JPS581142A - 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体
に胸し、更に詳しくはアルカリ性水＃ｌ液によって現像
可能な感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体に
関する。

感光性樹脂組成物から形成されるフォトレジストは、印
刷配線板を製造する際などに使用されている。これら感
光性樹脂組成物は、従来。

印刷配−板用基［（以下単に基板と言う）に溶剤を含有
し友液体皮膜として塗布され次いで。

加熱乾燥によって含有溶剤が除かれ乾燥皮膜とされ、そ
の後活性光Ｋｉｊｍ的に露光され現像されてフォトレジ
スト像とされる。

しかし近年、その低作業性、大気汚染性、低歩留りを改
善するためにフレキシブルな３層積層体、即ち、支持フ
ィルム層、乾燥された感光性Ｉｔｌ１組成物層（以下本
に感光層と言う）、保護フィルム層からなる感光性樹脂
組成物積層体（以下単に感光性フィルムと首う）が用い
られるようになってきた。感光性１１１ｇ組成物として
は、未露光部がアルカリ水ｓｍｕｃよつ″′Ｃ除去（現
像）される所關アルカリ現＠ＩＩＩと有機溶剤によって
除去（ｆＡ像）される所關溶剤現偉瀝の両者が知られて
いる。　　・ アルカリ現像層感光性フィルムの使用方法は感光性フィ
ルムから保護フィルム層を取り除いて感光層と支持フィ
ルム層の２層からなる積層体にした後その感光層が基板
に接するように加熱圧着（ラミネート）する。次いでネ
ガフィルム等を用いて画像的Ｋｌｌ光を行なった後、ア
ルカリ水溶液を用いて未露光部を除去（現像）しフォト
レジスト像を形成する。この形成され九７オトレジスト
像をマスクとして基板の金属表面をエツチングあるいは
メッキによる処理を行ない次いでフォトレジスト像を現
像液よりは更に強アルカリ性の水溶液を用いて剥離し、
印刷配線板勢が製造される。

上紀工程中、基板の金１１弐面のエツチングあるいはメ
ッキによる処理に対してフォトレジスト像は、マスクと
し１十分な耐性を有していなければならないこと杜、轟
然なことである。エツテング処通は、塩化第二鉄、塩化
第二銅、過硫酸アンモニウムなどの水溶液を用いて基板
の表向層をなし１いる金属（通常は鋼）を除去する工程
である。またメッキ処理に用いるメッキ液の種類は数多
くめるが、アルカリ現像層感光性フィルムの場合、用い
られるメッキｗ１は通常酸性メッキ液である。半田メッ
キあるいは硫酸鋼メッキと半田メッキの組み合わせを用
いてフォトレジスト像で１スクされていない金属表面が
メッキされる。

メッキは、いずれも高濃度な薬品溶液中で電流を流すの
で、エツチング処理と比較して、かなりきびしい処理と
いえる。

この種のアルカリ現像温感光性フィルムは。

特開昭５２−９４３８８号公報９％開昭５２−１３０７
０１号公報、４１１開昭５３−１２８６８８号公報１％
開昭５０−１４７３２３号公報等に開示されている。し
かしながら、これら従来のアルカリ現＊ｍ感光性フィル
ムから得られるフォトレジスト像は耐電気メッキ性が十
分でないという欠点がめった。即ち、硫酸鋼メッキ液及
びホラフッ化水素酸の１ｌｌＩ＆が低い半田メッキ液で
の電気メッキには酎え得るが、ホラフッ化水素駿の＃Ｉ
ｉ度が３５０１／ｌを越える一般用半田メツキ液に対し
１＃′ｉ耐性が乏しく、そのような半田メッキによりレ
ジスト膜のはがれ、持ち上り、半田メッキのもぐり（レ
ジストの下に半田メッキが析出する現＊）が発生する。

ホクフッ化水素酸の濃度は、最も一般的と言える半田メ
ッキ液の場合、３５（１＃〜５００　ｆ／ｌの範囲で使
用され、そのような範囲内において粒子の密な共晶ハン
ダを得るための液を安定に管理できるとされ１いる。

我々は、このような従来の間龜点を改善する九めに鋭意
研究の結果、優れた耐メッキ性、耐エツチング液性、耐
薬品性を有し、かつ、その他アルカリ現像瀝感光性フィ
ルムの特性（例えば基板とのランネート性、現像性）を
満足する・感光性樹脂組成物を見い出し１本発明に至っ
た。

本発明によって耐メッキ性が優れ、かつ、耐エツチング
液性、耐薬品性、基板との良好なうＺネート性、良好な
現像性を有するアルカリ現像量感光性フィルムを提供す
るものである。

即ち１本発明は （１１１下記式（１）で示される附加重合性物質（式中
＊　Ｒｔ　ｒ　Ｒｍ　＋　Ｒｓ及びＲ４はＨｌたはＣＨ
ｓでめね、これらは声］−であっても相異してもよ＜、
ｎ及びｍはｎ十ｍ＝８−１２になるような手の整数であ
る） （ｂ）　　光重合開始剤 （Ｃ）　　カルボキシル基含有量が１７〜５０モル−９
吸水率が４〜３０重量％重量％１均量平均が３万〜６０
万０線状共重合体 を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。

