DE3714939A1

DE3714939A1 - Musteruebertragungsverfahren und photographische silberhalogenidplatte fuer die verwendung in diesem verfahren

Info

Publication number: DE3714939A1
Application number: DE19873714939
Authority: DE
Inventors: Shigeru Tsurukiri; Hiroshi Sugita; Toshio Yamamoto; Masaru Kawasaki; Eiji Horie
Original assignee: Konica Minolta Inc; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Konica Corp Tokio/tokyo Jp Dainippon Screen Manufacturing
Priority date: 1986-05-07
Filing date: 1987-05-06
Publication date: 1987-11-12
Also published as: JPH0695202B2; US4891296A; JPS62260150A; KR940002540B1; KR870011506A

Description

Die Erfindung betrifft ein Musterübertragungsverfahren sowie eine photographische Silberhalogenidplatte für die Verwendung in diesem Verfahren.

Bisher war es üblich, durch Verwendung einer photographischen Platte mit einer Silberhalogenidemulsion auf einem Glasträger ein Originalbildmuster darauf zu erzeugen und eine Kopie des Musters herzustellen durch Übertragung des Originalbildmusters durch Kontaktbelichtung dieser photographischen Platte auf eine andere photographische Platte oder ein Photoresistmuster zu erzeugen durch Übertragung des Originalbildmusters durch Kontaktbelichtung auf ein Substrat mit einer Photoresistschicht.

Bei der bekannten Arbeitsweise ist jedoch der Kontakt während der Übertragung des Originalbildmusters durch Kontaktbelichtung nicht immer ausreichend, so daß beispielsweise Kontaktunregelmäßigkeiten, Newton'sche Ringe und dgl. auftreten, so daß manchmal bei der Übertragung keine gute Bildqualität erhalten wird. Auch ist es üblich, den Kontakt zwischen der photographischen Platte und dem Musterübertragungsmedium durch Ansaugen mittels einer Ansaugevakuierungseinrichtung zu erzielen, diese Ansaugevakuierung ist jedoch zeitraubend, so daß das Problem entsteht, daß die Massenproduktivität nicht verbessert wird.

Wenn eine Photoresistschicht auf einem Substrat mit einem darauf aufgebrachten Aluminiumfilm und dgl. gebildet wird und ein Originalbildmuster auf einer photographischen Platte darauf übertragen werden soll, war es bisher auf verschiedenen Gebieten von elektronischen Materialien, wie z. B. bei der Herstellung von IC-Schaltungen üblich, ein Schaltungsmuster durch Aufdrucken auf das Photoresistmaterial zu übertragen, anschließend eine Entwicklung und Ätzung durchzuführen zur Erzeugung der gewünschten Schaltung. Wegen des obengenannten Problems kann das Auflösungsvermögen jedoch nicht verbessert werden, so daß bisher keine Schaltung mit einer hohen Zuverlässigkeit erhalten werden konnte. Wenn nun eine Ansaugevakuierungsvorrichtung zur Verbesserung des Kontakts zur Erzielung einer guten Schaltung verwendet wird, ist dafür eine lange Zeit erforderlich, so daß das Problem entsteht, daß die Produktivität nicht erhöht werden kann. Bezüglich des Originalbildmusters ist es auch häufig üblich, ein Duplikatmuster (Arbeitsmuster) herzustellen durch Übertragung des Mastermusters des Originalbildes auf eine andere photographische Platte, in diesem Falle treten aber auch ähnliche Probleme auf.

Bei der vorstehend beschriebenen photographischen Platte gemäß Stand der Technik tritt ferner das Problem auf, daß kein ausreichender Kontakt während der Kontaktübertragung des Originalbildmusters erzielt werden kann.

Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Musterübertragungsverfahren zu entwickeln, bei dem ein ausreichender Kontakt erzielt werden kann, wodurch die obengenannten Probleme gelöst werden, sowie auch eine photographische Silberhalogenidplatte zu finden, die in diesem Übertragungsverfahren verwendet werden kann.

Durch die Erzeugung eines Musters oder eines Photoresistmusters gemäß der vorliegenden Erfindung kann ein kopiertes Muster mit einer guten Bildqualität erhalten werden und es kann auch die für die Ansaugevakuierung erforderliche Zeit verkürzt werden.

Das obengenannte Ziel kann erfindungsgemäß erreicht werden durch ein Musterübertragungsverfahren, das umfaßt die Erzeugung eines Originalbildmusters auf einer ersten photographischen Platte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger und die Kontaktübertragung des Originalbildmusters auf ein Substrat mit einer Photoresistschicht, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die photographische Platte aufweist
eine Silberhalogenidemulsion, die in der Emulsionsschicht enthalten ist, bei der es sich um eine Silberjodidbromidemulsion handelt, die 8 Mol-% oder weniger Silberjodid enthält und deren mittlere Korngröße 0,1 µm oder weniger beträgt, oder
eine Silberhalogenidemulsion in der Emulsionsschicht enthält, die 50 Mol-% oder mehr Silberchlorid enthält, und
daß die photographische Platte eine Emulsionsschicht mit einer Oberflächenrauheit von 0,3 bis 3 µm aufweist;
sowie mit dafür geeigneten photographischen Platten.

Gemäß einem anderen Aspekt betrifft die vorliegende Erfindung ein Musterübertragungsverfahren, das umfaßt die Erzeugung eines Originalbildmusters auf einer ersten photographischen Platte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger und die Kontaktübertragung des Originalbildmusters auf eine zweite photographische Platte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die photographischen Platten aufweisen eine Silberhalogenidemulsion, die in der Emulsionsschicht enthalten ist, bei der es sich um eine Silberjodidbromidemulsion handelt, die 8 Mol-% oder weniger Silberjodid enthält und deren mittlere Korngröße 0,1 µm oder weniger beträgt, oder
in der Emulsionsschicht eine Silberhalogenidemulsion enthalten, die 50 Mol-% oder mehr Silberchlorid enthält, und
daß mindestens die zweite photographische Platte eine Emulsionsschicht mit einer Oberflächenrauheit von 0,3 bis 3 µm aufweist,
sowie auch die dafür geeigneten photographischen Platten.

Bei der erfindungsgemäß zu verwendenden photographischen Silberhalogenidplatte handelt es sich um ein lichtempfindliches photographisches Material mit einer sogenannten harten Tönung und einem hohen Auflösungsvermögen für die Plattenherstellung und dgl. Gemäß dem Stand der Technik war es bisher erwünscht, eine solche photographische Platte so glatt wie möglich auf der Emulsionsschichtoberfläche zu machen, auch von ihrem Verwendungszweck aus betrachtet. Wenn sie jedoch zu glatt ist, wenn eine Kontaktübertragung auf eine andere photographische Platte oder ein Substrat mit einer Photoresistschicht durchgeführt wird, trat bisher der wesentliche Mangel auf, daß der Kontaktgrad abnahm.

Erfindungsgemäß kann nun dadurch, daß man die Oberflächenrauheit der Emulsionsschicht auf einen Wert innerhalb eines spezifischen Bereiches in der photographischen Platte mit einer Emulsionsschicht mit einer harten Tönung und einem hohen Auflösungsvermögen auf einem Glasträger bringt, ein Übertragungsverfahren mit einem ausgezeichneten Kontaktgrad sowie eine dafür verwendbare photographische Platte erhalten werden. Da der Kontaktgrad während der Musterübertragung gut ist, kann erfindungsgemäß ein Übertragungsmuster mit einem ausgezeichneten Bild erhalten werden und es ist nicht notwendig, eine Maßnahme, wie z. B. die Ansaugevakuierung, zu ergreifen, wegen des guten Kontakts, und selbst wenn eine solche Maßnahme angewendet wird, kann die Zeit abgekürzt werden unter Verbesserung der Produktivität.

Die Oberflächenrauheit der Emulsionsschicht in der erfindungsgemäßen photographischen Silberhalogenidplatte wird, wie vorstehend angegeben, auf einen Wert von 0,3 bis 3 µm eingestellt und eine solche Aufrauhung der Emulsionsschicht kann auf verschiedene Weise erfolgen. So kann beispielsweise ein Verfahren zur Aufrauhung der Oberfläche des Glasträgers angewendet werden. Durch das Aufrauhen der Oberfläche des Glasträgers kann die Oberfläche der darauf aufgebrachten Emulsionsschicht aufgerauht werden und deshalb kann gleichzeitig mit der Aufrauhung des Glassubstrats bis zu der oben angegebenen Oberflächenrauheit eine geeignete Beschichtung angewendet werden. Dies kann beispielsweise dadurch erzielt werden, daß man sogenanntes mattiertes Glas als Glasträger verwendet. Je nach Material der Emulsionsschicht kann die Oberfläche der Emulsionsschicht auch rauh gemacht werden. Dies kann dadurch erzielt werden, daß man eine geeignete Substanz der Emulsion einverleibt, beispielsweise kann die Rauheit der Emulsionsoberfläche auf einen Wert innerhalb des oben angegebenen Bereiches dadurch gebracht werden, daß man der Emulsionsschicht ein Mattierungsmittel einverleibt. Zu Mattierungsmitteln, die bevorzugt verwendet werden, gehören die nachstehend angegebenen Materialien.

