DE10019839B4 - Mehrschichtkondensator, Vewendung des Mehrschichtkondensators, Schaltungsanordnung und Verdrahtunssubstrat damit - Google Patents

Mehrschichtkondensator, Vewendung des Mehrschichtkondensators, Schaltungsanordnung und Verdrahtunssubstrat damit Download PDF

Info

Publication number
DE10019839B4
DE10019839B4 DE10019839A DE10019839A DE10019839B4 DE 10019839 B4 DE10019839 B4 DE 10019839B4 DE 10019839 A DE10019839 A DE 10019839A DE 10019839 A DE10019839 A DE 10019839A DE 10019839 B4 DE10019839 B4 DE 10019839B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
electrodes
multilayer capacitor
outer terminal
capacitor
feedthrough conductors
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE10019839A
Other languages
English (en)
Other versions
DE10019839A1 (de
Inventor
Yasuyuki Naito
Masaaki Taniguchi
Yoichi Kuroda
Haruo Hori
Takanori Kondo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Publication of DE10019839A1 publication Critical patent/DE10019839A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10019839B4 publication Critical patent/DE10019839B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/228Terminals
    • H01G4/232Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30Stacked capacitors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49827Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/50Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor for integrated circuit devices, e.g. power bus, number of leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64Impedance arrangements
    • H01L23/642Capacitive arrangements
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0213Electrical arrangements not otherwise provided for
    • H05K1/0216Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference
    • H05K1/023Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference using auxiliary mounted passive components or auxiliary substances
    • H05K1/0231Capacitors or dielectric substances
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0556Disposition
    • H01L2224/05568Disposition the whole external layer protruding from the surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05573Single external layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/16235Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a via metallisation of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01068Erbium [Er]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1515Shape
    • H01L2924/15153Shape the die mounting substrate comprising a recess for hosting the device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1517Multilayer substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15313Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a land array, e.g. LGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19106Disposition of discrete passive components in a mirrored arrangement on two different side of a common die mounting substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10431Details of mounted components
    • H05K2201/10507Involving several components
    • H05K2201/10515Stacked components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10613Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
    • H05K2201/10621Components characterised by their electrical contacts
    • H05K2201/10734Ball grid array [BGA]; Bump grid array

Abstract

Mehrschichtkondensator mit folgenden Merkmalen:
einem Kondensatorkörper (13) mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten (12);
zumindest einem Paar von ersten inneren Elektroden (14) und zumindest einem Paar von zweiten inneren Elektroden (15), wobei sich die Paare von ersten inneren Elektroden (14) und zweiten inneren Elektroden (15) über eine der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12), die innerhalb des Kondensatorkörpers (13) angeordnet sind, gegenüberliegen;
ersten äußeren Anschlusselektroden (18) und zweiten äußeren Anschlusselektroden (19), die auf zumindest einer Hauptoberfläche (17) des Kondensatorkörpers (13) angeordnet sind, wobei sich die Hauptoberfläche (17) parallel zu den inneren Elektroden (14, 15) erstreckt;
einer Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern (20, 20a) und einer Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern (21, 21a), die jeweils innerhalb des Kondensatorkörpers (13) angeordnet sind, wobei die ersten Durchführungsleiter (20, 20a) durch bestimmte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlaufen, um die ersten inneren Elektroden (20, 20a) und die ersten...

Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Mehrschichtkondensatoren. Insbesondere bezieht sich die vorliegende Erfindung auf Mehrschichtkondensatoren für eine Verwendung bei Hochfrequenzschaltungen und auf Verdrahtungssubstrate, Entkopplungsschaltungen und Hochfrequenzschaltungen, die solche Mehrschichtkondensatoren aufweisen.
  • Die meisten herkömmlichen Mehrschichtkondensatoren sind aus dielektrischen Keramikmaterialien oder dergleichen gebildet. Solche Mehrschichtkondensatoren umfassen einen Kondensator mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten, eine Mehrzahl von Paaren von einander gegenüberliegend angeordneten ersten inneren Elektroden und eine Mehrzahl von Paaren von einander gegenüberliegend angeordneten zweiten inneren Elektroden, die in einer Richtung abwechselnd angeordnet sind, in der die dielektrischen Schichten laminiert sind, wobei sich die Paare von Elektroden über die dielektrischen Schichten gegenüberliegen, um eine Mehrzahl von Kondensatoreinheiten zu definieren. Eine erste äußere Anschlusselektrode ist auf einer ersten Endoberfläche des Kondensators vorgesehen, wobei eine zweite äußere Anschlusselektrode auf einer zweiten Endoberfläche derselben vorgesehen ist. Die ersten inneren Elektroden erstrecken sich heraus zu der ersten Endoberfläche des Kondensators, um mit der ersten äußeren Anschlusselektrode elektrisch verbunden zu sein. Zusätzlich erstrecken sich die zweiten inneren Elektroden heraus zu der zweiten Endoberfläche des Kondensators, um mit der zweiten äußeren Anschlusselektrode elektrisch verbunden zu sein.
  • Bei dem im vorhergehenden beschriebenen Mehrschichtkondensator fließt beispielsweise Strom von der zweiten äußeren Anschlusselektrode zu der ersten äußeren Anschlusselektro de, und insbesondere fließt der Strom von der zweiten äußeren Anschlusselektrode zu der zweiten inneren Elektrode, von der aus der Strom durch eine dielektrische Schicht fließt, um die erste innere Elektrode zu erreichen, wobei derselbe daraufhin, nachdem er durch die erste innere Elektrode geflossen ist, die erste äußere Anschlusselektrode erreicht.
  • Wenn die Kapazität eines Kondensators durch das Symbol C angezeigt wird, eine Äquivalenzreiheninduktivität (ESL; ESL = equivalent series inductance) durch das Symbol L angezeigt wird, und der Widerstandswert einer Elektrode, der als ein Äquivalenzreihenwiderstandswert (ESR; ESR = equivalent series resistance) bezeichnet wird, durch das Symbol R angezeigt wird, wird ein Ersatzschaltbild für den Kondensator durch eine Schaltung dargestellt, bei der die Kapazität, die Äquivalenzreiheninduktivität und der Äquivalenzreihenwiderstandswert, die durch die Symbole C, L bzw. R angezeigt werden, in Reihe geschaltet sind.
  • Bei diesem Ersatzschaltbild ist eine Resonanzfrequenz f0 gleich einem Wert, der durch einen Ausdruck von 1/[2 × (L × C)<1/2>] erhalten wird, wobei die Schaltung bei Frequenzen, die höher als die Resonanzfrequenz sind, nicht als ein Kondensator wirkt. In anderen Worten ausgedrückt, ist, wenn ein Wert von L, d. h. der Wert von ESL, klein ist, die Resonanzfrequenz f0 höher, so daß die Schaltung bei höheren Frequenzen verwendet werden kann. Obwohl in Betracht gezogen worden ist, Kupfer für die inneren Elektroden zu verwenden, um den Wert von ESR zu reduzieren, ist ein Kondensator mit einem reduzierten ESL-Wert erforderlich, wenn der Kondensator in Mikrowellenbereichen verwendet wird.
  • Zusätzlich ist es bei einem Kondensator, der als ein Entkopplungskondensator verwendet wird, der mit einer Leistungsversorgungsschaltung verbunden ist, die Leistung zu einem MPU-Chip als eine Mikroprozessoreinheit zuführt, die in einer Workstation, einem Personalcomputer oder anderen solchen elektronischen Vorrichtungen mit einem Prozessor enthalten ist, ferner notwendig, den ESL-Wert zu reduzieren.
  • 13 ist ein Blockdiagramm, das ein Beispiel der Struktur darstellt, bei der eine MPU 1 und eine Leistungsversorgungseinheit 2 verbunden sind.
  • In 13 weist die MPU 1 einen MPU-Chip 3 und eine Speichereinheit 4 auf. Die Leistungsversorgungseinheit 2 führt dem MPU-Chip 3 Leistung zu. Ein Entkopplungskondensator 5 ist mit einer Leistungsversorgungsschaltung von der Leistungsversorgungseinheit 2 zu dem MPU-Chip 3 verbunden. Zusätzlich ist auf der Seite der Speichereinheit 4 eine Signalschaltung angeordnet, die sich von dem MPU-Chip 3 erstreckt.
  • Ähnlich zu einem üblichen Entkopplungskondensator wird der Entkopplungskondensator 5, der in der im vorhergehenden beschriebenen MPU 1 umfasst ist, zum Glätten von Spannungsschwankungen der Leistungsversorgung verwendet. Zusätzlich ist in neuerer Zeit die Herstellung des MPU-Chips 3 mit einer Betriebsfrequenz von über 500 MHz und bis 1 GHz geplant worden. Hinsichtlich eines solchen MPU-Chips 3 ist es, um Hochgeschwindigkeitsoperationen zu erzielen, notwendig, eine schnelle Leistungsversorgungsfunktion aufzuweisen, um die Leistung von der elektrischen Leistung, die in einem Kondensator geladen ist, binnen weniger Nanosekunden zuzuführen, wenn die Leistung beispielsweise während des Einschaltens unmittelbar erfordert wird.
  • Folglich ist es bei dem Entkopplungskondensator 5, der bei der MPU 1 verwendet wird, notwendig, daß derselbe eine Induktivitätskomponente aufweist, die so niedrig wie möglich, beispielsweise 10 pH oder weniger, ist. Folglich ist für solche Anwendungen ein Kondensator mit einer solch niedrigen Induktivität erforderlich.
  • Insbesondere wird bei einem bestimmten MPU-Chip 3 mit einer Betriebstaktfrequenz von etwa 500 MHz eine Versorgungsgleichspannung von etwa 2,0 V zugeführt, wobei die Leistungsaufnahme etwa 24 W beträgt, d. h. derselbe ist derart entworfen, daß ein Strom von etwa 12 A fließt. Um die Leistungsaufnahme zu reduzieren, wenn eine MPU 1 nicht arbeitet, wird ein Schlafmodus bzw. Standby-Modus, bei dem die Leistungsaufnahme auf 1 W oder weniger abfällt, eingenommen. Wenn von einem Schlafmodus zu einem aktiven Modus gewechselt wird, muss dem MPU-Chip 3 die Leistung, die für den aktiven Modus notwendig ist, während des Betriebstaktes zugeführt werden. Bei der Betriebsfrequenz von 500 MHz muss beispielsweise, wenn von dem Schlafmodus zu dem aktiven Modus gewechselt wird, die Leistung innerhalb etwa 4 bis 7 Nanosekunden zugeführt werden.
  • Da es jedoch unmöglich ist, die im vorhergehenden beschriebene Leistung von der Leistungsversorgungseinheit 2 rechtzeitig zuzuführen, wird während der Zeitdauer, bevor die Leistung von der Leistungsversorgungseinheit 2 zugeführt wird, dem MPU-Chip 3 die Leistung zugeführt, indem die Ladung, die in dem Entkopplungskondensator 5 gespeichert ist, der in der Nähe des MPU-Chips 3 angeordnet ist, freigesetzt wird.
  • Wenn die Betriebstaktfrequenz 1 GHz beträgt, muss, um eine solche Funktion zu erfüllen, der ESL-Wert des Entkopplungskondensators 5, der in der Nähe des MPU-Chips 3 angeordnet ist, zumindest 10 pH oder weniger betragen.
  • Da der ESL-Wert des im vorhergehenden erwähnten herkömmlichen Mehrschichtkondensators in einem Bereich von etwa 500 pH bis 800 pH liegt, ist derselbe viel höher als der Wert von 10 pH, der im vorhergehenden beschrieben wurde. Bei einem Mehrschichtkondensator wird eine Induktivitätskomponente erzeugt, da ein magnetischer Fluss mit einer Richtung, die durch eine Richtung des Stromes, der durch den Mehr schichtkondensator fließt, bestimmt wird, induziert wird, wodurch eine Selbstinduktivitätskomponente erzeugt wird.
  • Bezüglich des im vorhergehenden beschriebenen Hintergrunds werden die Strukturen von Mehrschichtkondensatoren, die in der Lage sind, eine Reduzierung des ESL-Wertes zu erzielen, beispielsweise in der JP-A-2-256216 , dem U.S.-A 5,880,925 , JP-A-2-159008 , der JP-A-11-144996 und der JP-A-7-201651 präsentiert.
  • Die im vorhergehenden erwähnte Reduzierung des ESL-Wertes wird hauptsächlich dadurch erzielt, daß der magnetische Fluss, der in dem Mehrschichtkondensator induziert wird, unterdrückt bzw. ausgeglichen wird. Um eine solche Unterdrückung des magnetischen Flusses zu erzeugen, wird die Richtung des Stromes, der durch den Mehrschichtkondensator fließt, verschiedenartig eingestellt. Um die Richtung des Stromes verschiedenartig einzustellen, wird zusätzlich die Anzahl der Anschlusselektroden, die an einer Außenoberfläche des Kondensators angeordnet sind, und die Anzahl von Bauteilen von inneren Elektroden, die sich erstrecken, um mit den Anschlusselektroden elektrisch verbunden zu sein, erhöht, wobei daraufhin die sich erstreckenden Teile der inneren Elektroden angeordnet werden, um in verschiedenen Richtungen angeordnet zu sein.
  • Die im vorhergehenden beschriebenen Maßnahmen zum Erhalten des reduzierten ESL-Wertes bei dem Mehrschichtkondensator, wie er im vorhergehenden beschrieben wurde, sind jedoch nicht wirksam genug.
  • Obwohl beispielsweise eine Struktur, bei der sich die inneren Elektroden zu den zwei gegenüberliegenden Seitenoberflächen des Kondensators heraus erstrecken, in der JP-A-2-256216 , der U.S.-A 5,880,925 und der JP-A-2-159008 beschrieben ist, kann der ESL-Wert lediglich auf etwa 100 pH herab reduziert werden.
  • Obwohl in der JP-A-11-144996 eine Struktur beschrieben ist, bei der sich die inneren Elektroden zu den vier Seitenoberflächen des Kondensators heraus erstrecken, ist der wirksamste Wert von ESL in diesem Fall ebenfalls nicht kleiner als 40 pH.
  • Obwohl darüber hinaus in der JP-A-7-201651 eine Struktur beschrieben ist, bei der sich die inneren Elektroden zu der oberen und der unteren Hauptoberfläche des Kondensators heraus erstrecken, ist der wirksamste Wert von ESL in diesem Fall ebenfalls nicht kleiner als 50 pH.