さらに１本発明は、感光性樹脂組成物層の少なくとも、
一方の面に重合体フィルムを積層して成る感光性樹脂組
成物積層体において皺感光性樹脂組酸物順が （ｊｌ）　　下記式［１）で示される附加重合性物質（
式中Ｔ　Ｒ＋　Ｉ　Ｒｓ　ｅ　ＲＢ及びＲ４はＲ１九は
ＣＨ畠でめり、これらは同一であっても相異してもつな
正の整一、） （ｂｌ　　光重合一始剤 （Ｃ１カルボキシル基含有量が１７〜５０モル−９吸水
率が４〜３０重量嚢、富量平均分子量が３万〜６０万Ｏ
Ｓ状共１合体 を含有する感光性＊＊組放物層である感光性樹脂組成物
積層体に関する。

本発明の感光層には９式（１）で示される附加重合性物
質が含有され、ｎ及びｍはｎ十ｍ＝ｇ〜１２になるよう
な正の整数である。

式（１）で示される附加重合性物質としては。

４２′ヒス（４−メタクリロキシペンタエトキシフェニ
ル）プロパン、２．２’ビス＜４−７クリロ午ジペンタ
エト中ジフエニル）フロパン、２．２’ビス（４−メタ
クリロキシテトラエトキシフェニル）プロパン等がＴｏ
抄、市販品としては例えばＢＰＥ−１０（新中村化学工
業株式会社製商品名）がある。

式（１）で示される附加重合性物質は、単一の化合物と
して用いてもよいが、２種以上の化合物の混合物として
使用して４よい、ｎ＋ｍが７以下の場合は、カルボキシ
ル基含有線状共重合体との相溶性が低下し、基板に感光
性フィルムを２ｉネートした際はがれ易い。ま九ｎ十ｍ
が１３以上の場合は、系の親水性が増加し、現偉時にお
いてレジスト儂がはがれやすく、筐た耐半田メッキ性も
低下する。式（１）で示される附加重合性物質以外の附
加重合性物質を含有しても曳い。式［１）で示される附
加重合性物質以外の附加重合性物質とじ又は、末端エチ
レン性不飽和基を少なくとも１個有し、常圧において２
００℃以上の沸点を有する／液状附加重合性物質であれ
ば曳く、その例として蝶、多価アル：Ｆ　−ルにα、β
−不飽和カルボン酸を付加して得られるもの１例えば、
テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（ア
クリレート又はメタクリレートを示す。以下同じ）、ポ
リエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エチレ
ン基の数が２〜１′４のもの）、トリメチロールプロパ
ンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート。

テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ポ
リプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（プロ
ピレン基の数が２〜１４のもの）、ジペンタエリスリト
ールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサ（メタ）アクリレート、式［１）で示される
附加重合性物質でｎ　−）　ｔｎ　＝　２〜７の化合物
、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸
を付加して得られるもの１例えば。

トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリア
クリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ
アクリレート等、多価カルボン酸９例えば無水フタル酸
等と水酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質９例え
ばβ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等とのエ
ステル化物などがある。ま九１％に好ましい化合物とし
ては１式〔■〕で示されるβ′−メタクリロイルオキシ
エチル−ｒ−クロル−β−ヒドロキシプロピル−〇−フ
タレートがめげられる。

１ Ｈ 式（１）で示される附加重合性物質及びそれ以外の附加
重合性物を合わせた附加重合性物質の全量線３０〜６０
重量部が好ましく、より好ましくけ４０〜５０重量部で
ある。３０重量部未満の場合は感光層は可とり性に乏し
くラミネート時に基板からはがれやすい。また６０重量
部より多い場合は感光層は軟化しコールドフローを起こ
す。附加重合性物質を３０〜６０重量部としたときに式
（１）で示される附加重合性物質の量を２０〜５０重量
部の範囲とすることが好ましく、より好ましくは２５〜
３５重量部の範囲とされる。

そして式（１）で示される附加重合性物質以外の物質を
併用する場合は、その量は１６重量部以下の範囲とされ
る。この理由は式（１）で示される附加重合性物質以外
の附加重合性物質の量がこれより多くなると量に伴って
耐半田メッキ性が低下する必・らである。

前記式〔麗〕で示される附加重合性物質と併用し良場合
は９式（１）Ｏｌｌ加重合物物質２５〜３５重量部に対
し１式〔厘〕で示される附加重合を 性物質ｆ６〜１６重量部で併用し九場合、優れ九耐メッ
キ性を保持しつつ、解像度が向上する点で好ましい結果
が得られる。弐〇）で示される附加重合性物質は、ビス
フェノール人構造の部分が半田メッキに優れた耐性を有
し、ｔた。

ｎ−）ｍ＝ｇ〜１２で規定されるエーテル結合を有する
ととにより、アルカリ現像層感光性フィルムとしての特
性、４１ＫＩＩ状共重合体との相溶性、現像性に優れた
結果となる。

