JPH0426461B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は可撓性支持体層と除去可能なカバーシ
ートの間にサンドイツチ化された光感受性組成物
を有する改善された光感受性エレメントおよびそ
のようなエレメントの使用法に関する。更に別の
態様はカバーシートを使用しないものである。

米国特許第3469982号明細書は光重合性層を一
時的支持体フイルムを一時的カバーフイルムとの
間にサンドイツチ化せしめたネガとして働く光重
合性フイルムレジストを開示している。このフイ
ルムはカバーフイルムを除去し、光重合性層を熱
および圧力によつて永久的に変性させるべき基材
の表面例えば銅に積層させ、この層を活性線放射
に像様露光させ、フイルム支持体を除き、層の未
露光部分を溶媒洗去（現像）により除去しそして
銅表面上の得られた裸出部分を例えばエツチング
または金属沈着によつて永久的に変性させること
による印刷回路の製造に広範な用途を得た。

前記米国特許は支持体フイルム上への光重合性
組成物の溶液コーテイング、それに続く乾燥およ
び次いで得られた乾燥層の表面例えば銅被覆印刷
回路板への積層によつてホトレジスト過程を実施
することを開示している。しかしながら工業的実
施法においては保存および発送の間支持体に付着
していなくてはならない乾燥光重合性層は支持体
フイルムとカバー層との間のサンドイツチとして
供給される。このことはホトレジスト製造者によ
つてこのサンドイツチエレメントをそれ自体巻き
上げそして使用者例えば印刷回路製造業者にコン
パクトな取扱い容易なロールとして供給すること
を可能ならしめる。カバーフイルムは発送および
保存の間に光重合性層が支持体フイルムの裏側に
接着することを阻止する。使用に当つてはカバー
フイルムを剥離させそして捨て、次いで前記のホ
トレジスト過程を実施させる。

米国特許第4193797号明細書は一時的支持体フ
イルムと一時的カバーフイルムの間にサンドイツ
チ化された光重合性層を有する同様の光重合性フ
イルムレジストを開示しているが但しここでは光
重合性組成物はネガとして働くものではなくポジ
として働くものである。

米国特許第3984244号明細書は少くとも0.0005
インチ（0.00127cm）の溝を有するチヤンネルつ
き光感受性エレメント、および扛起部分または不
連続性を有する表面例えば盛り上つた金属回路部
分を有する回路板表面上でのホトレジストとして
のその使用方法を開示している。光感受性熱可塑
性層を空気の泡の捕集をほとんどまたは全くなし
に扛起部分を有する表面に強制的に接触せしめ
る。光感受性層を強制的に密着させた場合、層と
表面との間の空気は光感受性層中のチヤンネルを
通つて逃げていきそして層は変形しそして表面の
盛り上つた部分を包み込む。

本発明は積層光感受性組成物を基材の盛り上つ
た回路に合致させることのすべての不可能性を克
服させるための乾燥フイルムはんだマスクとして
の使用に特に適応されている。乾燥フイルムは最
初は存在しない地（グラウンド）部分すなわち大
なる絶縁性領域のまわりにシールせしめられる
が、それによつて基材とマスクとの間に空気を捕
集しうる。そのような捕集された空気は劣悪なマ
スクの板接着、錫びきまたははんだづけ操作の間
のマスクのブリスター形成および回路自体が低融
点伝導体例えばはんだからできている場合には回
路定義の消失を生ずる。本発明は積層段階におけ
るそのような空気の捕集を克服している。

本発明は、少くとも１個の光感受性組成物の層
を有する可撓性支持体および除去可能なカバーシ
ートを包含しそして光感受性エレメントに対して
前記支持体がカバーシートよりも大なる接着性を
有している光感受性エレメントおよびその使用法
において、前記光感受性組成物がカバーシートの
方に向いた表面上に粗荒化（粗面化）されたフイ
ニツシユ（仕上げ）を有しておりそして前記光感
受性組成物の表面粗荒性がピーク−谷（peak to
valley）間距離で平均２〜11μの範囲にあること
を包含する改善に関する。光感受性エレメントの
別の態様はカバーシートを使用していない。

本発明の光感受性エレメントのタイプは従来技
術で周知であり、そしてこれは支持体層とカバー
シートとの間に光感受性組成物を有するサンドイ
ツチ構造のものである。一般に光重合性重合体を
含有するこのタイプの光感受性エレメントは例え
ば印刷回路板の製造におけるレジストおよびはん
だマスクとして広く工業的に使用されている。

