JPH0351853A

JPH0351853A - 感光性樹脂組成物及び感光性積層体

Info

Publication number: JPH0351853A
Application number: JP18703689A
Authority: JP
Inventors: Yoshitaka Minami; 好隆南; Kazutaka Masaoka; 正岡　和隆; Hiromi Furubayashi; 寛巳古林; Hajime Kakumaru; 肇角丸
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Current assignee: Resonac Corp
Priority date: 1989-07-19
Filing date: 1989-07-19
Publication date: 1991-03-06

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、感光性樹脂組成物、さらに詳しくは印刷回路
板の作成に用いられるアルカリ性水溶液で現像可能な感
光性樹脂組成物及び該組成物を用いた感光性積層体に関
する。

［従来の技術］印刷回路板の製造に用いられるレジストとして、感光性
樹脂組成物が広く用いられている。さらに、この感光性
樹脂組成物を支持体層に積層した感光性積層体（以下、
感光性フィルムという）が広（用いられている。これら
感光性フィルムは未硬化部をアルカリ性水溶液で除去す
るアルカリ現像型が主流となっている。

この感光性フィルムの使用方法は、研磨や薬品処理した
印刷回路板用基板に感光層を積層し、次いで、所望のネ
ガマスクを通して露光した後、支持体を除去し、０．５
〜３重量％の炭酸ナトリウム水溶液等のアルカリ性水溶
液を用いて現像し、基板上にレジスト画像を形成する。

このようにして形成した画像をレジストとしてエツチン
グ又はめっき処理を行い、次いで、硬化レジストを水酸
化ナトリウム水溶液等を用いて剥離する。さらに、めっ
き処理の場合、アンモニア含有水などを用いてエツチン
グし、印刷回路板を製造する。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の工程において、エツチング又はめっき工程で銅に
対する十分な密着力が必要であり、特に、めっき液のし
み込みによるめっきもぐり等が発生しないことが必要で
ある。

特公昭５０−９１７７号公報では感光層のめっき耐性を
向上するのに有効な化合物として、ベンゾトリアゾール
、２−アミノベンゾチアゾール等が示されているが、こ
れらの化合物では、アルカリ現像型感光性フィルムでは
めっきに対する耐性が十分でないばかりか、現像後の除
去性が悪くなり、めっきの析出性が悪化したり、積層後
の経日により現像残りが発生しやすい。

〔課題を解決するための手段〕

これらアルカリ現像型の感光性樹脂組成物について、め
っき耐性や経口安定性を鋭意検討した結果、従来の問題
点であっためつき耐性、現像残り性に格段優れた組成物
を見出した。

即ち、本発明は、（Ａ）一般式（Ｉ）Ｃ式中Ｒは式中のイミダゾール環と縮合した芳香族炭化
水素核を完成する基であり、ハロゲン又はアルキル基で
置換されていてもよく、Ｒ１はＨｌＮａ、Ｋ又はＣＨｚ
　　Ｎ＋−Ｒｚ）ｚであり、Ｒ２は炭素原子数１〜１０
個のアルキル基である。〕で表される２−メルカプトイ
ミダゾール誘導体、（Ｂ）重量平均分子量がｔｏｏｏｏ
〜ａｏｏｏｏ。

で、カルボキシル基を１５〜５０モル％含有し、アルカ
リ性水溶液に可溶又は膨潤可能な線状高分子化合物、（Ｃ）常温で沸点がｉ　ｏ　ｏ　’ｃ以上であるエチレ
ン性不飽和化合物、（Ｄ）活性線により遊離ラジカルを生成しうる増感剤及
び／又は増感剤系並びに（Ｅ）一般式〔式中ＸはＣ０ＯＨであり、ｎは１〜３の正の整数、Ｚ
はＮＨ，ＯｌＳ又はＮ　　ＣＨ２ＮｆＲｚ）　ｚであり
、Ｒ２は炭素原子数１〜１０個のアルキル基であり、Ｙ
はＮ又はＣ−Ｒ３であり、ＲｆｆはＨｌＳＨ，ＮＨ２又
はハロゲン原子である。］で表されるカルボン酸又は芳
香族カルボン酸を含有してなる感光性樹脂組成物及びこ
の感光性樹脂組成物を支持体上に塗布してなる感光性フ
ィルムに関する。