Es können anorganische Materialien, wie z. B. Siliciumdioxid, Magnesiumoxid, Titandioxid, Calciumcarbonat und dgl., organische Materialien, wie z. B. Polymethylmethacrylat, Celluloseacetatpropionat und dgl., bevorzugt verwendet werden und besonders bevorzugt werden solche verwendet mit einem Teilchendurchmesser von 0,3 bis 5 µm.

Die Oberflächenrauheit der erfindungsgemäßen photographischen Platte beträgt 0,3 bis 3 µm und innerhalb dieses Bereiches kann eine geeignete Rauheit je nach dem gewünschten Verwendungszweck ausgewählt werden. Bei der Verwendung zur Erzielung eines hohen Auflösungsvermögens ist es insbesondere bevorzugt, eine Oberflächenrauheit von 0,3 bis 1 µm anzuwenden.

Der hier verwendete Ausdruck "Oberflächenrauheit" bezieht sich auf eine "durchschnittliche Zehnpunkte-Rauheit innerhalb der Standardlänge von 0,8 mm" und sie kann beispielsweise unter Anwendung des Oberflächenrauheitsmeßverfahrens gemäß dem Fühler-System bestimmt werden anhand des Durchschnittswertes der Unebenheit an zehn Punkten in dem Intervall innerhalb der Abtastlänge von 0,8 mm der Probe.

Der hier verwendete Ausdruck "Korngröße" bezieht sich auf die durchschnittliche Korngröße 1 und dabei handelt es sich um den Durchmesser im Falle eines kugelförmigen Silberhalogenidkörnchens, während es sich um einen Durchschnittswert der Durchmesser der kreisförmigen Bilder mit der gleichen Fläche handelt, die aus den projizierten Bildern errechnet werden, im Falle von kubischen Körnchen oder Körnchen mit einer anderen Gestalt als eine kugelförmigen Gestalt. Wenn die einzelnen Korngrößen durch r _i und ihre Anzahl durch n ₁ dargestellt werden, ist r definiert durch die folgende Gleichung:

Die obige Korngröße kann nach verschiedenen Verfahren gemessen werden, wie sie allgemein auf dem hier angesprochenen technischen Gebiet für den obigen Verwendungszweck angewendet werden. Repräsentative Verfahren sind beschrieben in Rabland, "Grain Size Analytical Method", A. S. T. M. Symposium on Light Microscopy, 1955, Seiten 94-122, oder "Logic of Photographic Process" von Mieth und James, 3. Auflage, publiziert von Mcmillan Co. (1966), Kapitel 2. Diese Korngröße kann gemessen werden unter Verwendung einer Projektionsfläche oder eines ungefähren Wertes für den Durchmesser.

Beispiele für das hydrophile Kolloid, das in der hydrophilen Kolloidschicht, beispielsweise in den Silberhalogenidemulsionsschichten, der erfindungsgemäßen photographischen Platte verwendet werden kann, sind die folgenden: Gelatine, Albumin, Casein, Alginsäure, Cellulosederivate (wie Hydroxyethylcellulose, Carboxymethylcellulose und dgl.), synthetische hydrophile Kolloide (wie Polyvinylalkohol, Poly-N-vinylpyrrolidon und dgl.) und dgl.

Die erfindungsgemäße photographische Platte weist mindestens eine Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger auf und außer dieser Schicht kann erforderlichenfalls eine Schutzschicht auf der Emulsionsschicht und einer Haftschicht und dgl. unterhalb der Emulsionsschicht und dgl. vorgesehen sein. Es ist auch möglich, eine Unterlagenschicht (Rückschicht), die einen Licht absorbierenden Farbstoff enthält, auf der Oberfläche auf der Seite, die der Silberhalogenidemulsionsschicht gebgenüberliegt, vorzusehen oder einen Licht absorbierenden Farbstoff der Silberhalogenidemulsionsschicht einzuverleiben.

Zu geeignetem Licht absorbierenden Farbstoffen gehören Oxanolfarbstoffe, Hemioxanolfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe, Styrylfarbstoffe und Azofarbstoffe. Unter ihnen sind die Oxanolfarbstoffe, Hemioxanolfarbstoffe und die Merocyaninfarbstoffe besonders geeignet. Spezifische Beispiele für geeignete Farbstoffe sind beispielsweise in der DE-PS 6 16 007, in der GB-PS 11 77 429, in der japanischen Patentpublikation 38 129/1976, in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 1 85 038/1982, in der US-PS 40 71 312, im BP-Report Nr. 74 175, in Photo. Abs. 1, 28 (1921), und dgl. beschrieben.

Die in der erfindungsgemäßen Silberhalogenidemulsionsschicht verwendeten Silberhalogenidkörnchen können mit Metallionen versetzt sein durch Verwendung mindestens eines Salzes, das ausgewählt wird aus Cadmiumsalzen, Zinksalzen, Bleisalzen, Thalliumsalzen, Iridiumsalzen (einschließlich der Komplexe), Rhodiumsalzen (einschließlich der Komplexe) und Eisensalzen (einschließlich der Komplexe) in dem Verfahren der Bildung und/oder des Wachstums der Körnchen, um diese Metallelemente dem Innern der Körnchen und/oder der Oberfläche der Körnchen einzuverleiben. Durch Anwendung einer reduzierenden Atmosphäre können auch Reduktionssensibilisierungskeime im Innern der Körnchen und/oder auf der Oberfläche der Körnchen erzeugt werden.

Aus der Silberhalogenidemulsion in der erfindungsgemäßen Silberhalogenidemulsionsschicht können die überflüssigen löslichen Salze entfernt werden oder als solche darin belassen werden nach Beendigung des Wachstums der Silberhalogenidkörnchen. Wenn diese Salze entfernt werden, kann dies auf der Basis des in Research Disclosure Nr. 17 643 beschriebenen Verfahrens erfolgen.

Die erfindungsgemäße Silberhalogenidemulsion kann auf konventionelle Weise chemisch sensibilisiert werden. Das heißt, es ist möglich, das Schwefelsensibilisierungsverfahren, das Selensensibilisierungsverfahren, das Reduktionssensibilisierungsverfahren, das Edelmetallsensibilisierungsverfahren unter Verwendung von Gold- oder anderen Edelmetallverbindungen und dgl. entweder einzeln oder in Kombination anzuwenden.

Die erfindungsgemäße Silberhalogenidemulsion kann durch Verwendung eines Farbstoffes, der als Sensibilisierungsfarbstoff in der Photographie bekannt ist, für den gewünschten Wellenlängenbereich optisch sensibilisiert werden. Es kann ein einzelner Sensibilisierungsfarbstoff verwendet werden, es können aber auch zwei oder mehr Farbstoffe in Kombination verwendet werden. Zusammen mit einem Sensibilisierungsfarbstoff kann auch ein Farbstoff, der selbst keine spektrale Sensibilisierungswirkung hat, oder ein potenzierender Sensibilisator, bei dem es sich um eine Verbindung handelt, die praktisch kein sichtbares Licht absorbiert, jedoch die Sensibilisierungswirkung des Sensibilisierungsfarbstoffes verstärkt, in der Emulsion enthalten sein.

Als Sensibilisierungsfarbstoff können ein Cyaninfarbstoff, ein Merocyaninfarbstoff, ein komplexer Cyaninfarbstoff, ein komplexer Merocyaninfarbstoff, ein holopolarer Cyaninfarbstoff, ein Hemicyaninfarbstoff, ein Styrylfarbstoff und ein Hemioxanolfarbstoff verwendet werden.

Besonders brauchbare Farbstoffe sind Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe und komplexe Merocyaninfarbstoffe.

