JPS6324243A - カルボキシベンゾトリアゾ−ルを含む光重合性組成物 - Google Patents

カルボキシベンゾトリアゾ−ルを含む光重合性組成物

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JPS6324243A
JPS6324243A JP62128557A JP12855787A JPS6324243A JP S6324243 A JPS6324243 A JP S6324243A JP 62128557 A JP62128557 A JP 62128557A JP 12855787 A JP12855787 A JP 12855787A JP S6324243 A JPS6324243 A JP S6324243A
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JP
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acrylic
methacrylic
comonomer
carboxybenzotriazole
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JP62128557A
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English (en)
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グレゴリー・チヤールズ・ウイード
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EIDP Inc
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EI Du Pont de Nemours and Co
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は組成物の基体への接着能力に影響を与える添加
物を含む感光性組成物、すなわち接着促進剤を含む組成
物に関する。本発明は両性ポリマーを結合剤として含む
感光性組成物にも関する。
米国特許第３，６２２，３３４号は、式（上記式中、Ｒ
は置換または未置換アリーレンで、ＳＤ、ＸはＣＨ２、
ＮＨ，Ｓ、ＯｆたはＳｅであり、ＺはＮまたはＣ−Ｙで
あり、ＹはＨ、ＮＨ２、ノーロダンまたはアルキルであ
る）の複素環式窒素含有化合物の少量を接着促進剤とし
て含有するフォトポリマーレジスト組成物を記載してい
る。
米国特許ｉ４，２９３，６３５号は付加重合性エチレン
系不飽和モノマーと活性線照射によって活性化可能が開
始系と両性ポリマーとを含む、常温流れが減少された感
光性組成物を記載している。
本発明は、 （ａ）　　付加重合性エチレン系不飽和モノマーと、（
ｂ）　　活性線照射によって活性化可能な開始剤系と１ 、Ｃ）　　（１）アクリル系もしくはメタクリル系のア
クリルアミドもしくはメタクリルアミド、またはアミノ
アルキルアクリレートもしくはアミノアルキルメタクリ
レート、マたはこれらのいずれかの混合物である少なく
とも１種の塩基性コモノマーと（２）１個またに２個以
上のカルボキシル基を含む少なくとも１種の酸性コモノ
マーと（３）性質がアクリル系またはメタクリル系であ
る少なくとももう１つのコモノマーとの相互重合から誘
導さ几る両性ポリマーと からな９、さらに、組成物中に のカルポキシベンゾトリアゾール が配合されてなることを特徴とする感光性組成物だ関す
る。
本発明はフリント（Ｆｌｉｎｔ）およびピレツテ（Ｐｉ
ｌｅｔｔｅ）の米国特許第４，２９５，６５５号に記載
された感光性組成物に比べて改良された組成物および方
法を指向するものである。
米国特許第４，２９３，６３５号には、改良された常温
流れを有しかつ付加光重合性エチレン系不飽和モノマー
と、活性線照射によって活性化可能な開始系と、両性有
機ポリマー結合剤とからなる感光性組成物が記載されて
いる。
該特許の記載は参照文として本明細書罠含まれるものと
する。本発明は特殊な接着促進剤を含む改良された組成
物に関する。
両性結合剤の使用は感光性組成物に於て有利であること
が見いだされた。これらの組成物は、通常、支持体フィ
ルムと接触したロールの形で貯Ｒされる。感光性組成物
の反対側の表面上てカバーフィルムを用いることができ
るが、ある実施態様に於ては、費用の節約のため、かつ
重要なことＫはカバーフィルムと感光性組成物との間の
十分な接着を得ることが困難なために、好ましくはカバ
ーフィルムは省かれる。
フォトレジストのようなこれらの組成物の使用に於ては
