JP3362095B2 - 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、積層方法、積層基板及び硬化方法 - Google Patents
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、積層方法、積層基板及び硬化方法Info
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Landscapes
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成
物、これを用いた感光性エレメント、積層方法、積 層基
板及び硬化方法に関する。
物、これを用いた感光性エレメント、積層方法、積 層基
板及び硬化方法に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、印刷配線板の製造において、テン
ティング法とめっき法が広く使用されており、これらの
方法に使用されるレジストの材料として、感光性樹脂組
成物及び感光性フィルムが広く用いられている(特開昭
61−77844号公報、特開平5−273754号公
報等)。テンティング法は、チップ搭載のための銅スル
ーホールをレジストで保護し、エッチング、レジスト剥
離を経て、電気回路を形成させる方法であり、めっき法
は、電気めっきによってスルーホールに銅を析出させ、
半田めっきで保護し、レジスト剥離、エッチングを経て
電気回路を形成させる方法である。特に、テンティング
法は、めっき法と比較し、脱脂、基板洗浄、酸洗浄、活
性化等の諸工程がなく、レジストが強酸性又は強塩基性
の水溶液に直接接触しないため、プリント基板を製造す
る上で不必要なトラブルが避けられ、しかも工程が単純
であるとの利点を有し、工業上有用である。
ティング法とめっき法が広く使用されており、これらの
方法に使用されるレジストの材料として、感光性樹脂組
成物及び感光性フィルムが広く用いられている(特開昭
61−77844号公報、特開平5−273754号公
報等)。テンティング法は、チップ搭載のための銅スル
ーホールをレジストで保護し、エッチング、レジスト剥
離を経て、電気回路を形成させる方法であり、めっき法
は、電気めっきによってスルーホールに銅を析出させ、
半田めっきで保護し、レジスト剥離、エッチングを経て
電気回路を形成させる方法である。特に、テンティング
法は、めっき法と比較し、脱脂、基板洗浄、酸洗浄、活
性化等の諸工程がなく、レジストが強酸性又は強塩基性
の水溶液に直接接触しないため、プリント基板を製造す
る上で不必要なトラブルが避けられ、しかも工程が単純
であるとの利点を有し、工業上有用である。
【0003】テンティング法によって電気回路を形成さ
せる場合、感光性樹脂組成物及びそれを用いて得られる
レジストは、基板搬送時における機械的衝撃、現像時や
洗浄時のスプレー圧、洗浄後のエアー乾燥に耐えうる膜
強度と柔軟性を有することが要求される。しかしなが
ら、従来の感光性樹脂組成物及びそれを用いて得られる
レジストでは、充分な膜強度を有する反面、膜の伸びで
ある柔軟性が充分ではなく、機械的衝撃等により硬化膜
(レジスト)が破れるという問題があった。
せる場合、感光性樹脂組成物及びそれを用いて得られる
レジストは、基板搬送時における機械的衝撃、現像時や
洗浄時のスプレー圧、洗浄後のエアー乾燥に耐えうる膜
強度と柔軟性を有することが要求される。しかしなが
ら、従来の感光性樹脂組成物及びそれを用いて得られる
レジストでは、充分な膜強度を有する反面、膜の伸びで
ある柔軟性が充分ではなく、機械的衝撃等により硬化膜
(レジスト)が破れるという問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、膜強度及び
柔軟性に優れる硬化膜を得ることができる感光性樹脂組
成物を提供することを目的とする。別の本発明は、膜強
度及び柔軟性に優れる硬化膜を得ることができる感光性
エレメントを提供することを目的とする。
柔軟性に優れる硬化膜を得ることができる感光性樹脂組
成物を提供することを目的とする。別の本発明は、膜強
度及び柔軟性に優れる硬化膜を得ることができる感光性
エレメントを提供することを目的とする。
【0005】別の本発明は、膜強度及び柔軟性に優れる
硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物の層の積層
方法を提供することを目的とする。別の本発明は、膜強
度及び柔軟性に優れる硬化膜を得ることができる感光性
樹脂組成物の層が積層された積層基板を提供することを
目的とする。さらに別の本発明は、膜強度及び柔軟性に
優れる硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物の層
の硬化方法を提供することを目的とする。
硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物の層の積層
方法を提供することを目的とする。別の本発明は、膜強
度及び柔軟性に優れる硬化膜を得ることができる感光性
樹脂組成物の層が積層された積層基板を提供することを
目的とする。さらに別の本発明は、膜強度及び柔軟性に
優れる硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物の層
の硬化方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)(a
1)アクリル酸及びメタクリル酸から選択される少なく
とも1種類の化合物と (a2)一般式(I)
1)アクリル酸及びメタクリル酸から選択される少なく
とも1種類の化合物と (a2)一般式(I)
【化7】
(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2はアル
キル基を示す)で表されるアクリル酸又はメタクリル酸
のアルキルエステルを必須の共重合成分として得られる
重量平均分子量130,000〜200,000のビニ
ル系共重合体(A1)、 (B)分子中に少なくとも1個の不飽和結合を有する光
重合性化合物、 (C)一般式(II)
キル基を示す)で表されるアクリル酸又はメタクリル酸
のアルキルエステルを必須の共重合成分として得られる
重量平均分子量130,000〜200,000のビニ
ル系共重合体(A1)、 (B)分子中に少なくとも1個の不飽和結合を有する光
重合性化合物、 (C)一般式(II)
【化8】
(式中、R3は水素原子又はメチル基を示し、R4はアル
キル基を示し、Rは2価のアルキレン基を示し、nは3
〜20の整数であり、mは1〜3の整数である)で表さ
れるエチレン性不飽和化合物及び (D)光重合開始剤 を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。
キル基を示し、Rは2価のアルキレン基を示し、nは3
〜20の整数であり、mは1〜3の整数である)で表さ
れるエチレン性不飽和化合物及び (D)光重合開始剤 を含有してなる感光性樹脂組成物に関する。
【0007】本発明は、また、(A)成分が、さらに、
(a1)成分と(a2)成分を共重合成分として得られ
る重量平均分子量50,000〜120,000のビニ
ル系必須の共重合体(A2)を含有するものである前記
感光性樹脂組成物に関する。本発明は、また、(A)成
分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分の配合量
が、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の総量10
0重量部に対して、(A)成分が40〜80重量部、
(B)成分が10〜57重量部、(C)成分が3〜10
重量部及び(D)成分が0.1〜20重量部である前記
感光性樹脂組成物に関する。
(a1)成分と(a2)成分を共重合成分として得られ
る重量平均分子量50,000〜120,000のビニ
ル系必須の共重合体(A2)を含有するものである前記
感光性樹脂組成物に関する。本発明は、また、(A)成
分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分の配合量
が、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の総量10
0重量部に対して、(A)成分が40〜80重量部、
(B)成分が10〜57重量部、(C)成分が3〜10
重量部及び(D)成分が0.1〜20重量部である前記
感光性樹脂組成物に関する。
【0008】
【0009】
【0010】
【0011】
【0012】本発明は、また、上記本発明に係る感光性
樹脂組成物の層を支持体上に積層してなる感光性エレメ
ントに関する。
樹脂組成物の層を支持体上に積層してなる感光性エレメ
ントに関する。
【0013】本発明は、また、上記本発明に係る感光性
樹脂組成物の層を、基板上に、前記感光性樹脂組成物の
層が密着するようにして積層することを特徴とする感光
性樹脂組成物の層の積層方法に関する。本発明は、ま
た、上記本発明に係る感光性樹脂組成物の層を基板上に
積層してなる積層基板に関する。上記本発明に係る積層
方法により、基板上に感光性樹脂組成物の層を積層する
ことができる。本発明は、また、上記本発明に係る積層
基板を露光することを特徴とする感光性樹脂組成物の層
の硬化方法に関する。
樹脂組成物の層を、基板上に、前記感光性樹脂組成物の
層が密着するようにして積層することを特徴とする感光
性樹脂組成物の層の積層方法に関する。本発明は、ま
た、上記本発明に係る感光性樹脂組成物の層を基板上に
積層してなる積層基板に関する。上記本発明に係る積層
