JPS5888741A - 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体 - Google Patents

感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体

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JPS5888741A
JPS5888741A JP56187333A JP18733381A JPS5888741A JP S5888741 A JPS5888741 A JP S5888741A JP 56187333 A JP56187333 A JP 56187333A JP 18733381 A JP18733381 A JP 18733381A JP S5888741 A JPS5888741 A JP S5888741A
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resin composition
formula
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JP56187333A
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Hajime Kakumaru
肇 角丸
Nobuyuki Hayashi
信行 林
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体
に関し、更に詳しくはアルカリ性水溶液によって現像可
能な感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物i層体に関
する。
5− 感光性樹脂組成物から形成されるフォトレジストは、印
刷配線板を製造する際などに使用されている。これら感
光性樹脂組成物d1.従来。
印刷配線板用基板(以下単に基板と言う)に溶剤を含有
した液体皮膜として塗布され次いで。
加熱乾燥によって含有溶剤が除かれ乾燥皮膜とされ、そ
の後活性光に画像的に露光され現像されてフォトレジス
ト像とされる。
しかし近年、その低作業性、大気汚染性、低歩留りを改
善するためにフレキシブルな3層積ノ一体、即ち、支持
フィルム層、乾燥された感光性樹脂組成物層(以下単に
感光層と言う)、保膿フィルム層からなる感光性樹脂組
成物積層体(以下単に感光性フィルムと言う)が用いら
れるようになってきた。感光性樹脂組成物としては、未
露光部がアルカリ水溶液によって除去(現像)される所
謂アルカリ現像型と有機溶剤によって除去(現像)され
る所謂溶剤現像型の両者が知られている。
アルカリ現像型感光性フィルムの使用方法は6− 感光性フィルムから保護フィルム層を取り除いて感光層
と支持フィルム層の2層からなる積層体にした後その感
光層が基板に接するように加熱圧着(ラミネート)する
。次いでネガフィルム等を用いて画像的に露光を行なっ
た後、アルカリ水溶液を用いて未露光部を除去(現像)
シフフォトレジスト像を形成する。この形成されたフォ
トレジスト像をマスクとして基板の金属表面をエツチン
グあるいはメッキによる処理を行ない次いでフォトレジ
スト像を現像液よりは更に強アルカリ性の水溶液を用い
て剥離し、印刷配線板等が製造される。
上記工程中、基板の金属表面のエツチングあるいはメッ
キによる処理に対してフォトレジスト像は、マスクとし
て十分な耐性を有していなければならないことは、当然
なことである。エツチング処理は、塩什第二鉄、塩化第
二銅、過硫酸アンモニウムなどの水溶液を用いて基板の
表面層をなしている金属(通常は銅)を除去する工程で
ある。またメッキ処理に用いるメッキ液の種類は数多く
あるが、アルカリ現像型感光性フィルムの場合、用いら
れるメッキ液は通常酸性メッキ液である。半田メッキあ
るいは硫酸鋼メッキと半田メッキの組み合わせを用いて
フォトレジスト像でマスクされていない金属表面がメッ
キされる。
メッキは、いずれも高濃度な薬品溶液中で電流を流すの
で、エツチング処理と比較して、かなりきびしい処理と
いえる。
この種の゛rアルカリ現像型感光性フィルム。
特開昭52−94388号公報、特開昭52−1307
01号公報9%開昭53−128688号公報、特開昭
50−147323号公報等に開示されている。しかし
ながら、これら従来のアルカリ現像型感光性フィルムか
ら得られるフォトレジスト像は耐電気メッキ性が十分で
ないという欠点があった。即ち、硫酸鋼メッキ液及びホ
ウフッ化水素酸の濃度が低い半田メッキ液での電気メッ
キには耐え得るが、ホウフッ化水素酸の濃度が3507
/6を越える一般用半田メツキ液に対しては耐性が乏し
く、そのような半田メッキによりレジスト膜のはがれ、
持ち上り、半田メッキのもぐり(レジストの下に半田メ
ッキが併用する現像)が発生する。ホウフッ化水素酸の
濃度は、最も一般的と言える半田メッキ液の場合、35
01/−/l〜500 f−/lの範囲で使用され、そ
のような範囲内において粒子の密な共晶ハンダを得るた
めの液を安定に管理できるとされている。
我々は、このような従来の問題点を改善するために鋭意
研究の結果、優れた耐メッキ性、耐エツチング液性、耐
薬品性を有し、かつ、その他アルカリ現像型感光性フィ
ルムの特性(例えば基板とのラミネート性、現像性)を
満足する感光性樹脂組成物を見い出し9本発明に至った
本発明によって耐メッキ性が優れ、かつ、耐エツチング
液性、耐薬品性、基板との良好なラミネート性、良好な
現像性を有するアルカリ現像型感光性フィルムを提供す
るものである。
即ち9本発明は 〜9− fal  下記式〔I〕で示される附加重合性物質(式
中、 Ru 、 R2、R3及び几4はHまたはCHa
であり、これらは同一であっても相異してもよ<、n及
びmld n 十m == 8〜12になるような正の
整数である) (b)  下記式〔■〕で示される附加重合性物質(式
