JPH0695202B2 - パタ−ン転写方法及び該方法に使用するハロゲン化銀写真乾板 - Google Patents
パタ−ン転写方法及び該方法に使用するハロゲン化銀写真乾板Info
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- JPH0695202B2 JPH0695202B2 JP10312686A JP10312686A JPH0695202B2 JP H0695202 B2 JPH0695202 B2 JP H0695202B2 JP 10312686 A JP10312686 A JP 10312686A JP 10312686 A JP10312686 A JP 10312686A JP H0695202 B2 JPH0695202 B2 JP H0695202B2
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- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はパターン転写方法及び該方法に使用するハロゲ
ン化銀写真乾板に関する。
ン化銀写真乾板に関する。
従来より、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤を形成し
て成る写真乾板を用い、これに原画パターンを形成し、
この写真乾板を別の写真乾板に密着露光して該原画パタ
ーンを転写してパターンを複成することや、あるいはフ
ォトレジスト層を有する基板に密着露光して該原画パタ
ーンを転写してフォトレジストパターンを得ることが行
われている。
て成る写真乾板を用い、これに原画パターンを形成し、
この写真乾板を別の写真乾板に密着露光して該原画パタ
ーンを転写してパターンを複成することや、あるいはフ
ォトレジスト層を有する基板に密着露光して該原画パタ
ーンを転写してフォトレジストパターンを得ることが行
われている。
ところが従来技術にあっては、密着露光して原画パター
ンを転写する際の密着が必ずしも充分でなく、例えば密
着ムラが発生したり、ニュートンリングの発生等によ
り、転写しても良好な画質が得られないことがある。ま
た、充分な密着性を得るため、吸引排気手段を用いて吸
引して乾板とパターン被転写体との間を密着させること
も行われるが、この吸引排気に時間を要し、量産性が向
上しないという問題がある。
ンを転写する際の密着が必ずしも充分でなく、例えば密
着ムラが発生したり、ニュートンリングの発生等によ
り、転写しても良好な画質が得られないことがある。ま
た、充分な密着性を得るため、吸引排気手段を用いて吸
引して乾板とパターン被転写体との間を密着させること
も行われるが、この吸引排気に時間を要し、量産性が向
上しないという問題がある。
アルミニウムなどの被膜が形成された基板上にフォトレ
ジストを形成して、これに写真乾板上の原画パターンを
転写しようとする場合、例えばフォトレジスト上に回路
パターンを焼付け転写してこれを現像し、エッチング加
工することで、所望の回路を形成することが各種電子材
料分野、例えばIC回路の製造において用いられるが、上
記の問題のため解像度が上げられず、信頼性の高い回路
が得られないという問題や、良好な回路を得るため密着
性を上げるべく吸引排気手段を用いると、これに時間が
かかり、生産性を上げられないという問題があるもので
ある。また原画パターンについて、該原画のマスターパ
ターンを別の写真乾板に転写して複製パターン（ワーキ
ングパターン）を製造することがよく行われるが、この
場合にも同様の問題が生じる。
ジストを形成して、これに写真乾板上の原画パターンを
転写しようとする場合、例えばフォトレジスト上に回路
パターンを焼付け転写してこれを現像し、エッチング加
工することで、所望の回路を形成することが各種電子材
料分野、例えばIC回路の製造において用いられるが、上
記の問題のため解像度が上げられず、信頼性の高い回路
が得られないという問題や、良好な回路を得るため密着
性を上げるべく吸引排気手段を用いると、これに時間が
かかり、生産性を上げられないという問題があるもので
ある。また原画パターンについて、該原画のマスターパ
ターンを別の写真乾板に転写して複製パターン（ワーキ
ングパターン）を製造することがよく行われるが、この
場合にも同様の問題が生じる。
上記のように従来の写真乾板では、原画パターンを密着
転写する際の密着性が充分にはとれないという問題があ
る。
転写する際の密着性が充分にはとれないという問題があ
る。
本発明はこのような問題を解決して、密着性が充分にと
れるパターン転写方法を得ることを目的とするものであ
り、またこの転写方法に使用するハロゲン化銀写真乾板
を得ることを目的とする。本発明によりパターンやフォ
トレジストパターンを形成することにより、良好な画質
の複写パターンが得られ、また吸引排気時間などに要す
る手間を軽減できるものである。
れるパターン転写方法を得ることを目的とするものであ
り、またこの転写方法に使用するハロゲン化銀写真乾板
を得ることを目的とする。本発明によりパターンやフォ
トレジストパターンを形成することにより、良好な画質
の複写パターンが得られ、また吸引排気時間などに要す
る手間を軽減できるものである。
上記本発明の目的は、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳
剤層を有してなる第１の写真乾板に原画パターンを形成
し、該原画パターンを、ガラス支持体上にハロゲン化銀
乳剤層を有して成る第２の写真乾板もしくはフォトレジ
スト層を有する基板に密着転写してパターンを形成する
方法において、上記写真乾板は、その乳剤層に含有され
るハロゲン化銀乳剤がヨウ化銀含有量が８モル％以下の
ヨウ臭化銀乳剤でありその平均粒径が0.1μｍ以下のも
のであるか、または該乳剤層に含有されるハロゲン化銀
乳剤が少なくとも50モル％以上の塩化銀を含有するもの
であって、かつ上記第1,第２の写真乾板の少なくとも一
方（写真乾板からフォトレジストに転写する場合はその
写真乾板）はその乳剤層の表面粗さが0.3μｍ〜３μｍ
であることを特徴とするパターン転写方法によって、又
前記写真乾板によって、達成される。
剤層を有してなる第１の写真乾板に原画パターンを形成
し、該原画パターンを、ガラス支持体上にハロゲン化銀
乳剤層を有して成る第２の写真乾板もしくはフォトレジ
スト層を有する基板に密着転写してパターンを形成する
方法において、上記写真乾板は、その乳剤層に含有され
るハロゲン化銀乳剤がヨウ化銀含有量が８モル％以下の
ヨウ臭化銀乳剤でありその平均粒径が0.1μｍ以下のも
のであるか、または該乳剤層に含有されるハロゲン化銀
乳剤が少なくとも50モル％以上の塩化銀を含有するもの
であって、かつ上記第1,第２の写真乾板の少なくとも一
方（写真乾板からフォトレジストに転写する場合はその
写真乾板）はその乳剤層の表面粗さが0.3μｍ〜３μｍ
であることを特徴とするパターン転写方法によって、又
前記写真乾板によって、達成される。
本発明において用いられるハロゲン化銀写真乾板は、製
版用等のいわゆる硬調で、高解像力の写真感光材料であ
る、従来このような写真乾板はその目的からしても、乳
剤層表面をできるだけ平滑にすることが望まれていた。
しかしあまり平滑すぎると他の写真乾板やフォトレジス
ト層を有する基板に密着転写する際に、密着性が低下し
てしまうという重大な欠点があったものである。
版用等のいわゆる硬調で、高解像力の写真感光材料であ
る、従来このような写真乾板はその目的からしても、乳
剤層表面をできるだけ平滑にすることが望まれていた。
しかしあまり平滑すぎると他の写真乾板やフォトレジス
ト層を有する基板に密着転写する際に、密着性が低下し
てしまうという重大な欠点があったものである。
本発明においては前記のような硬調で高解像力を有する
乳剤層をガラス支持体上に有してなる写真乾板において
乳剤層の表面粗さを一定の範囲としたことにより、密着
性がきわめてすぐれた転写方法及びこれに用いる写真乾
板を得るにいたったものである。本発明においてはパタ
ーン転写に際しての密着性が良好であるので、すぐれた
画像の転写パターンを得ることができ、かつ密着のため
に吸引排気などの手段をとることが必ずしも必要ではな
くなり、この手段をとるにしても、時間を短縮でき、生
産性を高めることができる。
乳剤層をガラス支持体上に有してなる写真乾板において
乳剤層の表面粗さを一定の範囲としたことにより、密着
性がきわめてすぐれた転写方法及びこれに用いる写真乾
板を得るにいたったものである。本発明においてはパタ
ーン転写に際しての密着性が良好であるので、すぐれた
画像の転写パターンを得ることができ、かつ密着のため
に吸引排気などの手段をとることが必ずしも必要ではな
くなり、この手段をとるにしても、時間を短縮でき、生
産性を高めることができる。
本発明のハロゲン化銀写真乾板の乳剤層の表面粗さは上
述の如く0.3μｍ〜３μｍとするが、このように乳剤層
を粗面にするには各種の手段によることができる。例え
ば、ガラス支持体の表面を粗とする手段を用いることが
できる。ガラス支持体の表面を粗にすることによって、
この上に形成した乳剤層の表面を粗にできるので、該表
面粗さが上記の範囲になるようにガラス支持体を粗にす
るとともに、適宜の塗布手段を用いればよいのである。
ガラス支持体として、例えばいわゆるすりガラスなどを
用いて、これを達成できる。また、乳剤層の材質によっ
て、該乳剤層の表面を粗にすることができる。これは乳
剤中に適宜の物質を含有させることで達成でき、例えば
