DE10019838A1 - Mehrschichtkondensator, Verdrahtungssubstrat, Entkopplungsschaltung und Hochfrequenzschaltung - Google Patents
Mehrschichtkondensator, Verdrahtungssubstrat, Entkopplungsschaltung und HochfrequenzschaltungInfo
- Publication number
- DE10019838A1 DE10019838A1 DE10019838A DE10019838A DE10019838A1 DE 10019838 A1 DE10019838 A1 DE 10019838A1 DE 10019838 A DE10019838 A DE 10019838A DE 10019838 A DE10019838 A DE 10019838A DE 10019838 A1 DE10019838 A1 DE 10019838A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- conductors
- electrodes
- feed
- multilayer capacitor
- outer connection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 176
- 230000035515 penetration Effects 0.000 title abstract 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 108
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 241000158147 Sator Species 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 101100346656 Drosophila melanogaster strat gene Proteins 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/228—Terminals
- H01G4/232—Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/30—Stacked capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/64—Impedance arrangements
- H01L23/642—Capacitive arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0213—Electrical arrangements not otherwise provided for
- H05K1/0216—Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference
- H05K1/023—Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference using auxiliary mounted passive components or auxiliary substances
- H05K1/0231—Capacitors or dielectric substances
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10431—Details of mounted components
- H05K2201/10507—Involving several components
- H05K2201/10515—Stacked components
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10613—Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
- H05K2201/10621—Components characterised by their electrical contacts
- H05K2201/10734—Ball grid array [BGA]; Bump grid array
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
Abstract
Ein Mehrschichtkondensator erzielt eine erhebliche Reduzierung der Äquivalenzreiheninduktivität (ESL) und weist erste innere Elektroden und zweite innere Elektroden, die sich einander gegenüberliegen, erste Durchführungsleiter und zweite Durchführungsleiter und erste äußere Anschlußelektroden und zweite äußere Anschlußelektroden auf. Die ersten Durchführungsleiter verbinden die ersten inneren Elektroden und die ersten äußeren Anschlußelektroden elektrisch, wobei die zweiten Durchführungsleiter die zweiten inneren Elektroden und die zweiten äußeren Anschlußelektroden elektrisch verbinden. Die ersten und zweiten Durchführungsleiter sind derart angeordnet, daß die Durchführungsleiter magnetische Felder, die durch einen Strom, der durch die ersten und zweiten inneren Elektroden fließt, induziert wird, gegenseitig unterdrücken. Wenn darüber hinaus ein Ausrichtungsabstand der ersten und zweiten Durchführungsleiter durch P angezeigt wird, und die Gesamtanzahl der ersten und zweiten Durchführungsleiter durch N angezeigt wird, ist eine Anordnung derart eingestellt, daß ein Verhältnis von P/n etwa 0,085 mm oder weniger beträgt.
Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Mehrschichtkon
densatoren, Verdrahtungssubstrate, Entkopplungsschaltungen
und Hochfrequenzschaltungen. Insbesondere bezieht sich die
vorliegende Erfindung auf Mehrschichtkondensatoren, die zum
Verbessern von Hochfrequenzschaltungen angepaßt sind, und
auf Verdrahtungssubstrate, Entkopplungsschaltungen und Hoch
frequenzschaltungen, die durch solche Mehrschichtkondensato
ren definiert sind.
Die meisten herkömmlichen Mehrschichtkondensatoren sind aus
dielektrischen Keramikmaterialien oder dergleichen gebildet.
Solche Mehrschichtkondensatoren umfassen einen Kondensator
mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten,
eine Mehrzahl von Paaren von einander gegenüberliegend ange
ordneten ersten inneren Elektroden und eine Mehrzahl von
Paaren von einander gegenüberliegend angeordneten zweiten
inneren Elektroden, die in einer Richtung abwechselnd ange
ordnet sind, in der die dielektrischen Schichten laminiert
sind, wobei sich die Paare von Elektroden über die dielek
trischen Schichten gegenüberliegen, um eine Mehrzahl von
Kondensatoreinheiten zu definieren. Eine erste äußere An
schlußelektrode ist auf einer ersten Endoberfläche des Kon
densators vorgesehen, wobei eine zweite äußere Anschlußelek
trode auf einer zweiten Endoberfläche derselben vorgesehen
ist. Die ersten inneren Elektroden erstrecken sich heraus zu
der ersten Endoberfläche des Kondensators, um mit der ersten
äußeren Anschlußelektrode elektrisch verbunden zu sein. Zu
sätzlich erstrecken sich die zweiten inneren Elektroden he
raus zu der zweiten Endoberfläche des Kondensators, um mit
der zweiten äußeren Anschlußelektrode elektrisch verbunden
zu sein.
Bei dem im vorhergehenden beschriebenen Mehrschichtkonden
sator fließt beispielsweise Strom von der zweiten äußeren
Anschlußelektrode zu der ersten äußeren Anschlußelektrode,
und insbesondere fließt der Strom von der zweiten äußeren
Anschlußelektrode zu der zweiten inneren Elektrode, von der
aus der Strom durch eine dielektrische Schicht fließt, um
die erste innere Elektrode zu erreichen, wobei derselbe da
raufhin, nachdem er durch die erste innere Elektrode geflos
sen ist, die erste äußere Anschlußelektrode erreicht.
Wenn die Kapazität eines Kondensators durch das Symbol C
angezeigt wird, eine Äquivalenzreiheninduktivität (ESL; ESL
= equivalent series inductance) durch das Symbol L angezeigt
wird, und der Widerstandswert einer Elektrode, der als ein
Äquivalenzreihenwiderstandswert (ESR; ESR = equivalent
series resistance) bezeichnet wird, durch das Symbol R ange
zeigt wird, wird ein Ersatzschaltbild für den Kondensator
durch eine Schaltung dargestellt, bei der die Kapazität, die
Äquivalenzreiheninduktivität und der Äquivalenzreihenwider
standswert, die durch die Symbole C, L bzw. R angezeigt wer
den, in Reihe geschaltet sind.
Bei diesem Ersatzschaltbild ist eine Resonanzfrequenz f0
gleich einem Wert, der durch einen Ausdruck von
1/[2π × (L × C)1/2] erhalten wird, wobei die Schaltung bei
Frequenzen, die höher als die Resonanzfrequenz sind, nicht
als ein Kondensator wirkt. In anderen Worten ausgedrückt,
ist, wenn ein Wert von L, d. h. der Wert von ESL, klein ist,
die Resonanzfrequenz f0 höher, so daß die Schaltung bei hö
heren Frequenzen verwendet werden kann. Obwohl in Betracht
gezogen worden ist, Kupfer für die inneren Elektroden zu
verwenden, um den Wert von ESR zu reduzieren, ist ein Kon
densator mit einem reduzierten ESL-Wert erforderlich, wenn
der Kondensator in Mikrowellenbereichen verwendet wird.
Zusätzlich ist es bei einem Kondensator, der als ein Ent
kopplungskondensator verwendet wird, der mit einer Lei
stungsversorgungsschaltung verbunden ist, die Leistung zu
einem MPU-Chip als eine Mikroverarbeitungseinheit zuführt,
die in einer Arbeitsstation, einem Personalcomputer oder
anderen solchen elektronischen Vorrichtungen mit einem Pro
zessor enthalten ist, ferner notwendig, den ESL-Wert zu re
duzieren. Fig. 13 ist ein Blockdiagramm, das ein Beispiel
der Struktur darstellt, bei der eine MPU 1 und eine Lei
stungsversorgungseinheit 2 verbunden sind.
In Fig. 13 weist die MPU 1 einen MPU-Chip 3 und eine
Speichereinheit 4 auf. Die Leistungsversorgungseinheit 2
führt dem MPU-Chip 3 Leistung zu. Ein Entkopplungskonden
sator 5 ist mit einer Leistungsversorgungsschaltung von der
Leistungsversorgungseinheit 2 zu dem MPU-Chip 3 verbunden.
Zusätzlich ist auf der Seite der Speichereinheit 4 eine
Signalschaltung angeordnet, die sich von dem MPU-Chip 3 er
streckt.
Ähnlich zu einem typischen Typ eines Entkopplungskondensa
tors wird der Entkopplungskondensator 5, der in der im vor
hergehenden beschriebenen MPU 1 umfaßt ist, zum Absorbieren
von Rauschen und zum Glätten von Leistungsversorgungsschwan
kungen verwendet. Zusätzlich ist in neuerer Zeit die Her
stellung des MPU-Chips 3 mit einer Betriebsfrequenz von über
500 MHz und bis 1 GHz geplant worden. Hinsichtlich eines
solchen MPU-Chips 3 ist es, um Hochgeschwindigkeitsoperatio
nen zu erzielen, notwendig, eine schnelle Leistungsversor
gungsfunktion aufzuweisen, um die Leistung von der elek
trischen Leistung, die in einem Kondensator geladen ist,
binnen weniger Nanosekunden zuzuführen, wenn die Leistung
beispielsweise während des Einschaltens unmittelbar erfor
dert wird.
Folglich ist es bei dem Entkopplungskondensator 5, der bei
der MPU 1 verwendet wird, notwendig, daß derselbe eine In
duktivitätskomponente aufweist, die so niedrig wie möglich,
beispielsweise 10 pH oder weniger, ist. Folglich ist für
solche Anwendungen ein Kondensator mit einer solch niedrigen
Induktivität erforderlich.
Insbesondere wird bei einem bestimmten MPU-Chip 3 mit einer
Betriebstaktfrequenz von etwa 500 MHz eine Gleichleistung
von etwa 2,0 V zugeführt, wobei ein Leistungsverbrauch etwa
24 W beträgt, d. h. derselbe ist derart entworfen, daß ein
Strom von etwa 12 A fließt. Um den Leistungsverbrauch zu re
duzieren, wenn eine MPU 1 nicht arbeitet, wird ein Schlafmo
dus, bei dem der Leistungsverbrauch auf 1 W oder weniger ab
fällt, eingenommen. Wenn von einem Schlafmodus zu einem ak
tiven Modus gewechselt wird, muß dem MPU-Chip 3 die Lei
stung, die für den aktiven Modus notwendig ist, während des
Betriebstaktes zugeführt werden. Bei der Betriebsfrequenz
von 500 MHz muß beispielsweise, wenn von dem Schlafmodus zu
dem aktiven Modus gewechselt wird, die Leistung innerhalb
etwa 4 bis 7 Nanosekunden zugeführt werden.
Da es jedoch unmöglich ist, die im vorhergehenden beschrie
bene Leistung von der Leistungsversorgungseinheit 2 recht
zeitig zuzuführen, wird während der Zeitdauer, bevor die
Leistung von der Leistungsversorgungseinheit 2 zugeführt
wird, dem MPU-Chip 3 die Leistung zugeführt, indem die La
dung, die in dem Entkopplungskondensator 5 gespeichert ist,
der in der Nähe des MPU-Chips 3 angeordnet ist, freigesetzt
wird.