中Zは環式二塩基酸残基、R1は炭素数110− 〜3のアルキレン基、 R”は水素原子またはメ筐たは
CHzX 、 Xは塩素原子4臭素原子である)fc)
  光重合開始剤              1(d
)  カルボキシル基含有量が17〜50モル係吸水率
が4〜30重量係9重蓋平均分子鈑3万〜40万の線状
共重合体 を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。
さらに9本発明は、感光性樹脂組成物ノーの少なくとも
、一方の面に重合体フィルムを積層して成る感光性樹脂
組成物積層体において該感光性樹脂組成物層が (a)  下記式〔■〕で示される附加重合性物質(式
中+ R+ 、 Rz 、 R3及びR4けHまたはC
H3であり、これらは同一であっても相異してもよ(、
n及びmはn 十m ”’ 8〜12になるような正の
整数である) (bl  下記式(1)で示される附加重合性物質0R
2 II          II   111 0        0H (式中Zは環式二塩基酸残基、R1は炭素数1〜3のア
ルキレン&J2は水素原子またはメたけCH2X、 X
は塩素原子、臭素原子である)(C1光重合開始剤 (d)カルホキシル基含有tが17〜50モル係。
吸水率が4〜30重量係9重量平均分子量が3万〜40
万の線状共重合体 を含有する感光性樹脂組成物層である感光性樹脂組成物
積層体に関する。
本発明の感光層には9式CDで示される附加重合性物質
が含有される。
式CDで示きれる附加重合性物質としては。
2.2ビス(4−メタクリロキシペンタエトキシフェニ
ル)プロパン、2.2ビス(4−アクリロキシヘンタエ
トキシフェニル)プロパン、2.2ビス(4−メタクリ
ロキシテトラエトキシフェニル)プロパン等がらり、市
販品としては例えばBPE−10(新中村化学工業株式
会社製商品名)がある。
式〔I〕で示される附加重合性物質は、単一の化合物と
して用いてもよいが、2榴以上の化合物の混合物として
使用してもよい、、n−1−mが7以下の場合は、カル
ボキシル基含有線状共重合体との相溶性が低下し、基板
に感光性フィルムをラミネートした際はがれ易い。また
n十mが13以上の場合は、系の親水性が増加し、現像
時においてレジスト像がはがれやすく、また耐示 半田メッキ性も低下する。式[11)で券ワ屯れる化合
物は、特許出願昭48−109233号中に提案された
方法の中間体として容易に製造さ13− れ例えば、環式二塩基酸無水物から下式で表わされる反
応によって容易に製造される(式中Z。
几1.几’ I R”は式(II)で定義したものと同
一でろる)。
式(a) 1 1 式[b) 14− 00R9 II          II   111 0        0H 環式二塩基酸無水物の例としては、コハク酸無水物、無
水7タル酸、無水へキサヒドロフタル酸、無水テトラヒ
ドロフタル酸、無水ハイミック酸(日立化成工業# 3
.6−ニンドメチレン1゜2、3.6− Tトラヒドロ
無水フタル酸の商品名)。
無水メチルハイミック酸(日立化成工業製3,6エンド
メチレン1.2.3.6−チトラヒトロメチル無水フタ
ル酸の商品名)等を挙げることができる。式[11]で
示される化合物のうち特に好ましい化合物としては1式
Cu1l)で示されるβ′−アクリロイルオキシエチル
−γ−クロルーβ−ヒドロキシプ【スピル−0−フタレ
ートがあげられる。
H II 1 H 附加重合性物質の中にけ式Cl、)及び式[11)で示
される附〃11重合性物質以外の附加重合性物質を含有
しても良い。式(1,)及び式〔■〕で示される附加重
合性物質以外の附〃11重合性物質としては。
末端エチレン性不飽和基を少なくとも1個有する液状剛
力1重合性物質であれば良く、その例としては、多価ア
ルコールにα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られ
るもの9例えば、テトラエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート(アクリレート又はメタクリレートを示す
。以下同じ)、ポリエチレンクリコールシ<ytり)ア
クリレート(エチレン基の数が2〜]4のもの)、トリ
メチロールプロパンジ(メタ)アジリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチ
ロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロ
ールメタントリシ(メタ)アクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジ(メタ)アク+7レート(プロピレン基
の数が2〜14のもの)、ジペンタエリスリトールペン
タ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サ(メタ)アクリレート、式〔I〕で示される附加重合
性物質でn十m=2〜7の化合物、グリシジル基含有化
合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られるも
の9例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエ
ーテルトリアクリレート、ビスフェノールAジグリシジ
ルエーテルジアクリレート等、多価カルボン酸2例えば
無水フタル酸等と水酸基及びエチレン性不飽和基を有す
る物質。
例えばβ−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等と
のエステル化物などがある。
式[1]及び式〔lDで示される附加重合性物質及びそ
れ以外の附加重合性物質を合わせた附加重合性物質の全
l゛は30〜60重量部が好ましく、よシ好ましくは4
0〜50重量部で必る。
30重量部未満の場合は感光層は可とう件に乏しくラミ
ネート時に基板からはがれやすい。また60重量部よシ
多い場合は感光層は軟化しロール状に巻き取って保存す