乳剤層にマット剤を入れることにより、乳剤表面粗さが
上記の範囲のものとすることができる。
述の如く0.3μｍ〜３μｍとするが、このように乳剤層
を粗面にするには各種の手段によることができる。例え
ば、ガラス支持体の表面を粗とする手段を用いることが
できる。ガラス支持体の表面を粗にすることによって、
この上に形成した乳剤層の表面を粗にできるので、該表
面粗さが上記の範囲になるようにガラス支持体を粗にす
るとともに、適宜の塗布手段を用いればよいのである。
ガラス支持体として、例えばいわゆるすりガラスなどを
用いて、これを達成できる。また、乳剤層の材質によっ
て、該乳剤層の表面を粗にすることができる。これは乳
剤中に適宜の物質を含有させることで達成でき、例えば
乳剤層にマット剤を入れることにより、乳剤表面粗さが
上記の範囲のものとすることができる。
好適に用いることができるマット剤としては、例えば次
の如きものがある。
の如きものがある。
即ち、二酸化ケイ素、酸化マグネシウム、二酸化チタ
ン、炭酸カルシウム等のごとき無機物質や、ポリメチル
メタアクリレート、セルロースアセテートプロピオネー
トなどの有機物質などを好ましく使用でき、特に粒子直
径が0.3μｍから５μｍまでのものを好適に使用でき
る。
ン、炭酸カルシウム等のごとき無機物質や、ポリメチル
メタアクリレート、セルロースアセテートプロピオネー
トなどの有機物質などを好ましく使用でき、特に粒子直
径が0.3μｍから５μｍまでのものを好適に使用でき
る。
本発明の写真乾板の表面粗さは0.3μｍ〜３μｍである
が、この範囲であれば、所望の目的に応じて適宜の粗さ
を選定できる。特に高解像用として用いる場合、0.3μ
ｍ〜１μｍの表面粗さとするのがよい。
が、この範囲であれば、所望の目的に応じて適宜の粗さ
を選定できる。特に高解像用として用いる場合、0.3μ
ｍ〜１μｍの表面粗さとするのがよい。
なお、本明細書中において表面粗さとは、「基準長さ0.
8mmの10点平均アラサ」を言い、例えば触針式による表
面粗さ測定方法により、試料のスキャンな長さ0.8mm中
の区間における10ヶ所の凹凸平均値から求める。
8mmの10点平均アラサ」を言い、例えば触針式による表
面粗さ測定方法により、試料のスキャンな長さ0.8mm中
の区間における10ヶ所の凹凸平均値から求める。
また本明細書で言う粒径とは平均物径ｌであり、これは
球状のハロゲン化銀粒子の場合はその直径、また立方体
や球状以外の形状の粒子の場合は、その投影像を同面積
の円像に換算した時の直径の平均値であって、個々のそ
の粒径がriであり、その数がn1である時、下記の式によ
ってが定義されたものである。
球状のハロゲン化銀粒子の場合はその直径、また立方体
や球状以外の形状の粒子の場合は、その投影像を同面積
の円像に換算した時の直径の平均値であって、個々のそ
の粒径がriであり、その数がn1である時、下記の式によ
ってが定義されたものである。
上記の粒子径は上記の目的のために当該技術部分におい
て一般に用いられる各種の方法によってこれを測定する
ことができる。代表的な方法としてはラブランドの「粒
子径分析法」A.S.T.M.シンポジウム・オン・ライト・マ
イクロスコピー、1955年、94〜122項または「写真プロ
セスの論理」ミースおよびジェームズ共著、第３版、マ
クミラン社発行（1966年）の第２章に記載されている。
この粒子径は粒子の投影面積か直径近似値を使ってこれ
を測定することができる。
て一般に用いられる各種の方法によってこれを測定する
ことができる。代表的な方法としてはラブランドの「粒
子径分析法」A.S.T.M.シンポジウム・オン・ライト・マ
イクロスコピー、1955年、94〜122項または「写真プロ
セスの論理」ミースおよびジェームズ共著、第３版、マ
クミラン社発行（1966年）の第２章に記載されている。
この粒子径は粒子の投影面積か直径近似値を使ってこれ
を測定することができる。
本発明の写真乾板におけるハロゲン化銀乳剤層等の親水
性コロイド層に用いられる親水性コロイドとしては、ゼ
ラチン、アルブミン、ゼイン、カゼイン、アルギン酸、
セルロース誘導体（例えばヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース等）、合成親水性コロ
イド（例えばポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニル
ピロリドン等）等が挙げられる。
性コロイド層に用いられる親水性コロイドとしては、ゼ
ラチン、アルブミン、ゼイン、カゼイン、アルギン酸、
セルロース誘導体（例えばヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース等）、合成親水性コロ
イド（例えばポリビニルアルコール、ポリ−Ｎ−ビニル
ピロリドン等）等が挙げられる。
本発明の写真乾板は、ガラス支持体上に少なくとの１層
のハロゲン化銀乳剤層を有するものであり、該層の他必
要に応じて乳剤層の上に保護層、乳剤層の下に下引層等
を設けることができる。また、光吸収染料を含有するバ
ッキング層をハロゲン化銀乳剤層と反対側の面上に設け
たり、光吸収染料をハロゲン化銀乳剤層へ含有させるこ
ともできる。
のハロゲン化銀乳剤層を有するものであり、該層の他必
要に応じて乳剤層の上に保護層、乳剤層の下に下引層等
を設けることができる。また、光吸収染料を含有するバ
ッキング層をハロゲン化銀乳剤層と反対側の面上に設け
たり、光吸収染料をハロゲン化銀乳剤層へ含有させるこ
ともできる。
光吸収染料には、オキサノール染料、ヘミオキサノール
染料、メロシアニン染料、シアニン染料、スチリン染
料、アゾ染料が含有される。なかでもオキサノール染
料；ヘミオキサノール染料およびメロシアニン染料が有
用である。用い得る染料の具体例は例えば西独特許第61
6,007号、英国特許第1,177,429号、特公昭51-38129号、
特開昭57-185038号、米国特許第4,071,312号、PBレポー
ト74175号、PHOTO.ABS.1 28（'21）等に記載されがもの
である。
染料、メロシアニン染料、シアニン染料、スチリン染
料、アゾ染料が含有される。なかでもオキサノール染
料；ヘミオキサノール染料およびメロシアニン染料が有
用である。用い得る染料の具体例は例えば西独特許第61
6,007号、英国特許第1,177,429号、特公昭51-38129号、
特開昭57-185038号、米国特許第4,071,312号、PBレポー
ト74175号、PHOTO.ABS.1 28（'21）等に記載されがもの
である。
本発明のハロゲン化銀乳剤層に用いられるハロゲン化銀
粒子は、粒子を形成する過程及び／又は成長させる過程
で、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジ
ウム塩（錯塩を含む）、ロジウム塩（錯塩を含む）およ
び鉄塩（錯塩を含む）から選ばれる少なくとも１種を用
いて金属イオンを添加し、粒子内部及び／又は粒子表面
にこれらの金属元素を含有させることができ、また適当
な還元的雰囲気におくことにより、粒子内部及び／又は
粒子表面に還元増感核を付与できる。
粒子は、粒子を形成する過程及び／又は成長させる過程
で、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジ
ウム塩（錯塩を含む）、ロジウム塩（錯塩を含む）およ
び鉄塩（錯塩を含む）から選ばれる少なくとも１種を用
いて金属イオンを添加し、粒子内部及び／又は粒子表面
にこれらの金属元素を含有させることができ、また適当
な還元的雰囲気におくことにより、粒子内部及び／又は
粒子表面に還元増感核を付与できる。
本発明のハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀乳剤は、ハ
ロゲン化銀粒子の成長の終了後に不要な可溶性塩類を除
去してもよいし、あるいは含有させたままでもよい。該
塩類を除去する場合には、リサーチ・ディスクロジャー
（Rcscarch Disc−losure）17643号記載の方法に基づい
て行うことができる。
ロゲン化銀粒子の成長の終了後に不要な可溶性塩類を除
去してもよいし、あるいは含有させたままでもよい。該
塩類を除去する場合には、リサーチ・ディスクロジャー
（Rcscarch Disc−losure）17643号記載の方法に基づい
て行うことができる。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感する
ことができる。即ち、硫黄増感法、セレン増感法、還元
増感法、金その他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法
などを単独で又は組み合わせて用いることができる。
ことができる。即ち、硫黄増感法、セレン増感法、還元
増感法、金その他の貴金属化合物を用いる貴金属増感法
などを単独で又は組み合わせて用いることができる。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色
素として知られている色素を用いて、所望の波長域に光
学的に増感できる。増感色素は単独で用いてもよいが、
２種以上を組み合わせて用いてもよい。増感色素ととも
にそれ自信分光増感作用を持たない色素、あるいは可視
光を実質的に吸収しないか化合物であって、増感色素の
増感作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させてもよ
い。
素として知られている色素を用いて、所望の波長域に光
