JPS6039635A - 光感受性エレメント - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は可撓性支持体層と除去可能なカバーシートの間
にサンドインチ化された光感受性組成物を有する改善さ
れた光感受性エレメントおよびそのようなエレメントの
使用法に関する。

更に別の態様ｔよりバーシート全使用しないものである
。

米国特許第３．４６９．９８２号明細書は光■バ合性層
全一時的支持体フイルムを一時的カパーフィルムとの間
にサンドインチ化せしめたネガとして働く光重合性フィ
ルムレジスト葡開示している。

このフィルムはカバーフィルムを除去し１光重合性層を
熱および圧力によって永久的に変性させるべき基材の表
面例えば銅に積層させ、この層を活性線放射に像様露光
させ、フィルム支持体を除き１層の未露光部分全溶媒洗
去（現Ｉ＆）により除去しそして銅表面上の得られた裸
出部分を例えばエツチングまたは金属沈渣によって永久
的に変性させることによる印刷回路の製造に広範な用途
合併た。

前記米国特許は支持体フィルム上への光重合性組成物の
溶液コーティング、それに続く乾燥および次いで得られ
た乾燥層の表面例えば銅被覆印刷回路板への積層によっ
てホトレジスト過゛程を実施することを開示している。

しかしながら工業的実施法においては保存および発送の
間支持体に付着していなくてはならない乾燥光重合性ｊ
−は支持体フィルムとカバ一層との間のサンドインチと
して供給される。このことはホトレジスト製造者によっ
てこのサンドインチニレメントラそれ自体巻き上げそし
て使用者例えば印刷回路製造業者にコンパクトな取扱い
容易なロールとして供給すること全可能ならしめる。

カバーフィルムは発送および保存の間に光重合性層が支
持体フィルムの裏側に接着することを阻止する。使用に
当ってはカバーフィルムを剥離させそして捨て、次いで
前記のホトレジスト過程を実施させる。

米国特許第４．１９３．７９７号明細書は一時的支持体
フイルムと一時的カパーフィルムの間にサンドイツチ化
された光重合性層ｔＷする同様の光重合性フィルムレジ
ストラ開示しているが但しここでは光重合性組成物はネ
ガとして働くものではなくポジとして働くものである。

米国特許第３，９８４，２４４号明細曹は少くとも０．
０００５インチ（０，００１２７の）の溝を有するチャ
ンネルつき光感受性エレメント、および扛起部分または
不連続性を有する表面例えば糾シ上った金屑回路成分を
有する回路板表面上でのホトレジストとしてのその使用
方法を開示している。光感受性熱可塑性層（ｉ−空気の
泡の捕集會はとんどまたは全くなしに扛起部分全方する
表面に強制的に接触せしめる。光感受性層全強制的に密
着させた場合、層と表面との間の空気は光感受性層中の
チャンネル−＋ａつで逃げていきそして層は変形しそし
て表面の盛シ上った部分を苑み込む。

本発明はｎＩ層先光感受性組成物基材の盛シ上った回路
に合致させることのすべての不可能性を克服させるため
の乾燥フィルムはんだマスクとしての使用に特に適応さ
れている。乾燥フィルムは最初は回−〇存在しない地（
グンウントつ部分すなわち大なる絶縁性領域のまわシに
シールせしめられるが、それによって基材とマスクとの
間に空気倉捕集しうる。そのような捕集された突気は劣
悪なマスクの板接着、錫びきまたｔＩ′ｉはんだづけ操
作の間のマスクのブリスター形成および回路自体が低融
点伝導体例えばはんだからできている場合には回路定義
の消失を生ずる。本発明は積層段階におけるそのような
突気の捕集全克服している。

本発明は、少くとも１個の光感受性ｉｊｉ成物の層を有
する可撓性支持体および除去可能なカバーシートを親含
しそして光感受性エレメントに対して前記支持体がカバ
ーシートよりも大なる接着性を有している光感受性エレ
メントおよびその使用法において、前記光感受性組成物
が力（粗面化） バーシートの方に向いた表面上に粗髪ヱｑデたフィニツ
シユ（仕上げ）’ＩｋＷしておシそして前記光感受性組
成物の表面粗荒性がピーク−谷（ｐｅａｋ　ｔｏ　ｖａ
ｌｌｅ７）間距離で平均２〜１１μの範囲にあることを
包含する改善に関する。光感受性エレメントの別の態様
はカバーシー）ｋ使用していない。

本発明の光感受性エレメントのタイプは従来技術で周知
であり、そしてこれは支持体層とカバーシートとの間に
光感受性組成物全方するサンドインチ構造のものである
。一般に光重合性重盆体を含有するこのタイプの光感受
性エレメントは例えば印刷回路板の製造におけるレジス
トおよびはんだマスクとして広く工業的に使用されてい
る。

本発明はカバーシートに面している光感受性組成物の表
面の粗荒度において従来技術とは異っている。米国特許
第へ９８４，２４４号明ａ書は少なくともαｏｏｏ、ｓ
インチ（０，０１２７ａａ）の複数個のチャンネルを育
する光感受性組成物を開示してｈるけれども一般にその
ような光感受性組成物は一般には平滑な表面全方してい
る。かがる特許においては真空積層は使用されていない
。

