JPH07326536A - セラミックコンデンサ - Google Patents
セラミックコンデンサInfo
- Publication number
- JPH07326536A JPH07326536A JP6119397A JP11939794A JPH07326536A JP H07326536 A JPH07326536 A JP H07326536A JP 6119397 A JP6119397 A JP 6119397A JP 11939794 A JP11939794 A JP 11939794A JP H07326536 A JPH07326536 A JP H07326536A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodes
- electrode
- ceramic capacitor
- capacitor
- inductance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
bとを積層して形成したコンデンサ部26を有するチップ
本体24と、チップ本体24の内部電極25a、25bと平行な
一主面上に形成した一対の基板用電極27a、27bとから
成るセラミックコンデンサ23において、内部電極25a、
25bの短辺の長さAと長辺の長さBとの比A/Bを 0.5
以下とすると共に、内部電極25a、25bの中央部に長辺
方向に沿って複数のビアホール28a、28bを列状に配設
し、基板用電極27a、27bと内部電極25a、25bとを一
つおきのビアホール28a、28bを介して接続する。 【効果】 コンデンサに生じるインダクタンスを非常に
小さく抑制でき、高速化された回路モジュールにおいて
もノイズ発生による電圧レベルの変動に起因する誤動作
を引き起こさない、極めて低インダクタンスのセラミッ
クコンデンサが得られる。
Description
電気回路基板の配線に接続するための基板用電極とを有
するセラミックコンデンサに関し、詳細には、非常に高
速でスイッチングする大型コンピュータ等の回路モジュ
ールに組み込まれる、低インダクタンスのセラミックコ
ンデンサに関するものである。
器)コンデンサとしては、特開昭59-914号等に開示され
たチップ型積層セラミックコンデンサが知られている。
プ型コンデンサの構成を示すもので、同図(a)は横断
面図であり、(b)は縦断面図である。図3(a)及び
(b)に示したチップ型コンデンサ1は、誘電体磁器か
らなるチップ本体2の内部に、第1パターンの内部電極
3aと第2パターンの内部電極3bとが誘電体磁器を介
して交互に積層されて、コンデンサ部(容量発生部)4
が形成されている。チップ本体2の左右の端面には、外
部の電気回路基板の配線に接続するための基板用電極と
して、厚み50〜100 μmの端子電極5a、5bが形成さ
れ、内部電極3a、3bの一端がそれぞれ接続されてい
る。そして、端子電極5a、5bが半田等で回路基板の
配線と接続されて、面実装される。
は、図3(a)において端子電極に直交する方向の内部
電極の長さCと、端子電極に平行な方向の内部電極の長
さDとの比C/Dが大きくなる程、インダクタンスが大
きくなることが知られている。図3に示した従来のチッ
プ型コンデンサ1では、C/Dが通常 1.5以上と大きか
ったため、インダクタンスが 1.0nH以上と大きくなっ
ていた。
ンダクタンスは、端子電極の厚みが厚くなることによっ
ても大きくなる。図3(a)及び(b)に示した従来の
チップ型コンデンサでは、端子電極の厚みが50〜100 μ
mと厚かったため、それによってもインダクタンスが大
きくなっていた。
でスイッチングする集積回路モジュールにおいては、コ
ンデンサのインダクタンスが 0.1nHよりも大きくなる
と、ノイズ発生による電圧レベルの変動に起因する回路
の誤動作が生じるおそれがある。従って、上記構成の従
来のチップ型セラミックコンデンサ1では、そのような
集積回路に適用できないという問題点があった。
ベルの変動に起因する回路の誤動作を防止するべく、例
えば、図4(a)及び(b)にそれぞれ横断面図及び縦
断面図で示すような構成のセラミックコンデンサ6が開
発されている。なお、同図において、図3と同様の箇所
には同じ符号を付してある。このセラミックコンデンサ
6は、内部電極3a、3bの端子電極に直交する方向の
内部電極の長さCと、端子電極に平行な方向の内部電極
の長さDとの比C/Dを 0.5〜 0.7とすることにより、
発生するインダクタンスを 0.7nH程度に抑制すること
ができるものである。
面図で示すような構成のセラミックコンデンサ7が開示
されている。このセラミックコンデンサ7においては、
誘電体磁器からなるチップ本体8の内部に、第1の内部
電極9aと第2の内部電極9bとが誘電体磁器を介して
交互に垂直方向に形成されて、コンデンサ部10が形成さ
れている。そして、第1の内部電極9a及び第2の内部
電極9bは、それぞれ同じ側の端部において、第1の端
子電極11a及び第2の端子電極11bに接続されている。
なお、12は第1の端子電極11aと第2の端子電極11bと
を電気的に絶縁するための絶縁層である。このような構
成として、内部電極を流れる電流が、誘電体磁器層を介
して隣接する対向した第1の内部電極9a及び第2の内
部電極9b中を反対方向に流れるようにし、それにより
内部電極中を流れる電流に付随する誘導磁場を相殺し
て、相互インダクタンスを減少させるものである。
断面図で示すような構成のセラミックコンデンサ13が開
示されている。このセラミックコンデンサ13において
は、誘電体磁器からなるチップ本体14の第1の角へ向か
って延びて外部に露出する耳片部と本体部とを有する第
1の内部電極15aと、誘電体磁器の第2の角へ向かって
延びて外部に露出する耳片部と本体部とを有する第2の
内部電極15bとが誘電体磁器を介して交互に積層され
て、コンデンサ部16が形成されている。そして、各耳片
部同士が外部で端子電極(図示せず)により接続され
て、コンデンサ13を形成している。このような構成とし
て、内部電極を流れる電流が、誘電体磁器層を介して隣
接する対向した第1の内部電極15a及び第2の内部電極
15b中をほぼ反対方向に流れるようにし、それにより内
部電極中を流れる電流による磁界を相殺して、相互イン
ダクタンスを減少させるものである。
4に示したセラミックコンデンサ6においても、図3に
示したセラミックコンデンサ1と同様に、インダクタン
スが 0.1nHよりも大きくなるため、やはりノイズ発生
による電圧レベルの変動に起因する回路の誤動作が生じ
るおそれがあった。
ミックコンデンサ7には、大容量を得るために内部電極
9a、9b及び誘電体磁器層の積層数を増加すると、各
内部電極に接続させる端子電極11a、11bもそれに応じ
て数多くかつ交互に極めて近接させて配置しなければな
らず、しかも各端子電極11a、11b間を絶縁した上で第
1の端子電極11a同士及び第2の端子電極11b同士を接
続する必要があるので、構造が非常に複雑となってしま
うという問題点があった。また、各内部電極9a、9b
を回路基板に対して垂直に配置するためコンデンサ7本
体の高さが高くなってしまい、電子回路用の電子部品と
して小型化の要求に応じることが難しいという問題点も
あった。更に、静電容量との関係で内部電極の長さの比
C/Dを小さくすることに限界があるため、自己インダ