学的に増感できる。増感色素は単独で用いてもよいが、
２種以上を組み合わせて用いてもよい。増感色素ととも
にそれ自信分光増感作用を持たない色素、あるいは可視
光を実質的に吸収しないか化合物であって、増感色素の
増感作用を強める強色増感剤を乳剤中に含有させてもよ
い。
増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色素、
複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラ
ーシアニン色素、ヘミシアニン色素、ステリル色素およ
びヘミオキサノール色素が用いられる。
複合シアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラ
ーシアニン色素、ヘミシアニン色素、ステリル色素およ
びヘミオキサノール色素が用いられる。
特に有用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、
および複合メロシアニン色素である。これらの色素類に
は、塩基性異節環核としてシアニン色素類に通常利用さ
れる核のいずれをも適用できる。すなわち、ピロリン
核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、オキ
サゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾ
ール核、テトラゾール核、ピリジン核およびこれらの核
に脂環式炭化水素環が融合した核およびこれらの核に芳
香族炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニン核、
ベンズインドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾ
ール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、
ナフトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイ
ミダゾール核、キノリン核などである。これらの核は炭
素原子上で置換されてもよい。
および複合メロシアニン色素である。これらの色素類に
は、塩基性異節環核としてシアニン色素類に通常利用さ
れる核のいずれをも適用できる。すなわち、ピロリン
核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、オキ
サゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾ
ール核、テトラゾール核、ピリジン核およびこれらの核
に脂環式炭化水素環が融合した核およびこれらの核に芳
香族炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニン核、
ベンズインドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾ
ール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、
ナフトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイ
ミダゾール核、キノリン核などである。これらの核は炭
素原子上で置換されてもよい。
メロシアニン色素または複合メロシアニン色素にはケト
メチレン構造を有する核として、ピラゾルン−５−オン
核、チオヒダントイン核、２−チオオキサイゾリジン−
2,4−ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン核、ローダ
ニン核、チオバルビツール酸核などの５〜６員異節環核
を適用することができる。
メチレン構造を有する核として、ピラゾルン−５−オン
核、チオヒダントイン核、２−チオオキサイゾリジン−
2,4−ジオン核、チアゾリジン−2,4−ジオン核、ローダ
ニン核、チオバルビツール酸核などの５〜６員異節環核
を適用することができる。
有用な青感光性ハロゲン化銀乳剤層に用いられる増感色
素としては、例えば西独特許929,080号、米国特許4,04
6,572号、英国特許1,242,588号、特公昭52-24844号等に
記載されたものを挙げることができる。また緑感光性ハ
ロゲン化銀乳剤に用いられる有用な増感色素としては、
例えば米国特許2,945,763号、英国特許505,979号等に記
載されている如きシアニン色素、メロシアニン色素また
は複合シアニン色素をその代表的なものとして挙げるこ
とができる。さらに、赤感光性ハロゲン化銀乳剤に用い
られる有用な増感色素としては、例えば米国特許2,776,
280号等に記載されている如きシアニン色素、メロシア
ニン色素または複合シアニン色素をその代表的なものと
して挙げることができる。更にまた米国特許2,519,001
号、西独特許929,080号等に記載されている如きシアニ
ン色素、メロシアニン色素または複合シアニン色素を緑
感光性ハロゲン化銀乳剤または赤感光性ハロゲン化銀乳
剤に有用に用いることができる。
素としては、例えば西独特許929,080号、米国特許4,04
6,572号、英国特許1,242,588号、特公昭52-24844号等に
記載されたものを挙げることができる。また緑感光性ハ
ロゲン化銀乳剤に用いられる有用な増感色素としては、
例えば米国特許2,945,763号、英国特許505,979号等に記
載されている如きシアニン色素、メロシアニン色素また
は複合シアニン色素をその代表的なものとして挙げるこ
とができる。さらに、赤感光性ハロゲン化銀乳剤に用い
られる有用な増感色素としては、例えば米国特許2,776,
280号等に記載されている如きシアニン色素、メロシア
ニン色素または複合シアニン色素をその代表的なものと
して挙げることができる。更にまた米国特許2,519,001
号、西独特許929,080号等に記載されている如きシアニ
ン色素、メロシアニン色素または複合シアニン色素を緑
感光性ハロゲン化銀乳剤または赤感光性ハロゲン化銀乳
剤に有用に用いることができる。
これらの増感色素は単独に用いても良いが、それらの組
み合わせを用いても良い。増感色素の組み合わせは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。その代表例
は、特公昭55-1569号、特開昭59-116647号、米国特許第
3,837,862号に記載されている。
み合わせを用いても良い。増感色素の組み合わせは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。その代表例
は、特公昭55-1569号、特開昭59-116647号、米国特許第
3,837,862号に記載されている。
増感色素とともに用いられる、それ自身分光増感作用を
持たない色素、あるいは可視光を実質的に吸収しない物
質であって強色増感を示す物質としては、例えば芳香族
有機酸ホルムアルデヒド縮合物（例えば、米国特許第3,
437,510号に記載のもの）、カドミウム塩、アザインデ
ン化合物、含窒素異節環基で置換されたアミノスチルベ
ン化合物（例えば、米国特許第2,933、390号、同3,635,
721号に記載のもの）などがある。米国特許3,615,613
号、同3,615,641号、同3,617,295号、同3,635,721号に
記載の組み合わせは特に有用である。
持たない色素、あるいは可視光を実質的に吸収しない物
質であって強色増感を示す物質としては、例えば芳香族
有機酸ホルムアルデヒド縮合物（例えば、米国特許第3,
437,510号に記載のもの）、カドミウム塩、アザインデ
ン化合物、含窒素異節環基で置換されたアミノスチルベ
ン化合物（例えば、米国特許第2,933、390号、同3,635,
721号に記載のもの）などがある。米国特許3,615,613
号、同3,615,641号、同3,617,295号、同3,635,721号に
記載の組み合わせは特に有用である。
本発明のハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止、又は写真
性能を安定に保つ事を目的として化学熟成中、化学熟成
の終了時、及び／又は化学熟成の終了後、ハロゲン化銀
乳剤を塗布するまでに、写真業界においてカブリ防止剤
又は安定剤として知られている化合物を加えることがで
きる。
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止、又は写真
性能を安定に保つ事を目的として化学熟成中、化学熟成
の終了時、及び／又は化学熟成の終了後、ハロゲン化銀
乳剤を塗布するまでに、写真業界においてカブリ防止剤
又は安定剤として知られている化合物を加えることがで
きる。
カブリ防止剤、安定剤としては、米国特許第2,713,541
号、同2,743,180号、同2,743,181号に記載されたペンタ
ザインデン類、米国特許第2,716,062号、同2,444,607
号、同2,444,605号、同2,756,147号、同2,835,581号、
同2,852,375号、リサーチ、ディスクロージャー（Resea
rch Disclosure）14851号に記載されたテトラザインデ
ン類、米国特許第2,772,164号に記載されたトリアザイ
ンデン類、および特開昭57-211142号に記載されたポリ
マー化アザインデン類等のアザインデン類；米国特許第
2,131,038号、同3,342,596号、同3,954,478号に記載さ