本発明はカバーシートに面している光感受性組
成物の表面の粗荒度において従来技術とは異つて
いる。米国特許第3984244号明細書は少なくとも
0.0005インチ（0.0127cm）の複数個のチヤンネル
を有する光感受性組成物を開示しているけれども
一般にそのような光感受性組成物は一般には平滑
な表面を有している。かかる特許においては真空
積層は使用されていない。

それと対照的に、本発明の光感受性エレメント
においては、可撓性カバーシートに面している光
感受性組成物の表面に規定された程度の粗荒性が
存在している。はんだマスクとしてのこの光感受
性エレメントの使用にあたつては、印刷回路板の
回路の故に扛起レリーフを有している基材へのフ
イルム支持光感受性組成物を真空積層する前にカ
バーシートが除去される。そのような真空積層法
は光感受性組成物の粗荒化表面の存在以外の点で
は従来技術で一般的なものである。光感受性組成
物の粗荒化表面構造は光感受性組成物とその盛り
上つたレリーフを有する基材表面との間から空気
を除去することを可能ならしめる。二つの表面の
間で空気捕集を生ずる可能性ある不均一な積層は
克服される。何故ならば空気の排除を可能ならし
める通路が存在するからである。

光感受性組成物の粗荒度は、不当な粗荒性すな
わち米国特許第3984244号明細書に開示のような
深いチヤンネルは本発明の範囲外であるので、狭
い限度内にある。また本来的に表面に若干の不均
一性を有している慣用の平滑な光感受性組成物表
面もまた除外される。本明細書において「平均範
囲の表面粗荒性」とは、表面のすべての1μ以上
のピーク−谷間距離の平均を意味している。換言
すると、1μまたはそれ以下の不均一性はいずれ
も計算には使用されていない。また本明細書にお
いて「粗荒化フイニツシユ」とは定義された値内
の粗荒度を有する表面に関してその通常の意味に
おいて使用されている。粗荒化フイニツシユは例
えば諸所にスクラツチ（引掻き）を有する表面は
包含しない。光感受性組成物の表面粗荒性に対す
る最小値は平均2μのピーク−谷間距離であり、
そしてより好ましくは最小平均表面粗荒度は少く
とも4μである。一般に表面粗荒性の上限は11μそ
してより一般的には10μである。表面は実質的に
は11μ以上の凹凸は有してはいないのが好まし
い。その理由はより大なる粗荒度は積層過程を阻
害しうるしまたはこれは積層条件下の光感受性組
成物の流れ性に限界を導入しうるからである。

粗荒性は光重合体表面とカバーシートとの間の
接着性を増大せしめる。過度の粗荒性に関する例
として、光感受性組成物の積層は基材上で光感受
性組成物の薄くなつた部分を生成させうる。好ま
しい粗荒度は平均４〜8μピーク−谷間距離の範
囲にある。光感受性組成物および粗荒化された場
合のカバーシートの適当な粗荒化表面の例はテク
スチヤー、マツトおよびエンボスの各フイニツシ
ユである。

表面粗荒性を記載するその他の方法はベツク平
滑性（Bekk smoothness）テスターを使用して
空気流出時間を測定することによるものである。
操作マニユアル（ここに参照として包含される）
における試験法に直接従うが但しハンドル重量は
使用されない。水銀水準の38cmから36cmへの真空
低下（大気圧に相対的に）を生成させるための時
間が測定される。

本明細書中に「ベツク粗荒度試験」として呼ば
れているこの試験によればカバーシートの粗荒性
が測定される。この試験法はカバーシートの輪郭
に従う光重合体のような光感受性物質の表面に対
しては使用されない。その理由は物質の軟質性が
試験結果を阻害しうるからである。ベツク粗荒度
の試験値は20秒〜40分の範囲そして好ましくは２
分〜７分の範囲にあるべきである。

光感受性組成物の表面の必要な粗荒度を得るた
めの好ましい様式は粗荒化カバーシートの使用に
よるものである。光感受性組成物はカバーシート
の直接的インプリントを有しうる。それに代る光
感受性組成物の表面粗荒性形成技術はブラシのよ
うな道具を使用することである。一般には好まし
いけれどもカバーシートは使用する必要はなく、
そして２片すなわち支持体と光感受性重合体の２
片のみの構造を使用しうる。カバーシートを使用
しないことの不利点は例えばロール形態において
組成物が限定された程度にしか保護されないこと
である。また光感受性組成物の取扱いおよび保存
において追加の配慮が必要となりうる。その理由
は光感受性熱可塑性物質の流れ性がその表面の粗
荒性を除去しうるからである。