方法により、基板上に感光性樹脂組成物の層を積層する
ことができる。本発明は、また、上記本発明に係る積層
基板を露光することを特徴とする感光性樹脂組成物の層
の硬化方法に関する。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明における(A)成分は、
(a1)アクリル酸及びメタクリル酸から選択される少
なくとも1種類の化合物と (a2)一般式(I)
(a1)アクリル酸及びメタクリル酸から選択される少
なくとも1種類の化合物と (a2)一般式(I)
【化13】
(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2はアル
キル基を示す) で表されるアクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエス
テルを必須の共重合成分として得られる重量平均分子量
130,000〜200,000のビニル系共重合体
(A1)を必須成分とする。(A)成分中、この(A
1)の含有割合は10重量%以上であることが、硬化膜
の膜強度の点から好ましい。
キル基を示す) で表されるアクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエス
テルを必須の共重合成分として得られる重量平均分子量
130,000〜200,000のビニル系共重合体
(A1)を必須成分とする。(A)成分中、この(A
1)の含有割合は10重量%以上であることが、硬化膜
の膜強度の点から好ましい。
【0015】(a1)成分は、アクリル酸、メタクリル
酸又はこれらの混合物である。 (a2)成分の一般式(I)のR2のアルキル基として
は、例えば、炭素数1〜12のアルキル基(メチル基、
エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチ
ル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、
i−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n
−オクチル基、2−エチルヘキシル基等)が挙げられ
る。 (a2)成分の具体例としては、例えば、アクリル酸メ
チルエステル、メタクリル酸メチルエステル、アクリル
酸エチルエステル、メタクリル酸エチルエステル、アク
リル酸ブチルエステル、メタクリル酸ブチルエステル、
アクリル酸2−エチルヘキシルエステル、メタクリル酸
2−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。これらの
(a2)成分は、単独で又は2種類以上を組み合わせて
使用される。
酸又はこれらの混合物である。 (a2)成分の一般式(I)のR2のアルキル基として
は、例えば、炭素数1〜12のアルキル基(メチル基、
エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチ
ル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、
i−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n
−オクチル基、2−エチルヘキシル基等)が挙げられ
る。 (a2)成分の具体例としては、例えば、アクリル酸メ
チルエステル、メタクリル酸メチルエステル、アクリル
酸エチルエステル、メタクリル酸エチルエステル、アク
リル酸ブチルエステル、メタクリル酸ブチルエステル、
アクリル酸2−エチルヘキシルエステル、メタクリル酸
2−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。これらの
(a2)成分は、単独で又は2種類以上を組み合わせて
使用される。
【0016】前記ビニル系共重合体(A1)の共重合成
分としては、必須である(a1)成分及び(a2)成分
に加え、他のビニル系単量体(a3)を使用することも
できる。このような(a3)成分としては、例えば、ア
クリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、メタクリル
酸テトラヒドロフルフリルエステル、アクリル酸ジメチ
ルアミノエチルエステル、メタクリル酸ジメチルアミノ
エチルエステル、アクリル酸ジエチルアミノエチルエス
テル、メタクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、ア
クリル酸グリシジルエステル、メタクリル酸グリシジル
エステル、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレー
ト、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、
2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート
アクリルアミド、2,2,3,3−テトラフルオロプロ
ピルメタクリレートアクリルアミド、ジアセトンアクリ
ルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。
これらの(a3)成分は、単独で又は2種類以上を組み
合わせて使用される。
分としては、必須である(a1)成分及び(a2)成分
に加え、他のビニル系単量体(a3)を使用することも
できる。このような(a3)成分としては、例えば、ア
クリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、メタクリル
酸テトラヒドロフルフリルエステル、アクリル酸ジメチ
ルアミノエチルエステル、メタクリル酸ジメチルアミノ
エチルエステル、アクリル酸ジエチルアミノエチルエス
テル、メタクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、ア
クリル酸グリシジルエステル、メタクリル酸グリシジル
エステル、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレー
ト、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、
2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート
アクリルアミド、2,2,3,3−テトラフルオロプロ
ピルメタクリレートアクリルアミド、ジアセトンアクリ
ルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられる。
これらの(a3)成分は、単独で又は2種類以上を組み
合わせて使用される。
【0017】前記ビニル系共重合体(A1)は、(a
1)成分と(a2)成分(及び場合により(a3)成
分)を混合し、公知の重合法(溶液重合法等)に従って
合成することができる。 (a1)成分の配合割合は、共重合成分の総量の対して
20〜40重量%とすることが好ましく、25〜35重
量%とすることがより好ましく、25〜30重量%とす
ることがさらに好ましい。この割合が20重量%未満で
あると、解像度が劣る傾向があり、40重量%を超える
と、硬化膜の膜強度が劣る傾向がある。 (a2)成分の配合割合は、共重合成分の総量の対して
60〜80重量%とすることが好ましく、65〜75重
量%とすることがより好ましく、65〜70重量%とす
ることがさらに好ましい。この割合が60重量%未満で
あると、硬化膜の膜強度が劣る傾向があり、80重量%
を超えると、解像度が劣る傾向がある。 (a3)成分を配合する場合、その配合割合は、共重合
成分の総量の対して20重量%以下とすることが好まし
く、15重量%以下とすることがより好ましく、10重
量%以下とすることがさらに好ましい。この割合が20
重量%を超えると、硬化膜の膜強度が劣る傾向がある。
1)成分と(a2)成分(及び場合により(a3)成
分)を混合し、公知の重合法(溶液重合法等)に従って
合成することができる。 (a1)成分の配合割合は、共重合成分の総量の対して
20〜40重量%とすることが好ましく、25〜35重
量%とすることがより好ましく、25〜30重量%とす
ることがさらに好ましい。この割合が20重量%未満で
あると、解像度が劣る傾向があり、40重量%を超える
と、硬化膜の膜強度が劣る傾向がある。 (a2)成分の配合割合は、共重合成分の総量の対して
60〜80重量%とすることが好ましく、65〜75重
量%とすることがより好ましく、65〜70重量%とす
ることがさらに好ましい。この割合が60重量%未満で
あると、硬化膜の膜強度が劣る傾向があり、80重量%
を超えると、解像度が劣る傾向がある。 (a3)成分を配合する場合、その配合割合は、共重合
成分の総量の対して20重量%以下とすることが好まし
く、15重量%以下とすることがより好ましく、10重
量%以下とすることがさらに好ましい。この割合が20
重量%を超えると、硬化膜の膜強度が劣る傾向がある。
【0018】前記ビニル系共重合体(A1)の重量平均
分子量は、130,000〜200,000であり、1
30,000〜170,000とすることが好ましく、
130,000〜160,000とすることがさらに好
ましい。この重量平均分子量が130,000未満であ
ると、硬化膜の膜強度が劣る傾向があり、200,00
0を超えると、解像度が劣る傾向がある。なお、ここで
いう重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマト
グラフィー法により測定され、標準ポリスチレンを用い
て作成した検量線により換算された値である。