れたチアゾリウム塩、米国特許3,148,067号に記載され
がビリリウム塩、および特公昭50-40665号に記載された
ホスホニウム塩等の４級オニウム塩類；米国特許第2,40
3,927号、同3,266,897号、同3,708,303号、特開昭55-13
5835号、同59-71047号に記載されたメルカプトテトラゾ
ール類、メルカプトトリアゾール類、メルカプトジアゾ
ール類、米国特許第2,824,001号に記載されたメルカプ
トチアゾール類、米国特許第3,397,987号に記載された
メルカプトベンズチアゾール類、メルカプトベンズイミ
ダゾール類、米国特許第2,843,491号に記載されたメツ
カプトオキサジアゾール類、米国特許第3,364,028号に
記載されたメルカプトチアジアゾール類等のメルカプト
置換ヘテロ環化合物類；米国特許第3,236,652号、特公
昭40-10256号に記載されたカテロール類、特公昭56-444
13号に記載されたレゾルシン類、および特公昭43-4133
号に記載された没食子酸エステル等のポリヒドロキシベ
ンゼン類；西独特許第1,189,380号に記載されたテトラ
ゾール類、米国特許第3,157,509号に記載されたトリア
ゾール類、米国特許第2,704,721号に記載されたベンズ
トリアゾール類、米国特許第3,287,135号に記載された
ウラゾール類、米国特許第3,106,467号に記載されたピ
ラゾール類、米国特許第2,271,229号に記載されたイン
ダゾール類、および特開昭59-90844号に記載されたポリ
マー化ベンズトリアゾール類等のアゾール類や米国特許
第3,161,515号に記載されたピリミジン類、米国特許第
2,751,297号に記載された３−ピラゾリドン類、および
米国特許第3,021,213号に記載されたポリマー化ピロリ
ドン即ちポリビニルピロリドン類等のヘテロ環化合物
類；特開昭54-130020号、同59-137945号、同140445号、
英国特許第1,356,142号、米国特許第3,575,699号、同3,
649,267号等に記載された各種の抑制剤プレカーサー；
米国特許第3,047,393号に記載されたスルフィン酸、ス
ルフォン酸誘導体；米国特許第2,556,263号、同2,839,4
05号、同2,488,709号、同2,728,663号に記載された無機
塩類等がある。
号、同2,743,180号、同2,743,181号に記載されたペンタ
ザインデン類、米国特許第2,716,062号、同2,444,607
号、同2,444,605号、同2,756,147号、同2,835,581号、
同2,852,375号、リサーチ、ディスクロージャー（Resea
rch Disclosure）14851号に記載されたテトラザインデ
ン類、米国特許第2,772,164号に記載されたトリアザイ
ンデン類、および特開昭57-211142号に記載されたポリ
マー化アザインデン類等のアザインデン類；米国特許第
2,131,038号、同3,342,596号、同3,954,478号に記載さ
れたチアゾリウム塩、米国特許3,148,067号に記載され
がビリリウム塩、および特公昭50-40665号に記載された
ホスホニウム塩等の４級オニウム塩類；米国特許第2,40
3,927号、同3,266,897号、同3,708,303号、特開昭55-13
5835号、同59-71047号に記載されたメルカプトテトラゾ
ール類、メルカプトトリアゾール類、メルカプトジアゾ
ール類、米国特許第2,824,001号に記載されたメルカプ
トチアゾール類、米国特許第3,397,987号に記載された
メルカプトベンズチアゾール類、メルカプトベンズイミ
ダゾール類、米国特許第2,843,491号に記載されたメツ
カプトオキサジアゾール類、米国特許第3,364,028号に
記載されたメルカプトチアジアゾール類等のメルカプト
置換ヘテロ環化合物類；米国特許第3,236,652号、特公
昭40-10256号に記載されたカテロール類、特公昭56-444
13号に記載されたレゾルシン類、および特公昭43-4133
号に記載された没食子酸エステル等のポリヒドロキシベ
ンゼン類；西独特許第1,189,380号に記載されたテトラ
ゾール類、米国特許第3,157,509号に記載されたトリア
ゾール類、米国特許第2,704,721号に記載されたベンズ
トリアゾール類、米国特許第3,287,135号に記載された
ウラゾール類、米国特許第3,106,467号に記載されたピ
ラゾール類、米国特許第2,271,229号に記載されたイン
ダゾール類、および特開昭59-90844号に記載されたポリ
マー化ベンズトリアゾール類等のアゾール類や米国特許
第3,161,515号に記載されたピリミジン類、米国特許第
2,751,297号に記載された３−ピラゾリドン類、および
米国特許第3,021,213号に記載されたポリマー化ピロリ
ドン即ちポリビニルピロリドン類等のヘテロ環化合物
類；特開昭54-130020号、同59-137945号、同140445号、
英国特許第1,356,142号、米国特許第3,575,699号、同3,
649,267号等に記載された各種の抑制剤プレカーサー；
米国特許第3,047,393号に記載されたスルフィン酸、ス
ルフォン酸誘導体；米国特許第2,556,263号、同2,839,4
05号、同2,488,709号、同2,728,663号に記載された無機
塩類等がある。
本発明の写真乾板の写真乳剤層、その他の親水性コロイ
ド層は、バインダー（又は保護コロイド）分子を架橋さ
せ、膜強度を高める硬膜剤を１種又は２種以上用いるこ
とにより硬膜することができる。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない程度に感光材料を硬膜できる
量添加することができるが、処理液中に硬膜剤を加える
ことも可能である。
ド層は、バインダー（又は保護コロイド）分子を架橋さ
せ、膜強度を高める硬膜剤を１種又は２種以上用いるこ
とにより硬膜することができる。硬膜剤は、処理液中に
硬膜剤を加える必要がない程度に感光材料を硬膜できる
量添加することができるが、処理液中に硬膜剤を加える
ことも可能である。
硬膜剤としては、アルデヒド系、アジリジン系（例え
ば、PBレポート、19,921、米国特許第3,271,175号の明
細書、特公昭46-40898号、特開昭50-91315号の各公報に
記載のもの）、イソオキサゾール系（例えば、米国特許
第331,609号明細書に記載のもの）、エポキシ系（例え
ば米国特許第3,047,394号、西独特許第1,085,663号、英
国特許第1,033,518号の各明細書、特公昭48-35495号公
報に記載のモノ）、ビニールスルホン系（例えば、PBレ
ポート19,920、西独特許第2,749,260号、英国特許第1,2
51,091号、特願昭48-110996号、米国特許第3,539,644
号、の明細書に記載のもの）、アクリロイル系（例え
ば、特願昭48-27949号、米国特許第3,640,720号の各明
細書に記載のもの）、カルボジイミド系（例えば、米国
特許第4,061,499号の明細書、特公昭46-38715号公報、
特願昭49-15095号明細書に記載のもの）、トリアジン系
（例えば、西独特許第2,410,973号、2,553,915号、米国
特許第3,325,287号の各明細書、特開昭52-12722号公報
に記載のもの）、高分子型（例えば、英国特許第822,06
1号、米国特許第3,226,234号の各明細書、特公昭47-185
78号、同18579号、同47-48896号の各公報に記載のも
の）、その他マレイミド系、アセチレン系、メタンスル
ホン酸エステル系、Ｎ−メチロール系の硬膜剤が単独又
は組み合わせて使用できる。有用な組み合わせ技術とし
て、例えば西独特許第2,514,245号、米国特許第4,047,9
57号の各明細書、特開昭48-43319号、同50-63062号、同
52-127329号、特公昭48-32364号の各公報に記載の組み
合わせが挙げられる。
ば、PBレポート、19,921、米国特許第3,271,175号の明
細書、特公昭46-40898号、特開昭50-91315号の各公報に
記載のもの）、イソオキサゾール系（例えば、米国特許
第331,609号明細書に記載のもの）、エポキシ系（例え
ば米国特許第3,047,394号、西独特許第1,085,663号、英
国特許第1,033,518号の各明細書、特公昭48-35495号公
報に記載のモノ）、ビニールスルホン系（例えば、PBレ
ポート19,920、西独特許第2,749,260号、英国特許第1,2
51,091号、特願昭48-110996号、米国特許第3,539,644
号、の明細書に記載のもの）、アクリロイル系（例え
ば、特願昭48-27949号、米国特許第3,640,720号の各明
細書に記載のもの）、カルボジイミド系（例えば、米国
特許第4,061,499号の明細書、特公昭46-38715号公報、
特願昭49-15095号明細書に記載のもの）、トリアジン系
（例えば、西独特許第2,410,973号、2,553,915号、米国
特許第3,325,287号の各明細書、特開昭52-12722号公報
に記載のもの）、高分子型（例えば、英国特許第822,06
1号、米国特許第3,226,234号の各明細書、特公昭47-185
78号、同18579号、同47-48896号の各公報に記載のも
の）、その他マレイミド系、アセチレン系、メタンスル
ホン酸エステル系、Ｎ−メチロール系の硬膜剤が単独又
は組み合わせて使用できる。有用な組み合わせ技術とし