Wenn die Betriebstaktfrequenz 1 GHz beträgt, muß, um eine
solche Funktion zu erfüllen, der ESL-Wert des Entkopplungs
kondensators 5, der in der Nähe des MPU-Chips 3 angeordnet
ist, zumindest 10 pH oder weniger betragen.
Da der ESL-Wert des im vorhergehenden erwähnten herkömm
lichen Mehrschichtkondensators in einem Bereich von etwa 500 pH
bis 800 pH liegt, ist derselbe viel höher als der Wert
von 10 pH, der im vorhergehenden beschrieben wurde. Bei ei
nem Mehrschichtkondensator wird eine Induktivitätskomponente
erzeugt, da ein magnetischer Fluß mit einer Richtung, die
durch eine Richtung des Stromes, der durch den Mehrschicht
kondensator fließt, bestimmt wird, induziert wird, wodurch
eine Selbstinduktivitätskomponente erzeugt wird.
Bezüglich des im vorhergehenden beschriebenen Hintergrunds
werden die Strukturen von Mehrschichtkondensatoren, die in
der Lage sind, eine Reduzierung des ESL-Wertes zu erzielen,
beispielsweise in der japanischen ununtersuchten Patentan
meldung Nr. 2-256216, dem U.S.-Patent Nr. 5,880,925, der ja
panischen ununtersuchten Patentanmeldung Nr. 2-159008, der
japanischen ununtersuchten Patentanmeldung Nr. 11-144996 und
der japanischen ununtersuchten Patentanmeldung Nr. 7-201651
präsentiert.
Die im vorhergehenden erwähnte Reduzierung des ESL-Wertes
wird hauptsächlich dadurch erzielt, daß der magnetische
Fluß, der in dem Mehrschichtkondensator induziert wird, un
terdrückt bzw. ausgeglichen wird. Um eine solche Unter
drückung des magnetischen Flusses zu erzeugen, wird die
Richtung des Stromes, der durch den Mehrschichtkondensator
fließt, verschiedenartig eingestellt. Um die Richtung des
Stromes verschiedenartig einzustellen, wird zusätzlich die
Anzahl der Anschlußelektroden, die auf einer Außenoberfläche
des Kondensators angeordnet sind, und die Anzahl von Bau
teilen von inneren Elektroden, die sich erstrecken, um mit
den Anschlußelektroden elektrisch verbunden zu sein, erhöht,
wobei daraufhin die sich erstreckenden Teile der inneren
Elektroden angeordnet werden, um in verschiedenen Richtungen
angeordnet zu sein.
Die im vorhergehenden beschriebenen Maßnahmen zum Erhalten
eines reduzierten ESL-Wertes bei dem Mehrschichtkondensator,
wie er im vorhergehenden beschrieben wurde, sind jedoch
nicht wirksam genug. Obwohl beispielsweise eine Struktur,
bei der sich die inneren Elektroden zu den zwei gegenüber
liegenden Seitenoberflächen des Kondensators heraus er
strecken, in der japanischen ununtersuchten Patentanmeldung
Nr. 2-256216, dem U.S.-Patent Nr. 5,880,925 und der japa
nischen ununtersuchten Patentanmeldung Nr. 2-159008 be
schrieben ist, kann der ESL-Wert lediglich auf etwa 100 pH
herab reduziert werden.
Obwohl in der japanischen ununtersuchten Patentanmeldung Nr.
11-144996 eine Struktur beschrieben ist, bei der sich die
inneren Elektroden zu den vier Seitenoberflächen des Konden
sators heraus erstrecken, ist der wirksamste Wert von ESL in
diesem Fall ebenfalls nicht kleiner als 40 pH.
Obwohl darüber hinaus in der japanischen ununtersuchten Pa
tentanmeldung Nr. 7-201651 eine Struktur beschrieben ist,
bei der sich die inneren Elektroden zu der oberen und der
unteren Hauptoberfläche des Kondensators heraus erstrecken,
ist der wirksamste Wert von ESL in diesem Fall ebenfalls
nicht kleiner als 50 pH.
Um die ESL-Werte von 10 pH oder weniger zu erhalten, muß
folglich herkömmlicherweise bei einer Hochfrequenzschaltung
mit einer Leistungsversorgungsleitung, die für einen MPU-
Chip verwendet wird, der einen solchen Mehrschichtkondensa
tor umfaßt, eine Mehrzahl von parallel geschalteten Mehr
schichtkondensatoren an einem Verdrahtungssubstrat ange
bracht sein. Als ein Ergebnis wird die Fläche, die zum An
bringen der Mehrschichtkondensatoren erforderlich ist, sehr
erhöht, was eine Reduzierung der Kosten und der Größe der
elektronischen Vorrichtungen, die solche Hochfrequenzschal
tungen definieren, verhindert.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, einen
Mehrschichtkondensator mit einem kleineren ESL-Wert zu
schaffen.
Diese Aufgabe wird durch einen Mehrschichtkondensator gemäß
Anspruch 1 oder 18 gelöst.
Um die Probleme, die im vorhergehenden beschrieben wurden,
zu überwinden, liefern bevorzugte Ausführungsbeispiele der
vorliegenden Erfindung einen Mehrschichtkondensator, der
einen ESL-Wert sehr und wirksam reduziert, und liefern ein
Verdrahtungssubstrat, eine Entkopplungsschaltung und eine
Hochfrequenzschaltung, die einen solchen neuartigen Mehr
schichtkondensator umfassen.
Gemäß einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung wird ein Mehrschichtkondensator mit ei
nem Kondensatorhauptkörper, der eine Mehrzahl von laminier
ten dielektrischen Schichten aufweist, geliefert. Innerhalb
des Kondensatorhauptkörpers sind zumindest ein Paar von im
wesentlichen rechteckigen ersten inneren Elektroden und zu
mindest ein Paar von im wesentlichen rechteckigen zweiten
inneren Elektroden vorgesehen, die sich über spezifizierte
dielektrische Schichten der dielektrischen Schichten einan
der gegenüberliegen. Auf zumindest einer Hauptoberfläche,
die sich im wesentlichen parallel zu den ersten und zweiten
inneren Elektroden des Kondensators erstreckt, sind erste
äußere Anschlußelektroden und zweite äußere Anschlußelektro
den angeordnet.
Darüber hinaus sind eine Mehrzahl von ersten Durchführungs
leitern und eine Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern
innerhalb des Kondensators angeordnet. Die ersten Durchfüh
rungsleiter verlaufen durch spezifizierte dielektrische
Schichten der Mehrzahl von dielektrischen Schichten, um die
ersten inneren Elektroden und die ersten äußeren Anschluß
elektroden derart elektrisch zu verbinden, daß die ersten
Durchführungsleiter von den zweiten inneren Elektroden elek
trisch isoliert sind, wobei die zweiten Durchführungsleiter
durch spezifizierte dielektrische Schichten verlaufen, um
die zweiten inneren Elektroden und die zweiten äußeren An
schlußelektroden derart elektrisch zu verbinden, daß die
zweiten Durchführungsleiter von den ersten inneren Elektro
den elektrisch isoliert sind.
Die Mehrzahlen von ersten und zweiten Durchführungsleitern
sind über die gesamten Bereiche der ersten und zweiten inne
ren Elektroden verteilt.
Die ersten und zweiten Durchführungsleiter sind derart ange
ordnet, daß die ersten und zweiten Durchführungsleiter
magnetische Felder, die durch einen Strom, der durch die er
sten und zweiten inneren Elektroden fließt, induziert wird,
gegenseitig unterdrücken, wobei die ersten und zweiten
Durchführungsleiter benachbart zueinander angeordnet sind,
um im wesentlichen an Ecken eines Quadrats verteilt zu sein.
Um die im vorhergehenden erwähnten technologischen Probleme
zu lösen, wird, wenn ein Ausrichtungsabstand der ersten und
zweiten Durchführungsleiter durch P angezeigt wird, und die
Gesamtanzahl der ersten und zweiten Durchführungsleiter
durch N angezeigt wird, eine Anordnung derart eingestellt,
daß ein Verhältnis von P/N etwa 0,085 mm oder weniger be
trägt.
Ein wenig mehr vorzugsweise beträgt das Verhältnis P/N mehr
als etwa 0,04 mm.
Bei dem Mehrschichtkondensator gemäß den bevorzugten Ausfüh
rungsbeispielen der vorliegenden Erfindung sind die ersten
und zweiten äußeren Anschlußelektroden vorzugsweise in einer
punktierten Konfiguration entsprechend den ersten und zwei
ten Durchführungsleitern angeordnet.
In diesem Fall ist an jeder der ersten und zweiten äußeren
Anschlußelektroden ein Lötmittelhöcker vorgesehen.
Bei dem Mehrschichtkondensator gemäß bevorzugten Ausfüh
rungsbeispielen der vorliegenden Erfindung sind zusätzlich
vorzugsweise die ersten und zweiten äußeren Anschlußelektro
den lediglich auf einer Hauptoberfläche des Kondensators an
geordnet. Alternativ können die ersten und zweiten äußeren
Anschlußelektroden auf beiden Hauptoberflächen des Kondensa
tors angeordnet sein, oder die ersten äußeren Anschlußelek
troden können auf einer Hauptoberfläche des Kondensators
angeordnet sein, und die zweiten äußeren Anschlußelektroden
auf der anderen Hauptoberfläche desselben.
Der Mehrschichtkondensator gemäß den bevorzugten Ausfüh
rungsbeispielen der vorliegenden Erfindung kann angeordnet
sein, um einen Entkopplungskondensator zu definieren, der
mit einer Leistungsversorgungsschaltung für einen MPU-Chip
verbunden ist, der in einer Mikroverarbeitungseinheit als
eine MPU untergebracht ist.
Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung wird zusätzlich ein Verdrahtungssub
strat geliefert, an dem einer der im vorhergehenden be
schriebenen Mehrschichtkondensatoren angebracht ist.
Wie es im vorhergehenden beschrieben wurde, wird, wenn ein
Mehrschichtkondensator gemäß den bevorzugten Ausführungsbei
spielen der vorliegenden Erfindung an einem Verdrahtungssub
strat angebracht wird, als eines der spezifischen bevorzug
ten Ausführungsbeispiele ein MPU-Chip, der in einer Mikro
verarbeitungseinheit untergebracht ist, auf dem Verdrah
tungssubstrat angebracht. Zusätzlich kann auf dem Verdrah
tungssubstrat ein heiß-seitiger Leistungsversorgungsverdrah
tungsleiter zum Zuführen einer Leistung, die für den MPU-
Chip verwendet wird, und ein Masseverdrahtungsleiter ange
ordnet sein. Entweder die ersten äußeren Anschlußelektroden
oder die zweiten äußeren Anschlußelektroden des Mehrschicht
kondensators können mit dem heiß-seitigen Leistungsversor
gungsverdrahtungsleiter elektrisch verbunden sein, und die
anderen Anschlußelektroden der ersten äußeren Anschlußelek
troden und der zweiten äußeren Anschlußelektroden können mit
dem Masseverdrahtungsleiter verbunden sein.