分子量は、130,000〜200,000であり、1
30,000〜170,000とすることが好ましく、
130,000〜160,000とすることがさらに好
ましい。この重量平均分子量が130,000未満であ
ると、硬化膜の膜強度が劣る傾向があり、200,00
0を超えると、解像度が劣る傾向がある。なお、ここで
いう重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマト
グラフィー法により測定され、標準ポリスチレンを用い
て作成した検量線により換算された値である。
【0019】(A)成分は、前記ビニル系共重合体(A
1)に加え、他のビニル系共重合体を含有するものであ
ってもよい。このような他のビニル系共重合体として
は、特に制限はないが、(a1)成分と(a2)成分を
必須の共重合成分として得られる重量平均分子量50,
000〜120,000のビニル系共重合体(A2)が
解像度の点から好ましい。前記ビニル系共重合体(A
2)は、前記(A1)成分と同様にし、(a1)成分と
(a2)成分(及び場合により(a3)成分)を混合し
て公知の重合法(溶液重合法等)に従って合成すること
ができ、その際、重合開始剤の使用量を、前記(A1)
成分の合成時の使用量より増大させることが好ましい。
(A1)成分に加え、前記ビニル系共重合体(A2)を
使用する場合、その配合量は、樹脂固形分として、
(A)成分の90重量%未満であることが好ましい。こ
の配合量が90重量%を超えると、硬化膜の膜強度が劣
る傾向がある。
1)に加え、他のビニル系共重合体を含有するものであ
ってもよい。このような他のビニル系共重合体として
は、特に制限はないが、(a1)成分と(a2)成分を
必須の共重合成分として得られる重量平均分子量50,
000〜120,000のビニル系共重合体(A2)が
解像度の点から好ましい。前記ビニル系共重合体(A
2)は、前記(A1)成分と同様にし、(a1)成分と
(a2)成分(及び場合により(a3)成分)を混合し
て公知の重合法(溶液重合法等)に従って合成すること
ができ、その際、重合開始剤の使用量を、前記(A1)
成分の合成時の使用量より増大させることが好ましい。
(A1)成分に加え、前記ビニル系共重合体(A2)を
使用する場合、その配合量は、樹脂固形分として、
(A)成分の90重量%未満であることが好ましい。こ
の配合量が90重量%を超えると、硬化膜の膜強度が劣
る傾向がある。
【0020】本発明における(B)分子中に少なくとも
1個の不飽和結合を有する光重合性化合物としては、例
えば、多価アルコールにα、β−不飽和カルボン酸を反
応させて得られる化合物、ビスフェノールAビス(ポリ
オキシエチレンアクリレート)、ビスフェノールAビス
(ポリオキシエチレンメタクリレート)、グリシジル基
含有化合物、多価カルボン酸と水酸基及びエチレン性不
飽和基を有する物質とのエステル化物、アクリル酸のア
ルキルエステル、メタクリル酸のアルキルエステル、ウ
レタンアクリレート、ウレタンメタクリレート等が挙げ
られる。
1個の不飽和結合を有する光重合性化合物としては、例
えば、多価アルコールにα、β−不飽和カルボン酸を反
応させて得られる化合物、ビスフェノールAビス(ポリ
オキシエチレンアクリレート)、ビスフェノールAビス
(ポリオキシエチレンメタクリレート)、グリシジル基
含有化合物、多価カルボン酸と水酸基及びエチレン性不
飽和基を有する物質とのエステル化物、アクリル酸のア
ルキルエステル、メタクリル酸のアルキルエステル、ウ
レタンアクリレート、ウレタンメタクリレート等が挙げ
られる。
【0021】多価アルコールとしては、例えば、エチレ
ン基の数が2〜14であるポリエチレングリコール、ト
リメチロールプロパン、トリメチロールプロパンプロポ
キシトリアクリレート、テトラメチロールメタン、プロ
ピレン基の数が2〜14であるポリプロピレングリコー
ル、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。α、β−
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸やメタ
クリル酸等が挙げられる。
ン基の数が2〜14であるポリエチレングリコール、ト
リメチロールプロパン、トリメチロールプロパンプロポ
キシトリアクリレート、テトラメチロールメタン、プロ
ピレン基の数が2〜14であるポリプロピレングリコー
ル、ジペンタエリスリトール等が挙げられる。α、β−
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸やメタ
クリル酸等が挙げられる。
【0022】多価アルコールにα、β−不飽和カルボン
酸を反応させて得られる化合物の具体例としては、例え
ば、エチレン基の数が2〜14であるポリエチレングリ
コールジアクリレート(テトラエチレングリコールジア
クリレート等)、エチレン基の数が2〜14であるポリ
エチレングリコールジメタクリレート(テトラエチレン
グリコールジメタクリレート等)、トリメチロールプロ
パンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチ
ロールプロパンエトキシトリアクリレート、トリメチロ
ールプロパンエトキシトリメタクリレート、トリメチロ
ールプロパンプロポキシトリアクリレート、トリメチロ
ールプロパンプロポキシトリメタクリレート、テトラメ
チロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメ
タントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタク
リレート、プロピレン基の数が2〜14であるポリプロ
ピレングリコールジアクリレート、プロピレン基の数が
2〜14であるポリプロピレングリコールジメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサメタクリレートなどが挙げられる。
酸を反応させて得られる化合物の具体例としては、例え
ば、エチレン基の数が2〜14であるポリエチレングリ
コールジアクリレート(テトラエチレングリコールジア
クリレート等)、エチレン基の数が2〜14であるポリ
エチレングリコールジメタクリレート(テトラエチレン
グリコールジメタクリレート等)、トリメチロールプロ
パンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチ
ロールプロパンエトキシトリアクリレート、トリメチロ
ールプロパンエトキシトリメタクリレート、トリメチロ
ールプロパンプロポキシトリアクリレート、トリメチロ
ールプロパンプロポキシトリメタクリレート、テトラメ
チロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメ
タントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテト
ラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタク
リレート、プロピレン基の数が2〜14であるポリプロ
ピレングリコールジアクリレート、プロピレン基の数が
2〜14であるポリプロピレングリコールジメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサメタクリレートなどが挙げられる。
【0023】ビスフェノールAビス(ポリオキシエチレ
ンアクリレート)、ビスフェノールAビス(ポリオキシ
エチレンメタクリレート)としては、例えば、ビスフェ
ノールAビス(ジオキシエチレンアクリレート)、ビス
フェノールAビス(ジオキシエチレンメタクリレー
ト)、ビスフェノールAビス(トリオキシエチレンアク
リレート)、ビスフェノールAビス(トリオキシエチレ
ンメタクリレート)、ビスフェノールAビス(テトラオ
キシエチレンアクリレート)、ビスフェノールAビス
(テトラオキシエチレンメタクリレート)、ビスフェノ
ールAビス(ペンタオキシエチレンアクリレート)、ビ
スフェノールAビス(ペンタオキシエチレンメタクリレ
ート)、ビスフェノールAビス(ヘキサオキシエチレン
アクリレート)、ビスフェノールAビス(ヘキサオキシ
エチレンメタクリレート)、ビスフェノールAビス(デ
カオキシエチレンアクリレート)、ビスフェノールAビ
ス(デカオキシエチレンメタクリレート)等が挙げられ
る。
ンアクリレート)、ビスフェノールAビス(ポリオキシ
エチレンメタクリレート)としては、例えば、ビスフェ
ノールAビス(ジオキシエチレンアクリレート)、ビス
フェノールAビス(ジオキシエチレンメタクリレー
ト)、ビスフェノールAビス(トリオキシエチレンアク
リレート)、ビスフェノールAビス(トリオキシエチレ
ンメタクリレート)、ビスフェノールAビス(テトラオ
キシエチレンアクリレート)、ビスフェノールAビス
(テトラオキシエチレンメタクリレート)、ビスフェノ
ールAビス(ペンタオキシエチレンアクリレート)、ビ
スフェノールAビス(ペンタオキシエチレンメタクリレ
ート)、ビスフェノールAビス(ヘキサオキシエチレン
アクリレート)、ビスフェノールAビス(ヘキサオキシ
エチレンメタクリレート)、ビスフェノールAビス(デ
カオキシエチレンアクリレート)、ビスフェノールAビ
ス(デカオキシエチレンメタクリレート)等が挙げられ
る。
【0024】グリシジル基含有化合物としては、例え
ば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルト
リアクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジ
ルエーテルトリメタクリレート、ビスフェノールAビス