好ましい態様においては、光感受性層の反対側
に面している粗荒化カバーシート表面もまた粗荒
化された表面を有している。一般に保存の間は光
感受性組成物はロールに形成されている。ロール
形態においては軟質な光感受性レジストおよびは
んだマスクは三つの主なる品質的問題の少くとも
一つの被害を受けうる。第一に、ロール中のラツ
プ中に一般に最初は均一に分布していた空気は、
ロール製造後には局在的応力（外的接触、厚さの
変動、張力の変動、収縮変動）によつて徐々にポ
ケツトまたは泡の状態に移動しうる。これらの泡
は軟質光感受性組成物中に二次流れを誘導して美
観上または機能上の欠陥（薄くなつた点）を生ず
る。薄くなつた光感受性組成物厚さは光感受性層
の機能に致命的となる。

第二にロール中における支持体またはカバーシ
ートの収縮はどちらが最高の収縮傾向を有してい
るにしても、複合構造体中に徐々にしわの形成を
招来しうる。このしわはまた二次流れを誘導させ
て光感受性組成物の厚さの局所的変動の結果を生
ぜしめうる。

第三に、保存の間に硬いバンド部分または生成
物厚さのゲージ変動部分において光重合体の重合
が生じうる。そしてこれはある領域ではフイルム
ラツプからの空気の排除を生ぜしめる。本発明の
カバーシートを使用した場合、これら硬バンド中
の粗荒表面の故の空気の連続的な存在はこのタイ
プの化学的不安定性に強い阻害効果を有しうる。

光感受性組成物に面していないその表面上にあ
るカバーシート上に第２の粗荒化フイニツシユを
使用することは、ロール中のラツプ間の空気の比
較的容易な移動および均一な分布を与え、関連す
る二次流れの問題を除外または減少する。この粗
荒性は光感受性エレメント中の厚さ変動を補償す
る均一な圧縮可能なクツシヨン効果を与えうる。
このクツシヨン効果は薄い生成物部分における軟
質スポツトの形成を最小化させ、次いでしわの形
成傾向を減少させる。更にこのクツシヨン効果は
一層厚い部分での欠点を減少させる。またごみま
たはその他の高いスポツトによる欠陥がラツプか
らラツプにひろがる傾向を減少しうる。

その他の利点は光感受性組成物に面していない
カバーシートの粗荒外側表面が硬いロールバンド
（高い応力部分）においてさえもラツプ間の酸素
供給を保持するということである。この酸素は保
存の間の感受性光重合体の自発重合
（autopolymerization）を阻害しうる。この変形
は生成物保存寿命を増大させ、そして一方同時に
最終目的センシトメトリーおよび性能に悪影響を
有しうるようなコーテイング処方中での阻害剤の
高度の負荷要求を軽減せしめる。

光感受性組成物に面していないカバーシート表
面の粗荒度は広範な限度内で変動させることがで
きる。臨界的特性は、光感受性エレメントをロー
ルに巻いた際に空気の存在を可能ならしめるよう
な粗荒度を存在させるということである。一般に
少くとも平均2μそしてより好ましくは平均少く
とも4μのピーク−谷間距離の表面粗荒性が適当
である。一般に40μまで、そしてより好ましくは
10μまでのピーク−谷間距離の表面粗荒性上限が
適当である。カバーシートの厚さの増大につれ
て、より大なる例えば40μ以上の粗荒度が適当と
なることが理解されよう。要求される不同性の頻
度はカバーシートのヤング率および厚さに依存す
る。同一効果のためにはより高いモジユラスの厚
いカバーシート上にはより少数が要求される。表
面粗荒性の増大と共に、光感受性エレメントをロ
ールに巻き上げた際に一般により大なる直径が得
られる。等しい光感受性組成物に対するより大な
る保存面積の不利点は本発明の利点に比べれば小
さな不利益と考えられる。例えば印刷回路板の製
造におけるより大なる歩留まりを粗荒化カバーシ
ートの使用によつて直接実現させることができ
る。適当な粗荒化表面の例はテクスチヤー、マツ
トおよびエンボスの各フイニツシユである。