クタンスが大きくなってしまうという問題点もあった。
ラミックコンデンサ13にも、隣接する対向した内部電極
15a及び15b中を反対方向に流れる電流により相互イン
ダクタンスは小さくなるものの、そのような効果を維持
しつつ内部電極15a、15bの縦横比を小さくすることが
静電容量との関係で難しいため、自己インダクタンスが
大きくなってしまうという問題点があった。
1 号において、図7(a)及び(b)にそれぞれ横断面
図及び縦断面図で示すような構成の低インダクタンスの
セラミックコンデンサ17を提案した。このセラミックコ
ンデンサ17は、誘電体磁器からなるチップ本体18の内部
に、長方形状の内部電極19a及び19bとが誘電体磁器を
介して交互に積層されて、コンデンサ部20が形成されて
いる。そして、基板用電極21a、21bをチップ本体18の
底面のみに形成し、かつ長方形状の内部電極19a、19b
の長辺と基板用電極21a、21bとをビアホール22a、22
bを介して接続するとともに、内部電極19a、19bの短
辺の長さAと長辺の長さBとの比A/Bを 0.5以下とし
ている。このような構成により、コンデンサに発生する
自己インダクタンスを低減し、インダクタンスを 0.1n
H以下に抑制することができるものであり、また、端子
電極の厚さを20μm以下とすることによりインダクタン
スを更に低下させることができるものである。
いては、誘電体磁器層を挟んで隣接する対向した内部電
極19a、19b中の電流は同方向に流れており、それによ
り発生する相互インダクタンスを低減させることが難し
く、更に高速化したスイッチングに対しては、ノイズ発
生による電圧レベルの変動が生じるおそれがあるという
問題点があった。従って、回路モジュールにおけるスイ
ッチングの更なる高速化に対応するために、更に低イン
ダクタンスのセラミックコンデンサが望まれていた。
鋭意研究を進めた結果完成されたもので、その目的は、
発生するインダクタンスを更に抑制することができる、
極めて低インダクタンスとしたセラミックコンデンサを
提供することにある。
回路モジュールにおいてもノイズ発生による電圧レベル
の変動に起因する誤動作を引き起こさない、極めて低イ
ンダクタンスとした面実装タイプのセラミックコンデン
サを提供することにある。
デンサは、誘電体磁器層と長方形状の内部電極とを交互
に積層して形成されたコンデンサ部を有するチップ本体
と、そのチップ本体の内部電極と平行な一主面上に形成
された一対の基板用電極とから成るセラミックコンデン
サにおいて、前記内部電極の短辺の長さをAとし長辺の
長さをBとしたときの比A/Bを 0.5以下とするととも
に、前記内部電極の中央部に長辺方向に沿って複数のビ
アホールを列状に配設し、前記基板用電極と内部電極と
を一つおきのビアホールを介して接続したことを特徴と
するものである。
層と長方形状の内部電極とを交互に積層して形成された
コンデンサ部において、内部電極の短辺の長さをAとし
長辺の長さをBとしたときの比A/Bを 0.5以下とする
ことにより、セラミックコンデンサに生じるインダクタ
ンスを 0.1nH以下に抑制することができる。
チップ本体の内部電極と平行な一主面上、即ち底面のみ
に一対の基板用電極を内部電極と平行になるように形成
し、この基板用電極とそれに接続される内部電極とをビ
アホールを介して接続している。このように、チップ本
体の端面に互いに対向配置された従来の基板用電極と異
なり、基板用電極を互いに対向しない構成とすることに
よって、基板用電極間の相互インダクタンスも低減でき
るため、セラミックコンデンサに生じるインダクタンス
をより一層低減する効果を有している。
アホールを長方形状の内部電極の短辺方向の中央部に長
辺方向に沿って列状に配設し、一方の基板用電極とそれ
に接続される複数の内部電極とを、及び他方の基板用電
極とそれに接続される複数の内部電極とを、それぞれ列
状に配設した一つおきのビアホールを介して接続する構
成とする。ここで、これら両者の内部電極は交互に積層
されており、一方の基板用電極とそれに接続される内部
電極とを接続するビアホールは、他方の内部電極を貫通
している。また、一対の基板用電極は、それぞれが列状
に配設されたビアホールの列に向かって交互に、例えば
櫛型状に入り組んだような形状として、一つおきのビア
ホールに接続するように構成する。
磁器層を挟んで相対した内部電極の中でビアホール列と
内部電極の長辺との間を流れる電流が、ビアホール列の
両側においてそれぞれ反対方向に流れるようになる。そ
のため、内部電極間に発生する相互インダクタンスを低
減させることができるので、セラミックコンデンサに生
じるインダクタンスを更に低減することができる。
よれば、極めて低インダクタンスのセラミックコンデン
サとなり、非常に高速化された回路モジュールにおいて
もノイズ発生による電圧レベルの変動に起因する誤動作
を引き起こさない、面実装タイプのセラミックコンデン
サを提供することができる。
施例に基づいて詳述する。図1(a)〜(c)は本発明
のセラミックコンデンサの実施例を示すもので、同図
(a)はセラミックコンデンサ23の横断面図であり、図
の中央付近の破断線の両側で異なる断面を表わしてい
る。また、同図(b)は縦断面図、同図(c)は底面図
である。これらの図において、24はコンデンサ部を有す
るチップ本体であり、多数の誘電体磁器層を積層して構
成されている。
構成する誘電体磁器層の間に長方形状の内部電極25a、
25bを介装して、コンデンサ部26を形成している。ここ
で、図1(a)におけるAは長方形状の内部電極25a、
25bの短辺の長さを示し、Bは同じく長辺の長さを示し
ている。そして、本発明のセラミックコンデンサ23にお
いては、内部電極25a、25bの短辺と長辺の長さの比A
/Bを0.5以下としている。
気回路基板の配線に接続するための一対の基板用電極27
a、27bを、内部電極25a、25bと平行になるように形
成している。
短辺方向のほぼ中央部には、基板用電極27a、27bと内
部電極25a、25bとを接続するための導体を内部に充填
した、複数のビアホール28a、28bを長辺方向に沿って
列状に配設している。これらのビアホール28a、28b
は、一つおきにチップ本体24の底面において基板用電極
27a又は27bに接続しており、基板用電極27aに接続し
たビアホール28aは、コンデンサ部26において内部電極
25aに順次接続されていて、他方、基板用電極27bに接
続したビアホール28bは、内部電極25bに順次接続され
ている。ここで、内部電極25a同士を接続する各ビアホ
ール28aは、他方の内部電極25bを貫通しているが、こ
の各ビアホール28aの回りの各内部電極25bに電極膜を
形成しないブランク部を設けることにより空隙を確保し
て、各ビアホール28aと各内部電極25bとの間を絶縁し
ている。また、内部電極25b同士を接続する各ビアホー
ル25bと、それらが貫通する各内部電極25aとの間も、
同様にして絶縁している。
aとを一つおきのビアホール28aによって、また基板用
電極27bと各内部電極25bとを同じく一つおきのビアホ
ール28bによってそれぞれ接続することにより、誘電体
磁器層を介して隣接して対向した内部電極25aと内部電
極25bの中を流れる充電電流や放電電流などの電流は、
図2に示すように、ビアホール28a、28bの列の両側に
