部にはさまれた硬化レジストが剥離しにくい等
の問題があつた。
このため,剥離液として,例えば5%水酸化ナトリウム
水溶液にブチルセロソルブ等の有機溶剤を添加したもの
を用い,硬化レジストを一部溶解して剥離している。
このような剥離工程を用いると,薬剤コストが上がり,
それがプリント配線板製造のコストアツプの原因となつ
ている。
〔発明の目的〕
本発明の目的は,上述のような従来技術の問題を克服し
て,アルカリ水溶液単独で現像が可能であり,かつ剥離
時には,アルカリ水溶液単独で,従来の溶剤現像型レジ
ストと同様な,剥離片が細かく割れる破砕剥離を起こ
す,オールアルカリ型ドライフイルムレジストを製造す
ることができる光重合性樹脂組成物を提供することにあ
る。
〔発明の構成〕
(A)メタクリル酸メチル、アクリル酸メチルおよびメ
タクリル酸の共重合体よりなり、共重合体中にアクリル
酸メチル単位の含有量が2〜70重量%およびメタクリ
酸単位の含有量が20〜50重量%である、重量平均分
子量40000〜200000のバインダ樹脂、 (B)分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和基を
有する架橋性単量体、および (C)光重合開始剤 からなり、(A)成分と(B)成分の配合比が重量比で
2/3〜9/1である光重合性樹脂組成物にある。
本発明の組成物を構成するバインダ樹脂は,メタクリ酸
メチル,アクリル酸メチルおよびアクリル酸よりなる単
量体混合物を重合させて得た共重合体よりなる。共重合
体中のメタクリル酸単位の含有量は20〜50重量%の
範囲のものを用いることが望ましい。メタクリル酸単位
の含有量が20重量%未満のバインダ樹脂を用いると硬
化レジストが剥離時に膨潤剥離し,また50重量%を越
えると現像時間が極めて短くなり,高解像度パターンを
得る際の現像コントロールが困難となり,また硬化部の
耐水性も低下する。また共重合体中のアクリル酸メチル
単位の含有量は2〜70重量%,特に5〜60重量%の
範囲のものを用いることが望ましい。アクリル酸メチル
単量体単位の含有量が2重量%未満では,酸化レジスト
になつた時フイルムが硬くなり剥離をおこしやすくな
る。また70重量%を越えると現像時間が短くなり,高
解像度パターンを得る現像コントロールが困難となる。
本発明において使用するバインダ樹脂の重量平均分子量
は40,000〜200,000の範囲のものである。
重量平均分子量が40,000未満の場合は,ドライフ
イルムレジストとしてロールに巻き,保存した時に,レ
ジスト組成物が支持フイルムの間から経時的ににじみ出
る,いわゆるコールドフロー現象を起こし,また重量平
均分子量が200,000を越える場合は,未露光部が
溶解せず,現像できないか,または現像時間が極めて長
くかかり,解像度の低下を起こしたり剥離時に破砕剥離
を起こさなくなる。
本発明の組成物を構成する分子中に少なくとも2個のエ
チレン性不飽和基を有する架橋性単量体としては,例え
ばポリエチレングリコ−ルジ(メタ)アクリレート,プ
ロピレングリコ−ルジ(メタ)アクリレート,1,3−ブ
タンジオ−ルジ(メタ)アクリレート,1,4−ブタンジ
オ−ルジ(メタ)アクリレート,ネオペンチルグリコ−
ルジ(メタ)アクリレート,1,6−ヘキサンジオ−ルジ
(メタ)アクリレート,トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート,ペンタエリスリト−ルジ(メ
タ)アクリレート,ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート,ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート等のポリエステル(メタ)アクリレートの他
にエポキシ(メタ)アクリレート,ウレタン(メタ)ア
クリレート等が挙げられる。これらは単独または2種以
上混合して用いられる。
バインダ樹脂/架橋性単量体の配合比(重量)は2/3〜
9の範囲とすることができる。配合比が2/3未満では,
組成物を均一に塗布できなかつたり,乾燥後レジスト層
でマイグレーシヨンを起こしたり,コールドフロー現象
をひき起こす。一方,9を越えるとレジスト露光部が現
像液で急速に溶解し現像が不可能となる。
本発明の組成物を構成する光重合開始剤としては,例え
ばベンゾイン,ベンゾインアルキルエーテル類,ベンゾ
フエノン,ミヒラーズケトン,4,4′−ビス(ジエチル
アミノ)ベンゾフエノン,アセトフエノン類,ベンジル
ケタール類,アントラキノン類,チオキサントン類等が
挙げられる。これらは単独または混合して使用される。
光重合開始剤の使用量は組成物中の固型分の0.1〜2重
量%の範囲であることが望ましい。
本発明の組成物は、希釈溶剤の不存在でも使用可能であ
るが,バインダ樹脂を溶解させ,かつ沸点のあまり高く
ない溶剤,例えばメチルエチルケトン,塩化メチレン,
塩化メチレン,塩化メチレン/メチルアルコール混合
物,イソプロピルアルコールまたはイソプロピルアルコ
ール主成分量とする他の溶剤との混合物等を使用するこ
とが望ましい。溶剤の使用量は,組成物に対して200
重量%以下,好ましくは100〜200重量%である。
本発明の組成物を溶剤の存在下で使用する場合には,組
成物に溶剤を添加混合するか,バインダ樹脂を製造する
際,前記の溶剤を用いて溶液重合させるか、あるいはそ
れに溶剤をさらに追加添加する方法等が採用できる。溶
液重合のバインダ樹脂を使用する場合には,溶剤として
イソプロピルアルコールあるいはイソプロピルアルコー
ル80重量%以上と20重量%以下の塩化メチレン,メ