  • Um die ESL-Werte von 10 pH oder weniger zu erhalten, muss folglich herkömmlicherweise bei einer Hochfrequenzschaltung, die für einen MPU-Chip verwendet wird, der einen solchen Mehrschichtkondensator umfasst, eine Mehrzahl von parallel geschalteten Mehrschichtkondensatoren an einem Verdrahtungssubstrat angebracht sein. Als ein Ergebnis wird die Fläche, die zum Anbringen der Mehrschichtkondensatoren erforderlich ist, sehr erhöht, was eine Reduzierung der Kosten und der Grösse der elektronischen Vorrichtungen, die solche Hochfrequenzschaltungen definieren, verhindert.
  • Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, einen Mehrschichtkondensator mit einem kleineren ESL-Wert zu schaffen.
  • Diese Aufgabe wird durch einen Mehrschichtkondensator gemäß Anspruch 1 oder 18, dessen Verwendung nach Anspruch 19 und eine Schaltungsanordnung nach Anspruch 20 gelöst.
  • Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend bezugnehmend auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert, wobei gleiche Bezugszeichen gleiche Elemente anzeigen. Es zeigen:
  • 1A und 1B Draufsichten, die die innere Struktur eines Mehrschichtkondensators gemäß einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellen, wobei 1A eine Schnittoberfläche zeigt, bei der eine erste innere Elektrode angeordnet ist, und 1B eine Schnittoberfläche zeigt, bei der eine zweite innere Elektrode angeordnet ist;
  • 2 eine Schnittansicht durch die Linie II-II, die in jeder der 1A und 1B gezeigt ist;
  • 3 eine Draufsicht, die einen herkömmlichen Mehrschichtkondensator darstellt, der als ein Vergleichsbeispiel zum Untersuchen der Charakteristika des Mehrschichtkondensators, der in 1A und 1B gezeigt ist, präpariert ist;
  • 4 eine Draufsicht, die einen herkömmlichen Mehrschichtkondensator darstellt, der als ein weiteres Vergleichsbeispiel präpariert ist, das verglichen wird, um die Charakteristika des Mehrschichtkondensators, der in 1A und 1B gezeigt ist, zu untersuchen;
  • 5 eine Draufsicht, die einen Mehrschichtkondensator gemäß einem zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt;
  • 6 eine Schnittansicht, die einen Mehrschichtkondensator gemäß einem dritten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt;
  • 7 eine Schnittansicht, die einen Mehrschichtkondensator gemäß einem vierten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt;
  • 8 eine Draufsicht, die einen Mehrschichtkondensator gemäß einem fünften bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt;
  • 9 eine Draufsicht, die einen Mehrschichtkondensator gemäß einem sechsten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt;
  • 10 eine Draufsicht, die die Positionsbeziehungen zwischen einer inneren Elektrode und Durchführungsleitern zeigt, um ein siebtes bevorzugtes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zu veranschaulichen;
  • 11 eine Draufsicht, die ein achtes bevorzugtes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt;
  • 12 eine Schnittansicht, die ein Strukturbeispiel einer MPU darstellt, bei der der Mehrschichtkondensator gemäß dem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung angeordnet ist, um einen Entkopplungskondensator zu definieren; und
  • 13 ein Blockdiagramm, das die Struktur darstellt, bei der eine MPU und eine Leistungsversorgungseinheit verbunden sind.
  • 1A, 1B und 2 zeigen jeweils einen Mehrschichtkondensator 11 gemäß einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. 1A und 1B sind Draufsichten, die die innere Struktur des Mehrschichtkondensators 11 darstellen. 1A und 1B zeigen unterschiedliche Schnittoberflächen. 2 ist zusätzlich eine Schnittansicht, die entlang einer Linie II-II, die in jeder von 1A und 1B gezeigt ist, entnommen ist.
  • Der Mehrschichtkondensator 11 weist einen Hauptkörper auf, der durch einen Kondensator 13 mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten 12 definiert ist. Die dielektrischen Schichten 12 sind vorzugsweise aus beispielsweise dielektrischen Keramikmaterialien hergestellt.
  • Innerhalb des Kondensators 13 sind zumindest ein Paar von ersten inneren Elektroden 14 und zumindest ein Paar von zweiten inneren Elektroden 15 angeordnet, wobei sich die Paare von Elektroden über die dielektrischen Schichten 12 gegenüberliegen. Bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel sind vorzugsweise eine Mehrzahl von Paaren von ersten inneren Elektroden 14 und eine Mehrzahl von Paaren von zweiten inneren Elektroden 15 vorgesehen.
  • Zusätzlich sind eine erste äußere Anschlusselektrode 18 und eine zweite äußere Anschlusselektrode 19 auf zumindest einer von Hauptoberflächen 16 und 17 des Kondensators 13, die sich im wesentlichen parallel zu den inneren Elektroden 14 und 15 erstrecken, angeordnet, d. h. bei dem bevorzugten Ausführungsbeispiel auf der Hauptoberfläche 17.
  • Darüber hinaus verlaufen innerhalb des Kondensators 13 eine Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern 20 und 20a durch spezifizierte dielektrische Schichten 12, um die ersten inneren Elektroden 14 und die ersten äußeren Anschlusselektroden 18 derart elektrisch zu verbinden, daß die ersten Durchführungsleiter 20 und 20a von den zweiten inneren Elektroden 15 elektrisch isoliert sind. Zusätzlich verlaufen eine Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern 21 und 21a durch spezifizierte dielektrische Schichten 12, um die zweiten inneren Elektroden 15 und die zweiten äußeren Anschlusselektroden 19 derart elektrisch zu verbinden, daß die zweiten Durchführungsleiter 21 und 21a von den ersten inneren Elektroden 14 elektrisch isoliert sind.
  • Bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel sind die Mehrzahl von ersten inneren Elektroden 14 und die Mehrzahl von zweiten inneren Elektroden 15 angeordnet, wie es im vorhergehenden beschrieben wurde. In dieser Situation sind die Kapazitäten, die zwischen den ersten und zweiten inneren Elektroden 14 und 15 erzeugt werden, durch die ersten und zweiten Durchführungsleiter 20, 20a, 21 und 21a parallel geschaltet. Die auf diese Weise parallel geschalteten Kapazitäten erstrecken sich von den ersten und zweiten äußeren Anschlusselektroden 18 und 19 heraus.
  • Die ersten Durchführungsleiter 20 und 20a und die zweiten Durchführungsleiter 21 und 21a sind derart angeordnet, daß dieselben magnetische Felder gegenseitig unterdrücken bzw. ausgleichen, die durch Ströme induziert werden, die durch die inneren Elektroden 14 und 15 fließen. In anderen Worten ausgedrückt, sind bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel die Durchführungsleiter 20 und 20a und die zweiten Durchführungsleiter 21 und 21a in einem solchen Zustand angeordnet, daß die Durchführungsleiter 20, 20a, 21 und 21a jeweils an einer Ecke eines im wesentlichen rechteckigen Körpers, insbesondere an einer Ecke eines im wesentlichen Quadrat-förmigen Körpers positioniert sind. Zusätzlich sind die ersten Durchführungsleiter 20 und 20a jeweils benachbart zu den zweiten Durchführungsleitern 21 und 21a angeordnet.
  • Als die charakteristische Struktur von verschiedenen bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung sind einige der ersten Durchführungsleiter 20 und 20a erste Randdurchführungsleiter 20a, die mit den ersten inneren Elektroden 14 an dem Randabschnitt der ersten inneren Elektroden 15 verbunden sind. Zusätzlich sind einige der zweiten Durchführungsleiter 21 und 21a zweite Randdurchführungsleiter 21a, die mit den zweiten inneren Elektroden 15 an dem Randabschnitt der zweiten inneren Elektroden 15 verbunden sind.
  • Zusätzlich sind bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel die im vorhergehenden beschriebenen ersten Randdurchführungsleiter 20a mit den ersten inneren Elektroden 14 an der Seite der ersten inneren Elektroden 14 verbunden, wobei die zweiten Randdurchführungsleiter 21a mit den zweiten inneren Elektroden 15 an der Seite der zweiten inneren Elektroden 15 verbunden sind.
  • Bei diesem bevorzugten Ausführungsbeispiel weisen die ersten und zweiten äußeren Anschlusselektroden 18 und 19 vorzugsweise leitfähige Anschlussflächen 22 bzw. 23 und Lötmittelhöcker 24 bzw. 25 auf. Die Lötmittelhöcker 24 und 25 sind auf den Anschlussflächen 22 und 23 vorgesehen.
  • Bei dem Mehrschichtkondensator 11 mit einer solchen Struktur wird der ESL-Wert sehr reduziert.
  • Um zu bestätigen, daß der Mehrschichtkondensator 11 gemäß den bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung bezüglich der Reduzierung des ESL-Werts eine vorteilhafte Struktur aufweist, wurde durch ein Resonanzverfahren der ESL-Wert bei dem Mehrschichtkondensator 11 gemessen, wobei als ein Ergebnis ein Wert von 18 pH gemessen wurde. Bei der Struktur des Mehrschichtkondensators 11 sind die inneren Elektroden 14 und 15 und die Durchführungsleiter 20, 20a, 21 und 21a vorzugsweise aus einer leitfähigen Paste, die Nickel aufweist, hergestellt. Darüber hinaus betrugen die Abmessungen von jeder der inneren Elektroden 14 und 15 etwa 4,0 mm × 4,0 mm, ein Ausrichtungswiederholabstand der Durchführungsleiter 20, 20a, 21 und 21a, welcher den gegenseitigen Abstand der gleichmäßig beabstandet angeordneten Durchführungsleiter angibt, betrug etwa 1,0 mm, die Durchmesser der Durchführungsleiter 20, 20a, 21 und 21a betrugen etwa 0,1 mm, und die Außendurchmesser jedes Isolationsbereiches, der zwischen den inneren Elektroden 14 und den Durchführungsleitern 21 und 21a und zwischen den inne ren Elektroden 15 und den Durchführungsleitern 20 und 20a angeordnet ist, betrug etwa 0,2 mm.