(ジグリシジルエーテルアクリレート)、ビスフェノー
ルAビス(ジグリシジルエーテルメタクリレート)等が
挙げられる。
ば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルト
リアクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジ
ルエーテルトリメタクリレート、ビスフェノールAビス
(ジグリシジルエーテルアクリレート)、ビスフェノー
ルAビス(ジグリシジルエーテルメタクリレート)等が
挙げられる。
【0025】多価カルボン酸としては、例えば、フタル
酸、無水フタル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等が挙
げられる。水酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質
としては、例えば、β−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等が挙げられ
る。アクリル酸のアルキルエステルとしては、例えば、
アクリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステ
ル、アクリル酸ブチルエステル、アクリル酸2−エチル
ヘキシルエステル等が挙げられる。多価カルボン酸と水
酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質とのエステル
化物としては、例えば、δ−ヒドロキシエチル−β−ア
クリロイルオキシエチル−o−フタレートが挙げられ
る。メタクリル酸のアルキルエステルとしては、例え
ば、メタクリル酸メチルエステル、メタクリル酸エチル
エステル、メタクリル酸ブチルエステル、メタクリル酸
2−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
酸、無水フタル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等が挙
げられる。水酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質
としては、例えば、β−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等が挙げられ
る。アクリル酸のアルキルエステルとしては、例えば、
アクリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステ
ル、アクリル酸ブチルエステル、アクリル酸2−エチル
ヘキシルエステル等が挙げられる。多価カルボン酸と水
酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質とのエステル
化物としては、例えば、δ−ヒドロキシエチル−β−ア
クリロイルオキシエチル−o−フタレートが挙げられ
る。メタクリル酸のアルキルエステルとしては、例え
ば、メタクリル酸メチルエステル、メタクリル酸エチル
エステル、メタクリル酸ブチルエステル、メタクリル酸
2−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
【0026】ウレタンアクリレートとしては、例えば、
トリレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアク
リル酸エステルの反応物、トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネートとシクロヘキサンジメタノールと2−ヒ
ドロキシエチルアクリル酸エステルとの反応物等が挙げ
られる。ウレタンメタクリレートとしては、例えば、ト
リレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルメタク
リル酸エステルの反応物、トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネートとシクロヘキサンジメタノールと2−ヒ
ドロキシエチルメタクリル酸エステルとの反応物等が挙
げられる。前記(B)成分は、単独で又は2種類以上を
組み合わせて使用される。
トリレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアク
リル酸エステルの反応物、トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネートとシクロヘキサンジメタノールと2−ヒ
ドロキシエチルアクリル酸エステルとの反応物等が挙げ
られる。ウレタンメタクリレートとしては、例えば、ト
リレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルメタク
リル酸エステルの反応物、トリメチルヘキサメチレンジ
イソシアネートとシクロヘキサンジメタノールと2−ヒ
ドロキシエチルメタクリル酸エステルとの反応物等が挙
げられる。前記(B)成分は、単独で又は2種類以上を
組み合わせて使用される。
【0027】本発明における(C)成分は、一般式(I
I)
I)
【化14】
(式中、R3は水素原子又はメチル基を示し、R4はアル
キル基を示し、Rは2価のアルキレン基を示し、nは3
〜20の整数であり、mは1〜3の整数である)で表さ
れるエチレン性不飽和化合物である。
キル基を示し、Rは2価のアルキレン基を示し、nは3
〜20の整数であり、mは1〜3の整数である)で表さ
れるエチレン性不飽和化合物である。
【0028】一般式(II)のR4のアルキル基として
は、レジストの耐現像液性、銅基板への接着力及び現像
性の点から、炭素数4〜14のアルキル基(n−ブチル
基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、i
−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−
オクチル基、2−エチルヘキシル基等)が好ましい。R
4が炭素数3以下のアルキル基である場合、レジストの
耐現像液性と銅基板への接着力が低下する傾向があり、
炭素数15以上のアルキル基である場合、現像性が低下
する傾向がある。一般式(II)の中のベンゼン環の水素
は、ハロゲン(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)原子、窒
素原子含有基(イミノ基等)、アリール基(フェニル
基、トリル基等)等で置換されてもよい。
は、レジストの耐現像液性、銅基板への接着力及び現像
性の点から、炭素数4〜14のアルキル基(n−ブチル
基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、i
−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−
オクチル基、2−エチルヘキシル基等)が好ましい。R
4が炭素数3以下のアルキル基である場合、レジストの
耐現像液性と銅基板への接着力が低下する傾向があり、
炭素数15以上のアルキル基である場合、現像性が低下
する傾向がある。一般式(II)の中のベンゼン環の水素
は、ハロゲン(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)原子、窒
素原子含有基(イミノ基等)、アリール基(フェニル
基、トリル基等)等で置換されてもよい。
【0029】一般式(II)のRの2価のアルキレン基と
しては、例えば、炭素数2〜6のアルキレン基(エチレ
ン基、n−プロピレン基、i−プロピレン基、n−ブチ
レン基、i−ブチレン基、t−ブチレン基、n−ペンチ
レン基、i−ペンチレン基、n−ヘキシレン基等)が挙
げられる。一般式(II)のnは3〜20の整数であり、
レジストの柔軟性と耐現像液性のバランスの点から、4
〜16の整数であることが好ましい。nが2以下である
と、レジストの柔軟性が乏しくなり、21以上である
と、レジストの耐現像液性が低下する。
しては、例えば、炭素数2〜6のアルキレン基(エチレ
ン基、n−プロピレン基、i−プロピレン基、n−ブチ
レン基、i−ブチレン基、t−ブチレン基、n−ペンチ
レン基、i−ペンチレン基、n−ヘキシレン基等)が挙
げられる。一般式(II)のnは3〜20の整数であり、
レジストの柔軟性と耐現像液性のバランスの点から、4
〜16の整数であることが好ましい。nが2以下である
と、レジストの柔軟性が乏しくなり、21以上である
と、レジストの耐現像液性が低下する。
【0030】一般式(II)のmは0〜3の整数であり、
mが4以上であると、現像性が低下する。入手容易性の
点から、mは1〜3であることが好ましい。(C)成分
の具体例としては、例えば、ノニルフェニルテトラエチ
レングリコールメタクリレート(m=1、n=4、R3
=H、R=エチレン基、R4=ノニル基)、ブチルフェ
ニルペンタエチレングリコールアクリレート(m=1、
n=5、R3=H、R=エチレン基、R4=ブチル基)等
が挙げられる。前記(C)成分は、単独で又は2種類以
上を組み合わせて使用される。
mが4以上であると、現像性が低下する。入手容易性の
点から、mは1〜3であることが好ましい。(C)成分
の具体例としては、例えば、ノニルフェニルテトラエチ
レングリコールメタクリレート(m=1、n=4、R3
=H、R=エチレン基、R4=ノニル基)、ブチルフェ
ニルペンタエチレングリコールアクリレート(m=1、
n=5、R3=H、R=エチレン基、R4=ブチル基)等
が挙げられる。前記(C)成分は、単独で又は2種類以
上を組み合わせて使用される。
【0031】本発明における(D)光重合開始剤は、特
