CN102834779B - 用于处理平版印刷版原版的显影液,通过使用显影液制备平版印刷版的方法和印刷方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供用于处理平版印刷版原版的显影液,所述显影液特征在于含有其中结合有两种以上单糖的非还原性糖,并且具有6至14的pH。该显影液具有随时间稳定的pH和提高的成膜性。该显影液使得用于制备平版印刷版的方法即使用一种溶液和不需要水洗步骤的一个步骤中也能够制备平版印刷版,该平版印刷版的可显影性和分散显影残留物以防止非图像区受到污染的性质得到提高。还提供用于该方法的显影液。还提供通过使用平版印刷版的制备方法进行印刷的方法。

Description

用于处理平版印刷版原版的显影液,通过使用显影液制备平版印刷版的方法和印刷方法
技术领域
本发明涉及用于平版印刷版原版的处理的显影液,通过使用所述显影液制备平版印刷版的方法,以及印刷方法。
背景技术
通常,平版印刷版由在印刷过程中用于接受墨的墨接受图像区和用于接受润版(fountain)液的亲水性非图像区组成。平版印刷是采用水和印刷墨的互相排斥的性质的方法,其中平版印刷版的墨接受图像区和亲水性非图像区分别被用作墨接受区和润版液接受区(非墨接受区),以产生平版印刷版的表面上的墨的附着性上的不同,并且在仅在图像区上沉积墨之后,墨被转移至印刷材料如纸,从而进行印刷。
为了制备这种平版印刷版,通常使用包括亲水性载体的平版印刷版原版(PS版),所述亲水性载体具有设置在其上的墨接受光敏树脂层(光敏层、图像记录层)。通常,通过根据以下方法进行制版从而获得平版印刷版:其中将PS版通过原版如制版胶片曝光并且同时使要成为图像区的部分中的图像记录层留下,将其他不必要的部分中的图像记录层溶解并且用碱性显影液或有机溶剂移除以暴露亲水性载体表面,并且从而形成非图像区。
另一方面,近年来,通过计算机电子处理,储存和输出图像信息的数字化技术被推广,并且响应数字化技术的多种新的图像输出系统进行了实际应用。与此一起,计算机直接制版(CTP)技术引起注意,其中将数字化的图像信息携带在高度会聚的辐射线如激光上,并且通过该光扫描并曝光平版印刷版原版,以直接制备平版印刷版而不插入制版胶片。因此,重要的技术挑战之一是获得响应这种技术的平版印刷版原版。
传统的平版印刷版原版的制版方法需要在曝光之后用显影液等溶解并移除不需要的图像记录层的步骤,并且考虑到环境和安全性,所要解决的问题包括用接近于中性区域的显影液处理或废水产生上的减少。首先,从全球环境的顾虑的角度,随湿处理排出的废水的处理最近在整个工业界是一个大问题,并且解决这些问题的需求变得更强烈。
如上所述,从对于全球环境的顾虑和适应于空间节约和低运行成本两个方面,比以前更加强烈需要的是降低显影液的碱浓度和简化处理步骤。然而,如之前描述的,传统的显影处理包括用具有11以上的pH的碱性水溶液显影、碱性试剂在水洗涤浴中的洗涤以及用主要由亲水性树脂组成的胶溶液的处理的三个步骤。因此,自动显影机自身需要巨大的空间,并且此外,在环境和运行成本上存在尚未解决的问题,如显影废水、洗涤废水和胶废水的处理的问题。
关于这一点,例如,专利文献1提出了用含有碱金属碳酸盐和碱金属碳酸氢盐并且具有8.5至11.5的pH和3至30mS/cm的电导率的低碱性显影液进行处理的显影方法,但显影液不含有水溶性聚合物化合物并且需要水洗步骤和胶溶液处理步骤,并且在环境和运行成本方面上的问题尚未被解决。
并且,如下所述,在专利文献2至4中,公开了用含有水溶性聚合物化合物如糖的显影液处理。
专利文献2公开了用优选3至9的pH的胶溶液显影处理。然而,该胶溶液不含有碱性组分并且因此,必须使光敏层的聚合物亲水以使得能够显影,从而导致严重地损害印刷寿命的问题。此外,非图像区通过胶组分的亲水性保护不足,并且随着印刷品的数目上的增加,非图像区倾向于在防污性上降低。
专利文献3公开了使用含有环糊精或其衍生物的显影液的制版方法,并且在实施例中,使用具有3至9的pH并且含有环糊精以及羟基丙基醚化的淀粉和阿拉伯胶的显影液。
专利文献4在实施例中描述了一种用具有11.9至12.1的pH并且含有成膜聚合物的处理溶液进行显影处理的制版方法,其中所述方法不包括胶处理步骤。描述了成膜聚合物优选为多羟基化合物等,并且将糖醇如山梨糖醇描述为多羟基化合物。
然而,山梨糖醇是具有182的分子量和6的碳数的相对小的化合物,并且与聚合物化合物比较在成膜性或者对载体的吸附性上弱,并且归因于印刷过程中胶组分的脱附,通过这种处理获得的印刷版具有差的耐浮渣性。并且,版处于碱仍附着至版表面的状态,使得产生工人的安全性方面的问题,并且此外,存在以下问题:当在印刷版的制备之后直至印刷之前经过长时间时,图像区被逐渐地溶解以导致印刷寿命或墨接受性上的降低。
即使通过这些技术,也难以提供具有在从碱性至中性的宽pH区域上随时间稳定的pH并且具有出色的成膜性的显影处理溶液,以及确保即使通过一种溶液和不需要水洗步骤的单个步骤的简单处理也能获得出色的可显影性和良好的显影浮渣的可分散性并且可以防止非图像区受到污染的显影方法。
相关技术
专利文献
专利文献1:JP-A-11-65126(如本文所使用的术语“JP-A”意指“未审查日本专利申请”)
专利文献2:JP-T-2007-538279(如本文所使用的术语“JP-T”意指已公开PCT专利申请的日语翻译)
专利文献3:国际申请号10/004778
专利文献4:欧洲未审查专利公开号1868036
发明概述
本发明所要解决的问题
本发明的目的是提供:具有随时间稳定的pH并且具有出色的成膜性的显影液;平版印刷版的制版方法,该方法确保即使通过一种溶液和不需要水洗步骤的一个步骤的简单处理,也可以制备在可显影性和显影浮渣的可分散性上出色且防止非图像区受到污染的平版印刷版;以及通过使用平版印刷版的该制版方法进行印刷的印刷方法。
用于解决问题的手段
在传统的制版方法中,因为具有亲水性和出色的成膜性并且可以相对低的成本商购,使用由淀粉和糊精代表的糖作为加入至胶溶液的水溶性聚合物化合物。
本发明的发明人发现当为了简化处理步骤省略胶溶液处理步骤时,必须将亲水性聚合物化合物加入至显影液,但如果加入上述糖,显影液的pH随时间降低,并且还发现大部分糖是在末端具有还原部分的醛糖,并且因为由在显影液中的开环导致产生醛基并且它通过OH-离子与其的亲核加成转化为羧酸基,在显影液中OH-离子消耗以引起pH上的降低。
显影液的pH随时间的波动使得在以下方面产生严重的不利影响:在图像记录层对于显影液的溶解度,即,平版印刷版原版的可显影性和显影浮渣的可分散性等,耐污性极大地削弱,导致平版印刷版的性能上的降低。
此外,作为深入研究的结果,本发明的发明人发现当将其中结合有两种以上单糖的非还原性糖混入至显影液中时,防止了pH随时间而减低,并且在显影处理之后不需要胶处理步骤的处理变得可能。
此外,发现因为其中结合有两种以上的单糖的非还原性糖具有出色的成膜性,在例如阴图型平版印刷版原版的情况下,糖在由通过显影处理移除未曝光区中的光敏层导致暴露至显影液的非图像区的载体表面上形成高度亲水性的膜,并且增强非图像区的亲水性,并且同时,当糖是具有能够与载体相互作用的官能团的非还原性糖时,糖更加牢固地粘附至载体表面并且在印刷的过程中几乎不从非图像区的载体表面脱附,使得可以保持亲水性。发现在阳图型平版印刷版原版的情况下也获得相同的效果。