、銅をクラッドしたガラス繊維エポキシパネルのような
基体表面上への積層が行われる。かかる結合剤と共に調
合され得る多くの組成物では、感光性フィルム表面と基
体表面との間に不十分な接着が存在し、活性線照射によ
る感光材料の像様露光後の現像のような慣用の処理を妨
害する。慣用の接着促進剤は不十分な接着特性を与える
ことが一般に見いだされた。
感光性組成物に於けるこの問題を解決するため、！Ｊ層
中、両表面間に液体界面を使用すると十分な接着が可能
（（なる。慣用的には、界面活性剤を含むことができる
水が満足な積層を進行させるために適当である。
湿潤性液体の使用によって基体表面上に密着した積層感
光性フィルムを得ることが可能であるが、それにも拘ら
ず、ある場合には、特に基体に液体が入る可能性のある
孔がるる場合には、液体無しに積層することが望ましい
。
カルボキシベンゾトリアゾールの接着促進剤の使用は、
両性結合剤を含む感光性組成物、特に乾式積層時に不満
足な接着が得られる組成物の乾式接着を劇的に増加させ
ることが発見された。接着度は、放電処理したポリエチ
レンテレフタレートのような支持体フィルム上の感光性
組成物・を銅をクラッドしたパネルのような基体へ適用
する試験方法によって測定される。直ちに、あるいは短
時間後、感光性組成物から支持体フィルムは除去される
。組成物表面へ感圧テープを貼り、約１分から１．５分
後、テープを一定角度で組成物表面から剥がすと、テー
プと共罠組成物の除去を起こさせることがあり得る。
本発明の接着促進剤以外の本発明の感光性組成物の成分
は米国特許第４，２９３，６２５号の記載によって明示
きれているように既知である。
感光性組成物の結合剤の必要成分である両性ポリマーは
、（１）アクリル系もしくはメタクリル系のアクリルア
ミドもしくはメタクリルアミド、またはアミノアルキル
アクリレートもしくはアミノアルキルメタクリレート、
またはこれらのいずれかの混合物である少なくとも１ね
の塩基性コモノマーと（２）１個または２個以上のカル
ボキシル基を含む少なくとも１種の酸性コモノマーと（
３）性質がアクリル系またはメタクリル系でるる少なく
とももう１つのコモノマーとの相互重合（ｉｎｔｅｒｐ
ｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）から誘導されるインター
ポリマーである。
適用可能なＮ−置換アクリルアミドま７ＩＣはＮ−置換
メタクリルアミドは２〜１２＠の炭素原子を含むアルキ
ル基で置換される。適用可能なアクリルアミドおよびメ
タクリルアミドには、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ　
−ｇ三ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−オクチルアクリ
ルアミド、Ｎ−第三オクチルアクリルアミド、Ｎ−デシ
ルアクリルアミド、Ｎ−ドデシルアクリルアミドならび
に対応するメタクリルアミドが含まれる。適当なアミノ
アルキル化合物は０１〜４アルキル（ｃ’２〜４）アミ
ノアルキルアクリレートおよび同メタクリレートである
。
本発明に用いられる両性ポリマーのための適当な酸性コ
モノマーは少なくとも１個の有効なカルボン酸基を有す
るコモノマーでらろ。これらのコモノマーには、アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイ
ン酸、フマル酸および例えばメチル水素マレエートおよ
びブチル水素フマレートのような一７レイン酸および７
マル酸のＣ１〜Ｃ４アルキル半エステル、ならびに実務
者がその使用を所望する特別なインターポリマー系で共
重合されることができる他の酸性モノマーが含まれる。
白業者には公知であるように、少なくとも１種の酸性コ
モノマーは選択されたインターポリマー系で容易に重合
可能であるように選ばれねばならない。
両性ポリマーの接着、相溶性、水溶性、硬さ、可撓性、
静電防止性などのよりなある種の性質を改良または増強
するためＫ、次のアクリルコモノマーおよびメタクリル
コモノマーのいずれか、すなわちメチルアルコール、エ
チルアルコール、フロビルアルコール、メチルアルコー
ル、オクチルアルコール、ラウリルアルコ・−ルのよう
な１〜１２個の炭素原子を有する脂肪族アルコールのア
クリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル；アクリ
ル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ヒドロキシプロ
ピル、アクリル酸ヒドロキシブチル、メタクリル酸ヒド