おいて、それぞれほぼ反対方向に流れるようになる。
発明のセラミックコンデンサ23の内部電極25a、25b中
を流れる電流の向きを示す横断面図及び縦断面図であ
り、図1と同様の箇所には同じ符号を付してある。図2
(a)及び(b)においては、電流の向きとして、一方
の基板用電極27aからビアホール28a及び内部電極25a
を通り、誘電体磁器層を介して内部電極25bからビアホ
ール28bを通って他方の基板用電極27bへと流れる場合
を示している。そして、図中の実線の矢印は、基板用電
極27aからビアホール28aを通って内部電極25aの中を
流れる電流の主な向きを表わし、破線の矢印は、内部電
極25bの中を流れて、ビアホール28bを通って基板用電
極27bへと流れる電流の主な向きを表わしている。な
お、電流がこれとは逆に、基板用電極27bから基板用電
極27aへと流れる場合には、各々の矢印の向きは逆向き
となる。本発明の構成のセラミックコンデンサ23であれ
ば、図2(a)及び(b)に示したように、誘電体磁器
層を挟んで相対した内部電極25aと25bとの中で、
ビアホール28a、28bの列と内部電極25a、25bの長辺
との間を内部電極25a、25bの短辺に平行な方向に流れ
る電流が、ビアホール28a、28b列の両側においてそれ
ぞれほぼ反対方向に流れるようになる。そのため、内部
電極25a、25b間に発生する相互インダクタンスが相殺
され、インダクタンスを低減させることができる。
クコンデンサ23では、基板用電極27a、27bをチップ本
体24の内部電極25a、25bと平行な一主面、即ち底面の
みに内部電極25a、25bと平行になるように形成するこ
とによって、基板用電極27a、27bに発生する相互イン
ダクタンスを低減することができる。また、長方形状の
内部電極25a、25bの短辺と長辺の長さの比A/Bを
0.5以下とすることによって、コンデンサ部26に発生す
る自己インダクタンスを抑制することができる。そし
て、内部電極25a、25bの中央部に列状に配設した複数
のビアホール28a、28bの一つおきによって基板用電極
27a、27bと内部電極25a、25bとを接続し、相対する
内部電極25a、25b間でそれらの中を電流が反対方向に
流れるようにすることによって、内部電極25a、25b間
で発生する相互インダクタンスを低減することができ
る。そのため、セラミックコンデンサ23に生じるインダ
クタンスを 0.1nH以下、例えば0.07nH程度に非常に
小さく抑制することができ、非常に高速でスイッチング
する回路モジュールに使用した場合においても、ノイズ
発生による電圧レベルの変動に起因する回路の誤動作を
生じることがなくなる。
は、種々の誘電体材料を用いることができ、例えばBa
TiO3 、LaTiO3 、CaTiO3 、NdTi
O3 、MgTiO3 、SrTiO3 、CaZrO3 、S
rSnO3 、BaTiO3 にNb2O5 、Ta2 O5 、
ZnO、CoO等を添加した組成物、BaTiO3 の構
成原子であるBaをCaで、TiをZrやSnで部分的
に置換した固溶体等のチタン酸バリウム系材料や、Pb
(Mg1/3 Nb2/3 )O3 、Pb(Fe,Nd,Nb)
O3 系ペロブスカイト型構造化合物、Pb(Mg1/3 N
b2/3 )O3 −PbTiO3 等の2成分系組成物、Pb
(Mg1/3 Nb2/3 )O3 −PbTiO3 −Pb(Mg
1/2 W1/2 )O3 、Pb(Mg1/3 Nb2/3 )O3 −P
b(Zn1/3 Nb2/3 )O3 −PbTiO3 、Pb(M
g1/3 Nb2/3 )O3 −Pb(Zn1/3Nb2/3 )O3
−Pb(Sm1/2 Nb1/2 )O3 等の3成分系組成物、
あるいはそれらにMnO、MnO2 、CuO、BaTi
O3 等を添加したもの等の鉛系リラクサー材料などが挙
げられる。チップ本体24の形成に際しては、これらの誘
電体粉末をバインダーと十分に混合したスリップからセ
ラミックグリーンシートに成形したものを使用する。
は、例えばPd、Ag、Pt、Ni、Cu、Pb及びそ
れらの合金が挙げられる。内部電極25a、25bの形成に
当たっては、このような電極材料粉末をバインダーと混
合粉砕してペースト状にした導電性ペーストが用いられ
る。この導電性ペーストを、スクリーン印刷法などによ
ってセラミックグリーンシート上に内部電極パターンと
して印刷して、積層、圧着、焼成することにより、所望
の内部電極25a、25bを形成する。
料は、内部電極27a、27bと同様であり、導電性ペース
トとしてチップ本体24の底面に塗布し、焼成することに
より、所望の基板用電極27a、27bを形成する。あるい
は、スパッタリング等の薄膜形成法による導体膜によっ
て形成してもよい。また、このようにして形成した電極
膜に、更にメッキ法によりNi、Ni−Sn、Au等の
メッキ膜を析出させてもよい。
内部電極25a、25bと平行な一主面上に、内部電極25
a、25bと平行になるように形成されるとともに、内部
電極25a、25bのほぼ中央部に列状に形成される複数の
ビアホール28a、28bのそれぞれと一つおきに接続する
ように、ビアホール28a、28bの列に向かい合って交互
に入り組んだような形状、例えば図1(c)に示した櫛
型状などに形成される。この基板用電極27a、27bの厚
さは、20μm以下とすると、更にインダクタンスが低下
するといった点で好ましい。そして、基板用電極27a、
27bの各々は、外部の回路モジュールに、その基板上の
接続ランドなどを介して半田などを用いて接続される。
電極25a、25bの短辺方向のほぼ中央部に、長辺方向に
沿って列状に複数形成する。この列は、必ずしも一直線
状である必要はなく、ビアホール28a、28b間距離が 2
00μm以下の範囲で、千鳥状(ジグザグ状)に配置して
もよい。そのように千鳥状に配置すると、それらに接続
する基板用電極の形状が単純化されるので、基板用電極
の形成が容易となり、製造しやすくなるという利点があ
る。
は、まずセラミックグリーンシートの所定の位置に、後
から印刷する内部電極パターンのほぼ中央部に長辺方向
に沿って列状に並ぶように、穴加工(スルーホール加
工)を施す。この穴加工は、MPS(マルチ・パンチン
グ・システム)装置などを使用して行なう。
ート上に、導電性ペーストを所定の内部電極パターン形
状に印刷する。この内部電極パターンには、基板用電極
27aに接続される内部電極25aとなるパターンと、基板
用電極27bに接続される内部電極25bとなるパターンと
の2種類を用いる。これら内部電極パターンの印刷に際
しては、基板用電極と接続するためのビアホールとなる
スルーホール部分には、導電性ペーストの一部がスルー
ホールの淵に掛かるように、スルーホールの径と同じ程
度の大きさの中抜きを施して印刷する。一方、接続しな
いビアホールとなるスルーホール部分には、内部電極と
ビアホールとの電気的な導通を避けて絶縁性を確保する
ため、スルーホール端部から所定のマージン(間隙)を
設定して印刷する。このマージンは、印刷あるいは積層
時のずれを見込んで設定されるが、通常は 150μmより
小さくなると絶縁不良を起こし易い傾向があるため、そ
れ以上に設定することが好ましい。但しこの数値は、内
部電極パターンの印刷精度や印刷後のグリーンシートの
積層精度、誘電体及び内部電極の材質の選定、ビアホー
ル形成の際の導体のにじみ等により異なるため、それら
