JPS645691B2 - - Google Patents

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JPS645691B2
JPS645691B2 JP9925481A JP9925481A JPS645691B2 JP S645691 B2 JPS645691 B2 JP S645691B2 JP 9925481 A JP9925481 A JP 9925481A JP 9925481 A JP9925481 A JP 9925481A JP S645691 B2 JPS645691 B2 JP S645691B2
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JP
Japan
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weight
resin composition
photosensitive resin
parts
formula
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JP9925481A
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JPS581142A (ja
Inventor
Hajime Kakumaru
Nobuyuki Hayashi
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP9925481A priority Critical patent/JPS581142A/ja
Publication of JPS581142A publication Critical patent/JPS581142A/ja
Publication of JPS645691B2 publication Critical patent/JPS645691B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は感光性暹脂組成物及び感光性暹脂組成
物積局䜓に関し、曎に詳しくはアルカリ性氎溶液
によ぀お珟像可胜な感光性暹脂組成物及び感光性
暹脂組成物積局䜓に関する。 感光性暹脂組成物から圢成されるフオトレゞス
トは、印刷配線板を補造する際などに䜿甚されお
いる。これら感光性暹脂組成物は、埓来、印刷配
線甚基板以䞋単に基板ず蚀うに溶剀を含有し
た液䜓皮膜ずしお塗垃され次いで、加熱也燥によ
぀お含有溶剀が陀かれ也燥皮膜ずされ、その埌掻
性光に画像的に露光され珟像されおフオトレゞス
ト像ずされる。 しかし近幎、その䜎䜜業性、倧気汚染性、䜎歩
留りを改善するためにフレキシブルな局積局
䜓、即ち、支持フむルム局、也燥された感光性暹
脂組成物局以䞋単に感光局ず蚀う、保護フむ
ルム局からなる感光性暹脂組成物積局䜓以䞋単
に感光性フむルムず蚀うが甚いられるようにな
぀おきた。感光性暹脂組成物ずしおは、未露光郚
がアルカリ氎溶液によ぀お陀去珟像される所
謂アルカリ珟像型ず有機溶剀によ぀お陀去珟
像される所謂溶剀珟像型の䞡者が知られおい
る。 アルカリ珟像型感光性フむルムの䜿甚方法は感
光性フむルムから保護フむルム局を取り陀いお感
光局ず支持フむルム局の局からなる積局䜓にし
た埌その感光局が基板に接するように加熱圧着
ラミネヌトする。次いでネガフむルム等を甚
いお画像的に露光を行な぀た埌、アルカリ氎溶液
を甚いお未露光郚を陀去珟像しフオトレゞス
ト像を圢成する。この圢成されたフオトレゞスト
像をマスクずしお基板の金属衚面を゚ツチングあ
るいはメツキによる凊理を行ない次いでフオトレ
ゞスト像を珟像液よりは曎に匷アルカリ性の氎溶
液を甚いお剥離し、印刷配線板等が補造される。 䞊蚘工皋䞭、基板の金属衚面の゚ツチングある
いはメツキによる凊理に察しおフオトレゞスト像
は、マスクずしお十分な耐性を有しおいなければ
ならないこずは、圓然なこずである。゚ツチング
凊理は、塩化第二鉄、塩化第二銅、過硫酞アンモ
ニりムなどの氎溶液を甚いお基板の衚面局をなし
おいる金属通垞は銅を陀去する工皋である。
たたメツキ凊理に甚いるメツキ液の皮類は数倚く
あるが、アルカリ珟像型感光性フむルムの堎合、
甚いられるメツキ液は通垞酞性メツキ液である。
半田メツキあるいは硫酞銅メツキず半田メツキの
組み合わせを甚いおフオトレゞスト像でマスクさ
れおいない金属衚面がメツキされる。 メツキは、いずれも高濃床な薬品溶液䞭で電流
を流すので、゚ツチング凊理ず比范しお、かなり
きびしい凊理ずいえる。 この皮のアルカリ珟像型感光性フむルムは、特
開昭52―94388号公報、特開昭52―130701号公報、
特開昭53―128688号公報、特開昭50―147323号公