  • Das im vorhergehenden erwähnte Resonanzverfahren ist ein Verfahren, bei dem zuerst die Frequenzcharakteristika der Impedanz eines Mehrschichtkondensators als eine Testprobe für die Messung erhalten wird, wobei bei einer Frequenz f0 an einem Minimalpunkt in den Frequenzcharakteristika ein Wert von ESL durch 1/[(2f0)<2> × C] definiert ist. In diesem Fall ist der Minimalpunkt in den Frequenzcharakteristika äquivalent zu einem Reihenresonanzpunkt zwischen der Kapazitätskomponente C und ESL des Kondensators.
  • Darüber hinaus wurden als ein Vergleichsbeispiel Mehrschichtkondensatoren gemäß den folgenden Beispielen 1 bis 3 hergestellt, um jeden ESL-Wert derselben zu messen. Beim Herstellen der Mehrschichtkondensatoren, die bei den Beispielen 1 bis 3 verwendet wurden, wurde im wesentlichen das selbe Verfahren wie dasjenige zum Herstellen des Mehrschichtkondensators 11 als die im vorhergehenden erwähnte Testprobe verwendet.
  • Obwohl bei diesem Beispiel der Mehrschichtkondensator 11 vorzugsweise insgesamt 21 Durchführungsleiter 20, 20a, 21 und 21a aufweist, weist der Mehrschichtkondensator, der bei dem Beispiel 1 verwendet wird, nicht die Randdurchführungsleiter 20a und 21a auf, die bei dem Mehrschichtkondensator 11 umfasst sind. Die anderen Strukturelemente bei dem Mehrschichtkondensator, der bei dem Beispiel 1 verwendet wird, sind dieselben wie diejenigen bei dem Mehrschichtkondensator 11. Der Mehrschichtkondensator des Beispiels 1 weist vorzugsweise insgesamt neun Durchführungsleiter auf, die lediglich an der Mitte positioniert sind. Bei dem Mehrschichtkondensator des Beispiels 1 wurde ein hoher ESL-Wert von 82 pH erhalten.
  • Bei dem Beispiel 2 war, wie es in 3 gezeigt ist, obwohl der Ausrichtungswiederholabstand der Durchführungslei ter 20 und 21 derselbe wie derjenige in dem Fall des Mehrschichtkondensators 11 war, kein Randdurchführungsleiter angeordnet, wobei eine Gesamtzahl von 16 Durchführungsleitern 20 und 21 lediglich an der Mitte positioniert war. Bei dem Mehrschichtkondensator des Beispiels 2 wurde ein relativ hoher ESL-Wert von 45 pH erhalten.
  • Bei dem Beispiel 3, wie es in 4 gezeigt ist, ist der Ausrichtungswiederholabstand der Durchführungsleiter 20 und 21 enger gemacht worden, wobei eine Gesamtzahl von 25 Durchführungsleitern 20 und 21 lediglich an der Mitte angeordnet war. Bei dem Mehrschichtkondensator des Beispiels 3 wurde ein hoher ESL-Wert von 28 pH erhalten. Dieser Wert ist höher als der ESL-Wert von 18 pH, der bei dem im vorhergehenden erwähnten Mehrschichtkondensator 11 erhalten wurde, obwohl das Beispiel 3 insgesamt 25 Durchführungsleiter 20 und 21 aufwies, was die Gesamtanzahl von Durchführungsleitern 20, 20a, 21 und 21a, die bei dem Mehrschichtkondensator 11 angeordnet sind, überschritt. Es ist folglich herausgefunden worden, daß es, um einen ESL-Wert zu reduzieren, wirksam ist, die Randdurchführungsleiter 20a und 21a vorzusehen.
  • 5 zeigt einen Mehrschichtkondensator 26 gemäß einem zweiten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Diese Ansicht ist äquivalent zu der Ansicht, die in 1A gezeigt ist. In 5 werden dieselben Bezugszeichen verwendet, um Elemente anzuzeigen, die denjenigen, die in 1A und 1B gezeigt sind, äquivalent sind, wobei eine Erklärung derselben weggelassen wird.
  • Bei dem Mehrschichtkondensator 26, der in 5 gezeigt ist, sind als Randdurchführungsleiter ein erster Randdurchführungsleiter 20a und ein zweiter Randdurchführungsleiter 21a, die mit einer ersten inneren Elektrode 14 bzw. einer zweiten inneren Elektrode 15 verbunden sind, an Zwischenpunkten auf jeder Seite der ersten und zweiten inneren Elektrode 14 und 15 angeordnet, wobei der Randdurchführungs leiter 20a, der mit der ersten inneren Elektrode 14 verbunden ist, an jeder Ecke der ersten inneren Elektrode 14 angeordnet ist.
  • Wie es im vorhergehenden beschrieben wurde, kann mit dem Randdurchführungsleiter 20a an jeder Ecke der ersten inneren Elektrode 14 verglichen zu dem Fall des Mehrschichtkondensators 11 gemäß dem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel eine weitere Reduzierung des ESL-Wertes erzielt werden. Gemäß dem im vorhergehenden erwähnten Verfahren zum Messen des ESL-Wertes wurde bei dem Mehrschichtkondensator 26 ein ESL-Wert von 15 pH gemessen.
  • 6 zeigt einen Mehrschichtkondensator 27 gemäß einem dritten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Diese Ansicht ist äquivalent zu der Ansicht, die in 2 gezeigt ist. In 6 werden die gleichen Bezugszeichen verwendet, um Elemente anzuzeigen, die zu denjenigen, die in 2 gezeigt sind, äquivalent sind, wobei eine Erklärung derselben weggelassen wird.
  • Bei dem Mehrschichtkondensator 27, der in 6 gezeigt ist, ist eine erste äußere Anschlusselektrode 18 auf einer Hauptoberfläche 16 eines Kondensators 13 angeordnet, wobei eine zweite äußere Anschlusselektrode 19 auf der anderen Hauptoberfläche 17 desselben angeordnet ist.
  • 7 zeigt einen Mehrschichtkondensator 28 gemäß einem vierten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Diese Ansicht ist äquivalent zu der Ansieht, die in 2 gezeigt ist. In 7 werden die gleichen Bezugszeichen verwendet, um Elemente anzuzeigen, die zu denjenigen, die in 2 gezeigt sind, äquivalent sind, wobei eine Erklärung derselben weggelassen wird.
  • Bei dem Mehrschichtkondensator 28, der in 7 gezeigt ist, sind sowohl eine erste äußere Anschlusselektrode 18 als auch eine zweite äußere Anschlusselektrode 19 auf jeder der zwei Hauptoberflächen 16 und 17 eines Kondensators 13 angeordnet.
  • Bei dem Mehrschichtkondensator 11, der in 2 gezeigt ist, können die Stromflüsse an dem Abschnitt, der in 2 gezeigt ist, in den ersten Durchführungsleitern 20 und 20a und den zweiten Durchführungsleitern 21 und 21a relativ zueinander umgekehrt sein. Im Gegensatz dazu sind bei dem Mehrschichtkondensator 27, der in 6 gezeigt ist, und dem Mehrschichtkondensator 28, der in 7 gezeigt ist, die Richtungen des Stroms, der in den ersten Durchführungsleitern 20 und 20a und den zweiten Durchführungsleitern 21 und 21 fließt, die selben. Dementsprechend ist es offensichtlich, daß hinsichtlich der Vorteile bezüglich einer Reduzierung des ESL-Werts der Mehrschichtkondensator 11, der in 2 gezeigt ist, effektiver als der Mehrschichtkondensator 27, der in 6 gezeigt ist, und der Mehrschichtkondensator 28, der in 7 gezeigt ist, ist.
  • 8 zeigt einen Mehrschichtkondensator 29 gemäß einem fünften bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Diese Ansicht ist äquivalent zu der Ansicht, die in 1A gezeigt ist. In 8 werden die gleichen Bezugszeichen verwendet, um Elemente anzuzeigen, die zu denjenigen, die in 1A und 1B gezeigt sind, äquivalent sind, wobei eine Erklärung derselben weggelassen wird.
  • Bei dem Mehrschichtkondensator 29, der in 8 gezeigt ist, ist eine Gesamtanzahl von 36 ersten Durchführungsleitern 20 und 20a und zweiten Durchführungsleitern 21 und 21a vorgesehen. Wie es hier gezeigt ist, kann die Anzahl von Durchführungsleitern wahlweise geändert werden, wenn dies notwendig ist.
  • Der Mehrschichtkondensator 29 weist wie in dem Fall des Mehrschichtkondensators 26, der in 5 gezeigt ist, die Randdurchführungsleiter 20a und 21a an jeder Ecke der inneren Elektroden 14 auf. Bei diesem bevorzugten Ausführungs beispiel, das den Mehrschichtkondensator 29 verwendet, befinden sich, da insgesamt sechs Randdurchführungsleiter 20a und 21a an einer Seite jeder inneren Elektrode 14 und 15 positioniert sind, sowohl unter den ersten als auch den zweiten Randdurchführungsleitern 20a und 21a einige Durchführungsleiter, die an jeder Ecke der inneren Elektroden 14 und 15 positioniert sind. Mit anderen Worten ausgedrückt, sind einige der ersten und zweiten Randdurchführungsleiter 20a und 21a an jeder Ecke der inneren Elektrode 14 und 15 mit den ersten und zweiten inneren Elektroden 14 und 15 verbunden.
  • 9 zeigt einen Mehrschichtkondensator 30 gemäß einem sechsten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Diese Ansicht ist zu der Ansicht, die in 1A gezeigt ist, äquivalent. In 9 werden die gleichen Bezugszeichen verwendet, um Elemente anzuzeigen, die zu denjenigen, die in 1 gezeigt sind, äquivalent sind, wobei eine Erklärung derselben weggelassen wird.
  • Bei dem Mehrschichtkondensator 30, der in 9 gezeigt ist, sind die ersten Durchführungsleiter 20 und 20a und zweiten Durchführungsleiter 21 und 21a auf eine solche Art und Weise angeordnet, daß die Durchführungsleiter an Ecken einer im wesentlichen dreieckigen Form, insbesondere einen regelmäßigen Dreiecks, angeordnet sind.
  • Bezüglich des bevorzugten Ausführungsbeispiels, das in 9 gezeigt ist, kann die verteilte Konfiguration, die zum Anordnen der Durchführungsleiter angenommen wird, auf andere Weisen modifiziert werden. Es kann beispielsweise die Konfiguration zum Positionieren der Durchführungsleiter an jeder Ecke eines Sechsecks angewendet werden.
  • 10 ist eine Draufsicht, die die Positionsbeziehung zwischen den inneren Elektroden 14 und den Durchführungsleitern 20, 20a, 21 und 21a gemäß einem siebten bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt.
  • Bei den im vorhergehenden erwähnten ersten bis sechsten bevorzugten Ausführungsbeispielen sind die Randdurchführungsleiter 20a und 21d mit den inneren Elektroden 14 und 15 an den Seiten der inneren Elektroden 14 und 15 verbunden. In diesem Fall ist in der Figur nicht eine Anordnung der inneren Elektrode 15 gezeigt. Diese Randdurchführungsleiter 20a und 21a können innerhalb der Seiten der inneren Elektroden 14 und 15 positioniert sein, wie es in 10 gezeigt ist. Bei dem bevorzugten Ausführungsbeispiel, das in 10 gezeigt ist, sind die Randdurchführungsleiter 20a und 21a auf eine solche Art und Weise angeordnet, daß diese Randdurchführungsleiter 20a und 21a jede Seite der inneren Elektroden 14 und 15 berühren.