る間にコールドフローを起こす。附加重合性物質を30
〜60重量17一 部としたときに式[Dで示される附加重合性物質の景を
25〜35重緻部の範囲とすることが好ましい。25〜
35重崖部の範囲内としたときに、附硫酸銅メッキ性、
附半田メッギ性が十分となり、解像度およびレジスト像
の密着性が置くなる。
式[I[)で示される剛力[1重合性物質の量は、5〜
15直蓋部の範囲とすることが好ましく、より好1しく
け7〜13重景部の範囲とされる。
5〜15重景部の範囲としたときに解像度9%に現像時
及び現像後におけるレジスト像の密着性、光感度、現像
性および耐メッキ性が^くなる。本発明における感光層
に含有される光重合開始剤は、200℃以下の温度では
熱的に活性イヒしない物質で、活性光線1例えば紫外線
などニヨリ活性化する物質が推奨される。これらの物質
としては、置換または非置換の多核キノン類があり9例
えば2−エチルアントラキノン。
2− tert−ブチルアントラキノン、オクタメチル
アントラキノン、1.2−ペンズアントラギノ=18= ン、ス3−ベンズアントラキノン、2−フェニルアント
ラキノン、2.3−ジフェニルアントラキノン、1−ク
ロロアントラキノン、2−クロロ−アントラキノン、2
−メチルアントラキノン。
1.4−す7タキノン、9.10−7エナントラキノン
、2−メチル−1,4−ブー7タキノン、213=ジク
ロ口ナフタキノン、1,4−ジメチルアントラキノン、
2,3−ジメチルアントラキノン。
3−クロロ−2−メチルアントラキノン、7,8゜9、
IO−テトラヒドロフタセンキノンなどがろる。その他
の芳香族ケトン、例えば、ベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン[4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノ
ン)、4.4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ
ン、4〜メトキシ−47−シメチルアミノベンゾフエノ
ンなどがある。他ニヘンソイン、ベンゾインエーテル、
例エハベンソインメチルエーテル、ベンツインエチルエ
ーテル、ベンゾインフェニルエーテル。
メチルベンゾイン、エチルベンゾインなどがある。更に
2,4.5−トリアリールイミダゾール二刊体と2−メ
ルカブトベンン゛キャソ゛−ル、ロイコクリスタルハイ
オレッl−,)IJス(4−ジエチルアミノ−2−メチ
ルフェニル)メタンなどとの組み合わせも使用できる。
感光層に含扁される光重合開始剤の量は、05〜10.
0重”縫部かり子まし7く、よりα子菫しくけ1.0〜
5.0単奮部である。0.5重拓部未満の場合は、感光
層に活性光線を照射して硬化させる際、硬化が十分に進
行せず、耐性の乏しいフォトレジストを生成する。10
.0重句一部より多い場合は、感光ノーの活性光線に対
する感度が畠すぎるために、解像度が低下したり、安定
性が低下17たりする欠点を生じる。 ゛ 本発明になる感光層には、カルボキシルミー有量が17
〜50モル係、吸水率が40〜30重量係、市量平均分
子−l−が3万〜4o万の線状共重合体が存在すること
が必要である。本発明におけるフォトレジスト像の電気
メッキへの優れた酬件及びメッキ前処理液などに対する
耐性。
史には基板との密着性、現像性などの一般特性は、附加
重合性物質と線状共重合体の双方によって達成されるも
のである。
線状共重合体は2種または3糧以−ヒの単量体を重合さ
せることによって得られ、単量体は大きく二つに区分さ
れる。第1の単量体は、該線状共重合体に現像性を付与
するものであり、不飽和基を1個有するカルボン酸、も
しくは酸無水物である。例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、グロビオール
酸、イタコン酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレ
イン酸半エステルなどが用いられる。他に使用すべき第
2の単量体は、フォトレジスト像が、耐メッキ性、耐エ
ツチング性t−保持するため、又、耐現像液性、可とり
性、可塑性を保持するために選ばれる。
第2の単量体は、不飽和基を1個有するものが使用され
、その単量体への20℃における水の溶解性が2重f%
以下であるようなものが好ましいが2重量%を越えるよ
うな親水性の単量体を少量用いても生成された線状共重
合体の吸−21= 水率が前述した範囲であれば差]一つかえない。
第2の単量体の分子量は300以下が好1しく。
それより分子量が大きい単量体を使用すると現像性が損
なわれる。第2の単量体の例としてはアルキルアクリレ
ート又はアルキルメタクリレート、例えばメチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメ
タクリレート、2−エチルへキシルアクリレート。
2−エチルへキシルメタクリレート;ビニルアルコール
のエステル類、例、tJfビニル−n−ブチルエーテル
;α−位または芳香族環において置換されている重合可
能なスチレン誘導体又はスチレン等がある。−F述の第
1の単量体のうち好ましい単量体は、アクリル#または
メタクリル酸であり、第2の単量体のうち好ましい単量
体は、アルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレ
ートである。
本発明における線状共重合体は、上記の第1の単量体と
第20単奮体を共重合して祷られる。
−22〜 第1及び第2の単量体は該線状共重合体のカルボキシル
基含鳴量が17〜50モル係でろり吸水率が4〜30重
t%になるように選ばれる。
この場合の吸水率はJIS  K  6911に示され
た規格、即ち、直径50士1備、厚さ3±0.2fiの
試料を23℃の水に24時間浸漬したときの重量増加率
で示される。捷た。ここでいうカルボキシル基含有量と
は線状共重合体に使用される全単財体のモル数に対する