て、例えば西独特許第2,514,245号、米国特許第4,047,9
57号の各明細書、特開昭48-43319号、同50-63062号、同
52-127329号、特公昭48-32364号の各公報に記載の組み
合わせが挙げられる。
本発明の写真乾板のハロゲン化銀乳剤層及び／又は他の
親水性コロイド層には柔軟性を高める目的で可塑剤を添
加できる。
親水性コロイド層には柔軟性を高める目的で可塑剤を添
加できる。
本発明の写真乾板の写真乳剤層その他の親水性コロイド
層には寸度安定性の改良などを目的として、水不溶性又
は難溶性合成ポリマーの分散物（ラテックス）を含有さ
せることができる。
層には寸度安定性の改良などを目的として、水不溶性又
は難溶性合成ポリマーの分散物（ラテックス）を含有さ
せることができる。
難溶性合成ポリマーとしては、例えば英国特許第1,186,
699号、特公昭49-25499号、米国特許第3,645,740号等に
記載されているものを好ましく用いることができる。
699号、特公昭49-25499号、米国特許第3,645,740号等に
記載されているものを好ましく用いることができる。
本発明の写真乾板の写真乳剤層は、感度上昇、コントラ
スト上昇、又は現像促進の目的でポリアルキレンオキシ
ド又はそのエーテル、エステル、アミン等の誘導体、チ
オエーテル化合物、チオモルフォリン類、４級アンモニ
ウム化合物、ウレタン誘導体、尿素誘導体、イミダゾー
ル誘導体等を含んでもよい。
スト上昇、又は現像促進の目的でポリアルキレンオキシ
ド又はそのエーテル、エステル、アミン等の誘導体、チ
オエーテル化合物、チオモルフォリン類、４級アンモニ
ウム化合物、ウレタン誘導体、尿素誘導体、イミダゾー
ル誘導体等を含んでもよい。
本発明の写真乾板の現像処理には、現像主薬としてハイ
ドロキノンを用い、亜硫酸イオン濃度の低いリス現像液
（伝染現像液）による現像を含めて公知のいずれをも用
いることができる。
ドロキノンを用い、亜硫酸イオン濃度の低いリス現像液
（伝染現像液）による現像を含めて公知のいずれをも用
いることができる。
本発明においてパターン形成する場合、本発明のハロゲ
ン化銀写真乾板を用い、このハロゲン化銀写真乾板上に
原画パターンを形成し、形成された原画パターンを、ガ
ラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する別の本発明
の写真乾板に密着露光してパターン転写して、パターン
を形成する。これは、まず本発明の写真乾板上に形成し
た原画パターンをマスターパターンとして、このマスタ
ーパターンを別の本発明の写真乾板に密着露光して焼付
け現像し、複製パターンを作るものである。
ン化銀写真乾板を用い、このハロゲン化銀写真乾板上に
原画パターンを形成し、形成された原画パターンを、ガ
ラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する別の本発明
の写真乾板に密着露光してパターン転写して、パターン
を形成する。これは、まず本発明の写真乾板上に形成し
た原画パターンをマスターパターンとして、このマスタ
ーパターンを別の本発明の写真乾板に密着露光して焼付
け現像し、複製パターンを作るものである。
本発明においてレジストパターン形成する場合、上記本
発明のハロゲン化銀写真乾板を用い、このハロゲン化銀
写真乾板上に原画パターンを形成し、形成された原画パ
ターンを、フォトレジスト層を形成する基板に密着露光
してパターン転写してフォトレジストパターンを形成す
るものである。この場合も、本発明の写真乾板から転写
してレジストパターンを得るので、密着性が充分にとれ
る。
発明のハロゲン化銀写真乾板を用い、このハロゲン化銀
写真乾板上に原画パターンを形成し、形成された原画パ
ターンを、フォトレジスト層を形成する基板に密着露光
してパターン転写してフォトレジストパターンを形成す
るものである。この場合も、本発明の写真乾板から転写
してレジストパターンを得るので、密着性が充分にとれ
る。
前記フォトレジスト層は支持体上に感光性組成物をバイ
ンダーとともに塗布することにより形成される。前記感
光性組成物としては種々のものが使用可能であるが、ア
ルカリ現像可能な感光性組成物を用いることが好まし
く、具体的には、例えばｏ−キノンジアジドを感光剤と
する感光性樹脂組成物がある。なおネガティブワーキン
グ型の感光性組成物としては、例えば2,6−ジ（４′−
アジドベンザル）シクロヘキサンのようなアジド系感光
剤とフェノールノボラック樹脂をブレンドした組成物、
さらにベンジルメタアクリレートとメタクリル酸（例え
ばモル比7:3）の共重合体をバインダーとしてトリメチ
ロールプロパントリアクリレートのごとき多官能性モノ
マーとミヒラーケトンのごとき光重合開始剤をブレンド
した光重合型感光性組成物がネガティブワーキング型の
感光性組成物として用いられる。また、ポジティブワー
キング型としては、例えばｏ−キノンジアジドを感光剤
とする感光性樹脂組成物があり、さらにはｉ）活性光線
の照射により酸を発生し得る化合物、ii）酸により分解
し得る結合を少なくとも１個有する化合物、およびii
i）２または３種類の異なるフェノール類を含むノボラ
ック樹脂を含有する感光性樹脂組成物を用いることもで
きる。
ンダーとともに塗布することにより形成される。前記感
光性組成物としては種々のものが使用可能であるが、ア
ルカリ現像可能な感光性組成物を用いることが好まし
く、具体的には、例えばｏ−キノンジアジドを感光剤と
する感光性樹脂組成物がある。なおネガティブワーキン
グ型の感光性組成物としては、例えば2,6−ジ（４′−
アジドベンザル）シクロヘキサンのようなアジド系感光
剤とフェノールノボラック樹脂をブレンドした組成物、
さらにベンジルメタアクリレートとメタクリル酸（例え
ばモル比7:3）の共重合体をバインダーとしてトリメチ
ロールプロパントリアクリレートのごとき多官能性モノ
マーとミヒラーケトンのごとき光重合開始剤をブレンド
した光重合型感光性組成物がネガティブワーキング型の
感光性組成物として用いられる。また、ポジティブワー
キング型としては、例えばｏ−キノンジアジドを感光剤
とする感光性樹脂組成物があり、さらにはｉ）活性光線
の照射により酸を発生し得る化合物、ii）酸により分解
し得る結合を少なくとも１個有する化合物、およびii
i）２または３種類の異なるフェノール類を含むノボラ
ック樹脂を含有する感光性樹脂組成物を用いることもで
きる。
ｉ）の化合物としては、多くの公知化合物および混合
物、例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニ
ウム塩およびヨードニウムのBF4 -、PF6 -、SbF6 -、Si
F6 -、CI04 -、などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキ
ノンジアジドスルホニルクロリド、および有機金属／有
機ハロゲン化合物も活性光線の照射の際に酸を形成また
は分離する活性光線感受性成分として使用することがで
きる。
物、例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニ
ウム塩およびヨードニウムのBF4 -、PF6 -、SbF6 -、Si
F6 -、CI04 -、などの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキ
ノンジアジドスルホニルクロリド、および有機金属／有
機ハロゲン化合物も活性光線の照射の際に酸を形成また
は分離する活性光線感受性成分として使用することがで
きる。
原理的には遊離基形成性感光開始剤として知られている
すべての有機ハロゲン化合物をハロゲン水素酸を形成し
得る感光性化合物として使用することができる。そのよ
うな化合物の例としては米国特許3,515,552号、同3,53
6,489号、同3,779,778号および西ドイツ国特許公開公報
第2,243,621号に記載されている。
すべての有機ハロゲン化合物をハロゲン水素酸を形成し
得る感光性化合物として使用することができる。そのよ
うな化合物の例としては米国特許3,515,552号、同3,53
6,489号、同3,779,778号および西ドイツ国特許公開公報
第2,243,621号に記載されている。
また、例えば西ドイツ国特許公開公報第2,610,842号、
特開昭54-74728号、同55-77742号、同57-16323号、同60
-3626号公報に記載の光分解により酸を発生させる化合
物も使用することができる。
特開昭54-74728号、同55-77742号、同57-16323号、同60
-3626号公報に記載の光分解により酸を発生させる化合
物も使用することができる。
これらの活性光線の照射により酸を発生し得る化合物の
含有量は、その化学的性質および感光性樹脂層の組成あ
るいは物性によって広範囲に変えることができるが、感
光性組成物の固形分の全重量に対して約0.1〜約10重量
％の範囲が適当である。
含有量は、その化学的性質および感光性樹脂層の組成あ
るいは物性によって広範囲に変えることができるが、感
光性組成物の固形分の全重量に対して約0.1〜約10重量
％の範囲が適当である。
ii）の化合物としては、例えばＣ−Ｏ−Ｃ結合やSi−
Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、あるいは を有する化合物などが挙げられる。
Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、あるいは を有する化合物などが挙げられる。