ロキシブチル、アクリル酸ヒドロキシステアリル、メタ
クリル酸ヒドロキシステアリル、アクリル酸ヒドロキシ
エチル、メタクリル酸ヒドロキシエチルのようなアクリ
ル酸およびメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル
；　Ｎ、Ｎ’−’；エチルアミノエチルアクリレート、
Ｎ−第三ブチルアミノプロピルアクリレート、Ｎ、Ｎ’
−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ−第三ブチ
ルアミノエチルメタクリレートのようなアクリル酸およ
びメタクリル酸のアルキル（ｃ　１＜４　）アミノアル
キルＣＣ’２〜Ｃ４）エステル；ジメチルアミノエテル
メタクリレートと硫酸ジメチル、硫酸ジエチルなどとの
第四吸化生成物；ジアセトンアクリルアミド；酢駿ビニ
ル、プロピオン酸ビニルのようなビニルエステル；スチ
レン、α−メチルスチレンのようなスチレンモノマーを
用いることができる。
好ましい両性インターポリマーは、インターポリマーの
全重量に対して、約３０〜６０条のＮ−置換アクリルア
ミドまたはＮ−置換メタクリルアミドと、１０〜２０％
（好ましくは１２〜１８価）の酸性コモノマーと、５５
％までの少なくとも１種の共重合性コモノマーとを含む
両性インターポリマーである。不明、細書中ならびに本
発明の特許請求の範囲中に示される％はインターポリマ
ーのコモノマーが全部で１００チになるようにとられる
べきものである。
３５〜４５条のＮ−第三オクチルアクリルアミドと、１
２〜１８％のアクリル酸またはメタクリル酸と、６２〜
３８％のメタクリル酸メチルと、２〜１０％のヒドロキ
シプロピルアクリレートと、２〜１０％のアルキル（０
１〜Ｃ４）アミン（０２〜Ｃ４）アルキルアクリレート
または同メタクリレートとを含む両性インターポリマー
は、本発明のための最良の物理的性貫の組合わせをもっ
ているので特に好ましい。
両性ポリマーとの組合わせとして用いることができる適
当な共結合剤（ｃｏｂｉｎｄｅｒｓ）には次のものが含
まれる。ポリアクリレートおよびα−アルキルポリアク
リレートエステル、例えばポリメチルメタクリレートお
よびポリエチルメタクリレート；ポリビニルエステル、
例えばポリビニルアセテート、ボリルアセテート／アク
リレート、ポリビニルアセテート／メタクリレートおよ
び加水分解されたポリビニルアセテート；エチレン／酢
酸ヒニルコホリマー；ホリスチレンポリマーおよびコポ
リマー、例えば無水マレイン酸およびマレイン酸エステ
ルとのコポリマー；塩化ビニリデンコポリマー、例えば
塩化ビニリデン／アクリロニトリルコポリマー、塩化ビ
ニリデン／メタクリレートコポリマーおヨヒ塩化ビニリ
デン／酢酸ビニルコポリマー；ポリ塩化ビニルおよび環
化ビニルコポリマー、例えばポリビニルクロリド／アセ
テートコポリマー；飽和および不飽和ポリウレタン；合
成ゴム、例えばブタジェン／アクリロニトリルコポリマ
ー、アクリロニトリル／ブタジェン／スチレンコポリマ
ー、メタクリレート／アクリロニトリル／ブタジェン／
スチレンコポリマー、２−１０ロブタジエン−１，３ポ
リマー、塩素化ゴム、およびスチレン／フタジエン／ス
チレンプロソクコホリマー、スチレン／インプレン／ス
チレンブロックコポリマー；約４，０００〜１．０００
．　ＯＯＯの平均分子量を有するポリグリコールの高分
子量ポリエチレンオキシド：エポキシド、例えばアクリ
レート基またはメタクリレート基を含むエポキシド；コ
ポリエステル、例えば弐ＨＯ（ｃＨ２）ｎＯＨ（上記式
中、ｎは２〜１０の整数である）と（１）へキサヒドロ
テレフタル酸、セバシン酸およびテレフタル酸ト、（２
）テレフタル酸、イソフタル酸およびセバシン酸と、（
３）テレフタル酸およびセバシン酸と、（４）テレフタ
ル酸およびイソフタル酸との反応生成物から製造される
コポリエステル、および（５）該グリコールと（１）テ
レフタル酸、イソフタル酸およびセバシン酸と、および
（１１）テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸およ
びアジピン酸とから製造されるコポリエステルの混合物
；ナイロンまたはポリアミド、例えばＮ−メトキシメチ
ルポリヘキサメチレノアジパミド；セルロースエステル
、例えば酢酸セルロース、酢酸コハク酸セルロース、酢
酸酪酸セルロース；セルロースエーテル、ｆｌｕ、ｔハ
メチルセルロース、エチルセルロース、（ンジルセルロ
ース；ポリカーボネート；ポリビニルアセタール、例え
ばポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリ
ホルムアルデヒド。