本発明における感光層に含有される光重合開始剤は、２
００℃以下の温度では熱的に活性化しない物質で、活性
光線９例えば紫外−などにより活性化する物質が推奨さ
れる。これらの物質としては、置換または非置換の多核
キノン類がＴｏ抄、例えば２−エチルアントラキノン、
２−　ｔａｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチル
アントラキノン、１．２−ベンズアントラキノン。

２．３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラ
キノン、ス３−ジフェニルアントラキノン、ｌ−クロロ
アントラキノン、２−クロ費アントラキノン、２−メチ
ルアントラキノン、１．４−ナフタキノン、＆１０−７
エナントラキノン。

２−メチル−１，４−ナフタキノン、λ３−ジクロロナ
７タキノン、１．４−ジメチルアントラキノン、２．３
−ジメチルアントラキノン、３−クロロ−２−メチルア
ントラキノン、７，８．（（１０−テトラヒドロナフタ
センキノｙなどがある。

その他の芳香族ケトン、例えば、ベンゾフェノン、２ヒ
ラ−ケトン［：４．４’−ビス（ジメチルアミノ）ベン
ゾフェノン］、４．４’−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアｉノペン
ゾフエノ７などがある。

他にベンゾイン、ベンゾインエーテル、例エバベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、べ／ゾ
インフェニルエーテル、メチルベンゾイン、エチルベン
ゾインなどが６る。

更に！４．５−）リアリールイミダゾールニ量体と２−
メルカプトベンゾキサゾール、ロイコクリスタルパ１オ
レット、トリス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェ
ニル）メタンなどとの組み合わせも使用できる。

感光層に含有される光重合一始剤の量は、０．５〜１Ｏ
９０重量部が好ましく、より好ましくは１．０〜５．０
重量部である。α５重量部未満の場合は、感光層に活性
光線を照射して硬化させる際、硬化が十分に進行せず、
耐性の乏しいフォトレジストを生成する。１０．０重量
部より多い場合は、感光層の活性光ＩａＫ対する感度が
高すぎる九めに、解像度が低下し走り、安定性が低下し
九りする欠点を生じる。

本発明になる感光層には、カルボキシル基含有量が１７
〜５０モル−１吸水率が４０〜３０重量−１重量平均分
子量が３万〜６０万の線状共重合体が存在する仁とが必
要である。本発明におけるフォトレジスト儂の電気メッ
キへの優れ九耐性及びメッキ前処理液などに対する耐性
。

更には基板との密着性、現像性などの一般特性は、附加
重合性物質と線状共重合体の双方によって達成されるも
のである。

線状共重合体は２種または３種以上の単量体を重合させ
ることによって得られ、単量体は大きく二つに区分され
る。第１の単量体紘、該線状共重合体に現像性を付与す
るものであり、不飽和基を１個有するカルボン酸、もし
くは酸無水物である。例えば、アクリル酸、メタクリル
酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン駿、プロピオール酸
、イタコン酸、マレイ／酸、マレイン酸無水物、マシイ
ン酸半エステルなどが用いられる。他に使用すべき第２
の単量体は、フオトレジス）１１が、耐メッキ性、耐エ
ツチング性を保持するため、又、耐現俸液性、可とう性
、可塑性を保持するために選ばれる。

第２の単量体は、不飽和基を１個有するものが使用され
、その単量体への２０℃における水の溶解性が２重量−
以下でろるようなものが好ましいが２重量−を越えるよ
うな親水性の単量体を少量用いても生成された線状共重
合体の吸水率が前述し九範囲であれば差しつかえない。

第２の単量体の分子量は３００以下が好筐しく。

それより分子量が大きい単量体を使用すると現像性が損
なわれる。第２の単量体の例としてはアルキルアクリレ
ート又はアルキルメタクリレート、例えばメチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルア
クリレート、２−エチルへ中シルアクリレート。

２−エチルへキシルメタクリレート；ビニルアルコール
のエステル類、ｆＦＩＪ、ｔハビニルーｎ−ブチルエー
テル；α−位または芳香族環において置換されている重
合可能なスチレン誘導体又はスチレン等がある。上述の
第１の単量体のうち好ましい単量体は、アクリル酸また
はメタクリル酸であり、第２の単量体のうち好ましい単
量体は、アルキルアクリレートまたはアルキルメタクリ
レートである。

本発明における線状共重合体は、上記の第１の単量体と
第２の単量体を共重合して得られる。

第１及び第２の単量体は＃線状共重合体のカルボキシル
基含有量が１７〜５０モル−であり吸水率が４〜３０重
量優になるように選ばれる。

この場合の吸水率はＪＩＳ　Ｋ　　６９１１に示され九
規格、即ち、直径５０±１１．厚さ３±０．２■の試料
を２３℃の水に２４時間浸漬したときの重量増加率で示
される。また、ここでいうカルボキシル基含有量とは線
状共重合体に使用される全単量体のモル数に対する前記
第１の単量体のモル数の百分率（モル優）をいう。

前記の線状共重合体の種々処理液に対する耐性は、その
カルボキシル基含有量又は吸水率（Ｉｔ水性）の一方に
よって一義的に決定されるものではなく、その双方から
決定され、各々は前述し九範囲内になければならない。