Vorzugsweise können die ersten und zweiten äußeren Anschluß
elektroden jeweils durch einen Höcker mit dem im vorherge
henden beschriebenen Verdrahtungssubstrat verbunden sein.
Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung wird eine Entkopplungsschaltung mit
einem der neuartigen Mehrschichtkondensatoren, die im vorhergehenden
beschrieben wurden, geliefert.
Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung wird eine Hochfrequenzschaltung mit
einem der im vorhergehenden beschriebenen Mehrschichtkon
densatoren geliefert.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung
werden nachfolgend bezugnehmend auf die beiliegenden Zeich
nungen näher erläutert, wobei gleiche Bezugszeichen gleiche
Elemente anzeigen. Es zeigen:
Fig. 1 eine Draufsicht, die die innere Struktur eines
Mehrschichtkondensators gemäß einem ersten bevor
zugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfin
dung darstellt, wobei Fig. 1A eine Schnittober
fläche ist, bei der eine erste innere Elektrode
angeordnet ist, und Fig. 1B eine Schnittoberfläche
ist, bei der eine zweite innere Elektrode angeord
net ist;
Fig. 2 eine Schnittansicht, die entlang einer Linie II-II,
die in Fig. 1A und 1B gezeigt ist, entnommen ist;
Fig. 3 eine Draufsicht eines Mehrschichtkondensators gemäß
einem zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel der
vorliegenden Erfindung;
Fig. 4 eine Ansicht, die eine Toleranz bezüglich einer
Differenz zwischen Ausrichtungsabständen P1 und P2
von ersten Durchführungsleitern und zweiten Durch
führungsleitern in einer Richtung entlang jeder ei
ner ersten und zweiten Seite, die benachbart zuei
nander sind, in einem Quadrat, das einen Zustand
definiert, in dem die ersten und zweiten Durchfüh
rungsleiter verteilt sind, veranschaulicht;
Fig. 5 eine Schnittansicht eines Mehrschichtkondensators
gemäß einem dritten bevorzugten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung;
Fig. 6 eine Schnittansicht eines Mehrschichtkondensators
gemäß einem vierten bevorzugten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung;
Fig. 7 eine Schnittansicht, die ein strukturelles Beispiel
einer MPU mit dem Mehrschichtkondensator gemäß dem
ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorlie
genden Erfindung darstellt, der einen Entkopplungs
kondensator definiert; und
Fig. 8 ein Blockdiagramm, das die Struktur darstellt, in
der eine MPU und eine Leistungsversorgungseinheit
verbunden sind.
Fig. 1A, 1B und 2 zeigen jeweils einen Mehrschichtkondensa
tor 11 gemäß einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung. Fig. 1A und 1B sind Draufsich
ten, die die inneren Strukturen des Mehrschichtkondensators
11 darstellen, wobei Fig. 1A und 1B unterschiedliche
Schnittoberflächen zeigen. Zusätzlich ist Fig. 2 eine
Schnittansicht, die entlang einer Linie II-II, die in Fig.
1A und 1B gezeigt ist, entnommen ist.
Der Mehrschichtkondensator 11 weist einen Hauptkondensator
körper 13 mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen
Schichten 12 auf. Die dielektrischen Schichten 12 sind vor
zugsweise aus beispielsweise keramischen dielektrischen Ma
terialien hergestellt.
Innerhalb des Kondensatorkörpers 13 sind zumindest ein Paar
von ersten im wesentlichen rechteckigen inneren Elektroden
14 und zumindest ein Paar von zweiten im wesentlichen recht
eckigen inneren Elektroden 15 angeordnet, wobei sich die
Paare von Elektroden über eine spezifizierte dielektrische
Schicht 12 einander gegenüberliegen. Bei diesem bevorzugten
Ausführungsbeispiel weisen die ersten und zweiten inneren
Elektroden 14 bzw. 15 vorzugsweise eine im wesentlichen
quadratische Form auf. Zusätzlich sind eine Mehrzahl von
Paaren von ersten inneren Elektroden 14 und eine Mehrzahl
von Paaren von zweiten inneren Elektroden 15 angeordnet.
Darüber hinaus sind auf zumindest einer der Hauptoberflächen
16 und 17 des Kondensators 13, die sich im wesentlichen pa
rallel zu den inneren Elektroden 14 und 15 erstrecken, erste
äußere Anschlußelektroden 18 und zweite äußere Anschlußelek
troden 19 angeordnet. Bei dem ersten bevorzugten Ausfüh
rungsbeispiel sind diese äußeren Anschlußelektroden 18 und
19 vorzugsweise auf der Hauptoberfläche 17 vorgesehen.
Die ersten und zweiten äußeren Anschlußelektroden 18 bzw. 19
sind auf der Hauptoberfläche 17 derart angeordnet, daß die
äußeren Anschlußelektroden 18 und 19 in einer punktierten
Konfiguration angeordnet sind, die den Positionen der ersten
Durchführungsleiter 20 und der zweiten Durchführungsleiter
21 entspricht. Zusätzlich weisen bei diesem bevorzugten Aus
führungsbeispiel die ersten äußeren Anschlußelektroden 18
vorzugsweise leitfähige Anschlußflächen 22 auf, auf denen
Lötmittelhöcker 24 vorgesehen sind, wobei die zweiten äuße
ren Anschlußelektroden 19 vorzugsweise leitfähige Anschluß
flächen 23 aufweisen, auf denen Lötmittelhöcker 25 angeord
net sind.
Darüber hinaus verlaufen innerhalb des Kondensatorkörpers 13
eine Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern 20 durch spe
zifizierte dielektrische Schichten 12, um die ersten inneren
Elektroden 14 und die ersten äußeren Anschlußelektroden 18
derart elektrisch zu verbinden, daß die ersten Durchfüh
rungsleiter 20 von den zweiten inneren Elektroden 15 elek
trisch isoliert sind. Zusätzlich verläuft eine Mehrzahl von
zweiten Durchführungsleitern 21 durch spezifizierte dielek
trische Schichten 12, um die zweiten inneren Elektroden 15
und die zweiten äußeren Anschlußelektroden 19 derart elektrisch
zu verbinden, daß die zweiten Durchführungsleiter 21
von den ersten inneren Elektroden 14 elektrisch isoliert
sind.
Die Mehrzahlen von ersten und zweiten Durchführungsleitern
20 bzw. 21 sind vorzugsweise über die gesamten Bereiche der
ersten inneren Elektroden 14 und der zweiten inneren Elek
troden 15 verteilt.
Bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel sind die Mehrzahl
von ersten inneren Elektroden 14 und die Mehrzahl von zwei
ten inneren Elektroden 15 derart angeordnet, daß die Kapazi
täten, die zwischen den ersten inneren Elektroden 14 und den
zweiten inneren Elektroden 15 definiert sind, durch die er
sten und zweiten Durchführungsleiter 20 und 21 parallel ge
schaltet sind. Die parallel geschalteten Kapazitäten werden
zwischen den ersten und zweiten äußeren Anschlußelektroden
18 bzw. 19 herausgeführt.
Die ersten Durchführungsleiter 20 und die zweiten Durchfüh
rungsleiter 21 sind derart positioniert, daß die Durchfüh
rungsleiter 20 und 21 magnetische Felder, die durch einen
Strom, der durch die inneren Elektroden 14 und 15 fließt,
induziert wird, gegenseitig unterdrücken bzw. ausgleichen.
Zusätzlich sind die ersten Durchführungsleiter 20 und die
zweiten Durchführungsleiter 21 derart benachbart zueinander
positioniert, daß dieselben im wesentlichen an Ecken von im
wesentlichen quadratisch geformten Elektroden verteilt sind.
Wenn ein Ausrichtungsabstand der ersten und zweiten Durch
führungsleiter 20 bzw. 21 durch das Symbol P angezeigt wird,
und die Gesamtanzahl der ersten Durchführungsleiter 20 und
der zweiten Durchführungsleiter 21 durch das Symbol N ange
zeigt wird, beträgt gemäß der charakteristischen Struktur
des Mehrschichtkondensators gemäß bevorzugten Ausführungs
beispielen der vorliegenden Erfindung ein Wert von P/N vor
zugsweise etwa 0,085 mm oder weniger und beträgt vorzugswei
se etwa 0,04 mm oder weniger.
Wenn beispielsweise der spezifizierte Mehrschichtkondensator
11, der in Fig. 1A und 1B gezeigt ist, betrachtet wird, be
trägt, da die Gesamtanzahl N der ersten und zweiten Durch
führungsleiter 20 bzw. 21 bei diesem Mehrschichtkondensator
11 25 (5 × 5) beträgt, damit ein Wert von P/N von etwa 0,085 mm
oder weniger erhalten wird, der Ausrichtungsabstand P der
ersten und zweiten Durchführungsleiter 20 bzw. 21 etwa 2,215 mm
oder weniger (0,085 × 25 mm) und vorzugsweise, um einen
Wert von P/N von etwa 0,04 mm oder weniger zu erhalten, der
Ausrichtungsabstand P etwa 1 mm oder weniger (0,04 × 25 mm).
Wenn folglich der Ausrichtungsabstand P etwa 2,215 mm oder
weniger, beispielsweise etwa 2 mm, beträgt, können die er
sten und zweiten Durchführungsleiter 20 bzw. 21 mit der Ge
samtanzahl N von 25 (5 × 5) auf beispielsweise im wesent
lichen quadratischen inneren Elektroden 14 und 15, von denen
jede Seiten mit einer Länge von etwa 8 mm (2 × (5 - 1)) auf
weist, positioniert werden.
Von einem anderen Standpunkt aus betrachtet, beispielsweise
in dem Fall, wenn jede der ersten und zweiten inneren Elek
troden 14 bzw. 15 eine im wesentlichen quadratische Konfigu
ration (8 mm × 8 mm) aufweist, weist der Ausrichtungsabstand
P der Durchführungsleiter 20 und 21, wenn die ersten und
zweiten Durchführungsleiter 20 bzw. 21 mit einer Gesamtan
zahl N von 25 (5 × 5) angeordnet sind, um wie in den Fig. 1A
und 1B gezeigt verteilt zu sein, 2 mm (8 ÷ 4), wobei der Wert
von P/N etwa 0,08 mm (2/25 mm) beträgt, mit dem Ergebnis,
daß das Verhältnis P/N = 0,085 mm erfüllt werden kann.
Solche Bedingungen werden durch Tests erhalten, die durchge
führt werden, um die Auswirkungen des Reduzierens eines
ESL-Werts abzuschätzen. Im folgenden wird eine Beschreibung
der Ergebnisse der Tests gegeben werden.