基于这些发现,本发明的发明人完成了本发明。
换言之,以上目的可以通过以下手段实现。
(1)一种用于处理平版印刷版原版的显影液,其特征在于包含其中结合有两种以上单糖的非还原性糖,并且具有6至14的pH。
(2)如以上(1)中所描述的显影液,所述显影液基本上不包含还原性糖。
(3)如以上(1)或(2)中所描述的显影液,其中所述非还原性糖是二糖、低聚糖和还原淀粉糖化产物中的至少一种。
(4)如以上(1)至(3)中的任一项所描述的显影液,其中所述非还原性糖是低聚糖和还原淀粉糖化产物中的至少一种,并且所述非还原性糖的分子量为500以上。
(5)如以上(1)至(4)中的任一项所描述的显影液,其中所述非还原性糖是具有1,000以上的分子量的还原淀粉糖化产物。
(6)如以上(1)至(5)中的任一项所描述的显影液,其中所述非还原性糖具有能够与显影处理后的平版印刷版原版的载体表面相互作用的官能团。
(7)如以上(1)至(6)中的任一项所描述的显影液,其中所述显影液的pH为6.5至11.0。
(8)如以上(1)至(7)中的任一项所描述的显影液,其中所述显影液的pH为6.9至10.0。
(9)如以上(1)至(8)中的任一项所描述的显影液,其中所述显影液还包含选自阴离子表面活性剂、两性表面活性剂和非离子表面活性剂中的至少一种表面活性剂。
(10)如以上(1)至(9)中的任一项所描述的显影液,其中所述显影液还包含pH缓冲剂。
(11)如以上(10)中所描述的显影液,其中所述pH缓冲剂是碳酸根离子和碳酸氢根离子。
(12)如以上(10)中所描述的显影液,其中所述pH缓冲剂是水溶性胺化合物和所述胺化合物的离子。
(13)一种用于制备平版印刷版的方法,所述方法包括:图像式曝光阴图型平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括亲水性载体,所述亲水性载体在其上按以下顺序具有光敏层和保护层,所述光敏层含有(i)聚合引发剂、(ii)可聚合化合物和(iii)粘合剂聚合物;以及在以上(1)至(12)中的任一项所述的显影液的存在下移除所述保护层和未曝光区的所述光敏层。
(14)一种用于制备平版印刷版的方法,所述方法包括:图像式曝光阳图型平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括亲水性载体,所述亲水性载体在其上具有图像记录层,所述图像记录层含有粘合剂聚合物和红外线吸收剂;以及在以上(1)至(12)中的任一项所述的显影液的存在下移除曝光区的所述图像记录层。
(15)如以上(14)描述的用于制备平版印刷版的方法,其中所述阳图型平版印刷版原版在所述亲水性载体上具有包括下层和上层的图像记录层,所述下层含有红外线吸收剂和水不溶性而碱溶性的树脂,并且所述上层含有聚有机硅氧烷和水不溶性而碱溶性的聚氨酯。
(16)如以上(13)至(15)中的任一项描述的用于制备平版印刷版的方法,其特征在于不包括水洗步骤。
(17)如以上(13)至(16)中的任一项描述的用于制备平版印刷版的方法,其中所述平版印刷版原版的所述亲水性载体是用碱金属硅酸盐和有机膦酸中的至少任一种表面处理过的铝载体。
(18)一种印刷方法,所述方法包括:通过以上(13)至(17)中的任一项所述的制备方法制备平版印刷版;以及通过使用所述平版印刷版进行印刷。
(19)如以上(18)中所描述的印刷方法,其特征在于在制备所述平版印刷版之后直至开始印刷之前不包括水洗步骤。
本发明的益处
根据本发明,可以提供具有随时间稳定的pH和出色的成膜性的显影液。并且,归因于该显影液,可以提供:用于制备平版印刷版的方法,其中即使通过一种溶液和不需要水洗步骤的一个步骤的简单处理也可以制备在可显影性和显影浮渣的可分散性上出色并且防止非图像区受到污染的平版印刷版;以及通过使用该平版印刷版的制版方法进行印刷的印刷方法。
附图简述
[图1]本发明的用于制备平版印刷版的方法的实施方案中的自动显影处理机的示意性截面图。
[图2]本发明的用于制备平版印刷版的方法的另一个实施方案中的自动显影处理机的示意性截面图。
用于实施本发明的方式
下面详细描述本发明。
在本发明中使用的显影液是含其中结合有两种以上的单糖的非还原性糖并且具有6至14的pH的水溶液。该显影液优选为使用水作为主要组分的水溶液(以60质量%以上的比例含有水),更优选含有表面活性剂(例如,阴离子、非离子、阳离子、两性离子)的水溶液。
显影液的pH优选为6.5至11.0,更优选6.8至10.5,再更优选6.8至10.3,并且最优选6.9至10.0。
在本发明中,加入至显影液的其中结合有两种以上的单糖的非还原性糖(在下文中,有时称为“特定非还原性糖”)的实例包括二糖、三糖、低聚糖、多糖及其衍生物,它们通过经由得自羟基彼此脱水缩合的糖苷键结合各自在分子中具有两个以上羟基的单糖或其衍生物(在下文中,称为“组成单元”)而形成。
非还原性糖表示基本上不具有还原性末端的糖。如本文所使用的还原性末端意指能够在显影液(尤其是其pH在上述优选的范围内的显影液)中产生还原性基团(如醛基和酮基)的末端。
换言之,在本发明的显影液中使用的非还原性糖在显影液中基本上不产生还原性基团。因此,根据本发明,避免出现通过在显影液中经历与OH-的亲核反应,还原性基团进一步产生羧酸基,并且归因于因而发生的显影液中OH-浓度的降低和H+浓度的增加,显影液的pH改变,并且这被认为使得能够获得具有随时间稳定的pH的显影液。
并且,通过使用本发明的显影液,可以制备在可显影性和显影浮渣的可分散性上出色并且防止非图像区受到污染的平版印刷版,并且这可归因于本发明的显影液的pH如上所述随时间稳定并且因此,显影处理可以在所需的pH进行的事实。
此外,本发明的显影液是在成膜性上出色(在印刷版上形成膜的能力上出色)的显影液,并且这被认为是因为通过结合两种以上单糖形成在本发明中使用的特定非还原性糖,并且反过来,对所获得的膜赋予足够的强度。
在本发明中使用的特定非还原性糖中,以每mol的糖计,还原性末端的丰度优选为200mmol以下,更优选150mmol以下,再更优选70mmol以下,并且最优选的是糖完全不含有还原性末端。
可以,例如,通过通常作为可归于醛或糖的还原性的化学反应之一已知的斐林反应测量特定非还原性糖中还原性末端的丰度。当将适当地用纯水稀释的显影液加入至斐林溶液并且加热时,产生氧化亚铜(I)的红色沉淀物,并且可以从沉淀物的质量确定还原性末端的丰度。
连接构成特定非还原性糖的多个组成单元的键可以是直链的、支链的或环状的。
特定非还原性糖的具体实例包括下面所示的糖。这些非还原性糖不展现还原性。
蔗糖(分子量:342)海藻糖(分子量:342)
松三糖(分子量:504)水苏糖(分子量:504)
棉子糖(分子量:666)
并且,通过对具有在水溶液中能够产生醛基、酮基等的还原性末端的糖进行化学/物理处理,从而使得不出现醛基、酮基等而变成非还原性的糖可以被用作特定非还原性糖。
作为化学处理的一个实例,其中通过对还原性末端进行氢化使能够产生醛基、酮基等的部分成为非还原性醇的方法可以作为示例。