に応じて適宜選択すれば良い。なお、スルーホール即ち
ビアホールの形状及び上記所定のマージンの形状は必ず
しも円形である必要はなく、所望の特性を有すれば、三
角形、四角形、六角形等の多角形や楕円形などの種々の
形状であってもよい。
極パターン印刷を施したグリーンシートを、2種類の内
部電極パターンが交互に積層して、コンデンサ部26が形
成されるように所定数積層する。即ち、誘電体磁器層を
介して重なり合う内部電極が、交互に互いに隣り合うビ
アホールに導通するように積層する。その後、互いに繋
がって細長い空洞を形成したスルーホール部に、基板用
電極27a、27bと内部電極25a、25bとを接続するため
の導体を、スクリーン印刷、エッチングプレート印刷等
の方法によって充填する。この導体の材料は、安定して
電気的導通を確保できれば特に限定はないが、内部電極
25a、25bと同種の材料を用いると、焼成時の収縮の違
いによる接続不良が発生せず、接続部が一体化して良好
な導通特性が得られる点で好ましい。このようにして導
体が充填されたスルーホールは、焼成後に、基板用電極
27a、27bと内部電極25a、25bとを接続するビアホー
ル28a、28bとなる。なお、ビアホール28a、28bの長
さは、インダクタンスの発生に関与し、ビアホールが長
くなるに従ってビアホールの持つ自己インダクタンスが
増加するため、なるべく短くすることが好ましい。
のブランク層となるセラミックグリーンシートを積層
し、熱圧着した後で所定のサイズに切断し、脱バインダ
ーを行ない、焼成する。
体24の角面を研磨した後、チップ本体24の底面となる一
主面に端部が露出しているビアホール28a、28bに対し
て、一対の基板用電極27a、27bを形成する。この基板
用電極27a、27bは、互いに隣り合うビアホール28a、
28bが、それぞれ基板用電極27a及び27bに接続される
ような形状に形成することにより、一方の基板用電極27
a又は27bに対して一つおきのビアホール28a又は28b
が接続される形とする。この基板用電極27a、27bは、
前述のように導電性ペーストを用いて形成してもよく、
あるいはスパッタリング等の薄膜形成法によって形成し
てもよい。
具体例を示す。 〔例1〕まず、誘電体磁器層の材料として、PMN(P
b(Mg1/3 Nb2/3 )O3 )を主成分とする鉛系リラ
クサー材料粉末を用意し、アクリル系樹脂のバインダー
と混合し、得られたスリップを用いて、ドクターブレー
ド法によって厚さ40μmのセラミックグリーンシートを
成形した。
置に、MPS装置を使用して、後から印刷する内部電極
パターンの中央部に長辺方向に沿って1列に並ぶよう
に、直径 120μmのスルーホールを、 250μm間隔で8
個加工した。
ートに、Ag又はAg/Pdからなる導電性ペーストを
用いて、スクリーン印刷法により、長方形状の内部電極
パターンを印刷した。この内部電極パターンの寸法は、
内部電極の短辺の長さA= 0.8mm、長辺の長さ(幅)
B= 3.2mm、短辺と長辺の長さの比A/B=0.25とな
り、厚さが8〜10μmとなるようにした。また、ビアホ
ールと接続する部分には、導電性ペーストの一部がスル
ーホールの淵に掛かるように、スルーホール径と同じ直
径 120μmの中抜きを設け、ビアホールと接続しない部
分には、スルーホールの周囲にそれぞれ 150μmのマー
ジンを取り、直径 540μmの中抜きを設けた。
するように、2種類の内部電極パターンを印刷したグリ
ーンシートを、交互に5枚ずつ積層した後、細長い空洞
となったスルーホールに、内部電極と同じAg又はAg
/Pdからなる導電性ペーストを充填した。
圧着して一体化した後、長さ4.15mm、幅2.23mmのチ
ップに切断した。これを乾燥機により 300℃で脱バイン
ダーした後、920 ℃、 3.5時間の条件で焼成して、長さ
3.2mm、幅 1.6mm、厚さ1.0mmのチップ本体を作
製した。
を研磨した後、ビアホールの端部が露出した底面に、A
g又はAg/Pdからなる導電性ペーストを用いて、ス
クリーン印刷法により、基板用電極パターンを印刷し
た。この基板用電極パターンは、図1(c)に示したビ
アホール部が櫛型のものとし、その寸法は、基板用電極
の長さが 3.2mm、幅が、櫛の歯の先に相当する広い部
分で1.05mm、歯の根元に相当する狭い部分で 0.4mm
となるようにし、厚さは20μmとなるようにした。ま
た、櫛の歯の幅に相当する部分は 0.2mmとし、歯の間
隔に相当する部分は0.15mmとした。これを乾燥後に、
600℃、10分間の条件で焼成して基板用電極を形成し、
セラミックコンデンサ試料Aを得た。
ダクタンスの発生状況を、測定器YHP4274Aを用い、
周波数1kHz、電圧1Vの時の静電容量を測定した
後、測定器YHP4191Aを用い、共振周波数を測定し、
共振周波数f0 と静電容量C、インダクタンスLの関係
式f0 =1/2π√(L・C)より、インダクタンスを
算出した。その結果、試料Aが有するインダクタンス
は、0.074 nHと非常に小さいものであった。
造の長さ 3.2mm、幅 1.6mm、暑さ 1.0mmのコンデ
ンサについて、同様にインダクタンスを測定したとこ
ろ、 1.0〜1.2 nHのインダクタンスを有しており、本
発明のセラミックコンデンサが極めて低インダクタンス
であることが確認できた。
ミックコンデンサ試料を作製するに当り、内部電極の短
辺の長さA及び長辺の長さBを変えて、表1に示すよう
に短辺と長辺の長さの比A/Bの異なる試料B〜Hを得
た。これらについて〔例1〕と同様にしてインダクタン
スを求めたところ、表1に示した結果が得られた。
長さの比A/Bが 0.5以下のコンデンサ試料E〜Hであ
れば、インダクタンスを 0.1nH以下と非常に小さく抑
制できることが確認できた。
ミックコンデンサ試料を作製するに当り、内部電極を接
続するビアホールの合計数を、2個、4個及び6個に変
えた。これらのビアホールは、試料Aの8個のビアホー
ルと両端の位置が同じになるようにし、その間で内部電
極パターンの中央部に長辺方向に沿って1列に並ぶよう
に、等間隔に配置した。そして、ビアホールが2個の場
合は、両端の1つずつが第1パターンと第2パターンの
それぞれの内部電極と基板用電極とを接続するように、
また、4個及び6個の場合はその間で1つおきにそれぞ
れの内部電極と基板用電極とを接続するようにした。こ
のようにして、それぞれ試料I、J及びKを得た。
ダクタンスを求めたところ、表2に示した結果が得られ
た。なお、表2には、試料Aの結果も併記した。
ンデンサにおいては、試料K及びAのようにビアホール
の合計数を6個以上に設定することが、インダクタンス
の低減のために好ましいことが分かる。これは、ビアホ
ールの数が減少すると、内部電極中の電流の流れにおい
て内部電極の長辺方向の成分が大きくなるために、セラ
ミックコンデンサの自己インダクタンスが増加してくる
ためと考えられる。
ホールは、好ましくは合計で6個以上の多数設けること
が良いと考えられる。
ミックコンデンサ試料を作製するに当り、内部電極を接
続するビアホールの配置を、1列の直線状から、千鳥状
の配置に変化させた。その際、ビアホールの径及び内部
電極の長辺方向の間隔は試料Aと同じとし、短辺方向の
間隔を表3に示すように0.05mm〜0.25mmにおいて5
段階に変えたものを作製した。また、基板用電極の櫛型