共結合剤は、好ましくは組成物を水性現像剤でなおさら
に処理可能にするために十分な酸性基または他の基を含
む。有用な水性処理可能な結合剤には、米国特許第３，
４５８，３１１号中および英国特許第１．５０７．７０
４号中に記載されている結合剤が含まれる。
他の結合剤成分に対する両性ポリマーの量は主として所
望の性質の関数である。感光性層を非粘着性にしかつ常
温流れの減少を明示するためには少なくとも約２重量％
の両性ポリマー、すなわち主結合剤が所要であることが
見いだされた。しかし、少なくとも約５重量％の両性ポ
リマーが好ましく、さらに高い量も有利て使用されるこ
とができる。ポリマー結合剤の１００チまでの量が、常
温流れの減少に於けるなお一層の改良をもって用いられ
ることができる。当業者によって認められるように、所
定の系で粘着性および（または）常温流れの減少された
レベルを得るための正確な所要ｉは、特に、可塑化用成
分対結合剤の比率にも依存する。
単独ノモノマーとして、あるいは他のモノマーと組合わ
せて用いることができる適当なモノマーには、次のもの
が含まれる。ｔ−ブチルアクリレート、１．５−ベンタ
ンジオールジアクリレート、　Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ
エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、ヘキサメチレングリコー
ルジアクリレーｈ、１．３−プロパンジオールジアクリ
レート、デカメチレングリコールジアクリレート、デカ
メチレングリコールジメタクリレート、１．４−シクロ
ヘキサンジオールジアクリレート、２．２−ジメチロー
ルプロパンジアクリレート、グリセロールトリアクリレ
ート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリ
セロールトリアクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート、はンタエリトリトールトリアクリレー
ト、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリア
クリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパ
ントリメタクリレートおよび米国特許第３，３８０，８
３１号記載のｒｒ＋様な化合物、２．２−ジ（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）−フロ・ぞンジアクリレート、深ンタ
エリトリトールテトラアクリレート、２．２−ン−（ｐ
−ヒドロキシフェニル）−フロパンジメタクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、ホリオキシエ
チルー２，２−ジー（ｐ−ヒドロキシフェニル）−フロ
パンジメタクリレート、ビスフェノール−Ａのジー（３
−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテ
ル、ビスフェノール−Ａのジー（２−メタクリルオキシ
エチル）エーテル、ビスフェノール−Ａのジー（６−ア
クリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビ
スフェノール−Ａのジー（２−アクリルオキシエチル）
エーテル、テトラクロロ−ビスフェノール−Ａのジー（
６−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピノリエー
テル、テトラクロロ−ビスフェノール−Ａのジー（２−
メタクリルオキシエチル）エーテル、テトラブロモ−ビ
スフェノール−Ａのジー（３−メタクリルオキシ−２−
ヒドロキシプロヒ／ｌ／　）　ｘ−−ｙ−ル、テトラブ
ロモ−ビスフェノール−Ａのジー（２−メタクリルオキ
シエチル）エーテル、１．４−ブタンジオールのジー（
６−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エー
テル、ジフェノール酸のジー（３−メタクリルオキシ−
２−ヒドロキシプロピル）エーテル、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ポリオキシブロビルトリメチ
ニールブロノゼントリアクリレート（４６２）、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ブチレングリコールジ
メタクリレート、１，３−プロパンジオールジメタクリ
レート、１，２．４−ブタントリオールトリメタクリレ
ート、２，２．４−）リメテルー１，３−択ンタンジオ