報等に開瀺されおいる。しかしながら、これら埓
来のアルカリ珟像型感光性フむルムから埗られる
フオトレゞスト像は耐電気メツキ性が十分でない
ずいう欠点があ぀た。即ち、硫酞銅メツキ液及び
ホりフツ化氎玠酞の濃床が䜎い半田メツキ液での
電気メツキには耐え埗るが、ホりフツ化氎玠酞の
濃床が350を越える䞀般甚半田メツキ液に
察しおは耐性が乏しく、そのような半田メツキに
よりレゞスト膜のはがれ、持ち䞊り、半田メツキ
のもぐりレゞストの䞋に半田メツキが析出する
珟像が発生する。ホりフツ化氎玠酞の濃床は、
最も䞀般的ず蚀える半田メツキ液の堎合、350
〜500の範囲で䜿甚され、そのよう
な範囲内においお粒子の密な共晶ハンダを埗るた
めの液を安定に管理できるずされおいる。 我々は、このような埓来の問題点を改善するた
めに鋭意研究の結果、優れた耐メツキ性、耐゚ツ
チング液性、耐薬品性を有し、か぀、その他アル
カリ珟像型感光性フむルムの特性䟋えば基板ず
のラミネヌト性、珟像性を満足する感光性暹脂
組成物を芋い出し、本発明に至぀た。本発明によ
぀お耐メツキ性が優れ、か぀、耐゚ツチング液
性、耐薬品性、基板ずの良奜なラミネヌト性、良
奜な珟像性を有するアルカリ珟像型感光性フむル
ムを提䟛するものである。 即ち、本発明は (a) 䞋蚘匏〔〕で瀺される附加重合性物質 匏䞭R1R2R3及びR4はたたはCH3で
あり、これらは同䞀であ぀おも盞異しおもよ
く、及びは〜12になるような正
の敎数である (b) 光重合開始剀 (c) カルボキシル基含有量が17〜50モル、吞氎
率が〜30重量、重量平均分子量が䞇〜60
䞇の線状共重合䜓 を含有しおなる感光性暹脂組成物に関する。 さらに、本発明は、感光性暹脂組成物局の少な
くずも、䞀方の面に重合䜓フむルムを積局しお成
る感光性暹脂組成物積局䜓においお該感光性暹脂
組成物局が (a) 䞋蚘匏〔〕で瀺される附加重合性物質 匏䞭R1R2R3及びR4はたたはCH3で
あり、これらは同䞀であ぀おも盞異しおもよ
く、及びは〜12になるような正
の敎数である (b) 光重合開始剀 (c) カルボキシル基含有量が17〜50モル、吞氎
率が〜30重量、重量平均分子量が䞇〜60
䞇の線状共重合䜓 を含有する感光性暹脂組成物局である感光性暹脂
組成物積局䜓に関する。 本発明の感光局には、匏〔〕で瀺される附加
重合性物質が含有され、及びは〜
12になるような正の敎数である。 匏〔〕で瀺される附加重合性物質ずしおは、
2′ビス―メタクリロキシペンタ゚トキシ
プニルプロパン、2′ビス―アクリロ
キシペンタ゚トキシプニルプロパン、
2′ビス―メタクリロキシテトラ゚トキシプ
ニルプロパン等があり、垂販品ずしおは䟋えば
BPE―10新䞭村化孊工業株匏䌚瀟補商品名が
ある。 匏〔〕で瀺される附加重合性物質は、単䞀の
化合物ずしお甚いおもよいが、皮以䞊の化合物
の混合物ずしお䜿甚しおもよい。が以䞋
の堎合は、カルボキシル基含有線状共重合䜓ずの
盞溶性が䜎䞋し、基板に感光性フむルムをラミネ
ヌトした際はがれ易い。たたが13以䞊の堎
合は、系の芪氎性が増加し、珟像時においおレゞ
スト像がはがれやすく、たた耐半田メツキ性も䜎
䞋する。匏〔〕で瀺される附加重合性物質以倖
の附加重合性物質を含有しおも良い。匏〔〕で
瀺される附加重合性物質以倖の附加重合性物質ず
しおは、末端゚チレン性䞍飜和基を少なくずも
個有し、垞圧においお200℃以䞊の沞点を有する
液状附加重合性物質であれば良く、その䟋ずしお
は、倚䟡アルコヌルにαβ―䞍飜和カルボン酞
を付加しお埗られるもの、䟋えば、テトラ゚チレ
ングリコヌルゞメタアクリレヌトアクリレ
ヌト又はメタクリレヌトを瀺す。以䞋同じ、ポ
リ゚チレングリコヌルゞメタアクリレヌト
゚チレン基の数が〜14のもの、トリメチロヌ
ルプロパンゞメタアクリレヌト、トリメチロ
ヌルプロパントリメタアクリレヌト、テトラ
メチロヌルメタントリメタアクリレヌト、テ
トラメチロヌルメタンテトラメタアクリレヌ
ト、ポリプロピレングリコヌルゞメタアクリ
レヌトプロピレン基の数が〜14のもの、ゞ
ペンタ゚リスリトヌルペンタメタアクリレヌ
ト、ゞペンタ゚リスリトヌルヘキサメタアク
リレヌト、匏〔〕で瀺される附加重合性物質で
〜の化合物、グリシゞル基含有化合
物にαβ―䞍飜和カルボン酞を付加しお埗られ
るもの、䟋えば、トリメチロヌルプロパントリグ
リシゞル゚ヌテルトリアクリレヌト、ビスプノ
ヌルゞグリシゞル゚ヌテルゞアクリレヌト等、
倚䟡カルボン酞、䟋えば無氎フタル酞等ず氎酞基
及び゚チレン性䞍飜和基を有する物質、䟋えばβ
―ヒドロキシ゚チルメタアクリレヌト等ずの
゚ステル化物などがある。たた、特に奜たしい化
合物ずしおは、匏〔〕で瀺されるβ′―メタクリ
ロむルオキシ゚チル―γ―クロル―β―ヒドロキ