それと対照的に１本発明の光感受性エレメントにおいて
は、可撓性カバーシートに面している光感受性組成物の
表面に規定された程度の粗荒性が存在している。はんだ
マスクとしてのこの光感受性エレメントの使用にあたっ
ては、印刷回路板の回路の故忙扛起しリーフ全方してい
る基材へのフィルム支持光感受性組成物を真を積層する
前に力、Ｓ−シートが除去される。そのような臭突積層
法は光感受性組成物の粗荒化表面の存在以外の点では従
来技術で一般的なものである。光感受性組成物の粗荒化
表面構造は光感受性組成物とその盛り上ったレリーフを
有する基材表面との間から突気を除去すること全可能な
らしめる。二つの表面の間で突気捕集を生ずる可能性あ
る不均一な積層は克服される。何故ならば突気の排除を
可能ならしめる通路が存在するからである。

光感受性組成物の粗荒度は、不当ｌ粗荒性す　３なわち
米国特許第！１，９８４，２４４号明細會に開示のよう
な深いチャンネルは本開明の範囲外であるので、狭い腿
度内にある。また本来的に表面に若干の不均一性を有し
ている慣用の平滑な光感受性組成物表面もまた除外され
る。本明細省において「平均範囲の表面粗荒性」とは、
表面のすべての１μ以上のピーク−谷ｔ＆ｌＪ距離の平
均ｔ意味している。換言すると、１μまたはそれ以下の
不均一性はいずれも計算には使用されていない。また本
明細書において「粗荒化フィニツシユ」とは定義された
領内の粗荒度ｔ−有する表面に関してその通常の意味に
おいて使用されている。粗荒化フィニツシユは例えば諸
所にスクラッチ（引掻き）ヲ有する表面は包含しない。

光感受性組成物の表面粗荒性九対する最小値は平均２β
のピーク−谷間距離であシ、そしてよシ好ましくは最小
平均表面粗荒度は少くとも４μである。一般に表面粗荒
性の上限は１１μそしてよシ一般的には１０μである。

表面は実質的には１１μ以上の凹凸は有してはいないの
が好ましい。その理由はよシ大なる粗荒度は積層過程を
阻害しうるしまたはこれは積ノー条件下の光感受性組成
物の流れ性に限界を導入しうるからである。

粗荒性は光重合体表面とカバーシートとの間の接着性を
増大せしめる。過度の粗荒性に関する例として、光感受
性７組成物の積層は基材上で光感受性組成物の薄くなっ
た部分全生成させうる。好ましい粗荒度は平均４〜８μ
のビーク−谷間距離の範囲にある。光感受性組成物およ
び粗荒化された場合のカバーシートの適当な粗荒ｆ上表
部の例はテクスチャー、マットおよびエンボスの各フィ
ニツシユである。

表面粗荒性を記載するその他の方法はベックＸＰ−清性
（Ｂｅｋｋ　ｓｍｏｏｔｈｎｅｓｓ）テスター？使用し
て空気流出時間を測定することによるものである。

操作マニュアル（仁こに参照として包含される）におけ
る試験法に直接従うが但しハンドル重置は使用されない
。水銀水準の５８ＣＩＩＩから３６傭への真空低下（大
気圧に相対的に）ｆｔ生成させるための時間が測定され
る。

本明却１徘中に「ベック粗荒度試験」として呼ばれてい
るこの試験によればカバーシートの粗荒性がｄ１１］定
される。この試験法はカバーシートの輪郭に従う光重合
体のような光感受性物質の表面に対しては使用されない
。その理由は物質の軟質性が試験結果を阻害しうるから
である。

ベック粗荒度の試験値Ｉ′ｉ２０秒〜４０分の範囲そし
て好ましくは２分〜７分の範囲にあるべきである。

光感受性組成物の表面の必要な粗荒度を得るための好ま
しい様式は粗荒化カバーシートの使用によるものである
。光感受性組成物はカバーシートの直接的インプリント
ｔ−有しうる。それに代る光感受性組成物の表面粗荒性
形成技術はブラシのような道具を使用することである。

一般には好ましいけれどもカバーシートは使用する必９
．はなく、そして２片すなわち支持体と光感受性重合体
の２片のみの構造全使用しうる。

カバーシートラ使用しないことの不利点は例えばロール
形Ｍにおいて組成物が限定された程度に［７か保護され
ないことである。また光感受性組成物の取扱いおよび保
存に訃いて追加の配慮が必要となシうる。その理由は光
感受性熱可塑性物質の流れ性がその表面の粗荒性を除去
しうるからである。

好ましい態様においては、光感受性ノーの反対側に面し
ている粗荒化カバーシート表面もまた粗荒化された表面
を有している。一般に保存の間は光感受性組成物はロー
ルに形成されている。

ロール形態においては軟質な光感受性レジストおよびは
んだマスクは三つの生なる品質的問題の少くとも一つの
被害を受けうる。第一に、ロール中のラップ中に一般に
最初は均一に分布していた空気は、ロール製造後には局
在的応力（外的接触、厚さの変動、張力の変動、収＠変
動）によって徐々にポケットまたは泡の状態に移動しう
る。これらの泡は軟質光感受性組成物中に二次流れを誘
導して美観上または機能上の欠陥（薄くなった点）を生
ずる。薄くなった光感受性組成物厚さは光感受性層の機
能に致命的となる。