ールジメタクリレート、はンタエリトリトールトリメタ
クリレート、１−フェニルエチレン−１，２−ジメタク
リレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレート
、トリメチロ−ルプロパントリメタクリレート　１．５
−／％？ンタンジオールジメタクリレート、ジアリルフ
マレート、ヌチレン、１．４−−＜ンゼンジオールジメ
タクリレート、１．４−ジイソプロペニルベンゼン、お
よび１，３．５−　トリイソプロペニルベンゼン。
上に挙げたエチレン系不飽和モノマーに加えて、光硬化
性層は、少なくとも１種の、少なくとも３０００分子量
を有する遊離基開始、連鎖成長、付加重合性、エチレン
系不飽和化合物をも含むことができる。この型の好まし
いモノマーは２〜１５個の炭素のアルキレングリコール
または１〜１０個のエーテル結合のポリアルキレンエー
テルグリコールから製造されるジアクリル識アルキレン
グリコールまたはジアクリル酸ポリアルキレングリコー
ル、および米国特許第２，９２７，０２２号中に記載さ
れているモノマー、例えば複数の付加重合性エチレン結
合、特に末端結合として存在するときの付加重合性エチ
レン結合を有する七ツマ−である。特に好ましいこの型
のモノマーはかかる結合の少なくとも１個、好ましくは
ほとんどが炭素と二重結合した炭素、および窒素、酸素
、硫黄のようなペテロ原子と二重結合した炭素を含む二
重結合炭素と共役しているモノマーである。特に傑出し
たこの型の七ツマ−はエチレン系不飽和基、特にビニリ
デン基がエステルまたはアミド構造と共役しているかか
るモノマーである。
活性線照射によって活性化可能であジかつ１８５℃以下
では熱的に不活性な、好ましい遊離基生成性付加重合開
始剤には、共役炭素環式環系中に２個の環内炭素原子を
有する化合物である置換または未置換の多核キノン、例
えば９，１〇−アントラキノン、１−クロロアントラキ
ノン、２−クロロアントラキノン、２−メチルアントラ
キノン、２−エチルアントラキノン、２−第３−ブチル
アントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，４
−す７トキノン、９，１０−７エナントレンキノン、１
．２−ベンズアントラキノン、２＋３−ベンズアントラ
キノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２．３−
ジクロロナフトキノン、１．４−ジメチルアントラキノ
ン、２，３−ジメチルアントラキノン、２−フェニルア
ントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、ア
ントラキノンα−スルホン酸のナトリウム塩、６−クロ
ロ−２−メチルアントラキノン、レチンキノン、　　７
，８，９．１０−テトラヒドロナフタセンキノン、１．
２，３．４−テトラヒドロベンズ（ａ）アントラセン−
７，１２−ジオンが含まれる。同じく有用な光開始剤は
、中には８５℃ぐらいの低温で熱的に活性なものもある
が、米国特許第２，７６０，８６３号中に記載されてお
Ｑ、ベンゾインエーテル、ビパロインエーテル、アシフ
ィンエーテル、例えばベンゾインメチルエーテルおよび
ベンゾインエチルエーテルのようなビシナルケトアルド
ニルアルコール；α−メチルベンソイ／、α−アリルベ
ンゾイン、α−フェニルベンゾインを含むα−炭化水素
置換芳香族アシロインを含む。
米国特許第２，８５０，４４５号、第２，８７５，０４
７号、第３、０９７．０９６号、第３，０７４，９７４
号、第５，０９７，０９７号、第３，１４５，１０４号
に記載されている光還元性染料および還元剤ならびにフ
ェナジン類、オキサジン類、キノン類の染料；米国特許
第３，４２７，１６１号、第３，４７９，１８５号、第
３，５４９，３６７号に記載されているミヒラーケトン
、ベンゾフェノン、２．４．５−トリフェニル−イミダ
ゾリル２量体と水素供与体、およびそれらの混合物は開
始剤として使用することができる。光開始剤および光禁
止剤と共に有用なものは、米国特許第４，１６２，１６
２号記載の増感剤である。
光重合性系の熱重合を防止するため、本発明の組成物は
好ましくは禁止剤をも含む。
光重合性組成物中に用いることができる熱重合禁止剤は
ｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、アルキル置換
ヒドロキノン、アリール置換ヒドロキノン、アルキル置
換キノン、アリール置換キノン、第６−ブチルカテコー
ル、ピロガロール、樹脂酸銅、ナフチルアミン、β−ナ
フトール、塩化第一銅、２，６−ジー第３−ブチル−ｐ
−クレゾール、フェノチアジン、ピリジン、ニトロベン
ゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−トルキノン、クロラニル
である。米国特許第４ｊ６８，９８２号中に記載されて
いるニトロン組成物も熱重合禁止剤として有用である。
レジスト像の可視性を増加するために種々の染料お：び
顔料を添加することができる。しかし、用いられる着色
剤は用いられる活性照射に対して好ましくは透明でなけ
ればならないが、可視スペクトル領域または紫外スペク
トル領域中の他の放射線には不適切または強く吸収性で
あってもよい。
本発明の感光性組成物は、感光性層が支持体フィルム上
に被徨されるレジスト素子の感光性層として最もしばし
ば用いられる。
慣用のフォトレジスト素子に於て、これら素子がロール
の形で貯蔵されるとき、感光酸層と支持体の反対側表面
との間のブロッキングを防ぐために、除去可能なカバー
シートで感光性ｉ（Ｊを保護することが必要であるか、
あるいは少なくとも非常に望址しい。像形成露光中の感
光性層と７オトソールとの開のブロッキングを防止する
ために除去可能な支持体フィルムで基体へ積層てれる感
光性層を保護することも望ましい。
両性インターポリマー含有感光性組成物の非常に重’Ｐ
な利益ｉ１１．感光性層のブロンキング傾向が十分に低
いのでカバーシートや支持体フィルムを用いる必要がな
いということである。かくして、感光性層が低い常温流
れをも有するので、本発明の感光性組成物でつくったフ
ォトレジスト素子はカバーシートをもつ必要がない。し
かし、それでも、カバーシートを用いることが所望な場
合にはカバーシートを用いることができることは認めら
れるであろう。同様に、かかる組成物は像形成露光中に
支持体フィルムをもつ必要がなく、より高い解像度のレ
ジスト像の生成を可能：てする。
本発明の光重合性組成物は例えば約ｏ、ｏｏｏｓ口（約
０．０００３比）〜約０．０２５ｃＲ（約０．０１１ｎ
）またはそれ以上の乾燥コーティング厚さで支持体上に
被ダされる。好ましくは温度変化に対する高度の寸法安
定性を有する適当なざ’Ｉ　￥Ｊ、可能な支持体は、高
分子量ポリマー、例えばポリアミド、ポリオレフィン、
ポリエステル、ビニルポリマー、セルロースエステルか
らなる多柱のフィルムから選ぶことができ、例えば約０
．０００６”　（０，０００２５ｉｎ）　〜約０．０２
ｆｆ（０，００８ｉｎ　）またはそれ以上の厚さを有す
ることができる。剥離可能な支持体を除去する前に露光
すべき場合には、勿論、支持体は入射する活性放射線の
実質的分画を透過しなければならない。［イＩ塘可紺な
支持体を露光前１余去するならば、かかる１５：］限は
ない。特に適当な支持体は、例えば約０．００２５ｃ！
ＩＬ（約Ｏ０００１ｉｎ）の厚さを有する透明なポリエ
チレンテレフタレートフィルムである。
以下の実施例中、部および条はすべて重量Ｖこよろ。
実施例 下記成分を有するコーティング組成物を０．００２５１
ｍ（ｉミル）のポリエチレンテレフタレートフィルム支
持体上に塗布し、乾燥して０１００２５４ｃ＋ｎ（０，
００１ｉｎ）の厚さを得る。
成　　分　　　　　　　　　　　　　　　　　　重量部
分子量約３００．ＯＤＤ；酸価約１０５造されるインタ
ーポリマー；分子量約５００，０００トリメチロールプ
ロパントリアクリレート　　　　１０．０トリエチレン
グリコールジメタクリレートｉｏ、。
ベンゾフェノン　　　　　　　　　　　８．０４．４′
−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン　　　０．１
２２．２′−ビス（２−クロロフェニル）　−４，５５
，５’　　　　１．５０−テトラフェニルビイミダゾー
ル ロイコクリスタルバイオレット　　　　　　　　　　　
０．３０ビクトリアグリーン（ｃ，■、ピグメントグリ
ーン１８）　　　　　０．０５エアロゾル■（Ａｅｘｏ
ｓｏｌ■）ＯＴ（スルホコハク　　　４．０酸ジオクチ
ルナトリウム） 塩化メチレン　　　　　　　　　、　　２７６．０メタ
ノール　　　　　　　　　　　　２４．０乾燥されたフ
ォトレジストコーティングを、１０４．５０（２２０″
Ｆ）で作動するラミネータロールを有するリストン■（
Ｒｉｓｔｏｎ■）熱ロールラミネータを用いて、清浄に
した銅張シのガラス・エポキシ印刷回路基体へ積層した
。ポリエチレンテレフタレート支持体の通常の除去（ｎ
ｏｒｒｎａｌｒｅｍｏｖａｌ）を試みたとき、レジスト
層の一部分も同様に除去され、大きな瞬間接着破損を示
した。
上表に示した成分で上と同様にして５個の追加コーティ
ングを製造した。積層後、支持体フィルムの除去に特別
な注意を払って、コーティングの瞬間接着の試験を行っ
た。