本発明の感光性樹脂組成物は、上記の一般式（Ｉ）の２
−メルカプトイミダゾール誘導体の少なくとも１種を必
須成分として含有する。ここでＲはイミダゾール環と縮
合した芳香族炭化水素核を完成する基であり、非置換又
はハロゲン若しくはアルキル基で置換されていてもよい
。このイミダゾール環と縮合した芳香族炭化水素核とし
ては、ベンゼン核、ナフタレン核など挙げられ、ベンゼ
ン核又は炭素原子数１〜４個のアルキル基で置換された
ベンゼン核が好ましい。−船式（Ｉ）で表される化合物
のうち、好ましい化合物の例としては、２−メルカプト
ベンズイミダゾール、２−メルカプト−５−メチルベン
ズイミダゾール等が挙げられる。これらは２種以上用い
てもよい。これらの添加量は感光性樹脂組成物の高分子
化合物とエチレン性不飽和化合物の総和を１００重量部
とした際（以下、重量部はこの総和１００重量部に対す
る重量部とする。）０．０１重量部から効果が得られ、
剥離性等の特性を悪化させないために５重量部以下が好
ましい。

本発明の感光性樹脂組成物は、さらにアルカリ性水溶液
に可溶又は膨潤可能な線状高分子化合物を必須成分とし
て含む。このような線状高分子化合物には、特に制限は
ないが、カルボキシル基を分子中１５〜５０モル％含有
する高分子を少なくとも１種類含有することを必要とし
、２種類以上の線状高分子を含有しても良い。つまり、
感光性樹脂組成物としてアルカリ水溶液により現像可能
であれば良い。

通常用いられる線状高分子化合物としては、ビニル共重
合体が好ましく、ビニル共重合体に用いられる共重合性
単量体としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブ
チル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸
ラウリル、アクリル酸エチル、アクリル酸メチル、スチ
レン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニ
ルピロリドン、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアミド、
アクリロニトリル、メタクリレートリル、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルアクリ
レートなどとアクリル酸、メタクリル酸などとが用いら
れる。また、スチレン／マレイン酸共重合体のハーフエ
ステルなども用いられる。

線状高分子化合物は１ｏｏｏｏ〜３０００００の重量平
均分子量のものが好ましい。この添加量は４０〜８０重
量部が好ましい。４０重量部より少ないと、現像性の悪
化や、感光性樹脂組成物層の柔軟性が増加し、積層体と
した際、端面からのしみ出し、つまりエツジフュージョ
ン等が発生するおそれがあり、また、８０重量部を超す
と、感光性が低下するおそれがある。

本発明に用いられるエチレン性不飽和化合物は、常圧で
沸点がｌ　ＯＯ’Ｃ以上であり、例えば多価アルコール
にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物
、例えばテトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート
、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ　（メタ）アクリレート、テ
トラメチロールメタントリ　（メタ）アクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ポ
リプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等、グ
リシジル基含有化合物にα。

β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、例え
ばトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ
アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル
ジ（メタ）アクリレート等、多価カルボン酸、例えば無
水フタル酸等と水酸基及びエチレン性不飽和基を有する
物質、例えばβ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト等とのエステル化物、アクリル酸又はメタクリル酸の
アルキルエステル、例えば（メタ）アクリル酸メチルエ
ステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）
アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エ
チルヘキシルエステル等が用いられ、トリメチルへキサ
メチレンジイソシアナート、２価アルコール及び２価ア
ルコールの（メタ）アクリル酸のモノエステルを反応さ
せて得られるウレタンジアクリレート化合物、ビスフェ
ノールＡ１アルキレングリコール及びアクリル酸又はメ
タクリル酸の付加物、β−フェノキシエトキシエチルア
クリレート等も用いられる。これらの化合物は単独で、
あるいは２種類以上併用してもよい。この添加量は、２
０〜６０重量部が好ましい、この量が少ないと、十分な
硬化性が得られず、多いと、エツジフュージョン等が発
生するおそれがある。