还原方法可以是任意方法,条件是可以获得一般的还原,并且其实例包括在Jikken Kagaku Koza(实验化学讲座),第5版,第14卷(由日本化学会(The Chemical Society of Japan)编,Maruzen,第1-48页)的“YukiKagoubutsu no Gousei(有机化合物的合成)II”中描述的方法。
通过这种方法获得的糖的具体实例包括还原低聚糖、还原淀粉糖浆、还原淀粉糖化产物、及其衍生物,其为通过对具有还原性的多糖进行氢化获得的非还原性糖。具体实例包括可得自Hayashibara Co.,Ltd.的SeriesHS,以及可得自San-ei Sucrochemical Co.,Ltd.的Diatol、Diatol L、DiatolK、Diatol N和Diatol P,它们作为食品添加剂商业供给。其中,优选的实例包括可得自Hayashibara Co.,Ltd.的HS-20、HS-30、HS-40、HS-60和Mild Syrup。
作为化学处理的另一个实例,氧化还原性末端以产生非还原性羧酸基的方法可以作为示例。
氧化方法可以是任意方法,条件是可以获得一般的氧化,并且其实例包括使用氧化剂如铬酸钾和高锰酸钾的方法。
这里,不需要特别限定采用化学处理之前的还原性糖,但为了保护版表面不受划伤的目的,在成膜性上出色的糖是更优选的。其实例包括阿拉伯胶、纤维素衍生物(如羧甲基纤维素、羧乙基纤维素、甲基纤维素、羟丙基纤维素和甲基丙基纤维素)和其改性产物、淀粉衍生物(如糊精、麦芽糊精、酶分解的糊精、羟基丙基化的淀粉、羟基丙基化的淀粉酶分解的糊精、羧甲基化的淀粉、磷酸化的淀粉和环糊精)、支链淀粉和支链淀粉衍生物、烘烤的淀粉如British胶、酶改性的糊精如酶糊精和Shardinger糊精、氧化淀粉如增溶的淀粉、预凝胶化淀粉如改性的预凝胶化淀粉和未改性的预凝胶化淀粉、酯化淀粉如淀粉磷酸酯、脂肪淀粉、淀粉硫酸酯、淀粉硝酸酯、淀粉黄原酸酯和淀粉氨基甲酸酯、醚化的淀粉如羧基烷基淀粉、羟基烷基淀粉、磺基烷基淀粉、氰基乙基淀粉、烯丙基淀粉、苄基淀粉、氨基甲酰乙基淀粉和二烷基氨基淀粉、交联淀粉如羟甲基-交联淀粉、羟基烷基-交联淀粉、磷酸-交联淀粉和二羧酸-交联淀粉、并且淀粉接枝聚合物如淀粉聚丙烯酰胺共聚物、淀粉聚丙烯酸共聚物、淀粉聚乙酸乙烯酯共聚物、淀粉聚丙烯腈共聚物、阳离子淀粉聚丙烯酸酯共聚物、阳离子淀粉乙烯基聚合物共聚物、淀粉聚苯乙烯马来酸共聚物、淀粉聚环氧乙烷共聚物和淀粉聚丙烯共聚物。
可以用作在采用化学处理之前的还原性糖的天然聚合物化合物优选为水溶性大豆多糖,淀粉类如淀粉、明胶、从大豆萃取的半纤维素、甘薯淀粉、马铃薯淀粉、木薯淀粉、小麦淀粉和玉米淀粉,由藻类,如角叉胶、昆布糖、海藻甘露聚糖、海苔(funori)、爱尔兰藓、琼脂和海藻酸钠获得的聚合物,植物胶如日落木槿、甘露聚糖、温柏籽、胶质、黄芪胶、刺梧桐胶、黄嘌呤胶、瓜尔豆胶、刺槐豆胶、长豆角胶和安息香胶,细菌胶如同多糖(例如,右旋糖苷、葡聚糖、果聚糖)和杂多糖(例如,琥珀酸葡聚糖、黄原胶),或蛋白质如胶、明胶、酪蛋白和胶原。其中,例如,可以优选使用阿拉伯胶、淀粉衍生物如糊精和羟基丙基淀粉、羧甲基纤维素或大豆多糖。
在本发明中所使用的特定非还原性糖更优选具有能够与载体表面相互作用的官能团。能够与载体表面相互作用的官能团有助于在显影时通过与载体表面相互作用使非图像区吸附至载体表面。能够与载体表面相互作用的官能团包括能够与存在于载体上的金属、金属氧化物、羟基等进行相互作用如共价键合、离子键合、氢键键合和极性相互作用的基团。其中,能够吸附至载体表面的官能团(吸附基团)是优选的。
例如,可以通过以下方法判断对载体表面吸附性存在或不存在。
将测试化合物溶解在易溶解的溶剂中以制备涂布液,并且将涂布液在载体上涂布并干燥以在干燥之后具有30mg/m2的涂布量。将涂布有测试化合物的载体通过用易溶解的溶剂充分洗涤,并且通过测量通过洗涤未移除的测试化合物的残留量,计算对载体的吸附量。这里,残留量的测量可以是残留化合物的量的直接定量测定,也可以在定量测定溶解在洗涤溶液的测试化合物的量之后计算。例如,可以通过荧光X射线测量、反射光谱吸光度测量、液体色谱测量或红外吸收测量进行化合物的定量测定。对载体具有吸附性的化合物是即使在进行上述洗涤处理之后也以0.1mg/m2以上的量残留的化合物。
对载体表面的吸附基团是能够导致与存在于载体表面上的物质(如金属和金属氧化物)或官能团(如羟基)的化学键合(如离子键合、氢键键合、配位键合和通过分子间力键合)的官能团。吸附基团优选为酸基或阳离子基。
酸基优选具有7以下的酸离解常数(pKa)。酸基的实例包括酚羟基、羧基、-SO3H、-OSO3H、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-和-COCH2COCH3。在这些中,磷酸基(-OPO3H2或-PO3H2)是优选的。酸基可以是金属盐的形式。
阳离子基优选为基。基的实例包括铵基、基、砷基、锑基、氧基、锍基、硒基、锡基和碘基。在这些中,铵基、基和锍基是优选的,铵基和基是更优选的,并且铵基是最优选的。
能够吸附至载体表面的官能团的优选实例在下面示出。
在该式中,R11至R13的每一个独立地表示氢原子、烷基、芳基、炔基或烯基。M1和M2的每一个独立地表示氢原子、金属原子或铵基。X-表示抗衡阴离子。n是1至5的整数。
尤其是,吸附基团优选为基(如铵基和吡啶基)、磷酸酯基或其盐、膦酸基或其盐、硼酸基或其盐或β-二酮基(如乙酰基丙酮基),并且最优选磷酸酯基或膦酸基。
具有能够与载体表面相互作用的官能团的特定非还原性糖的具体实例包括通过在羟基的磷酸酯化之后进一步氢化磷酸改性的淀粉而丧失还原性的糖,以及通过在羟基的辛烯基琥珀酸酯化之后进一步氢化淀粉丧失还原性的糖。
特定非还原性糖可以具有仅具有一个能够与载体表面相互作用的官能团的组成单元或具有两个以上能够与载体表面相互作用的官能团的组成单元。
基于特定非还原性糖中的所有组成单元,具有能够与载体表面相互作用的官能团的组成单元在特定非还原性糖中的含量比优选为2至80摩尔%,更优选2至70摩尔%,再更优选5至50摩尔%,再更优选10至40摩尔%。
还优选的是特定非还原性糖具有除羟基之外的亲水性基团。亲水性基团的合适的实例包括羧基、羧酸酯基、羟乙基、羟基丙基、聚氧化烯基如聚氧乙烯基以及聚氧丙烯基、氨基、氨基乙基、氨基丙基、铵基、酰胺基、羧基甲基、磺酸基或其盐,以及具有甜菜碱结构的基团。
在本发明中,亲水性基团对非还原性糖赋予高亲水性并且有助于非图像区的防污。
首先,亲水性基团优选为磺酸基(-SO3H)或其盐(-SO3M(其中M表示除了质子(H+)之外的抗衡阳离子)),酰胺基(-CONR-(其中R表示氢原子或有机基团)),聚亚烷氧基,或者具有甜菜碱结构的基团。甜菜碱结构是其中通过在一个基团中具有阳离子结构和阴离子结构两者将电荷中和的结构。对甜菜碱结构中的阳离子结构没有特别地限定,但优选为季氮阳离子。
对甜菜碱结构中的阴离子结构没有特别地限定,但优选为-COO-、-SO3 -、-PO3 2-或-PO3H-,更优选-COO-或-SO3 -
亲水性基团更优选为磺酸基或其盐,或者具有甜菜碱结构的基团。
作为亲水性基团的优选的化学结构在下面示出,但本发明不限于此。
在该式中,M1具有与以上M1相同的含义。