チルエチルケトン等との混合溶剤が好ましい。
本発明の組成物は,必要に応じて密着促進剤,熱重合禁
止剤,染料,可塑剤および充填剤のような成分を添加す
ることもできる。
本発明の組成物を用いてドライフイルムレジストを形成
させるには,組成物を支持体上に塗布し、溶剤を使用す
る場合にはその溶剤を飛散させる。組成物を支持体に塗
布するには,プレードコータ,ロツドコータ,ナイフコ
ータ,ロールドクターコータ,コンマコータ,リバース
ロールコータ,トランスフアロールコータ,グレビアコ
ータ,キスロールコータ,カーテンコータ等を用いるこ
とができる。これらの選択は塗工重量,塗布液粘度,塗
工速度等によつて決められる。支持体としてはポリエス
テル等のプラスチツクフイルムが主に用いられる。乾燥
機としては、可燃性溶剤を使用する場合には,安全性か
ら蒸気による空気加熱式の熱源を備えたものを用い,乾
燥機内の熱風を向流接触せしめる方式およびノズルより
支持体に吹きつける方式等が用いられる。乾燥機の形状
はアーチ式,フラツト式等目的にあわせて選択して用い
られる。
乾燥後のドライフイルムには必要ならば,ポリエチレン
やポリプロプレンのような保護フイルムをラミネートし
て用いても良い。
以上のようにして製造したドライフイルムレジストは,
エツチング用レジストまたはプレーテイング用レジスト
としても,保存性,作業性,工程通過性能に優れ高解像
度パターンが得られる。
〔発明の効果〕
本発明の光重合性組成物から作られたドライフイルムレ
ジストは,剥離工程をアルカリ性水溶液単独で行なうこ
とができ,このため,従来剥離片を一部溶解するために
ブチルセロソルブ等の溶剤をアルカリ水溶液に添加して
行なつていたため起こるプリントサーキツト板生産コス
トの上昇を皆無にすることができる。
〔実施例〕
以下,実施例について本発明を具体的に説明する。
実施例1〜8,比較例1〜4 窒素導入口,攪拌機,コンデンサ,温度計,を備えた1
000mlの4つ口フラスコに,窒素雰囲気下でイソプロ
ピルアルコール200gおよび表1に示すような組成の
単量体200gを入れ,攪拌しながら湯浴の温度を80
℃に挙げる。次いでアゾビスイソブチロニトリル1.0g
を,10gのイソプロピルアルコールに溶解して添加
し,4時間重合した。次いで1.0gのアゾビスイソブチ
ロニトリルを,10gのイソプロピルアルコールに溶解
し,これを30分置きに5回に分けて添加した後,フラ
スコ内温をイソプロピルアルコールの沸点まで上昇させ
てその温度で2時間重合させた。重合終了後,イソプロ
ピルアルコール100gを添加して重合反応物をフラス
コより取り出して,バインダ樹脂溶液を調製した。な
お,各組成における単量体混合物の重合率はいずれも9
9.5%以上であつた。
次にこれらのバインダ樹脂溶液を用いて下記の組成を有
する光重合性樹脂組成物を調合した。
バインダ樹脂溶液 228 重量部トリメチロ -ルプロパントリアクリレ-ト 50 〃 テトラエチレングリコ -ルジアクリレ-ト 20 〃 ベンゾフエノン 1.0 〃 ミヒラーズケトン 0.2 〃 トリルトリアゾール 0.4 〃 メチレンブルー 0.75 〃 この調合した組成物をプロペラ型ミキサーで攪拌し,ブ
レードコータにより厚さ25μm,幅360mmのポリエ
ステルフイルム上に塗工幅340mmに塗布した。次いで
幅400mm,高さ100mm,長さ8mのクラツト型乾燥
機中を向流にして熱風を送り込み,乾燥塗工厚さを50
μmとした。この時の塗工速度は5m/分,乾燥機内風
速を3m/分,熱風温度を90℃とした。次いでその乾
燥塗膜上に,厚さ35μmのポリエチレン製保護フイル
ムをラミネートして,その後ロールに巻き取つた。得ら
れたドライフイルムレジストは,保護フイルムを剥離し
ながら塗布膜面を銅張積層板に熱ラミネートし,銅張積
層板の温度が室温に戻つた後,ポリエステルフイルム面
にフオトツールを密着して超高圧水銀灯で露光した。フ
オトツールは50μm,60μm,80μm,100μ
m幅のライアンドスペイスパターンを用いた。また,超
高圧水銀灯はウシオ電機USH−102Dを用い,100mJ/
cm2照射した。この際の露光強度はウシオ電機紫外線強
度計UIT−100に受光器UVD−365を取りつけて測定し,5
mw/cm2とした。露光後20分放置して支持フイルムを
剥離して,1%炭酸ナトリウム水溶液で現像した。現像
は液温30℃,スプレー圧1.4kg/cm2とし,スプレーと
基板の距離を10cmとして行なつた。次いで中性洗剤水
溶液に室温で約1分間浸漬し,脱脂後オーバーフロータ
ンクでスプレー水洗を約1分間行ない,その後約20%
の過硫酸アンモニウム水溶液中に1分間浸漬した。再び
スプレー水洗洗浄を約1分間行なつた後,約15%の硫
酸水溶液に1分間浸漬し,再びスプレー水洗を1分間行
なつた。次いで硫酸銅メツキ槽に入れて75分間,2.3
A/dm2でメツキを行なつた。この時の温度は22℃で
行なつた。メツキ終了後直ちに水洗し,15%硼弗酸水
溶液に浸漬し、次いで18分間1.8A/dm2,22℃でハ
イスローハンダメツキを行なつた。
ハンダメツキ液の配合は次の通りである。
錫 15 g/ 鉛 10 g/ 遊離硼弗酸 400 g/ 遊離硼酸 21.6g/ ペプトン 5.2g/ メツキ終了後,水洗を行ない,その後乾燥した。ドライ
フイルムの現像性と耐メツキ性を表1に示した。
ハンダメツキ後のサンプルを用い,5%水酸化ナトリウ
ム水溶液でレジスト剥離した。剥離は55℃に剥離液を
調整し,スプレー圧1.0kg/cm2としてスプレーと基
板の距離を10cmとして行なつた。
この時の剥離状態を目視で観察した。その結果も表1に