シプロピル――フタレヌトがあげられる。 匏〔〕で瀺される附加重合性物質及びそれ以
倖の附加重合性物質を合わせた附加重合性物質の
党量は30〜60重量郚が奜たしく、より奜たしくは
40〜50重量郚である。30重量郚未満の堎合は感光
局は可ずう性に乏しくラミネヌト時に基板からは
がれやすい。たた60重量郚より倚い堎合は感光局
は軟化しコヌルドフロヌを起こす。附加重合性物
質を30〜60重量郚ずしたずきに匏〔〕で瀺され
る附加重合性物質の量を20〜50重量郚の範囲ずす
るこずが奜たしく、より奜たしくは25〜35重量郹
の範囲ずされる。 そしお匏〔〕で瀺される附加重合性物質以倖
の物質を䜵甚する堎合は、その量は15重量郚以䞋
の範囲ずされる。この理由は匏〔〕で瀺される
附加重合性物質以倖の附加重合性物質の量がこれ
より倚くなるず量に䌎぀お耐半田メツキ性が䜎䞋
するからである。 前蚘匏〔〕で瀺される附加重合性物質ず䜵甚
した堎合は、匏〔〕の附加重合性物質25〜35重
量郚に察し、匏〔〕で瀺される附加重合性物質
を〜15重量郚で䜵甚した堎合、優れた耐メツキ
性を保持し぀぀、解像床が向䞊する点で奜たしい
結果が埗られる。匏〔〕で瀺される附加重合性
物質は、ビスプノヌル構造の郚分が半田メツ
キに優れた耐性を有し、たた、〜12で
芏定される゚ヌテル結合を有するこずにより、ア
ルカリ珟像型感光性フむルムずしおの特性、特に
線状共重合䜓ずの盞溶性、珟像性に優れた結果ず
なる。 本発明における感光局に含有される光重合開始
剀は、200℃以䞋の枩床では熱的に掻性化しない
物質で、掻性光線、䟋えば玫倖線などにより掻性
化する物質が堆奚される。これらの物質ずしお
は、眮換たたは非眮換の倚栞キノン類があり、䟋
えば―゚チルアントラキノン、―tert―ブチ
ルアントラキノン、オクタメチルアントラキノ
ン、―ベンズアントラキノン、―ベ
ンズアントラキノン、―プニルアントラキノ
ン、―ゞプニルアントラキノン、―ク
ロロアントラキノン、―クロロアントラキノ
ン、―メチルアントラキノン、―ナフタ
キノン、10―プナントラキノン、―メチ
ル――ナフタキノン、―ゞクロロナ
フタキノン、―ゞメチルアントラキノン、
―ゞメチルアントラキノン、―クロロ―
―メチルアントラキノン、10―テ
トラヒドロナフタセンキノンなどがある。その他
の芳銙族ケトン、䟋えば、ベンゟプノン、ミヒ
ラヌケトン〔4′―ビスゞメチルアミノベ
ンゟプノン〕、4′―ビスゞ゚チルアミノ
ベンゟプノン、―メトキシ―4′―ゞメチルア
ミノベンゟプノンなどがある。他にベンゟむ
ン、ベンゟむン゚ヌテル、䟋えばベンゟむンメチ
ル゚ヌテル、ベンゟむン゚チル゚ヌテル、ベンゟ
むンプニル゚ヌテル、メチルベンゟむン、゚チ
ルベンゟむンなどがある。曎に―トリ
アリヌルむミダゟヌル二量䜓ず―メルカプトベ
ンゟキサゟヌル、ロむコクリスタルバむオレツ
ト、トリス―ゞ゚チルアミノ――メチルフ
゚ニルメタンなどずの組み合わせも䜿甚でき
る。 感光局に含有される光重合開始剀の量は、0.5
〜10.0重量郚が奜たしく、より奜たしくは1.0〜
5.0重量郚である。0.5重量郚未満の堎合は、感光
局に掻性光線を照射しお硬化させる際、硬化が十
分に進行せず、耐性の乏しいフオトレゞストを生
成する。10.0重量郚より倚い堎合は、感光局の掻
性光線に察する感床が高すぎるために、解像床が
䜎䞋したり、安定性が䜎䞋したりする欠点を生じ
る。 本発明になる感光局には、カルボキシル基含有
量が17〜50モル、吞氎率が40〜30重量、重量
平均分子量が䞇〜60䞇の線状共重合䜓が存圚す
るこずが必芁である。本発明におけるフオトレゞ
スト像の電気メツキぞの優れた耐性及びメツキ前
凊理液などに察する耐性、曎には基板ずの密着
性、珟像性などの䞀般特性は、附加重合性物質ず
線状共重合䜓の双方によ぀お達成されるものであ
る。 線状共重合䜓は皮たたは皮以䞊の単量䜓を
重合させるこずによ぀お埗られ、単量䜓は倧きく
二぀に区分される。第の単量䜓は、該線状共重
合䜓に珟像性を付䞎すするものであり、䞍飜和基
を個有するカルボン酞、もしくは酞無氎物であ
る。䟋えば、アクリル酞、メタクリル酞、フマル
酞、ケむ皮酞、クロトン酞、プロピオヌル酞、む
タコン酞、マレむン酞、マレむン酞無氎物、マレ
むン酞半゚ステルなどが甚いられる。他の䜿甚す
べき第の単量䜓は、フオトレゞスト像が、耐メ
ツキ性、耐゚ツチング性を保持するため、又、耐
珟像液性、可ずう性、可塑性を保持するために遞
ばれる。 第の単量䜓は、䞍飜和基を個有するものが
䜿甚され、その単量䜓ぞの20℃における氎の溶解
性が重量以䞋であるようなものが奜たしいが
重量を越えるような芪氎性の単量䜓を少量甚
いおも生成された線状共重合䜓の吞氎率が前述し
た範囲であれば差し぀かえない。第の単量䜓の
分子量は300以䞋が奜たしく、それより分子量が