R7、R8、R11、R12、R14和R15的每一个独立地表示氢原子或具有1至6的碳数的直链的或支链的烷基。R9表示具有1至6的碳数的直链的或支链的亚烷基并且优选为亚乙基。R10表示氢原子或具有1至12的碳数的烷基。n表示1至100的整数并且优选为1至30的整数。R13和R16的每一个独立地表示二价有机基团并且表示,例如,选自由二价脂族基团、二价芳族基团及其组合组成的组的二价连接基团。
特定非还原性糖可以具有仅具有一个亲水性基团的组成单元或具有两个以上亲水性基团的组成单元。基于糖中的全部组成单元,特定非还原性糖中含有亲水性基团的组成单元的含量比优选为30至98摩尔%,更优选40至90摩尔%,再更优选50至90摩尔%。
本发明的显影液可以单独含有一种特定非还原性糖或者含有两种以上特定非还原性糖。
本发明的显影液中特定非还原性糖的含量优选为0.1至20质量%,更优选0.5至10质量%,再更优选1至7质量%。在该范围内,可以更加可靠地获得防止非图像区污染的高效果。
特定非还原性糖的质均分子量优选为300以上,更优选500以上,再更优选1,000以上,并且优选为1,000,000以下,更优选500,000以下。
从成膜性更出色并且可以更成功地保护版表面不受擦伤的角度,特定非还原性糖优选为二糖、低聚糖和还原淀粉糖化产物中的至少一种,更优选具有500以上的分子量的低聚糖和具有500以上的分子量的还原淀粉糖化产物中的至少一种,再更优选具有1,000以上的分子量的还原淀粉糖化产物。
另一方面,本发明的显影液优选基本上不含有还原性糖(具有能够在显影液中产生醛基、酮基等的还原性末端的糖)。更详细地,基于显影液的质量,显影液中还原性糖的含量优选为1.5质量%以下,更优选1.0质量%以下,再更优选少于0.5%,并且还再更优选的是不含有还原性糖。在显影液含有还原性糖的情况下,基于显影液的质量,其含量通常为0.0001质量%以上。
在本发明的显影液中,优选加入表面活性剂如阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子表面活性剂和两性离子表面活性剂。表面活性剂优选为阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂或两性离子表面活性剂。
对阴离子表面活性剂没有特别地限定,但其实例包括脂肪酸盐、松香盐、羟基烷基磺酸盐、烷基磺酸盐、二烷基磺基丁二酸盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基二苯基醚(二)磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯烷基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺基苯基醚的盐、N-甲基-N-油烯基牛磺酸钠、N-烷基磺基丁二酸单酰胺二钠、石油磺酸盐、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛油、脂肪酸烷基酯的硫酸酯盐、烷基硫酸酯盐、聚氧乙烯烷基醚的硫酸酯盐、脂肪酸单酸甘油酯的硫酸酯盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的硫酸酯盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚的硫酸酯盐、烷基磷酸酯盐、聚氧乙烯烷基醚的磷酸酯盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的磷酸酯盐、苯乙烯-马来酸酐共聚物的部分皂化产物、烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化产物以及萘磺酸盐福尔马林缩合物。在这些中,优选使用烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐和烷基二苯基醚(二)磺酸盐。
对阳离子表面活性剂没有特别地限定,并且可以使用通常已知的阳离子表面活性剂。其实例包括烷基胺盐、季铵盐、烷基咪唑啉盐、聚氧乙烯烷基胺盐和聚乙烯多胺衍生物。
对非离子表面活性剂没有特别地限定,但其实例包括聚乙二醇型高级醇环氧乙烷加合物,烷基苯酚环氧乙烷加合物,烷基萘酚环氧乙烷加合物,苯酚环氧乙烷加合物,萘酚环氧乙烷加合物,脂肪酸环氧乙烷加合物,多羟基醇脂肪酸酯环氧乙烷加合物,高级烷基胺环氧乙烷加合物,脂肪酸酰胺环氧乙烷加合物,脂肪油环氧乙烷加合物,聚丙二醇环氧乙烷加合物,二甲基硅氧烷-环氧乙烷嵌段共聚物,二甲基硅氧烷-(环氧丙烷-环氧乙烷)嵌段共聚物,多羟基醇型甘油的脂肪酸酯,季戊四醇的脂肪酸酯,山梨糖醇或脱水山梨醇的脂肪酸酯,蔗糖的脂肪酸酯,多羟基醇的烷基醚,以及烷醇胺的脂肪酸酰胺。在这些中,具有芳族环和环氧乙烷链的那些是优选的,并且烷基-取代的或未取代的苯酚环氧乙烷加合物和烷基-取代的或未取代的萘酚环氧乙烷加合物是更优选的。
对两性表面活性剂没有特别地限定,但包括氧化胺型如烷基二甲基氧化胺、甜菜碱型如烷基甜菜碱、以及氨基酸型如烷基氨基-脂肪酸钠盐。
尤其是,优选使用可以具有取代基的烷基二甲基氧化胺、可以具有取代基的烷基羧基甜菜碱以及可以具有取代基的烷基磺基甜菜碱。对于其具体实例,可以使用JP-A-2008-203359的第[0256]段中的由式(2)表示的化合物,JP-A-2008-276166的第[0028]段中的由式(I)、(II)和(VI)表示的化合物,以及JP-A-2009-47927的第[0022]至[0029]段中描述的化合物。
可以使用两种以上类型的表面活性剂,并且显影液中表面活性剂的比例优选为0.01至20质量%,更优选0.1至10质量%。
在本发明中使用的显影液优选还含有pH缓冲剂。
作为用于在本发明中使用的pH缓冲剂,可以不带有任何特别限制地使用在6至14的pH展现缓冲作用的缓冲剂。弱碱性(pH:6至11)缓冲剂的实例包括(a)碳酸根离子和碳酸氢根离子,(b)硼酸根离子,(c)水溶性胺化合物和胺化合物的离子,及其组合。换言之,例如,(a)碳酸根离子和碳酸氢根离子的组合,(b)硼酸根离子,或者(c)水溶性胺化合物和胺化合物的离子的组合在显影液中展现pH缓冲作用,以使得即使当在长期间的时间内使用显影液时也可以防止pH波动,并且从而,可以抑制可归因于pH的波动的可显影性的劣化,显影浮渣的产生等。尤其是,碳酸根离子和碳酸氢根离子的组合,或水溶性胺化合物和胺化合物的离子的组合是优选的。
作为在超过pH 11的高pH展现缓冲作用的缓冲剂,可以使用(d)碱金属硅酸盐如硅酸钠和/或碱土金属硅酸盐。可以使用这些中的任一种,也可以组合使用这两种。
为了使得在显影液中存在(a)碳酸根离子和碳酸氢根离子,可以将碳酸盐和碳酸氢盐加入至显影液,也可以在加入碳酸盐或碳酸氢盐之后通过调节pH产生碳酸根离子和碳酸氢根离子。对碳酸盐和碳酸氢盐没有特别地限定,并且优选为碱金属盐。碱金属包括锂、钠和钾,并且钠是优选的。可以将这些中的一个单独加入,也可以组合使用其两种以上。
为了使得在显影液中存在(b)硼酸根离子,将硼酸或硼酸盐加入至显影液,并且之后,将pH用碱或者通过使用碱和酸调节,从而产生合适量的硼酸根离子。