に限定されるものではなく、例えば、2,2′−ビス
(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラ
フェニル−1,2′−ビイミダゾール、ベンゾフェノ
ン、2−エチルアントラキノン、9,10−フェナンス
レンキノン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ペンタ
ン等が挙げられる。前記(D)成分は、単独で又は2種
類以上を組み合わせて使用される。
に限定されるものではなく、例えば、2,2′−ビス
(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラ
フェニル−1,2′−ビイミダゾール、ベンゾフェノ
ン、2−エチルアントラキノン、9,10−フェナンス
レンキノン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ペンタ
ン等が挙げられる。前記(D)成分は、単独で又は2種
類以上を組み合わせて使用される。
【0032】本発明における(A)成分の配合量は、膜
強度及び感度のバランスの点から、(A)成分、(B)
成分及び(C)成分の総量100重量部に対して、樹脂
固形分として40〜80重量部とすることが好ましく、
50〜65重量部とすることがより好ましく、50〜6
0重量部とすることがさらに好ましい。この配合量が4
0重量部未満であると、光硬化物が脆くなり易い傾向が
あり、そのため得られるレジストの膜強度が劣る傾向が
ある。一方、この配合量が80重量部を超えると、感度
が不充分となる傾向がある。
強度及び感度のバランスの点から、(A)成分、(B)
成分及び(C)成分の総量100重量部に対して、樹脂
固形分として40〜80重量部とすることが好ましく、
50〜65重量部とすることがより好ましく、50〜6
0重量部とすることがさらに好ましい。この配合量が4
0重量部未満であると、光硬化物が脆くなり易い傾向が
あり、そのため得られるレジストの膜強度が劣る傾向が
ある。一方、この配合量が80重量部を超えると、感度
が不充分となる傾向がある。
【0033】本発明における(B)成分の配合量は、感
度及び膜強度のバランスの点から、(A)成分、(B)
成分及び(C)成分の総量100重量部に対して、10
〜57重量部とすることが好ましく、25〜45重量部
とすることがより好ましく、25〜40重量部とするこ
とがさらに好ましい。この配合量が10重量部未満であ
ると、感度が不充分となる傾向があり、一方、この配合
量が57重量部を超えると、光硬化物が脆くなり易い傾
向があり、そのため得られるレジストの膜強度が劣る傾
向がある。
度及び膜強度のバランスの点から、(A)成分、(B)
成分及び(C)成分の総量100重量部に対して、10
〜57重量部とすることが好ましく、25〜45重量部
とすることがより好ましく、25〜40重量部とするこ
とがさらに好ましい。この配合量が10重量部未満であ
ると、感度が不充分となる傾向があり、一方、この配合
量が57重量部を超えると、光硬化物が脆くなり易い傾
向があり、そのため得られるレジストの膜強度が劣る傾
向がある。
【0034】本発明における(C)成分の配合量は、レ
ジストの柔軟性及び膜強度のバランスの点から、(A)
成分、(B)成分及び(C)成分の総量100重量部に
対して、3〜10重量部とすることが好ましく、4〜1
0重量部とすることがより好ましく、5〜10重量部と
することがさらに好ましい。この配合量が3重量部未満
であると、レジストの柔軟性が乏しくなる傾向があり、
一方、この配合量が10重量部を超えると、架橋密度が
低下し、レジストの膜強度が劣る傾向がある。
ジストの柔軟性及び膜強度のバランスの点から、(A)
成分、(B)成分及び(C)成分の総量100重量部に
対して、3〜10重量部とすることが好ましく、4〜1
0重量部とすることがより好ましく、5〜10重量部と
することがさらに好ましい。この配合量が3重量部未満
であると、レジストの柔軟性が乏しくなる傾向があり、
一方、この配合量が10重量部を超えると、架橋密度が
低下し、レジストの膜強度が劣る傾向がある。
【0035】本発明における(D)成分の配合量は、感
度の点から、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の
総量100重量部に対して、0.1〜20重量部とする
ことが好ましく、0.15〜10重量部とすることがよ
り好ましく、0.2〜7重量部とすることがさらに好ま
しい。この配合量が0.1重量部未満であると、感度が
低くなる傾向があり、一方、この配合量が20重量部を
超えると、解像度が劣る傾向がある。
度の点から、(A)成分、(B)成分及び(C)成分の
総量100重量部に対して、0.1〜20重量部とする
ことが好ましく、0.15〜10重量部とすることがよ
り好ましく、0.2〜7重量部とすることがさらに好ま
しい。この配合量が0.1重量部未満であると、感度が
低くなる傾向があり、一方、この配合量が20重量部を
超えると、解像度が劣る傾向がある。
【0036】本発明の感光性樹脂組成物には、上記
(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分以
外に、必要に応じて、染料、顔料、発色剤、可塑剤、安
定剤、密着性付与剤等の添加剤を含有させてもよい。染
料、顔料、発色剤としては、例えば、ロイコクリスタル
バイオレット、マカライトグリーン等が挙げられる。可
塑剤としては、例えば、p−トルエンスルホン酸アミド
等が挙げられる。安定剤としては、例えば、アンテージ
500(川口化学工業(株)製、商品名)等が挙げられ
る。密着性付与剤としては、例えば、ベンゾトリアゾー
ル等が挙げられる。
(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分以
外に、必要に応じて、染料、顔料、発色剤、可塑剤、安
定剤、密着性付与剤等の添加剤を含有させてもよい。染
料、顔料、発色剤としては、例えば、ロイコクリスタル
バイオレット、マカライトグリーン等が挙げられる。可
塑剤としては、例えば、p−トルエンスルホン酸アミド
等が挙げられる。安定剤としては、例えば、アンテージ
500(川口化学工業(株)製、商品名)等が挙げられ
る。密着性付与剤としては、例えば、ベンゾトリアゾー
ル等が挙げられる。
【0037】本発明の感光性エレメントは、例えば、上
記本発明の感光性樹脂組成物を有機溶剤に溶解させ、支
持体上に塗布し、乾燥させることによって作製すること
ができる。有機溶剤としては、例えば、トルエン、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロホルム、
塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、メチルグリコー
ル、エチルグリコール、プロピレングリコール、モノメ
チルエーテル等が挙げられ、これらは、単独で又は2種
類以上を組み合わせて使用される。
記本発明の感光性樹脂組成物を有機溶剤に溶解させ、支
持体上に塗布し、乾燥させることによって作製すること
ができる。有機溶剤としては、例えば、トルエン、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロホルム、
塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、メチルグリコー
ル、エチルグリコール、プロピレングリコール、モノメ
チルエーテル等が挙げられ、これらは、単独で又は2種
類以上を組み合わせて使用される。
【0038】支持体としては、感光性エレメントの製造
時に必要な耐熱性、耐溶剤性を有しているものであれば
特に限定されず、例えば、重合体フィルム(ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、
ポリエチレンフィルム、オーリエステルフィルム等)が
挙げられ、これらの重合体フィルムの中では、透明性の
点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好まし
い。これらの重合体フィルムの厚さは、強靱性と可とう
性のバランスの点から、5〜100μmとすることが好
ましく、10〜30μmとすることがより好ましい。な
お、これらの重合体フィルムは、後の工程で感光層(感
光性樹脂組成物層)から除去可能でなくてはならないた
め、使用される重合体フィルムは、除去が不可能となる
ような材質であったり、表面処理が施されていないこと
が必要である。
時に必要な耐熱性、耐溶剤性を有しているものであれば
特に限定されず、例えば、重合体フィルム(ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、
ポリエチレンフィルム、オーリエステルフィルム等)が
挙げられ、これらの重合体フィルムの中では、透明性の
点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好まし
い。これらの重合体フィルムの厚さは、強靱性と可とう
性のバランスの点から、5〜100μmとすることが好
ましく、10〜30μmとすることがより好ましい。な
お、これらの重合体フィルムは、後の工程で感光層(感
光性樹脂組成物層)から除去可能でなくてはならないた
め、使用される重合体フィルムは、除去が不可能となる
ような材質であったり、表面処理が施されていないこと
が必要である。
【0039】塗布方法としては、特に制限はなく、例え
ば、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート
法等が挙げられる。乾燥は、例えば、支持体上への塗布
操作の後、乾燥機を用いて加熱することによって行うこ
とができる。加熱温度は、50〜175℃とすることが
好ましく、70〜110℃とすることがより好ましい。
加熱温度が50℃未満であると、感光層の中に多量の有
機溶剤が残存する傾向にあり、175℃を超えると、感
光層が変色する傾向にある。加熱時間は、30〜900
秒とすることが好ましく、30〜600秒とすることが
より好ましい。加熱時間が30秒未満であると、感光層
の中に有機溶剤が残存する傾向にあり、900秒を超え
ると、感光層が変色する傾向にある。
ば、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート
法等が挙げられる。乾燥は、例えば、支持体上への塗布
操作の後、乾燥機を用いて加熱することによって行うこ
とができる。加熱温度は、50〜175℃とすることが
好ましく、70〜110℃とすることがより好ましい。
加熱温度が50℃未満であると、感光層の中に多量の有
機溶剤が残存する傾向にあり、175℃を超えると、感
光層が変色する傾向にある。加熱時間は、30〜900
秒とすることが好ましく、30〜600秒とすることが
より好ましい。加熱時間が30秒未満であると、感光層
の中に有機溶剤が残存する傾向にあり、900秒を超え
ると、感光層が変色する傾向にある。
【0040】感光層の厚さは、用途により適宜選択され
るが、乾燥後の厚さで、通常、10〜100μm程度と
される。また、感光層中の残存有機溶剤量は、後の工程
での有機溶剤の拡散を防止する点から、1重量%以下で
あることが好ましい。
るが、乾燥後の厚さで、通常、10〜100μm程度と
される。また、感光層中の残存有機溶剤量は、後の工程
での有機溶剤の拡散を防止する点から、1重量%以下で
あることが好ましい。
【0041】本発明の感光性エレメントは、支持体上の
感光層に対する外部からの損傷や異物の付着等を防止す
るため、感光層が保護フィルム等で被覆されてものであ
ることが好ましい。保護フィルムとしては、感光層と支
持体との接着力よりも、感光層と保護フィルムとの接着
力のほうが小さいものであれば特に限定はなく、例え
ば、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレンフィルム、
ポリプロピレンフィルム等)、ポリエステルフィルムな
どが挙げられる。
感光層に対する外部からの損傷や異物の付着等を防止す
るため、感光層が保護フィルム等で被覆されてものであ
ることが好ましい。保護フィルムとしては、感光層と支
持体との接着力よりも、感光層と保護フィルムとの接着
力のほうが小さいものであれば特に限定はなく、例え
ば、ポリオレフィンフィルム(ポリエチレンフィルム、
ポリプロピレンフィルム等)、ポリエステルフィルムな
どが挙げられる。
【0042】本発明の感光性エレメントを、保護フィル
ムが存在する場合はその除去後、感光層を加熱しながら
基板に圧着させることにより、本発明の感光性樹脂組成
物を基板に積層することができる。基板としては、例え
ば、銅基板、ニッケル基板、クロム基板等が挙げられ
る。感光層の加熱、圧着は、通常、90〜130℃、圧
着圧力3kgf/cm2で行われるが、これらの条件に特に制
限はない。感光層を前記のように加熱すれば、予め基板
を予熱処理することは必要でないが、積層性をさらに向
上させるために、基板を予熱処理することが好ましい。
ムが存在する場合はその除去後、感光層を加熱しながら
基板に圧着させることにより、本発明の感光性樹脂組成
物を基板に積層することができる。基板としては、例え
ば、銅基板、ニッケル基板、クロム基板等が挙げられ
る。感光層の加熱、圧着は、通常、90〜130℃、圧
着圧力3kgf/cm2で行われるが、これらの条件に特に制
限はない。感光層を前記のように加熱すれば、予め基板
を予熱処理することは必要でないが、積層性をさらに向
上させるために、基板を予熱処理することが好ましい。
【0043】また、本発明の感光性樹脂組成物を、有機
溶剤に溶解させ、液状レジストとして、直接、基板に塗
布し、乾燥させることにより、本発明の感光性樹脂組成
物を基板に積層させることもできる。有機溶剤として
は、上記感光性エレメント作製時に使用される有機溶剤
等が挙げられる。基板としては、上記感光性エレメント
を使用するときと同様の基板等が挙げられる。
溶剤に溶解させ、液状レジストとして、直接、基板に塗
布し、乾燥させることにより、本発明の感光性樹脂組成
物を基板に積層させることもできる。有機溶剤として
は、上記感光性エレメント作製時に使用される有機溶剤
等が挙げられる。基板としては、上記感光性エレメント
を使用するときと同様の基板等が挙げられる。
【0044】塗布方法としては、特に制限はなく、公知
の方法が使用でき、例えば、ディップコート法、フロー
コート法等が挙げられる。乾燥は、例えば、基板上への
塗布操作の後、乾燥機を用いて加熱することによって行
うことができる。加熱温度及び時間は、例えば、上記支
持体上への塗布操作の後の乾燥操作での加熱温度及び時
間に従うことができる。また、感光層の厚さや感光層中
の残存有機溶剤量も、上記感光性エレメント作製時の感
光層の厚さや感光層中の残存有機溶剤量に従うことがで
きる。さらに、得られた感光層には、上記感光性エレメ
ント作製の場合と同様に、感光層を保護フィルム等で被
覆することが好ましい。
の方法が使用でき、例えば、ディップコート法、フロー
コート法等が挙げられる。乾燥は、例えば、基板上への
塗布操作の後、乾燥機を用いて加熱することによって行
うことができる。加熱温度及び時間は、例えば、上記支
持体上への塗布操作の後の乾燥操作での加熱温度及び時
間に従うことができる。また、感光層の厚さや感光層中
の残存有機溶剤量も、上記感光性エレメント作製時の感
光層の厚さや感光層中の残存有機溶剤量に従うことがで
きる。さらに、得られた感光層には、上記感光性エレメ
ント作製の場合と同様に、感光層を保護フィルム等で被
覆することが好ましい。
【0045】基板に積層された感光層は、ネガフィルム
又はポジフィルムを通して活性光線で画像的に露光され
る。その際、感光層上に存在する支持体が透明である場
合は、そのまま露光してもよいが、不透明である場合
は、露光前に支持体を除去することが必要である。な
お、感光層の保護という点からは、支持体は透明で、こ
の支持体を残存させたまま、それを通して感光層を露光
させることが好ましい。
又はポジフィルムを通して活性光線で画像的に露光され
る。その際、感光層上に存在する支持体が透明である場
合は、そのまま露光してもよいが、不透明である場合
は、露光前に支持体を除去することが必要である。な
お、感光層の保護という点からは、支持体は透明で、こ
の支持体を残存させたまま、それを通して感光層を露光
させることが好ましい。
【0046】活性光線としては公知の活性光線が利用で
き、通常、波長300〜450nmの光が使用される。光
源としては、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等が使用される。な
お、感光層に含まれる光重合開始剤の感受性は、通常、
紫外線領域において最大であるので、紫外線領域におい
て感受性の高い光重合開始剤を用いる場合は、活性光源
としては紫外線を有効に放射するものであることが好ま
しい。
き、通常、波長300〜450nmの光が使用される。光
源としては、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等が使用される。な
お、感光層に含まれる光重合開始剤の感受性は、通常、
紫外線領域において最大であるので、紫外線領域におい
て感受性の高い光重合開始剤を用いる場合は、活性光源
としては紫外線を有効に放射するものであることが好ま
しい。
【0047】露光後、感光層上に支持体が存在している
場合には、これを除去した後、現像する。現像液として
は、安全かつ安定であり、操作性が良好なものであれば
特に限定はないが、環境への影響が少ない点から、アル
カリ水溶液を使用することが好ましい。
場合には、これを除去した後、現像する。現像液として
は、安全かつ安定であり、操作性が良好なものであれば
特に限定はないが、環境への影響が少ない点から、アル
カリ水溶液を使用することが好ましい。
【0048】アルカリ性水溶液の塩基としては、例え
ば、水酸化アルカリ(リチウムの水酸化物、ナトリウム
の水酸化物、カリウムの水酸化物等)、炭酸アルカリ
(リチウムの炭酸塩又は重炭酸塩、ナトリウムの炭酸塩
又は重炭酸塩、カリウムの炭酸塩又は重炭酸塩等)、ア
ルカリ金属リン酸塩(リン酸カリウム、リン酸ナトリウ
ム等)、アルカリ金属ピロリン酸塩(ピロリン酸ナトリ
ウム、ピロリン酸カリウム等)などが用いられ、炭酸ナ
トリウムが好ましい。アルカリ水溶液のpHは、未露光部
の感光層が除去され、露光部の感光層がレジストとして
基板上に残る適切なpHの範囲とする必要があることか
ら、9〜11とすることが好ましく、また、その温度
は、感光層の現像性に合わせて調節される。また、アル
カリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進さ
せるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
ば、水酸化アルカリ(リチウムの水酸化物、ナトリウム
の水酸化物、カリウムの水酸化物等)、炭酸アルカリ
(リチウムの炭酸塩又は重炭酸塩、ナトリウムの炭酸塩
又は重炭酸塩、カリウムの炭酸塩又は重炭酸塩等)、ア
ルカリ金属リン酸塩(リン酸カリウム、リン酸ナトリウ
ム等)、アルカリ金属ピロリン酸塩(ピロリン酸ナトリ