  • 11 zeigt eine Draufsicht, die ein achtes bevorzugtes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt, das zu demjenigen, das in 10 gezeigt ist, äquivalent ist.
  • Verglichen zu dem Fall, der in 10 gezeigt ist, sind in 11 die Randdurchführungsleiter 20a und 21a weiter innen von den Seiten der inneren Elektroden 14 und 15 positioniert. In dieser Situation ist die Anordnung der Elektroden 15 in dieser Figur nicht gezeigt. Auf diese Weise ist, wenn die Randdurchführungsleiter 20a und 21a weiter innerhalb der Seiten der inneren Elektroden 14 und 15 positioniert sind, ein Abstand 31 zwischen jedem der Mittelabschnitte der Randdurchführungsleiter 20a und 21a und jeder Seite der inneren Elektroden 14 und 15 vorzugsweise eingestellt, um etwa 1/3 eines Ausrichtungswiederholabstandes 32 der Durchführungsleiter 20, 20a, 21 und 21a oder kürzer als 1/3 des Ausrichtungswiederholabstandes 32 zu sein.
  • Wie es im vorhergehenden beschrieben wurde, wird der Mehrschichtkondensator gemäß der vorliegenden Erfindung bezugnehmend auf jedes der Ausführungsbeispiele, die in den Figuren gezeigt sind, dargestellt. Es können jedoch weitere verschiedene Modifikationen bezüglich der Anzahl und Positionen der inneren Elektroden, der äußeren Anschlusselektroden und der Durchführungsleiter, die bei den verschiedenen bevorzugten Ausführungsbeispielen der Erfindung verwendet werden, angewendet werden. Darüber hinaus sollte die Querschnittkonfiguration der Durchführungsleiter nicht auf die abgerundeten Konfigurationen, wie sie in den Figuren gezeigt sind, begrenzt werden. Eine im wesentlichen viereckige oder im wesentlichen sechseckige Form kann beispielsweise als eine Modifikation verwendet werden.
  • Der Mehrschichtkondensator gemäß den bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung kann beispielsweise vorteilhaft angepasst werden, um einen Entkopplungskondensator 5 zu definieren, der bei der im vorhergehenden erwähnten MPU 1 angeordnet ist, die in 13 gezeigt ist. Das strukturelle Beispiel in 12 zeigt die Struktur einer MPU mit dem Mehrschichtkondensator der bevorzugten Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung, der einen Entkopplungskondensator definiert.
  • Bezugnehmend auf 12 weist eine MPU 33 ein Verdrahtungssubstrat 35 mit einer Mehrschichtstruktur auf, bei dem auf der unteren Oberfläche desselben ein Hohlraum 34 angeordnet ist. Ein MPU-Chip 36 ist auf der oberen Oberfläche des Verdrahtungssubstrats 35 Oberflächen-angebracht. Zusätzlich ist innerhalb des Hohlraums 34 des Verdrahtungssubstrats 35 der Mehrschichtkondensator der bevorzugten Ausführungsbeispiele der vorliegenden, der einen Entkopplungskondensator definiert, enthalten. Ein solcher Mehrschichtkondensator kann beispielsweise der Mehrschichtkondensator 11 gemäß dem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel sein. Darüber hinaus ist das Verdrahtungssubstrat 35 an einer Hauptplatine 37 Oberflächen-angebracht.
  • Wie es in der Figur schematisch gezeigt ist, sind Verdrahtungsleiter, die bei der MPU 33 notwendig sind, auf einer Oberfläche des Verdrahtungssubstrats 35 und in dem Inneren des Verdrahtungssubstrats 35 vorgesehen. Mit diesen Verdrahtungsleitern werden Verbindungen erhalten, wie sie in 13 gezeigt sind.
  • Als repräsentative Leiter unter den Verdrahtungsleitern sind innerhalb des Verdrahtungssubstrats 35 eine Leistungsversorgungselektrode 38 und eine Masse-Elektrode 39 vorgesehen.
  • Die Leistungsversorgungselektrode 38 ist über einen Durchkontaktierungsleiter 40 mit einer ersten äußeren Anschlusselektrode 18 eines Mehrschichtkondensators 11 und über einen heiß-seitigen Leistungsversorgungsdurchkontaktierungslochleiter 41 mit einem spezifizierten Anschluss 42 des MPU-Chips 36 elektrisch verbunden. Darüber hinaus ist die Leistungsversorgungselektrode 38 über einen Durchkontaktierungsleiter 43 mit einer leitfähigen Kontaktfläche 44 einer Hauptplatine 37 elektrisch verbunden.
  • Zusätzlich ist eine Masse-Elektrode 39 über einen Masse-Durchkontaktierungslochleiter 45 mit einer zweiten äußeren Anschlusselektrode 19 des Mehrschichtkondensators 11 und über einen Masse-Durchkontaktierungsleiter 46 mit einem spezifizierten Anschluss 47 des MPU-Chips 36 elektrisch verbunden. Darüber hinaus ist die Masseelektrode 39 über einen Masse-Durchkontaktierungsleiter 48 mit einer Masseseitigen leitfähigen Kontaktierungsfläche 49 der Hauptplatine 37 elektrisch verbunden.
  • Bei dem Mehrschichtkondensator 11, der im vorhergehenden beschrieben wurde, sind die ersten und zweiten äußeren Anschlusselektroden 18 und 19 mit den Durchkontaktierungsleitern 40 und 45 durch Höcker verbunden, obwohl dies in 12 nicht detailliert gezeigt ist.
  • In 12 wurde eine Speichereinheit, die zu der Speichereinheit 4, die in 13 gezeigt ist, äquivalent ist, weggelassen.
  • Wie es im vorhergehenden beschrieben wurde, sind gemäß dem Mehrschichtkondensator gemäß den bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung zumindest ein Paar von ersten inneren Elektroden und zumindest ein Paar von zweiten inneren Elektroden, die sich über bestimmte dielektrische Schichten einander gegenüberliegen, innerhalb eines Kondensators als dem Hauptkörper mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten angeordnet. Die Hauptoberflächen des Kondensators erstrecken sich im wesentlichen parallel zu den inneren Elektroden, wobei erste äußere Anschlusselektroden und zweite äußere Anschlusselektroden auf einer der Hauptoberflächen angeordnet sind. Innerhalb des Kondensators sind eine Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern, die die ersten inneren Elektroden und die ersten äußeren Anschlusselektroden elektrisch verbinden, und eine Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern, die die zweiten inneren Elektroden und die zweiten äußeren Anschlusselektroden elektrisch verbinden, angeordnet. In dieser Situation kann, da die ersten und zweiten Durchführungsleiter derart angeordnet sind, daß die Durchführungsleiter magnetische Felder, die durch einen Strom, der durch die inneren Elektroden fließt, induziert wird, gegenseitig unterdrücken, ein Strom, der durch den Mehrschichtkondensator fließt, in verschiedene Richtungen ausgerichtet werden, und die Länge des Stroms verkürzt werden. Als ein Ergebnis kann bei dem Kondensator nicht nur ein ESL-Wert sehr reduziert werden, sondern es können ferner die Auswirkungen des Unterdrückens der magnetischen Felder an den Rändern der inneren Elektroden angewendet werden, da die ersten und zweiten Durchführungsleiter erste und zweite Randdurchführungsleiter aufweisen, die mit den ersten und bzw. zweiten inneren Elektroden an jedem Rand der ersten und zweiten inneren Elektroden verbunden sind. Dementsprechend kann eine weitere Reduzierung des ESL-Werts erzielt werden.
  • Folglich kann eine Resonanzfrequenz des Mehrschichtkondensators höher sein, und das Frequenzband, in dem der Mehr schichtkondensator einen Kondensator definiert, höher liegen. Der Mehrschichtkondensator der bevorzugten Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung ist ausreichend anpassbar, um Frequenzen, die bei elektronischen Schaltungen verwendet werden, viel höher zu machen. Der Mehrschichtkondensator der bevorzugten Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung kann beispielsweise als ein Entkopplungskondensator verwendet werden, der in Hochfrequenzschaltungen umfasst ist.
  • Obwohl bei dem Entkopplungskondensator, der verwendet wird, indem derselbe mit einem MPU-Chip oder einer anderen Komponente kombiniert wird, eine schnelle Leistungsversorgungsfunktion erforderlich ist, kann der Mehrschichtkondensator gemäß den bevorzugten Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung bezüglich der Hochgeschwindigkeitsoperationen für die schnelle Leistungsversorgungsfunktion ausreichend verträglich sein, da der ESL-Wert des Kondensators klein ist.
  • Wenn zusätzlich der Mehrschichtkondensator der bevorzugten Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung an einem geeigneten Verdrahtungssubstrat angebracht wird, können die äußeren Anschlusselektroden, die bei dem Mehrschichtkondensator umfasst sind, vorteilhaft durch Höcker verbunden werden. Heutzutage besteht beispielsweise bei den Halbleiterchips, wie z. B. den MPU-Chips, eine Tendenz dazu, Verbindungen durch Höcker herzustellen, da die Betriebsfrequenzen höher werden. Das Anordnen von Hauptoberflächenanschlusselektroden stimmt mit dieser Tendenz überein. Darüber hinaus ermöglicht eine Verbindung durch Höcker, daß eine Anbringung mit hoher Dichte erzielt werden kann, so daß die Erzeugung einer parasitären Induktivität bei den Verbindungen verhindert werden kann.
  • Bei der vorliegenden Erfindung weisen die Merkmale jedes bevorzugten Ausführungsbeispiels, die im folgenden beschrieben werden, Vorteile auf, bei denen das Unterdrücken der im vorhergehenden erwähnten magnetischen Felder sehr verbessert und die elektrische Länge sehr verringert wird, was zu einer wirksameren Reduzierung des ESL-Werts führt.
  • Die ersten und zweiten Randdurchführungsleiter umfassen erste und zweite Randdurchführungsleiter, die mit den ersten bzw. zweiten inneren Elektroden an den Seiten der ersten und zweiten inneren Elektroden verbunden sind. Ferner weisen zumindest die ersten Randdurchführungsleiter oder die zweiten Randdurchführungsleiter Randdurchführungsleiter auf, die mit entsprechenden inneren Elektroden an Ecken der entsprechenden inneren Elektroden verbunden sind. Die ersten und zweiten äußeren Anschlusselektroden sind lediglich auf einer Hauptoberfläche des Kondensators angeordnet.