对这里所使用的硼酸或硼酸盐没有特别地限定,但硼酸的实例包括原硼酸、偏硼酸和四硼酸,并且原硼酸和四硼酸是优选的。硼酸盐包括碱金属盐和碱土金属盐,并且其实例包括原硼酸盐、二硼酸盐、偏硼酸盐、四硼酸盐、五硼酸盐和八硼酸盐。在这些中,原硼酸盐和四硼酸盐,尤其是碱金属四硼酸盐,是优选的。四硼酸盐的优选实例包括四硼酸钠、四硼酸钾和四硼酸锂,并且四硼酸钠是优选的。可以组合使用两种以上的硼酸盐。
尤其是,在本发明中使用的硼酸或硼酸盐优选为原硼酸、四硼酸或四硼酸钠。在显影液中,可以组合使用硼酸和硼酸盐。
(c)水溶性胺化合物的离子可以在水溶性胺化合物的水溶液中产生,并且可以将碱或酸进一步加入至水溶性胺化合物的水溶液,也可以通过加入原本为胺化合物的盐的形式的化合物将碱或酸结合至水溶液中。
对水溶性胺化合物没有特别地限定,但优选为具有能够促进水溶解性的基团的水溶性胺化合物。能够促进水溶解性的基团的实例包括羧酸基、磺酸基、亚磺酸基、膦酸基和羟基。水溶性胺化合物可以含有多个这些基团。
在通过羧酸基、磺酸基、亚磺酸基或膦酸基促进胺化合物的水溶解性的情况下,胺化合物对应于氨基酸。氨基酸在水溶液中在平衡状态下,并且当酸基是,例如,羧酸基时,将平衡状态如下所示表示。在本发明中使用的氨基酸意指下面的状态B,并且氨基酸的离子意指状态C。状态C下的抗衡离子优选为钠离子或钾离子。
[化学式4]
(氨基酸的平衡状态(当酸基是羧酸时))
(例如,R1和R2的每一个独立地表示氢原子、烷基、芳基等,并且R表示连接基团)。
具有羧酸基、磺酸基或亚磺酸基的水溶性胺化合物的具体实例包括氨基酸如甘氨酸、亚氨基二乙酸、赖氨酸、苏氨酸、丝氨酸、天冬氨酸、对羟基苯基甘氨酸、二羟乙基甘氨酸、丙氨酸、邻氨基苯甲酸和色氨酸;脂肪酸胺磺酸如氨基磺酸、环己基氨基磺酸和牛磺酸;和脂肪酸胺亚磺酸如氨基乙基亚磺酸。在这些中,甘氨酸和亚氨基二乙酸是优选的。
具有膦酸基(包括次膦酸基)的水溶性胺化合物的具体实例包括2-氨基乙基膦酸、1-氨基乙烷-1,1-二膦酸、1-氨基-1-苯基甲烷-1,1-二膦酸、1-二甲基氨基乙烷-1,1-二膦酸和乙烯二氨基五亚甲基膦酸,并且2-氨基乙基膦酸是优选的。
具有羟基作为能够促进水溶解性的基团的水溶性胺化合物意指在烷基上不具有羟基的烷基胺(下面的状态B),并且其离子意指氨基的铵离子(下面的状态)。
(例如,R1、R2和R3的每一个独立地表示氢原子、烷基、芳基等,并且至少其一个成员是具有羟基的烷基。)
具有羟基的水溶性胺化合物的具体实例包括单乙醇胺、二乙醇胺、三甲醇胺、三乙醇胺、三丙醇胺和三异丙醇胺。在这些中,三乙醇胺和二乙醇胺是优选的。铵离子的抗衡离子优选为氯离子。
对水溶性胺化合物和胺化合物的离子没有特别地限定,但选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-羟乙基吗啉和4-二甲基氨基吡啶的水溶性胺化合物,以及该胺化合物的离子是优选的。可以单独使用这些中的一种,也可以组合使用其两种以上。
可以用于调节pH的碱的实例包括氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、碳酸钠、碳酸钾、碳酸铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵、有机碱试剂,及其组合。并且,可以使用的酸包括无机酸如盐酸、硫酸和硝酸。通过加入这种碱或酸,可以细微地调节pH。
在其中采用(a)碳酸根离子和碳酸氢根离子的组合作为pH缓冲剂的情况下,基于显影液的总质量,碳酸根离子和碳酸氢根离子的总量优选为0.05至5mol/L,更优选0.07至2mol/L,再更优选0.1至1mol/L。当总量为0.05mol/L以上时,较不可能减弱可显影性和处理能力,而当它为5mol/L以下时,几乎不能制备沉淀物或晶体,并且此外,显影液的废水处理中的中和几乎不涉及凝胶化,作为结果,较不可能妨碍废水处理。
在其中采用(b)硼酸根离子作为pH缓冲剂的情况下,基于显影液的总质量,硼酸根离子的总量优选为0.05至5mol/L,更优选0.1至2mol/L,再更优选0.2至1mol/L。当硼酸盐的总量为0.05mol/L以上时,可显影性和处理能力较不倾向于被削弱,然而当它为5mol/L以下时,几乎不产生沉淀物或晶体,并且此外,显影液的废水处理中的中和基本上不涉及凝胶化,作为结果,较不易于妨碍废水处理。
在其中采用(c)水溶性胺化合物和胺化合物的离子作为pH缓冲剂的情况下,基于显影液的总质量,水溶性胺化合物和胺化合物的离子的总量优选为0.005至5mol/L,更优选0.01至2mol/L,再更优选0.01至1mol/L。当水溶性胺化合物和胺化合物的离子的总量在该范围内时,可显影性和处理能力不被削弱,并且另一方面,使得废水处理容易。
在其中采用(d)碱金属硅酸盐和碱土金属硅酸盐中的至少任一种作为pH缓冲剂的情况下,基于显影液的总质量,碱金属硅酸盐和碱土金属硅酸盐中的至少任一种的总量优选为0.005至5mol/L,更优选0.01至2mol/L,再更优选0.01至1mol/L。
本发明的显影液可以含有有机溶剂。可以含有的有机溶剂的实例包括脂族烃(例如己烷、庚烷、“Isopar E、H、G”(Exxon Chemical Co.,Ltd.)、汽油、煤油)、芳族烃(例如甲苯、二甲苯)、卤化的烃(例如二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烯、单氯苯)以及极性溶剂。极性溶剂的实例包括醇(例如,甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、1-丁醇、1-戊醇、1-己醇、1-庚醇、1-辛醇、2-辛醇、2-乙基-1-己醇、1-壬醇、1-癸醇、苄醇、乙二醇单甲醚、2-乙氧基乙醇、二甘醇单乙醚、二甘醇单己醚、三甘醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、聚乙二醇单甲醚、聚丙二醇、四甘醇、乙二醇单丁醚、乙二醇单苄醚、乙二醇单苯醚、丙二醇单苯醚、甲基苯甲醇、正戊基醇、甲基戊基醇)、酮(例如,丙酮、甲基乙基酮、乙基丁酮、甲基异丁酮、环己酮)、酯(例如,乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、乙酸苄酯、乳酸甲酯、乳酸丁酯、乙二醇乙酸单丁酯、聚乙二醇单甲醚乙酸酯、二甘醇乙酸酯、邻苯二甲酸二乙酯、乙酰丙酸丁酯),以及其他(例如,磷酸三乙酯、磷酸三甲苯酯、N-苯基乙醇胺、N-苯基二乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、4-(2-羟乙基)吗啉、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮)。
对于显影液中含有的有机溶剂,可以组合使用两种以上的有机溶剂。
并且,当有机溶剂不溶于水中时,可以通过在水中使用表面活性剂等使溶剂增溶并且之后使用。在将有机溶剂结合至显影液中的情况下,考虑到安全性和易燃性,溶剂适宜处于少于40质量%的浓度。浓度优选为少于10质量%,更优选少于5质量%。
除了以上描述的那些之外,显影液可以含有防腐剂、螯合化合物、消泡剂、有机酸、无机酸、无机盐等。具体地,可以优选使用在JP-A-2007-206217的第[0266]至[0270]段中描述的化合物。