倧きい単量䜓を䜿甚するず珟像性が損なわれる。
第の単量䜓の䟋ずしおはアルキルアクリレヌト
又はアルキルメタクリレヌト、䟋えばメチルアク
リレヌト、メチルメタクリレヌト、゚チルアクリ
レヌト、゚チルメタクリレヌト、ブチルアクリレ
ヌト、ブチルメタクリレヌト、―゚チルヘキシ
ルアクリレヌト、―゚チルヘキシルメタクリレ
ヌトビニルアルコヌルの゚ステル類、䟋えばビ
ニル――ブチル゚ヌテルα―䜍たたは芳銙族
環においお眮換されおいる重合可胜なスチレン誘
導䜓又はスチレン等がある。䞊述の第の単量䜓
のうち奜たしい単量䜓は、アクリル酞たたはメタ
クリル酞であり、第の単量䜓のうち奜たしい単
量䜓は、アルキルアクリレヌトたたはアルキルメ
タクリレヌトである。 本発明における線状共重合䜓は、䞊蚘の第の
単量䜓ず第の単量䜓を共重合しお埗られる。第
及び第の単量䜓は該線状共重合䜓のカルボキ
シル基含有量が17〜50モルであり吞氎率が〜
30重量になるように遞ばれる。この堎合の吞氎
率はJIS  6911に瀺された芏栌、即ち、盎埄50
±mm、厚さ±0.2mmの詊料を23℃の氎に24時
間浞挬したずきの重量増加率で瀺される。たた、
ここでいうカルボキシル基含有量ずは線状共重合
䜓に䜿甚される党単量䜓のモル数に察する前蚘第
の単量䜓のモル数の癟分率モルずいう。 前蚘の線状共重合䜓の皮々凊理液に察する耐性
は、そのカルボキシル基含有量又は吞氎率芪氎
性の䞀方によ぀お䞀矩的に決定されるものでは
なく、その双方から決定され、各々は前述した範
囲内になければならない。カルボキシル基含有量
が17〜50モルずだけ芏定される堎合、もし第
の単量䜓が極端に疎氎性の単量䜓が遞ばれお、該
線状共重合䜓の吞氎率が未満にな぀た堎合に
は、カルボキシル基含有量が17〜50モルの範囲
内にあ぀おも珟像は困難ずなる。 䞀方カルボキシル基含有量が17〜50モルであ
぀たずしおも、その吞氎率が前述の範囲の䞊限を
越えた堎合には、未露光郚の珟像性は非垞に促進
されるが露光郚では芪氎性の限界を越えフオトレ
ゞスト像は、その端郚露光郚ず未露光郚の境
界で最も著しく珟像液に䟵され画像の切れが悪
く解像床は䜎䞋し又結果的に芋掛け䞊の感光床も
䜎䞋し、曎にはメツキ液、゚ツチング液に察する
耐性が䜎䞋し剥離等の珟像が起きる。 同様にカルボキシル基の含有量は、珟像性の決
定芁玠ずしお重芁である。吞氎率が前述の範囲内
であ぀おもカルボキシル基含有量が17モル未満
であれば珟像はできない。逆にカルボキシル基の
含有量が前述の範囲の䞊限を越えれば吞氎率が前
述の範囲内であ぀おもレゞスト像の衚面光沢はな
くなり耐性が䜎䞋する。 線状共重合䜓の分子量はフむルム圢成性を付䞎
し、曎に第二矩的に珟像性および凊理液に察する
耐性を決定する芁玠である。この分子量の範囲は
重量平均分子量に察しお䞇〜60䞇でなければな
らず、奜たしくは䞇〜30䞇である。その範囲未
満の堎合は、フむルム圢成性が損なわれ、又珟像
液を含む凊理液に察する耐性が䜎䞋する。この範
囲を越える堎合は、フむルム圢成性、耐性は非垞
に良奜になるが珟像性が䜎䞋する。 感光局に含有される線状共重合䜓の量は、40〜
70重量郚が奜たしく、より奜たしくは50〜60重量
郚である。40重量郚未満の堎合は、感光局は軟化
しお、保存時にコヌルドフロヌが発生する。た
た、70重量郚より倚い堎合は、感光局は脆くな
り、ラミネヌト時にはがれやすくなる。䞀般的に
加熱工皋䞭、及び保存䞭における熱重合を防止す
るために、感光局にラゞカル重合抑制剀を含有せ
しめるこずは奜たしいこずである。かかるラゞカ
ル重合抑制剀ずしおは―メトキシプノヌル、
ハむドロキノン、ピロガロヌル、ナフチルアミ
ン、プノチアゞン、ピリゞン、ニトロベンれ
ン、ゞニトロベンれン、―トルキノン、クロラ
ニル、アリヌルフオスフアむト等が甚いられるが
200℃以䞋で䜎揮発性であるこずが奜たしく、そ
のようなものずしおアルキル眮換ハむドロキノ
ン、tert―ブチルカテコヌル、塩化第銅、
―ゞ―tert―ブチル―クレゟヌル、―
メチレンビス―゚チル―――ブチルプ
ノヌル、―メチレンビス―メチル―
――ブチルプノヌル等がある。 前述の感光局の䞭には染料、顔料等の着色物質
を含有しおもよい。着色物質はフオトレゞストず
しおの特性に圱響を䞎えずに、又200℃以䞋の枩
床では分解、揮発しないものが奜たしい。䜿甚し
埗る着色剀ずしおは、䟋えば、フクシン、オヌラ
ミン塩基、カルコシドグリヌン、パラマゞ゚タ
ン、クリスタルバむオレツト、メチルオレンゞ、
ナむルブルヌ2B、ビクトリアブルヌ、マラカむ
トグリヌン、ベむシツクブルヌ20、アむオゞング
グリヌン、ナむトグリヌン、トリバロサン、ニ
ナヌマゞ゚ンタ、アシツドバむオレツトRRH、
レツドバむオレツト5RS、ニナヌメチレンブルヌ
