JPH03179356A - 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物積層
体（以下感光性フィルムと略称する）に関し、更に詳し
くは、耐めっき性、安定性に優れた感光性樹脂組成物及
び感光性フィルムに関する。

〔従来の技術〕

従来、印刷配線板の製造、金属の精密加工等の分野にお
いて、エツチング、めっき等に用いられるレジスト材料
としては、感光性樹脂組成物及び感光性フィルムが広く
用いられている。また、印刷配線板の製造方法としては
、近年印刷配線板が高密度化し、パターンが細線化して
いるため、めっき法が主流となりつつある。

このめっき法は、チップ搭載のためのスルーホール及び
電気回路を除いてレジストを被覆し、電気めっきにより
スルーホール及び電気回路を作成し、その後、レジスト
はく離、エツチングによって電気回路の作製を行う方法
である。めっき法におけるめっき液としては、ピロリン
酸銅、硫酸銅。

はんだ、ニッケル、パラジウム、金等が用いられるが、
電気回路の作製に硫酸銅を用い、その保護のためはんだ
を用いることが一般的である。

このめっき法においては、下地金属（主に銅が用いられ
ている）と感光性フィルムとの密着性を増大させるため
、感光性樹脂組成物に添加剤が配合されている。この添
加剤としては、特開昭５３−７０２号公報に複素環状化
合物、特開昭５５−６５２０２号公報にフタラジン又は
その誘導体、特開昭５５−６５２０３号公報にインダゾ
ール又はその誘導体、特開昭５９−１２５７２６号公報
にテトラゾール又はその誘導体、特開昭５９−１２５７
２７号公報にロフィン、特開昭６３−２４２４３号公報
にカルボキシベンゾトリアゾールがそれぞれ開示されて
いる。

しかし、これらの化合物を用いた場合、密着性は向上す
るが現像後下地金属上に有機物が残り易く（程度の軽い
ものは下地金属表面の赤色変色。

程度の重いものは現像残りといわれる）、めっきが析出
しなかったり、析出した金属と下地金属の密着性が低下
し、めっきがはがれたりする問題がある。

又、特開昭６１−２２３８３６号公報には、１，２．３
−ベンゾトリアゾール誘導体が開示されている。

この化合物を用いた場合、処理条件の厳しい金めつき、
ピロリン酸銅めっき等を行う際にレジスト膜のはがれ、
持ち上がり、めっきのもぐり（レジスト下であって下地
金属表面上にめっきが析出する現象）が発生したりする
問題がある。

また印刷配線板の製造においては、感光性フィルムを下
地金属上に積層してから、レジストパターン形成まで工
程が多いので時間のかかることが多く（特に、積層後か
ら画像状露光までの間１日〜１４日放置されることが多
い）、前述した赤色変色、現像残りが促進されてしまう
、また、従来の感光性樹脂組成物では熱安定性が悪いた
め熱重合反応を起こし、結果として、赤色変色、ＴＩｌ
、像残りになってしまう、この反応を抑制するため、感
光性樹脂組成物に添加剤を用いることが多い、この目的
に使用される添加剤としては、ハイドロキノン、ベンゾ
キノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル等のキノン
類、フェノール系化合物が公知であり、よく用いられて
いるが、このような添加剤を用いると感度が低下し、露
光時間が長くなるという問題がある。このような観点か
ら添加剤を用いる場合でも、重合可能なビニル化合物１
００重量部に対し、１部以下が好ましく、０．５　部以
下がより好ましく、０．１　　部以下が特に好ましい。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明の目的は、前記従来の技術の問題を解決し、下地
金属と析出した金属との密着性を低下することなく、耐
めっき性に優れかつ安定性にも優れた感光性樹脂組成物
及びこの感光性樹脂組成物を積層した感光性フィルムを
提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕 本発明は、（Ａ）カルボキシル基含有フィルム性付与ポ
リマー、（Ｂ）共重合可能なビニル化合物、（Ｃ）光重
合開始剤又は光重合開始剤系及び（Ｄ）一般式（Ｉ） 〔式中ｎ及びｍは、各々独立して１〜３の整数を示し、
Ｒ１は、水酸基、カルボキシル基、アミン基又は炭素原
子数ｌ〜２０のアルキルアミノ基を示し、Ｒ２及びＲ３
は、各々独立して炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素
数１〜１２のヒドロキシアルキル基を示す〕で表される
化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物及
びこの感光性樹脂組成物を用いた感光性フィルムに関す
る。