Auf diese Farbstoffe sind beliebige Kerne bzw. Ringe anwendbar, wie sie üblicherweise für Cyaninfarbstoffe als basische heterocyclische Kerne bzw. Ringe verwendet werden. Das heißt, es können daring enthalten sein ein Pyrrolin-, Oxazolin-, Thiazolin-, Pyrrol-, Oxazol-, Thiazol-, Selenazol-, Imidazol-, Tetrazol-, Pyridin-Kern bzw. -Ring und Kerne bzw. Ringe, in denen ein alicyclischer Kohlenwasserstoffring mit diesen Kernen bzw. Ringen kondensiert ist, und Kerne bzw. Ringe, in denen ein aromatischer Kohlenwasserstoffring mit diesen Kernen bzw. Ringen kondensiert ist, wie insbesondere ein Indolenin-, Benzindolenin-, Indol-, Benzoxazol-, Naphthoxazol-, Benzothiazol-, Naphthothiazol-, Benzoselenazol-, Benzimidazol-, Chinolinkern bzw. -ring. Diese Kerne bzw. Ringe können an dem Kohlenstoffatom substituiert sein.

Für die Merocyaninfarbstoffe oder komplexen Merocyaninfarbstoffe kann als Kern bzw. Ring ein solcher mit einer Ketomethylenstruktur, ein 5- oder 6-gliedriger heterocyclischer Kern bzw. Ring, wie z. B. ein Pyrazolin-5-on, Thiohydantoin-, 2-Thiooxazolidin-2,4-dion-, Thiazolidin-2,4-dion-, Rhodanin-, Thiobarbitursäure-Kern bzw. -Ring und dgl. verwendet werden.

Als brauchbare Sensibilisierungsfarbstoffe, die in der blauempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht verwendet werden sollen, können solche verwendet werden, wie sie in der DE-PS 9 29 080, in der US-PS 40 46 572, in der GB-PS 12 42 588, in der japanischen Patentpublikation 24 844/1977 und dgl. beschrieben sind. Brauchbare Sensibilisierungsfarbstoffe, wie sie in der grünempfindlichen Silberhalogenidemulsion verwendet werden sollen, sind auch beispielsweise Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe oder komplexe Cyaninfarbstoffe, wie sie in der US-PS 29 45 763, in der GB-PS 5 05 979 und dgl. beschrieben sind. Als brauchbare Sensibilisierungsfarbstoffe, wie sie in der rotempfindlichen Emulsion verwendet werden sollen, können beispielsweise Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe oder komplexe Cyaninfarbstoffe verwendet werden, wie sie in der US-PS 27 76 280 beschrieben sind. Außerdem können Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe oder komplexe Cyaninfarbstoffe, wie sie in der US-PS 25 19 001, in der DE-PS 9 29 080 und dgl. beschrieben sind, mit Vorteil in einer rotempfindlichen Silberhalogenidemulsion oder in einer grünempfindlichen Silberhalogenidemulsion verwendet werden.

Diese Sensibilisierungsfarbstoffe können entweder einzeln oder in Form einer Kombination derselben verwendet werden. Eine Kombination der Sensibilisierungsfarbstoffe wird häufig zum Zwecke einer farbverstärkenden Sensibilisierung verwendet. Repräsentative Beispiele dafür sind in der japanischen Patentpublikation 1 569/1980, in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 1 16 647/1984 und in der US-PS 38 37 862 beschrieben.

Als Farbstoff, der zusammen mit einem Sensibilisierungsfarbstoff verwendet wird und selbst keine spektrale Sensibilisierungswirkung hat oder zusammen mit einer Substanz verwendet wird, bei der es sich um eine Substanz handelt, die praktisch kein sichtbares Licht absorbiert, jedoch eine farbverstärkende Sensibilisierung aufweist, können beispielsweise verwendet werden aromatische organische Säure-Formaldehyd- Kondensate (z. B. solche, wie sie in der US-PS 33 47 510 beschrieben sind), Cadmiumsalze, Azaindenverbindungen, Aminostilbenverbindungen, die durch eine Stickstoff enthaltende heterocyclische Gruppe substituiert sind (z. B. solche, wie sie in den US-PS 29 33 390 und 36 35 721 beschrieben sind). Besonder vorteilhaft sind die in den US-PS 36 15 613, 36 15 641, 36 17 295 und 36 35 721 beschriebenen Kombinationen.

Der erfindungsgemäßen Silberhalogenidemulsion können zum Zwecke der Verhinderung einer Schleierbildung oder zur stabilen Aufrechterhaltung der photographischen Eigenschaften während der Herstellungsstufen, während der Lagerung oder während der photographischen Behandlung bzw. Entwicklung des lichtempfindlichen Materials Verbindungen, die als Antischleiermittel oder Stabilisatoren in der Photographie bekannt sind, während der chemischen Alterung, bei Beendigung der chemischen Alterung und/oder nach Beendigung der chemischen Alterung zugegeben werden, bis die Silberhalogenidemulsion in Form einer Schicht aufgebracht wird. Als Antischleiermittel und als Stabilisator können Azaindene, wie z. B. Pentazaindene, wie sie in den US-PS 27 13 541, 27 43 180 und 27 43 181 beschrieben sind, Tetrazaindene, wie sie in den US-PS 27 16 062, 24 44 607, 24 44 605, 27 56 147, 28 35 581 und 28 52 375, in "Research Disclosure" Nr. 14 851 beschrieben sind, Triazaindene, wie sie in der US-PS 27 72 164 beschrieben sind, und polymerisierte Azaindene, wie sie in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 2 11 142/1982 beschrieben sind; quaternäre Ammoniumsalze, wie z. B. Thiazoniumsalze, wie sie in den US-PS 21 31 038, 33 42 596 und 39 54 478 beschrieben sind, Pyryliumsalze, wie sie in der US-PS 31 48 067 beschrieben sind, und Phosphoniumsalze, wie sie in der japanischen Patentpublikation 40 665/1975 beschrieben sind; Mercapto-substituierte heterocyclische Verbindungen, wie z. B. Mercaptotetrazole, Mercaptotriazole, Mercaptodiazole, wie sie in den US-PS 24 03 927, 32 66 897 und 37 08 303, in den ungeprüften japanischen Patentpublikationen 1 35 835/1980 und 71 047/1984 beschrieben sind, Mercaptothiazole, wie sie in der US-PS 28 24 001 beschrieben sind, Mercaptobenzothiazole und Mercaptobenzimidazole, wie sie in der US-PS 33 97 987 beschrieben sind, Mercaptooxadiazole, wie sie in der US-PS 28 43 491 beschrieben sind, Mercaptothiadiazole, wie sie in der US-PS 33 64 028 und dgl. beschrieben sind; Polyhydroxybenzole, wie z. B. Brenzkatechine, wie sie in der US-PS 32 36 652, in der japanischen Patentpublikation 10 256/1965 beschrieben sind, Resorcine, wie sie in der japanischen Patentpublikation 44 413/1981 beschrieben sind, und Gallussäureester, wie sie in der japanischen Patentpublikation 4 133/1968 beschrieben sind; heterocyclische Verbindungen, wie z. B. Azole, d. h. Tetrazole, wie sie in der DE-PS 11 89 380 beschrieben sind, Triazole, wie sie in der US-PS 31 57 509 beschrieben sind, Benzotriazole, wie sie in der US-PS 27 04 721 beschrieben sind, Urazole, wie sie in der US-PS 32 87 135 beschrieben sind, Pyrazole, wie sie in der US-PS 31 06 467 beschrieben sind, Indazole, wie sie in der US-PS 22 71 229 beschrieben sind, und polymerisierte Benzotriazole, wie sie in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 90 844/1984 beschrieben sind, Pyrimidine, wie sie in der US-PS 31 61 515 beschrieben sind, 3-Pyrazolidone, wie sie in der US-PS 27 51 297 beschrieben sind, und polymerisierte Pyrrolidone, nämlich Polyvinylpyrrolidone, wie sie in der US-PS 30 21 213 beschrieben sind; verschiedene Inhibitor- Vorläufer, wie sie in den ungeprüften japanischen Patentpublikationen 1 30 020/1979, 1 37 945/1984 und 1 40 445/ 1984, in der GB-PS 13 56 142, in den US-PS 35 75 699 und 36 49 267 beschrieben sind; Sulfinsäure, Sulfonsäurederivate, wie sie in der US-PS 30 47 393 beschrieben sind; anorganische Salze, wie sie in den US-PS 25 56 263, 28 39 405, 24 88 709 und 27 28 663 beschrieben sind, verwendet werden. Die photographischen Emulsionsschichten und anderen hydrophilen Kolloidschichten in der erfindungsgemäßen photographischen Platte können Filme härten durch Verwendung mindestens eines Härters, der die Bindemittelmoleküle (oder die Moleküle eines Schutzkolloids) vernetzt unter Erhöhung der Filmfestigkeit. Der Filmhärter kann in einer solchen Menge zugegeben werden, die den Film das lichtempfindlichen Materials bis zu einem solchen Ausmaß härtet, daß kein Filmhärter in der Behandlungs- bzw. Entwicklerlösung mehr zugegeben werden muß, es ist aber auch möglich, einen Filmhärter in einer Behandlungs- bzw. Entwicklerlösung zuzugeben.

