DE1772280A1

DE1772280A1 - AEtz-Resistfilm zur Erzeugung von Resistschichten auf Tiefdruckplatten,-zylindern u.dgl.

Info

Publication number: DE1772280A1
Application number: DE19681772280
Authority: DE
Inventors: Yackel Edward Carl; Foster Donald Paul
Original assignee: Eastman Kodak Co
Current assignee: Eastman Kodak Co
Priority date: 1967-04-26
Filing date: 1968-04-24
Publication date: 1971-03-04
Also published as: FR1580217A; BE713805A; GB1195173A; US3518087A

Description

"?/■·■;.: -,V-¹V-V - München, 20. März 1968 .

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MÜNCHEN 22, Thier$chstraße 8/lil .

TELEFON 293297

Reg. Nr. 121 229

Eastman Kodak Company, 343 State Street, Rochester, Staat New York, Vereinigte Staaten von Amerika

Ätz-Resistfilm zur Erzeugung von Resistschichten auf Tiefdruckplatten, -zylindern und dergleichen

Die Erfindung betrifft einen Ätz-Resistfilm zur Erzeugung von Res istschichten auf Tiefdruckplatten, -zylindern und dergl., bestehend aus einem temporären Träger, einer darauf aufgetragenen Abstreifschicht sowie einer über dieser angeordneten, Härtungsmittel freien, lichtempfindlichen Gelatine-Silberhalogenidemulsionsschicht.

Es ist bekannt, zur Erzeugung von Ätzresistschichten auf Tiefdruckplatten, -zylindern und dergl. lichtempfindliche photographische Materialien zu verwenden, die in der Regel aus einem Celluloseester ilmträger, einer sensibilisierten Gelatineschicht und einer zu der sensibilisierten Gelatineemulsionsschicht benachbarten sog. Abstreifschicht.bestehen.

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Nach der bildgerechten Belichtung wird das photographische Material entwickelt, fixiert, gewaschen und getrocknet. Durch die Entwicklung wird die Gelatine der Emulsionsschicht modifiziert, d. h. beispielsweise in der Umgebung der Silberkörner des Bildes gehärtet und unlöslich gemacht.

Das behandelte photographische Material wird nun, mit der Emulsionsseite nach unten, beispielsweise auf die angefeuchtete Oberfläche eines Kupfertiefdruckzylinders oder einer Tiefdruckplatte aufgebracht. Hierauf wird der Filmträger vorsichtig abgezogen, wobei die Emulsionsschicht auf dem Tiefdruckzylinder oder auf der Tiefdruckplatte haften bleibt. Die Emulsionsschicht wird dann kurzzeitig mit Wasser gewaschen. Hierbei bleibt auf dem Zylinder oder der Platte ein verschieden gehärtetes Gelatine-Silberbild zurück.

Die Abstreifschicht bleibt an der Oberseite des Gelatinereliefs, welches bei der Entwicklung der sensibilisierten Gelatineschicht erzeugt wurde, haften. Nach dem Übertragen des Gelatinereliefs auf die Druckplatte oder den Druckzylinder zur Erzeugung der Resistschicht hat es sich als notwendig erwiesen, die Abstreifschicht vor dem Ätzen mit Hilfe eines organischen Lösungsmittels zu entfernein. Darüber hinaus haben sich aufgrund der Eigenschaften der Abstreifschicht in der Regel besondere Vorsichtsmaßnahmen als er-

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forderlich erwiesen, um die Bildung sog. Abstreifblasen auf der Emulsionsschicht zu verhindern, wenn der Träger davon abgezogen wird.

Der Erfindung lag somit die Aufgabe zugrunde, einen Resistfilm zur Erzeugung von Resistschichten auf Tiefdruckplatten, -Zylindern und dergl. anzugeben, der derart aufgebaut ist,

daß die Entfernung der Abstreifschicht von der übertragenen ^

Emulsionsschicht ohne Schwierigkeiten und unter Vermeidung organischer Lösungsmittel, lediglich mit Wasser, möglich ist.