第二にロール中における支持体またはカバーシートの収
縮はどちらが最高の収縮傾向を府しているにしても、複
合構造体中に徐々にしわの形成を招来しうる。このしわ
はまた二次流れ全誘導させて光感受性組成物の厚さの局
所的変動の結果を生ぜしめ９る。

第三に、保存の間に硬いバンド部分または生成物厚さの
ゲージ変動部分において光重合体の重合が生じうる。そ
してこれはある領域ではフィルムラップからの空気の排
除を生ぜしめる。

本発明のカバーシートを使用した場合、これら硬バンド
中の粗荒表面の故の空気の連続的な存在はこのタイプの
化学的不安定性に強い阻害効果を有しうる。

光感受性組成物に而していないその表面上にあるカバー
シート上に第２の粗荒１ヒフイニツシユを使用すること
は、ロール中のランプ間の空気の比較的容易な移動訃よ
び均一な分布を与え、関連する二次流れの問題全除外ま
たは減少する。

この粗荒性は光感受性エレメント中の厚さ変動を補償す
る均一な圧縮用能クッション効果を与えうる。このクッ
ション効果は薄い生成物部分における軟質スポットの形
成に般小化させ、次いでしわの形成傾向を減少させる。

更にこのクッション効果は−Ｊ＃Ｉ厚い部分での欠点を
減少させる。またこみまたはその他の高いスポットによ
る欠陥がラップからラップにひろがる傾向を減少しうる
。

その他の利点は光感受性組成物に而していないカバーシ
ートの粗荒外側表面が硬いロールバンド（高い応力部分
）においてさえもラップ間の酸素供給金保、持するとい
うことである。この酸素は保存の間の感受性光重合体の
自発重合（ａｕｔｏｐｏｌｙｍθｒｉｚａｔｉｏｎ）ｆ
ｆｉ阻害しうる。この変形は生成物保存寿命を増大させ
、そして一方向時に最終目的センシトメトリーおよび性
能に悪影響を有しうるようなコーティング処方中での１
狙害剤の高度の負荷要求を軽減せしめる。

光感受性組成物に面していないカバーシート表面の粗荒
度は広範な限度内で変動させることができる。臨界的特
性は、光感受性エレメントをロールに巻いたｆＡＫ窒気
突気在を可能ならしめるような粗荒度を存在させるとい
うことである。一般に少くとも平均２μそしてより好ま
しくは平均少くとも４μのピーク−谷間距離の表面粗荒
性が適当である。一般に４０μまで、そしてよシ好まし
くは１０μまでのピーク−谷間距離の表面粗荒性上限が
適当である。力／〈−シートの厚さの増大につれて、よ
り犬なる例えば４０μ以上の粗荒度が適当となることが
理解されよう。要求される不同性の頻度は力、６−シー
トのヤング率および厚さに依存する。同一効果のために
はよ勺高いモジュラスの厚いカッシーシート上にはより
少数が要求される。表面粗荒性の」′ρ大と共に、光感
受性エレメント？ロールに巻き上げた際に一般によシ大
なるＩＧ、径が得らｉＬる。等しい光感受性組成物に対
するよυ大なる保存面積の不利点は本発明の利点圧死べ
れば小さな不利益と考えられる。例えば印刷回路板の製
造におけるよｐ大なる歩留筒シを粗荒化カッシーシート
の使用によって直接実現させることができる。適当な粗
荒化表面の例はテクスチャー、マットおよびエンボスの
各フィニツシユである。

カバーシートは支持体に比べて光感受性組成物に対して
よシ小なる接着性を有していなくてはならない。その理
由はカバーシートは支持体つき光感受性組成物の基材へ
の積層前に除去されるからである。本発明の粗荒化カバ
ーシートの代シに粗荒化支持体が使用される場合には。

生成物の性能を保持させることができる。支持体を通し
ての光感受性組成物の活性線放射への露光の際には光は
粗荒支持体表向によシ赦乱されそしてこの散乱は写真的
解像および画像重賞を劣化させる。粗荒化支持体表面の
粗荒性は精巧な回路板の製造にあたって画像形成可能な
ラインおよび空間の緻密性（コンパクトネス）に機能的
限界ｔｇするで必ろシ。

表面粗荒性はないが適当な除去可能な保−カバーシート
は当技術分野では周知である。それらは好ましくは高度
の寸法安定性を府しており、そしてこれは高度重合体例
えばポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステル、ビニ
ル重合体およびセルロースエステルより成る広範囲の極
々なシート材料から選ぶことができる。そしてこれは０
．０００２５インチ（’０．００［１６儂）〜ｏ、　ｏ
　ｏ　ａインチ（，０，０２ｃＩＩＬ）またはそれ以上
の厚さを有しうる。特に適当なカバーシートは前記Ｊｌ
さ範囲そして好ましくは約ｏ、ｏｏｉインチ（：：０．
００２５ｃＩｎ）厚さのポリエチレンである。