前記第1の単量体のモル数の百分率(モルチ)をいう。
前記の線状共重合体の種々処理液に対する耐性は、その
カルボキシル基含有量又は吸水率(親水性)の一方によ
って一義的に決定されるものではなく、その双方から決
定され、各々は前述した範囲内になければならない。カ
ルボキシル基含有tが17〜50モルチとたけ規定され
た場合、もし第2の単量体が極端に疎水性の単量体が選
ばれて、該線状共重合体の吸水率が4チ未満になった場
合には、カルボキシル基含有量が17〜50モル係の範
囲内にあっても現像は困難となる。
一方カルボキンル基含有蓋が17〜50モル係であつt
(としても、七の吸水率がA’+1述の範囲の上限を越
えた場合には、未鼻先部の現像性は非常に促進されるが
露光部では親水性の限界を越えフォトレジスト像は、そ
の端部(露光部と未褪光部の境界)で最も著シフ<現像
液に侵され画像の切れが悪く解像度は低下し又結果的に
見掛は上の感光度も低下し、更にはメッ上液。エツチン
グ液に対する耐性が低下し剥離等の現像が起きる。
同様にカルボキシル基の含有量は、現像性の決定要素と
して重要である。吸水率が前述の範囲内であってもカル
ボキシル基含有量が17モル係未満であノ1ば現像はで
きない。逆にカルボキシル基の含有量が前述の範囲の上
限を越えれば吸水率が前述の範囲内であってもレジスト
像の表面光沢はなくなり1制性が低下する。
線状共重合体の分子針はフィルム形成性を付JjL−+
更に第二義的に観像性および処理液に対する耐性を決定
する要素である。この分子量の範囲は重量平均分子量に
して3万〜40万でなければならず、好ましくは5万〜
20万である。
そのψ1囲未満の場合は、フィルム形成性が損なわれ、
又現像液を含む処理液に対する耐性が低下する。この範
囲を越える場合は、フィルム形成性、耐性は非常に良好
になるが現像性が低下する。
感光層に含有される線状共重合体の量は、40〜70重
量部が好ましく、より好ましくは50〜60重量部であ
る。40重量部未満の場合は。
感光層は軟化し2て、保存時にコールドフローが発生ず
る。捷だ、70重量部より多い場合は。
感光層は脆くなり、ラミネート時にはがれやすくなる。
一般的に加熱工程中、及び保存中における熱重合を防止
するために、感光層にラジカル重合抑制剤を含有せしめ
ることは好ましいことである。かかるラジカル重合抑制
剤としてはp−メトキシフェノール、ハイドロキノン、
ピロガロール、ナフチルアミン、フェノチアジン。
25− ヒリジン、ニトロベンセン、ンニトロベンセン。
p−トルキノン、夕ロラニル、アリールフォスファイト
等が用いられるが200℃以下で低揮発性であることが
好−ましく、そのようなものとしてIルキル簡換ハイド
ロキノン、  tert  −ブチルカテコール、塩化
第1銅、2,6−シーtert−ブチルp−クレゾール
、2,2−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチル
フェノール)。
2.2−メチレンビス(2−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)等がある。
前述の感光層の中には染料、顔料等の着色物質を含−有
してもよい。着色物質はフォトレジストとしての特性に
影′4Iを与えずに、又200℃以下の温度では分解、
揮発しないものが好せしい。使用し得る着色剤としては
9例えば、7クシン、オーラミン塩基、カルコシトクリ
ーンS。
パラマンエンタ、クリスタルバイオレット、メチルオレ
ンジ、ナイルブルー2B、 ビクトリアブルー、マラカ
イトグリーン、ペイシックブルー20.アイオジンググ
リーン、ナイトグリー−26= ンB、)IJパロザン、ニューマジエンタ、アシッドバ
イオレットFLR)1.レッドバイオレット51(、S
、ニューメチレンブルー〇G等がろる。
更に前記感光層の中には、可塑剤、接層促進剤等の添加
物を添加しても良い。
感光層の少なくとも一方の面に積層される重合体フィル
ムとしては1例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リプロピレン、ポリエチレンからなるフィルムがらりポ
リエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。これら
は、後に感光層から除去可能でなくてはならないので。
除去が不可能となるような材質であったり表面処理が施
されてあってはならない。これらのフィルムの厚さは5
〜100μmが適当であり。
好ましくは10〜30μmである。又これらのフィルム
の一つは感光層の支持フィルムとして他は該感光層の保
護フィルムとして核感光層の両面に積層しても良い。
感光性樹脂組成物積層体、即ち感光性フィルムとするに
は、まずかかる感光性樹脂組成物を溶剤に均一に溶解す
る。溶剤は該感光性樹脂組成物を溶解する溶剤であれば
何れでも良くl抽捷たは数種の溶剤を使用しても良い。
浴剤としでは例えばアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、ジクロルメタン、クロロホルム、メチルアルコ
ール、エチルアルコール等の一般的な溶剤が用いらrし
る。次いで溶液状とな、つた感光性樹脂組成物を前述し
た支持フィルム層としての重合体フィルム上に均一に塗
布した後、加熱及び/または熱風吹き汀けにより溶剤を
除去し乾燥皮膜とする。乾燥皮膜の厚さは通常の厚さと
され、特に制限はなく、10〜1100pが適当でを)
す、好寸にくけ20〜60μmである。
感光層と重合体フィルムの2層から成る感光性フィルム
は、その捷ま、あるいは感光層の他の而に保護フィルム
を更に積ノーシ、ロール状に巻きとって貯蔵される。
フォトレジスト画像の製造においては、前記保護フィル
ムが存在しているのなら、それを除去した後、感光層を
加熱しながら基板に対して圧着されることによってラミ
ネートされる。ラミネートされる表面は1通常好ましく
は、金属面であるが特に制限はない。感光層金力1]熱
する温度(ラミ不−1・温j隻)によって基板の)J1