Der Erfindung lag die Erkenntnis zugrunde, daß sich die gestellte Aufgabe mit Hilfe einer in bestimmter V/eise aufgebauten Abstreifschicht lösen läßt.

Demzufolge betrifft die Erfindung einen Ätz-Resistfilm zur Erzeugung von Resistschichten auf Tiefdruckplatten, -zylindern und dergl., bestehend aus einem temporären Träger, einer { darauf aufgetragenen Abstreifschicht sowie einer über dieser angeordneten, Härtungsmittel freien, lichtempfindlichen Gelar tine-Silberhalogenidemulsionsschicht, dadurch gekennzeichnet, daß er eine Abstreifschicht aus einer Mischung eines Latex und eines Gelatineleimes niederer Viskosität enthält.

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Wird ein Xtz-Resistfilm nach der Erfindung belichtet und mit · der belichteten Emulsionsseite nach unten auf einen angefeuchteten Druckzylinder oder eine angefeuchtete Druckplatte aufgetragen, so kann der temporäre Träger mit Hilfe der Abstreifschicht leicht von der Emulsionsschicht abgezogen und die Abstreifschicht selbst lediglich mit Wasser, ohne Veritfendung eines organischen Lösungsmittels, von der Emulsionsschicht entfernt werden.

Latex Wird erfindungsgemäß eine Abstreifschicht aus einem

eines in Wasser dispergierbaren, wasserunlöslichen, schmelzbaren Polymeren und einem Gelatineleim niederer Viskosität erzeugt, so läßt sich der Leim aus der Leim/Latexschicht extrahieren, wobei eine poröse Latexabstreifschicht zurückbleibt.

Unter einem Gelatineleim niederer Viskosität ist hier und im folgenden eine niedrig-viskose Gelatine mit einer Viskosität von unter etwa 5 Centipoises und einer Shoom-Härte von unter 50 zu verstehen.

Zur Erläuterung der "Shoom-Härte^M sei folgendes ausgeführt:

Auf Seite 72 des Buches von R. J. Croome und F. G. Clegg "Photographic Gelatin", 1965, Focal Press, London, wird über die Festigkeit eines Gels folgendes ausgeführt:

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Die Festigkeit oder Deformationsbeständigkeit eines unter Standardbedingungen aus Gelatine hergestellten Gels wird in der Regel unter Verwendung eines Gelometers nach Bloom bestimmt und als Bloom-Gelfestigkeit angegeben. Die Bloom-GeIfestigkeit wird definiert als das Gewicht in g, welches erforderlich ist, um einen Kolben mit einem Durchmesser von 12,7 mm innerhalb von 16 bis 18 Stunden bei einer Temperatur von 1O⁰C - 0,1⁰C 4 nun in die Oberfläche eines Gels einer Konzentration von 6 2/3 Gew.-% einzudrücken. Die Versuchsbe- "

dingungen werden im einzelnen in der "British Standards Specification 757 (195$" angegeben. Um vergleichbare Ergebnisse zu erhalten, müssen die angegebenen Bedingungen genau eingehalten werden."

Die Bloom-Gelfestigkeit stellt eine willkürliche, empirische und praktische Meßmethode für die Festigkeit oder Deformationsbeständigkeit eines Gels dar. Obwohl diese Eigenschaften exakter und dimensionsmäßig genauer durch Bestimmung i des Starrheitsmoduls festgelegt werden könnten, hat sich jedoch die Bloom-Gelfestigkeit als brauchbare, praktische Meßmethode bewährt.

Die nach der Extraktion des Leims zurückbleibende poröse Latexschicht erleichtert das Abstreifen der Trägerschicht von der lichtempfindlichen Emulsionsschicht. Die poröse Latexschicht selbst kann von der Emulsionsschicht leicht mit Was-

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ser abgewaschen werden, da sie in Folge ihrer Porosität wasserpermeabel ist. Zur Entfernung der Latexschicht ist somit die Verwendung eines organischen Lösungsmittels nicht mehr erforderlich. Darüber hinaus kann das Wasser infolge der Porosität der Latexschicht mit der zwischen der Resist- und der Abstreifschicht liegenden ungehärteten Gelatine in Kontakt gelangen, wobei diese quillt und die Abstreifschicht löst und freigibt, so daß letztere während des Auswaschens abgetragen wird.