適当な支持体物′Ｘは一般に剥離可ｎＣでそしてこれは
前記と同一の高度重合体から選ぶことができ、そして例
えば０．０００２５インチ（へ０．０００６傷）〜ｏ、
ｏｏａインチ（：０．０２ｃＩＪＬ）’ｔ　タｔｒｌそ
し以上の同一の広い厚さ範囲を肩しうる。剥離可能な支
持体の除去の前に露光が行われる場合には。

それは勿論そこに入射する活性線放射の実買的部分を透
過させなくてはならない。剥離可能な支持体が露光の前
に除去される場合には、そのような規制は適用されない
。特に適当な支持体は前記厚さ範囲そして好ましくは約
ｏ、ｏｏｉインチ（；０．００２５ｃＲ）の透明ポリエ
チレンテレフタレートフィルムである。

光感受性組成物は一般に約０．０ＯＱ３インチ（たα０
００８４）〜約０．０１インチ（２α００２５ｃＩＬ）
の乾燥コーティング厚さで存在する。より厚いノーもま
た使用することができる。

本発明の実施に当っては種々のタイプの光感受性フィル
ムレジストエレメントを使用できる。

一般に光硬化性のネガとして働くエレメントは米国特許
第３．４６９．９８２号明細書に開示のタイジノ光重合
性エレメントおよび米国特許第３，５２６，５０４号明
細書開示のタイプの光交叉結合性エレメントである。ポ
ジとして働くレジストエレメントは光可溶化性タイプの
もの例えば米ｌ：！！１％許第３、８３１８６０最明＃
１．ｔのＯ−キノンジアジドエレメント、または光域感
性タイプのもの例えば米国特許第３．７７８．２７０号
明細、誓のビスジアゾニウム塩または英国特許第１．５
４７．５４８最明Ｍ４Ｊ記戦のニトロ芳香族組成物でろ
りうる。有用な難燃性はんだマスク組成物は米国特許第
４．２７８．７５２号明細書中に開示されている。

光硬化性層は重合体成分（結合剤）、単量体成分、開始
剤および阻沓剤から例えばヨーロッパ特許出願用８１１
６４０１４．６最明則」または前記参照特許に記載のよ
うにして製造される。

単一結合剤または他と組会せとして使用することのでき
る適当な結会沖ｊとしてはポリアクリレートおよびα−
アルキルポリアクリレート、エステル例えばポリメチル
メタクリレートおよびポリエチルメタクリレート、ポリ
ビニルエステル例えばポリビニルアセテート、ポリビニ
ルアセテート／アクリレート、ポリビニルアセテート／
メタクリレートおよび氷解ポリビニルアセテート、エチ
レン／ビニルアセテート共重合体、ポリスチレン重合体
および例えばマレイン酸庸水物およびエステルとの共重
合体、ビニリデンクロリド共重合体例えばビニリデンク
ロリド／アクリロニトリル、ビニリデンクロリド／メタ
クリレートおよびビニリデンクロリド／ビニルアセテー
ト共重合体、ポリビニルクロリド〉よび共重合体例えば
ポリビニルクロリド／アセテート、飽和および不飽和ポ
リウレタン、合成ゴム例えばブタジェン／アクリロニト
リル、アクリロニトリル／ブタジェン／スチレン、メタ
クリレート／アクリロニトリル／ブタジェン／スチレン
共重合体、２−クロロブタジェン−１，６重合体、塩素
化ゴムおよびスチレン／ブタジェン／スチレン、スチレ
ン／イソプレン／スチレンブロック共重合体、約４，０
００〜１，０００，０００の平均分子量’に！するポリ
グリコールの高分子量ポリエチレンオキシド、例えばア
クリレート筐たはメタアクリレート暴言イ１エポキシド
のよ５なエポキシド、コポリエステル例えば式ＨＯ（Ｏ
Ｈ２ン、−ＯＨ（式中ｎ）よ２〜１０の全数である）の
ポリメチレングリコールと（１）へキサヒドロテレフタ
ル酸、セパシン酸およびテレフタル葭、（２１テレフタ
ル酸、イソフタル酸ハおよびセパシン酸、＋５）テレフ
タル酸およびセバシンばまたは（４）テレフタル酸およ
びイソフタル酸との反応生成物から製造されたものおよ
び（５）前記グリコールと中テレフタル酸、イソフタル
酸およびセパシン酸および＋ｎ＋テレフタル酸、イン７
タル酸、セパシン酸およびアジピン酸から製造されたコ
ポリエステル混合物、ナイロンまたはポリアミド例えば
Ｎ−メトキシメチルポリヘキサメチレンアジパミド、セ
ルロースエステル例えはセルロースアセテート、セルロ
ースアセテートサクシネートおよびセルロースアセテー
トブチレート、セルロースエーテル例エバメチルセルロ
ース、エチルセルロースおよヒヘンジルセルロース、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタール例えばポリビニ
ルブチラール、ポリビニルホルミル、ポリホルムアルデ
ヒドがあげられる。