本発明に用いられるカルボキシ基含有フィルム性付与ポ
リマー〔成分（Ａ）〕としては、例えば、（メタ）アク
リル酸（メタアクリル酸又はアクリル酸を意味する。以
下同じ）アルキルエステルと（メタ）アクリル酸との共
重合体、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと（メタ
）アクリル酸とこれらと共重合し得るビニルモノマーと
の共重合体等が挙げられる。これらの共重合体は、単独
でも、２種以上混合しても用いることができる。

（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば
、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリ
ル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステ
ル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル等
が挙げられる。また、（メタ）アクリル酸アルキルエス
テルや（メタ）アクリル酸と共重合し得るビニルモノマ
ーとしては、例えば（メタ）アクリル酸テトラヒドロフ
ルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノ
エチルエステル、（メチ）アクリル酸ジエチルアミンエ
チルエステル、メタクリル酸グリシジルエステル、２，
２．２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２
，２，３．３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリ
レ−１〜アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、
スチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。

本発明に用いられる共重合可能なビニル化合物〔成分（
Ｂ）〕としては、−官能ビニルモノマー及び多官能ビニ
ルモノマーがある。

−官能ビニルモノマーとしては、例えば成分（Ａ）で例
示した共重合成分であるビニルモノマーがあげられる。

これらの他にも （式中、 Ｑは、 １〜２の整数を示す） （式中Ｒ４及びＲ９は。

それぞれ独立して水素原子 又はメチル基を示しｋは、 等があげられる。

多官能ビニルモノマーとしては、例えば、多価アルコー
ルにα、β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化
合物、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート（エチレン基の数が２〜１４のもの）、トリメ
チロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパンプロポキシトリ（メタ）アクリレート
、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、
テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、
ポリプロビレ゛ノグリコールジ（メタ）アクリレート（
プロピレン基の数が２〜１４のもの）、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート等、ビスフェノー
ルＡポリオキジエチレンジ（メタ）アクリレート、例え
ば、ビスフェノールＡジオキシエチレンジ２〜１４の整
数を示す） （メタ）アクリレート、ビスフェノールＡトリオキシエ
チレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡデカ
オキジエチレンジ（メタ）アクリレート等、グリシジル
基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得
られる化合物、例えばトリメチロールプロパントリグリ
シジルエーテルトリアクリレート、ビスフェノールＡジ
グリシジルエーテルジアクリレート等、多価カルボン酸
、例えば無水フタル酸等と水酸基及びエチレン性不飽和
基を有する物質、例えばβ−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート等とのエステル化物、アクリル酸若しくは
メタクリル酸のアルキルエステル、例えば（メタ）アク
リル酸メチルエステル。

（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル
酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキ
シルエステル、トリレンジイソシアネートと２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリル酸エステルとの反応物やト
リメチルへキサメチレンジイソシアネートとシクロヘキ
サンジメタツールと２−ヒドロキシエチル（メタ）アク
リル酸エステルとの反応物等のウレタン（メタ）アクリ
レートなどが挙げられる。以上の化合物として１分子内
に少なくとも２個のビニル基を有する化合物を使用する
ことが好ましい。以上の化合物は単独でも、２種以上混
合しても用いることができる。

本発明に用いられる光重合開始剤又は光重合開始剤系〔
成分（Ｃ）〕としては、例えばベンゾフェノン、Ｎ、Ｎ
’−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
（ミヒラーケトン）、Ｎ。

Ｎ−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン
、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン
、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等
の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベ
ンゾインエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイ
ン等のベンゾイン化合物、β−（アクリジン−９−イル
）アクリル酸のジエステル化合物、９−フェニルアクリ
ジン、９−ピリジルアクリジン等のアクリジン化合物、
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミ
ダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５
−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾールニ量体、２
−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミ
ダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキ
シフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体
、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）５−フェニルイ
ミダゾールニ量体、２−　（２，４−ジメトキシフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（
ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体等の２．４．５−トリアリールイミ
ダゾール二量体などが挙げられる。これらの化合物は単
独でも、２種以上混合しても用いることができる。