Die Tatsache, daß der Leim durch die Gelatine extrahiert wird, ist überraschend, da diese Erscheinung z. B. nicht eintritt, wenn anstelle des Leims in der Leim/Latex-Mischung übliche Gelatinen, beispielsweise Knochengelatine, verwendet werden.

Die Abstreif- und Adhäsionseigenschaften des zur Herstellung von Ätzresistschichten geeigneten Ätz-Resistfilmes nach der Erfindung lassen sich noch weiter verbessern, wenn man zur Erzeugung der Abstreifschicht zusätzlich zu dem Leim noch eine Gelatine mit einer Viskosität von größer als 9 Centipoises und einer Shoom-Härte von größer als 150 einverleibt. Bei Anwesenheit nicht-extrahierbarer Gelatine in der Abstreifschicht erhält diese (zusätzliche) wünschenswerte Behandlungs· eigenschaften.

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Hin Atz-Resistfilm nach der Erfindung besteht somit aus:

1. einem dimensionsstabilentemporären Filmträger, gegebenenfalls mit einer darauf aufgetragenen üblichen Haftschicht;

2. einer Abstreifschicht, bestehend aus einer Mischung aus einem Latex und einem Gelatineleim, gegebenenfalls mit einem Zusatz an nicht-extrahierbarer Gelatine u'nd

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3. einer liärtungsmittel freien, lichtempfindlichen Gelatine-Silberhalogenidemulsionsschicht.

Gegebenenfalls kann der Ätz-Resistfilm zusätzlich zwischen der Abstreifschicht und der lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht eine dünne Gelatineschicht aufweisen, deren Gelatine die Extraktion des Leims aus der Latexschicht unterstützt. Anstelle der dünnen Gelatineschicht oder zusätzlich zu dieser kann der Ätz-Resistfilm nach der Erfindung gegebenenfalls noch eine Antilichthofschicht, bestehend aus Gelatine und entweder einem Antilichthoffarbstoff, Carey-Lea-Silber oder anderen Licht absorbierenden Verbindungen, wie beispielsweise Mangandioxyd, Kohlenstoff und dergl., benachbart zur lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht aufweisen.

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Der temporäre Träger des Resistfilmes kann beispielsweise aus einem üblichen Filmträger aus Celluloseacetat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosetriacetat, Cellulosebutyrat, Polyvinylchlorid, Polystyrol, Polyestern, wie beispielsweise Polyethylenterephthalat), Polycarbonaten und dgl, bestehen. Zweckmäßig besitzt der Träger eine Dicke von etwa 0,00254 bis 3,81 mm (0,001 - 0,15 inch) und kann, wie bereits erwähnt, gegebenenfalls eine Haftschicht, wie beispielsweise eine Schicht aus Cellulosenitrat oder einem Terpolymer aus Vinylidenchlorid, Methylmethacrylat und Itaconsäure, aufweisen«

Der zum Aufbau der Abstreifschicht verwendete Latex besteht aus einer wässrigen Dispersion eines synthetischen Harzes, wobei der Begriff des synthetischen Harzes im weitesten Sinne zu verstehen ist, d.h. unter den Begriff Latex fallen hier sog. Kunststoff-Latices und synthetische Kautschuk-Latices.

Die Latex-Harze oder Kunststoffe können beispielsweise bestehen aus Mischpolymerisaten aus Styrol und Butadien, Vinylidenchlorid und Acrylnitril oder Polyäthylacrylat und Acrylnitril, Homo- oder Mischpolymerisaten des Vinylchlorid«, sog. Terpolymeren aus Methylmethacrylat, Vinylchlorid und Vinylisobutyläther, Polyacrylnitril und dgl.