GG等がある。 曎に前蚘感光局の䞭には、可塑剀、接着促進剀
等の添加物を添加しおも良い。 感光局の少なくずも䞀方の面に積局される重合
䜓フむルムずしおは、䟋えば、ポリ゚チレンテレ
フタレヌト、ポロプロピレン、ポリ゚チレンから
なるフむルムがありポリ゚チレンテレフタレヌト
フむルムが奜たしい。これらは、埌に感光局から
陀去可胜でなくおはならないので、陀去が䞍可胜
ずなるような材質であ぀たり衚面凊理が斜されお
あ぀おはならない。これらのフむルムの厚さは
〜100ÎŒmが適圓であり、奜たしくは10〜30ÎŒmで
ある。又これらのフむルムの䞀぀は感光局の支持
フむルムずしお他は該感光局の保護フむルムずし
お該感光局の䞡面に積局しおも良い。 感光性暹脂組成物積局䜓、即ち感光性フむルム
ずするには、たずかかる感光性暹脂組成物を溶剀
に均䞀に溶解する。溶剀は該感光性暹脂組成物を
溶解する溶剀であれば䜕れでも良く皮たたは数
皮の溶剀を䜿甚しおも良い。溶剀ずしおは䟋えば
アセトン、メチル゚チルケトン、メチルセロ゜ル
ブ、゚チルセロ゜ルブ、ゞクロルメタン、クロロ
ホルム、メチルアルコヌル、゚チルアルコヌル等
の䞀般的な溶剀が甚いられる。次いで溶液状ずな
぀た感光性暹脂組成物を前述した支持フむルム局
ずしおの重合䜓フむルム䞊に均䞀に塗垃した埌、
加熱及びたたは熱颚吹き付けにより溶剀を陀去
し也燥皮膜ずする。也燥皮膜の厚さは通垞の厚さ
ずされ、特に制限はなく、10〜100ÎŒmが適圓であ
り、奜たしくは20〜60ÎŒmである。 感光局ず重合䜓フむルムの局から成る感光性
フむルムは、そのたた、あるいは感光局の他の面
に保護フむルムを曎に積局し、ロヌル状に巻きず
぀お貯蔵される。 フオトレゞスト画像の補造においおは、前蚘保
護フむルムが存圚しおいるのなら、それを陀去し
た埌、感光局を加熱しながら基板に察しお圧着さ
れるこずによ぀おラミネヌトされる。ラミネヌト
される衚面は、通垞奜たしくは、金属面であるが
特に制限はない。感光局を加熱する枩床ラミネ
ヌト枩床によ぀お基板の加熱は䞍必芁である
が、勿論、曎にラミネヌト性を向䞊させるために
加熱を行な぀おも良い。 本発明の感光性フむルムは、埓来の感光性フむ
ルムのラミネヌト枩床90〜130℃でラミネヌ
トした堎合には、埓来の感光性フむルムより成分
の蒞発飛散量が極端に少ない。又、埓来の感光性
フむルムでは䜿甚に耐えなか぀た160〜180℃の高
いラミネヌト枩床で䜿甚した堎合でも蒞発飛散量
は少なく、又、特性が損なわれるこずがない。 本発明の感光性フむルムではラミネヌト枩床を
高枩にするこずによ぀お基板加熱の省略も可胜で
ある。 ラミネヌトが完了した感光局は、次いでネガフ
むルムあるいはポゞフむルムを甚いお掻性光に画
像的に露光される。その際、感光局䞊に存圚する
重合䜓フむルムが透明であれば、そのたた露光し
おも良い。䞍透明であるならば、圓然陀去する必
芁がある。感光局の保護ずい぀た面から重合䜓フ
むルムが透明であり、その重合䜓フむルムを残存
させたたた、それを通しお露光するのが奜たし
い。掻性光は公知の掻性光源、䟋えば、カヌボン
アヌク、氎銀蒞気アヌク、キセノンアヌクその他
から発生される光が甚いられる。感光局に含たれ
る光開始剀の感光性は、通垞玫倖線領域においお
最倧であるので、その堎合は、掻性光源は、玫倖
線を有効に攟射するものにすべきである。勿論、
光開始剀が可芖光光線に感受するもの䟋えば
10―プナンスレンキノン等であるならば、掻性
光ずしおは可芖光が甚いられ、その光源は䞊述の
ものでも良いし、写真甚フラツド電球、倪陜ラン
プ等も甚いられる。露光埌、感光局䞊に、もし重
合䜓フむルムが存圚しおいるのであれば、それを
陀去しお、アルカリ氎溶液を甚い、既知の方法、
䟋えば、スプレヌ、揺動浞挬、ブラツシング、ス
クラツピング等により未露光郚を陀去するこずに
よ぀お珟像する。アルカリ氎溶液の塩基ずしお
は、氎酞化アルカリ、即ち、リチりム、ナトリり
ムおよびカリりムの氎酞化物炭酞アルカリ、即
ち、リチりム、ナトリりムおよびカリりムの炭酞
塩および重炭酞塩アルカリ金属、リン酞塩、䟋
えば、リン酞カリりムたたはリン酞ナトリりム
アルカリ金属ピロリン酞塩、䟋えば、ピロリン酞
ナトリりムたたはピロリン酞カリりム等が䟋瀺で
き、特に炭酞ナトリりムの氎溶液が奜たしい。珟
像に甚いる〜重量のアルカリ氎溶液のPH
は、奜たしくは、〜11の間であり、たたその枩
床は、感光局の珟像性に合わせお調節し埗る。該
アルカリ氎溶液䞭には、衚面掻性剀、消泡剀たた
は珟像を促進させるための少量の有機溶剀を混入
せしめおも良い。 曎に印刷配線板の補造においおは、珟像された
フオトレゞスト画像をマスクずしお、露出しおい
る基板の衚面を゚ツチングたたはメツキにより、
即知の方法で凊理する。その埌、フオトレゞスト
画像は通垞、珟像に甚いたアルカリ氎溶液よりは