Basierend auf der Struktur zum Anordnen des Mehrschichtkon
densators 11, wie er in Fig. 1A, 1B und Fig. 2 gezeigt ist,
wurden für drei Fälle von Abmessungen von etwa 2,5 mm × 2,5 mm,
4,5 mm × 4,5 mm und 10,0 mm × 10,0 mm hinsichtlich der
Hauptoberflächen 16 und 17, die in dem Kondensator 13 umfaßt
sind, Werte von ESL erhalten. Bezüglich der drei Testproben
mit den unterschiedlichen Abmessungen der Hauptoberflächen
wurde die Gesamtanzahl N der Durchführungsleiter 20 und 21
geändert, wobei gemäß dem Wert von N ebenfalls der Ausrich
tungsabstand P der Durchführungsleiter 20 und 21 geändert
wurde, um einen ESL-Wert zu erhalten. In diesem Fall wurde
jeder ESL-Wert aus einer Eigenresonanzfrequenz erhalten, die
durch Messen von Frequenzcharakteristika mit einem Netzwerk
analysator erhalten wurde.
In der folgenden Tabelle 1 sind bei einem Mehrschichtkonden
sator, der Hauptoberflächen mit Abmessungen von etwa 2,5 mm
× 2,5 mm und innere Elektroden mit Abmessungen von etwa 2,0 mm
× 2,0 mm aufweist, die Beziehungen zwischen den Werten
von P/N und den Werten von ESL gezeigt, wenn die Gesamtan
zahl N der Durchführungsleiter und der Ausrichtungsabstand P
der Durchführungsleiter geändert wurde.
In Tabelle 2 im folgenden sind bei einem Mehrschichtkonden
sator, der Hauptoberflächen mit Abmessungen von etwa 4,5 mm
× 4,5 mm und innere Elektroden mit Abmessungen von etwa 4,0 mm
× 4,0 mm aufweist, die Beziehungen zwischen den Werten
von P/N und den Werten von ESL gezeigt, wenn die Gesamtan
zahl N der Durchführungsleiter und der Ausrichtungsabstand P
der Durchführungsleiter geändert wurde.
In der im folgenden gegebenen Tabelle 3 sind bei einem Mehr
schichtkondensator, der Hauptoberflächen mit Abmessungen von
etwa 10,0 mm × 10,0 mm und innere Elektroden mit Abmessungen
von etwa 8,0 mm × 8,0 mm aufweist, die Beziehungen zwischen
den Werten von P/N und den Werten von ESL gezeigt, wenn die
Gesamtanzahl N von Durchführungsleitern und der Ausrich
tungsabstand P der Durchführungsleiter geändert wurde.
In den Tabellen 1 bis 3 zeigen die Testproben mit den Num
mern mit der *-Markierung die Fälle an, die sich außerhalb
eines Bereichs von bevorzugten Ausführungsbeispielen der
vorliegenden Erfindung befinden.
Bezugnehmend auf die Tabellen 1 bis 3 wird unabhängig von
den Abmessungen der inneren Elektroden eine Korrelation
zwischen den Werten von P/N und den Werten von ESL bestä
tigt.
In anderen Worten ausgedrückt, können die ESL-Werte von 30 pH
oder weniger bei den Testprobennummern 1, 2, 5 bis 7, 10,
11 und 15 bis 17 erhalten werden, wenn die Werte von P/N
etwa 0,085 mm oder weniger betragen. Wie es in den Fällen
der Testprobennummern 1, 5 und 6 ersichtlich ist, können
insbesondere, wenn der Wert von P/N etwa 0,04 mm oder weni
ger beträgt, die ESL-Werte von 16 pH oder weniger erzielt
werden.
Auf diese Weise gilt, daß der Wert von ESL umso kleiner ist,
je kleiner der Wert von P/N ist. Wie es beispielsweise bei
den Testproben 1 und 5 gezeigt ist, beträgt der Wert von P/N
etwa 0,022 mm oder weniger, wobei ein ESL-Wert von 10 pH
oder weniger erzielt werden kann.
Bei den im vorhergehenden beschriebenen bevorzugten Ausfüh
rungsbeispielen können, obwohl die ersten und zweiten inne
ren Elektroden 14 bzw. 15 vorzugsweise im wesentlichen qua
dratische Konfigurationen aufweisen, die Konfigurationen
dieser inneren Elektroden geändert werden, wobei beispiels
weise die inneren Elektroden im wesentlichen rechteckige
Konfigurationen aufweisen können.
Fig. 3 zeigt einen Mehrschichtkondensator 26 gemäß einem
zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden
Erfindung. Diese Ansicht in Fig. 3 ist äquivalent zu der
Ansicht, die in Fig. 1A gezeigt ist. Bei dem Mehrschicht
kondensator 26, der in Fig. 3 gezeigt ist, weisen, wie es im
vorhergehenden beschrieben wurde, die ersten und zweiten
inneren Elektroden 14 bzw. 15 vorzugsweise im wesentlichen
rechteckige Konfigurationen auf. In Fig. 3 werden die
gleichen Bezugszeichen verwendet, um gleiche Elemente wie
diejenigen, die in Fig. 1A und 1B gezeigt sind, anzuzeigen,
wobei eine Erklärung derselben weggelassen wird.
Wie es im vorhergehenden beschrieben wurde, wurden basierend
auf der Struktur des Mehrschichtkondensators 26 mit den im
wesentlichen rechteckigen ersten und zweiten inneren Elek
troden 14 bzw. 15, die Werte von ESL, die erhalten wurden,
wenn die Gesamtanzahl N der Durchführungsleiter 20 und 21
und der Ausrichtungsabstand der Durchführungsleiter 20 und
21 geändert wurde, durch das selbe Verfahren wie dasjenige,
das bei den Tabellen 1 bis 3 verwendet wurde, erhalten. In
Fig. 3 sind die zweiten inneren Elektroden 15 nicht gezeigt.
In Tabelle 4 im folgenden sind bei einem Mehrschichtkonden
sator, der Hauptoberflächen mit Abmessungen von etwa 2,5 mm
× 4,5 mm und innere Elektroden mit Abmessungen von 2,0 mm ×
4,0 mm aufweist, die Beziehungen zwischen den Werten von P/N
und den Werten von ESL gezeigt, wenn die Gesamtanzahl N der
Durchführungsleiter und der Ausrichtungsabstand P der Durch
führungsleiter geändert wurde.
In Tabelle 4 zeigen die Testprobennummern mit einer *-Mar
kierung eine Testprobe, die sich außerhalb des Bereichs der
vorliegenden Erfindung befindet.
Wie es in Tabelle 4 gezeigt ist, ergibt sich, sogar falls
die inneren Elektroden rechteckig sind, eine bestimmte Kor
relation zwischen den Werten von P/N und ESL. Zusätzlich
können ähnlich zu den Fällen der Tabellen 1 bis 3, wenn die
Werte von P/N 0,085 mm oder weniger betragen, wie es bei den
Testproben 15 bis 17 gezeigt ist, ESL-Werte von 30 pH oder
weniger erhalten werden. Darüber hinaus können, wenn die
Werte von P/N etwa 0,04 mm oder weniger betragen, wie es bei
den Testproben 15 und 16 gezeigt ist, ESL-Werte von 16 pH
oder weniger und insbesondere von etwa 12,7 pH oder weniger
erzielt werden.
Sogar falls die inneren Elektroden im wesentlichen recht
eckig sind, gilt zusätzlich, daß der Wert von ESL umso klei
ner ist, je kleiner der Wert von P/N ist. Wenn die Werte von
P/N etwa 0,011 mm oder weniger betragen, kann, wie es bei
der Testprobe 15 gezeigt ist, ein sehr niedriger ESL-Wert
von etwa 5,72 pH erhalten werden.
Wie es in den Fig. 1A und 1B oder Fig. 3 gezeigt ist, sind
bei diesen bevorzugten Ausführungsbeispielen die ersten
Durchführungsleiter 20 benachbart zu den zweiten Durchfüh
rungsleitern 21 auf eine solche Art und Weise angeordnet,
daß die ersten und zweiten Durchführungsleiter 20 bzw. 21 im
wesentlichen an jeder Ecke eines im wesentlichen quadratför
migen Teils positioniert sind. Das Quadrat, das eine solche
Verteilung der ersten und zweiten Durchführungsleiter 20
bzw. 21 definiert, muß nicht notwendigerweise ein geome
trisch präzises Quadrat sein. Dies wird bezugnehmend auf
Fig. 4 veranschaulicht werden.
In Fig. 4 sind einige der ersten und zweiten Durchführungs
leiter 20 und 21 dargestellt, wobei ein im wesentlichen
quadratförmiger Teil 27 den Zustand definiert, in dem die
Durchführungsleiter 20 und 21 verteilt sind.
Bei dem im wesentlichen quadratförmigen Teil 27 wird bezüg
lich der Längen der benachbarten ersten und zweiten Seiten
28 bzw. 29, d. h. bezüglich eines Ausrichtungsabstands P1 in
einer Richtung der ersten Seite 28 und eines Ausrichtungsab
stands P2 in einer Richtung der zweiten Seite 29, wenn P1
gleich oder größer P2 ist, eine Konfiguration, die eine Un
gleichung P1/P2 < 1,2 erfüllt, bei dieser Anmeldung bei
spielsweise im wesentlichen ebenfalls als ein im wesent
lichen quadratförmiger Teil erachtet. Wenn jedoch eine Un
gleichung P1/P2 ≧ 1,2 erfüllt ist, kann der magnetische
Fluß, der innerhalb der inneren Elektroden erzeugt wird,
nicht wirksam unterdrückt werden, mit dem Ergebnis, daß eine
Reduzierung des ESL-Werts nicht ausreichend erzielt werden
kann.
Fig. 5 zeigt einen Mehrschichtkondensator 30 gemäß einem
dritten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Er
findung. Diese Ansicht ist äquivalent zu der Ansicht, die in
Fig. 2 gezeigt ist. In Fig. 5 werden die gleichen Bezugs
zeichen verwendet, um gleiche Elemente wie diejenigen, die
in Fig. 2 gezeigt sind, anzuzeigen, wobei eine Erklärung
derselben weggelassen wird.
Bei dem Mehrschichtkondensators 30, der in Fig. 5 gezeigt
ist, sind die ersten äußeren Anschlußelektroden 18 auf einer
Hauptoberfläche 16 des Kondensators 13 angeordnet, wobei die
zweiten äußeren Anschlußelektroden 19 auf der anderen Haupt
oberfläche 17 desselben angeordnet sind.
Fig. 6 zeigt einen Mehrschichtkondensator 31 gemäß einem
vierten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Er
findung. Diese Ansicht ist äquivalent zu der Ansicht, die in
Fig. 2 gezeigt ist. In Fig. 6 werden die gleichen Bezugs
zeichen verwendet, um gleiche Elemente wie diejenigen, die
in Fig. 2 gezeigt sind, anzuzeigen, wobei eine Erklärung
derselben weggelassen wird.