Als Filmhärter können verwendet werden Filmhärter vom Aldehyd-Typ, vom Aziridin-Typ (z. B. solche, wie sie im PB-Report Nr. 19 921, in der US-PS 32 71 175, in der japanischen Patentpublikation 40 898/1971, in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 91 315/1975 beschrieben sind), vom Isooxazoltyp (z. B. solche, wie sie in der US-PS 3 31 609 beschrieben sind), vom Epoxy-Typ (z. B. solche, wie sie in der US-PS 30 47 394, in der DE-PS 10 85 663, in der GB-PS 10 33 518, in der japanischen Patentpublikation 35 495/1973 beschrieben sind), vom Vinylsulfon-Typ (z. B. solche, wie sie im PB-Report Nr. 19 920, in der DE-PS 27 49 260, in der GB-PS 12 51 091, in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 62 250/1975, in der US-Ps 35 39 644 beschrieben sind), vom Acryloyl-Typ (z. B. solche, wie sie in der japanischen Patentanmeldung 27 949/1973, in der US-PS 36 40 720 beschrieben sind), vom Carbodiimid- Typ (z. B. solche, wie sie in der US-PS 40 61 499, in der japanischen Patentpublikation 38 715/1971, in der japanischen Patentanmeldung 15 095/1974 beschrieben sind), vom Triazin- Typ (z. B. solche, wie sie in den DE-PS 24 10 973 und 25 53 915, in der US-PS 33 25 287, in der japanischen Patentanmeldung 12 722/1977 beschrieben sind), vom Polymer- Typ (z. B. solche, wie sie in der GB-PS 8 22 061, in der US-PS 32 26 234, in den japanischen Patentpublikationen 18 578/1972, 18 579/1972 und 48 896/1972 beschrieben sind), vom Maleimid-Typ, Acetylen-Typ, Methansulfonsäureester- Typ, N-Methylol-Typ, die entweder einzeln oder in Kombination verwendet werden können. Brauchbare Kombinationen umfassen beispielsweise die Kombinationen, wie sie in der DE-PS 25 14 245, in der US-PS 40 47 957, in den ungeprüften japanischen Patentpublikationen 43 319/1973, 63 062/1975 und 1 27 329/1977 und in der japanischen Patentpublikation 32 364/1973 beschrieben sind.

Den Silberhalogenidemulsionsschichten und/oder anderen hydrophilen Kolloidschichten der erfindungsgemäßen photographischen Platte kann ein Weichmacher zum Zwecke der Erhöhung der Flexibilität zugesetzt werden.

In den photographischen Emulsionsschichten und anderen hydrophilen Kolloidschichten der erfindungsgemäßen photographischen Platte kann eine Dispersion eines wasserlöslichen oder in Wasser schwerlöslichen synthetischen Polymeren (Latex) zum Zwecke der Verbesserung der Dimensionsbeständigkeit und dgl. enthalten sein.

Als schwerlösliche synthetische Polymere können beispielsweise solche, wie sie in der GB-PS 11 86 699, in der japanischen Patentpublikation 25 499/1974, in der US-PS 36 45 740 und dgl. beschrieben sind, bevorzugt verwendet werden.

Die photographische Emulsionsschicht in der erfindungsgemäßen photographischen Platte kann Polyalkylenoxide oder seine Derivate, wie z. B. Äther, Ester, Amine und dgl., Thioätherverbindungen, Thiomorpholine, quaternäre Ammoniumverbindungen, Urethanderivate, Harnstoffderivate, Imidazolderivate und dgl. zur Erhöhung der Empfindlichkeit, zur Erhöhung des Kontrasts oder zur Verbesserung der Entwicklung enthalten.

Für die Entwicklungsbehandlung der erfindungsgemäßen photographischen Platte kann irgendeine bekannte Behandlung angewendet werden, beispielsweise eine Behandlung unter Verwendung eines Lith-Entwicklers (eines Farbstoffübertragungsentwicklers), bei dem Hydrochinon als Entwicklerverbindung verwendet wird und die Sulfitionenkonzentration niedrig ist.

Wenn erfindungsgemäß ein Muster erzeugt wird unter Verwendung der erfindungsgemäßen photographischen Silberhalogenidplatte, wird ein Originalbildmuster auf der photographischen Silberhalogenidplatte erzeugt, das erzeugte Originalmuster wird durch Kontaktbelichtung auf eine andere erfindungsgemäße photographische Platte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger übertragen unter Bildung eines Musters. Dadurch entsteht ein dupliziertes Muster durch Verwendung des zuerst auf die erfindungsgemäßen photographischen Platte erzeugten Originalbildmusters als Master-Muster und Übertragen des Master-Musters durch Kontaktbelichtung auf eine andere erfindungsgemäße photographische Platte, woran sich eine Entwicklung anschließt.

Wenn erfindungsgemäß ein Resistmuster hergestellt wird, wird die obengenannte erfindungsgemäße photographische Silberhalogenidplatte verwendet, es wird ein Originalbildmuster auf der photographischen Silberhalogenidplatte erzeugt und das erzeugte Originalbildmuster wird durch Kontaktbelichtung auf ein Substrat mit einer Photoresistschicht übertragen unter Bildung eines Photoresistmusters. Auch in diesem Falle kann ein ausreichender Kontakt erzielt werden, da das Resistmuster durch Übertragung von der erfindungsgemäßen photographischen Platte erhalten wird.

Die obengenannte Photoresistschicht wird hergestellt durch Aufbringen einer lichtempfindlichen Zusammensetzung zusammen mit einem Bindemittel in Form einer Schicht auf einen Träger. Als obengenannte lichtempfindliche Zusammensetzung können verschiedene Zusammensetzungen verwendet werden, vorzugsweise wird jedoch eine lichtempfindliche Zusammensetzung verwendet, die mit einem Alkali entwickelbar ist, wie insbesondere zum Beispiel eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung, die o-Chinondiazid als lichtempfindliches Agens enthält. Als lichtempfindliche Zusammensetzung vom negativ arbeitenden Typ können beispielsweise auch verwendet werden eine Zusammensetzung, die ein Gemisch aus einem lichtempfindlichen Agens vom Azid-Typ, wie z. B. 2,6-Di-(4′-azidobenzal)cyclohexan, und ein Phenolnovolakharz enthält, und außerdem eine lichtempfindliche Zusammensetzung vom Photopolymerisations-Typ, die ein Gemisch aus einem Copolymeren von Benzylmethacrylat und Methacrylsäure (z. B. in einem Molverhältnis von 7 : 3), aus einem polyfunktionellen Monomeren, wie z. B. Trimethylolpropantriacrylat als Bindemittel, und einem Photopolymerisationsinitiator, wie z. B. Michlers-Keton, enthält. Als lichtempfindliche Zusammensetzung vom positiv arbeitenden Typ kann beispielsweise auch verwendet werden eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung, die o-Chinondiazid als lichtempfindliches Agens enthält, und außerdem ist es auch möglich, eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung zu verwenden, die enthält (i) eine Verbindung, die durch Bestrahlung mit aktiven Strahlen eine Säure bilden kann, (ii) eine Verbindung, die mindestens eine Bindung aufweist, die mit einer Säure zersetzbar ist, und (iii) ein Novolakharz, das zwei oder drei verschiedene Phenole enthält.

Als Verbindung (i) können viele bekannte Verbindungen und Mischungen verwendet werden, wie z. B. Diazoniumsalze, Phosphoniumsalze, Sulfoniumsalze und Jodoniumsalze, wie BF₄ ^-, PF₆ ^-, SbF₆ ^-, SiF₆ ^-, ClO₄ ^- und dgl., organische Halogenidverbindungen, o-Chinondiazidsulfonylchlorid und organometallische/Organohalogenid-Verbindungen als für aktive Strahlung empfindliche Komponente, die während der Bestrahlung mit aktiven Strahlen eine Säure bildet oder freisetzt.

Im Prinzip können alle organischen Halogenidverbindungen, die als freie Radikale bildende lichtempfindliche Initiatoren bekannt sind, als lichtempfindliche Verbindungen verwendet werden, die eine Halogenwasserstoffsäure bilden können. Beispiele für solche Verbindungen sind in den US- PS 35 15 552, 35 36 489 und 37 79 778 und in der DE-OS 22 43 621 beschrieben.

Es ist auch möglich, die Verbindungen zu verwenden, die durch Photolyse eine Säure bilden können, wie sie in der DE-OS 26 10 842, in den ungeprüften japanischen Patentpublikationen 74 728/1979, 77 742/1980, 16 323/1982 und 3 626/1985 beschrieben sind.