Die Konzentration des Leimes in der Latex- oder Abstreifschicht beträgt, bezogen auf den gesamten Feststoffgehalt der Schicht, mindestens etwa 10 bis etwa 40, vorzugsweise etwa 20 bis etwa 35

Gew.-I

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Enthält die Leim/Latex-Schicht zusätzlich nicht-extrahierbare Gelatine, so kann sie, bezogen auf den Latexfeststoffgehalt, bis zu etwa 40 Gew.-%, zweckmäßig etwa 25 bis etwa 40 _s vorzugsweise etwa· 30 bis etwa 35 Gew.-% enthalten.

2 Vorzugsweise enthält die Latexabstreifschicht pro dm · Träger- fläche etwa 10,8 bis etwa 53,8, vorzugsweise etwa 32,3 bis etwa 43,0 mg Latexfeststoffe. Die Dicke der Abstreifschicht

beträgt vorzugsweise etwa 0,003 bis etwa 0,013 mm. ί

In vorteilhafter Weise ist zwischen der Abstreifschicht und der lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht eine Gelatineschicht angeordnet. Die Gelatine dieser Schicht unterstützt dabei die Extraktion des Leimes aus der Leim/Latex-Schicht, wobei letztere porös wird. Die Gelatine-schicht kann als Antilichthofschicht ausgebildet sein und Carey-Lea-Silber, Mangandioxyd und/oder einen Antilichthoffarbstoff, wie beispielsweise Kongorot, die bei der Diazotierung von 2-Naphthylamin-6,8-disulfonsäure und anschließender Kupplung mit einer äquimolekularen Menge einer ehrοηισt«open Säure entstehende Verbindung oder die bei der Diazotierung von l-Naphthylamin-4-sulfonsäure und anschließender Kupplung mit einer äquimolekularen Menge der 1-Naphthol·-4-sulfonsäure entstehende Verbindung enthalten.

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- ίο -

Diese Gelatineschicht kann in vorteilhafter Weise ein Trocken-

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gewicht von pro dm ,Trägerfläche χοαι etwa 21,5 bis etwa 43,o mg aufweisen.

Zur Herstellung der lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschicht hat sich eine Silberbromjodidemulsion als besonders vorteilhaft erwiesen. Als lichtempfindliche Salze können jedoch die verschiedensten Silbersalze, wie beispielsweise Silberbromid, Silberjodid, Silberchlorid, oder gemischte Silberhalogenide, wie beispielsweise Silberchlorbromid, verwendet werden. Der Grund dafür, daß die Emulsionsschicht eines photographischen Materials nach der Erfindung nicht gehärtet sein soll, besteht darin, daß bei der Verwendung eines solchen photographischen Materials die Gelatine der Silberhalogenidemulsionsschicht im Entwicklerbad in verschiedenster Weise (verschieden stark) gehärtet wird, so daß in den belichteten, entwickelten Bezirken der Emulsionsschicht ein gegerbtes Bild entsteht.

Gegebenenfalls kann der Ätz-Resistfilm nach der Erfindung zusätzlich als Rückschicht eine Antikräuselschicht aufweisen, deren Zusammenset zungjin etwa der Zusammensetzung der¹ Antilichthofschicht entsprechen kann. Eine solche Schicht verhindert, daß sich der Träger, bedingt durch die auf die entgegengesetzte Seite des Trägers aufgetragene lichtempfindliche Emulsionsschicht, kräuselt oder wellig wird. So kann die

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Antikräuselschicht beispielsweise aus einem üblichen, entweder Farbstoffe oder Mangandioxyd enthaltenden Gelatinepelloid bestehen. Andere geeignete Antikräusel schichten bestehen beispielsweise aus einem Nitrocelluloselack und/ oder einer Alkydharzschicht. Diese Schichten können aus Lösungen auf den Träger aufgetragen werden.

Die einzelnen Schichten des Resistfilmes nach der Erfindung, einschließlich der Leim/Latex-Schicht, können auf den gege- ä

benenfalls mit einer Haftschicht versehenen Träger nach einem der zum Auftragen von Schichten bei der Herstellung photographischer Materialien bekannten Verfahren, beispielsweise durch Trichterbeschichtung, mit Hilfe eines Streichmessers, durch Wulstbeschichtung oder durch Übertragen der Beschichtungsmasse mit Hilfe von in die Beschichtungsmasse eintauchenden Walzen aufgetragen weraen.