如果需要,可以使用显影液作为显影补充液,并且其优选应用于后面描述的自动显影处理机。在通过使用自动处理机进行显影的情况下,随着处理量显影液变得疲乏和因此,可以通过使用补充液或新显影液恢复处理能力。
<平版印刷版的制版方法>
平版印刷版原版是通过具有线状图像、网点图像等的透明原版暴露至激光,或者通过基于数字数据扫描激光束而进行图像式曝光。
对于光源的优选波长,300至450nm的波长或750至1,400nm的波长是优选使用的。在300至450nm的情况下,使用在光敏层中含有在以上区域内具有吸收最大值的增感染料的平版印刷版原版,并且在750至1,400nm的情况下,使用含有作为在那个区域中具有吸收的增感染料的红外线吸收剂的平版印刷版原版。300至450nm的光源合适地是半导体激光器。750至1,400nm的光源合适是能够发射红外线的固体激光器或半导体激光器。曝光机构可以是内鼓系统、外鼓系统、平床式系统等中的任一种。
在本发明中,将平版印刷版原版如上图像式曝光,并且之后通过使用本发明的显影液进行显影处理,从而制备平版印刷版。
在本发明的显影液中含有的特定非还原性糖具有出色的成膜性,以使得可以同时进行显影和胶溶液处理。
并且,当显影液是6至11的pH的显影液时,不特别需要后水洗步骤,并且在用一种溶液进行显影和胶溶液处理之后,可以进行干燥步骤。备选地,可以将平版印刷版立即安装在印刷机上并用于印刷。此外,也不特别地需要预水洗步骤,并且保护层的移除可以与显影和胶溶液处理同时进行。顺便提及,在显影和胶处理之后,优选的是通过使用挤压辊移除过量的显影液,并且之后进行干燥。
在显影液是大于11至14的pH的碱性显影液的情况下,如果需要,可以在预水洗步骤中移除保护层。在用本发明的显影液进行显影之后,如果需要,可以将碱在后水洗步骤中通过水洗涤移除。并且,如果需要,可以进行胶溶液处理,并且如果需要可以将版在干燥步骤中干燥。
根据本发明的用于制备平版印刷版的方法的一个优选的实施方案的特征在于不含有水洗步骤。这里,“不含有水洗步骤”意指在平版印刷版原版的图像曝光步骤与平版印刷版通过显影处理步骤的制备的完成之间完全不含有水洗步骤。换言之,根据该实施方案,不仅在图像曝光步骤与显影处理步骤之间,而且在显影处理步骤之后也不进行水洗步骤,从而制备平版印刷版。制备的平版印刷版可以直接用于印刷。
在本发明中,平版印刷版原版的显影根据传统的方法在通常0至60℃,优选大约15至40℃的温度进行,例如,通过将曝光后的平版印刷版原版浸渍在显影液中和用刷摩擦该版的方法,或者喷射显影液并且将版用刷摩擦的方法。自动显影机中的这种处理有益地不受处理得自保护层/图像记录层的显影浮渣的影响,所述显影浮渣在机上显影的情况下产生。
此外,对于制版过程,如果需要,可以在曝光之前,在曝光过程中,或者在曝光与显影之间将版的整个表面加热。通过加热,图像记录层中的图像形成反应加速,这产生如感光度和印刷寿命的增加以及感光度的稳定性的益处。此外,对于提高图像强度/印刷寿命的目的,还有效的是在显影之后进行图像的整个后加热或整个曝光。通常,在显影之前的加热优选在150℃以下的温和条件下进行。如果温度过高,可能出现问题,例如,未曝光区固化。在显影之后的加热采用非常苛刻的条件,并且加热温度通常为100至500℃。如果温度低,不能获得增强图像的足够效果,而如果它过高,可能出现如载体的劣化和图像区的热分解的问题。
用本发明的显影液的显影处理可以适宜地通过配备有显影液提供装置和摩擦部件的自动显影处理机进行。使用旋转刷辊作为摩擦部件的自动显影处理机是特别优选的。
自动显影处理机优选在显影处理装置之后还配备有用于移除过量的显影液的装置,如挤压辊,或者干燥装置如热空气装置。
下面通过参考图1简要地描述在本发明的用于制备平版印刷版的方法中使用的自动显影处理机的一个实例。
图1中所示的自动显影处理机100包括具有通过机架202形成的外部形状的室并且具有沿用于平版印刷版原版的输送路径11的输送方向(箭头A)连续形成的预热单元200、显影单元300和干燥单元400。
预热单元200包括加热室208,所述加热室208具有输入口212和输出口218,并且在所述加热室208中设置斜辊210、加热器214和循环扇216。
将显影单元300由外面板310从预热单元200分离,并且将缝状插入口312设置在外面板310中。
在显影单元300的内侧,设置具有填充有显影液的显影槽308和用于将平版印刷版原版引导至处理槽306的内侧的插入辊对304的处理槽306。显影槽308的顶部由遮蔽盖324覆盖。
在显影槽308的内侧,按从输送方向的上游侧的顺序设置导向辊344、导向部件342、浸入式辊对316、刷辊对322、刷辊对326和送出辊对318。输送至显影槽308的内侧中的平版印刷版原版被浸渍在显影液中,并且在通过旋转刷辊对322与326之间的过程中移除非图像区。
喷管330设置在刷辊对322和326之下。喷管330连接至泵(未显示),以使得可以将由泵吸出的显影槽308中的显影液从喷管330排出至显影槽308中。
在显影槽308的侧壁上,设置溢流开口51以形成第一循环管路C1的顶边,并且过量的显影液在溢流开口51中流出,通过第一循环管路C1并且被排放至设置在显影单元300外侧的外部槽50中。
第二循环管路C2连接至外部槽50,并且过滤器单元54和显影液供给泵55设置在第二循环管路C2中。显影液通过显影液供给泵55由外部槽50被提供至显影槽308。并且,液位计52和53设置在外部槽50中。
显影槽308通过第三循环管路C3连接至补充水槽71。水补充泵72设置在第三循环管路C3中,并且存在补充水槽71中的水通过水补充泵72提供至显影槽308。
液温传感器336设置在浸入式辊对316的上游侧,并且液位计338设置在送出辊对318的上游侧。
在设置在显影单元300与干燥单元400之间的隔板332中,设置缝状插入口334。并且,将闸板(未显示)设置在显影单元300与干燥单元400之间的通道中,并且当平版印刷版原版11不通过通道时将通道通过闸板关闭。
在干燥单元400中,按以下顺序设置支持辊402、导管410和412、输送辊对406、导管410和412和输送辊对408。狭缝孔414被设置在导管410和412的每个的尖端。并且,在干燥单元400中,设置干燥装置(未显示)如热空气提供装置和热生成装置。排出口404设置在干燥单元400中,并且通过干燥装置干燥的平版印刷版从排出口404排出。
下面通过参考图2简单描述在本发明的用于制备平版印刷版的方法中使用的自动显影处理机的另一个实例。与图1类似,图2中所示的自动显影处理机包括具有通过机架形成的外形的室并且具有沿用于平版印刷版原版的输送方向连续形成的预热单元、预水洗单元、显影浴(显影单元)、水洗涤单元、润饰液单元和干燥单元。
预热单元包括具有输入口和输出口的加热室,并且输送辊对101、加热器和循环扇被设置在其内侧。
在预水洗单元的内侧,设置输送辊对102、用于水洗的两个喷管、旋转刷辊103以及用于挤出洗涤水的输送辊对104。
在显影浴的内侧,设置具有填充有显影液的处理槽和用于将平版印刷版原版导向至处理槽的内侧的插入辊对105。显影槽的顶部被用遮蔽盖遮盖。
在显影槽的内侧,按在输送方向从上游侧的顺序设置浸入式辊对、刷辊对106、刷辊对107和送出辊对108。输送至显影槽的内侧的平版印刷版原版被浸渍在显影液中,并且在通过旋转刷辊对106与107之间的过程中移除非图像区。