Der Gehalt an diesen Verbindungen, die durch Bestrahlung mit aktiven Strahlen eine Säure bilden können, kann stark variieren in Abhängigkeit von ihren chemischen Eigenschaften und der Zusammensetzung oder den physikalischen Eigenschaften der lichtempfindlichen Harzschicht, er liegt jedoch zweckmäßig innerhalb des Bereiches von etwa 0,1 bis etwa 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Feststoffe in der lichtempfindlichen Zusammensetzung.

Als Verbindung (ii) können beispielsweise Verbindungen mit einer C-O-C-Bindung oder mit einer → Si-O-C ←Bindung oder Verbindungen mit einer

verwendet werden.

Zu Beispielen für spezifische Verbindungen mit einer → C-O-C ←- Bindung gehören Verbindungen mit einer Acetal- oder Ketalgruppe, Verbindungen mit einer o-Carbonsäureestergruppe und/oder einer Carbonsäureamidoacetalgruppe, wie sie in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 1 20 714/1976 beschrieben sind, Polymere mit einer Acetal- oder Ketal-Gruppe in der Hauptkette, wie sie in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 1 33 429/1978 beschrieben sind, Verbindungen mit einer Enoläthergruppe, wie sie in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 12 995/1980 beschrieben sind, Verbindungen mit einer N-Acyliminocarbonatgruppe, wie sie in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 1 26 236/1980 beschrieben sind, oder Polymere mit einer o-Carbonsäureestergruppe in der Hauptkette, wie sie in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 17 345/1981 beschrieben sind.

Beispiele für spezifische Verbindungen mit einer → Si-O-C ←Bindung sind auch Verbindungen, wie sie in den ungeprüften japanischen Patentpublikationen 37 549/1985, 52 845/1985 und 1 21 446/1985 beschrieben sind.

Beispiele für spezifische Verbindungen mit Estergruppen sind auch die Verbindungen, wie sie in den ungeprüften japanischen Patentpublikationen 3 625/1985 und 10 247/1985 beschrieben sind.

Unter diesen Verbindungen mit einer Bindung, die mit einer Säure zersetzbar ist, sind die Verbindungen mit einer → Si-O-C ←Bindung bevorzugt. Unter ihnen sind die Verbindungen mit mindestens einer → Si-O-C ←Bindung und auch mit mindestens einer hydrophilen Gruppe, wie sie in der ungeprüften japanischen Patentpublikation 1 21 446/1985 beschrieben sind, besonders bevorzugt.

Die Verbindungen, die mit einer Säure zersetzbar sind, können einzeln in Form nur einer Art in Form einer Mischung von zwei oder mehr Arten verwendet werden.

Der Gehalt an diesen Verbindungen, die mit Säure zersetzbar sind, kann vorzugsweise betragen 5 bis 70 Gew.-%, insbesondere 10 bis 50 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtfeststoffe des die Zusammensetzung bildenden lichtempfindlichen Resistmaterials.

Als Phenole (iii) kann eine Mischung von zwei Arten von Novolakharzen, die nur eine Art Phenol enthält (die Phenolkomponenten der jeweiligen Novolakharze sind voneinander verschieden) verwendet werden, bevorzugt wird jedoch ein Copolykondensat von zwei verschiedenen Arten von Phenolen und einer aktiven Carbonylverbindung verwendet.

Zu Beispielen für geeignete Bindemittel gehören Acrylsäure oder Methacrylsäure und Alkylester oder Sulfoalkylester davon, Phenolharze, Polyvinylbutyral, Polyacrylamid, Cellulosederivate, wie Ethylcellulose, Celluloseacetatbutyrat, Celluloseacetatpropionat, Celluloseacetat, Benzylcellulose, Cellulosepropionat und dgl., oder auch Polystyrol, Polyvinylchlorid, chlorierter Kautschuk, Polyisobutylen, Polybutadien, Polyvinylacetat und Copolymere davon, Celluloseacetat, Cellulosepropionat, Celluloseacetatphthalat und dgl.

Erfindungsgemäß kann die erfindungsgemäße photographische Platte auf den verschiedensten Gebieten zusätzlich zu denjenigen, wie sie oben genannt sind, eingesetzt werden, typische Musterbildungsstufen werden jedoch nachfolgend beschrieben. Zuerst wird das gewünschte Originalbildmuster durch einen Photoplotter auf einer photographischen Platte (der beispielsweise direkt auf die photographische Platte mittels eines Laserstrahls aufgezeichnet worden ist) belichtet und entwickelt zur Herstellung eines Master-Musters (nachstehend als MP bezeichnet). Anschließend wird das Kontaktdrucken auf eine andere photographische Platte bewirkt, woran sich das Entwickeln anschließt zur Herstellung eines Arbeitsmusters (nachstehend als WP bezeichnet). In der Regel werden mehrere Platten des WP aus einer Platte des MP hergestellt. Dann wird das WP durch Kontaktdrucken auf die Oberfläche eines Substrats mit einer darauf aufgebrachten Resistschicht (die Resistoberfläche eines Ätzmaterials) aufgedruckt, woran sich die Entwicklung und die Ätzung zur Herstellung des Endprodukts mit einem vorgegebenen Muster anschließt.

Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform betrifft die vorliegende Erfindung auch das Verfahren, in dem die erfindungsgemäße photographische Platte als MP oder WP in den oben beschriebenen Stufen verwendet wird.

Unter ihnen ist es insbesondere am meisten bevorzugt, eine photographische Platte, in der das Silberhalogenid, das in der Emulsionsschicht auf dem Glasträger enthalten ist, ein Silberjodidbromid ist, das 8 Mol-% oder weniger Silberjodid enthält und eine mittlere Korngröße von 0,1 µm oder weniger aufweist, als photographische Platte für das MP sowie eine photographische Platte, in der das Silberhalogenid, das in der Emulsionsschicht auf dem Glasträger enthalten ist, mindestens 50 Mol-% oder mehr Silberchlorid enthält, als photographische Platte für das WP zu verwenden.

Natürlich kann die vorliegende Erfindung auch auf andere Stufen als die vorstehend beschriebenen angewendet werden, z. B. auf die Stufe des direkten Aufdruckens von dem MP auf das Photoresistmaterial oder für verschiedene andere Stufen.

Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen näher erläutert, ohne jedoch darauf beschränkt zu sein.

Beispiel 1 Herstellung des MP

Im Beispiel 1 wurde zuerst eine Emulsion vom Lipman-Typ, wie nachstehend beschrieben, hergestellt und diese wurde unter Schleifen (Mattieren) auf einen Glasträger aufgebracht zur Bildung einer Emulsionsschicht.

Die Zusammensetzung der in diesem Beispiel verwendeten Emulsion ist nachstehend angegeben.

Zu einer Silberhalogenidemulsion vom Lipman-Typ mit einer mittleren Korngröße von 0,05 µm aus 3 Mol-% Silberjodid und 97 Mol-% Silberbromid wurde zur chemischen Sensibilisierung Natriumthiosulfat zugegeben und dann wurden die Verbindung (I) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Sensibilisierungsfarbstoff, die Verbindung (II) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Inhibitor, die nachstehend angegebene Verbindung (III) als Entwicklungsbeschleuniger, die nachstehend angegebene Verbindung (IV) als Filmhärter und die Verbindung (V) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Haftmittel gegenüber dem Glas zugegeben, wobei man eine Beschichtungslösung erhielt (die Gelatinemenge betrug 6,8 g/m² und die Ag-Menge betrug 2,8 g/m²).

Die obige Emulsion wurde in Form einer Schicht auf einen Glasträger aufgebracht, dessen Oberfläche mattiert worden war. Das als Träger verwendete mattierte Glas war ein solches der Nr. 1000 mit einer Oberflächenrauheit von 3,20 µm. Dieses wurde mit der Emulsion beschichtet, wobei man eine photographische Platte mit einer Oberflächenrauheit der Emulsionsschicht von 2,11 µm erhielt.

In diesem Beispiel wurde auch eine Unterlagenschicht (Rückschicht) vorgesehen. Das heißt, die Unterlagenschicht (Rückschicht) wurde aufgebracht durch Zugabe eines Copolymeren aus Methacrylsäure und einem Methacrylat als Bindemittel, der Verbindungen (A) und (B) als Licht absorbierende Farbstoffe und der Verbindung (VI) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Haftverbesserer zu einem Lösungsmittelgemisch aus Methanol und Ethanol und Aufbringen der resultierenden Lösung in Form einer Schicht.