カルボキシル基含有量が１７〜５０モル−とだけ規定さ
れる場合、もし第２の単量体が極端に疎水性の単量体が
選ばれて、蚊線状共重合体の吸水率が４％未満になった
場合には、カルボキシル基含有量が１７〜５０モルチの
範囲内にあっても現像は困難となる。

一方力ルボキシル基含有量が１７〜５０モルチでめった
としても、その吸水率が前述の範囲の上限を越え九場合
に社、未露光部の現像性は非常に促進されるが露光部で
は親水性の限界を越えフォトレジスト儂は、その端部（
ｊｌｌｌｌ光来露光部の境界）で最も著しく現像液に侵
されｍ偉の切れが悪く解像度は低下し又結果的に見掛は
上の感光度も低下し、更にはメッキ液、エツチング液に
対する耐性が低下し剥離郷の現像が起きる。

同様にカルボキシル基の含有量は、現像性の決定要素と
して重要である。吸水率が前述の範　　□囲内であって
もカルボキシル基含有量が１７モモル優満であれば現像
はできない。逆にカルボキシル基の含有量が前述の範囲
の上限を越えれば吸水率が前述の範囲内でろってもレジ
スト像の表面光沢はなくなり耐性が低下する。

線状共重合体の分子量はフィルム形成性材付与し、更に
第二義的に現像性および処理液に対する耐性を決定する
要素である。この分子量の範囲は重量平均分子量に対し
て３万〜６０万でなければならず、好ましくは５万〜３
０万である。その範囲未満の場合は、フィルム形成性が
損なわれ、又現像液を含む処理液に対する耐性が低下す
る。この範囲を越える場合は、フィルム形成性、耐性は
非常に良好になるが現像性が低下する。

感光層に含有される線状共重合体の量は、４０〜７０重
量部が好ましく、より好ましくは５０〜６０重量部であ
る。４０重量部未満の場合は。

感光層は軟化して、保存時にコールドフローが発生する
。また、７０重量部より多い場合は。

感光層は脆くなり、ラミネート時にはがれやすくなる、
一般的に加熱工程中、及び保存中における熱重合を防止
する丸めに、感光層にラジカル１合抑制剤を含有せしめ
ることは好ましいことでるる。かかるラジカル重合抑制
剤としてはｐ−メト中ジフェノール、ハイドロキノン、
ピロガロール、ナフチルアンン、フェノチアジン。

ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン。

ｐ−トルキノン、クロラニル、アリールフォスファイト
等が用いられるが２００℃以下で低揮発性であることが
好ｔしく、そのようなものとしてアルキル置換ハイドロ
キノン、ｔｅｒｔ・−ブチルカテコール、塩化第１Ｍ、
スロージーｔｅｒｔ−ブチルｐ−クレゾール、２．２−
メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール
）。

λ２−メチレンビス（２−メチル−６−１−ブチルフェ
ノール）等がアル。

前述感光層の中には染料、１ａ料等の着色物質を含有し
てもよい。着色物質はフォトレジストとしての特性に影
響を与えずに、又２００℃以下の温度では分解、揮発し
ないものが好ましい。

使用し得る着色剤としては９例えば、ツクシン。

オーラζン塩基、カルコシトグリーンＳ、パラマジエン
タ、クリスタルバイオレット、メチルオレンジ、ディル
プル−２Ｂ、ビクトリアブルー、マラカイトグリーン、
ペイシックブルー２０、アイオジンググリーン、ナイト
グリーンＢ、トｖパロサン、ニューマジエンタ、アシッ
ドバイオレットＲＲＨ，レットバイオレット５Ｒ８，ニ
ューメチレンブルー〇Ｇ等がある。

更に前記感光層の中には、可ｉｍ＊、ｍ着促進剤等の添
加物を添加しても嵐い。

感光層の少なくとも一方の面に積層される重合体フィル
ムとしては１例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リプロピレン、ポリエチレンからなるフィルムがありポ
リエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。これら
は、後に感光層から除去可能でなくてはならないので。

除去が不可能となるような材質で６つ九りｌｌ！面処理
が施されてあってはならない、これらのフィルムの厚さ
は５〜１００μｍが適当で１７゜好ましくは１０〜３０
μｍでるる。又これらのフィルムの一つは感光層の支持
フィルムとして他は該感光層の保繰フィルムとして皺感
光層の両面に積層しても曳い。

感光性樹脂組成物積層体、即ち感光性フィルムとするに
社、ｔずかかる感光性樹脂組成物を溶剤に均一に溶解す
る。溶剤は該感光性樹脂組成物を溶解する溶剤であれば
何れでも良く１種または数種の溶剤を使用しても曳い。

溶剤としては例えばアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロ
ンルブ、ジクロルメタン、クロロホルム、メチルアルコ
ール、エチルアルコール岬の一般的な溶剤が用いられる
。次いで溶液状となった感光性樹脂組成物を前述し九支
持フィルム層としての重合体フィルム上に均−Ｋ１１ｌ
布し丸後、加熱及び／または熱風吹き付けにより溶剤を
除去し乾燥皮膜とする。乾燥皮膜の厚さは通常の犀さと
され１％に制限社なく、１０〜１００μｍが適当であり
、好ましくは２０〜６０μｍである。