Die durch Leim modifizierte Abstreifschicht wird durch Auftragen einer wässrigen Dispersion des synthetischen Harzes ' erzeugt. Das Auftragen der Abstreifschicht aus einer wässrigen Dispersion macht die Herstellung des Ätz-Resistfilmes nach der Erfindung sehr sicher und ungefährlich, da hierbei die Verwendung flüchtiger und leicht entzündbarer Lösungsmittel vermieden wird.

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Nach dem Trocknen der Abstreifschicht kann die Gelatine-Silberhalogenidemulsionsschicht oder die Gelatinezwischenschicht auf die Abstreifschicht aufgetragen werden. Wird eine Gelatinezwischenschicht, beispielsweise eine Antilichthofschicht, aufgetragen, so wird die Silberhalogenidemulsionsschicht gesondert aufgetragen.

Der Ätz-Resistfilm nach der Erfindung kann bei den verschiedensten, zur Herstellung von Resistschichten auf Tiefdruckplatten, -zylindern und dergl. geeigneten Verfahren eingesetzt werden.

So kann der Film beispielsweise in wirksamem Kontakt mit einem Bild oder einem anderen geeigneten Objekt, beispielsweise dem bildgerecht modulierten Lichtstrahl aus einer photo-r elektrischen Abtasteinrichtung, kurzzeitig belichtet werden, um in der Silberhalogenidemulsionsschicht in auf photographischem Gebiet bekannter Weise ein latentes Bild zu erzeugen.

Nach der Belichtung des Filmes wird dieser entwickelt, fixiert, gewaschen und getrocknet. Hierbei wird die Gelatine der lichtempfindlichen Emulsionsschicht verschieden modifiziert, indem sie in der Umgebung der Silberkörner des Bildes gehärtet und unlöslich gemacht wird.

Im folgenden wird ein zur Entwicklung des belichteten Ätz-Resistfilmes nach der Erfindung geeignetes Entwicklungsverfahren angegeben:

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BAD

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1. Der belichtete Film wird bei einer Temperatur von.. 2O°C 2 Minuten lang-in einem Entwickler der folgenden Zusammen- ' Setzung entwickelt:

ρ-Methylaminophenolsulfat 1,0g

Hydrochinon . 2,0 g

Pyrogallol 6,0 g

Natriumsulfit 9,0g

Kaliumbromid - - ; 1,5 g ."-.'-. I

Natriumsulfat 75,Og

Kaliummetabisulfit 5,0 g

mit Wasser aufgefüllt auf 1 Liter

2. Die Entwicklerflüssigkeit wird 15 Sek. lang abtropfen gelassen.

3. Der Film wird bei einer Temperatur von 20⁰C 2 Minuten lang in einer alkalischen Lösung der folgenden Zusammensetzung entwickelt:

TrinattLumphosphat 100 g I

Natriumsulfat 75 g

Phosphorsäure C85%ig) 5 ml

mit Wasser· aufgefüllt auf 1 Liter

4. Die Entwicklerflüssigkeit wird 15 Sekunden lang abtropfen gelassen, worauf der Film bei einer Temperatur von 20⁰C 60 Sekunden lang in einem Liter einer lOfcigen Natriumdiacetatlösung gespült wird.

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5. Der Film wird bei einer Temperatur von 2O⁰C 5 Minuten lang in einem Fixierbad der folgenden Zusammensetzung fixiert:

Natriumthiosulfat 24Og

Natriumsulfit, getrocknet 10 g

Natriumbisulfit 25 g

Eisessig 20 ml mit Wasser aufgefüllt auf 1 Liter

6. Der Film wird 5 bis 10 Minuten lang in fließendem Wasser gespült.

7. Der Film wird bei Raumtemperatur 60 Sekunden lang in eine Lösung der folgenden Zusammensetzung eingetaucht:

Netzmittel* 10 ml Semicarbazidhydrochlorid 1 g

Ammoniumhydroxyd (28%ig) 10 ml mit Wasser aufgefüllt auf 1 Liter

8. Schließlich wird die Flüssigkeit entfernt, worauf der Film entweder bei Raumtemperatur oder bei erhöhter Temperatur getrocknet wird.