Die in der Emulsion und in der Unterlagenschicht (Rückschicht) verwendeten Verbindungen waren folgende:
Sensibilisierungsfarbstoff (I)

Inhibitor (II)

Entwicklungsbeschleuniger (III)

Filmhärter (IV)

C(CH₂SO₂CH=CH₂)₄[NH₂(CH₂)₂SO₃K]_n
n = 0,75

Haftmittel gegenüber Glas (V)

BC-Farbstoff (A)

BC-Farbstoff (B)

BC-Haftmittel (VI)

Auf der so erhaltenen photographischen Platte wurde durch Aufzeichnen mit einem Laserstrahl ein Originalbildmuster erzeugt. Dieses Muster wurde als MP (Master-Muster) mit einem Substrat mit einer Photoresistschicht in Kontakt gebracht, es wurde eine Belichtung durchgeführt, anschließend wurde entwickelt, wobei man ein Resistmuster erhielt.

Als Substrat mit einer Photoresistschicht wurde in diesem Beispiel das folgende Substrat verwendet.

Es wurde eine Stahlplatte mit einer Plattendicke von 0,15 mm und einer Breite von etwa 500 mm als Substrat verwendet, mit Triclene (Trichlorethylen) entfettet und mit einem Alkali weiter entfettet und dann wurde diese Stahlplatte unter Verwendung einer Walzenbeschichtungsvorrichtung mit einem Resistmaterial mit einem spezifischen Gewicht von 1,030 beschichtet, das Casein (SS-16, Handelsname für ein Produkt der Firma Fuji Yakuhin Kogyo K.K.) und Ammoniumbichlorat enthielt, anschließend wurde ein Muster darauf übertragen.

In Beispiel 1 wurde die Stahlplatte nach Vervollständigung der vorstehend beschriebenen Beschichtungsbehandlung mit der obengenannten photographischen Platte mit einer Plattendicke von etwa 5 mm und einer Größe von etwa 559 mm (22 inch) × etwa 711 mm (28 inch) in Kontakt gebracht und das Lichtdrucken wurde unter einer Metallhalogenidlampe von 4 KW in einem Abstand von 500 mm 50 s lang durchgeführt. Bei der vorstehend beschriebenen Kontaktierung wurde die Ansaugevakuierungszeit geändert, so daß sie 20 s, 50 s, 80 s bzw. 90 s betrug.

Nach Beendigung des vorstehend beschriebenen Kontaktdruckens wurde die Stahlplatte einer Sprühentwicklungsbehandlung unter Verwendung von Wasser von 23°C unterworfen. Anschließend wurde die Platte in eine wasserfreie Chromsäurelösung eingetaucht, mit Wasser gewaschen und bei 200 bis 250°C gebrannt, um eine Filmhärtungsbehandlung durchzuführen. Nach dem Ätzen durch Besprühen mit einer Eisen(III)chloridlösung wurde die Platte mit Wasser gewaschen und einer Ätzung unterworfen, wobei man ein Produkt mit einer Schaltung mit dem gewünschten Muster erhielt.

Vergleichsbeispiel 1

Im Gegensatz zu dem obigen Beispiel 1, in dem eine photographische Platte mit einem MP, das auf einem mattierten Glas als Träger Nr. 1000 erzeugt worden war, verwendet wurde, wurde zum Vergleich eine photographische Platte verwendet, in der als Träger eine Glasplatte mit einer glatten Oberfläche ohne Durchführung einer Mattierungsbehandlung verwendet wurde. Die übrigen Bedingungen waren die gleichen wie im obigen Beispiel 1.

Unter Verwendung der Probe des Beispiels 1 und des Vergleichsbeispiels 1 wurde die Beziehung zwischen der Oberflächenrauheit des Glasträgers und derjenigen der Emulsionsschicht untersucht, wobei die in der folgenden Tabelle I angegebenen Ergebnisse erhalten wurden.

Tabelle I

In dem obigen Beispiel 1 und in dem Vergleichsbeispiel 1 wurde die Ätzsituation des erhaltenen Produkts wie nachstehend angegeben geprüft.

Die Resistoberfläche wurde durch Eintauchen in eine Lösung, in der mehrere Prozent eines oberflächenaktiven Agens zu einer 20%igen Natriumhydroxidlösung zugesetzt worden waren, abgelöst und nach dem Waschen wurde die Ätzsituation festgestellt. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle II angegeben.

Tabelle II

Wie in der Tabelle II angegeben, kann gemäß dem erfindungsgemäßen Beispiel eine Musterübertragung mit einer guten Ätzung schon bei einer Ansaugzeit von 20 s erzielt werden.

Wie vorstehend angegeben, kann erfindungsgemäß ein ausreichender Kontakt bei der Musterübertragung erzielt werden, so daß der Effekt erhalten wird, daß ein kopiertes Muster mit einer guten Bildqualität erzielt werden kann und die für die Ansaugevakuierung erforderliche Zeit und dgl. kann ebenfalls abgekürzt werden. Da die Musterübertragung in den vorstehend beschriebenen Beispielen in einer Häufigkeit durchgeführt wird, die der Anzahl der gebildeten Produkte entspricht, kann, wenn angenommen wird, daß die Zeit um 70 s, bezogen auf die obengenannten Daten, verkürzt werden kann und 1000 Produkte gebildet werden, die eingesparte Zeit 70 s × 1000 = 70 000 s, d. h. etwa 19 h oder mehr betragen, wodurch die Produktivität verbessert wird.

Beispiel 2 Herstellung des MP

Im Beispiel 2 wurde zuerst eine Emulsion vom Lipman-Typ wie nachstehend beschrieben hergestellt und diese wurde auf einem Glasträger, dessen Oberfläche angerauht worden war, aufgebracht unter Bildung einer Emulsionsschicht.

Zu einer Silberhalogenidemulsion vom Lipman-Typ mit einer mittleren Korngröße von 0,05 µm aus 3 Mol-% Silberjodid und 97 Mol-% Silberbromid wurde Natriumthiosulfat zur chemischen Sensibilisierung zugegeben und dann wurden die Verbindung (I) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Sensibilisierungsfarbstoff, die Verbindung (II) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Inhibitor, die nachstehend angegebene Verbindung (III) als Entwicklungsbeschleuniger, die nachstehend angegebene Verbindung (IV) als Filmhärter und die Verbindung (V) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Haftmittel gegenüber dem Glas zugegeben zur Herstellung einer Beschichtungslösung (die Gelatinemenge betrug 6,8 g/m² und die Ag-Menge betrug 2,8 g/m²).

Die obige Emulsion wurde in Form einer Schicht auf einen Glasträger aufgebracht, dessen Oberfläche mattiert worden war. Das als Träger verwendete mattierte Glas war ein solches der Nummer 1000, das eine Oberflächenrauheit von 3,20 µm aufwies. Es wurde mit einer Emulsion beschichtet unter Bildung einer photographischen Platte mit einer Oberflächenrauheit der Emulsionsschicht von 2,11 µm.

In diesem Beispiel wurde auch eine Unterlagenschicht (Rückschicht) vorgesehen. Die Unterlagenschicht (Rückschicht) wurde aufgebracht durch Zugabe eines Copolymeren von Methacrylsäure und einem Methacrylat als Bindemittel, der Verbindungen (A) und (B) als Licht absorbierende Farbstoffe und der Verbindung (VI) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Haftmittel zu einem Lösungsmittelgemisch aus Methanol und Ethanol und Aufbringen der resultierenden Lösung in Form einer Schicht.

Inhibitor (II)

Entwicklungsbeschleuniger (III)

Filmhärter (IV)

C(CH₂SO₂CH=CH₂)₄[NH₂(CH₂)₂SO₃K]_n
n = 0,75

Haftmittel gegenüber dem Glas (V)

BC-Farbstoff (A)

BC-Farbstoff (B)

BC-Farbstoff (VI)

Auf der so erhaltenen photographischen Platte wurde ein Originalbildmuster erzeugt durch Aufzeichnen mit einem Laserstrahl. Dieses Muster wurde als MP (Master-Muster) mit der photographischen Platte, wie sie nachstehend beschrieben ist, in Kontakt gebracht, es wurde die Belichtung durchgeführt, dann wurde entwickelt, wobei man das WP (Arbeitsmuster) erhielt.

Herstellung der als WP verwendeten photographischen Platte

Die als WP zu verwendende photographische Platte wurde hergestellt durch Beschichten eines Trägers aus einer mattierten Glasplatte der Nr. 1000 mit einer Lith-Emulsion, wie sie nachstehend beschrieben ist.