示した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)メタクリル酸メチル、アクリル酸メ
    チルおよびメタクリル酸の共重合体よりなり、共重合体
    中にアクリル酸メチル単位の含有量が2〜70重量%お
    よびメタクリル酸単位の含有量が20〜50重量%であ
    る、重量平均分子量40000〜200000のバイン
    ダ樹脂、 (B)分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和基を
    有する架橋性単量体、および (C)光重合開始剤 からなり、(A)成分と(B)成分の配合比が重量比で
    2/3〜9/1である光重合性樹脂組成物。
JP59071348A 1984-04-10 1984-04-10 光重合性樹脂組成物 Expired - Lifetime JPH0642073B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59071348A JPH0642073B2 (ja) 1984-04-10 1984-04-10 光重合性樹脂組成物
CA000477889A CA1236236A (en) 1984-04-10 1985-03-29 Photopolymerizable resin composition
US06/719,567 US4692396A (en) 1984-04-10 1985-04-03 Photopolymerizable resin composition for producing aqueous-development type dry film resists
DE19853512684 DE3512684A1 (de) 1984-04-10 1985-04-09 Photopolymerisierbare harzmasse und verfahren zu ihrer herstellung
KR1019850002376A KR910008790B1 (ko) 1984-04-10 1985-04-09 광중합성 수지 조성물 및 그의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59071348A JPH0642073B2 (ja) 1984-04-10 1984-04-10 光重合性樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60214354A JPS60214354A (ja) 1985-10-26
JPH0642073B2 true JPH0642073B2 (ja) 1994-06-01

Family

ID=13457898

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59071348A Expired - Lifetime JPH0642073B2 (ja) 1984-04-10 1984-04-10 光重合性樹脂組成物

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4692396A (ja)
JP (1) JPH0642073B2 (ja)
KR (1) KR910008790B1 (ja)
CA (1) CA1236236A (ja)
DE (1) DE3512684A1 (ja)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6318692A (ja) * 1986-07-11 1988-01-26 日立化成工業株式会社 印刷配線板の製造方法
JP2546871B2 (ja) * 1988-01-12 1996-10-23 三菱化学株式会社 金属光沢を有する樹脂積層体およびその製造方法
US5182187A (en) * 1988-02-24 1993-01-26 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-polymerizable composition and recording material prepared from this composition
DE3805706A1 (de) * 1988-02-24 1989-09-07 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
EP0372944A3 (en) * 1988-12-07 1991-05-22 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Photopolymerizable resin composition and gold plating method using same
DE3923023A1 (de) * 1989-07-12 1991-01-24 Siemens Ag Uv-haertbarer klebstoff fuer ein halbleiterchipmontageverfahren
US5047313A (en) * 1989-08-21 1991-09-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive semi-aqueous developable copper conductor composition