部は、ビアホールの配置に合わせて適宜調節した。この
ようにして、それぞれ試料L〜Pを得た。
ダクタンスを求めたところ、表3に示した結果が得られ
た。なお、表3には、試料Aの結果も併記した。
ンデンサにおいては、ビアホールを千鳥状に配置する場
合、試料A及びL〜Oのように内部電極の短辺方向の間
隔を0.20mm以下に設定することが、インダクタンスの
低減のために好ましいことか分かる。これは、ビアホー
ルを千鳥状に配置すると、内部電極の中央部分の相互イ
ンダクタンスが増加するために、全体としてのインダク
タンスが増加するためと考えられる。しかし、ビアホー
ルを千鳥状に配置すると、基板用電極を形成する際の製
造上の容易さの点で有利となるので、その場合のビアホ
ールの配置間隔は、インダクタンスとの兼ね合いで設定
することが望ましい。
ミックコンデンサ試料を作製するに当り、基板用電極の
厚さを変えた。基板用電極パターンを印刷した時の導電
性ペーストの厚さを変えて、基板用電極の厚さを表4に
示すように10〜35μmの間で5段階に変えたものを作製
し、それぞれ試料Q〜Uを得た。
ダクタンスを求めたところ、表4に示した結果が得られ
た。なお、表4には、試料Aの結果も併記した。
ンデンサにおいては、基板用電極の厚さは特に大きな影
響を与えていないが、望ましくは20μm以下とすること
で、インダクタンスを更に低く抑えることができること
が分かった。
クコンデンサによれば、誘電体磁器層と長方形状の内部
電極とを交互に積層して形成されたコンデンサ部におい
て、内部電極の短辺と長辺の長さの比A/Bを 0.5以下
とするとともに、チップ本体の内部電極と平行な一主面
上のみに一対の基板用電極を内部電極と平行になるよう
に形成し、この基板用電極と内部電極とを、内部電極の
中央部に長辺方向に沿って列状に配設した一つおきのビ
アホールを介して接続する構成とすることにより、コン
デンサに発生するインダクタンスを非常に小さく抑制す
ることができ、極めて低インダクタンスとしたセラミッ
クコンデンサを提供することができた。
ば、非常に高速化された回路モジュールにおいてもノイ
ズ発生による電圧レベルの変動に起因する誤動作を引き
起こさない、極めて低インダクタンスとした面実装タイ
プのセラミックコンデンサを提供することができた。そ
のため、高速化された回路モジュールの動作を安定化す
ることが可能となり、さらなる高速化に対応できるよう
になる。
のセラミックコンデンサの構成例を示す横断面図、縦断
面図及び底面図である。
ックコンデンサの構成例における電流の向きを説明する
横断面図及び縦断面図である。
サの構成を示す横断面図及び縦断面図である。
デンサの構成を示す横断面図及び縦断面図である。
断面図である。
断面図である。
デンサの構成を示す横断面図及び縦断面図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 誘電体磁器層と長方形状の内部電極とを
交互に積層して形成されたコンデンサ部を有するチップ
本体と、該チップ本体の前記内部電極と平行な一主面上
に形成された一対の基板用電極とから成るセラミックコ
ンデンサにおいて、前記内部電極の短辺の長さをAとし
長辺の長さをBとしたときの比A/Bを0.5以下とす
るとともに、前記内部電極の中央部に長辺方向に沿って
複数のビアホールを列状に配設し、前記基板用電極と内
部電極とを一つおきのビアホールを介して接続したこと
を特徴とするセラミックコンデンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6119397A JPH07326536A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | セラミックコンデンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6119397A JPH07326536A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | セラミックコンデンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07326536A true JPH07326536A (ja) | 1995-12-12 |
Family
ID=14760489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6119397A Pending JPH07326536A (ja) | 1994-05-31 | 1994-05-31 | セラミックコンデンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07326536A (ja) |
Cited By (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000226689A (ja) * | 1999-02-08 | 2000-08-15 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品のバンプ電極形成方法および電子部品 |
JP2000315622A (ja) * | 1999-04-28 | 2000-11-14 | Ngk Spark Plug Co Ltd | コンデンサ |
US6327134B1 (en) | 1999-10-18 | 2001-12-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multi-layer capacitor, wiring board, and high-frequency circuit |
US6344961B1 (en) | 1999-11-19 | 2002-02-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multi-layer capacitator, wiring substrate, decoupling circuit, and high-frequency circuit |
US6351369B1 (en) | 1999-11-19 | 2002-02-26 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multi-layer capacitor, wiring substrate, decoupling circuit, and high-frequency circuit |
US6370011B1 (en) | 1997-11-14 | 2002-04-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multilayer capacitor |
US6370010B1 (en) | 1999-10-18 | 2002-04-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multi-layer capacitor, wiring board, and high-frequency circuit |
JP2002118032A (ja) * | 2000-10-06 | 2002-04-19 | Tdk Corp | 積層型電子部品 |