瞬間接着基準じｒＡ”とも称す）は、剥離、例えば積層
直後、すなわち約１５〜２０分以内Ｋかつ像形成露光前
Ｋ、フィルム支持体を除去するかあるいはノミネルをト
リミングするときのレジストフィルムの剥離に抵抗する
能力である。瞬間接着は、まず積層レジストパネルから
支持体フィルムを除去し、次に残りの表面に２５ｇｍ（
１ｉｎ）幅のスコッチ■ブランドマスキングテープ（Ｓ
ｃｏｔｃｈ（Ｂ　Ｂｒａｎｄ　Ｍａｓｋｉａｇ　Ｔａｐ
ｅ）の均一な長さを指圧で接着させること江よって測定
される。
？Ｄ±３０秒以内に、９０〜１８０度の一定角度で、１
回の迅速動作でテープを剥がす。瞬間接着、ＩＡ、の度
合は、テープと共に除去されるレジストの百分率によっ
て下記のスケールを用いて格付けされる。
スケール ５−レジスト除去無し ４−レジスト除去２５％以下 ３−レジスト除去２５〜５０％ ２−レジスト除去５０〜７５チ １−レジスト除去７５〜１００％ 結果は下記の通りである。
なし　　　　　　　　　　０１ ベンゾトリアゾール　　　　　　　　　０．２０　　１
５−クロロベンゾトリア７’−ル０．２６　　１５−ア
ミノベンゾトリアゾール　　　　０２２　１５−メチル
ベンゾトリアゾール　　　　０．２２　　′１５−カル
ボキシベンゾトリアゾール　　　ｌＪ、２７　　５ベン
ゾトリアゾール、５−クロロベンゾトリ７ゾー／ｌ／、
５−アミノベンシトｌ）アソ゛−ル、５−メチルベンゾ
トリアゾールの公知の添加物に比べて、５−カルボキシ
ベンゾトリアゾールの使用は瞬間接着を顕著に増加した
。
特許出願人　　イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース
・アンド・コンパニー 外２名

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）（ａ）付加重合性エチレン系不飽和モノマーと、（
    ｂ）活性線照射によつて活性化可能な開始系と、 （ｃ）（１）アクリル系もしくはメタクリル系のアクリ
    ルアミドもしくはメタクリルアミド、 またはアミノアルキルアクリレートもしく はアミノアルキルメタクリレート、または これらのいずれかの混合物である少なくと も１種の塩基性コモノマーと（２）１個または２個以上
    のカルボキシル基を含む少なくと も１種の酸性コモノマーと（３）性質がアクリル系また
    はメタクリル系である少なくとも もう１つのコモノマーとの相互重合から誘 導される両性ポリマーと からなり、さらに組成物中に （ｄ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のカルボキシベンゾトリアゾール が配合されてなることを特徴とする感光性組成物。 ２）カルボキシトリアゾールが５−カルボキシベンゾト
    リアゾールである特許請求の範囲第１項記載の組成物。 ３）（ａ）支持された固体感光性フィルムを基体へ積層
    する工程と、 （ｂ）該層を活性線照射に対して像様霧光する工程と、 （ｃ）該層の未霧光領域を除去してレジスト領域を生成
    させる工程と、 （ｄ）レジスト領域で保護されていない基体領域を、基
    体をエッチングすることによつて、あるいは基体上へ物
    質を堆積させることに よつて永久的に変性させる工程と からなり、その際に前記感光性フィルムが （ａ）付加重合性エチレン系不飽和モノマーと、（ｂ）
    活性線照射によつて活性化可能な開始系と、 （ｃ）（１）アクリル系もしくはメタクリル系のアクリ
    ルアミドもしくはメタクリルアミド、 またはアミノアルキルアクリレートもしく はアミノアルキルメタクリレート、または これらのいずれかの混合物である少なくと も１種の塩基性コモノマーと（２）１個または２個以上
    のカルボキシル基を含む少なくと も１種の酸性コモノマーと（３）性質がアクリル系また
    はメタクリル系である少くともも う１つのコモノマーとの相互重合から誘導 される両性ポリマーと からなり、さらにこの組成物中に （ｄ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のカルボキシベンゾトリアゾール が配合されてなることを特徴とする感光性フィルムを基
    体へ積層する方法。 ４）カルボキシトリアゾールが５−カルボキシベンゾト
    リアゾールである特許請求の範囲第６項記載の方法。
JP62128557A 1986-05-28 1987-05-27 カルボキシベンゾトリアゾ−ルを含む光重合性組成物 Pending JPS6324243A (ja)

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