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Nach der Belichtung und Entwicklung wird der Film in der Weise auf die angefeuchtete Oberfläche eines GravurZylinders aufgebracht, daß die Emulsionsseite des photographischen Materials mit dem Kupferzylinder in Berührung gelangt. Nach dem Abziehen des Trägers von der lichtempfindlichen Schicht läßt sich die nicht gegerbte Gelatine zusammen mit etwaigen Latexrückständen der Latexabstreifschicht ganz einfach durch Wässern mit 35 bis 4O°C warmem Wasser entfernenn.

Hierauf kann das Anätzen des KupferZylinders in üblicher Weise durchgeführt Werden. So kann beispielsweise der Kupferzylinder mit dem darauf befindlichen Reliefbild in der im folgenden angegebenen Weise geätzt werden.

Auf die nicht durch das Bild geschützten und nicht zu ätzenden Bezirke der Kupferoberfläche wird zunächst eine Schutzschicht, beispielsweise eine Asphaltschicht, aufgetragen, worauf der Kupferzylinder beispielsweise mit Eisen(III)chlorid geätzt werden kann. Hierbei wird die Kupferoberfläche verschieden stark geätzt, und zwar im umgekehrten Verhältnis zur Dicke und Härte der auf der Kupferoberfläche befindlichen Gelatine. Die hierbei auf der Kupferoberfläche entstandenen Reliefbilder eignen sich zu Tiefdruckzwecken.

Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.

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Beispiel 1

Ein keine Haftschicht aufweisender Film aus praktisch vollständig verestertem Cellulosetriacetat, welcher als temporärer Träger diente, wurde mit einer wässrigen Leim/Latex-Dispersion beschichtet. Die wässrige Dispersion enthielt jeweils pro 2 Gew.-Teile eines Latex, bestehend aus einem Mischpolymerisat aus 75 Gew.-% Äthylacrylat und 25 Gew.-! Acrylnitril mit einem Trockengewicht von 10 -o, 1 Gew.-Teil Leim mit einem Trockengewicht von 10 %. Auf dem Träger wurden pro dm Trägerfläche 32,3 mg Feststoffe abgelagert. Die Dicke der aufgetragenen Abstreifschicht betrug 5 Mikron. Nach dem Trocknen der Abstreifschicht wurde auf diese eine Gelatine-Sil-

2 berhalogenidemulsion in der Weise aufgetragen, daß pro dm Trägerfläche etwa 96,8 mg trockene Gelatine entfielen.

Der in der beschriebenen Weise hergestellte Film wurde hierauf in einer bei der Herstellung von Resistschichten auf Tiefdruckplatten, -zylindern und dergl. üblichen Weise belichtet und entwickelt. Der entwickelte Film wurde nun mit Hilfe einer Naßübertragung auf eine Kupferplatte aufgebracht, worauf der Cellulosetriacetatträger durch Abziehen vorsichtig entfernt wurde.

Die Latexrückstände ließen sich durch Waschen mit 40 C warmem Wasser vollständig entfernen. Nach dem Abstreifen des

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temporären Trägers konnten in der lichtempfindlichen Emulsionsschicht keine Abstreifblasen beobachtet werden.

Im folgenden Beispiel wird der Leim/Latex-Abstreifschicht zusätzlich noch eine nicht-extrahierbare Gelatine einverleibt.

Beispiel 2

Beispiel 1 wurde wiederholt, jedoch mit der Ausnahme, daß der aus 2 Gew.-Teilen Latex und 1 Gew.-Teil Leim gebildeten Abstreifschicht zusätzlich noch 1 Gew.-Teil nicht-extrahierbare Gelatine mit einem Trockengewicht von 10 I einverleibt wurde.

Der temporäre Filmträger ließ sich leicht abziehen, ohne daß eine Bildung von Abziehblasen in der Silber-Gelatineemulsionsschicht zu beobachten war. Die Rückstände der Leim/Latex-Abstreifschicht konnten von der Emulsionsschicht durch Waschen mit 40⁰C warmem Wasser leicht entfernt werden.