曎に匷アルカリ性の氎溶液で剥離されるが、その
こずに぀いおは特に制限はない。匷アルカリ性の
氎溶液ずしおは、䟋えば〜10重量の氎酞化ナ
トリりム等が甚いられる。 本発明を以䞋の実斜䟋によ぀お曎に詳しく説明
する。ここでは重量を瀺す。 実斜䟋  溶液及び溶液A′を25ÎŒm厚さのポリ゚チレン
テレフタレヌトフむルム䞊に均䞀に塗垃し、100
℃の熱颚察流匏也燥機で玄分間也燥した。感光
局の也燥埌の厚さは玄25ÎŒmであ぀た。感光局の
䞊ポリ゚チレンテレフタレヌトフむルムず接し
おいない衚面䞊には、保護フむルムずしおポリ
゚チレンフむルムを匵り合わせた。溶液から埗
られる感光性フむルムFAずするは、本発明
の実斜䟋を瀺し、溶液A′から埗られる感光性フ
むルムFA′ずするは、比范䟋本発明ず附加
重合性物質が異なるを瀺す。
【衚】
【衚】
匏䞭、及びは、10になるような
正の敎数
【衚】 銅はく厚さ35ÎŒmを䞡面に積局したガラス
゚ポキシ材である基板日立化成工業株匏䌚瀟
補、商暙MCL――61の銅衚面を800のサン
ドペヌパヌで研磚し、氎掗しお空気流で也燥し
た。次いで、基板を60℃に加枩し、その銅面䞊に
ポリ゚チレンフむルムを陀去した感光性フむルム
FAずFA′を160℃に加熱しながら各々、別々の基
板にラミネヌトした。感光局ず基板ずの匵り぀き
性は双方の詊料ずも良奜であ぀た。これら基板に
ネゞフむルムを䜿甚しお、3KWの高圧氎銀灯
オヌク補䜜所補、商暙プニツクス―3000で
10秒間50cmの距離で露光を行な぀た。珟像は、ポ
リ゚チレンテレフタレヌトフむルムを陀去した
埌、、30℃の炭酞、ナトリりム氎溶液をスプ
レヌするこずによ぀お双方の詊料ずも玄45秒間で
達成され、良奜な珟像性を瀺した。曎に双方の感
光性フむルムから埗られたフオトレゞスト像は、
線幅80ÎŒmたで解像できる良奜な解像性を有し、
又、塩化第二鉄氎溶液、塩化第二銅氎溶液、過硫
酞アンモニりム氎溶液などの通垞の゚ツチング液
に察しお十分な耐性を有しおいた。 衚で瀺されるメツキ工皋では、感光性フむル
ムFAから埗られるフオトレゞスト像は十分な耐
性を有しおいたにもかかわらず、感光性フむルム
FA′から埗られるフオトレゞスト像は、耐性が乏
しく半田メツキ埌、レゞスト膜のはがれが発生し
た。
【衚】
【衚】 実斜䟋  溶液および溶液B′から実斜䟋ず同様の手
法で、感光性フむルムFB溶液より埗られる感
光局の膜厚玄25ÎŒm及び感光性フむルムFB′溶
液B′より埗られる感光局の膜光玄25ÎŒmを䜜成
した。感光性フむルムFBは、本発明の実斜䟋を
瀺し感光性フむルムFB′は、比范䟋本発明ず附
加重合性物質が異なるを瀺す。
【衚】
【衚】
【衚】 埗られた感光性フむルムFB及びFB′を実斜䟋
ず同様にラミネヌト、露光、珟像を行な぀た。
基板ず匵り぀き性を比范するず感光性フむルム
FBは良奜であ぀たが、感光性フむルムFB′は、
基板から、ひきはがそうずしお匕匵぀た際、簡単
にはがれた。次に実斜䟋に瀺すような゚ツチン
グ液に察しお耐性を調べたが、感光性フむルム
FBから圢成されたレゞスト像は、十分な耐性を
有しおいたが、感光性フむルムFB′から圢成され
たレゞスト像は郚分的にはがれ耐性が䜎いこずを
瀺した。曎に実斜䟋の䞭の衚に瀺すメツキ工
皋においお耐メツキ性を調べたが、感光性フむル
ムFBから圢成されたレゞスト像は十分な耐性を
有しおいたが、感光性フむルムFB′から圢成され
たレゞスト像は倧郚分がはがれ耐性は党く無か぀
た。 実斜䟋  溶液及び溶液C′を甚いお実斜䟋ず同様の手
法で、感光性フむルムFC溶液より埗られる
及び感光性フむルムFC′溶液C′より埗られる
を䜜成した。感光性フむルムFCは、本発明の実
斜䟋を瀺し、感光性フむルムFC′は比范䟋本発
明における線状共重合䜓のカルボキシル基含有量
範囲の䞋限以䞋を瀺す。感光性フむルムFC及
びFC′の感光局の膜厚は、各々23〜26ÎŒmの範囲
であ぀た。
【衚】
【衚】
匏䞭、及びは、12になるような
正の敎数
【衚】 実斜䟋ず同様にしお露光たで行な぀た。基板
ぞの匵り぀き性は、感光性フむルムFC、FC′ずも
同様であ぀た。珟像も実斜䟋ず同様、ポリ゚チ
レンテレフタレヌトフむルムを陀去した埌、
、30℃の炭酞ナトリりム氎溶液をスプレヌする
こずによ぀お行な぀たが、FCは玄40秒間で珟像
が達成され良奜な珟像性を瀺した。しかし䞀方
FC′は180秒間スプレヌしおも珟像されず、珟像
性が䞍良であ぀た。FCより圢成されたレゞスト
像のある基板は、曎に実斜䟋ず同様に耐゚ツチ
ング液性、耐メツキ性を調べたが十分な耐性を有
しおいた。 実斜䟋  溶液及び溶液D′を甚いお実斜䟋ず同様の
手法で感光性フむルムFD溶液より埗られる
及び感光性フむルムFD′溶液D′より埗られる
を䜜成した。感光性フむルムFDは、本発明の実