1熱は不必要であるが、勿論、更にラミネート性を向上
させるために加熱を行なっても良い。
本発明の感光性フィルムは、従来の感光性フィルムのラ
ミネート温度(90〜130°C)でラミネートした場
合には、従来の感光性フィルムより成分の蒸発飛散量が
極端に少ない。又。
従来の感光性フィルムでは使用に耐えなかった160〜
180℃の高いラミネート温度で1史用した場合でも蒸
発飛散量は少なく、又9%性が横なわれることがない。
本発明の感光性フィルムではラミネート温度を高温にす
ることによって基板加熱の省略も可能である。
ラミネートが簀子した感光層は9次いでネガ29− フィルムあるいはポジフィルムを用いて活性光に画像的
に露光される。その際、感光層上に存在する正合体フィ
ルムが透明であれば、そのまま露光しても良い。不透明
でめるなら1′、当然除去する必要がある。感光層の保
−といった面から重合体フィルムが透明であり、その重
合体フィルムを残任させたまま、それを〕出して露光す
るのが好寸しい。活性光は公知の活性光源。
例えぼ、カーボンアーク、水Ill!蒸気アーク、キセ
ノンアークその他から発生さ扛る光が用いられる。感光
層に含1れる光開始剤の感受性Qユ。
通常紫外線領域において最大であるので、その場合は、
活性光源は、紫外線を有効に放射するものにすべきであ
る。勿論、光開始剤が可視光光線に感受するもの例えば
9,10−7エナンスレンキノン等であるならば、活性
光としてはQf視光が用いられ、その光源は上述のもの
でも良いし、写真用フラッド電球、太陽ランプ等も用い
られる。露光後、感光層上に、もし重合体フィルムが存
在しているのであれは、それを除去30− して、アルカリ水溶液を用い、既知の方法2例えば、ス
プレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等に
より未露光部を除去することによって現像する。アルカ
リ水溶液の塩基としてVよ、水酸化アルカリ、即ち、リ
チウム、すトリウムおよびカリウムの水酸化物;炭酸ア
ルカリ、即ち、リチウム、ナトリウムおよびカリウムの
炭酸塩および重炭酸塩;アルカリ金属、リン酸塩1例え
ば、リン酸カリウムまたはリン酸すトリウム;アルカリ
金属ピロリン酸塩2例えば、ピロリン酸ナトリウムまた
はピロリン酸カリウム等が例示でき2%に炭酸ナトリウ
ムの水溶液が好ましい。現像に用いる1〜3重量重量子
ルカリ水溶液のpHは、好址しくに、9〜11の間であ
り、址だその温度は、感光層の現像性に合わせて調節し
得る。該アルカリ水溶液中には9表面活性剤、消泡剤ま
たは現像を促進させるための少量の有機溶剤を混入せし
めても良い。
更に印刷配線板の製造においては、現像されたフォトレ
ジスト画像をマスクとして、露出している基板の表面を
エツチングまたはメッキにより、既知の方法で処理する
。その後、フォトレジスト画像は通常、現像に用いたア
ルカリ水溶液よりは更に強アルカリ性の水溶液で剥離さ
れるが、そのことについては特に制限ば/rい。
強アルカリ性の水溶液としては2例えば2〜10重匍二
%の水酸化ナトリウム等が用いられる。
本発明を以下の実施例VCよって史に詳し7〈説明する
。ここで%は重量%を示す。
実施例1 溶液A及び溶液A′を25μm厚さのポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に均一に塗布し。
100 ’Cの熱風対流式乾燥機で約3分間乾燥した。
感yc−,t−の乾燥後の厚さは約25μrnであっt
(。感光16 )−に(ホリエチレンテレフタレートフ
ィルムと接していない表面上)にvt、保護フィルムと
してポリエチレンフィルムを張り合わせた。溶液Aから
得られる感光性フィルム(F Aとする)は。
本発明の実施例を示j7.溶液A′から・得られる感光
性フィルム(F A、’とする)は、比較例(本発明と
附加重合性物質が異なる)を示す。
溶液A −フタレート 2−エチルアントラキノン      2.51ビクト
リアピアブルー       0.097エチルセロン
ルブ         1305’メチルエチルケトン
         105’クロロホルム      
      1oy−33− H3 (式中、n及びmは、 n +1ll= l Qになる
ような正の整数) 溶液A′ 2−エチルアントラキノン       2,51ビク
トリアピアブルー       0.09ψ34− エチルセロソルブ        13ozメチルエチ
ルケトン        101クロロホルム    
        107銅はく(厚さ35μm)を両面
に積層したガラスエポキシ材である基板(日立化成工業
株式会社製、商標MCL−E−61)の銅表面を÷80
0のサンドペーパーで研磨し、水洗して空気流で乾燥し
た。次いで、基板を60℃に加温し、その銅面上にポリ
エチレンフィルムを除去した感光性フィルムFAとFA
’を160℃に加熱しながら各々。
別々の基板にラミネートした。感光層と基板との張りつ
き性は双方の試料とも良好であった。これら基板にネガ
フィルムを使用して、3KWの高圧水銀灯(オーク製作
新製、商標フェニックス−3000)で10秒間50c
rnの距離で露光を行なった。現像ハウポリエチレンテ
レフタレートフィルムkl&’i4した後、2%、30
℃の炭@ヶナトリウム水溶液をスプレーすることによっ
て双方の試料とも約45秒間で達成され、良好な現像性
を示した。更に双方の感光性フィルムから得られたフォ
トレジスト像は、線幅80μm1で′Ill像できる良
好な解像性を有し、又、塊化第二鉄水溶液、地化第二銅
水溶液、過硫酸アンモニウム水溶液などの荊常のエソチ
ンダ液に対して十分な耐性を有してぃ/こ。
表1で示されるメッキ工程では、感光性フィルムFAか
ら得られるフォトレジスト像は十分な耐性を有していた
にもかかわらず、感光性フィルム1i’A’から得られ
るフォトレジスト像は、耐性が乏しく半田メッキ後、レ
ジスト膜のはがれが発生した。
1:L−1・全白 表1 メッキ工程 37− 実施例2 溶液B及び溶液B′から実施例1と同様の手法で。