ウム、ピロリン酸カリウム等)などが用いられ、炭酸ナ
トリウムが好ましい。アルカリ水溶液のpHは、未露光部
の感光層が除去され、露光部の感光層がレジストとして
基板上に残る適切なpHの範囲とする必要があることか
ら、9〜11とすることが好ましく、また、その温度
は、感光層の現像性に合わせて調節される。また、アル
カリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進さ
せるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
【0049】現像方法は、特に限定されるものではな
く、公知の現像方法が使用できる。このような現像方法
としては、例えば、ディップ方式、パドル方式、高圧ス
プレー方式、ブラッシング、スクラッピング等が挙げら
れるが、解像度が高くなるという点から、高圧スプレー
方式が好ましい。この現像操作により、未露光部の感光
層が除去され、露光部の感光層がレジストとして基板上
に残る。
く、公知の現像方法が使用できる。このような現像方法
としては、例えば、ディップ方式、パドル方式、高圧ス
プレー方式、ブラッシング、スクラッピング等が挙げら
れるが、解像度が高くなるという点から、高圧スプレー
方式が好ましい。この現像操作により、未露光部の感光
層が除去され、露光部の感光層がレジストとして基板上
に残る。
【0050】さらに、印刷配線板を製造する場合は、現
像後、エッチング、めっき等の公知方法で処理する。め
っき法としては、例えば、銅めっき(硫酸銅めっき、ピ
ロリン酸銅めっき等)、はんだめっき(ハイスローはん
だめっき等)、ニッケルめっき(ワット浴(硫酸ニッケ
ル−塩化ニッケル)めっき、スルファミン酸ニッケルめ
っき等)、金めっき(ハード金めっき、ソフト金めっき
等)などが挙げられる。次いで、レジストが残る基板か
らレジストを剥離させる。レジストを剥離させるために
は、例えば、この基板を、現像に用いたアルカリ水溶液
よりさらに強アルカリ性の水溶液中に浸漬させればよ
い。このような強アルカリ性の水溶液としては、例え
ば、1〜5重量%の水酸化ナトリウム水溶液等が挙げら
れる。
像後、エッチング、めっき等の公知方法で処理する。め
っき法としては、例えば、銅めっき(硫酸銅めっき、ピ
ロリン酸銅めっき等)、はんだめっき(ハイスローはん
だめっき等)、ニッケルめっき(ワット浴(硫酸ニッケ
ル−塩化ニッケル)めっき、スルファミン酸ニッケルめ
っき等)、金めっき(ハード金めっき、ソフト金めっき
等)などが挙げられる。次いで、レジストが残る基板か
らレジストを剥離させる。レジストを剥離させるために
は、例えば、この基板を、現像に用いたアルカリ水溶液
よりさらに強アルカリ性の水溶液中に浸漬させればよ
い。このような強アルカリ性の水溶液としては、例え
ば、1〜5重量%の水酸化ナトリウム水溶液等が挙げら
れる。
【0051】
【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1〜2及び比較例1〜2
表1に示す材料((A)成分)を配合し、溶液を得た。
【0052】
【表1】
【0053】得られた溶液に、表2に示す材料((B)
成分、(C)成分、(D)成分、添加剤及び有機溶剤)
を配合し、感光性樹脂組成物の溶液を得た。
成分、(C)成分、(D)成分、添加剤及び有機溶剤)
を配合し、感光性樹脂組成物の溶液を得た。
【0054】
【表2】
【0055】次いで、この感光性樹脂組成物の溶液を2
5μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均
一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾
燥して感光性エレメントを得た。感光性樹脂組成物層の
乾燥後の膜厚は40μmであった。次いで、塗面を保護
フィルム(25μm厚のポリエチレンフィルム)で被覆
した。
5μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均
一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾
燥して感光性エレメントを得た。感光性樹脂組成物層の
乾燥後の膜厚は40μmであった。次いで、塗面を保護
フィルム(25μm厚のポリエチレンフィルム)で被覆
した。
【0056】評価
(1)引張試験
(株)オーク製作所製露光機(型式HMW−201B、3
kW超高圧水銀灯)を用い、70mJ/cm2のエネルギー量で
上記感光性エレメントを露光した。露光後、ポリエチレ
ンフィルムを除去し、硬化膜を得た。得られた硬化膜に
ついて、JIS K7127に準じて引張試験を行っ
た。即ち、全長100mm、幅20mmの試験片を作製し、
標線間距離10±1mm、つかみ具間距離30±1mm、引
張速度2±0.4mm/分の条件で引張り、引張強度(g・
f)及び引張伸び率(%)を測定した。結果を表3に示
す。
kW超高圧水銀灯)を用い、70mJ/cm2のエネルギー量で
上記感光性エレメントを露光した。露光後、ポリエチレ
ンフィルムを除去し、硬化膜を得た。得られた硬化膜に
ついて、JIS K7127に準じて引張試験を行っ
た。即ち、全長100mm、幅20mmの試験片を作製し、
標線間距離10±1mm、つかみ具間距離30±1mm、引
張速度2±0.4mm/分の条件で引張り、引張強度(g・
f)及び引張伸び率(%)を測定した。結果を表3に示
す。
【0057】(2)テント破れ性
試験基板として、長径15mm、短径5mmの銅めっきされ
た楕円形のスルーホールを有する基板を用い、この銅表
面を#600相当のブラシを持つ研磨機(三啓社製)を
用いて研磨し、水洗後、空気流で乾燥させ、得られた基
板を80℃に加温し、その両面に前記感光性エレメント
の感光性樹脂組成物層を110℃、4kg・f/cm2で積層し
た。積層後、基板を23℃、1日放置し、(株)オーク製
作所製露光機(型式HMW−201GX、3kW超高圧水
銀灯)を用い、ストーファーの21段ステップタブレッ
トの現像後の残存ステップ段数が7となるエネルギー量
で露光を行った。露光後、室温で15分間放置し、続い
てポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし、30
℃、1.0重量%の炭酸ナトリウム水溶液をスプレーす
ることにより現像した。現像後のスルーホール上のテン
ティング膜の破壊状態を目視で観察し、テント破れ率
(%)を測定した。結果を表3に示す。
た楕円形のスルーホールを有する基板を用い、この銅表
面を#600相当のブラシを持つ研磨機(三啓社製)を
用いて研磨し、水洗後、空気流で乾燥させ、得られた基
板を80℃に加温し、その両面に前記感光性エレメント
の感光性樹脂組成物層を110℃、4kg・f/cm2で積層し
た。積層後、基板を23℃、1日放置し、(株)オーク製
作所製露光機(型式HMW−201GX、3kW超高圧水
銀灯)を用い、ストーファーの21段ステップタブレッ
トの現像後の残存ステップ段数が7となるエネルギー量
で露光を行った。露光後、室温で15分間放置し、続い
てポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし、30
℃、1.0重量%の炭酸ナトリウム水溶液をスプレーす
ることにより現像した。現像後のスルーホール上のテン
ティング膜の破壊状態を目視で観察し、テント破れ率
(%)を測定した。結果を表3に示す。
【0058】(3)テント強度
試験基板として、直径3.2mmの銅めっきされた丸穴の
スルーホールを有する基板を用い、ストーファーの21
段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が9
となるエネルギー量で露光する以外は前記(2)と同様
にし、スルーホール上にテンティング膜を有する基板を
得た。直径2.0mmの棒を挿入速度2.0cm/分でテン
ティング膜の上部から挿入し、テンティング膜が破れる
直前におけるテント強度(g・f)及び膜の伸び(mm)を
測定した。結果を表3に示す。
スルーホールを有する基板を用い、ストーファーの21
段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が9
となるエネルギー量で露光する以外は前記(2)と同様
にし、スルーホール上にテンティング膜を有する基板を
得た。直径2.0mmの棒を挿入速度2.0cm/分でテン
ティング膜の上部から挿入し、テンティング膜が破れる
直前におけるテント強度(g・f)及び膜の伸び(mm)を
測定した。結果を表3に示す。
【0059】
【表3】
【0060】表3から明らかなように、比較例1及び2
の感光性樹脂組成物から得られた硬化膜の引張強度は1
400(g・f)以下と弱く、引張伸び率も150(%)
以下と小さく、膜強度及び柔軟性に劣っていた。また、
比較例1の感光性樹脂組成物から得られたテンティング
膜のテント破れ率は100(%)であり、テント破れ性
が極めて高かった。さらに、比較例1及び2の感光性樹
脂組成物から得られたテンティング膜の膜強度は620
(g・f)以下と弱く、膜の伸びも1.1(mm)以下と小
さく、膜強度及び柔軟性に劣っていた。
の感光性樹脂組成物から得られた硬化膜の引張強度は1
400(g・f)以下と弱く、引張伸び率も150(%)
以下と小さく、膜強度及び柔軟性に劣っていた。また、
比較例1の感光性樹脂組成物から得られたテンティング
膜のテント破れ率は100(%)であり、テント破れ性
が極めて高かった。さらに、比較例1及び2の感光性樹
脂組成物から得られたテンティング膜の膜強度は620
(g・f)以下と弱く、膜の伸びも1.1(mm)以下と小