Ｃ−Ｏ−Ｃ結合を有する具体的化合物には、例えば
アセタールまたはケタール基を有する化合物、特開昭51
-120714号公報に記載のオルトカルボン酸エステル基お
よび／またはカルボン酸アミドアセタノール基を有する
化合物、特開昭53-133429号公報に記載の主鎖にアセタ
ールまたはケタール基を有するポリマー、特開昭55-129
95号公報に記載のエノールエーテル基を有する化合物、
特開昭55-126236号公報に記載のＮ−アシルイミノ炭酸
塩基を有する化合物、あるいは特開昭56-17345号公報に
記載の主鎖にオルトカルボン酸エステル基を有するポリ
マーなどを挙げることができる。
アセタールまたはケタール基を有する化合物、特開昭51
-120714号公報に記載のオルトカルボン酸エステル基お
よび／またはカルボン酸アミドアセタノール基を有する
化合物、特開昭53-133429号公報に記載の主鎖にアセタ
ールまたはケタール基を有するポリマー、特開昭55-129
95号公報に記載のエノールエーテル基を有する化合物、
特開昭55-126236号公報に記載のＮ−アシルイミノ炭酸
塩基を有する化合物、あるいは特開昭56-17345号公報に
記載の主鎖にオルトカルボン酸エステル基を有するポリ
マーなどを挙げることができる。
また、Si−Ｏ−Ｃ結合を有する具体的化物には、例
えば特開昭60-37549号、同60-52845号あるいは同60-121
446号公報に記載の化合物などを挙げることができる。
えば特開昭60-37549号、同60-52845号あるいは同60-121
446号公報に記載の化合物などを挙げることができる。
また、エステル基を有する具体的化合物には、例えば特
開昭60-3625号あるいは同60-10247号公報に記載の化合
物などを挙げることができる。
開昭60-3625号あるいは同60-10247号公報に記載の化合
物などを挙げることができる。
これらの酸により分解し得る結合を有する化合物の中で
はSi−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物が好ましい。中で
も、特開昭60-121446号公報に記載のSi−Ｏ−Ｃ結
合を少なくとも１個有し、なおかつ、親水性基を少なく
とも１個有する化合物が、特に好ましい。
はSi−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物が好ましい。中で
も、特開昭60-121446号公報に記載のSi−Ｏ−Ｃ結
合を少なくとも１個有し、なおかつ、親水性基を少なく
とも１個有する化合物が、特に好ましい。
これらの酸により分解し得る化合物は、１種類のみを単
独に用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよ
い。
独に用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよ
い。
これらの酸により分解し得る化合物の含有量は、感光性
レジスト形成組成物の全固形分に対し５〜70重量％が好
ましく、特に好ましくは10〜50重量％である。
レジスト形成組成物の全固形分に対し５〜70重量％が好
ましく、特に好ましくは10〜50重量％である。
iii）のフェノール類として１種類のフェノール類のみ
を含むノボラック樹脂を２種（各々のノボラック樹脂の
フェノール成分は互いに異なる）混合したものでよい
が、好ましくは２種類の異なるフェノール類と活性カル
ボニル化合物の共重縮合体を用いることができる。
を含むノボラック樹脂を２種（各々のノボラック樹脂の
フェノール成分は互いに異なる）混合したものでよい
が、好ましくは２種類の異なるフェノール類と活性カル
ボニル化合物の共重縮合体を用いることができる。
又バインダーには、例えばアクリル酸やメタクリル酸お
よびそれらのアルキルエステルまたはスルホアルキルエ
ステル、フェノール樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ
アクリルアミド、エチルセルロース、酢酸・酪酸セルロ
ース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸セルロー
ス、ベンジルセルロース、プロピオン酸セルロースなど
のセルロース誘導体、その他ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、塩素化ゴム、ポリイソブチレン、ポリブタジエ
ン、ポリ酢酸ビニル、およびそれらのコポリマー、酢酸
セルロース、セルロースプロピオネート、セルロースア
セテートフラレートなどが挙げられる。
よびそれらのアルキルエステルまたはスルホアルキルエ
ステル、フェノール樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ
アクリルアミド、エチルセルロース、酢酸・酪酸セルロ
ース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸セルロー
ス、ベンジルセルロース、プロピオン酸セルロースなど
のセルロース誘導体、その他ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、塩素化ゴム、ポリイソブチレン、ポリブタジエ
ン、ポリ酢酸ビニル、およびそれらのコポリマー、酢酸
セルロース、セルロースプロピオネート、セルロースア
セテートフラレートなどが挙げられる。
本発明において、本発明の写真乾板は前記の他種々の利
用ができるが、典型的なパターン形成工程は次の通りで
ある。最初、ホトプロッタで所望の原画パターンを乾板
に露光（例えばレーザ光にて乾板に直接描く）、現像
し、マスターパターン（以下、MPと称する）を製作す
る。次に、別の乾板にMPを密着焼付し、現像し、ワーキ
ングパターン（以下WPと称する）を製作する。なお通
例、１枚のMPから複数枚のWPを製作する。しかる後レジ
ストを形成した部材に面（エッチング材のレジスト面）
にWPを密着焼付して、現像し、エッチングし、所定のパ
ターンをもった最終製品を得る。
用ができるが、典型的なパターン形成工程は次の通りで
ある。最初、ホトプロッタで所望の原画パターンを乾板
に露光（例えばレーザ光にて乾板に直接描く）、現像
し、マスターパターン（以下、MPと称する）を製作す
る。次に、別の乾板にMPを密着焼付し、現像し、ワーキ
ングパターン（以下WPと称する）を製作する。なお通
例、１枚のMPから複数枚のWPを製作する。しかる後レジ
ストを形成した部材に面（エッチング材のレジスト面）
にWPを密着焼付して、現像し、エッチングし、所定のパ
ターンをもった最終製品を得る。
本発明は上記のような工程において、MPまたはWPとし
て、本発明の写真乾板を用いる方法として、最も好まし
く具体化できる。
て、本発明の写真乾板を用いる方法として、最も好まし
く具体化できる。
このうち特に、MP用の写真乾板として、ガラス支持体上
の乳剤層に含有されるハロゲン化銀がヨウ化銀含有量が
８モル％以下のヨウ化銀でその平均粒径が0.1μｍ以下
のものである写真乾板を用い、WP用の乾板として、ガラ
ス支持体上の乳剤層に含有されるハロゲン化銀が少なく
とも50モル％以上の塩化銀を含有するものである写真乾
板を用いるのが最適である。
の乳剤層に含有されるハロゲン化銀がヨウ化銀含有量が
８モル％以下のヨウ化銀でその平均粒径が0.1μｍ以下
のものである写真乾板を用い、WP用の乾板として、ガラ
ス支持体上の乳剤層に含有されるハロゲン化銀が少なく
とも50モル％以上の塩化銀を含有するものである写真乾
板を用いるのが最適である。
勿論、上記以外の工程、例えばMPから直接フォトレジス
トに焼き付ける工程や、あるいはその他種々の工程に本
発明を適用することができる。
トに焼き付ける工程や、あるいはその他種々の工程に本
発明を適用することができる。
〔実施例〕 以下本発明の実施例について説明する。但し当然のこと
ではあるが、本発明は以下述べる実施例により限定され
るものではない。
ではあるが、本発明は以下述べる実施例により限定され
るものではない。
実施例−１ （MPの作成） 本例では、まず下記のようなリップマン型乳剤を調製
し、これをスリ加工を施したガラス支持体に塗布して乳
剤層を形成した。
し、これをスリ加工を施したガラス支持体に塗布して乳
剤層を形成した。
本例に用いる乳剤の処方は次の通りである。
沃化銀３モル％、臭化銀97モル％から成る平均粒径0.05
μｍのリップマン型ハロゲン化銀乳剤にチオ硫酸ナトリ
ウムを加え化学増感した後、増感色素として下記構造の
化合物（Ｉ）、抑制剤として下記構造の化合物（II）、
現像促進剤として下記化合物（III）、硬膜剤として下
記化合物（IV）、ガラスとの接着剤として下記構造の化
合物（Ｖ）を加え、塗布液を調製した。（尚、ゼラチン
量は6.8g/m2、Ag量は2.8g/m2であった）。
μｍのリップマン型ハロゲン化銀乳剤にチオ硫酸ナトリ
ウムを加え化学増感した後、増感色素として下記構造の
化合物（Ｉ）、抑制剤として下記構造の化合物（II）、
現像促進剤として下記化合物（III）、硬膜剤として下
記化合物（IV）、ガラスとの接着剤として下記構造の化
合物（Ｖ）を加え、塗布液を調製した。（尚、ゼラチン
量は6.8g/m2、Ag量は2.8g/m2であった）。
上記乳剤を、表面にスリ加工を施したガラス支持体面上
に塗布した。支持体として用いたスリガラスは、1000番
のものであり、これは表面粗さが3.2μｍである。これ
に乳剤を塗布して、乳剤層表面の粗さが2.11μｍである
写真乾板を得た。