感光層と重合体フィルムの２層から成る感光性フィルム
は、そのｔま、あるいは感光層の他の面に保験フィルム
を艶に積層し、０−ル状に巻きとって貯蔵される。

フォトレジスト画像の製造においては、前記保１ｉフィ
ルムが存在しているのなら、それを除去した後、感光層
を加熱しながら基板に対して圧着されることによってラ
ミネートされる。ラミネートされる表面は１通常好まし
くは、金属面であるが４ＩＫ制限はない。感光層を加熱
する温ｆ（ラミネート温度）によって基板の加熱は不必
要であるが、勿論、更にう２ネート性を向上させる九め
に加熱を行なっても良い。

本発明の感光性フィルムは、従来の感光性フィルムのラ
ミネート＠１（９０〜１３０℃）でランネートした場合
には、従来の感光性フィルムより成分の蒸発飛散量が極
端に少ない。又。

従来の感光性フィルムでは使用に耐えなかった１６０〜
１８０℃の為いラミネート＠度で使用した場合でも蒸発
飛散ｔは少なく、又１％性が損なわれることがない。

本発明の感光性フィルムではラミネー？ｆｆ１度を高温
にすることによって基板加熱の省略も可能である。

ラミイ・−トが完了した感光層は１次いでネガフィルム
あるいはポジフィルムを用いて活性光にｉｋＩ儂的に露
光される。その際、感光層上に存在する重合体フィルム
が透明であれば、そのまま露光しても良い、不透明であ
るならば、当然除去する必要がめる。感光層の保饅とい
った面から重合体フィルムが透明であり、その重合体フ
ィルムを残存させたまま、それを通して露光するのが好
ましい。活性光は公知の活性光源。

例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンア
ークその他から発生される光が用いられる。感光層に含
まれる光開始剤の感受性は。

通常紫外線領域において最大であるので、その場合は、
活性光源は、紫外線を有効に放射するものにすべきであ
る。勿論、光開始剤が可視光光線に感受するもの例えば
ＱＩＯ−７エナンスレンキノ７等であるならば、活性光
としては可視光が用いられ、その光源は上述のものでも
良いし、写真用フラッド電球、太陽ランプ等も用いられ
る。露光後、感光層上に、もし重合体フィルムが存在し
ているのであれば、それを除去して、アルカリ水溶液を
用い、既知の方法１例えば、スプレー、揺動浸漬、ブラ
ッシング、スクラッピング等により未露光部を除去する
ことによってＴｉＬｇＩｌする。アルカリ水溶液の塩基
としては、水酸化アルカリ、即ち、リチウム、ナトリウ
ムおよびカリウムの水酸化物；炭酸アルカリ、局ち、リ
チウム、ナトリウムおよびカリウムの炭酸塩および重炭
酸塩；アルカリ金属、リン酸塩９例えば、リン酸カリウ
ムまたはリン酸ナトリウム；アルカリ金属ビロリン酸塩
１例えば、ビロリン酸ナトリクムまたはビロリン酸カリ
ウム等が例示でき、＊に炭酸ナトリウムの水溶液が好ま
しい。現像に用いる１〜３重量−のアルカリ水＄Ｗ１０
ｐＨは、好ましくＨ，９〜ｌｔの関であり、ま九その＠
度は、感光層の現像性に合わせて調節し得る。該アルカ
リ水溶液中には２表面活性剤、消泡剤または現像を促進
させるための少量の有機溶剤を混入せしめても良い。

更に印刷配線板製造において絋、現像され九フォトレジ
スト画像をマスクとして、露出している基板の表面をエ
ツチングまたはメッキにより、ｌｔ知の方法で処理する
。その後、フオトレジス）Ｉｉｉ倫祉通常、現像に用い
たアルカリ水溶液より紘更に強アルカリ性の水溶液で剥
離されるが、そのことについて紘特に制限はない。強ア
ルカリ性の水溶液としては２例えば２〜１０重量−の水
酸化ナトリウム等が用いられる。

本発明を以下の実施例によって更に詳しく説明する。こ
こでｓ社重量嘔を示す。

実施例１ 溶液Ａ及び溶液Ａ′を２５μｍ犀さのポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に均一に塗布し。

１００℃の熱風対流式乾燥機て約３分間乾燥した。

感光層の乾燥後の厚さは約２５μｍであった。感光層の
上（ポリエチレンテレフタレートフィルムと接していな
い表面上）には、保１１フィルムとしてポリエチレンフ
ィルムを張り合わせた。溶液人から得られる感光性フィ
ルム（ＦＡとする）は。