Claims (15)

  1. Mehrschichtkondensator mit folgenden Merkmalen: einem Kondensatorkörper (13) mit einer Mehrzahl von laminierten dielektrischen Schichten (12); zumindest einem Paar von ersten inneren Elektroden (14) und zumindest einem Paar von zweiten inneren Elektroden (15), wobei sich die Paare von ersten inneren Elektroden (14) und zweiten inneren Elektroden (15) über eine der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12), die innerhalb des Kondensatorkörpers (13) angeordnet sind, gegenüberliegen; ersten äußeren Anschlusselektroden (18) und zweiten äußeren Anschlusselektroden (19), die auf zumindest einer Hauptoberfläche (17) des Kondensatorkörpers (13) angeordnet sind, wobei sich die Hauptoberfläche (17) parallel zu den inneren Elektroden (14, 15) erstreckt; einer Mehrzahl von ersten Durchführungsleitern (20, 20a) und einer Mehrzahl von zweiten Durchführungsleitern (21, 21a), die jeweils innerhalb des Kondensatorkörpers (13) angeordnet sind, wobei die ersten Durchführungsleiter (20, 20a) durch bestimmte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlaufen, um die ersten inneren Elektroden (20, 20a) und die ersten äußeren Anschlusselektroden (18) derart elektrisch zu verbinden, dass die ersten Durchführungsleiter (20, 20a) von den zweiten inneren Elektroden (15) elektrisch isoliert sind, und wobei die zweiten Durchführungsleiter (21, 21a) durch bestimmte dielektrische Schichten (12) der Mehrzahl von dielektrischen Schichten (12) verlaufen, um die zweiten inneren Elektroden (15) und die zweiten äußeren An schlusselektroden (19) derart elektrisch zu verbinden, daß die zweiten Durchführungsleiter (21, 21a) von den ersten inneren Elektroden (14) elektrisch isoliert sind, wobei die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21, 20a, 21a) derart angeordnet sind, daß die ersten und zweiten Durchführungsleiter (20, 21, 20a, 21a) magnetische Felder, die durch einen Strom, der durch die inneren Elektroden (14, 15) fließt, induziert werden, gegenseitig unterdrücken; ersten Randdurchführungsleitern (20a), die in den ersten Durchführungsleitern (20, 20a) umfasst sind und mit den ersten inneren Elektroden (14) an Rändern der ersten inneren Elektroden (14) verbunden sind, und zweiten Randdurchführungsleitern (21a), die in den zweiten Durchführungsleitern (21, 21a) umfasst sind und die mit den zweiten inneren Elektroden (15) an Rändern der zweiten inneren Elektroden (15) verbunden sind, wobei die ersten und zweiten inneren Elektroden (14, 15) nach außen nicht über die mit ihnen verbundenen Randdurchführungsleiter (20a, 21a) überstehen.
  2. Mehrschichtkondensator gemäß Anspruch 1, bei dem zumindest die ersten Randdurchführungsleiter (20a) oder die zweiten Randdurchführungsleiter (21a) Randdurchführungsleiter aufweisen, die mit entsprechenden inneren Elektroden (14, 15) an Ecken der entsprechenden inneren Elektroden (14, 15) verbunden sind.
  3. Mehrschichtkondensator gemäß Anspruch 1 oder 2, bei dem an jeder der ersten und zweiten äußeren Anschlusselektroden (18, 19) ein Lötmittelhöcker (24, 25) vorgesehen ist.
  4. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem die ersten und zweiten äußeren Anschluss elektroden (18, 19) lediglich auf einer Hauptoberfläche (17) des Kondensators (13) angeordnet sind.
  5. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem die ersten und zweiten äußeren Anschlusselektroden (18, 19) auf beiden Hauptoberflächen (16, 17) des Kondensators (13) angeordnet sind.
  6. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem eine Querschnittkonfiguration der Durchführungsleiter (20, 20a, 21, 21a) kreisförmig ist.
  7. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem eine Querschnittkonfiguration der Durchführungsleiter (20, 20a, 21, 21a) viereckig und sechseckig ist.
  8. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem die ersten Randdurchführungsleiter (20a) und die zweiten Randdurchführungsleiter (21a) an jedem Rand der ersten und zweiten inneren Elektroden (14, 15) angeordnet sind.
  9. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8, bei dem jeder erste äußere Anschluss (18) entlang der zumindest einen Hauptoberfläche (17) des Kondensatorkörpers (13) benachbart zu einem der zweiten äußeren Anschlüsse (19) positioniert ist.
  10. Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9, bei dem jeder erste Durchführungsleiter (20, 20a) innerhalb des Kondensatorkörpers (13) benachbart zu einem der zweiten Durchführungsleiter (21, 21a) positioniert ist.
  11. Verwendung eines Mehrschichtkondensators gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10, als Entkopplungskondensator in einem MPU-Chip einer Mikroverarbeitungseinheit.
  12. Schaltungsanordnung mit einem Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10, bei dem ein MPU-Chip (36), der in einem Mikroprozessor untergebracht ist, auf einem Verdrahtungssubstrat (35) mit einem Leistungsversorgungsleiter (38, 41, 43) zum Zuführen von Leistung, die für den MPU-Chip (36) verwendet wird, und einem Masseleiter (39, 46, 48) angebracht ist, wobei entweder die ersten äußeren Anschlusselektroden (18) oder die zweiten äußeren Anschlusselektroden (19), die der Mehrschichtkondensator aufweist, mit dem Leistungsversorgungsleiter (38, 41, 43) elektrisch verbunden sind, und die anderen Anschlusselektroden der ersten äußeren Anschlusselektroden (18) der zweiten äußeren Anschlusselektroden (19) mit dem Masseleiter (39, 46, 48) verbunden sind.
  13. Schaltungsanordnung gemäß Anspruch 12, bei dem die ersten und zweiten äußeren Anschlusselektroden (18, 19) jeweils durch einen Höcker mit dem Verdrahtungssubstrat (35) verbunden sind.
  14. Verdrahtungssubstrat mit einem Mehrschichtkondensator gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10, der auf demselben angeordnet ist, und mit einem MPU-Chip (36), wobei der MPU-Chip (36) der in einer Mikroprozessoreinheit untergebracht ist, auf dem Verdrahtungssubstrat (35) mit einem Leistungsversorgungsleiter (38, 41, 43) zum Zuführen von Leistung, die für den MPU-Chip (36) benötigt wird, und einem Masseleiter (39, 46, 48) angebracht ist, wobei entweder die ersten äußeren Anschlusselektroden (18) oder die zweiten äußeren Anschlusselektroden (19), die in dem Mehrschichtkondensator umfasst sind, mit dem Leistungsversorgungsleiter (38, 41, 43) elektrisch verbunden sind, und die anderen Anschlusselektroden der ersten äußeren Anschlusselektroden (18) der zweiten äußeren Anschlusselektroden (19) mit dem Masseleiter (39, 46, 48) verbunden sind.
  15. Verwendung eines Mehrschichtkondensators gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10 in einer mit einer hohen Taktfrequenz betriebenen Prozessorschaltung.
DE10019839A 1999-11-19 2000-04-20 Mehrschichtkondensator, Vewendung des Mehrschichtkondensators, Schaltungsanordnung und Verdrahtunssubstrat damit Expired - Lifetime DE10019839B4 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32901299A JP3489729B2 (ja) 1999-11-19 1999-11-19 積層コンデンサ、配線基板、デカップリング回路および高周波回路
JP11-329012 1999-11-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE10019839A1 DE10019839A1 (de) 2001-06-21
DE10019839B4 true DE10019839B4 (de) 2010-01-28