活性線により遊離ラジカル生成しうる増感剤及び／又は
増感剤系（Ｄ）としては、例えば４，４′−ビス（ジメ
チルアミノ）ベンゾフェノン〔ミヒラーケトン）、４．
４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ジメチ
ルアミノ安息香酸エチルエステル、ジエチルアミノ安息
香酸エチルエステル、ベンジルジメチルケタール、ジメ
チルアミノ安息香酸ブチルエステル、ジメチルアミノ安
息香酸イソアミルエステル、ベンゾフェノン、２−クロ
ルチオキサントン、２．４−ジエチルチオキサントン、
２−プロピルチオキサントン等が挙げられる。この添加
量は、感光度の点から０．０１〜３０重量部が好ましい
。

本発明の感光性樹脂組成物は、さらに上記の一般式（Ｉ
Ｉ）で表されるカルボン酸あるいは芳香族カルボン酸の
少なくとも１種を必須成分として含有する。ここでＸは
カルボキシル基であり、芳香族環に他の置換基を有して
いてもよい。一般式（ＩＩ）において、ＺはＮＨｌｏ、
Ｓ又はＮ　　ＣＨｚ　　Ｎ　＋Ｒ２）　ｔのようにホル
ムアルデヒドとアミンを縮合させた化合物である。Ｙは
Ｎ又はＣ−Ｒ，であり、Ｒ３はＨ，ＳＨ，ＮＨ２又はハ
ロゲン原子が挙げられる。さらに、芳香族カルボン酸が
挙げられる。一般式（Ｉｔ）で表される化合物としては
、例えば５−カルボキシベンゾトリアゾール、５−カル
ボキシベンゾイミダゾール、４−カルポキシベンゾトリ
アゾール、５−カルボキシベンゾトリアゾールとホルム
アルデヒドとジ（２−エチルヘキシル）アミンとの縮合
物、５カルボキシベンゾチアゾール、マレイン酸、フタ
ル酸等が挙げられる。これらの添加量は０．０１〜５重
量部が好ましい。添加量が少ないと、安定性に対する効
果が少なく、多すぎると、現像時にレジストの光沢等が
なくなるおそれがある。

本発明の感光性樹脂組成物には、染料、顔料、可塑剤、
安定剤などを必要に応じて添加してもよい。

本発明の感光性樹脂組成物は、これを支持体上に塗布し
、感光性フィルムとしても使用される。

支持体としては、重合体フィルム、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレンからな
るフィルムが用いられ、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムが好ましい、これらの重合体フィルムは、後に感
光層から除去可能でな（てはならないため、除去が不可
能となるような材質であったり、表面処理が施されたも
のであってはならない。これらの重合体フィルムの厚さ
は、通常５〜１１００ｔＩ、好ましくは１０〜３０ｕｍ
である。これらの重合体フィルムの一つは感光層の支持
フィルムとして、他の感光層の保護フィルムとして感光
層の両面に積層してもよい。

感光性フィルムを製造するに際しては、まず成分（Ａ）
〜（Ｅ）を含む感光性樹脂組成物を溶剤に均一に溶解す
る。溶剤は感光性樹脂組成物を溶解する溶剤であればよ
く、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
ジクロルメタン、クロロホルム、メチルアルコール、エ
チルアルコール等が用いられる。これらの溶剤は単独で
又は２種以上混合して用いられる。

次いで、溶液状となった感光性樹脂組成物を前記支持フ
ィルム層としての重合体フィルム上に均一に塗布した後
、加熱及び／又は熱風吹き付けにより溶剤を除去し、乾
燥皮膜とする。乾燥皮膜の厚さには、特に制限はなく、
通常１０〜ｌＯＯμｍ、好ましくは２０〜６０μｍとさ
れる。