に塗布した。支持体として用いたスリガラスは、1000番
のものであり、これは表面粗さが3.2μｍである。これ
に乳剤を塗布して、乳剤層表面の粗さが2.11μｍである
写真乾板を得た。
尚本実施例では、パッキング層を設けた。即ちパッキン
グ層はメタノールとエタノールの混合溶媒にバインダー
としてメタアクリル酸とメタアクリル酸エステルのコー
ポリマーを添加し、光吸収染料としては下記構造の化合
物（Ａ）（Ｂ）を添加し、接着剤として、下記構造の化
合物（VI）を添加した溶液を塗布した。
グ層はメタノールとエタノールの混合溶媒にバインダー
としてメタアクリル酸とメタアクリル酸エステルのコー
ポリマーを添加し、光吸収染料としては下記構造の化合
物（Ａ）（Ｂ）を添加し、接着剤として、下記構造の化
合物（VI）を添加した溶液を塗布した。
乳剤及びパッキング層に用いた化合物は下記のとおりで
ある。
ある。
増感色素（Ｉ） 抑制材（II） 現像促進材（III） 硬膜剤（IV） C(CH2SO2CH＝CH2)41 nNH2(CH2)2SO3K ｎ＝0.75 ガラスとの接着剤（Ｖ） BC染料（Ａ） BC染料（Ｂ） BC接着剤（VI） このように得た写真乾板上にレーザ光により描くことに
よって、原画パターンを形成した。これをMP（マスター
パターン）として、次に述べる写真乾板を密着露光して
現像し、WP（ワーキングパターン）を得る。
よって、原画パターンを形成した。これをMP（マスター
パターン）として、次に述べる写真乾板を密着露光して
現像し、WP（ワーキングパターン）を得る。
（WPとして用いる写真乾板の作製） WPとして用いる写真乾板は、次のようなリス乳剤を、10
00番のスリを施したスリガラスの支持体上に塗布して、
形成した。
00番のスリを施したスリガラスの支持体上に塗布して、
形成した。
この場合のリス乳剤の処法は次のとおりである。即ち、
塩化銀65モル％、臭化銀35モル％から成る平均粒径0.19
μｍの立方晶の塩化ロジウム塩を含有するハロゲン化銀
乳剤へ、塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを加え化学増感
した後、増感色素として下記化合物VII、安定剤として
６−メチル−４−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザイン
デン、抑制剤として下記構造の化合物VIII、ポリマーラ
テックスとして下記構造の化合物IX、硬膜剤として前記
化合物IV、ガラス支持体との接着剤として前記化合物Ｖ
を加え、塗布液を調整した。
塩化銀65モル％、臭化銀35モル％から成る平均粒径0.19
μｍの立方晶の塩化ロジウム塩を含有するハロゲン化銀
乳剤へ、塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを加え化学増感
した後、増感色素として下記化合物VII、安定剤として
６−メチル−４−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザイン
デン、抑制剤として下記構造の化合物VIII、ポリマーラ
テックスとして下記構造の化合物IX、硬膜剤として前記
化合物IV、ガラス支持体との接着剤として前記化合物Ｖ
を加え、塗布液を調整した。
（尚ゼラチン付量4.1g/m2、銀付量3.5g/m2であった）。
この塗布液を、1000番のスリ加工を施したガラス支持体
上に塗布して、表面の粗さが2.11μｍの乳剤層を形成し
た。
上に塗布して、表面の粗さが2.11μｍの乳剤層を形成し
た。
なおこの写真乾板にもパッキング層を設けたが、これは
MP用写真乾板乳剤と同一のものを用いた。
MP用写真乾板乳剤と同一のものを用いた。
増感色素（VII） 抑制剤（VIII） ポリマーラテックス（IX） （界面活性剤 トラックス Ｋ＝40 C12H25O (FO)4SO3Na共存） 上記により得たWP用写真乾板に、前述の如くレーザ光を
用いて原画パターンを形成したMPを密着露光して、パタ
ーンを転写し、現象してWPを得た。
用いて原画パターンを形成したMPを密着露光して、パタ
ーンを転写し、現象してWPを得た。
比較例−１ 上記実施例のMP及びWPが1000番のスリガラスを支持体と
して形成した写真乾板を用いたのに対し、比較として、
両者ともスリ加工を施していない鏡面ガラスを支持体と
した写真乾板を使用した。その他は上記実施例−１と同
様にした。
して形成した写真乾板を用いたのに対し、比較として、
両者ともスリ加工を施していない鏡面ガラスを支持体と
した写真乾板を使用した。その他は上記実施例−１と同
様にした。
実施例−１、比較例−１の試料を用いて、吸引排気時間
との関係を調べた結果は、下表の如くである。
との関係を調べた結果は、下表の如くである。
時間短縮性については、特に、密着性の吸引排気時間
を、２分、４分、６分、８分、10分とした所、画質につ
いて、次の結果が得られた。
を、２分、４分、６分、８分、10分とした所、画質につ
いて、次の結果が得られた。
実施例−２ 実施例１で得たWPをフォトレジストを形成した基板上に
転写して、レジストパターンを得た。フォトレジストを
有する基板として、本例では次のものを用いた。
転写して、レジストパターンを得た。フォトレジストを
有する基板として、本例では次のものを用いた。
即ち、板厚0.15mm、幅約500mmのウエーブ状、冷延鋼板
を基板とし、これをトリクレンによって脱脂した後、さ
らにアルカリによって脱脂してから、この鋼板にカゼイ
ン（富士薬品工業（株）製のSS-16（商品名）を使用）
と重クロム酸アンモニウムとを比重1.030に調合したレ
ジストをロールロートして、これにパターンを転写す
る。
を基板とし、これをトリクレンによって脱脂した後、さ
らにアルカリによって脱脂してから、この鋼板にカゼイ
ン（富士薬品工業（株）製のSS-16（商品名）を使用）
と重クロム酸アンモニウムとを比重1.030に調合したレ
ジストをロールロートして、これにパターンを転写す
る。
本例では、上記コーティング処理を終えた鋼板に、板厚
約5mmで約559mm（22インチ）×約711mm（28インチ）の
寸法の上記写真乾板を密着させ、4KWのメタルハライド
灯下、距離500mmで50秒間露光焼付を行なった。ここで
上記密着作業における吸引排気時間を、20秒、50秒、80
秒、90秒のそれぞれにて行なう。
約5mmで約559mm（22インチ）×約711mm（28インチ）の
寸法の上記写真乾板を密着させ、4KWのメタルハライド
灯下、距離500mmで50秒間露光焼付を行なった。ここで
上記密着作業における吸引排気時間を、20秒、50秒、80
秒、90秒のそれぞれにて行なう。
上記密着焼付を終えた鋼板に対し、23℃の水道水を使用
しスプレー現像処理を施した。
しスプレー現像処理を施した。
続いて、無水クロム酸溶液に浸漬し、水洗し、200℃〜2
50℃にバーニングして硬膜処理を施す。更に塩化第２鉄
溶液をスプレイしエッチング処理をした後、水洗して、
エッチングして所望パターンの回路を有する製品を得
た。
50℃にバーニングして硬膜処理を施す。更に塩化第２鉄
溶液をスプレイしエッチング処理をした後、水洗して、
エッチングして所望パターンの回路を有する製品を得
た。
比較例−２ 本例においても、比較としてスリ加工を施していないガ
ラスを支持体として用い、その他は上記と同様の操作を
行ったものを実施した。
ラスを支持体として用い、その他は上記と同様の操作を
行ったものを実施した。
上記実施例−２、比較例−２について、得られた製品の
エッチング状況を、次のようにして調べた。
エッチング状況を、次のようにして調べた。
即ち、20％に苛性ソーダに数％の界面活性剤を加えた溶
液に浸漬することによりレジスト面を剥離し、水洗した
後にエッチング状況を確認した。この結果は、次表に示
すとおりである。
液に浸漬することによりレジスト面を剥離し、水洗した
後にエッチング状況を確認した。この結果は、次表に示
すとおりである。
上記の如く、本例は吸引時間が20秒ですでに良好なエッ
チングが行えるパターン転写が実現できる。
チングが行えるパターン転写が実現できる。
上述の如く本発明によれば、パターン転写において充分
な密着性をとることができ、よって良好な画質の複写パ
ターンが得られ、吸引排気時間などに要する時間も短縮
できるという効果がある。例えば上述した実施例におい
ては、パターン転写は生産する製品の数に相当する数行
うので、例えば上記データに基づき仮に70秒時間短縮で
きて1000個製造するとして、70秒×1000＝70000秒、即
ち約19時間あまりも時間を節約でき、生産性を向上でき
るものである。
な密着性をとることができ、よって良好な画質の複写パ
ターンが得られ、吸引排気時間などに要する時間も短縮
できるという効果がある。例えば上述した実施例におい
ては、パターン転写は生産する製品の数に相当する数行
うので、例えば上記データに基づき仮に70秒時間短縮で
きて1000個製造するとして、70秒×1000＝70000秒、即
ち約19時間あまりも時間を節約でき、生産性を向上でき
るものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 紀雄 滋賀県彦根市戸賀町100−１ (72)発明者 川崎 勝 滋賀県愛知郡湖東町長239 (72)発明者 堀江 英治 滋賀県坂田郡米原町磯2303 (56)参考文献 特開 昭54−31736（ＪＰ，Ａ)
Claims (5)
- 【請求項１】ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有