本発明の実施例を示し、溶液Ａ′から得られる感光性フ
ィルム（Ｆ　Ａ’とする）は、比較例（本発明と附加重
合性物質が異なるンを示す。

溶液人 ２−エチルアントラキノン　　　　　２．５Ｐビクトリ
アビアブルー　　　　　　　０．０１エチルセロソルブ
　　　　　　　　　１３０？メチルエチルケトン　　　
　　　　　　１０）クロロホルム　　　　　　　　　　
　　１０ｆＰＨｍ １ （式中、ｎ及びｍは、ｎ＋ｍ＝１０になるような正の整
数） 溶液Ａ′ ２−エチルアントラキノン　　　　　１５）ビクトリア
ビアブルー　　　　　　　０．０’１エチルセロソルブ
　　　　　　　　　１３０？メチルエチルケトン　　　
　　　　　　ＩＯＰクロ關ホルム　　　　　　　　　　
　　１０？鋼はく（厚さ３５μｍ）を両面に積層したガ
ラスエポキシ材である基板（日立化成工業株式会社製、
商標ＭＣＬ−Ｅ−６１）の鋼表面をφ８００のサンドペ
ーパーで研磨し、水洗して空気流で乾燥した。次いで、
基板を６０℃に加温し、その鋼面上にポリエチレンフィ
ルムを除去した感光性フィルムＦＡとＦＡ’を１６０℃
に加熱しながら各々、別々の基板にラミネートした。感
光層と基板との張りつき性は双方の試料とも良好でめっ
た。これら基板にネガフィルムを使用して、３謂の高圧
水銀灯（オーク製作所製、商標フェニックス−３０００
）で１０秒関５０３の距離で露光を行なつ九。現儂は、
ポリエチレンテレフタレートフィルムを除去した後、２
％、３０℃の炭酸、す）　ＩＪウム水溶液をスプレーす
ることＫよって双方の試料とも約４５秒間で達成され、
良好な現俸性を示し九。更に双方の感光性フィルムから
得られたフォトレジスト像は、Ｉｓ幅８０μｍ壕で解倫
できる曳好な解儂性を有し、又、塩化第二鉄水溶液、塩
化第二銅水溶液、過硫酸アンモニウム水溶液などの通常
ρエツチング液に対して十分な耐性を有していた。

表１で示されるメッキ工程では、感光性フィルムＦＡか
ら得られるフォトレジスト像は十分な耐性を有していた
にもかかわらず、感光性フィルムＦＡ’から得られるフ
ォトレジスト像は、耐性が乏しく半田メッキ後、レジス
ト膜のはがれが発生した。

表１　メッキ工程 実施例２ 溶液Ｂ及び溶液Ｂ′から実施例１と同様の手法で。

感光性フィルムＦＢ（溶液Ｂより得られる感光層の膜厚
的２５μｍ）及び感光性フィルムＦＢ’（溶液Ｂ′より
得られる感光層の膜光約２５μｍ）を作成し九。感光性
フィルムＦＢは９本発明の実施例を示し感光性フィルム
ＦＢ’ｔｉ、比較例（本発明と附加重合性物質が異なる
）を示す。

溶液Ｂ ベンゾフェノン　　　　　　　　　　　２．５ｆビクト
リアビアブルー　　　　　　　α１４？エチルセロノル
プ　　　　　　　　１３０？メチルエチルケトン　　　
　　　　　１０？クロロホルム　　　　　　　　　　　
　１０？溶液Ｂ′ ベンゾフェノン　　　　　　　　　　２５？ビクトリア
ピアブルー　　　　　　　α１４？エチルセロソルブ　
　　　　　　　１３０？メチルエチルケト７　　　　　
　　　１０Ｆクロロホルム　　　　　　　　　　　　１
０？得られた感光性フィルムＦＢ及びＦＢ’を実施例１
と同様にラミネート、露光、Ｍ像を行なった。

基板との張りつき性を比較すると感光性フィルムＦＢは
良好であったが、感光性フィルムＦＢ’は。

基板から、ひきはがそうとして引張った際、簡単にはが
れた。次に実施例１に示すようなエツチング液に対して
耐性を調べ九が、感光性フィルム・ＦＢから形成された
レジスト像は、十分な耐性を有してい九が、感光性フィ
ルムＦＢ’から形成されたレジスト倫社部分的にはがれ
耐性が低いことを示し友。更Ｋｌｊ施例１の中のＩＩｌ
！１に示すメツ中工程において耐メツ中性を調べ九が、
感光性フィルムＦＢから形成され九しジスト偉は十分な
耐性を有してい九が、ＩＩＡ光性フィルムＦＢ’から形
成されたレジスト像は大部分がはがれ耐性は全く無かっ
た。

実ＩＩＡガ３ Ｉｌ液Ｃ及び溶液Ｃ′を用いて実施例１と同様の手法で
、感光性フィルムＦＣ（溶液Ｃより得られる）及び感光
性フィルムＦＣ’（溶液Ｃ′より得られる）を作成した
。感光性フィルムＦＣは１本発明の実施例を示し、感光
性フィルムＦＣ’は比較例（本発明における細状共重合
体のカルボキシル基含有量範囲の下限以下）を示す。感
光性フィルムＦＣ及びＦＣ’の感光層の膜厚は、各々２
３〜２６μｍの範囲でめった。