このようにして得られる感光層と重合体フィルムとの２
層からなる本発明の感光性フィルムは、そのまま又は感
光層の他の面に保護フィルムを更に積層してロール状に
巻き取って貯蔵される。

本発明の感光性フィルムを用いてフォトレジスト画像を
製造するに際しては、前記保護フィルムが存在している
場合には、保護フィルムを除去後、感光層を加熱しなが
ら基板に圧着させることにより積層する。積層される表
面は、通常、金属面であるが、特に制限はない、感光層
の加熱・圧着は、通常９０〜１３０°Ｃ１圧着圧力３　
ｋｇ　／　ｃｄで行われるが、これらの条件には特に制
限はない。

本発明の感光性フィルムを用いる場合には、感光層を前
記のように加熱すれば、予め基板を予熱処理することは
必要でない、積層性をさらに向上させるために、基板の
予熱処理を行うこともできるのはもちろんである。

このようにして積層が完了した感光層は、次いで、ネガ
フィルム又はポジフィルムを用いて活性光に画像的に露
光される。この際感光層上に存在する重合体フィルムが
透明の場合には、そのまま露光してもよく、また、不透
明の場合には、当然除去する必要がある。感光層の保護
という点からは重合体フィルムは透明で、この重合体フ
ィルムを残存させたまま、それを通して露光することが
好ましい。活性光は公知の活性光源、例えばカーボンア
ーク、水銀蒸気アーク、キセノンアーク、その他から発
生される光が用いられる。感光層に含まれる光開始剤の
感受性は、通常紫外線領域において最大であるので、そ
の場合は活性光源は紫外線を有効に放射するものにすべ
きである。もちろん光開始剤が可視光線に感受するもの
、例えば９、ｌＯ−フェナンスレンキノン等である場合
には、活性光としては可視光が用いられ、その光源とし
ては前記のもの以外に写真用フラッド電球、太陽ランプ
等も用いられる。

次いで、露光後、感光層上に重合体フィルムが存在して
いる場合には、これを除去した後、アルカリ水溶液を用
いて例えばスプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラ
ッピング等の公知方法により未露光部を除去して現像す
る。アルカリ性水溶液の塩基としては、リチウム、ナト
リウムあるいはカリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ
、リチウム、ナトリウムあるいはカリウムの炭酸塩又は
重炭酸塩等の炭酸アルカリ、リン酸カリウム、リン酸ナ
トリウム等のアルカリ金属リン酸塩、ピロリン酸ナトリ
ウム、ビロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸
塩などが用いられ、特に炭酸ナトリウムの水溶液が好ま
しい。現像に用いるアルカリ水溶液のｐ旧よ、好ましく
は９〜１１０間であり、また、その温度は感光層の現像
性に合わせて調節される。該アルカリ水溶液中には、表
面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機
溶剤を混入させてもよい。

さらに、印刷配線板を製造するに際しては、現像された
フォトレジスト画像をマスクとして露出している基板の
表面をエツチング、めっき等の公知方法で処理する。次
いで、フォトレジスト画像は通常、現像に用いたアルカ
リ水溶液よりさらに強アルカリ性の水溶液で剥離される
。この強アルカリ性の水溶液としては、例えば２〜１０
重景％の水酸化ナトリウム等が用いられる。

〔実施例〕

次に、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。下
記側中の「％」は、特に断らない限り、「重量％」を意
味する。

実施例１次に示す組成の溶液（溶液Ａ）を、第１図に示す装置を
用いて２５μｍ厚さのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム上に均一に塗布し、１００　’Ｃの熱風対流式乾燥
機（図中記号７）で約３分間乾燥して溶剤を除去した。

第１図において、１はポリエチレンテレフタレートフィ
ルム繰り出シロール、２．３．４．９及び１０はロール
、５はナイフ、６は感光性樹脂組成物の溶液、８はポリ
エチレンフィルム繰り出しロール、１１は感光性フィル
ム巻き取りロールである。感光層の乾燥後の厚さは約４
０μｍであった。