カバーシートは支持体に比べて光感受性組成物
に対してより小なる接着性を有していなくてはな
らない。その理由はカバーシートは支持体つき光
感受性組成物の基材への積層前に除去されるから
である。本発明の粗荒化カバーシートの代りに粗
荒化支持体が使用される場合には、生成物の性能
を保持させることができる。支持体を通しての光
感受性組成物の活性線放射への露光の際には光は
粗荒支持体表面により散乱されそしてこの散乱は
写真的解像および画像品質を劣化させる。粗荒化
支持体表面の粗荒性は精巧な回路板の製造にあた
つて画像形成可能なラインおよび空間の緻密性
（コンパクトネス）に機能的限界を課するであろ
う。

表面粗荒性はないが適当な除去可能な保護カバ
ーシートは当技術分野では周知である。それらは
好ましくは高度の寸法安定性を有しており、そし
てこれらは高度重合体例えばポリアミド、ポリオ
レフイン、ポリエステル、ビニル重合体およびセ
ルロースエステルより成る広範囲の種々なシート
材料から選ぶことができる。そしてこれは
0.00025インチ（0.0006cm）〜0.008インチ（
0.02cm）またはそれ以上の厚さを有しうる。特に
適当なカバーシートは前記厚さ範囲そして好まし
くは約0.001インチ（0.0025cm）厚さのポリエ
チレンである。

適当な支持体物質は一般に剥離可能でそしてこ
れは前記と同一の高度重合体から選ぶことがで
き、そして例えば0.00025インチ（0.0006cm）
〜0.008インチ（0.02cm）またはそれ以上の同
一の広い厚さ範囲を有しうる。剥離可能な支持体
の除去の前に露光が行われる場合には、それは勿
論そこに入射する活性線放射の実質的部分を透過
させなくてはならない。剥離可能な支持体が露光
の前に除去される場合には、そのような規制は適
用されない。特に適当な支持体は前記厚さ範囲そ
して好ましくは約0.001インチ（0.0025cm）の
透明ポリエチレンテレフタレートフイルムであ
る。

光感受性組成物は一般に約0.0003インチ（
0.0008cm）〜約0.01インチ（0.0025cm）の乾燥
コーテイング厚さで存在する。より厚い層もまた
使用することができる。

本発明の実施に当つては種々のタイプの光感受
性フイルムレジストエレメントを使用できる。一
般に光硬化性のネガとして働くエレメントは米国
特許第3469982号明細書に開示のタイプの光重合
性エレメントおよび米国特許第3526504号明細書
開示のタイプの光交叉結合性エレメントである。
ポジとして働くジストエレメントは光可溶化性タ
イプのもの例えば米国特許第3837860号明細書の
ｏ−キノンジアジドエレメメント、または光減感
性タイプのもの例えば米国特許第3778270号明細
書のビスジアゾニウム塩または英国特許第
1547548号明細書記載のニトロ芳香族組成物であ
りうる。有用な難燃性はんだマスク組成物は米国
特許第4278752号明細書中に開示されている。

光硬化性層は重合体成分（結合剤）、単量体成
分、開始剤および阻害剤から例えばヨーロツパ特
許出願第81164014.6号明細書または前記参照特許
に記載のようにして製造される。

単一結合剤または他と組合せとして使用するこ
とのできる適当な結合剤としてはポリアクリレー
トおよびα−アルキルポリアクリレート、エステ
ル例えばポリメチルメタクリレートおよびポリエ
チルメタクリレート、ポリビニルエステル例えば
ポリビニルアセテート、ポリビニルアセテート／
アクリレート、ポリビニルアセテート／メタクリ
レートおよび水解ポリビニルアセテート、エチレ
ン／ビニルアセテート共重合体、ポリスチレン重
合体および例えばマレイン酸無水物およびエステ
ルとの共重合体、ビニリデンクロリド共重合体例
えばビニリデンクロリド／アクリロニトリル、ビ
ニリデンクロリド／メタクリレートおよびビニリ
デンクロリド／ビニルアセテート共重合体、ポリ
ビニルクロリドおよび共重合体例えばポリビニル
クロリド／アセテート、飽和および不飽和ポリウ
レタン、合成ゴム例えばブタジエン／アクリロニ
トリル、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレ
ン、メタクリレート／アクリロニトリル／ブタジ
エン／スチレン共重合体、２−クロロブタジエン
−１，３重合体、塩素化ゴムおよびスチレン／ブ
タジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／ス
チレンブロツク共重合体、約4000〜1000000の平
均分子量を有するポリグリコールの高分子量ポリ
エチレンオキシド、例えばアクリレートまたはメ
タアクリレート基含有エポキシドのようなエポキ
シド、コポリエステル例えば式HO（CH₂）_o−OH
（式中ｎは２〜10の全数である）のポリメチレン
グリコールと(1)ヘキサヒドロテレフタル酸、セバ
シン酸およびテレフタル酸、(2)テレフタル酸、イ
ソフタル酸およびセバシン酸、(3)テレフタル酸お
よびセバシン酸または(4)テレフタル酸およびイソ
フタル酸との反応生成物から製造されたものおよ
び(5)前記グリコールと(i)テレフタル酸、イソフタ
ル酸およびセバシン酸および(ii)テレフタル酸、イ
ソフタル酸、セバシン酸およびアジピン酸から製
造されたコポリエステル混合物、ナイロンまたは
ポリアミド例えばＮ−メトキシメチルポリヘキサ
メチレンアジパミド、セルロースエステル例えば
セルロースアセテート、セルロースアセテートサ
クシネートおよびセルロースアセテートブチレー
ト、セルロースエーテル例えばメチルセルロー
ス、エチルセルロースおよびベンジルセルロー
ス、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール例
えばポリビニルブチラール、ポリビニルホルマ
ル、ポリホルムアルデヒドがあげられる。