Family

ID=18216622

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10019839A Expired - Lifetime DE10019839B4 (de) 1999-11-19 2000-04-20 Mehrschichtkondensator, Vewendung des Mehrschichtkondensators, Schaltungsanordnung und Verdrahtunssubstrat damit

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6344961B1 (de)
JP (1) JP3489729B2 (de)
KR (1) KR100363652B1 (de)
DE (1) DE10019839B4 (de)
TW (1) TW494417B (de)

Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7336468B2 (en) 1997-04-08 2008-02-26 X2Y Attenuators, Llc Arrangement for energy conditioning
US7321485B2 (en) 1997-04-08 2008-01-22 X2Y Attenuators, Llc Arrangement for energy conditioning
US9054094B2 (en) 1997-04-08 2015-06-09 X2Y Attenuators, Llc Energy conditioning circuit arrangement for integrated circuit
JP2001185442A (ja) * 1999-12-27 2001-07-06 Murata Mfg Co Ltd 積層コンデンサ、デカップリングコンデンサの接続構造および配線基板
US6636416B2 (en) * 2001-06-14 2003-10-21 Intel Corporation Electronic assembly with laterally connected capacitors and manufacturing method
TW586205B (en) * 2001-06-26 2004-05-01 Intel Corp Electronic assembly with vertically connected capacitors and manufacturing method
US6713860B2 (en) * 2002-02-01 2004-03-30 Intel Corporation Electronic assembly and system with vertically connected capacitors
US6847527B2 (en) 2001-08-24 2005-01-25 3M Innovative Properties Company Interconnect module with reduced power distribution impedance
EP1755161A3 (de) * 2001-08-24 2007-05-02 3M Innovative Properties Company Verdrahtungsmodul mit reduzierter Versorgungsverteilungsimpedanz
US6888432B2 (en) * 2002-02-15 2005-05-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. Laminated substrate, method of producing the same, nonreciprocal circuit element, and communication device
DE10217566A1 (de) * 2002-04-19 2003-11-13 Infineon Technologies Ag Halbleiterbauelement mit integrierter, eine Mehrzahl an Metallisierungsebenen aufweisende Kapazitätsstruktur
DE10217565A1 (de) * 2002-04-19 2003-11-13 Infineon Technologies Ag Halbleiterbauelement mit integrierter gitterförmiger Kapazitätsstruktur
DE60239391D1 (de) * 2002-06-07 2011-04-21 St Microelectronics Srl rgungsringes mit großem parasitärem Widerstand
US6606237B1 (en) * 2002-06-27 2003-08-12 Murata Manufacturing Co., Ltd. Multilayer capacitor, wiring board, decoupling circuit, and high frequency circuit incorporating the same
CN100437850C (zh) * 2002-10-30 2008-11-26 京瓷株式会社 电容器,布线基板,退耦电路以及高频电路
US6819543B2 (en) * 2002-12-31 2004-11-16 Intel Corporation Multilayer capacitor with multiple plates per layer
US20040231885A1 (en) * 2003-03-07 2004-11-25 Borland William J. Printed wiring boards having capacitors and methods of making thereof
DE10313891A1 (de) * 2003-03-27 2004-10-14 Epcos Ag Elektrisches Vielschichtbauelement
US6950300B2 (en) * 2003-05-06 2005-09-27 Marvell World Trade Ltd. Ultra low inductance multi layer ceramic capacitor
US6992387B2 (en) * 2003-06-23 2006-01-31 Intel Corporation Capacitor-related systems for addressing package/motherboard resonance
JP4623988B2 (ja) * 2003-06-27 2011-02-02 京セラ株式会社 コンデンサ及びその実装構造
DE10341564B4 (de) * 2003-09-09 2007-11-22 Infineon Technologies Ag Kondensatoranordnung und Verfahren zur Herstellung derselben
JP4079120B2 (ja) * 2004-06-04 2008-04-23 株式会社村田製作所 積層型セラミックコンデンサの製造方法
JP4597585B2 (ja) * 2004-06-04 2010-12-15 日本特殊陶業株式会社 積層電子部品及びその製造方法
JP2006032747A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Ngk Spark Plug Co Ltd 積層電子部品及びその製造方法
US7075185B2 (en) * 2004-09-14 2006-07-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Routing vias in a substrate from bypass capacitor pads
US7149072B2 (en) * 2004-11-04 2006-12-12 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Multilayered chip capacitor array
KR100674830B1 (ko) * 2004-11-04 2007-01-25 삼성전기주식회사 적층형 캐패시터 어레이
GB2439862A (en) 2005-03-01 2008-01-09 X2Y Attenuators Llc Conditioner with coplanar conductors
KR20060134277A (ko) * 2005-06-22 2006-12-28 삼성전기주식회사 내장형 상하전극 적층부품 및 그의 제조 방법
JPWO2007010768A1 (ja) * 2005-07-15 2009-01-29 株式会社村田製作所 コンデンサおよびその製造方法
DE102006056872A1 (de) * 2006-12-01 2008-06-12 Epcos Ag Vielschicht-Kondensator
US8238116B2 (en) * 2007-04-13 2012-08-07 Avx Corporation Land grid feedthrough low ESL technology
JP4501996B2 (ja) 2007-11-29 2010-07-14 Tdk株式会社 貫通コンデンサの実装構造
US20090296310A1 (en) * 2008-06-03 2009-12-03 Azuma Chikara Chip capacitor precursors, packaged semiconductors, and assembly method for converting the precursors to capacitors
JP4687757B2 (ja) 2008-07-22 2011-05-25 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品の製造方法
JP4772132B2 (ja) * 2009-01-13 2011-09-14 京セラ株式会社 コンデンサ素子内蔵多層配線基板
KR101846388B1 (ko) * 2011-11-29 2018-04-09 한국전자통신연구원 수직구조 캐패시터 및 수직구조 캐패시터의 형성 방법
US8779849B2 (en) * 2012-01-27 2014-07-15 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for providing capacitance in a multi-chip module
US9213386B2 (en) 2012-10-22 2015-12-15 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods and for providing power responsive to a power loss
KR101872582B1 (ko) * 2016-03-22 2018-06-28 삼성전기주식회사 적층 세라믹 커패시터 및 그 제조 방법
KR101933414B1 (ko) 2016-11-11 2018-12-28 삼성전기 주식회사 다층 박막 커패시터
CN116075913A (zh) * 2020-08-12 2023-05-05 株式会社村田制作所 多端子层叠电容器