且丘へメタクリル酸／メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチ
ル／アクリル酸２−エチルヘキシル＝２３１５１／６／
２０　（％）の共重合体、重量平均分子！約８００００
の４０％エチルセロソルブ溶液１５０重量部ＢＰＥ−１０（新中村化学工業■製商品名、ビスフェノ
ールＡのエチレンオキシド付加物のメタクリレート）　
　　　　　　　　　　　３０重量部ＡＭＰ６０Ｇ（新中
村化学工業■製商品名、フェノキシテトラエチレンオキ
シドのアクリレート）１０重量部ジエチルアミノベンゾフェノン（ＤＥＡＢ）０．１０重
量部ベンゾフェノン（ＢＰ）　　　　　　　　５重量部２−
メルカプトベンゾイミダゾール　０．１重量部５−カル
ボキシベンゾトリアゾール　０．１重量部ビクトリアピ
ュアブルー（ＶＰＢ）　　０．２重量部ロイコクリスタ
ルバイオレット（ＬＣＶ）１．０重量部トリブロモメチルスルホン　　　　　１．０重４ａメチ
ルエチルケトン　　　　　　　　３０重量部次いで、感
光層の上にさらに第１図を示す装置を用いてポリエチレ
ンフィルムを保護フィルムとして貼り合わせ、本発明の
感光性積層体を得た。

別に、銅板を両面に積層したガラスエポキシ材である印
刷配線板用基板（日立化成工業■製商標ＭＣＬ−Ｅ−６
１）の銅表面をクレンザ−で研磨し、水洗し、空気流で
乾燥した。この基板（２３”Ｃ）に日立化成工業■製う
ミネーター（型式ＨＬＭ−１５００）を用イテ、積層温
度１１０°Ｃ及び積層圧力３ｋｇ／ｃｄで前記感光性フ
ィルムを製造した。その製造直後に感光層を手で引張っ
たが、感光層は基板によ（密着しており、剥がれること
はなかった。

次いで、得られた試料にネガフィルムを使用して３ＫＨ
の高圧水銀灯に９０ｃｍの距離から６０秒間露光を行っ
た。

現像は、ポリエチレンテレフタレートフィルムを除去し
た後、３０°Ｃの１％炭酸ナトリウム水溶液をスプレー
することにより約６０秒間で行われ、良好な現像性を示
した。

次に、下記のめっき工程を行ったが、めっきもぐりは観
察されなかった。さらに、積層後、３０°Ｃで相対湿度
９０％の環境に２日間保存し、現像したが、現像残りは
発生せず、その後のめっきでも良好であった。

笈ユｌ工丘（イ）脱脂ＰＣ−４５５（脱脂剤、メルテックス社商標）、３０％
、５０°Ｃ１５分浸漬（ロ）水洗常温、６０秒、３回（ハ）ソフトエツチング過硫酸アンモニウム水溶液、２５０ｇ／ｊ！、常温、９
０秒（ニ）水洗常温、６０秒（ホ）硫酸浸漬２０％硫酸、常温、６０秒（へ）硫酸銅めっきめっき液組成硫酸銅　　　　　　　　　　７５　ｇ／ｌ硫酸（９８％
）　　　　　　１９０　ｇ／ｌ試薬塩酸（３６％）０．
１２ｃｃ／１カバーグリムＰＣ５ｃｃ／１（ジャパンロナール社製商標）純水　　　全Ｉｆｆとするための残り電流密度・・・２．０Ａ／ｄイ、常温、６０分（ト）水
洗常温、６０秒、３回（チ）硫酸浸漬２０％硫酸、常温、６０秒（す）水洗常温、６０秒（ヌ）ホウフッ化水素酸浸漬２０％ホウフッ化水素酸、常温、６０秒（ル）半田めっ
きめっき液組成ホウ酸　　　　　　　　　　　２５　ｇ／７！ホウフッ
化水素酸水素酸　　　４００ｇ／１２ホウフッ化鉛　　
　　　　　　１１５ｇ／ｊｌ！ホウフッ化錫　　　　　
　　　２３．１　ｇ　／　１ペプトン　　　　　　　　
　　　　５　ｇ　／　４２純水　　　　　　全１１１と
するための残り電流密度・・・１．５Ａ／ｄ屑、常温、
１８分（オ）水洗常温、６０秒、３回実施例２実施例１の５−カルボキシベンゾトリアゾールを５−カ
ルボキシベンゾトリアゾールのホルムアルデヒドとジー
（２−エチルヘキシル）アミンの縮合体０．２重量部に
変更した組成について、実施例１と同様の評価を行った
。その結果、めっきもぐりは見られなかった。さらに、
３０°Ｃで相対湿度９０％で、２日間保存後、現像残り
は発生しなかった。