溶液Ｃ 式ｌ〕に示される附加重合性物質　　　　３５？ベンゾ
フエノン　　　　　　　　　　　２．１ビクトリアビア
ブルー　　　　　　　０．１４）エチルセロノルブ　　
　　　　　　１３０？メチルエチルケト７　　　　　　
　　１０？クロロホルム　　　　　　　　　　　　１１
以下余白 Ｈｍ １ （式中、ｎ及びｍは　ｎ＋ｍ＝１２になるような正の整
数） 溶液Ｃ′ 式〔組に示される附加重合性物質　　　　３５Ｎベンゾ
フエノン　　　　　　　　　　　２−５？４．４′−ビ
ス（ジエチルアミノ）ぺ／シフ　　α６ｔエノン ビクトリアビアブルー　　　　　　　０．１４Ｐエチル
セロンルプ　　　　　　　　１３０？メチルエチルケト
７　　　　　　　１０Ｆクロロホルム　　　　　　　　
　　　　１０）実施例１と同様にして露光まで行なった
。基板への張りつき性は、感光性フィルムＰＣ，ＦＣ’
とも同様で６つ皮。現像も実施例１と同様、ポリエチレ
／テレフタレートフィルムを除去した後、２饅、３０℃
の炭酸ナトリクム水溶液をスプレーすることによって行
なったが、ＦＣは約４０秒間で現像が達成され良好な現
慣性を示した。しかし一方ＰＣ’は１８０秒間スプレー
しても現像されず。

現慣性が不良であった。ＦＣより形成されたレジスト像
のめる基板は、更に実施例１とｒ＃Ｊ様に耐エツチング
液性、耐メッキ性を調べたが十分な耐性を有してい友。

実施例４ 溶液り及び溶液Ｄ′を用いて実施例１と同様の手法で感
光性フィルムＦＤ　（溶液りより得られる）及び感光性
フィルムＦＤ’（溶液Ｄ′よ抄得られる）を作成した。

感光性フィルムＦＤは９本発明の実施例を示し、感光性
フィルムＦＤ’は、比較例（本発明とは、附加重合性物
質が異なる）を示す。感光性フィルムＦＤ及びＦＤ’の
感光層の膜厚は、各々２３〜２６〃ｍの範囲でめった。

溶液Ｄ ベンゾフェノン　　　　　　　　　　　２５？ビクトリ
アビアブルー　　　　　　　α１４？エチル竜ロンルプ
　　　　　　　　１３１１メチルエチルケトン　　　　
　　　　１０）クロロホルム　　　　　　　　　　　　
１０）溶液Ｄ′ ベンゾフェノン　　　　　　　　　　　２５？４４′−
ビス（ジエチルアミノ）ペンシフ　　α１エノン ビクトリアピアブルー　　　　　　　α１４ｆＰエチル
セロンルブ　　　　　　　　１３０）メチルエチルケト
ン　　　　　　　　１（１クロロホルム　　　　　　　
　　　　　１０？実施例１と同様にして現像迄行なった
。基板への張りつき性、現偉性、解ａｍなどは感光性フ
ィルムＦＤとＦＤ’は、はぼ同様の特性を示し丸。更に
耐エツチング液についても双方の試料とも十分な耐性を
有していた。しかしながら実施例１Ｏ中の表１で示され
るメツ中工程において感光性フィルムＦＤから得られる
フォトレジスト像は十分な耐性を有していたが、感光性
フィルムＦＤ’から得られるフォトレジスト像は、耐性
が乏しく、半田メッキ後、レジスト展のはがれが発生し
た。感光性フ１ルムＦＤ’から得られるフォトレジスト
像は。

表２に示すような半田メッキ、即ち、ホウフッ化水素酸
濃度の低い半田メッキ液では、何ら問題はなかつ友。こ
れによって１本発明における附加重合性物質を使用した
感光性フィルムから得られるフォトレジスト像は、比較
例の７オトレジスト偉に比較して、半田メッキ液中のホ
ウフッ化水素酸濃度が、はるかに高い場合にも耐性を有
することを示し友。

以上、実施例で詳細にｉ１２明した様に１本発明になる
感光性樹脂組成物を用いて得られる感光性フィルムは、
優れ九耐メッキ性を有し、更に基板との張りつき性、＊
＊性など他の特性も優れるものである。

手続補正音（自発） 昭和５４３’ｌｌ＋　　月２８ 特許庁長官殿 １　事件の表示 昭和５６年特許願第９９２５４号 ２発明の名称 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体３　補正
をする者 事件との関係　　　　　特許出願人 名　称　１４４５＋日立化成工業株式会社４　　代　　
　　理　　　　人 ５捕正の対象 ［０ １ ０ＨＪ と参るのを ｒ　　　　　　　　　　　ｏｃ市 １１ ＯＨＪ と訂正しオす。