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02159008A (ja) * 1988-11-25 1990-06-19 Sprague Electric Co 塔状縁部に埋込電極と端子を有するセラミック基板
JPH02256216A (ja) * 1988-06-27 1990-10-17 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 多層キヤパシタ及び前記キヤパシタを含む電子部品構造体
JPH07201651A (ja) * 1993-12-28 1995-08-04 Sumitomo Metal Ind Ltd 積層コンデンサ
JPH07307412A (ja) * 1994-05-10 1995-11-21 Sumitomo Metal Ind Ltd バイパス用コンデンサ搭載積層パッケージ
US5880925A (en) * 1997-06-27 1999-03-09 Avx Corporation Surface mount multilayer capacitor
EP0917165A2 (de) * 1997-11-14 1999-05-19 Murata Manufacturing Co., Ltd. Vielschichtkondensator
JPH11135356A (ja) * 1997-10-30 1999-05-21 Kyocera Corp 積層セラミックコンデンサ
JPH11144996A (ja) * 1997-11-10 1999-05-28 Murata Mfg Co Ltd 積層コンデンサ

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3308359A (en) 1965-03-12 1967-03-07 Bruce R Hayworth Low-inductance capacitor
US3612963A (en) 1970-03-11 1971-10-12 Union Carbide Corp Multilayer ceramic capacitor and process
US3822397A (en) 1973-05-07 1974-07-02 Sprague Electric Co A capacitor package with a split metal-plate terminal cover
US3971970A (en) 1974-11-27 1976-07-27 P. R. Mallory & Co., Inc. Electrical component with low impedance at high frequency
US4074340A (en) 1976-10-18 1978-02-14 Vitramon, Incorporated Trimmable monolithic capacitors
US4295183A (en) 1979-06-29 1981-10-13 International Business Machines Corporation Thin film metal package for LSI chips
US4274124A (en) 1979-12-26 1981-06-16 International Business Machines Corporation Thick film capacitor having very low internal inductance
US4328530A (en) 1980-06-30 1982-05-04 International Business Machines Corporation Multiple layer, ceramic carrier for high switching speed VLSI chips
US4346429A (en) 1980-07-09 1982-08-24 Union Carbide Corporation Multilayer ceramic capacitor with foil terminal
FR2507379A1 (fr) 1981-06-05 1982-12-10 Europ Composants Electron Bloc de condensateurs en serie et multiplicateur de tension utilisant un tel bloc de condensateurs
US4419714A (en) 1982-04-02 1983-12-06 International Business Machines Corporation Low inductance ceramic capacitor and method for its making
US4430690A (en) 1982-10-07 1984-02-07 International Business Machines Corporation Low inductance MLC capacitor with metal impregnation and solder bar contact
JPS60158612A (ja) 1984-01-27 1985-08-20 富士通株式会社 多層セラミツクコンデンサ
DE3669614D1 (de) 1985-01-17 1990-04-19 Eurofarad Keramischer hochfrequenzmehrschichtkondensator mit hoher kapazitaet.
US4706162A (en) 1985-01-22 1987-11-10 Rogers Corporation Multilayer capacitor elements
US4814940A (en) 1987-05-28 1989-03-21 International Business Machines Corporation Low inductance capacitor
US4830723A (en) 1988-06-22 1989-05-16 Avx Corporation Method of encapsulating conductors
US4853826A (en) 1988-08-01 1989-08-01 Rogers Corporation Low inductance decoupling capacitor
US4862318A (en) 1989-04-04 1989-08-29 Avx Corporation Method of forming thin film terminations of low inductance ceramic capacitors and resultant article
JPH05205966A (ja) 1992-01-24 1993-08-13 Murata Mfg Co Ltd 積層コンデンサ
US5517385A (en) 1992-11-19 1996-05-14 International Business Machines Corporation Decoupling capacitor structure
JPH06260364A (ja) 1993-03-08 1994-09-16 Masusaku Okumura チップ部品
JPH07326536A (ja) 1994-05-31 1995-12-12 Kyocera Corp セラミックコンデンサ
JPH11204372A (ja) 1997-11-14 1999-07-30 Murata Mfg Co Ltd 積層コンデンサ

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02256216A (ja) * 1988-06-27 1990-10-17 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 多層キヤパシタ及び前記キヤパシタを含む電子部品構造体
JPH02159008A (ja) * 1988-11-25 1990-06-19 Sprague Electric Co 塔状縁部に埋込電極と端子を有するセラミック基板
JPH07201651A (ja) * 1993-12-28 1995-08-04 Sumitomo Metal Ind Ltd 積層コンデンサ
JPH07307412A (ja) * 1994-05-10 1995-11-21 Sumitomo Metal Ind Ltd バイパス用コンデンサ搭載積層パッケージ
US5880925A (en) * 1997-06-27 1999-03-09 Avx Corporation Surface mount multilayer capacitor
JPH11135356A (ja) * 1997-10-30 1999-05-21 Kyocera Corp 積層セラミックコンデンサ
JPH11144996A (ja) * 1997-11-10 1999-05-28 Murata Mfg Co Ltd 積層コンデンサ
EP0917165A2 (de) * 1997-11-14 1999-05-19 Murata Manufacturing Co., Ltd. Vielschichtkondensator

Also Published As

Publication number Publication date
TW494417B (en) 2002-07-11
US6344961B1 (en) 2002-02-05
DE10019839A1 (de) 2001-06-21
JP2001148325A (ja) 2001-05-29
KR100363652B1 (ko) 2002-12-05
KR20010049257A (ko) 2001-06-15
JP3489729B2 (ja) 2004-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10019839B4 (de) Mehrschichtkondensator, Vewendung des Mehrschichtkondensators, Schaltungsanordnung und Verdrahtunssubstrat damit
DE10019838B4 (de) Mehrschichtkondensator, Verdrahtungssubstrat damit und Verwendung eines derartigen Mehrschichtkondensators
DE10027870B4 (de) Laminierter Kondensator und Montageanordnung
DE10019840B4 (de) Mehrschichtkondensator, dessen Verwendung als Entkopplungskondensator und eine Verdrahtungsplatine mit dem Mehrschichtkondensator
DE112013006313B4 (de) Leiterplatten-Layout-Design zur Reduzierung parasitärer Induktivitäten für Mehrlagen-Halbleiterbauelemente
DE19655266B4 (de) Elektronisches Bauelement
DE10019229A1 (de) Mehrschichtkondensator
DE19755954B4 (de) Leiterrahmenstruktur, diese verwendende Halbleiterbaugruppe und Herstellungsverfahren hierfür
DE10141877A1 (de) Halbleiterbauteil und Konvertereinrichtung
DE10022678A1 (de) Mehrschichtkondensator und ein Elektronikbauteil und eine Hochfrequenzschaltung, die denselben verwenden
EP1283663A2 (de) Leiterplatte
DE19911731A1 (de) Gedruckte Leiterplatte
DE60029011T2 (de) Leiterplattenanordnung mit verbesserter überbrückungsentkopplung für bga-packungen
DE60025796T2 (de) Massebene für ein IC
DE102007059128A1 (de) Mikrominiatur-Leistungswandler
DE10207957A1 (de) Verfahren für hochdichtes Entkoppeln einer Kondensatorplazierung mit geringer Anzahl von Kontaktlöchern
DE102012020477A1 (de) Gedruckte Schaltung und elektronische Vorrichtung mit der gedruckten Schaltung
DE10252831A1 (de) Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung
WO2002074025A2 (de) Mehrschichtige leiterplatte
DE3323472A1 (de) Entkopplungsanordnung fuer eine auf einer leiterplatte angeordnete integrierte schaltung
DE112017007145T5 (de) Zwischenplattenverbindungsstruktur
DE102006043032A1 (de) Eingebettete Kondensatorvorrichtung mit einer gemeinsamen Verbindungsfläche
DE69528869T2 (de) Flachgehäuse für Halbleiter-IC
DE3937183A1 (de) Verfahren zu stoerstrahlungsdaempfung an leiterplatten
DE102016110154A1 (de) Diskretes Einbrand-Durchführungsfilter für implantierte medizinsche Vorrichtungen

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8364 No opposition during term of opposition
R071 Expiry of right