感光性フィルムFB (i液Bより得られる感光層の膜
厚的25μm)及び感光性フィルムFB’(溶液B′よ
り得られる感光層の膜厚的25μm)を作成した。感光
性フィルムFBは9本発明の実施例を示し感光性フィル
ムFB’は、比較例(本発明と附加重合性物質が異なる
)を示す。
溶液B ト ベンゾフェノン           2.514.4
′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ   0.61フエ
ノン ビクトリアピアブルー       0.14g−エチ
ルセロソルブ        13ofメチルエチルケ
トン         10138− クロロホルム           10デ溶液B′ ベンゾフェノン           2.5y−ビク
トリアピアブルー       0.14Pエチルセロ
ソルブ         1301メチルエチルケトン
         101クロロホルム       
     10F得られた感光性フィルムFB及びFB
’を実施例1と同様にラミイ、−ト、露光、現像を行な
った。
基板との張りつき性を比較すると感光性フィルムF’B
は良好であったが、感光性フィルムFB’は。
基板から、ひきはがそうとして引張った際、簡41には
がれた。次に実施例1に示すようなエツチング液に対し
て耐性を幽べたが、感光性フィルムFBから形成された
レジスト像は、十分な耐性を刹していたが、感光性フィ
ルムFB’から形成されたレジスト像は部分的にはがれ
耐性が低いことを示した。更に実施例1の中の表1に示
すメッキ工程において劇メッキ性を調べたが、感光性フ
イルノ、ii’Bから形成されたレジスト像は十分な耐
性を有していたが、感光性フィルムFB’から形成され
たレジスト像は大部分がtまがれ耐性は全く無かった。
実施例3 溶液C及び溶液C′を用いて実施例1と同様の手法で、
感光性フィルムFC(溶液Cより得られるン及び感光性
フィルムFC’(溶液C′より得られる)を作成した。
感光性フィルムFCは1本発明の実施例を示し、感光性
フィルムFC′は比較例(本発明における線状共重合体
のカルボキシル基含有量範囲の下限以下)を示す。感光
性フィルムPC及びFe2の感光層の膜厚は、各々23
〜26μmの範囲でおった。
溶液C レート ベンゾフェノン           2.514.4
′−ビス(ジエチルアミン)ベンシフ  0.61エノ
ン ビクトリアピアプル−0,14P エチルセロソルブ         1301i’メチ
ルエチルケトン        105’クロロホルム
            10y−溶液(ご′ 41− タレート ベンゾフェノン           2.5z4.4
′−ビス(ジエチルアミノ)ベンシフ  0.61エノ
ン ビクトリアピアブルー       o、i4yエチル
セロソルブ        1301メチルエチルケト
ン        101クロロホルム       
     11一実施例1と同様にして露光まで行なっ
た。基板への張りつき性は、感光性フィルムFC,FC
’とも同様であった。塑像も実施例1と同様、ポリエチ
レンテレフタレートフィルムを除去した後、2S: 3
O℃の炭酸ナトリウム水溶液をスプレーすることばよっ
て行なったが、Ii’Cけ約40秒間で現像が達成され
良好な現像性を示した。しかし−42− 方FC’は180秒間スプレーしても現像されず。
現像性が不良であった。F’Cより形成されたレジスト
像のある基板d、更に実施例1と同様に耐エツチング液
性、耐メッキ性を調べたが十分な耐性を有していた。
実施例4 浴液り及び溶液D′を用いて実施例1と同様の手法で感
光性フィルムF’D(溶液りより得られる)及び感光性
フィルムFD′(溶液D′よシ得られる)を作成した。
感光性フィルムF Dは1本発明の実施例全示し、感光
性フィルムFD’は、比較例(本発明とは、附加重合性
物質が異なる)をホす。感光性フィルムF’D及びFD
’の感光ノーの膜厚は、各々23〜26μmの範囲であ
った。
溶液D ベンゾフェノン           2514.4′
−ビス(ジエチルアミノ)ベンシフ  0.61エノン ピノトリアビアブルー       0.14/’エチ
ルセロソルブ         13(1メチルエチル
ケトン         101りc+ロホルム   
        11溶液D′ ベンゾフェノン           25yビクトリ
アピアブルー       0.14クエチルセロンル
ブ         1301メチルエチルケトン  
       10Ffクロロホルム        
    10y−実施例1と同様にして現像迄行なった
。基板への張りつき性、現像性、解像度などは感光性フ
ィルムFDとFD’は、はぼ同様の特性を示した。更に
耐エツチング液についても双方の試料とも十分な耐性を
有していた。しかしながら実施例1の中の表1で示でれ
るメツキエ稈において感光性フィルムFDから得られる
フォトレジスト像は十分な耐性を有していたが、感光性
フィルムFD’から得られるフォトレジスト像は、耐性
が乏しく、半田メッキ後、レジスト膜のはがれが発生し
た。感光性フィルムFD’から得られるフォトレジスト
像は。
表2に示すような半田メッキ、即ち、ホウフッ化水素酸
濃度の低い半田メッキ液では、何ら問題はなかった。こ
れによって9本発明における附加重合性物質を使用した
感光性フィルムから得られるフォトレジスト像は、比較
例のフォトレジスト像45− に比較して、半田メッキ液中のホウフッ化水素酸濃度が
、はるかに高い場合にも耐性を有することを示した。
以上、実施例で詳細に説明した様に9本発明になる感光
性樹脂組成物を用いて得られる感光性フィルムは、優れ
た耐メッキ性を有し、Wに基板との張りつき件、現像性
など他の特性も優れるもの40− 手続補正書く自発) 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第187333号 2、発明の名称 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体3補正を