成分（Ａ）の配合量は、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の総
量１００重量部に対して１０〜８０重量部が好ましく、
３０〜７０重量部がより好ましい、また、成分（Ａ）の
重量平均分子量は、塗膜性及び膜強度、現像性の点から
ｌ　Ｏ，０００〜２００．０００　　が好ましい。

成分（Ｂ）の配合量は、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の総
量１００重量部に対して２０〜９０重量部が好ましく、
３０〜７０重量部がより好ましい。この配合量が少なす
ぎると、光硬化物が脆く、充分な物性が得られず、多す
ぎると、充分な感度が得られないことがある。

成分（Ｃ）の配合量は、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の総
量１００重量部に対して０．０３〜２０重量部が好まし
く、０．０５〜１０重量部がより好ましい。この配合量
が少なすぎると、充分な感度が得られず、多すぎると、
露光の際に組成物の表面での光吸収が増加して内部の光
硬化が不充分となることがある。

本発明に用いられる一般式（Ｉ）： に３ ｃ式中、ｎ及びｍは、各々独立して１〜３の整数を示し
、Ｒユは、水酸基、カルボキシル基、アミノ基又は炭素
原子数１〜２０のアルキルアミノ基を示し、Ｒ２及びＲ
３は、各々独立して炭素原子数↓〜１２のアルキル基又
は炭素原子数１〜１２のヒドロキシアルキル基を示す〕
で表わされる化合物〔成分（Ｄ）〕について説明する。

一般式（Ｉ）においてｎ＝ｏでは耐めっき性の向上がわ
ずかである。ｎ≧４のものは入手困難である。ｍ＝ｏで
は耐めっき性が全く向上しない。

ｍ≧４のものは入手困難である。

Ｒ８としての炭素原子数１〜２０のアルキルアミノ基と
しては、例えばメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基。

メチルエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピル
アミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、
ジブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブ
チルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ
基、ジシクロへキシルアミノ基、ジ（メチルシクロヘキ
シル）アミノ基。

ジ（エチルシクロヘキシル）アミノ基、ジオクチルアミ
ノ基、ジー２−エチルへキシルアミノ基。

ジデシルアミノ基、等があげられる。

Ｒ□としては、カルボキシル基が好ましい。

Ｒ２及びＲ３としての炭素原子数１〜１２のアルキル基
としては、例えば、メチル基、エチル基。

プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基
、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基。

シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシ
クロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基。

２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ドデシル
基、ウンデシル基等があげられる。Ｒ２及びＲ３として
の炭素原子数１−１２のヒドロキシアルキル基としては
、上記アルキル基の１個の水素原子を水酸基で置換した
ものがあげられる。

Ｒ２及びＲ３としては、炭素原子数１〜１２のアルキル
基が好ましい。

本発明に用いられる成分（Ｄ）の化合物としての一般式
（Ｉ）で表わされる化合物は、例えば−般式（■）： 〔式中、Ｒ□及びｎは、一般式（Ｉ）におけると同意義
である〕 で表わされる１、２．３−ベンゾトリアゾール誘導体１
モル、パラホルムアルデヒド１モル及び−般式（■）： ２ ／ Ｈ−Ｎ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（ＩＩＩ）＼ Ｒ１ 〔式中、Ｒ２及びＲ１は、一般式（Ｉ）におけると同意
義である〕 で表わされるアミン１モルを混合し１２０〜１７０℃で
ＩＯ分間〜３時間反応（脱水縮合反応）させ。

反応混合物を加熱（５０℃〜１００℃）濾過することに
より未反応物、副生物を除去して得ることができる。

成分（Ｄ）の化合物の具体例としては、例えばビス（Ｎ
、Ｎ−２−エチルヘキシル）アミノメチレン−５−カル
ボキシ−１，２，３−ベンゾトリアゾール（例えば、千
代田化学研究所社製商品名Ｆ−８０４）、ビス（Ｎ、Ｎ
−２−エチルへキシル）アミノメチレン−４−カルボキ
シ−１，２゜３−ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ、Ｎ−
２−エチルヘキシル）アミノエチレン−５−カルボキシ
−１，２，３−ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ。