JP2003100549A (ja) * | 2002-09-09 | 2003-04-04 | Murata Mfg Co Ltd | チップコンデンサ及びその製造方法 |
US6549395B1 (en) | 1997-11-14 | 2003-04-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multilayer capacitor |
US6556420B1 (en) | 1999-12-27 | 2003-04-29 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Wiring connection structure of laminated capacitor and decoupling capacitor, and wiring board |
JP2003318058A (ja) * | 2002-04-25 | 2003-11-07 | Kyocera Corp | 積層コンデンサ |
JP2004165631A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-06-10 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 積層コンデンサ及びその製造方法 |
US6794729B2 (en) | 2001-03-01 | 2004-09-21 | Nec Corporation | Stacked capacitor and method of forming the same as well as semiconductor device using the same and circuit board using the same |
WO2004097780A1 (ja) * | 2003-04-28 | 2004-11-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | プラズマディスプレイ装置 |
US6999300B2 (en) | 2004-03-19 | 2006-02-14 | Tdk Corporation | Multilayer capacitor |
JP2006157031A (ja) * | 2006-01-10 | 2006-06-15 | Ngk Spark Plug Co Ltd | コンデンサ |
JP2006165514A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 積層型キャパシタ及び積層型キャパシタアレイ |
JP2007081166A (ja) * | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板内蔵用コンデンサ及び配線基板 |
CN100354995C (zh) * | 2002-09-27 | 2007-12-12 | 京瓷株式会社 | 电容器、布线基板、去耦电路及高频电路 |
CN100437850C (zh) * | 2002-10-30 | 2008-11-26 | 京瓷株式会社 | 电容器,布线基板,退耦电路以及高频电路 |
US7932471B2 (en) | 2005-08-05 | 2011-04-26 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Capacitor for incorporation in wiring board, wiring board, method of manufacturing wiring board, and ceramic chip for embedment |
US20170338039A1 (en) * | 2016-05-19 | 2017-11-23 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Thin film capacitor and method of manufacturing the same |
US20180130603A1 (en) * | 2016-11-04 | 2018-05-10 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Multilayer ceramic capacitor |
CN108695069A (zh) * | 2017-04-11 | 2018-10-23 | 三星电机株式会社 | 多层电容器及其上安装有多层电容器的板 |
US10332682B2 (en) * | 2016-09-01 | 2019-06-25 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Thin-film capacitor having vias connected to respective electrode layers |
-
1994
- 1994-05-31 JP JP6119397A patent/JPH07326536A/ja active Pending
Cited By (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6370011B1 (en) | 1997-11-14 | 2002-04-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multilayer capacitor |
US6462932B1 (en) | 1997-11-14 | 2002-10-08 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multilayer Capacitor |
US6549395B1 (en) | 1997-11-14 | 2003-04-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multilayer capacitor |
JP2000226689A (ja) * | 1999-02-08 | 2000-08-15 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品のバンプ電極形成方法および電子部品 |
JP2000315622A (ja) * | 1999-04-28 | 2000-11-14 | Ngk Spark Plug Co Ltd | コンデンサ |
US6594136B2 (en) | 1999-10-18 | 2003-07-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multi-layer capacitor, wiring board, and high-frequency circuit |
US6327134B1 (en) | 1999-10-18 | 2001-12-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multi-layer capacitor, wiring board, and high-frequency circuit |