この結合剤は水性現像液中で組成物を処理可能
なものとするに充分な酸性またはその他の基を含
有しうる。有用な水性処理可能な結合剤としては
米国特許第3458311号および英国特許第1507704号
各明細書に開示のものがあげられる。有用な両性
重合体としてはＮ−アルキルアクリルアミドまた
はメタクリルアミド、酸性フイルム形成性共単量
体およびアルキルまたはヒドロキシルアルキルア
クリレートから導かれた共重合体例えば米国特許
第3927199号明細書に開示のものがあげられる。

単独単量体としてかまたは他との組合せにおい
て使用しうる適当な単量体としては第３級ブチル
アクリレート、１，５−ペンタンジオールジアク
リレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、
１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ヘキサメチレン
グリコールジアクリレート、１，３−プロパンジ
オールジアクリレート、デカメチレングリコール
ジアクリレート、デカメチレングリコールジメタ
アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオール
ジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパン
ジアクリレート、グリセロールジアクリレート、
トリプロピレグリコールジアクリレート、グリセ
ロールトリアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロー
ルプロパントリアクリレートおよびトリメタクリ
レート、および米国特許第3380831号明細書に開
示の同様の化合物、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシ
フエニル）−プロパンジアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、２，２−ジ−
（ｐ−ヒドロキシフエニル）−プロパンジメタクリ
レート、トリエチングリコールジアクリレート、
ポリオキシエチル−２，２−ジ−（ｐ−ヒドロキ
シフエニル）−プロパンジメタクリレート、ビス
フエノールＡのジ−（３−メタクリルオキシ−２
−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフエノー
ルＡのジ−（２−メタクリルオキシエチル）エー
テル、ビスフエノールＡのジ−（３−アクリルオ
キシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビス
フエノールＡのジ−（２−アクリルオキシエチル）
エーテル、テトラクロロビスフエノールＡのジ−
（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル）エーテル、テトラクロロ−ビスフエノールＡ
のジ−（２−メタクリルオキシエチル）エーテル、
テトラブロモビスフエノールＡのジ−（３−メタ
クリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテ
ル、テトラブロモビスフエノールＡのジ−（２−
メタクリルオキシエチル）エーテル、１，４−ブ
タンジオールのジ（３−メタクリルオキシ−２−
ヒドロキシプロピル）エーテル、ジフエノール酸
のジ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシ
プロピル）エーテル、トリエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロ
ールプロパントリアクリレート（462）、エチレン
グリコールジメタクリレート、ブチレングリコー
ルジメタクリレート、１，３−プロパンジオール
ジメタクリレート、１，２，４−ブタントリオー
ルトリメタクリレート、２，２，４−トリメチル
−１，３−ペンタンジオールジメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリレート、１−
フエニルエチレン−１，２−ジメタクリレート、
ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレート、１，
５−ペンタンジオールジメタクリレート、ジアリ
ルフマレート、スチレン、１，４−ベンゼンジオ
ールジメタクリレート、１，４−ジイソプロペニ
ルベンゼンおよび１，３，５−トリイソプロペニ
ルベンゼンがあげられる。