液温传感器设置在浸入式辊对的上游侧,并且液位计设置在送出辊对的上游侧。
在设置在显影浴与水洗涤单元之间的隔板中,设置缝状插入口。
在水洗涤单元中,设置输送辊对109、用于水洗的两个喷管、接收辊110和输送辊对111。
在设置在水洗涤单元与润饰液单元之间的隔板中,设置缝状插入口。
在润饰液单元中,设置用于喷射润饰液溶液的管、用于将润饰液溶液提供至输送辊上的导管以及输送辊对112。
在干燥单元中,按以下顺序设置干燥装置(未显示)如热空气提供装置和热产生装置,热空气风扇,支持辊和输送辊对113。排出口设置在干燥单元中,并且通过干燥装置干燥的平版印刷版从排出口排出。
通过本发明的显影液处理的平版印刷版原版的图像形成系统可以或者是阴图型或阳图型。
下面描述阴图型平版印刷版原版和阳图型平版印刷版原版。
[阴图型平版印刷版原版]
阴图型平版印刷版原版具有亲水性载体上的光敏层,并且优选还具有保护层。还优选的是在载体上设置下涂层。
光敏层(有时称为图像记录层)优选含有聚合引发剂、可聚合化合物和粘合剂聚合物,并且还优选的是还含有增感染料和链转移剂。
(a)增感染料
本发明的光敏层优选含有增感染料。可以不带有任何特别限制地使用增感染料,条件是它当图像曝光时通过吸收光进入激发状态并且通过电子转移、能量转移、热生成等的方式对后面描述的聚合引发剂提供能量,从而增强聚合引发功能。尤其是,优选使用在300至450nm或750至1,400nm具有吸收最大值的增感染料。
在300至450nm的波长区域中具有吸收最大值的增感染料的实例包括部花青染料、苯并吡喃类、香豆素类、芳族酮类、蒽类、苯乙烯基类和唑类。
在300至450nm的波长区域中具有吸收最大值的增感染料中,考虑到高感光度优选的染料是由下式(IX)表示的染料:
(在式(IX)中,A表示可以具有取代基的芳基或杂芳基,X表示氧原子、硫原子或N-(R3),R1、R2和R3的每一个独立地表示一价非金属原子团,并且A和R1的对或R2和R3的对可以彼此结合以形成脂族或芳族环。)
更详细地描述式(IX)。R1、R2和R3的每一个独立地为一价非金属原子团,优选氢原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的烯基、取代的或未取代的芳基、取代的或未取代的杂芳基残基、取代的或未取代的烷氧基、取代的或未取代的烷基硫基、羟基或卤素原子。
下面描述式(IX)中的A。A表示可以具有取代基的芳基或杂芳基。可以具有取代基的芳基或杂芳基的实例与对于式(IX)中的R1、R2和R3描述的取代的或未取代的芳基和取代的或未取代的芳族杂环残基的那些相同。
对于这种增感染料的具体实例,在JP-A-2007-58170的第[0047]至[0053]段、JP-A-2007-93866的第[0036]和[0037]段和JP-A-2007-72816的第[0042]至[0047]段中描述的化合物是优选使用的。
此外,在JP-A-2006-189604、JP-A-2007-171406、JP-A-2007-206216、JP-A-2007-206217、JP-A-2007-225701、JP-A-2007-225702、JP-A-2007-316582和JP-A-2007-328243中描述的增感染料也可以是优选使用的。
下面描述在本发明中优选使用的在750至1,400nm具有吸收最大值的增感染料(在下文中,有时称为“红外线吸收剂”)。优选使用染料或颜料作为红外线吸收剂。
对于染料,可以使用可商购的染料和描述在文献如由日本合成有机化学协会(The Society of Synthetic Organic Chemistry,Japan)编辑(1970)的Senryo Binran(染料手册)中的已知染料。染料的具体实例包括偶氮染料、金属配合物盐偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳染料、醌亚胺染料、次甲基染料、花青染料、方酸染料、吡喃盐和金属硫醇盐配合物。
在这些染料中,花青染料、方酸染料、吡喃盐、镍硫醇盐配合物和假吲哚花青染料是优选的,并且花青染料和假吲哚花青染料是更优选的。特别优选的实例是由下式(a)表示的花青染料:
在式(a)中,X1表示氢原子、卤素原子、-NPh2、-X2-L1或如下所示的基团,其中X2表示氧原子、氮原子或硫原子,并且L1表示具有1至12的碳数的烃基,含有杂原子(N、S、O、卤素原子或Se)的芳基,或者具有1至12的碳数并且含有杂原子的烃基。Xa -具有与后面描述的Za -相同的含义。Ra表示氢原子或选自烷基、芳基、取代的或未取代的氨基和卤素原子的取代基。
R1和R2的每一个独立地表示具有1至12的碳数的烃基。考虑到用于光敏层的涂布液的储存稳定性,R1和R2优选为具有2以上的碳数的烃基。并且,R1和R2可以彼此结合以形成环,并且在形成环的情况下,特别优选的是形成5元环或6元环。
可以是相同或不同的Ar1和Ar2各自表示可以具有取代基的芳基。芳基的优选实例包括苯环和萘环。取代基的优选实例包括具有12个以下的碳数的烃基、卤素原子和具有12个以下的碳数的烷氧基。可以是相同的或不同的Y1和Y2各自表示硫原子或具有12个以下的碳数的二烷基亚甲基。可以是相同的或不同的R3和R4,各自表示可以具有取代基的具有20个以下的碳数的烃基。优选的取代基包括具有12个以下的碳数的烷氧基、羧基和磺基。可以是相同的或不同的R5、R6、R7和R8各自表示氢原子或具有12个以下的碳数的烃基。从原材料的可得性的角度,氢原子是优选的。Za-表示抗衡阴离子。然而,当由式(a)表示的花青染料在其结构中具有阴离子取代基并且不需要电荷中和时,Za-不是必需的。考虑到用于光敏层的涂布液的储存稳定性,Za-优选为卤化物离子、高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子或磺酸根离子,更优选高氯酸根离子、六氟磷酸根离子或芳基磺酸根离子。
可以适宜地使用的由式(a)表示的花青染料的具体实例包括JP-A-2001-133969的第[0017]至[0019]段、JP-A-2002-023360的第[0016]至[0021]段和JP-A-2002-040638的第[0012]至[0037]段中描述的化合物。在JP-A-2002-278057的第[0034]至[0041]段和JP-A-2008-195018的第[0080]至[0086]段中描述的化合物是优选的,并且在JP-A-2007-90850的第[0035]至[0043]段中描述的化合物是最优选的。
并且,可以优选使用在JP-A-5-5005的第[0008]和[0009]段和JP-A-2001-222101的第[0022]至[0025]段中描述的化合物。
可以单独使用这些红外线吸收染料中的一个,也可以组合使用其中的两个以上。并且,可以组合使用除红外线吸收染料之外的红外线吸收剂如颜料。作为颜料,JP-A-2008-195018的第[0072]至[0076]段中描述的化合物是优选的。
每100质量份的光敏层的全部固体含量,所加入的增感染料的量优选为0.05至30质量份,更优选0.1至20质量份,并且最优选0.2至10质量份。