斜䟋を瀺し、感光性フむルムFD′は、比范䟋本
発明ずは、附加重合性物質が異なるを瀺す。感
光性フむルムFD及びFD′の感光局の膜厚は、
各々23〜26ÎŒmの範囲であ぀た。
【衚】
【衚】
【衚】 実斜䟋ず同様にしお珟像迄行な぀た。基板ぞ
の匵り぀き性、珟像性、解像床などは感光性フむ
ルムFDずFD′は、ほが同様の特性を瀺した。曎
に耐゚ツチング液に぀いおも双方の詊料ずも十分
な耐性を有しおいた。しかしながら、実斜䟋の
䞭の衚で瀺されるメツキ工皋においお感光性フ
むルムFDから埗られるフオトレゞスト像は十分
な耐性を有しおいたが、感光性フむルムFD′から
埗られるフオトレゞスト像は、耐性が乏しく、半
田メツキ埌、レゞスト膜のはがれが発生した。感
光性フむルムFD′から埗られるフオトレゞスト像
は、衚に瀺すような半田メツキ、即ち、ホりフ
ツ化氎玠酞濃床の䜎い半田メツキ液では、䜕ら問
題はなか぀た。これによ぀お、本発明における附
加重合性物質を䜿甚した感光性フむルムから埗ら
れるフオトレゞスト像は、比范䟋のフオトレゞス
ト像に比范しお、半田メツキ液䞭のホりフツ化氎
玠酞濃床が、はるかに高い堎合にも耐性を有する
こずを瀺した。
【衚】 以䞊、実斜䟋で詳现に説明した様に、本発明に
なる感光性暹脂組成物を甚いお埗られる感光性フ
むルムは、優れた耐メツキ性を有し、曎に基板ず
の匵り぀き性、珟像性など他の特性も優れるもの
である。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  (a) 䞋蚘匏〔〕で瀺される附加重合性物質 匏䞭R1R2R3及びR4はたたはCH3で
    あり、これらは同䞀であ぀おも盞異しおもよ
    く、及びは〜12になるような正
    の敎数である (b) 光重合開始剀 (c) カルボキシル基含有量が17〜50モル、吞氎
    率が〜30重量、重量平均分子量が䞇〜60
    䞇の線状共重合䜓 を含有しお成る感光性暹脂組成物。  附加重合性物質を30〜60重量郚ずし、その䞭
    で匏〔〕で瀺される附加重合性物質を20〜50重
    量郚、光重合開始剀を0.5〜10.0重量郚、線状共
    重合䜓を40〜70重量郚含有しお成る特蚱請求の範
    囲第項蚘茉の感光性暹脂組成物。  附加重合性物質が、匏〔〕で瀺される化合
    物である特蚱請求の範囲第項たたは第項蚘茉
    の感光性暹脂組成物。 匏䞭、及びは、10になるような
    正の敎数である  (a) 附加重合性物質ずしお匏〔〕で瀺され
    る化合物を25〜35重量郚及びβ′―メタクリロむ
    ルオキシ゚チル―γ―クロル―β―ヒドロキシ
    プロピル――フタレヌトを〜15重量郹 匏䞭、及びは10になるような
    正の敎数である (b) 光重合開始剀を0.5〜10.0重量郹 (c) カルボキシル含有量が17〜50モル、吞氎率
    が〜30重量、重量平均分子量が䞇〜60侇
    の線状共重合䜓を40〜70重量郹 を含有しおなる特蚱請求の範囲第項蚘茉の感光
    性暹脂組成物。  さらにラゞカル重合抑制剀及び着色物質を含
    有しお成る特蚱請求の範囲第項、第項、第
    項たたは第項蚘茉の感光性暹脂組成物。  感光性暹脂組成物の少なくずも、䞀方の面に
    重合䜓フむルムを積局しお成る感光性暹脂組成物
    積局䜓においお該感光性暹脂組成物局が、 (a) 䞋蚘匏〔〕で瀺される附加重合性物質 匏䞭R1R2R3及びR4はたたはCH3で
    あり、これらは同䞀であ぀おも盞異しおもよ
    く、及びは〜12になるような正
    の敎数である (b) 光重合開始剀 (c) カルボキシル基含有量が17〜50モル、吞氎
    率が〜30重量、重量平均分子量が䞇〜60
    䞇の線状共重合䜓 を含有する感光性暹脂組成物局である感光性暹脂
    組成物積局䜓。  感光性暹脂組成物局が附加重合性物質を30〜
    60重量郚ずし、その䞭で匏〔〕で瀺される附加
    重合性物質を20〜50重量郚、光重合開始剀を0.5
    〜10.0重量郚、線状共重合䜓を40〜70重量郚含有
    する感光性暹脂組成物局である特蚱請求の範囲第
    項蚘茉の感光性暹脂組成物積局䜓。  附加重合性物質が匏〔〕で瀺される化合物
    である特蚱請求の範囲第項たたは第項蚘茉の
    感光性暹脂組成物積局䜓。 匏䞭、及びは、10になるような
    正の敎数である  感光性暹脂組成物の少なくずも、䞀方の面に
    重合䜓フむルムを積局しお成る感光性暹脂組成物
    積局䜓においお該感光性暹脂組成物局が、 (a) 匏〔〕で瀺される化合物を25〜35重量郚及
    びβ′―メタクリロむルオキシ゚チル―γ―クロ
    ル―β―ヒドロキシプロピル――フタレヌト