Bei dem Mehrschichtkondensators 31, der in Fig. 6 gezeigt
ist, sind sowohl die ersten als auch die zweiten äußeren
Anschlußelektroden 18 und 19 auf den zwei Hauptoberflächen
16 und 17 des Kondensators 13 angeordnet.
Bei dem Mehrschichtkondensator 11, der in Fig. 2 gezeigt
ist, sind Ströme, die an dem Abschnitt, der in Fig. 2 ge
zeigt ist, in den ersten Durchführungsleitern 20 und den
zweiten Durchführungsleitern 21 fließen, umgekehrt zuei
nander. Im Gegensatz dazu können bei dem Mehrschichtkonden
sator 30, der in Fig. 5 gezeigt ist, und dem Mehrschichtkon
densator 31, der in Fig. 6 gezeigt ist, die Richtungen der
Ströme, die in den ersten Durchführungsleitern 20 und den
zweiten Durchführungsleitern 21 fließen, die selben sein.
Hinsichtlich der Vorteile bezüglich der Reduzierung des
ESL-Werts ist es dementsprechend offensichtlich, daß der
Mehrschichtkondensator 11, der in Fig. 2 gezeigt ist, größe
re Vorteile als in den Fällen des Mehrschichtkondensators
30, der in Fig. 5 gezeigt ist, und des Mehrschichtkondensa
tors 31, der in Fig. 6 gezeigt ist, liefert.
Wie es im vorhergehenden beschrieben wurde, wird der Mehr
schichtkondensator gemäß der vorliegenden Erfindung unter
Bezugnahme auf jedes der bevorzugten Ausführungsbeispiele,
die in den Figuren gezeigt sind, veranschaulicht. Andere
verschiedene Modifikationen können jedoch bezüglich der An
zahl und Positionen der inneren Elektroden, der äußeren
Anschlußelektroden und der Durchführungsleiter, die bei der
vorliegenden Erfindung verwendet werden, angewendet werden,
solange die Anzahlen und Positionen derselben die Bedingun
gen des Werts für das Verhältnis P/N, die im vorhergehenden
beschrieben wurden, erfüllen. Darüber hinaus sollte die
Querschnittkonfiguration der Durchführungsleiter nicht auf
die im wesentlichen kreisförmigen Formen begrenzt werden,
die in den Figuren gezeigt sind. Es können beispielsweise
stattdessen viereckige oder im wesentlichen sechseckige Kon
figurationen verwendet werden.
Der Mehrschichtkondensator gemäß den bevorzugten Ausfüh
rungsbeispielen der vorliegenden Erfindung kann beispiels
weise vorzugsweise als ein Entkopplungskondensator 5 verwen
det werden, der in der im vorhergehenden erwähnten MPU 1,
die in Fig. 8 gezeigt ist, angeordnet ist. Das strukturelle
Beispiel in Fig. 7 zeigt die Struktur einer MPU, die den
Mehrschichtkondensator der vorliegenden Erfindung als einen
Entkopplungskondensator verwendet.
Bezugnehmend auf Fig. 7 weist eine MPU 33 ein Verdrahtungs
substrat 35 mit einer Mehrschichtstruktur auf, in der ein
Hohlraum 34 an der unteren Oberfläche derselben angeordnet
ist. Ein MPU-Chip 36 ist auf der oberen Oberfläche des Ver
drahtungssubstrats 35 oberflächenangebracht. Innerhalb des
Hohlraums 34 des Verdrahtungssubstrats 35 ist zusätzlich der
Mehrschichtkondensator gemäß verschiedener bevorzugter Aus
führungsbeispiele der vorliegenden Erfindung enthalten, der
angeordnet ist, um einen Entkopplungskondensator zu definie
ren. Ein solcher Mehrschichtkondensator ist beispielsweise
der Mehrschichtkondensator 11, der gemäß dem ersten bevor
zugten Ausführungsbeispiel aufgebaut ist. Darüber hinaus ist
das Verdrahtungssubstrat 35 an einer Hauptplatine 37 ober
flächenangebracht.
Wie es schematisch in der Figur gezeigt ist, sind Verdrah
tungsleiter, die bei der MPU 33 notwendig sind, auf einer
Oberfläche des Verdrahtungssubstrats 35 und in dem Inneren
des Verdrahtungssubstrats 35 angeordnet. Mit diesen Verdrah
tungsleitern werden Verbindungen, die in Fig. 8 gezeigt
sind, erhalten. Als repräsentative Leiter unter den Verdrah
tungsleitern sind innerhalb des Verdrahtungssubstrats 35
eine heiß-seitige Leistungsversorgungselektrode 38 und eine
Masseelektrode 39 angeordnet.
Die heiß-seitige Leistungsversorgungselektrode 38 ist über
einen heiß-seitigen Leistungsversorgungsdurchkontaktierungs
lochleiter 40 mit einer ersten äußeren Anschlußelektrode 18
des Mehrschichtkondensators 11 und über einen heiß-seitigen
Leistungsversorgungsdurchkontaktierungslochleiter 41 mit ei
nem spezifizierten Anschluß 42 des MPU-Chips 36 elektrisch
verbunden. Darüber hinaus ist die heiß-seitige Leistungsver
sorgungselektrode 38 über einen heiß-seitigen Leistungsver
sorgungsdurchkontaktierungslochleiter 43 mit einer heiß-sei
tigen leitfähigen Kontaktierungsfläche 44 einer Hauptplatine
37 elektrisch verbunden.
Zusätzlich ist eine Masseelektrode 39 über einen Massedurch
kontaktierungslochleiter 45 mit einer zweiten äußeren An
schlußelektrode 19 des Mehrschichtkondensators 11 und über
einen Massedurchkontaktierungslochleiter 46 mit einem spe
zifizierten Anschluß 46 des MPU-Chips 36 elektrisch verbun
den. Darüber hinaus ist die Masseelektrode 39 über einen
Massedurchkontaktierungslochleiter 48 mit einer massesei
tigen leitfähigen Kontaktierungsfläche 49 der Hauptplatine
37 elektrisch verbunden.
Bei dem Mehrschichtkondensator 11, der im vorhergehenden
beschrieben wurde, sind die ersten und zweiten äußeren An
schlußelektroden 18 und 19 durch Höcker mit den Durchkon
taktierungslochleitern 40 und 45 verbunden, obwohl dies in
Fig. 7 nicht detailliert gezeigt ist.
In Fig. 7 ist eine Speichereinheit, die zu der Speicherein
heit 4, die in Fig. 8 gezeigt ist, äquivalent ist, weggelas
sen worden.
Wie es im vorhergehenden beschrieben wurde, sind gemäß dem
Mehrschichtkondensator gemäß der vorliegenden Erfindung zu
mindest ein Paar von ersten inneren Elektroden und zumindest
ein Paar von zweiten inneren Elektroden, die sich über spe
zifizierte dielektrische Schichten einander gegenüber lie
gen, innerhalb eines Kondensatorhauptkörpers angeordnet, der
eine Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten auf
weist. Die Hauptoberflächen des Kondensators erstrecken sich
im wesentlichen parallel zu den inneren Elektroden, wobei
erste äußere Anschlußelektroden und zweite äußere Anschluß
elektroden auf einer der Hauptoberflächen angeordnet sind.
Innerhalb des Kondensators sind eine Mehrzahl von ersten
Durchführungsleitern, die die ersten inneren Elektroden und
die ersten äußeren Anschlußelektroden elektrisch verbinden,
und eine Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern, die die
zweiten inneren Elektroden und die zweiten äußeren Anschluß
elektroden elektrisch verbinden, angeordnet. In dieser Si
tuation kann, da die ersten und zweiten Durchführungsleiter
auf eine solche Art und Weise angeordnet sind, daß die
Durchführungsleiter magnetische Felder, die durch einen
Strom, der durch die inneren Elektroden fließt, induziert
wird, gegenseitig unterdrücken, ein Strom, der durch den
Mehrschichtkondensator fließt, in verschiedene Richtungen
ausgerichtet werden, und die Länge des Stroms verkürzt werden.
Als ein Ergebnis wird der Wert von ESL sehr klein.
Darüber hinaus sind die Mehrzahlen von ersten und zweiten
Durchführungsleitern über die gesamten Regionen der ersten
und zweiten inneren Elektroden verteilt, wobei die ersten
Durchführungsleiter auf eine solche Art und Weise benachbart
zu den zweiten Durchführungsleitern angeordnet sind, daß die
ersten und zweiten Durchführungsleiter im wesentlichen an
jeder Ecke eines im wesentlichen quadratförmigen Teils posi
tioniert sind. In diesem Fall ist, wenn ein Ausrichtungsab
stand der ersten und zweiten Durchführungsleiter durch das
Symbol P angezeigt wird, und die Gesamtanzahl der ersten und
zweiten Durchführungsleiter durch das Symbol N angezeigt
wird, ein Wert von P/N auf etwa 0,085 mm oder weniger einge
stellt. Dementsprechend kann, da die Anzahl der Durchfüh
rungsleiter erhöht wird, während der Ausrichtungsabstand en
ger gemacht wird, im wesentlichen eine weitere Reduzierung
des ESL-Werts erzielt werden.
Auf diese Weise kann, da die bevorzugten Ausführungsbei
spiele der vorliegenden Erfindung einen Bereich für den Wert
von P/N definieren, der den ESL-Wert wirksam reduziert, ein
geeignetes Entwerfen eines Mehrschichtkondensators zum Re
duzieren des ESL-Werts einfach erzielt werden.
Darüber hinaus ist bei den bevorzugten Ausführungsbeispielen
der vorliegenden Erfindung, da der ESL-Wert, wie es im vor
hergehenden beschrieben wurde, reduziert werden kann, eine
Resonanzfrequenz des Mehrschichtkondensators viel höher, wo
bei das Frequenzband der Mehrschichtkondensatordienste viel
höher ist. Dementsprechend ist der Mehrschichtkondensator
der bevorzugten Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfin
dung ausreichend anpaßbar, wenn die Frequenzen von elektro
nischen Schaltungen höher sind. Der Mehrschichtkondensator
der bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Er
findung kann beispielsweise als ein Überbrückungskondensator
oder ein Entkopplungskondensator verwendet werden, der bei
Hochfrequenzschaltungen umfaßt ist.
Obwohl eine schnelle Leistungsversorgungsfunktion bei dem
Entkopplungskondensator erforderlich ist, der verwendet
wird, indem derselbe mit einem MPU-Chip oder einer anderen
solchen Vorrichtung kombiniert wird, ist der Mehrschichtkon
densator gemäß den bevorzugten Ausführungsbeispielen der
vorliegenden Erfindung ausreichend auf die Hochgeschwindig
keitsoperationen anpaßbar, die für die schnelle Leistungs
versorgungsfunktion durchgeführt werden, da der ESL-Wert des
Kondensators sehr klein ist.