３）　同第１８頁ｊｌＥ７行に「附加重合性物」と６る
のを「附加重合性物質」と訂正します。

４）　同＃Ｉ４２頁第６行に［式〔層〕に示される附加
重合性物質」とあるのを［式（＊］Ｋ示される附加重合
性物質」と訂正します。

５）同第４３頁の上部の式の右Ｋ「式〔璽〕Ｊとあるの
を「式〔■〕」と訂正しオす。

６）同第４３頁下から８行目に「式〔履〕Ｋ示される附
加重合性物質」とめるのをｒｓｍｃの式ｙ）Ｋ示される
附加重合性物質」と訂正します。

以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ＩＪａ）　　下記式（Ｉ）で示される附加重合性物質（
   式中Ｒｓ　、　Ｒｓ　、　＆　１ｋＵ　ＲａｕＨ１ｋＢ
   ｃＨａであり、これらは同一であっても相異してもよ（
   、ｎ及びｍ１ｉｎ　十ｍ＝＝８〜ｌ　２になるような正
   の整数である） （ｂ）　　光重合一始剤 （Ｃ）　　カルボキシル基含有量が１７〜５０モル嘔、
   黴水率が４〜３０重量哄重量型１均分子量が３万〜６０
   万０鐘状共重合体 を含有して成る感光性樹脂組成物。 ２　附加重合性物質を３０〜６０重量部とし。 その中で式（１）で示される附加重合性物質を２０〜５
   ０重量部、光重合開始剤をα５〜１αＯ重量部、線状共
   重合体を４０〜７０重量部含有して威る豐許請求のｌ１
   Ｉｌ！第１項記載Ｏ感党性１ｌｌ１１組成物。 ＆　附加重合性物質が１式〔量〕で示される化合物であ
   る特許請求ｏｉ＋ｉｓ第１項着第１纂記載の感光性樹脂
   組成物。 以下余白 ０８ｍ １ （式中、ｎ及びｍは、ｎ−４−ｍ＝１０になるような正
   の整数でめる） ４、ｆａｌ　　附加重合性物質として式（Ｉｔ）で示さ
   れる化合物を２５〜３５重量部及びβ′−メタクリロイ
   ルオキシエチル−ｒ−クロル−β−ヒドロキシグロビル
   ー０−フタレートヲ５〜１５重量部 ０８ｍ （式中、ｎ及びｍはｎ−１−ｍ＝１０になるような正の
   整数である） （ｂ）　　光１合開始剤を０．５〜１Ｏ１０重量部ＦＣ
   １カルボキシル含有量が１７〜５０モル憾。 吸水率が４〜３０重量係１重量平均分子量が３万〜６０
   万の線状共１合体を４０〜７０キネ 重量夛 工 を含有してなる特許請求の範囲第１璃記載の感光性樹脂
   組成物。 ＆　さらにラジカル重合抑制剤及び着色物質を含有して
   成る特許請求の範囲第１項、第２項。 第３項ｔたは第４項記載の感光性樹脂組成物。 ＆　感光性樹脂組成物層の少なくとも、一方の２面に重
   合体フィルムを積層して成る感光性樹脂組成物積層体に
   おいて該感光性樹脂組成物層が。 （ａ）　　下記式ＣＩ）で示される附加重合性物質（式
   中＋　Ｒｓ　＋　Ｒ１＋　Ｒｓ及びＲ４はＨまたはＣＨ
   ｓであり、これらは同一であっても相異してもよ（、ｎ
   及びｍはｎ　−）ｍ＝　ｆ３〜１２になるような正の整
   数である） ｆｂｌ　　光重合開始剤 ｆｃｌ　　カルボキシル基含有量が１７〜５０モルチ、
   ｌ＆水率が４〜３０重量慢１重量平均分子量が３万〜６
   ０万の線状共重合体 を含有する感光性樹脂組成物層である感光性樹脂組成物
   積層体。 ７、感光性樹脂組成物層が附加重合性物質を３０〜６０
   重量部とし、その中で式〔目で示される附加重合性物質
   を２０〜５０重量部。 光重合開始剤を０．５〜１α０重量部、線状共重合体を
   ４０〜７０重量部含有する感光性樹脂組成物層である特
   許請求の範囲第６項記載の感光性樹脂組成物積層体。 ＆　附加重合性物質が式［ＩＤで示される化合物である
   特許請求の範囲第６填を九は第７項記載の感光性樹脂組
   成物積層体。 以下余白 Ｈａ １ （式中、ｎ及びｍｉｊ　ｎ　十ｍ＝　１０になるような
   正の整数でめる） ９、感光性樹脂組成物層の少なくとも、一方の面に重合
   体フィルムを積層して成る感光性樹脂組成物積層体にお
   いて該感光性樹脂組成物層が。 （ａｌ　　式〔１〕で示される化合物を２５〜３５重量
   部及びβ′−メタクリロイルオキシエチル−ｒ−ｐａミ
   ル−−ヒドロキシグロビルー〇−フタレートを５〜１５
   重量部 ？Ｈｓ （式中、ｎ及びａｓＦｉ、ｎ＋ｍ＝１０になるような正
   の整数でめる） ｔｂ）　　光重合開始剤を０．５〜１α０重量部（Ｃ）
   　　カルボキシル基含有量が１７〜５０モル＊、ａ水率
   が４〜３０重量参１重量平均分子量が３万〜６０万の線
   状共重合体を４０〜７０重量部 を含有する感光性ｍｓ組成物層である特許請求の範囲第
   ６項記載の感光性樹脂組成物積層体。 ｌα　感光性樹脂組成物層の中に、さらにラジカル重合
   抑制剤及び着色物質を含有して成る特許請求の範囲第６
   項、第７項、第８項または第９項記載の感光性樹脂組成
   物積層体。