US6370010B1 (en) | 1999-10-18 | 2002-04-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multi-layer capacitor, wiring board, and high-frequency circuit |
US6909593B2 (en) | 1999-10-18 | 2005-06-21 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multi-layer capacitor, wiring board, and high-frequency circuit |
US6771484B2 (en) | 1999-10-18 | 2004-08-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multi-layer capacitor, wiring board, and high-frequency circuit |
US6344961B1 (en) | 1999-11-19 | 2002-02-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multi-layer capacitator, wiring substrate, decoupling circuit, and high-frequency circuit |
US6351369B1 (en) | 1999-11-19 | 2002-02-26 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Multi-layer capacitor, wiring substrate, decoupling circuit, and high-frequency circuit |
US6678145B2 (en) | 1999-12-27 | 2004-01-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Wiring connection structure of laminated capacitor and decoupling capacitor, and wiring board |
US6721153B2 (en) | 1999-12-27 | 2004-04-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Wiring connection structure of laminated capacitor and decoupling capacitor, and wiring board |
US6556420B1 (en) | 1999-12-27 | 2003-04-29 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Wiring connection structure of laminated capacitor and decoupling capacitor, and wiring board |
US7215531B2 (en) | 1999-12-27 | 2007-05-08 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Wiring connection structure of laminated capacitor and decoupling capacitor, and wiring board |
JP2002118032A (ja) * | 2000-10-06 | 2002-04-19 | Tdk Corp | 積層型電子部品 |
US6794729B2 (en) | 2001-03-01 | 2004-09-21 | Nec Corporation | Stacked capacitor and method of forming the same as well as semiconductor device using the same and circuit board using the same |
JP2003318058A (ja) * | 2002-04-25 | 2003-11-07 | Kyocera Corp | 積層コンデンサ |
JP2003100549A (ja) * | 2002-09-09 | 2003-04-04 | Murata Mfg Co Ltd | チップコンデンサ及びその製造方法 |
CN100354995C (zh) * | 2002-09-27 | 2007-12-12 | 京瓷株式会社 | 电容器、布线基板、去耦电路及高频电路 |
JP2004165631A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-06-10 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 積層コンデンサ及びその製造方法 |
CN100437850C (zh) * | 2002-10-30 | 2008-11-26 | 京瓷株式会社 | 电容器,布线基板,退耦电路以及高频电路 |
JP2004347622A (ja) * | 2003-04-28 | 2004-12-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイ装置 |
JP4661028B2 (ja) * | 2003-04-28 | 2011-03-30 | パナソニック株式会社 | プラズマディスプレイ装置 |
CN100421136C (zh) * | 2003-04-28 | 2008-09-24 | 松下电器产业株式会社 | 等离子体显示装置 |
US7215085B2 (en) | 2003-04-28 | 2007-05-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Plasma display device |
WO2004097780A1 (ja) * | 2003-04-28 | 2004-11-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | プラズマディスプレイ装置 |
US6999300B2 (en) | 2004-03-19 | 2006-02-14 | Tdk Corporation | Multilayer capacitor |
JP2006165514A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 積層型キャパシタ及び積層型キャパシタアレイ |
US7932471B2 (en) | 2005-08-05 | 2011-04-26 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Capacitor for incorporation in wiring board, wiring board, method of manufacturing wiring board, and ceramic chip for embedment |