Ｎ−２−エチルヘキシル）アミノメチレン−５−ヒドロ
キシ−１，２，３−ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ、Ｎ
−２−エチルヘキシル）アミノメチレン−５−アミノ−
１，２，３−ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ、Ｎ−２−
エチルヘキシル）アミノメチレン−５−ジメチルアミノ
−１，２，３−ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ、Ｎ−イ
ソプロピル）アミノメチレン−５−カルボキシ−１，２
゜３−ベンゾトリアシアル、ビス（Ｎ、Ｎ−２−エチル
ヘキシル）アミノメチレン−４，５−ジカルボキシ−１
，２，３−ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ、Ｎ−２−エ
チルヘキシル）アミノメチレン−４，５，６−ドリカル
ボキシー１．２．３−ベンゾトリアゾール等があげられ
、これらのうちビス（Ｎ、Ｎ−２−エチルヘキシル）ア
ミノメチレン−５−カルボキシ−１，２，３−ペンゾト
リアゾール及びビス（Ｎ、Ｎ−２−エチルヘキシル）ア
ミノメチレン−４−カルボキシ−１，２，３−ベンゾト
リアゾールが好ましい。

これらの化合物は、単独でも、２種以上混合しても用い
ることができる。

成分（Ｄ）の配合量は、前記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）
の総量１００重量部に対して０．００１〜５．０　重量
部が好ましく、０．０１〜１．０重量部がより好ましく
、０．０５〜０．５重量部が特に好ましい。

本発明の感光性樹脂組成物は、必要に応じて、可塑剤、
熱重合禁止剤、染料、顔料、充填剤、密着性付与剤等を
配合することができる。

本発明の感光性樹脂組成物は、金属面１例えば銅、ニッ
ケル、クロム、好ましくは銅の上に、液状レジストとし
て塗布して乾燥後、保護フィルムを被覆して用いるか、
又は感光性フィルムとして用いられる。感光性樹脂組成
物層の厚みは用途により異なるが、乾燥後の厚みで１０
〜１００μｍ程度である。液状レジストとした場合は、
保護フィルムとしてポリエチレンテレフタレート等の不
活性なポリエステルのフィルムが用いられる。

感光性フィルムは、ポリエステル等の支持フィルム上に
感光性樹脂組成物を塗布乾燥し、必要に応じてポリオレ
フィン等の保護フィルムを積層して得られる。感光性樹
脂組成物は必要に応じてアセトン、メチルエチルケトン
、塩化メチレン、トルエン、メタノール、エタノール、
プロパツール。

ブタノール、メチルグリコール、エチルグリコール、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤及びこ
れらの混合溶剤と混合して溶液として塗布してもよい。

前記の感光性樹脂組成物層は、アートワークと呼ばれる
ネガ又はポジマスクパターンを通して活性光線が照射さ
れた後、現像液で現像され、レジストパターンとされる
。この際用いられる活性光線としては、例えばカーボン
アーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ
、メタルハライドランプ等の紫外線を有効に放射するも
のが用いられる。

現像液としては、安全かつ安定であり、操作性が良好な
ものが用いられ１本発明におけるようなアルカリ現像型
のフォトレジストでは炭酸ナトリウムの希薄溶液などが
用いられる。現像の方法には、デイツプ方式、パドル方
式、スプレ一方式等があり、高圧スプレ一方式が解像度
向上のためには最も適している。

現像後に行われる電気めっきには、硫酸銅めっき、ビロ
リン鍛鋼めっき等の銅めっき、ハイスローはんだめっき
等のはんだめっき、ワット浴（硫酸ニッケルー塩化ニッ
ケル）めっき、スルファミン酸ニッケルめっき等のニッ
ケルめっき、ハード金めつき、ソフト金めつき等の金め
つきなどがある。