前記エチレン性不飽和単量体の他に、この光硬
化性層はまた少くとも300の分子量を有する遊離
ラジカル開始連鎖延長付加重合性エチレン性不飽
和化合物を少くとも１種含有することができる。
このタイプの好ましい単量体は２〜15個の炭素原
子数のアルキレングリコールまたは１〜10個のエ
ーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコール
から製造されたアルキレンまたはポリアルキレン
グリコールジアクリレートおよび米国特許第
2927022号明細書に開示のもの例えば特に末端結
合として存在する場合の複数個の付加重合性エチ
レン結合を有するものである。特に好ましいのは
そのような結合の少くとも１個そして好ましくは
そのほとんどが炭素またはヘテロ原子例えば窒
素、酸素および硫黄との炭素二重結合を含む二重
結合炭素と共役しているものである。顕著なもの
はエチレン性不飽和基特にビニリデン基がエステ
ルまたはアミド構造に共役しているものである。

活性光線により活性化されることができそして
185℃およびそれ以下では熱的に不活性な好まし
い遊離ラジカル生成性付加重合開始剤としては共
役炭素環系中に２個の環内カルボニル基を有する
置換または非置換の多刻キノン例えば９，10−ア
ントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−
クロロアントラキノン、２−メチル−アントラキ
ノン、２−エチルアントラキノン、２−第３級ブ
チルアントラキノン、オクタメチルアントラキノ
ン、１，４−ナフトキノン、９，10−フエナント
レンキノン、１，２−ベンズアントラキノン、
２，３−ベンズアントラキノン、２−メチル−
１，４−ナフトキノン、２，３−ジクロロナフト
キノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２，
３−ジメチルアントラキノン、２−フエニルアン
トラキノン、２，３−ジフエニルアントラキノ
ン、アントラキノンα−スルホン酸のナトリウム
塩、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、レ
チンキノン、７，８，９，10−テトラヒドロナフ
タセンキノンおよび１，２，３，４−テトラヒド
ロベンズ(a)アントラセン−７，12−ジオンがあげ
られる。それらのあるものは85℃程度の低温度で
も熱的に活性であるにしてもこれまた有用なその
他の光開始剤は米国特許第2760863号明細書に記
載されており、これらとしてはビシナルケトアル
ドニルアルコール例えばベンゾイン、ピバロイ
ン、アシロインエーテル例えばベンゾインメチル
およびエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、
α−アリルベンゾインおよびα−フエニルベンゾ
インを含むα−炭化水素置換芳香族アシロインが
あげられる。米国特許第2850445号、同第2875047
号、同第3097096号、同第3074974号、同第
3097097号および同第3145104号各明細書に開示の
光還元性染料および還元剤ならびにフエナジン、
オキサジンおよびキノンの各種類の染料、ミヒラ
ーのケトン、ベンゾフエノン、２，４，５−トリ
フエニルイミダゾリル二量体と水素ドナーおよび
米国特許第3427161号、同第3479185号および同第
3549367号各明細書に記載のそれらの混合物を開
始剤として使用することができる。また米国特許
第4162162号明細書に開示の増感剤は光開始剤お
よび光阻害剤に関してもまた有用である。

光重合性組成物中に使用しうる熱重合阻害剤は
ｐ−メトキシフエノール、ヒドロキノンおよびア
ルキルおよびアリール置換ヒドロキノン、および
キノン、第３級ブチルカテコール、ピロガロー
ル、樹脂酸銅、ナフチルアミン、β−ナフトー
ル、塩化第１銅、２，６−ジ第３級ブチル−ｐ−
クレゾールフエノチアジン、ピリジン、ニトロベ
ンゼンおよびジニトロベンゼン、ｐ−トルキノン
およびクロラニルである。また米国特許第
4168982号明細書に開示のニトロソ組成物および
米国特許第4298678号明細書に開示のジ−エチル
ヒドロキシルアミンもまた熱重合阻害に対して有
用である。

種々の染料および顔料を加えてレジスト画像の
可視性を増大させることができる。しかしながら
使用されるすべての着色剤は好ましくは使用され
る活性線放射に対して透明であるべきである。

印刷回路形成を含む本発明の方法に対して一般
に過当な基材は機械的強度、化学的抵抗性および
良好な誘電性を有するものである。すなわち印刷
回路のためのほとんどの板材料は通常補強剤と組
合せた熱硬化または熱可塑性樹脂である。補強充
填剤を有する熱硬化性樹脂は通常剛性板用に使用
され、一方補強なしの熱可塑性樹脂は可撓性回路
板に使用される。