Die Zusammensetzung der Lith-Emulsion in diesem Falle war wie folgt: zu einer Silberhalogenidemulsion aus 65 Mol-% Silberchlorid und 35 Mol-% Silberbromid, die kubisches Rhodiumchloridsalz mit einer mittleren Korngröße von 0,19 µm enthielt, wurden Chlorgold(III)säure und Natriumthiosulfat zur chemischen Sensibilisierung zugegeben und dann wurden die nachstehend angegebene Verbindung VII als Sensibilisierungsfarbstoff, 6-Methyl-4-hydroxy-1,3,3a,7-tetrazainden als Stabilisator, die Verbindung VIII mit der nachstehend angegebenen Struktur als Inhibitor, die Verbindung IX mit der nachstehend angegebenen Struktur als Polymerlatex, die oben angegebene Verbindung IV als Filmhärter und die oben angegebene Verbindung V als Haftmittel gegenüber einem Glasträger zugegeben zur Herstellung einer Beschichtungslösung (die Gelatinebeschichtungsmenge betrug 4,1 g/m², die Silberbeschichtungsmenge betrug 3,5 g/m²).

Durch Beschichten eines Glasträgers, dessen Oberfläche mattiert worden war, der Nr. 1000 mit dieser Beschichtungslösung wurde eine Emulsionsschicht mit einer Oberflächenrauheit von 2,11 µm gebildet.

Auch auf dieser photographischen Platte wurde eine Unterlagenschicht (Rückschicht) vorgesehen, welche die gleiche war wie in der photographischen Plattenemulsion für das MP.
Sensibilisierungsfarbstoff (VII)

Inhibitor (VIII)

Polymerlatex (IX)

(oberflächenaktives Mittel Trax K = 40, C₁₂H₂₅O(FO)₄SO₃Na, war gleichzeitig vorhanden).

Mit der oben als WP erhaltenen photographischen Platte wurde das MP mit einem daraus unter Verwendung eines Laserstrahls wie vorstehend beschrieben erzeugten Originalbildmuster in Kontakt gebracht und belichtet zur Übertragung des Musters, wonach entwickelt wurde, wobei das WP erhalten wurde.

Vergleichsbeispiel 2

Im Gegensatz zu dem obigen Beispiel 2, in dem photographische Platten mit darauf erzeugtem MP und WP mit mattierten Gläsern Nr. 1000 als Träger verwendet wurden, wurden zum Vergleich in beiden Fällen photographische Platten mit Glasträgern mit einer glatten Oberfläche ohne Mattieren verwendet. Die übrigen Bedingungen waren die gleichen wie in dem obigen Beispiel 2.

Unter Verwendung der Proben des Beispiels 2 und des Vergleichsbeispiels 2 wurde die Beziehung zwischen der Oberflächenrauheit des Glasträgers und derjenigen der Emulsionsschicht untersucht, wobei die in der folgenden Tabelle III angegebenen Ergebnisse erhalten wurden.

Tabelle III

Bei Abkürzug der Zeit, insbesondere wenn die Ansaugevakuierungszeit während des Kontakts auf 2 min, 4 min, 6 min, 8 min und 10 min eingestellt wurde, wurden bezüglich der Bildqualität die in der folgenden Tabelle IV angegebenen Ergebnisse erhalten.

Tabelle IV

Beispiel 3 Herstellung des MP

In diesem Beispiel wurde zuerst eine Emulsion vom Lipman-Typ wie nachstehend angegeben hergestellt und diese wurde auf einen Glasträger aufgebracht, dessen Oberfläche nicht mattiert worden war, unter Bildung einer Emulsionsschicht. Die Zusammensetzung der in diesem Beispiel verwendeten Emulsion wird nachstehend beschrieben.

Einer Silberhalogenidemulsion vom Lipman-Typ mit einer mittleren Korngröße von 0,05 µm aus 3 Mol-% Silberjodid und 97 Mol-% Silberbromid wurden zugesetzt Natriumthiosulfat zur chemischen Sensibilisierung und dann die Verbindung (I) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Sensibilisierungsfarbstoff, die Verbindung (II) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Inhibitor, die nachstehend angegebene Verbindung (III) als Entwicklungsbeschleuniger, die nachstehend angegebene Verbindung (IV) als Filmhärter und die Verbindung (V) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Haftmittel gegenüber Glas zur Herstellung einer Beschichtungslösung (die Gelatinemenge betrug 6,8 g/m² und die Ag-Menge betrug 2,8 g/m²).

Die obige Emulsion wurde auf einen Glasträger, dessen Oberfläche mattiert worden war, aufgebracht. Das als Träger verwendete mattierte Glas war ein solches der Nr. 1000, das eine Oberflächenrauheit von 3,20 µm aufwies. Dieses wurde mit einer Emulsion beschichtet zur Herstellung einer photographischen Platte mit einer Oberflächenrauheit der Emulsionsschicht von 2,11 µm.

In diesem Beispiel wurde auch eine Unterlagenschicht (Rückschicht) vorgesehen. Die Unterlagenschicht (Rückschicht) wurde aufgebracht durch Zugabe eines Copolymeren von Methacrylsäure und eines Methacrylats als Bindemittel, der Verbindungen (A) und (B) als Licht absorbierende Farbstoffe und der Verbindung (VI) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Haftmittel zu einem Lösungsmittelgemisch aus Methanol und Ethanol und Aufbringen der resultierenden Lösung in Form einer Schicht.

Inhibitor (II)

Entwicklungsbeschleuniger (III)

Filmhärter (IV)

C(CH₂SO₂CH=CH₂)₄[NH₂(CH₂)₂SO₃K]_n
n = 0,75

Haftmittel gegenüber Glas (V)

BC-Farbstoff (A)

BC-Farbstoff (B)

BC-Haftmittel (VI)

Auf der so erhaltenen photographischen Platte wurde ein Originalbildmuster erzeugt durch Zeichnen mit einem Laserstrahl. Dieses Muster wurde als MP (Master-Muster) mit der nachstehend beschriebenen photographischen Platte in Kontakt gebracht, es wurde eine Belichtung durchgeführt, dann wurde entwickelt, wobei man das WP (Arbeitsmuster) erhielt.

Herstellung der als WP zu verwendenden photographischen Platte

Die als Wp zu verwendende photographische Platte wurde hergestellt durch Beschichten eines Trägers aus mattiertem Glas Nr. 1000 mit einer Lith-Emulsion, wie sie nachstehend beschrieben ist.

Die Zusammensetzung der Lith-Emulsion in diesem Falle war wie folgt: einer Silberhalogenidemulsion aus 65 Mol-% Silberchlorid und 35 Mol-% Silberbromid, die ein kubisches Rhodiumchloridsalz mit einer mittleren Teilchengröße von 0,19 µm enthielt, wurden Chlorgold-(III)-säure und Natriumthiosulfat zur chemischen Sensibilisierung und dann die nachstehend angegebene Verbindung VII als Sensibilisierungsfarbstoff, 6-Methyl-4-hydroxy-1,3,3a,7-tetrazainden als Stabilisator, die Verbindung (VIII) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Inhibitor, die Verbindung (IX) mit der nachstehend angegebenen Struktur als Polymerlatex, die oben angegebene Verbindung (IV) als Filmhärter und die oben angegebene Verbindung (V) als Haftmittel gegenüber einem Glasträger zugesetzt zur Herstellung einer Beschichtungsauflösung (die aufgebrachte Gelatinemenge betrug 4,1 g/m², die aufgebrachte Silbermenge betrug 3,5 g/m²).

Durch Beschichten eines Glasträgers, der mattiert worden war mit einer Nr. 1000 mit dieser Beschichtungslösung wurde eine Emulsionsschicht mit einer Oberflächenrauheit von 2,11 µm erhalten.

Auf dieser photographischen Platte wurde außerdem eine Rückschicht (Unterlagenschicht) vorgesehen, welche die gleiche war wie in der für das MP verwendeten photographischen Platte.
Sensibilisierungsfarbstoff (VII)

Inhibitor (VIII)

Polymerlatex (IX)

(oberflächenaktives Mittel Trax K = 40, C₁₂H₂₅O(FO)₄SO₃Na, gleichzeitig vorhanden)

Die oben erhaltene photographische Platte für das WP wurde mit dem MP mit einem darauf unter Verwendung eines Laserstrahls wie vorstehend beschrieben erzeugten Originalbildmuster in Kontakt gebracht und belichtet zur Übertragung des Musters, anschließend wurde entwickelt, wobei das WP erhalten wurde.

Vergleichsbeispiel 3

Im Gegensatz zu dem obigen Beispiel 3, in den photographische Platten mit einem MP, das auf einem Glasträger mit glatter Oberfläche erzeugt worden war, und einem WP, das auf einem Glasträger mit mattierter Oberfläche Nr. 1000 erzeugt worden war, verwendet wurden, wurden zum Vergleich photographische Platten mit Glasträgern mit glatter Oberfläche ohne Mattieren in beiden Fällen verwendet. Die übrigen Bedingungen waren die gleichen wie im obigen Beispiel 1.