この結合剤は水性現像液中で＋１ｉｉｌ放物を処理可能
なものとするに充分な酸性またはその他の基を含Ｍしう
る。有用な水性処理可能な結合剤としては米国特許第３
，４５８，３１１号および英国特許第１．５０７．７０
４号各明ａＳに開示のものがあげられる。有用な両性重
合体としてはＮ−アルキルアクリルアミドまたはメタク
リルアミド、酸性フィルム形成性共単量体およびアルキ
ルまたはヒドロキシルアルキルアクリレートから導かれ
た共重合体例えば米国特許第３．９２７．１９９号明細
書に開示のものがあげられる。

単独単量体としてかまたは他との組会せにおいて使用し
うる適当な単量体としては第３級ブチルアクリレート、
１，５−ペンタンジオールジアクリレー）、Ｎ、Ｎ−ジ
エチルアミノエチルアクリレート、エチレングリコール
ジアクリレート％　７．４−ブタンジオールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、ヘキサメ
チレングリコールジアクリレート、１．３−プロパンジ
オールジアクリレート、デカメチレングリコールジアク
リレート、デカメチレングリコールジメタアクリレート
、１．４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２
．２−ジメチロールプロノぞンジアクリレート、グリセ
ロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジア
クリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチａ−
ルプロパントリアクリレートおよびトリメタクリレート
、および米国特許第３．３８０．８３１号明細書に開示
の同様の化合物、２ｅ２　”　’）　（ｐ−ヒドロキシ
フェニル）−プロパンジアクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、２．２−ジー（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）−プロパンジメタクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル−２
，２−ジー（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジメ
タクリレート、ビスフェノールＡのジー（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフ
ェノールＡのジー（２−メタクリルオキシエチル）エー
テル、ビスフェノールＡのジー（６−アクリルオキシ−
２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフェノールＡ
のジー（２−アクリルオキシエチル）エーテル、テトラ
クロロビスフェノールＡのジー（３−メタクリルオキシ
−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、テトラクロロ−
ビスフェノールＡのジー（２−メタクリルオキシエチル
）エーテル、テトラブロモビスフェノールＡのジー（３
−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテ
ル、テトラブロモビスフェノールＡのジー（２−メタク
リルオキシエチル）エーテル、１，４−ブタンジオール
のジ（５−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル
）エーテル、ジフェノールポのジー（５−メタクリルオ
キシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリ
メチロールプロバントリアクリレート（４６２）、エチ
レングリコールジメタクリレート、プチレングリコール
ジメタクリレー）、１．３−プロパンジオールジメタク
リレート、１，２．４−ブタントリオールトリメタクリ
レニド−２，２，４−）リフチル−１，３−ベンタンジ
オールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、１−フェニルエチレン−１，２−ジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、１，５
−はンタンジオールジメタクリレート、ジアリルフマレ
ート、スチレン、１．４−ヘンゼンジオールジメタクリ
レー）、１．４−ジイソプロペニルベンゼンおよび１，
５．５−　トリインプロペニルベンゼンがあげられる。

前記エチレン性不飽和単量体の他に、この光硬化性層は
また少くとも６０００分子量を有する遊離ラジカル開始
連鎖延長付加重合性エチレン性不飽和化合物を少くとも
１種含有することができる。このタイプの好ましい＊を
体は２〜１５個の炭素原子数のアルキレングリコールま
たは１〜１０個のエーテル結合のポリアルキレンエーテ
ルグリコールから製造されたアルキレンまたはポリアル
キレングリコールジアクリレートおよび米国特許第２，
９２７，０２２号明細書に開示のもの例えば特に末端結
合として存在する場合の複数個の付加重合性エチレン結
合ｔＶするものである。特に好ましいのはそのような結
合の少くとも１個そして好ましくはそのほとんどが炭素
またはへテロ原子例えば窒素、酸素および硫黄との炭素
二重結合を含む二重結合炭素と共役しているものである
。顕著なものはエチレン性不飽和基特にビニリデン基が
エステルまたはアミド構造に共役しているものである。

活性光線によ多情性化される仁とができそして１８５℃
およびそれ以下では熱的に不活性な好ましい遊離ラジカ
ル生成性付加重合開始剤としては共役炭素環系中に２個
の項内カルボニル基＊　＊−ｔ−るｉｆ換または非置換
の多核キノン例えば９．１０−アントラキノン、１−ク
ロロアントラキノン、２−りＩｆｆαアントラキノン、
２−メチル−アントラキノン、２−エチルアントラキノ
ン、２−ｉ３級ブチルアントラキノン、オクタメチルア
ントラキノン、１，４−ナフトキノン、９．１０−７エ
ナントレンキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２
，６−ベンズアントラキノン、２−メチル−１，４−す
７トキノン、２，６−シクロロナフトキノン、１．４−
ジメチルアント２キノン、２．３−ジメチルアントラキ
ノン、２−フェニルアントラキノン、２．５−’）フェ
ニルアントラキノン、アントラキノンα−スルホン酸の
ナトリウム塩、３−クロロ−２−メチルアントラキノン
、レチンキノン％　７，８，９，１’０−テトラヒドロ
ナフタセンキノンおよび１，２．５．４−テトジヒドロ
ベンズｆａｔアントラセン−へ１２−ジオンがあげられ
る。それらのあるものは８５０程度の低温度でも熱的に
活性であるにしてもこれまた有用なその他の光開始剤は
米国特許第２，７６０，８６５最明ａ書に記載されてお
シ、これらとしてはビシナルケトアルドニルアルコール
例エバベンゾイン、ヒバロイン、アシロインエーテル倒
えばベンゾインメチルおよびエチルエーテル、α−メチ
ルベンゾイン、α−アリルベンゾインおよびα−フェニ
ルベンゾインを含むα−炭化水素置換芳香族アシロイン
があげられる。米国特許！２，８５０，４４５号％同第
２，８７５，０４７号、同第３．０９４０９６号、同第
３，０７４，９７４号、同第６，０９４０９７号および
同第３．１４５．１０４号も明＃Ｉ誉に開示の光還元性
染料および還元剤ならびにフェナジン、オキサジンおよ
びキノンの各種類の染料、ミヒラーのケトン、ベンゾフ
ェノン、２，４．５−　トリフェニルイミダゾリルニ量
体と水素ドナーおよび米国特許第３，４２７，１６１号
、同第３．４７９．１８５号および同第３．５．４９，
３６７号各明細書に記載のそれらの混合物を開始剤とし
て使用することができる。また米国特許第４，１６２，
１６２号明細書に開示の増感剤は光開始剤および光阻害
剤に関してもまた有用である。