比較例１実施例１の５−カルボキシベンゾトリアゾールと２−メ
ルカプトベンゾイミダゾールを除去した組成について、
実施例１と同様の評価を行った結果、著しいめっきもぐ
りが発生した。更に３０°Ｃで相対湿度９０％で２日間
で、やや現像残りが発生した。

比較例２比較例１の組成に１．２．３−ベンゾトリアゾール０．
１重量部を添加した組成を評価した結果、若干めっきも
ぐりが発生した。さらに、３０°Ｃで相対湿度９０％で
２日間で、完全に現像残りし、めっきが付着しなかった
。

〔発明の効果］以上のとおり、本発明の感光性樹脂組成物は、耐めっき
性が良好で、基板積層時の安定性に優れている。また、
本発明により、優れた特性の感光性フィルムを提供する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、実施例で用いられた感光性フィルムの製造装
置の系統図である。１・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム繰り出し
ロール、２．３．４．９．１０・・・ロール、５・・・ナイフ、６・・・感光性樹脂組成物の溶液、７・・・乾燥機、

Claims

【特許請求の範囲】１、（Ａ）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔式中Ｒは式中のイミダゾール環と縮合した芳香族炭化
水素核を完成する基であり、ハロゲン又はアルキル基で
置換されていてもよく、Ｒ＿１はＨ、Ｎａ、Ｋ又はＣＨ
＿２▲数式、化学式、表等があります▼であり、Ｒ＿２
は炭素原子数１〜１０個のアルキル基である。〕で表さ
れる２−メルカプトイミダゾール誘導体、（Ｂ）重量平
均分子量が１００００〜３０００００で、カルボキシル
基を１５〜５０モル％含有し、アルカリ性水溶液に可溶
又は膨潤可能な線状高分子化合物、（Ｃ）常温で沸点が１００℃以上であるエチレン性不飽
和化合物、（Ｄ）活性線により遊離ラジカルを生成しうる増感剤及
び／又は増感剤系並びに（Ｅ）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II）〔式中ＸはＣＯＯＨであり、ｎは１〜３の正の整数、Ｚ
はＮＨ、Ｏ、Ｓ又はＮ−ＣＨ＿２▲数式、化学式、表等
があります▼であり、Ｒ＿２は炭素原子数１〜１０個の
アルキル基であり、ＹはＮ又はＣ−Ｒ＿３であり、Ｒ＿
３はＨ、ＳＨ、ＮＨ＿２又はハロゲン原子である。〕で
表されるカルボン酸又は芳香族カルボン酸を含有してな
る感光性樹脂組成物。２、高分子化合物（Ｂ）とエチレ
ン性不飽和化合物（Ｃ）の総和１００重量部に対して、
（Ａ）成分を０．０１〜５重量部、（Ｅ）成分を０．０
１〜５重量部含有する請求項１記載の感光性樹脂組成物
。３、一般式（II）において、ｎが１、ＺがＮＨ又はＮ−
ＣＨ＿２▲数式、化学式、表等があります▼、ＹがＮで
ある請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物。４、請求項１記載の感光性樹脂組成物を支持体上に塗布
してなる感光性積層体。