典型的板構造は組合せ物例えば紙上のフエノー
ルまたはエポキシ樹脂、または紙−ガラス複合体
ならびにガラス上のポリエステル、エポキシ、ポ
リアミド、ポリテトラフルオロエチレンまたはポ
リスチレンを包含する。ほとんどの場合、板は薄
い電気伝導性金属の薄い層で被覆されているこの
中で銅が最も一般的である。

表面測定技術はカバーシートを凍結そして破壊
させることによつてカバーシートの断面を走査電
子顕微鏡で検査することを包含する。測定すべき
カバーシート試料を約１インチ×８インチ長さの
ストリツプに截断する。次いでこのストリツプに
その一方の端近くにノツチ（切欠け）を入れて破
壊点を制御させる。試料のノツチを入れた端をノ
ツチの上のところまで液体窒素に含浸させる。試
料を完全に凍結させた後（２〜５分）、試料を除
去しそして直ちに各手に一端づつ両端をつかみ次
いで両手を３インチ相互に近づけ次いで急にそれ
らを引張り離すことによつて急速な折れを与え
る。全操作はきれいな破壊を確実ならしめること
には窒素除去の５秒以内に完了させるべきであ
る。試料をその縁を垂直にして載置しそして伝導
体コーテイングでスパタリングさせる。次いでこ
れら試料を走査電子顕微鏡に取り付け、そしてロ
ビソン検出機を使用して約500倍で測定を実施す
る。測定は10μ参考線を写真上の測定と比較する
ことにより実施される。この場合の参照線は６cm
長さである。これら実験で使用されたマツト化
（艶消し）ポリエチレンについてこの技術を使用
して測定を実施した。次の結果が得られた。

●測定されたピーク高さは裏側から測定して３cm
であつた。これを0.6cm当り10μのスケールフア
クターで乗ずると、50μの全ピーク高さを示
す。谷までの距離は写真上で2.5cmと測定され
た。これに0.6cm当り10μを乗ずると、それは
41.6μであることを示す。すなわちこれは8.4μ
のピーク−谷の高さの差を与える。その他のマ
ツト化された物質をこの技術を使用して測定し
たところ、ピーク高さは2.8cm×10μ／６cm＝
46.7μであることが見出された。シート裏側か
らの谷の高さは2.4cm×10μ／0.6cm＝40μであり
差は6.7μである。

●これらの性質を示さない標準ポリエチレンもま
た測定された。そしてこれらは1.6cmにスケー
ルフアクター10μ／0.6cmを乗ずると、27.5μの
ピーク高さを有することが見出された。谷は
1.6cm×10μ／0.6cmで谷は26.7μであり、これは
0.8μの不均一高さ差を与える。

以下の実施例においては、すべての部および％
は特記されていない限りは重量基準である。

例 １ 0.92ミルのポリエステルの支持体シート、3.1
ミル厚さの光重合体層、および1.15ミルの平均厚
さでそしてピークから谷まで4μの粗荒性を有す
る粗荒側を光重合体に向けたマツト化ポリエチレ
ンカバーシートから光感受性エレメントを製造し
た。この光重合体層は重量基準で次の組成を有し
ていた。

ペンタエリスリトールトリアクリレート 15.00 トリメチロールプロパントリアクリレート
15.00 ヘキサメトキシメチルメラミン 12.50 ジエチルヒドロキシルアミン 0.05 ベンゾフエノン 4.00 ミヒラーのケトン 0.10 ３−メルカプト１，２，４−トリアゾール 0.20 メチルメタクリレート／エチルアクリレート／
アクリル酸ターポリマー（分子量200000、酸価
80） 42.15 HVT−45緑色顔料 3.00 ポリビニルピロリドン 6.00 Ｎ−第３級オクチルアクリルアミド／メチルメ
タクリレート／アクリル酸／ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート／第３級ブチルアミノエチル
メタクリレートペンタマー（分子量50000）
2.00 マツト化ポリエチレンカバー表面に接触させた
光重合体層の表面は粗荒化構造を有していた。そ
の理由は光重合体層はカバーシートのピーク−谷
構造に従うからである。

カバーシートの除去後、マツト化カバーシート
のその鏡像画像構造を有する支持体つき光重合体
層をデユポンSMVL真空ラミネーターを使用し
て大なる平面部分および2.5〜4.1ミルの回路高さ
を有する個々の印刷回路板上に積層せしめた。回
路板および支持体つき光重合体層を加熱しそして
空気をチヤンバーから除去した。回路板および支
持体つき光重合体層を95℃の上側および下側プラ
テンにより加熱した。回路板および支持体つき光
重合体層を加熱している間に、チヤンバーを約
0.6トルの真空に引いて空気を除去した。この段
階に要した時間は45秒であつた。