さく、膜強度及び柔軟性に劣っていた。
【0061】これに対し、表3から明らかなように、実
施例1及び2の感光性樹脂組成物から得られた硬化膜の
引張強度は1500(g・f)と強く、引張伸び率も16
0(%)以上と大きく、膜強度及び柔軟性に優れてい
た。また、実施例1の感光性樹脂組成物から得られたテ
ンティング膜のテント破れ率は0(%)であり、テント
破れ性がなかった。さらに、実施例1の感光性樹脂組成
物から得られたテンティング膜の膜強度は650(g・
f)と強く、膜の伸びも1.4(mm)と大きく、膜強度
及び柔軟性に優れていた。
施例1及び2の感光性樹脂組成物から得られた硬化膜の
引張強度は1500(g・f)と強く、引張伸び率も16
0(%)以上と大きく、膜強度及び柔軟性に優れてい
た。また、実施例1の感光性樹脂組成物から得られたテ
ンティング膜のテント破れ率は0(%)であり、テント
破れ性がなかった。さらに、実施例1の感光性樹脂組成
物から得られたテンティング膜の膜強度は650(g・
f)と強く、膜の伸びも1.4(mm)と大きく、膜強度
及び柔軟性に優れていた。
【0062】このように、本発明の感光性樹脂組成物
は、膜強度及び柔軟性に優れた硬化膜を与えることがで
きる。そして、膜強度及び柔軟性に優れた硬化膜は耐衝
撃性に優れることから、本発明の感光性樹脂組成物は耐
衝撃性に優れる硬化膜を与えることもできる。
は、膜強度及び柔軟性に優れた硬化膜を与えることがで
きる。そして、膜強度及び柔軟性に優れた硬化膜は耐衝
撃性に優れることから、本発明の感光性樹脂組成物は耐
衝撃性に優れる硬化膜を与えることもできる。
【0063】
【発明の効果】請求項1記載の発明は、膜強度及び柔軟
性に優れる硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物
を提供するものである。請求項2記載の本発明によれ
ば、請求項1記載の発明の効果に加え、解像度に優れる
感光性樹脂組成物を提供することができる。請求項3記
載の発明によれば、請求項1又は2に記載の発明の効果
に加え、膜強度により優れる感光性樹脂組成物を提供す
ることができる。
性に優れる硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物
を提供するものである。請求項2記載の本発明によれ
ば、請求項1記載の発明の効果に加え、解像度に優れる
感光性樹脂組成物を提供することができる。請求項3記
載の発明によれば、請求項1又は2に記載の発明の効果
に加え、膜強度により優れる感光性樹脂組成物を提供す
ることができる。
【0064】請求項4記載の発明は、膜強度及び柔軟性
に優れる硬化膜を得ることができる感光性エレメントを
提供するものである。請求項5記載の発明は、膜強度及
び柔軟性に優れる硬化膜を得ることができる感光性樹脂
組成物の層の積層方法を提供するものである。請求項6
記載の発明は、膜強度及び柔軟性に優れる硬化膜を得る
ことができる感光性樹脂組成物の層が積層された積層基
板を提供するものである。請求項7記載の発明は、膜強
度及び柔軟性に優れる硬化膜を得ることができる感光性
樹脂組成物の層の硬化方法を提供するものである。
に優れる硬化膜を得ることができる感光性エレメントを
提供するものである。請求項5記載の発明は、膜強度及
び柔軟性に優れる硬化膜を得ることができる感光性樹脂
組成物の層の積層方法を提供するものである。請求項6
記載の発明は、膜強度及び柔軟性に優れる硬化膜を得る
ことができる感光性樹脂組成物の層が積層された積層基
板を提供するものである。請求項7記載の発明は、膜強
度及び柔軟性に優れる硬化膜を得ることができる感光性
樹脂組成物の層の硬化方法を提供するものである。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 鎌倉 祐一
茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立
化成工業株式会社 山崎工場内
(56)参考文献 特開 平3−6202(JP,A)
特開 平4−88345(JP,A)
特開 平7−325398(JP,A)
特開 平6−348008(JP,A)
特開 平2−8849(JP,A)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
G03F 7/00 - 7/42
Claims (7)
- 【請求項1】 (A)(a1)アクリル酸及びメタクリ
ル酸から選択される少なくとも1種類の化合物と(a
2)一般式(I): 【化1】 (式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2はア
ルキル基を示す) で表されるアクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエス
テルとを必須の共重合成分として得られる重量平均分子
量130,000〜200,000のビニル系共重合体
(A1)、 (B)分子中に少なくとも1個の不飽和結合を有する光
重合性化合物、 (C)一般式(II): 【化2】 (式中、R3は水素原子又はメチル基を示し、R4はア
ルキル基を示し、Rは2価のアルキレン基を示し、nは
3〜20の整数であり、mは1〜3の整数である)で表
されるエチレン性不飽和化合物及び (D)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物。 - 【請求項2】 前記(A)成分として、さらに、前記
(a1)成分と(a2)成分を必須の共重合成分として
得られる重量平均分子量50,000〜120,000
のビニル系共重合体(A2)を含有する請求項1記載の
感光性樹脂組成物。 - 【請求項3】 前記(A)成分、(B)成分、(C)成
分及び(D)成分の配合量が、(A)成分、(B)成分
及び(C)成分の総量100重量部に対して、(A)成
分が40〜80重量部、(B)成分が10〜57重量
部、(C)成分が3〜10重量部及び(D)成分が0.
1〜20重量部である請求項1又は2記載の感光性樹脂
組成物。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項記載の感光
性樹脂組成物の層を支持体上に積層してなる感光性エレ
メント。 - 【請求項5】 請求項1〜3のいずれか1項記載の感光
性樹脂組成物の層を、基板上に、前記感光性樹脂組成物
の層が密着するようにして積層することを特徴とする感
光性樹脂組成物の層の積層方法。 - 【請求項6】 請求項1〜3のいずれか1項記載の感光
性樹脂組成物の層を基板上に積層してなる積層基板。 - 【請求項7】 請求項6記載の積層基板を露光すること
を特徴とする感光性樹脂組成物の層の硬化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07204796A JP3362095B2 (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、積層方法、積層基板及び硬化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07204796A JP3362095B2 (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、積層方法、積層基板及び硬化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09265187A JPH09265187A (ja) | 1997-10-07 |
JP3362095B2 true JP3362095B2 (ja) | 2003-01-07 |
Family
ID=13478095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07204796A Expired - Fee Related JP3362095B2 (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、積層方法、積層基板及び硬化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3362095B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4517257B2 (ja) * | 2000-04-25 | 2010-08-04 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
US7067228B2 (en) * | 2000-06-22 | 2006-06-27 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive element employing it, resist pattern forming method, and printed wiring board fabrication method |
JP4529289B2 (ja) * | 2001-01-09 | 2010-08-25 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 |
-
1996
- 1996-03-27 JP JP07204796A patent/JP3362095B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JPH09265187A (ja) | 1997-10-07 |
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