して成る第１の写真乾板に原画パターンを形成し、該原
画パターンを、ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を
有して成る第２の写真乾板もしくはフォトレジスト層を
有する基板に密着転写するパターン転写方法において、 上記第１及び第２の写真乾板は、その乳剤層に含有され
るハロゲン化銀乳剤がヨウ化銀含有量が８モル％以下の
ヨウ臭化銀乳剤でありその平均粒径が0.1μｍ以下のも
のであるか、 または該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤が少なく
とも50モル％以上の塩化銀を含有するものである写真乾
板であって、 かつ上記第1,第２の写真乾板の少なくとも一方の乳剤層
の表面粗さが0.3μｍ〜３μｍであることを特徴とする
パターン転写方法。 - 【請求項２】ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有
して成り、該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤がヨ
ウ化銀含有量が８モル％以下のヨウ臭化銀乳剤でその平
均粒径が0.1μｍ以下のものである写真乾板を用い、 該写真乾板上に原画パターンを形成し、 該原画パターンを、 ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有して成り、該
乳剤層に含有されるハロゲン化銀が少なくとも50モル％
以上の塩化銀を含有するものである写真乾板に密着転写
することを特徴とし、 かつ上記写真乾板の少なくとも１つはその乳剤層の表面
粗さが0.3μｍ〜３μｍであることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載のパターン転写方法。 - 【請求項３】ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有
して成り、該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤が少
なくとも50モル％以上の塩化銀を含有するものであっ
て、かつ該乳剤層の表面粗さが0.3μｍ〜３μｍである
写真乾板を用い、 該写真乾板にパターンを形成し、 該パターンを、 支持体上にフォトレジスト層を有して成る基板上に密着
転写することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
パターン転写方法。 - 【請求項４】ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有
するハロゲン化銀写真乾板において、 該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤がヨウ化銀含有
量が８モル％以下のヨウ臭化銀乳剤でその平均粒径が0.
1μｍ以下のものであって、 かつ該乳剤層の表面粗さが0.3μｍ〜３μｍであること
を特徴とするハロゲン化銀写真乾板。 - 【請求項５】ガラス支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有
するハロゲン化銀写真乾板において、 該乳剤層に含有されるハロゲン化銀乳剤が少なくとも50
モル％以上の塩化銀を含有するものであって、 かつ該乳剤層の表面粗さが0.3μｍ〜３μｍであること
を特徴とするハロゲン化銀写真乾板。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10312686A JPH0695202B2 (ja) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | パタ−ン転写方法及び該方法に使用するハロゲン化銀写真乾板 |
| US07/044,947 US4891296A (en) | 1986-05-07 | 1987-04-30 | Pattern transfer method and silver halide photographic plate to be used for said method |
| DE19873714939 DE3714939A1 (de) | 1986-05-07 | 1987-05-06 | Musteruebertragungsverfahren und photographische silberhalogenidplatte fuer die verwendung in diesem verfahren |
| KR1019870004390A KR940002540B1 (ko) | 1986-05-07 | 1987-05-06 | 패턴 전사 방법 및 이 방법에 사용하는 할로겐화은 사진 건판 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10312686A JPH0695202B2 (ja) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | パタ−ン転写方法及び該方法に使用するハロゲン化銀写真乾板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62260150A JPS62260150A (ja) | 1987-11-12 |
| JPH0695202B2 true JPH0695202B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=14345873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10312686A Expired - Lifetime JPH0695202B2 (ja) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | パタ−ン転写方法及び該方法に使用するハロゲン化銀写真乾板 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4891296A (ja) |
| JP (1) | JPH0695202B2 (ja) |
| KR (1) | KR940002540B1 (ja) |
| DE (1) | DE3714939A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0255350A (ja) * | 1988-08-22 | 1990-02-23 | Konica Corp | 画像パターン転写に使用するハロゲン化銀写真乾板 |
| CN1033345C (zh) * | 1989-03-02 | 1996-11-20 | 东芝株式会社 | 荫罩的图形印相版 |
| JP2879580B2 (ja) * | 1989-10-13 | 1999-04-05 | コニカ株式会社 | ハロゲン化銀写真乾板の処理方法 |
| US5254447A (en) * | 1992-04-20 | 1993-10-19 | Eastman Kodak Company | Photographic elements comprising a glass plate support and method for their manufacture |
| JP3616130B2 (ja) * | 1993-06-04 | 2005-02-02 | イーストマン コダック カンパニー | 感赤外線性光熱写真ハロゲン化銀要素及び画像形成性媒体の露光方法 |
| US5605789A (en) * | 1994-12-22 | 1997-02-25 | Eastman Kodak Company | Iodochloride emulsions containing iodonium salts having high sensitivity and low fog |
| US5633116A (en) * | 1996-02-08 | 1997-05-27 | Eastman Kokak Company | Method for preparing prepress color proof and intermediate receiver element and carrier plate useful therein |
| US5910398A (en) * | 1996-06-13 | 1999-06-08 | Eastman Kodak Company | Photographic glass plates having antihalation underlayer |
| GB9702568D0 (en) * | 1997-02-07 | 1997-03-26 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
| US6088140A (en) * | 1998-02-05 | 2000-07-11 | Zebra Imaging, Inc. | Segmented display system for large, continuous autostereoscopic images |
| KR100464666B1 (ko) * | 2001-06-07 | 2005-01-03 | 한국해양연구원 | 굴패각을 이용한 지반개량형 고화재 제조방법 |
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