US8546700B2 (en) | 2005-08-05 | 2013-10-01 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Capacitor for incorporation in wiring board, wiring board, method of manufacturing wiring board, and ceramic chip for embedment |
JP2007081166A (ja) * | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 配線基板内蔵用コンデンサ及び配線基板 |
JP4704866B2 (ja) * | 2005-09-14 | 2011-06-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 配線基板内蔵用コンデンサ及び配線基板 |
JP2006157031A (ja) * | 2006-01-10 | 2006-06-15 | Ngk Spark Plug Co Ltd | コンデンサ |
CN107403693A (zh) * | 2016-05-19 | 2017-11-28 | 三星电机株式会社 | 薄膜电容器及其制造方法 |
JP2017208528A (ja) * | 2016-05-19 | 2017-11-24 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | 薄膜キャパシター及びその製造方法 |
US20170338039A1 (en) * | 2016-05-19 | 2017-11-23 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Thin film capacitor and method of manufacturing the same |
US10410793B2 (en) | 2016-05-19 | 2019-09-10 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Thin film capacitor and method of manufacturing the same |
US10332682B2 (en) * | 2016-09-01 | 2019-06-25 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Thin-film capacitor having vias connected to respective electrode layers |
US20180130603A1 (en) * | 2016-11-04 | 2018-05-10 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Multilayer ceramic capacitor |
US10395837B2 (en) * | 2016-11-04 | 2019-08-27 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Multilayer ceramic capacitor |
US10515765B2 (en) | 2016-11-04 | 2019-12-24 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Multilayer ceramic capacitor |
CN108695069A (zh) * | 2017-04-11 | 2018-10-23 | 三星电机株式会社 | 多层电容器及其上安装有多层电容器的板 |
CN108695069B (zh) * | 2017-04-11 | 2020-04-03 | 三星电机株式会社 | 多层电容器及其上安装有多层电容器的板 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH07326536A (ja) | セラミックコンデンサ | |
US8077444B2 (en) | Multilayer capacitor | |
JP4637674B2 (ja) | 積層コンデンサ | |
JP2021010000A (ja) | 積層セラミックキャパシタ及びその製造方法 | |
JP3088021B2 (ja) | 電圧制御発振器 | |
KR20140141134A (ko) | 적층 세라믹 전자부품 및 적층 세라믹 전자부품 실장 기판 | |
KR20170110467A (ko) | 적층 세라믹 커패시터 및 그 실장 기판 | |
JP2010034272A (ja) | 積層コンデンサおよび積層コンデンサの等価直列抵抗値の調整方法 | |
JP2021103767A (ja) | 積層セラミックキャパシタ及びその製造方法 | |
JPH0897070A (ja) | セラミックコンデンサ | |
JPH07272975A (ja) | 複合コンデンサ | |
JPH0897071A (ja) | 積層型磁器コンデンサ | |
JP2001210544A (ja) | チップ積層セラミックコンデンサ | |
JPS5923458B2 (ja) | 複合部品 | |
US10707023B2 (en) | Electronic components | |
JP3264037B2 (ja) | コンデンサアレイ | |
JPH0817675A (ja) | チップ型積層セラミックコンデンサ | |
JPH08172026A (ja) | コンデンサ | |
JPH0855758A (ja) | 積層コンデンサ | |
JPH11340085A (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JPH07263278A (ja) | コンデンサ | |
JPH11260653A (ja) | 積層型電子部品とその製造方法 | |
JP3538758B2 (ja) | コンデンサアレイおよびその製造方法 | |
JP2023111075A (ja) | 電子部品 | |
JPH07169651A (ja) | 積層チップフィルタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070926 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080926 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080926 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090926 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090926 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100926 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110926 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110926 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120926 |