US5032490A (en) * 1989-08-21 1991-07-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive aqueous developable copper conductor composition
DE4023240A1 (de) * 1990-07-21 1992-01-23 Basf Ag Modifizierte emulsionspolymerisate insbesondere fuer in wasser und waessrigen loesungsmitteln entwickelbare photopolymerisierbare aufzeichnungsmaterialien
DE4102627A1 (de) * 1991-01-30 1992-08-06 Bayer Ag Verfahren zur herstellung vernetzter dentalformkoerper
GB9105561D0 (en) * 1991-03-15 1991-05-01 Coates Brothers Plc Image formation
CA2076727A1 (en) * 1991-08-30 1993-03-01 Richard T. Mayes Alkaline-etch resistant dry film photoresist
TW229350B (ja) * 1992-08-28 1994-09-01 Hitachi Seisakusyo Kk
US5741621A (en) * 1994-01-10 1998-04-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for using photoimageable films prepared for aqueous photoimageable liquid emulsions
DE9414066U1 (de) * 1994-08-31 1994-11-03 Roehm Gmbh Überzugs- und Bindemittel für Arzneiformen sowie damit hergestellte Arzneiform
CA2158915A1 (en) 1994-09-30 1996-03-31 Dekai Loo Liquid photoimageable resist
JPH08328251A (ja) * 1995-03-31 1996-12-13 W R Grace & Co 水性感光性樹脂組成物
KR100493961B1 (ko) * 1999-08-17 2005-06-10 주식회사 엘지화학 감광성 수지 조성물
US6455231B1 (en) * 1999-11-03 2002-09-24 Shipley Company, L.L.C. Dry film photoimageable compositions
DE60334552D1 (de) * 2002-07-31 2010-11-25 Mitsui Chemicals Inc (meth)acrylcopolymerharz und lackfilm daraus
KR100611446B1 (ko) * 2004-05-18 2006-08-10 제일모직주식회사 수성 현상가능한 감광성 코팅액 조성물의 제조방법
US7700264B2 (en) 2005-10-31 2010-04-20 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive resin composition, image forming material and image forming method using thereof
JP5448352B2 (ja) 2008-03-10 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP5528677B2 (ja) 2008-03-31 2014-06-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法
US8263677B2 (en) * 2009-09-08 2012-09-11 Creative Nail Design, Inc. Removable color gel basecoat for artificial nail coatings and methods therefore
US8492454B2 (en) 2009-10-05 2013-07-23 Creative Nail Design, Inc. Removable color layer for artificial nail coatings and methods therefore
US8541482B2 (en) 2009-10-05 2013-09-24 Creative Nail Design, Inc. Removable multilayer nail coating system and methods therefore
WO2011111802A1 (ja) * 2010-03-11 2011-09-15 株式会社クラレ 架橋性組成物、架橋物及びその製造方法、多層構造体、架橋剤、並びに化合物及びその製造方法
KR20140016315A (ko) 2011-03-07 2014-02-07 크리에이티브 네일 디자인 인코포레이티드 Uv-경화성 미용 손톱 코팅제를 위한 조성물 및 방법