加熱およびポンプ汲み出しの期間の終りに大気
圧を上側プラテンに適用して光重合体をパネルに
積層させた。この段階に要求された時間は３秒で
あつた。

積層法は60秒サイクルで152〓の排出板温度
（エレクトロニクス・デベロプメント・ラボラト
リー社製造のポケツトプローでパイロメーター
NMPにより測定）であるデユポンSMVL真空ラ
ミネーターによるものである。

これら印刷回路板を視覚的に検査しそして板と
積層光重合体層の間に空気の捕集は存在していな
いことが見出された。

例 ２ 例１の3.1ミルの光重合体を有する0.92ミルの
ポリエステルである支持体、および1.15ミルの平
均厚さおよび２ミクロンのピーク−谷間粗荒性を
有しそして光重合体の方向に粗荒化された側を向
けたマツト化ポリエチレンのカバーシートから光
感受性エレメントを製造した。

例１の方法に従つて、この物質をデユポン
SMVL真空ラミネーターを使用して2.5〜４ミル
の回路高さを有する印刷回路板（12″×15″）に60
秒のサイクルおよび152〓の排出板温度で積層さ
せた。

これらの板を視覚的に検査した。このものは板
の中心近くに小さな空気捕集を示す16個の小区域
を有していることが見出された。

例 ３ 0.92ミルのポリエステルの支持体シートおよび
例１の光重合体の3.1ミルの光重合体層および
1.15ミルのピーク−谷間0.8ミクロンの粗荒性を
有する標準カバーシートから光感受性エレメント
を製造した。

例１の方法に従つてこの物質をデユポン
SMVL真空ラミネーターを使用して2.5〜４ミル
の回路高さを有する印刷回路板に60秒のサイクル
および152〓の排出板温度を使用して積層させた。

これらの板を視覚的に検査しそしてこれがすべ
ての大なる地（グラウンド）表面上にひどい空気
捕集を有していることが見出された。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 少くとも１個の光感受性組成物の層を有する
   可撓性支持体および除去可能なカバーシートを包
   含しそして光感受性エレメントに対して前記支持
   体がカバーシートよりも大なる接着性を有してお
   り、しかも光感受性組成物がカバーシートの方に
   向いた表面上に粗荒化させたフイニツシユを有し
   ていてそしてその際前記光感受性組成物の表面粗
   荒性がピーク−谷間距離２〜11μの平均の範囲か
   あるいはベツク粗荒性試験により測定して20秒〜
   40分の範囲にあることを特徴とする改善された光
   感受性エレメント。 ２ カバーシートが光感受性組成物に面している
   その表面上に粗荒化せしめられたフイニツシユを
   有しており、光感受性層の粗荒化フイニツシユが
   カバーシートの輸郭に従つている前記特許請求の
   範囲第１項記載のエレメント。 ３ 前記平均範囲が少くとも4μである前記特許
   請求の範囲第１項記載のエレメント。 ４ 粗荒化フイニツシユを有する光感受性組成物
   が４〜8μのピーク−谷平均距離を有している前
   記特許請求の範囲第１項記載のエレメント。 ５ 粗荒性がロールの幅全体に広がつているロー
   ル形態の前記特許請求の範囲第１項記載のエレメ
   ント。 ６ カバーシートまたは支持体上にもう一つの粗
   荒化表面を有していて、それによつて粗荒化表面
   が光感受性エレメントのロール中の層の間に空気
   を存在させる前記特許請求の範囲第１項記載のエ
   レメント。 ７ ロールに巻いた前記特許請求の範囲第６項記
   載のエレメント。 ８ 粗荒化フイニツシユがテクスチヤーフイニツ
   シユ、マツト化フイニツシユまたはエンボスフイ
   ニツシユである前記特許請求の範囲第１項記載の
   エレメント。 ９ 前記粗荒化フイニツシユが実質的に11μ以上
   の凹凸は有していない前記特許請求の範囲第１項
   記載のエレメント。 １０ 少くとも１個の光感受性組成物の層を有す
   る可撓性支持体を包含し、光感受性組成物が可撓
   性支持体から遠い方のその表面上に粗荒化フイニ
   ツシユを有していてそして前記粗荒性が平均２〜
   11μのピーク−谷間距離範囲を有していることを
   特徴とする、改善された光感受性エレメント。