する者 4  代    理    人 〒160 居  所      東京都新宿区西新宿二丁目1番1
号ナフタセンキノン」と訂正します。
以上 325−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)  下記式〔I〕で示される附加重合性物質
    (式中R+ 、 R2、R3及びR4はHまたはCHs
    であり、これらは同一であっても相異してもよ(、n及
    びmはn+m==8〜12になるような正の整数である
    ) tb+  下記式[11)で示される附加重合性物質(
    式中Zは環式二塩基酸残基、R1は炭素数1〜3のアル
    キレン基、Wは水素加子またチル基またはCH2X 、
     Xは塩素原子。臭素原子である) (C1光重合開始剤 fdl  カルボキシル基含有量が17〜50モルチ、
    吸水率が4〜30重f%、重量平均分子量が3万〜40
    万の線状共重合体 を含有して成る感光性樹脂組成物。 2、附加重合性物質の全量を30〜60重量、部とし、
    その中で式[1,1で示きれる附加重合性物質を25〜
    35重量・部9式〔■〕で示される附加重合性物質を5
    〜15重1“部1式〔I〕で示される附加重合性物質お
    よび式(II〕で示される附加重合性物質l試外の附加
    重合性物質を0〜30重量部、光重合開始剤を0.5〜
    10.0重量部、線状共重合体を40〜70重量部含有
    して成る特許請求の範囲第1項記載の感光性樹脂組成物
    。 3、 ラジカル重合抑制剤及び着色物質を官有してなる
    特許請求の範囲第1項一1′たは第2項記載の感光性樹
    脂組成物。 4、感光性樹脂組成物層の少なくとも、一方の面に重合
    体フィルムを積層して成る感光性樹脂組成物積層体にお
    いて該感光性樹脂組成物層が。 fa)  下記式〔I〕で示される附加重合性物質R2
    几】 1 (式中+ & r Ra + Ra及びR4はHまたは
    CH3であり、これらは同一であっても相異してもよ(
    、n及びm jd n 十m = 8〜12になるよう
    な正の整数である) (bl  下記式[1[〕で示される附加重合性物質(
    式中Zは環式二塩基酸残基IR”は炭素数1〜3のアル
    キレン基、R9は水素原子塘たル基またはCH2X 、
     Xは塩素原子、臭素原子である) (C)  光重合開始剤 +dl  カルボキシル基含有量が17〜50モル係、
    吸水率が4〜30重知−係2重量平均分子量が3万〜4
    0万0線状共重合体 を含有する感光性樹脂組成物層である感光性樹脂組成物
    積層体。 5、感光性樹脂組成物層が附加重合性物質の全量を30
    〜60重量部とし、その中で式〔■〕で示される附加重
    合性物質を25〜35重量部1式〔■〕で示される附加
    重合性物質を5〜15重賞部9式〔I〕で示される附加
    重合性物質おまひ式[11)で示される附加重合性物質
    以外の附710重合性物質を0〜30重量部、光重合開
    始剤を0.5〜10.0重量部、線状共重合体を40〜
    70重都部含有する感光性樹脂組成物層である特許請求
    の範囲第4項記載の感光性樹脂組成物積層体。 6、感光性樹脂組成物層の中にラジカル重合抑制剤及び
    着色物質を含有して成る特許請求の範囲第4項または第
    5項記載の感光性樹脂組成物積層体。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60208748A (ja) * 1984-04-02 1985-10-21 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体
JPS60214354A (ja) * 1984-04-10 1985-10-26 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光重合性樹脂組成物
JPS60230135A (ja) * 1984-04-27 1985-11-15 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光重合性樹脂組成物
JPS61186952A (ja) * 1985-02-15 1986-08-20 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光重合性樹脂組成物
JPS6311930A (ja) * 1986-07-03 1988-01-19 Mitsui Toatsu Chem Inc 感光性樹脂組成物
JPS6398651A (ja) * 1986-10-15 1988-04-30 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性積層体
JPH0235454A (ja) * 1988-07-25 1990-02-06 Sekisui Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物
US7645561B1 (en) 1997-09-19 2010-01-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive film

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6318692A (ja) * 1986-07-11 1988-01-26 日立化成工業株式会社 印刷配線板の製造方法
DE3784246T2 (de) * 1987-12-22 1993-05-27 Daicel Chem Lichtempfindliche haertbare zusammensetzungen.