光重合性組成物中に使用しり〜る熱重合阻害剤はｐ−メ
トキシフェノール、ヒドロキノンおよびアルキルおよび
アリール置換ヒドロキノン、およびキノン、第３級ブチ
ルカテコール、ピロガロール、樹脂酸銅、ナフチルアミ
ン、β−ナフトール、塩化第１銅、２．６一ジ第６級ブ
チルーｐ−クレゾール、フェノチアジン、ピリジン、ニ
トロベンゼンおよびジニトロベンゼン、ｐ−トルキノン
およびクロラニルである。また米国特許第４，１６８，
９８２号明細書に開示のニトロソ組成物および米国特許
第４．２９８．６７８最明細省＝に開示のジ−エチルヒ
ドロキシルアばンも葦た熱重合阻害に対して有用である
。

種々の染料および顔料を加えてレジスト画像の可視性を
増大させることができる。しかしながら使用されるすべ
ての看色剤ｅま好ましくは１更用される活性線放射に対
して透明であるべきである。

印刷回路形成を含む本％明の方法に対して一般に過当な
基材は機械的強度、化学的抵抗性および艮好な誘電性勿
令するものである。すなわち印刷回路のためのほとんど
の板材料は通常補強剤と組合せた熱硬化または熱可４＃
住樹脂である。補強光横剤を有する熱硬化性樹脂は通常
剛性板用に使用され、一方補強なしの熱可塑性樹脂は可
撓性回路板に使用される。

典型的榎構造は組合せ物例えば紙上のフェノールまたは
エポキシ樹脂％または紙−ガラス複合体ならびにガラス
上のポリエステル、エポキシ、ポリアミド、ポリテトラ
フルオロエチレンまたはポリスチレンを包含する。はと
んどの場合、板は薄い電気伝導性金属の薄い層で被覆さ
れているがこの中で銅が最も一般的である。

表面測定技術はカバーシートを凍結そして破壊させるこ
とによってカバーシートの−ｒ面葡走査電子８微鏡で検
査することを包含する。測定すべきカバーシート試料を
約１インチ×８インチ長さのストリップに裁断する。次
いでこのストリップにその一方の端近くにノツチ（切欠
け）を入れて破壊点全制御させる。試料のノツチを入れ
た端をノツチの上のところまで液体菫累に含浸させる。

試料を児全に凍結させた後（２〜５分）、試料を除去し
そして直ちに谷手に一端づつ両端全つかみ次いで両手全
３インチ相互に近づけ次いで急にそれらに’ｉｌ張り畦
丁ことによって急速な折れを与える。全操作はきれいな
破壊を確実ならしめるためには窒素除去の５秒以内に完
了させるべきである。試料をそのＲｋ垂直にして載置し
そして伝導体コーティングでスパタリングさせる。次い
でこれら試料を走査電子顕微鏡に取ｐ付け、ぞしてロビ
ンノン検出機を使用して約５００倍で測定を実施する。

側足は１０μ参考線全写真上の測定と比較することによ
シ笑施される。こ６揚合の参照線は６０長さである。こ
れら実験で使用されたマット化（艶消し）ポリエチレン
についてこの技術全使用して測定を実施した。次の結果
が得られた。

０　測定されたピーク高さは裏側から測定して５ｏｎで
あった。これ’ｔ　（１，６ｆｉ当り１０μのスケール
ファクターで乗すると、５０μの全ピーク高さを示す。

谷までの距離は写真上で２．５傭と迎］定された。これ
に０，６信当５１０μを乗すると、それＩ′１４１．６
μであることを示す。すなわちこれはａ４μのピーク−
谷の高さの差を与える。その他のマット化された物質を
この技術を使用して測定したところ、ピーク高さは２．
８１×１０μ／６菌−４６，７μであることが見出され
た。シート裏側からの谷の高さは２．４信ｘｉｏμ／　
０．６　ｃｍ晩４０μでろ多垂は６．７μである。