EP2960691B1 (en) 2013-02-19 2017-09-27 Fujifilm Corporation Near-infrared absorbing composition, near-infrared blocking filter, method for producing near-infrared blocking filter, camera module and method for manufacturing camera module
RU2551660C1 (ru) * 2014-03-25 2015-05-27 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ) Фотополимеризующаяся композиция

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1572153B2 (de) * 1966-06-27 1971-07-22 E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
DE2064080C3 (de) * 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US3833384A (en) * 1972-04-26 1974-09-03 Eastman Kodak Co Photopolymerizable compositions and elements and uses thereof
JPS5034966B2 (ja) * 1972-07-24 1975-11-12
JPS514487B2 (ja) * 1972-09-05 1976-02-12
JPS5310529B2 (ja) * 1972-09-05 1978-04-14
ZA757984B (en) * 1974-10-04 1976-12-29 Dynachem Corp Polymers for aqueous processed photoresists
CA1127340A (en) * 1977-12-30 1982-07-06 Kohtaro Nagasawa Photocurable light-sensitive composition and material
JPS5888741A (ja) * 1981-11-20 1983-05-26 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体
JPH0614185B2 (ja) * 1984-04-02 1994-02-23 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60214354A (ja) 1985-10-26
US4692396A (en) 1987-09-08
CA1236236A (en) 1988-05-03
KR850007450A (ko) 1985-12-04
DE3512684A1 (de) 1985-10-17
KR910008790B1 (ko) 1991-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0642073B2 (ja) 光重合性樹脂組成物
KR970009609B1 (ko) 가교 경화형 수지 조성물
JP2007286477A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びプリント配線板の製造方法
JP2963772B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JPH047499B2 (ja)
JPH0336422B2 (ja)
JP2622976B2 (ja) レジストパターン形成法
JP2719799B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP4147920B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP2788921B2 (ja) 放射重合可能な組成物および感放射線性記録材料
JP2818768B2 (ja) 架橋硬化型樹脂組成物
JPH0756334A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP2821547B2 (ja) 架橋硬化型樹脂組成物
JP3173191B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JP2905622B2 (ja) 架橋硬化型樹脂組成物
JP3944971B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
JPS6080843A (ja) 光重合性樹脂組成物
JPH10111573A (ja) 新規な感光性樹脂積層体
US5182187A (en) Radiation-polymerizable composition and recording material prepared from this composition
JPH03116148A (ja) プリント配線板の製造方法
JPH09265180A (ja) 金属加工用感光性樹脂組成物積層体
JPH04198207A (ja) 架橋硬化型樹脂組成物
JPS60230135A (ja) 光重合性樹脂組成物
JPH03122647A (ja) 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性フイルム
JPH02154264A (ja) 光重合性樹脂組成物