JPH07102646B2 (ja) * 1988-09-30 1995-11-08 株式会社日立製作所 金属とポリイミドの複合成形体
US4985343A (en) * 1989-02-09 1991-01-15 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Crosslinking-curable resin composition
JPH02311847A (ja) * 1989-05-26 1990-12-27 Nippon Paint Co Ltd 水現像性感光性樹脂組成物
JPH101523A (ja) * 1996-06-14 1998-01-06 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 放射線硬化性樹脂組成物
EP0831372A1 (de) * 1996-09-23 1998-03-25 Siemens Aktiengesellschaft Photopolymere
DE602005003475T2 (de) * 2004-07-16 2008-09-25 Dow Corning Corp., Midland Strahlungsempfindliche silikonharzzusammensetzung
US8343707B2 (en) 2005-07-29 2013-01-01 Anocoil Corporation Lithographic printing plate for in-solidus development on press
EP1910897A4 (en) * 2005-07-29 2010-12-22 Anocoil Corp PRINTING PLATE THAT CAN BE IMAGED FOR PRESS DEVELOPMENT
US8377630B2 (en) * 2005-07-29 2013-02-19 Anocoil Corporation On-press plate development without contamination of fountain fluid
US8137897B2 (en) * 2005-07-29 2012-03-20 Anocoil Corporation Processless development of printing plate
US8133658B2 (en) * 2005-07-29 2012-03-13 Anocoil Corporation Non-chemical development of printing plates
JP4586768B2 (ja) * 2006-05-29 2010-11-24 トヨタ自動車株式会社 内燃機関の動弁装置
WO2009133817A1 (ja) * 2008-04-28 2009-11-05 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法
JP6226174B2 (ja) * 2012-10-26 2017-11-08 株式会社リコー インク、インクカートリッジ、インクジェット記録装置、記録物、重合性化合物及び組成物

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS581142A (ja) * 1981-06-25 1983-01-06 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4003877A (en) * 1974-05-24 1977-01-18 Dynachem Corporation Photopolymerizable screen printing inks for permanent coatings prepared from aryloxyalkyl compositions
JPS528303A (en) * 1975-04-11 1977-01-22 Hitachi Chemical Co Ltd Filmmlike laminated body
US4065315A (en) * 1976-04-26 1977-12-27 Dynachem Corporation Phototropic dye system and photosensitive compositions containing the same
US4264708A (en) * 1978-03-31 1981-04-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Radiation sensitive element having a thin photopolymerizable layer
JPS5619752A (en) * 1979-07-27 1981-02-24 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition laminate
US4245031A (en) * 1979-09-18 1981-01-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable compositions based on salt-forming polymers and polyhydroxy polyethers
US4291115A (en) * 1979-09-18 1981-09-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Elements and method which use photopolymerizable compositions based on salt-forming polymers and polyhydroxy polyethers

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS581142A (ja) * 1981-06-25 1983-01-06 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60208748A (ja) * 1984-04-02 1985-10-21 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体
JPS60214354A (ja) * 1984-04-10 1985-10-26 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光重合性樹脂組成物
JPS60230135A (ja) * 1984-04-27 1985-11-15 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光重合性樹脂組成物
JPS61186952A (ja) * 1985-02-15 1986-08-20 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光重合性樹脂組成物
JPH0336422B2 (ja) * 1985-02-15 1991-05-31 Mitsubishi Rayon Co
JPS6311930A (ja) * 1986-07-03 1988-01-19 Mitsui Toatsu Chem Inc 感光性樹脂組成物
JPS6398651A (ja) * 1986-10-15 1988-04-30 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性積層体
JPH0235454A (ja) * 1988-07-25 1990-02-06 Sekisui Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物
US7645561B1 (en) 1997-09-19 2010-01-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive film
US7687224B2 (en) 1997-09-19 2010-03-30 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive film

Also Published As

Publication number Publication date
DE3242800A1 (de) 1983-06-01
HK61086A (en) 1986-08-29
GB2112011A (en) 1983-07-13
GB2112011B (en) 1985-12-04
US4562142A (en) 1985-12-31
KR870000679B1 (ko) 1987-04-06
DE3242800C2 (ja) 1990-06-21
KR840002116A (ko) 1984-06-11

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