！　これらの性質を示さない標準ポリエチレンもまた測
定された。そしてこれは１．６傭にスケールファクター
１０μ／　０．６７ｍを乗すると−２７，５μのピーク
高さｔ有することが見出された。

谷Ｆ１１．６（ｍＸＩＬ］μ／　０．６０１１で谷は２
４７μであり、これは０．８μの不拘−高さ差金与える
。

以下の実施例においては、すべての部および％ｔま特記
されていない限ｆ）は重層基ｊ■である。

例　１ ０．９２ミルのポリエステルの支持体シート、５．１ミ
ルノ９さの光重合体層、〉よび１．１５ミルの平均厚さ
でそしてピークから谷まで４μの粗荒性を有する粗荒側
を光重合体に向けたマット化ポリエチレンカバーシート
から光感受性エレメントを製造した。この光重合体層は
ｌｉ量基準で次の組成を有していた。

ペンタエリスリトールトリアクリレート　ｉｓ、ｏ。

トリメチロールプロパントリアクリレ−）１５．００へ
キサメトキシメチルメラミン　１２．５０ジエチルヒド
ロキシルアミン　０．０５ベンゾフエノン　４．００ ミヒラーのケトン　０．１０ ５−メルカプト１．２．４−）リアゾール　０．２ｕメ
チルメタクリレート／エチルアクリレ　４２．１５２０
０，０００、酸価８０） ＨＶＴ　−４５緑色顔料　３．００ ポリビニルピロリドン　６．００ タマ−（分子量５０．０００　） マット化ポリエチレンカバー表面に接触させた光重合体
層の表面は粗荒化構造を有していた。

その理由は光重合体層はカバーシートのピーク−谷構造
に従うからである。

カバーシートの除去後、マット化カバーシートのその鏡
像画像構造を有する支持体つき光重合体層會デュポンＳ
ＭＶＬ　Ｊ窒うミネーターを使用して大なる平面部分お
よび２．５〜４．１ミルの回路高さ會有する個々の印刷
回路板上に積増せしめた。回路板および支持体つき光重
合体層を加熱しそして空気全チャンバーから除去した。

回路板および支持体つき光重合体層を９５℃の上側およ
び下側プラテンによｐ加熱した。回路板および支持体つ
き光重合体ｊＧｔｋ加熱しているｌｉＪ］に、チャンバ
ーを約０，６トルのＡ　９に引いて空気を除去した。こ
の段階に要した時間は４５秒であった。

加熱およびポンプ汲み出しの期間の終ｐに大気圧を上側
プラテンに適用して光重合体をパネルに積層させた。こ
の段階に要求された時間は３秒であった。

積層法は６０秒サイクルで１５２″Ｆの排出板温度（エ
レクトロニクス・デベロプメント・ラボラトリ−社製造
のポケットプローでパイロメ−ター　ＮＭＰにより測定
）であるデュポンＳＭＶＬ真窒ラミネーターによるもの
である。

これら印刷回路板を視覚的に検査しそして板と積層光重
合体層の間に空気の捕集は存在していないことが見出さ
れた。

例　２ 例１の６．１ミルの光重合体を有する０、９２ミルのポ
リエステルである支持体、訃よび１．１５ミルの平均厚
さおよび２ミクロンのピーク−谷間粗荒性を有しそして
光重合体の方向に粗荒化された側を向けたマット化ポリ
エチレンのカバーシートから光感受性エレメントを製造
した。

例１の方法に従って、この物＊＊テユボンＳＭＶＬＡを
ラミネーターを使用して２．５〜４ミルの同Ｔｉｌ５高
さを南する印刷回路板（１２“Ｘ　１５”　）忙６０秒
のサイクルおよび１５２″Ｆの排出板温度で積ｊ−させ
た。

これらの板を視覚的に検査した。このものは板の中心近
くに小さな空気捕集を示す１６個の小区域ｔ−有してい
ることが見出された。

例　３ ０．９２ミルのポリエステルの支持体シートおよび例１
の光重合体の３．１ミルの光重合体層および１．１５ミ
ルのピーク−谷間０．８ミクロンの粗荒性を有する標準
カバーシート力・ら光感受注エレメントを製造した。

例１の方法に従ってこの物ＪｌテユボンｂＭＶＬ真空ラ
うネーター金使用して２，５〜４ミルの回路高さｋＮｆ
る印刷回路板に６０秒のサイクルおよび１５２″Ｆの排
出板温度を使用してａｒｔさせた。