〔実施例〕

次に１本発明を実施例により詳しく説明する。

実施例１〜４及び比較例１〜６ メタクリル酸／メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチ
ル／アクリル酸２−エチルヘキシル共重合体（重量比２
５１５０１５／２０、重量平均分子量８万）の４０重量
％メチルセロソルブ／トルエン（重量比６／４）溶液１
００ｇ　（固型分４０ｇ）、メタクリル酸／メタクリル
酸メチル／アクリル酸エチル／スチレン共重合体（重量
比３０／３０／３０／１０、重量平均分子量４万）の５
０重量％メチルセロソルブ／トルエン（重量比８／２）
゛溶液４０ｇ（固型分２０ｇ）、ビス−４−（Ｎ。

Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゾフェノン０．１７　ｇ、ベ
ンゾフェノン４ｇ、トリブロモメチルフェニルスルフォ
ン１．０ｇ　、ロイコクリスタルバイオレットＩｇ、マ
ラカイトグリーン０．０５　ｇ　、ＤＭＢＩ（日本化薬
社製、商品名、４−ジメチルアミノ安息香醜イソペンチ
ル）３．０ｇ　、メチルエチルケトンＬｏｇ、トルエン
１０ｇ、メタノール３ｇ及びＮＫ−４Ｇ　（新中村化学
工業社、商品名、テトラエチレングリコールジメタクリ
レート）４０ｇを配合して溶液を得た。

この溶液に第１表に示す各種化合物を０．０５〜０．２
ｇ溶解させて感光性樹脂組成物溶液を得た。

次いでこの感光性樹脂組成物溶液を２５μｍ厚のポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、１０
０℃の熱風対流式乾燥機で約１０分間乾燥して感光性フ
ィルムを得た。感光性樹脂組成物層の乾燥後の膜厚は５
０μｍであった。

一方、銅箔（厚さ３５μｍ）を両面に積層したガラスエ
ポキシ材である銅張り積層板（日立化成工業社製、ＭＣ
Ｌ−Ｅ−６１）の銅表面を＃８００相当のブラシを持つ
研摩機（三啓社製）を用いて研摩し、水洗して空気流で
乾燥し、得られる銅張り積層板を８０℃に加温し、その
銅面上に前記感光性樹脂８１ｒ＆物層を、１２０℃に加
熱しながらラミネートした。

次いでこのようにして得られた基板に、ネガフィルムを
使用し、３ＫＷ高圧水銀灯（オーク製作所社製、ＨＭＷ
−２０１Ｂ）で６０　ｍ　Ｊ　／　ａｄの露光を行った
。この際光感度を評価できるように、光透過量が段階的
に少なくなるように作られたネガフィルム（光学密度０
．０５　　を１段目とし１段ごとに光学密度が０．１５
ずつ増加するステップタブレット）を用いた。

次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルムを除去し
、３０℃で１％炭酸ナトリウム水溶液を５０〜１５０秒
間スプレーすることにより、未露光部分を除去した。さ
らに、銅張り積層板上に形成された光硬化膜のステップ
タブレットの段数を測定することにより、感光性樹脂組
成物の光感度を評価した。その結果を第１表に示す。光
感度はステップタブレットの段数で示され、このステッ
プタブレットの段数が高いほど光感度が高いことを示し
ている。

次いで現像処理したものを、脱脂後、流水水洗を１分間
行い、次いで過酸化水素／硫酸、１０／２０容量％水溶
液中に２分間浸漬した。さらに流水水洗を１分間行った
後、１０％硫酸水溶液浴に１分間浸漬し、再び流水水洗
を１分間行った。次いで、硫酸銅めっき浴〔硫酸銅７５
　ｇ　／　Ｑ　ｐ硫酸１９０ｇ／Ｑ、塩素イオン７５Ｐ
Ｐ鳳、カバーグリームＰＣＭ　（メルテツクス社製、商
品名）５ｍＱ／Ｑ〕に入れ、硫酸銅めっきを２５℃、３
Ａ／ｄｒｒｒで４０分間行った。硫酸銅めっき終了後直
ちに水洗し、続いて、１０％ホウフッ化水素酸水溶液浴
に１分間浸漬し、続いて半田めっき浴〔４５％ホウフッ
化１４６４　ｍ　Ｑ　／　Ｑ　、　４５％ホウフッ化鉛
２２　ｍ　Ｑ　／　Ｑ　、　４２％ホウフッ化水素＠２
００ｍ　Ｑ　／　Ｑ　、プルティンＬＡコンダクテイビ
テイソルト（メルテツクス社製、商品名）２０ｇ／Ｑ。