Unter Verwendung der Proben des Beispiels 3 und des Vergleichsbeispiels 3 wurde die Beziehung zwischen der Oberflächenrauheit des Glasträgers und derjenigen der Emulsionsschicht untersucht, wobei die in der folgenden Tabelle V angegebenen Ergebnisse erhalten wurden.

Tabelle V

Bei Abkürzung der Zeit, insbesondere wenn die Ansaugevakuierungszeit während des Kontakts auf 2 min, 4 min, 6 min, 8 min und 10 min eingestellt wurde, wurden bezüglich der Bildqualität die in der folgenden Tabelle VI angegebenen Ergebnisse erhalten.

Tabelle VI

Beispiel 4

Das in Beispiel 2 oder 3 erhaltene WP wurde auf ein Substrat mit einer darauf erzeugten Photoresistschicht übertragen unter Bildung eines Resistmusters. Als Substrat mit einer Photoresistschicht wurde in diesem Beispiel 4 das folgende Substrat verwendet.

Unter Verwendung einer Stahlplatte mit einer Plattendicke von 0,15 mm und einer Breite von etwa 500 mm als Substrat, die mit Triclene (Trichlorethylen) und außerdem mit einem Alkali entfettet wurde und die dann mit einem Resistmaterial beschichtet wurde, das so formuliert wurde, daß es ein spezifisches Gewicht von 1,030 hatte, mit Casein (SS-16, Handelsname für ein Produkt der Firma Fuji Yakuhin Kogyo K.K.) und Ammoniumbichlorat, mittels einer Walzenbeschichtungsvorrichtung, wurde anschließend die Übertragung eines Musters darauf durchgeführt.

In diesem Beispiel wurde die Stahlplatte nach Beendigung der vorstehend beschriebenen Beschichtungsbehandlung mit der obigen photographischen Platte mit den Dimensionen einer Plattendicke von etw 5 mm und einer Größe von etwa 559 mm (22 inch) × etwa 711 mm (28 inch) in Kontakt gebracht und das Lichtdrucken wurde unter einer Metallhalogenidlampe von 4 KW in einem Abstand von 500 mm 50 s lang durchgeführt. Beim obigen Kontaktieren wurde die Ansaugevakuierungszeit auf 20 s, 50 s, 80 s bzw. 90 s eingestellt.

Nachdem das obengenannte Kontaktdrucken beendet war, wurde die Stahlplatte einer Sprühentwicklungsbehandlung unter Verwendung von Wasser von 23°C unterworfen. Anschließend wurde die Platte in eine wasserfreie Chromsäurelösung eingetaucht, mit Wasser gewaschen und bei 200 bis 250°C gebrannt, um eine Filmhärtungsbehandlung durchzuführen. Nach der Ätzbehandlung durch Aufsprühen einer Eisen(III)chloridlösung wurde die Platte mit Wasser gewaschen und einer Ätzung unterworfen, wobei man ein Produkt mit einer Schaltung mit dem gewünschten Muster erhielt.

Vergleichsbeispiel

Wie in Beispiel 4 wurde ein Glasträger ohne mattierte Oberfläche zu Vergleichszwecken verwendet und im übrigen wurden die gleichen Arbeitsgänge wie vorstehend beschrieben durchgeführt.

Die Ätzsituation des erhaltenen Produkts wurde sowohl im obigen Beispiel 4 als auch im Vergleichsbeispiel 4 wie nachstehend angegeben untersucht.

Die Resistoberfläche wurde abgelöst durch Eintauchen in eine Lösung, in der mehrere Prozent eines oberflächenaktiven Mittels zu 20% Natriumhydroxid zugesetzt worden waren, und nach dem Waschen wurde die Ätzsituation erneut festgestellt. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle VII angegeben.

Tabelle VII

Wie in der vorstehenden Tabelle VII beschrieben, kann nach diesem Beispiel eine Musterübertragung mit einer guten Ätzung bereits bei einer Ansaugzeit von 20 s erzielt werden.

Wie vorstehend beschrieben, kann erfindungsgemäß ein ausreichender Kontakt bei der Musterübertragung erzielt werden, so daß ein Effekt erhalten werden kann, wonach ein kopiertes Muster mit einer guten Bildqualität erhalten werden kann und die für das Ansaugevakuieren erforderliche Zeit und dgl. kann auch abgekürzt werden. Da in den vorstehend beschriebenen Beispielen die Musterübertragung in der Anzahl entsprechend der Anzahl der gebildeten Produkte durchgeführt wird, kann, wenn beispielsweise angenommen wird, daß die Zeit um 70 s abgekürzt werden kann, bezogen auf die obengenannten Daten, und 1000 Produkte hergestellt werden, eine Zeit von 70 s × 1000 = 70 000 s, nämlich von etwa 19 h oder länger, eingespart werden, wodurch die Produktivität verbessert wird.

Claims

1. Musterübertragungsverfahren, das umfaßt die Erzeugung eines Originalbildmusters auf einer ersten photographischen Platte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger und die Kontaktübertragung des Originalbildmusters auf ein Substrat mit einer Photoresistschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste photographische Platte in der Emulsionsschicht eine Silberhalogenidemulsion aufweist, bei der es sich handelt um eine Silberjodidbromidemulsion, die 8 Mol-% oder weniger Silberjodid enthält und deren mittlere Korngröße 0,1 µm oder weniger beträgt, oder daß sie in der Emulsionsschicht eine Silberhalogenidemulsion aufweist, die 50 Mol-% oder mehr Silberchlorid enthält, und daß die erste photographische Platte eine Emulsionsschicht mit einer Oberflächenrauheit von 0,3 bis 3 µm aufweist.

2. Musterübertragungsverfahren, das umfaßt die Erzeugung eines Originalbildmusters auf einer ersten photographischen Platte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger und das Kontaktübertragen des Originalbildmusters auf eine zweite photographische Platte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger, dadurch gekennzeichnet, daß die erste und die zweite photographische Platte in der Emulsionsschicht eine Silberhalogenidemulsion aufweisen, bei der es sich handelt um eine Silberjodidbromidemulsion, die 8 Mol-% oder weniger Silberjodid enthält und deren mittlere Korngröße 0,1 µm oder weniger beträgt, oder daß sie in der Emulsionsschicht eine Silberhalogenidemulsion aufweisen, die 50 Mol-% oder mehr Silberchlorid enthält, und daß mindestens die zweite photographische Platte einer Emulsionsschicht mit einer Oberflächenrauheit von 0,3 bis 3 µm aufweist.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
eine photographische Platte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger, wobei es sich bei der in der Emulsionsschicht enthaltenen Silberhalogenidemulsion um eine Silberjodidbromidemulsion mit 8 Mol-% oder weniger Silberjodid und mit einer durchschnittlichen Korngröße von 0,1 µm oder weniger handelt, verwendet wird,
auf der photographischen Platte ein Originalbildmuster erzeugt wird,
das Originalbildmuster durch Kontaktübertragung übertragen wird auf eine photographische Platte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger, wobei das in der Emulsionsschicht enthaltene Silberhalogenid mindestens 50 Mol-% oder mehr Silberchlorid enthält, und
mindestens eine der photographischen Platten eine Emulsionsschicht mit einer Oberflächenrauheit von 0,3 bis 3 µm aufweist.

4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine photographische Platte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger, wobei die in der Emulsionsschicht enthaltene Silberhalogenidemulsion 50 Mol-% oder mehr Silberchlorid enthält und die Oberflächenrauheit der Emulsionsschicht 0,3 bis 3 µm beträgt, verwendet wird, auf der photographischen Platte ein Muster erzeugt wird und das Muster durch Kontaktübertragung auf ein Substrat mit einer Photoresistschicht auf einem Träger übertragen wird.

5. Photographische Silberhalogenidplatte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger, dadurch gekennzeichnet, daß
es sich bei der in der Emulsionsschicht enthaltenen Silberhalogenidemulsion um eine Silberjodidbromidemulsion mit 8 Mol-% oder weniger Silberjodid und mit einer mittleren Korngröße von 0,1 µm oder weniger handelt und
die Oberflächenrauheit der Emulsionsschicht 0,3 bis 3 µm beträgt.

6. Photographische Silberhalogenidplatte mit einer Silberhalogenidemulsionsschicht auf einem Glasträger, dadurch gekennzeichnet, daß die in der Emulsionsschicht enthaltene Silberhalogenidemulsion mindestens 50 Mol-% oder mehr Silberchlorid enthält und daß die Oberflächenrauheit der Emulsionsschicht 0,3 bis 3 µm beträgt.