Wenn zusätzlich der Mehrschichtkondensator der bevorzugten
Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung an einem ge
eigneten Verdrahtungssubstrat angebracht wird, können die
äußeren Anschlußelektroden, die bei dem Mehrschichtkondensa
tor verwendet werden, vorteilhafterweise durch Höcker ver
bunden werden. Heutzutage besteht beispielsweise bei Halb
leiterchips, wie z. B. MPU-Chips, eine Tendenz dazu, Ver
bindungen durch Höcker herzustellen, da die Betriebsfrequen
zen höher werden. Das Anordnen von Hauptoberflächenanschluß
elektroden stimmt mit dieser Tendenz überein. Verbindungen
durch Höcker ermöglichen es ferner, daß eine Anbringung mit
hoher Dichte erzielt werden kann, durch die die Erzeugung
einer parasitären Induktivität in den Verbindungen unter
drückt werden kann.
Bei bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Er
findung weisen die einzigartigen Merkmale, die im folgenden
beschrieben werden, Vorteile auf, bei denen eine Unter
drückung der im vorhergehenden erwähnten magnetischen Felder
sehr erhöht und eine elektrische Länge erheblich verkürzt
wird, was zu einer wirksameren Reduzierung des ESL-Werts des
Kondensators führt. Solche einmaligen Merkmale umfassen, daß
ein Wert von P/N nicht mehr als etwa 0,04 mm beträgt, und
daß die ersten und zweiten äußeren Anschlußelektroden ledig
lich an einer Hauptoberfläche des Kondensators angeordnet
sind.
Claims (37)
1. Mehrschichtkondensator mit folgenden Merkmalen:
einem Kondensatorkörper (13) mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten (12);
zumindest einem Paar von ersten inneren Elektroden (14) und zumindest einem Paar von zweiten inneren Elektroden (15), wobei sich die Paare von inneren Elektroden (14, 15) über spezifizierte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schich ten (12), die innerhalb des Kondensatorkörpers (13) angeordnet sind, gegenüberliegen;
ersten äußeren Anschlußelektroden (18) und zweiten äußeren Anschlußelektroden (19), die auf zumindest einer Hauptoberfläche (17), die sich im wesentlichen parallel zu den inneren Elektroden (14, 15) erstreckt, angeordnet sind; und
einer Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern (20) und einer Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern (21), die innerhalb des Kondensatorkörpers (13) ange ordnet sind, wobei die ersten Durchführungsleiter (20) durch spezifizierte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlaufen, um die ersten inneren Elektroden (14) und die ersten äußeren Anschlußelektroden (18) derart elektrisch zu verbinden, daß die ersten Durchführungsleiter (20) von den zweiten inneren Elektroden (15) elektrisch iso liert sind, und wobei die zweiten Durchführungsleiter (21) durch spezifizierte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlau fen, um die zweiten inneren Elektroden (15) und die zweiten äußeren Anschlußelektroden (19) derart elek trisch zu verbinden, daß die zweiten Durchführungslei ter (21) von den ersten inneren Elektroden (14) elektrisch isoliert sind;
wobei die Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern (20) und die Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern (21) über die gesamten Bereiche der ersten und zweiten inneren Elektroden (14, 15) verteilt sind;
wobei die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) derart angeordnet sind, daß die Durchführungslei ter (20, 21) magnetische Felder, die durch einen Strom, der durch die inneren Elektroden (14, 15) fließt, induziert werden, gegenseitig unterdrücken, und wobei die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) benachbart zueinander angeordnet sind, um im wesentlichen an jeder Ecke einer im wesentlichen qua dratförmigen Kontur angeordnet zu sein; und
wobei, wenn ein Ausrichtungsabstand der ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) durch P angezeigt wird, und die Gesamtanzahl der ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) durch N angezeigt wird, eine Anordnung derart eingestellt ist, daß ein Wert von P/N etwa 0,085 mm oder weniger beträgt.
einem Kondensatorkörper (13) mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten (12);
zumindest einem Paar von ersten inneren Elektroden (14) und zumindest einem Paar von zweiten inneren Elektroden (15), wobei sich die Paare von inneren Elektroden (14, 15) über spezifizierte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schich ten (12), die innerhalb des Kondensatorkörpers (13) angeordnet sind, gegenüberliegen;
ersten äußeren Anschlußelektroden (18) und zweiten äußeren Anschlußelektroden (19), die auf zumindest einer Hauptoberfläche (17), die sich im wesentlichen parallel zu den inneren Elektroden (14, 15) erstreckt, angeordnet sind; und
einer Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern (20) und einer Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern (21), die innerhalb des Kondensatorkörpers (13) ange ordnet sind, wobei die ersten Durchführungsleiter (20) durch spezifizierte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlaufen, um die ersten inneren Elektroden (14) und die ersten äußeren Anschlußelektroden (18) derart elektrisch zu verbinden, daß die ersten Durchführungsleiter (20) von den zweiten inneren Elektroden (15) elektrisch iso liert sind, und wobei die zweiten Durchführungsleiter (21) durch spezifizierte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlau fen, um die zweiten inneren Elektroden (15) und die zweiten äußeren Anschlußelektroden (19) derart elek trisch zu verbinden, daß die zweiten Durchführungslei ter (21) von den ersten inneren Elektroden (14) elektrisch isoliert sind;
wobei die Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern (20) und die Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern (21) über die gesamten Bereiche der ersten und zweiten inneren Elektroden (14, 15) verteilt sind;
wobei die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) derart angeordnet sind, daß die Durchführungslei ter (20, 21) magnetische Felder, die durch einen Strom, der durch die inneren Elektroden (14, 15) fließt, induziert werden, gegenseitig unterdrücken, und wobei die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) benachbart zueinander angeordnet sind, um im wesentlichen an jeder Ecke einer im wesentlichen qua dratförmigen Kontur angeordnet zu sein; und
wobei, wenn ein Ausrichtungsabstand der ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) durch P angezeigt wird, und die Gesamtanzahl der ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) durch N angezeigt wird, eine Anordnung derart eingestellt ist, daß ein Wert von P/N etwa 0,085 mm oder weniger beträgt.
2. Mehrschichtkondensator gemäß Anspruch 1, bei dem der
Wert von P/N gleich oder kleiner etwa 0,04 mm ist.
3. Mehrschichtkondensator gemäß Anspruch 1 oder 2, bei
dem die ersten und zweiten äußeren Anschlußelektroden
(18, 19) in einer punktierten Konfiguration ent
sprechend den Positionen der ersten und zweiten Durch
führungsleiter (20, 21) angeordnet sind.
4. Mehrschichtkondensator gemäß Anspruch 3, bei dem an
jeder der ersten und zweiten äußeren Anschlußelektro
den (18, 19) ein Lötmittelhöcker (24) vorgesehen ist.
5. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis
4, bei dem die ersten und zweiten äußeren Anschluß
elektroden (18, 19) lediglich auf einer Hauptober
fläche (17) des Kondensators (13) angeordnet sind.
6. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis
4, bei dem die ersten und zweiten äußeren Anschluß
elektroden (18, 19) auf beiden Hauptoberflächen (16,
17) des Kondensators (13) angeordnet sind.
7. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis
4, bei dem die ersten äußeren Anschlußelektroden (18)
auf einer Hauptoberfläche (16) des Kondensators (13)
angeordnet sind, und die zweiten äußeren Anschlußelek
troden (19) auf der anderen Hauptoberfläche (17) des
selben angeordnet sind.
8. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis
7, wobei der Mehrschichtkondensator angeordnet ist, um
einen Entkopplungskondensator zu definieren, der für
eine Verbindung mit einer Leistungsversorgungsschal
tung für einen MPU-Chip, der in einer Mikroverarbei
tungseinheit untergebracht ist, angepaßt ist.
9. Verdrahtungssubstrat (35) mit einem Mehrschichtkonden
sator gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8, der auf dem
selben angebracht ist.
10. Verdrahtungssubstrat (35) gemäß Anspruch 9, bei dem
ein MPU-Chip (36), der in einer Mikroverarbeitungs
einheit untergebracht ist, auf dem Verdrahtungssub
strat (35) mit einem heiß-seitigen Leistungsversor
gungsverdrahtungsleiter (38, 41, 43) zum Zuführen von
Leistung, die für den MPU-Chip (36) verwendet wird,
und einem Masseverdrahtungsleiter (39, 46, 48) ange
bracht ist, wobei entweder die ersten äußeren An
schlußelektroden (18) oder die zweiten äußeren An
schlußelektroden (19), die in dem Mehrschichtkonden
sator umfaßt sind, mit dem heiß-seitigen Leistungsversorgungsverdrahtungsleiter
(38, 41, 43) elektrisch
verbunden sind, und die anderen Anschlußelektroden der
ersten äußeren Anschlußelektroden (18) und der zweiten
äußeren Anschlußelektroden (19) mit dem Masseverdrah
tungsleiter (39, 46, 48) verbunden sind.
11. Verdrahtungssubstrat (35) gemäß Anspruch 10, bei dem
die ersten und zweiten äußeren Anschlußelektroden (18,
19) jeweils durch einen Höcker (24) mit dem Verdrah
tungssubstrat (35) verbunden sind.
12. Entkopplungsschaltung mit einem Mehrschichtkondensator
gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8.
13. Hochfrequenzschaltung mit einem Mehrschichtkondensator
gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8.
14. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis
8, bei dem das zumindest eine Paar von ersten inneren
Elektroden (14) und das zumindest eine Paar von zwei
ten inneren Elektroden (15) eine im wesentlichen
rechteckförmige Konfiguration aufweisen.
15. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis
8, bei dem das zumindest eine Paar von ersten inneren
Elektroden (14) und das zumindest eine Paar von zwei
ten inneren Elektroden (15) eine im wesentlichen qua
dratförmige Konfiguration aufweisen.
16. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis
8, 14 oder 15, bei dem eine Querschnittkonfiguration
der Durchführungsleiter (20, 21) im wesentlichen
kreisförmig ist.
17. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis
8, 14 oder 15, bei dem eine Querschnittkonfiguration
der Durchführungsleiter (20, 21) im wesentlichen vier
eckig und im wesentlichen sechseckig ist.