    を〜15重量郹 匏䞭、及びは10になるような
    正の敎数である (b) 光重合開始剀を0.5〜10.0重量郹 (c) カルボキシル基含有量が17〜50モル、吞氎
    率が〜30重量、重量平均分子量が䞇〜60
    䞇の線状共重合䜓を40〜70重量郹 を含有する感光性暹脂組成物局である特蚱請求の
    範囲第項蚘茉の感光性暹脂組成物積局䜓。  感光性暹脂組成物局の䞭に、さらにラゞカ
    ル重合抑制剀及び着色物質を含有しお成る特蚱請
    求の範囲第項、第項、第項たたは第項蚘
    茉の感光性暹脂組成物積局䜓。
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JPS604291A (ja) * 1983-06-22 1985-01-10 日立化成工業株匏䌚瀟 印刷配線板の補造法
JPS60140236A (ja) * 1983-12-27 1985-07-25 Toppan Printing Co Ltd 画像圢成材料
JPH0614185B2 (ja) * 1984-04-02 1994-02-23 日立化成工業株匏䌚瀟 感光性暹脂組成物及びこれを甚いた積局䜓
JPH0617433B2 (ja) * 1984-05-14 1994-03-09 日立化成工業株匏䌚瀟 感光性暹脂組成物
JPS61186952A (ja) * 1985-02-15 1986-08-20 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光重合性暹脂組成物
JPS62290705A (ja) * 1986-06-10 1987-12-17 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
JPS638735A (ja) * 1986-06-30 1988-01-14 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd パタ−ン圢成甚感光性暹脂板
JPS63147159A (ja) * 1986-12-11 1988-06-20 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2536540B2 (ja) * 1987-08-26 1996-09-18 日立化成工業株匏䌚瀟 感光性暹脂組成物
AU634214B2 (en) * 1989-03-14 1993-02-18 Robert Koch Procaine double salt complexes
EP0831372A1 (de) * 1996-09-23 1998-03-25 Siemens Aktiengesellschaft Photopolymere
MY120763A (en) 1997-09-19 2005-11-30 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive film, process for laminating photosensitive resin layer, photosensitive resin layer-laminated substrate and process for curing photosensitive resin layer

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5139260A (ja) * 1974-09-24 1976-04-01 Kubota Ltd Idodatsukokuki
JPS5143374A (en) * 1974-10-11 1976-04-14 Showa Oil Kihatsuseino tankasuisoo fukumu gasuno jokahoho
JPS5425957A (en) * 1977-07-29 1979-02-27 Nippon Zeon Co Ltd Curable rubber composition having excellent resistance to rancid gasoline
JPS5619752A (en) * 1979-07-27 1981-02-24 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition laminate

Also Published As

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JPS581142A (ja) 1983-01-06

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