これらの板を視覚的に検査しそしてこれがすべての大な
る地（グラウンド）表面上にひどい空気捕集ｔＷしてい
ることが見出された。

特許出願人　イー・アイ・デュポン・ド・ネモアース・
アンド・コンパニー

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）少くとも１ａの光感受性組成物の層を有する可撓性
   支持体および除去可能なカバーシート全包含しそして光
   感受性エレメントに対して前記支持体がカバーシートよ
   ）も大なる接着性を有しておシ、しかも光感受性組成物
   がカバーシートの方に向いた表面上に粗荒化させたフィ
   ニツシユを有していてそしてその際前記光感受性組成物
   の表面粗荒性がピーク−谷間距離２〜１１μの平均の範
   囲にあることを特徴とする改善された光感受性エレメン
   ト。 ２）カバーシートが光感受性組成物に面しているその表
   面上に粗荒化せしめられたフィニツシユｔ−［しておシ
   １光感受性層の粗荒化フィニツシユがカバー７−トの輪
   郭に従っている前記特許請求の範囲第１項記載のエレメ
   ント。 ３）前記平均範囲が少くとも４μである前記特許請求の
   範囲第１項記載のエレメント。 ４）ａ荒化フィニツシユを有する光感受性組成物が４〜
   ８μのピーク−谷平均距離をゼしている前記特許請求の
   範囲第１項記載のエレメント。 ５）粗荒性が四−ルの幅全体に広がっているロール形態
   の前記特許請求の範囲第１項記載のエレメント。 ６）カバーシートまたは支持体上にもう一つの粗荒化表
   面を有していて、それによって粗荒化表面が光感受性エ
   レメントのロール中の層の間に空気を存在させる前記特
   許請求の範囲第１項記載のエレメント。 ７）　Ｉ：ｌ−ルに巻い′／ｃ前記特許請求の範囲第６
   項記載のエレメント。 ８）　粗ｍ化フィニツシユがテクスチャーフィニツシユ
   翫マット化フィニツシユまたはエンボスフィニツシユで
   ある前記特許請求の範囲第１項記載のエレメント。 ９）前記粗荒化フィニツシユが実質的に１１μ以上の凹
   凸は有していない前記特許請求の範囲第１項記載のエレ
   メント。 １０）少くとも１個の光感受性組成物の層を有する可撓
   性支持体および除去可能なカバーシートを包含しそして
   光感受性エレメントに対して前記支持体がカバーシート
   よりも大なる接着性を有しておル、而してカバーシート
   が光感受性組成物の方に面したその表面上に粗荒化され
   たフィニツシユを有しそして光感受性組成物がカバーシ
   ートの輪郭に従いその際光感受性組成物の表面粗荒性が
   ピーク−谷間距離２〜１１μの平均の範囲にあることを
   特徴とする、吹善された光感受性エレメント。 １１）表面粗荒性が平均８μ以上ではない範囲にある前
   記特許請求の範囲０４１０項記・戒のエレメント。 １２）カバーシー）−１たは支持体上にもう−りの粗荒
   化表面を有していてそれによって粗荒化表面が光感受性
   エレメントのロール中の層の間に空気を存在させる前記
   特許請求の範囲第１０ＪＡ記載のエレメント。 １３）カバーシートのその両面が粗荒化されている前記
   時Ｍ’＋　請求の範囲第１２項記載のエレメント。 １４）テクスチャーフィニツシユ、マット化フィニツシ
   ユまたはエンボスフィニツシユ全方する前記特許請求の
   範囲第１２項記載のエレメント。 １５）粗荒化フィニツシユが実質的に１１μ以上の凹凸
   を有していない前記特許請求の範囲第１０項記載のエレ
   メント。 １６）少くとも１個の光感受性組成物の層を有する可撓
   性支持体および除去可能なカバーシートを包含しそして
   光感受性エレメントに対して前記支持体がカバーシート
   よシも大なる接着性を有してお）、而してカバーシート
   が光感受性組成物の方に面したその表面上に粗荒化させ
   たフィニツシユを有していてそして光感受性組成物がカ
   バーシートの輪郭に従いその際ベック粗荒性試験により
   測定した光感受性組成物の表面粗荒性が２０秒〜４０分
   の範囲であることを特徴とする、改善されｆｃ光感受性
   エレメント。 １７）表面粗荒性が２〜７分の範囲にある前記特許請求
   の範囲第１６項記載のエレメント。 １８）カバーシートまたは支持体上にもう一つの粗荒化
   表面を有しておフ、それによって粗荒化表面が光感受性
   エレメントのロール中の層の間に空気を存在させる前記
   特許請求の範囲第１６項記載のエレメント。 １９）カバーシート妙：その両面を粗荒化されている前
   記特ｉＦＦ請求の範囲第１８項記載のエレメント。 ２０）テクスチτ−フィニツシユｔマット化フィニッシ
   ュマタは工ンボスフィニッシュヲ七゛スる前記特許請求
   の範囲第１８填記載のエレメント。 ２１）粗荒化フィニツシユが実質的に１１μ以上の凹凸
   は有してｉない前記特許請求の範囲第１６項記載のエレ
   メント。 ２２）少くとも１髄の光感受性組成物の虐を有する可撓
   性支持体を包含し１光感受注組成物が可撓性支持体から
   遠い方のその表面上に祖荒化フィニツシユを有していて
   そして前記粗荒性が平均２〜１１μのビーク−谷間距離
   範囲を万していることを％倣とする、改善された光感受
   性エレメント。 ２３）真壁下＆’（盛ｐ上ったレリーフ表１ＪｆＩｔ有
   する基材にフィルム支持体つき光感受性エレメントを積
   層させるにらたシ、光感受性エレメントが基材に積層さ
   れるその表面上に２〜１１μのピーク−谷間距離平均範
   囲の表面粗荒性の粗荒比フィニツシユを有していること
   ｔ％徴とする％改善された積層方法。