プルティンＬＡスターター（メルテックス社製、商品名
）４０ｍＱ／Ｑ）に入れ、半田めっきを２５℃、２Ａ／
ｄｒｒｆで２０分間行った。半田めっき終了後水洗を行
い、乾燥した。

耐めっき性を調べるため、乾燥後直ちにセロテープを貼
り、これを垂直方向に引き剥がし、レジストの剥がれの
有無を調べた（テープテスト）。

その後、上方から光学顕微鏡で半田めっきのもぐりの有
無を観察した。半田めっきのもぐりを生じた場合は、透
明なレジストを介してその下部に観察される。その結果
を第１表に示す。

また、現像後の基板を５％塩化第二銅溶液に入れ、１分
間放置した。エツチングされた場合、銅面は直ちに黒く
なるが、有機物がある場合、エツチング残りとなって赤
銅色をしたままである。放置後直ちに水洗し、目視で＊
察し、エツチング残りの評価を行った（ＣｕＣＱ２テ入
ト）。

また、基板上に感光性フィルムをラミネートした後３０
℃、９０％ＲＨの条件下、１日放置した後、前記同様に
試験を行ない評価結果を第１表に第１表かられかるよう
に、比較例ン、４及び６において１，２．３−ベンゾト
リアゾール、５−カルボキシベンゾトリアゾールを使用
した一合では、ＣｕＣＭ、テストが良好でなく、ラミネ
ート後経日すると感度も低下した。また、比較例１にお
いで化合物（Ｄ）を全く添加しない場合及び比較例３に
おいて１．２．３−ベンゾトリアゾール誘導体を使用し
た場合では、テープテスト、もぐりが不良である。

比較例５及び６においてハイドロキノン七ツメチルエー
テルを添加した場合はラミネート後経日しても感度変化
は見られないが、感度そのものがラミネート直後から低
下した。

これに対して、本発明の範囲内である実施例１〜４にお
いては、感度が良好で、ラミネート後の安定性、ｖＩｉ
着性、下地金属のエツチング性、耐めっき性等が極めて
優れていた。

〔発明の効果〕

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（Ａ）カルボキシル基含有フィルム性付与ポリマー （Ｂ）共重合可能なビニル化合物 （Ｃ）光重合開始剤又は光重合開始剤系及び（Ｄ）一般
   式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中ｎ及びｍは各々独立して１〜３の整数を示し、Ｒ
   ＿１は水酸基、カルボキシル基、アミノ基又は炭素原子
   数１〜２０のアルキルアミノ基を示し、Ｒ＿２及びＲ＿
   ３は、各々独立して炭素数１〜１２のアルキル基又は炭
   素原子数１〜１２のヒドロキシアルキル基を示す〕で表
   わされる化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂
   組成物。 ２、化合物（Ｄ）が一般式（ I ）において、Ｒ＿１が
   カルボキシル基である化合物である請求項１記載の感光
   性樹脂組成物。 ３、化合物（Ｄ）が４又は５−カルボキシ−１−〔ビス
   （Ｎ，Ｎ−２−エチルヘキシル）アミノメチレン〕−１
   ，２，３−ベンゾトリアゾールである請求項１記載の感
   光性樹脂組成物。 ４、（Ｂ）共重合可能なビニル化合物が１分子内に少な
   くとも２個のビニル基を有する化合物を含有する化合物
   である請求項１記載の感光性樹脂組成物。 ５、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の総和１００重量部に対
   して、成分（Ａ）が１０〜８０重量部、成分（Ｂ）が２
   ０〜９０重量部であり、成分（Ｄ）は０．００１〜５．
   ０重量部である請求項１記載の感光性樹脂組成物。 ６、支持フィルム上に請求項１記載の感光性樹脂組成物
   を塗布乾燥し、必要に応じて保護フィルムを積層してな
   る感光性樹脂組成物積層体。