18. Mehrschichtkondensator mit folgenden Merkmalen:
einem Kondensatorkörper (13) mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten (12) und vier Seiten;
zumindest einem Paar von ersten inneren Elektroden (14) und zumindest einem Paar von zweiten inneren Elektroden (15), wobei sich die Paare von ersten inne ren Elektroden (14) und zweiten inneren Elektroden (15) über eine der Mehrzahl der dielektrischen Schich ten (12), die innerhalb des Kondensatorkörpers (13) und an verschiedenen Positionen in dem Kondensatorkör per (13) angeordnet sind, gegenüberliegen;
ersten äußeren Anschlußelektroden (18) und zweiten äußeren Anschlußelektroden (19), die auf zumindest ei ner Hauptoberfläche (17) des Kondensatorkörpers (13) angeordnet sind, wobei sich die Hauptoberfläche (17) im wesentlichen parallel zu den inneren Elektroden (14, 15) erstreckt;
einer Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern (20) und einer Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern (21), die innerhalb des Kondensatorkörpers (13) ange ordnet sind, wobei die ersten Durchführungsleiter (20) durch spezifizierte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlaufen, um die ersten inneren Elektroden (14) und die ersten äußeren Anschlußelektroden (18) derart elektrisch zu verbinden, daß die ersten Durchführungsleiter (20) von den zweiten inneren Elektroden (15) elektrisch iso liert sind, und wobei die zweiten Durchführungsleiter (21) durch spezifizierte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlau fen, um die zweiten inneren Elektroden (15) und die zweiten äußeren Anschlußelektroden (19) derart elektrisch zu verbinden, daß die zweiten Durchführungslei ter (21) von den ersten inneren Elektroden (14) elek trisch isoliert sind;
wobei sich die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) von den ersten beziehungsweise zweiten äuße ren Anschlußelektroden (18, 19) entlang eines Hauptab schnitts der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) erstrecken, und wobei die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) derart angeordnet sind, daß die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) magnetische Felder, die durch einen Strom, der durch die inneren Elektroden (14, 15) fließt, indu ziert werden, gegenseitig unterdrücken; und
wobei, wenn ein Ausrichtungsabstand der ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) durch P angezeigt wird, und die Gesamtanzahl der ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) durch N angezeigt wird, eine Anordnung derart eingestellt ist, daß ein Wert von P/N etwa 0,085 mm oder weniger beträgt.
einem Kondensatorkörper (13) mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten (12) und vier Seiten;
zumindest einem Paar von ersten inneren Elektroden (14) und zumindest einem Paar von zweiten inneren Elektroden (15), wobei sich die Paare von ersten inne ren Elektroden (14) und zweiten inneren Elektroden (15) über eine der Mehrzahl der dielektrischen Schich ten (12), die innerhalb des Kondensatorkörpers (13) und an verschiedenen Positionen in dem Kondensatorkör per (13) angeordnet sind, gegenüberliegen;
ersten äußeren Anschlußelektroden (18) und zweiten äußeren Anschlußelektroden (19), die auf zumindest ei ner Hauptoberfläche (17) des Kondensatorkörpers (13) angeordnet sind, wobei sich die Hauptoberfläche (17) im wesentlichen parallel zu den inneren Elektroden (14, 15) erstreckt;
einer Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern (20) und einer Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern (21), die innerhalb des Kondensatorkörpers (13) ange ordnet sind, wobei die ersten Durchführungsleiter (20) durch spezifizierte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlaufen, um die ersten inneren Elektroden (14) und die ersten äußeren Anschlußelektroden (18) derart elektrisch zu verbinden, daß die ersten Durchführungsleiter (20) von den zweiten inneren Elektroden (15) elektrisch iso liert sind, und wobei die zweiten Durchführungsleiter (21) durch spezifizierte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlau fen, um die zweiten inneren Elektroden (15) und die zweiten äußeren Anschlußelektroden (19) derart elektrisch zu verbinden, daß die zweiten Durchführungslei ter (21) von den ersten inneren Elektroden (14) elek trisch isoliert sind;
wobei sich die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) von den ersten beziehungsweise zweiten äuße ren Anschlußelektroden (18, 19) entlang eines Hauptab schnitts der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) erstrecken, und wobei die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) derart angeordnet sind, daß die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) magnetische Felder, die durch einen Strom, der durch die inneren Elektroden (14, 15) fließt, indu ziert werden, gegenseitig unterdrücken; und
wobei, wenn ein Ausrichtungsabstand der ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) durch P angezeigt wird, und die Gesamtanzahl der ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) durch N angezeigt wird, eine Anordnung derart eingestellt ist, daß ein Wert von P/N etwa 0,085 mm oder weniger beträgt.
19. Mehrschichtkondensator gemäß Anspruch 18, bei dem je
der erste äußere Anschluß (18) entlang der zumindest
einen Hauptoberfläche (16, 17) des Kondensatorkörpers
(13) benachbart zu einem der zweiten äußeren Anschlüs
se positioniert ist.
20. Mehrschichtkondensator gemäß Anspruch 18, bei dem je
der erste Durchführungsleiter (20) innerhalb des Kon
densatorkörpers (13) benachbart zu einem der zweiten
Durchführungsleiter (21) positioniert ist.
21. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 20, bei dem die ersten äußeren Anschlüsse (18) ei
ne erste Polarität aufweisen, wobei die zweiten äuße
ren Anschlüsse (19) eine zweite Polarität aufweisen,
die zu der ersten Polarität entgegengesetzt ist.
22. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 21, bei dem der Wert von P/N gleich oder kleiner
etwa 0,04 mm ist.
23. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 22, bei dem die ersten und zweiten äußeren An
schlußelektroden (18, 19) in einer punktierten Konfi
guration angeordnet sind, die den Positionen der er
sten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21) ent
spricht.
24. Mehrschichtkondensator gemäß Anspruch 23, bei dem an
jeder der ersten und zweiten äußeren Anschlußelektro
den (18, 19) ein Lötmittelhöcker (24) vorgesehen ist.
25. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 24, bei dem die ersten und zweiten äußeren An
schlußelektroden (18, 19) lediglich auf einer Haupt
oberfläche (17) des Kondensators (13) angeordnet sind.
26. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 24, bei dem die ersten und zweiten äußeren An
schlußelektroden (18, 19) auf beiden Hauptoberflächen
(16, 17) des Kondensators (13) angeordnet sind.
27. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 24, bei dem die ersten äußeren Anschlußelektroden
(18) auf einer Hauptoberfläche (16) des Kondensators
(13) angeordnet sind, wobei die zweiten äußeren An
schlußelektroden (19) auf der anderen Hauptoberfläche
(17) desselben angeordnet sind.
28. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 27, wobei der Mehrschichtkondensator angeordnet
ist, um einen Entkopplungskondensator zu definieren,
der für eine Verbindung mit einer Leistungsversor
gungsschaltung für einen MPU-Chip, der in einer Mikroverarbeitungseinheit
untergebracht ist, angepaßt ist.
29. Verdrahtungssubstrat mit einem Mehrschichtkondensator
gemäß einem der Ansprüche 18 bis 28, der auf demselben
angebracht ist.
30. Verdrahtungssubstrat (35) gemäß Anspruch 29, bei dem
ein MPU-Chip (36), der in einer Mikroverarbeitungsein
heit untergebracht ist, auf dem Verdrahtungssubstrat
(35) mit einem heiß-seitigen Leistungsversorgungsver
drahtungsleiter (38, 41, 43) zum Zuführen von Lei
stung, die für den MPU-Chip (36) verwendet wird, und
einem Masseverdrahtungsleiter (39, 46, 48) angebracht
ist, wobei entweder die ersten äußeren Anschlußelek
troden (18) oder die zweiten äußeren Anschlußelektro
den (19), die in dem Mehrschichtkondensator umfaßt
sind, mit dem heiß-seitigen Leistungsversorgungsver
drahtungsleiter (38, 41, 43) elektrisch verbunden
sind, und die anderen Anschlußelektroden der ersten
äußeren Anschlußelektroden (18) und der zweiten äuße
ren Anschlußelektroden (19) mit dem Masseverdrahtungs
leiter (39, 46, 48) verbunden sind.
31. Verdrahtungssubstrat (35) gemäß Anspruch 30, bei dem
die ersten und zweiten äußeren Anschlußelektroden (18,
19) jeweils durch einen Höcker (24) mit dem Verdrah
tungssubstrat (35) verbunden sind.
32. Entkopplungsschaltung mit einem Mehrschichtkondensator
gemäß einem der Ansprüche 18 bis 28.
33. Hochfrequenzschaltung mit einem Mehrschichtkondensator
gemäß einem der Ansprüche 18 bis 28.
34. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 28, bei dem das zumindest eine Paar von ersten
inneren Elektroden (14) und das zumindest eine Paar
von zweiten inneren Elektroden (15) eine im wesentlichen
rechteckförmige Konfiguration aufweisen.
35. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 28, bei dem das zumindest eine Paar von ersten
inneren Elektroden (14) und das zumindest eine Paar
von zweiten inneren Elektroden (15) eine im wesent
lichen quadratförmige Konfiguration aufweisen.
36. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 28, 34 oder 35, bei dem eine Querschnittkonfi
guration der Durchführungsleiter (20, 21) im wesent
lichen kreisförmig ist.
37. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 18
bis 28, 34 oder 35, bei dem eine Querschnittkonfigura
tion der Durchführungsleiter (20, 21) im wesentlichen
viereckig und im wesentlichen sechseckig ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11-329013 | 1999-11-19 | ||
JP32901399A JP3337018B2 (ja) | 1999-11-19 | 1999-11-19 | 積層コンデンサ、配線基板、デカップリング回路および高周波回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10019838A1 true DE10019838A1 (de) | 2001-06-13 |
DE10019838B4 DE10019838B4 (de) | 2009-06-04 |
Family
ID=18216633
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10019838A Expired - Lifetime DE10019838B4 (de) | 1999-11-19 | 2000-04-20 | Mehrschichtkondensator, Verdrahtungssubstrat damit und Verwendung eines derartigen Mehrschichtkondensators |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6351369B1 (de) |
JP (1) | JP3337018B2 (de) |
KR (1) | KR100364009B1 (de) |
DE (1) | DE10019838B4 (de) |
TW (1) | TW470983B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7710233B2 (en) | 2003-03-27 | 2010-05-04 | Epcos Ag | Electric multilayer component |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7336468B2 (en) | 1997-04-08 | 2008-02-26 | X2Y Attenuators, Llc | Arrangement for energy conditioning |
US7321485B2 (en) | 1997-04-08 | 2008-01-22 | X2Y Attenuators, Llc | Arrangement for energy conditioning |
US9054094B2 (en) | 1997-04-08 | 2015-06-09 | X2Y Attenuators, Llc | Energy conditioning circuit arrangement for integrated circuit |
JP2001185442A (ja) | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Murata Mfg Co Ltd | 積層コンデンサ、デカップリングコンデンサの接続構造および配線基板 |
US6801422B2 (en) * | 1999-12-28 | 2004-10-05 | Intel Corporation | High performance capacitor |
US6724611B1 (en) * | 2000-03-29 | 2004-04-20 | Intel Corporation | Multi-layer chip capacitor |
US6532143B2 (en) * | 2000-12-29 | 2003-03-11 | Intel Corporation | Multiple tier array capacitor |
JP4604403B2 (ja) * | 2001-06-25 | 2011-01-05 | パナソニック株式会社 | 固体電解コンデンサの製造方法 |
US6606237B1 (en) | 2002-06-27 | 2003-08-12 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer capacitor, wiring board, decoupling circuit, and high frequency circuit incorporating the same |
CN100354995C (zh) * | 2002-09-27 | 2007-12-12 | 京瓷株式会社 | 电容器、布线基板、去耦电路及高频电路 |
CN100437850C (zh) * | 2002-10-30 | 2008-11-26 | 京瓷株式会社 | 电容器,布线基板,退耦电路以及高频电路 |
US7327554B2 (en) * | 2003-03-19 | 2008-02-05 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Assembly of semiconductor device, interposer and substrate |
JP4767013B2 (ja) * | 2003-03-26 | 2011-09-07 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 光センサ |
JP2005033176A (ja) * | 2003-06-20 | 2005-02-03 | Ngk Spark Plug Co Ltd | コンデンサ及びコンデンサの製造方法 |
JP4377617B2 (ja) * | 2003-06-20 | 2009-12-02 | 日本特殊陶業株式会社 | コンデンサ、コンデンサ付き半導体素子、コンデンサ付き配線基板、および、半導体素子とコンデンサと配線基板とを備える電子ユニット |
JP4365166B2 (ja) * | 2003-08-26 | 2009-11-18 | 新光電気工業株式会社 | キャパシタ、多層配線基板及び半導体装置 |
US7218504B2 (en) * | 2004-03-02 | 2007-05-15 | Intel Corporation | Capacitor device and method |
JP4079120B2 (ja) * | 2004-06-04 | 2008-04-23 | 株式会社村田製作所 | 積層型セラミックコンデンサの製造方法 |
DE102004031878B3 (de) * | 2004-07-01 | 2005-10-06 | Epcos Ag | Elektrisches Mehrschichtbauelement mit zuverlässigem Lötkontakt |
KR100674830B1 (ko) * | 2004-11-04 | 2007-01-25 | 삼성전기주식회사 | 적층형 캐패시터 어레이 |
TWI414218B (zh) * | 2005-02-09 | 2013-11-01 | Ngk Spark Plug Co | 配線基板及配線基板內建用之電容器 |
WO2006104613A2 (en) | 2005-03-01 | 2006-10-05 | X2Y Attenuators, Llc | Conditioner with coplanar conductors |
WO2007010768A1 (ja) * | 2005-07-15 | 2007-01-25 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | コンデンサおよびその製造方法 |
JP4166235B2 (ja) | 2005-07-29 | 2008-10-15 | Tdk株式会社 | 積層コンデンサ |
JP5089880B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2012-12-05 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板内蔵用キャパシタ、キャパシタ内蔵配線基板及びその製造方法 |
WO2007149121A2 (en) * | 2005-12-12 | 2007-12-27 | Irina Puscasu | Selective reflective and absorptive surfaces and method for resonantly coupling incident radiation |
US8643532B1 (en) | 2005-12-12 | 2014-02-04 | Nomadics, Inc. | Thin film emitter-absorber apparatus and methods |
WO2007070540A2 (en) * | 2005-12-12 | 2007-06-21 | Irina Puscasu | Thin film emitter-absorber apparatus and methods |
US7692284B2 (en) * | 2005-12-12 | 2010-04-06 | Intel Corporation | Package using array capacitor core |
US7724498B2 (en) * | 2006-06-30 | 2010-05-25 | Intel Corporation | Low inductance capacitors, methods of assembling same, and systems containing same |
US7742276B2 (en) * | 2007-03-30 | 2010-06-22 | Industrial Technology Research Institute | Wiring structure of laminated capacitors |
KR100910457B1 (ko) | 2007-09-28 | 2009-08-04 | 삼성전기주식회사 | 내장형 박막 캐패시터 |
US20090296310A1 (en) * | 2008-06-03 | 2009-12-03 | Azuma Chikara | Chip capacitor precursors, packaged semiconductors, and assembly method for converting the precursors to capacitors |
JP5013132B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2012-08-29 | Tdk株式会社 | 積層コンデンサ、及び、その製造方法 |
KR101042215B1 (ko) * | 2009-07-01 | 2011-06-20 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 장치 및 이를 이용한 rfid 장치 |
US9093295B2 (en) * | 2013-11-13 | 2015-07-28 | Qualcomm Incorporated | Embedded sheet capacitor |
JP6146584B2 (ja) * | 2014-05-30 | 2017-06-14 | Tdk株式会社 | 積層型電子部品およびその製造方法 |
KR101740951B1 (ko) | 2016-01-13 | 2017-05-29 | 민규식 | 피드스루 장치 |
US11710726B2 (en) | 2019-06-25 | 2023-07-25 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Through-board power control arrangements for integrated circuit devices |
CN111816443A (zh) * | 2020-05-11 | 2020-10-23 | 北京七星飞行电子有限公司 | 一种高温陶瓷板式阵列电容器及其制备方法 |
CN112433097B (zh) * | 2020-11-06 | 2021-09-28 | 浙江大学 | 一种基于开关瞬态频率信息的薄膜电容器esl提取方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8201481A (nl) * | 1982-04-07 | 1983-11-01 | Moban Bv | Systeem voor het elektrisch voeden en schakelen van een aantal stroomverbruikende apparaten. |
JPS60158612A (ja) | 1984-01-27 | 1985-08-20 | 富士通株式会社 | 多層セラミツクコンデンサ |
US4831494A (en) | 1988-06-27 | 1989-05-16 | International Business Machines Corporation | Multilayer capacitor |
US4852227A (en) | 1988-11-25 | 1989-08-01 | Sprague Electric Company | Method for making a multilayer ceramic capacitor with buried electrodes and terminations at a castellated edge |
US5177670A (en) * | 1991-02-08 | 1993-01-05 | Hitachi, Ltd. | Capacitor-carrying semiconductor module |
JPH05205966A (ja) | 1992-01-24 | 1993-08-13 | Murata Mfg Co Ltd | 積層コンデンサ |
JPH07201651A (ja) | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 積層コンデンサ |
JPH07307412A (ja) * | 1994-05-10 | 1995-11-21 | Sumitomo Metal Ind Ltd | バイパス用コンデンサ搭載積層パッケージ |
JPH07326536A (ja) | 1994-05-31 | 1995-12-12 | Kyocera Corp | セラミックコンデンサ |
US5880925A (en) | 1997-06-27 | 1999-03-09 | Avx Corporation | Surface mount multilayer capacitor |
JP2991175B2 (ja) | 1997-11-10 | 1999-12-20 | 株式会社村田製作所 | 積層コンデンサ |
JPH11204372A (ja) | 1997-11-14 | 1999-07-30 | Murata Mfg Co Ltd | 積層コンデンサ |
DE69837516T2 (de) * | 1997-11-14 | 2007-12-27 | Murata Mfg. Co., Ltd., Nagaokakyo | Vielschichtkondensator |
US6191479B1 (en) * | 1999-02-13 | 2001-02-20 | Advanced Micro Devices, Inc. | Decoupling capacitor configuration for integrated circuit chip |
-
1999
- 1999-11-19 JP JP32901399A patent/JP3337018B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-02-25 TW TW089103343A patent/TW470983B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-02-28 US US09/514,516 patent/US6351369B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-04-19 KR KR1020000020637A patent/KR100364009B1/ko active IP Right Grant
- 2000-04-20 DE DE10019838A patent/DE10019838B4/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7710233B2 (en) | 2003-03-27 | 2010-05-04 | Epcos Ag | Electric multilayer component |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW470983B (en) | 2002-01-01 |
JP2001148324A (ja) | 2001-05-29 |
JP3337018B2 (ja) | 2002-10-21 |
US6351369B1 (en) | 2002-02-26 |
KR20010049268A (ko) | 2001-06-15 |
DE10019838B4 (de) | 2009-06-04 |
KR100364009B1 (ko) | 2002-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE10019838A1 (de) | Mehrschichtkondensator, Verdrahtungssubstrat, Entkopplungsschaltung und Hochfrequenzschaltung | |
DE10019839B4 (de) | Mehrschichtkondensator, Vewendung des Mehrschichtkondensators, Schaltungsanordnung und Verdrahtunssubstrat damit | |
DE10027870B4 (de) | Laminierter Kondensator und Montageanordnung | |
DE19781846B4 (de) | Schaltungsgehäuse, insbesondere Flip-Chip- oder C4-Gehäuse mit Stromversorgungs- und Masseebenen | |
EP0035093B1 (de) | Anordnung zum Packen mehrerer schnellschaltender Halbleiterchips | |
DE10019840B4 (de) | Mehrschichtkondensator, dessen Verwendung als Entkopplungskondensator und eine Verdrahtungsplatine mit dem Mehrschichtkondensator | |
DE69413601T2 (de) | Halbleiteranordnung mit einem Halbleiterelement von Flip-Chip-Typ | |
DE19520700B4 (de) | Halbleiterbausteinanordnung | |
DE10019229A1 (de) | Mehrschichtkondensator | |
DE69129619T2 (de) | Halbleitervorrichtung mit einer vielzahl von anschlussstiften | |
EP3361836B1 (de) | Niederinduktive halbbrückenanordnung | |
DE112009000351T5 (de) | Mikroelektronischer Baustein, der Siliziumpatches für Zwischenverbindungen hoher Dichte enthält, und Verfahren zum Herstellen desselben | |
DE4325668A1 (de) | Mehrebenen-Verdrahtungssubstrat und dieses verwendende Halbleiteranordnung | |
DE60029011T2 (de) | Leiterplattenanordnung mit verbesserter überbrückungsentkopplung für bga-packungen | |
DE69524724T2 (de) | Elektronische schaltungspackung | |
DE10207957A1 (de) | Verfahren für hochdichtes Entkoppeln einer Kondensatorplazierung mit geringer Anzahl von Kontaktlöchern | |
DE60037297T2 (de) | Methode zur Verminderung der gegenseitigen Induktanz zwischen Verbindungsdrähten einer Hochfrequenzverstärkerschaltung | |
DE112005002373T5 (de) | Geteilter Dünnschichtkondensator für mehrere Spannungen | |
DE10252831A1 (de) | Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung | |
DE69716081T2 (de) | Rf leistungsbauteil mit einem doppelten erdschluss | |
DE69728648T2 (de) | Halbleitervorrichtung mit hochfrequenz-bipolar-transistor auf einem isolierenden substrat | |
DE102015108253B4 (de) | Elektronisches Modul und Verfahren zum Herstellen desselben | |
DE69528869T2 (de) | Flachgehäuse für Halbleiter-IC | |
DE60037961T2 (de) | Verfahren und Struktur zur Reduzierung des Leistungsrauschens | |
WO2022263543A1 (de) | Leiterplattenanordnung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R071 | Expiry of right |