Das folgende Beispiel dient als Vergleichsbeispiel und soll die Schwierigkeiten veranschaulichen, welche bei Verwendung eines Filmes des beschriebenen Typs, jedoch ohne Leim/Latex-Abstreifschicht, auftreten. .

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Beispiel 3 (Vergleichsbeispiel)

Beispiel 2 wurde wiederholt, jedoch mit der Ausnahme, daß anstelle von Leim in der Abstreifschicht Knochengelatine verwendet wurde.

Nach dem Abstreifen des temporären Trägers wurde die an der Silber-Gelatineemulsionsschicht haftende Latexschicht mit Wasser einer Temperatur von 40⁰C gewaschen. Hierbei konnte beobachtet werden, daß die Latexrückstände auch nach dem Waschen mit Wasser noch an der Emulsionsschicht hafteten. Zur vollständigen Entfernung der Latexrückstände von der Gelatineresistschicht war ein organisches Lösungsmittel, wie beispielsweise vergällter Alkohol, erforderlich.

Bei eigenen Versuchen hat es sich jedoch als vorteilhafter erwiesen, das Verfahren nach Bloom zu modifizieren, indem anstelle der 6 2/3 gew.-!igen Gelatinekonzentration eine Gelatinekonzentration von 6,1 Gew.-% gewählt wurde. Dieses modifizierte Verfahren zur Bestimmung der Gelfestigkeit führt zu Werten, welche unter der Bezeichnung "Shoom-Gelfestigkeit" oder "Shöom-Härte" bekannt geworden sind. Dieses modifizierte Verfahren zur Bestimmung der Gelfestigkeit oder Härte der Gelatine wurde im vorliegenden Falle zur Definition der jeweiligen Gelatine verwendet.

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Mit Ausnahme der verschieden gewählten Gelkonzentrationen
unterscheidet sich das Bestimmungsverfahren nach Bloom vom Bestimmungsverfahren nach Shoom nicht. Sowohl die Bloom- als auch Shoom-Gelfestigkeit oder -härte werden in g angegeben, die das Gewicht bedeuten, welches zum Eindrücken des beschriebenen Kolbens in das Gel bis zu der beschriebenen Tiefe erforderlich ist.

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Claims

Patentansprüche

1) Atz-Resistfilm zur Erzeugung von Resistschichten auf Tiefdruckplatten, -zylindern und dgl., bestehend aus einem temporären Träger, einer darauf aufgetragenen Abstreifschicht sowie einer Ober dieser angeordneten, Härtungsmittel freien, lichtenpfindlichen Gelatine-Silberhalogeniiemulsionsschicht, dadurch gekennzeichnet, daß er eine Abstreifschicht aus einer Mischung eines Latex und eines Gelatineleiaes niederer Viskosität enthält.

2) Atz-Resistfilm nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Abstreifschicht zusätzlich Gelatine einer Viskosität von Über 9 cps und einer Shoom-Härte von größer als 150 enthält.

3) Atz-Resistfilm nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß er zwischen der Abstreifschicht und der lichtempfindlichen Schicht eine Gelatinezwischenschicht enthält.

4) Atz-Resistfiln nach Ansprüchen 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß er zwischen der Abstreifschicht und der lichtempfindlichen Schicht eine gelatinehaltige Antilichthof- schicht enthält.

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5. Ätz-Resistfilm nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß er in der Abstreifschicht einen Latex aus einem Alkylacrylat/Acrylnitril-Mischpolymerisat enthält.

6» Ätz-Resistfilm nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß er in der Abstreifschicht einen Latex aus einem Äthylacrylat/Acrylnitril-Mischpolymerisat enthält.

7. Ätz-Resistfilm nach Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeich- J net, daß sein temporärer Träger aus Cellulosetriacetat besteht.

8. Ätz-Resistfilm nach Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß er eine aus etwa 2 Gew.-Teilen Latex, etwa 1 Gew.-Teil Leim und etwa 1 Gew.-Teil Gelatine bestehende Abstreifschicht aufweist.

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