(b)聚合引发剂
本发明的光敏层含有聚合引发剂(在下文中,有时称为“引发剂化合物”)。在本发明中,优选使用自由基聚合引发剂。
作为用于在本发明中使用的引发剂化合物,可以不带有限制地使用本领域技术人员已知的那些。引发剂化合物的具体实例包括三卤甲基化合物、羰基化合物、有机过氧化物、偶氮系化合物、叠氮化合物、金属茂化合物、六芳基联咪唑化合物、有机硼化合物、二砜化合物、肟酯化合物、鎓盐和铁芳烃配合物。在这些中,优选的是选自六芳基联咪唑化合物,鎓盐,三卤甲基化合物和金属茂化合物的至少一种化合物,并且更优选的是六芳基联咪唑化合物。可以适当地组合使用这些聚合引发剂中的两种以上。
六芳基联咪唑系化合物的实例包括欧洲专利24,629和107,792和美国专利4,410,621中描述的洛粉碱二聚物,如2,2′-双(邻-氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、2,2′-双(邻-溴苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、2,2′-双(邻,对-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、2,2′-双(邻-氯苯基)-4,4′,5,5′-四(间-甲氧基苯基)联咪唑、2,2′-双(邻,邻′-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、2,2′-双(邻-硝基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、2,2′-双(邻-甲基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑和2,2′-双(邻-三氟甲基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑。
尤其是,六芳基联咪唑系化合物优选与在300至450nm具有吸收最大值的增感染料组合使用。
适合在本发明中使用的鎓盐优选为锍盐、碘鎓盐或重氮盐,更优选二芳基碘鎓盐或三芳基锍盐。尤其是,鎓盐优选与在750至1,400nm具有吸收最大值的红外线吸收剂组合使用。
可以优选使用的其他聚合引发剂包括在JP-A-2007-206217的第[0071]至[0129]段中描述的聚合引发剂。
可以单独使用适合于本发明的聚合引发剂之一,也可以组合使用其两种以上。
在本发明中,基于光敏层中全部固体含量的质量,在光敏层中使用的聚合引发剂的量优选为0.01至20质量%,更优选0.1至15质量%,再更优选1.0至10质量%。
(c)可聚合化合物
在本发明中,用于在光敏层中使用的可聚合化合物是具有至少一个烯键式不饱和双键的可加成聚合化合物,并且选自具有至少一个、优选两个以上末端烯键式不饱和双键的化合物。这种化合物具有如单体、预聚物(换言之,二聚物、三聚物或低聚物)或者它们的混合物的化学形式。单体的实例包括不饱和羧酸(如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸和马来酸),以及它们的酯或酰胺。优选使用不饱和羧酸与多羟基醇化合物的酯,以及不饱和羧酸与多元胺化合物的酰胺。并且,优选使用,例如,具有亲核取代基如羟基、氨基和巯基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能化或多官能化异氰酸酯或环氧树脂类的加成反应产物,以及与单官能化或多官能化羧酸的脱水缩合反应产物。此外,具有亲电取代基如异氰酸酯基和环氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能化或多官能化醇、胺或硫醇的加成反应产物,和具有离去取代基如卤素基团和甲苯磺酰基氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能化或多官能化醇、胺或硫醇的置换反应产物也是优选的。作为另一个实例,也可以使用其中将上述不饱和羧酸用不饱和膦酸、苯乙烯、乙烯醚等替换的化合物。这些被描述在包括JP-T-2006-508380、JP-A-2002-287344、JP-A-2008-256850、JP-A-2001-342222、JP-A-9-179296、JP-A-9-179297、JP-A-9-179298、JP-A-2004-294935、JP-A-2006-243493、JP-A-2002-275129、JP-A-2003-64130、JP-A-2003-280187和JP-A-10-333321的参考文献中。
作为多羟基醇化合物与不饱和羧酸的酯的单体的具体实例包括,作为丙烯酸酯,乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷(EO)改性的三丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯低聚物;并且作为甲基丙烯酸酯,四亚甲基二醇二甲基丙烯酸酯,新戊二醇二甲基丙烯酸酯,三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯,乙二醇二甲基丙烯酸酯,季戊四醇三甲基丙烯酸酯,双[对-(3-甲基丙烯酰基氧基-2-羟基丙氧基)苯基]二甲基甲烷,并且双[对-(甲基丙烯酰基氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷。作为多元胺化合物与不饱和羧酸的酰胺的单体的具体实例包括亚甲基双-丙烯酰胺、亚甲基双-甲基丙烯酰胺、1,6-六亚甲基双-丙烯酰胺、1,6-六亚甲基双-甲基丙烯酰胺、二亚乙基三胺三丙烯酰胺、亚二甲苯基双丙烯酰胺和亚二甲苯基双甲基丙烯酰胺。
使用异氰酸酯与羟基之间的加成反应制备的氨基甲酸酯系可加成聚合化合物也是优选的,并且其具体实例包括在JP-B-48-41708(如本文所使用的术语“JP-B”意指“已审查日本专利申请”)中描述的通过将由下式(A)表示的含有羟基的乙烯基单体加成至每分子具有两个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物获得的每分子具有两个以上可聚合乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物:
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH    (A)
(其中R4和R5的每一个表示H或CH3)。
此外,在JP-A-51-37193、JP-B-2-32293、JP-B-2-16765、JP-A-2003-344997和JP-A-2006-65210中描述的聚氨酯丙烯酸酯,在JP-B-58-49860、JP-B-56-17654、JP-B-62-39417、JP-B-62-39418、JP-A-2000-250211和JP-A-2007-94138中描述的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物,以及在美国专利7,153,632、JP-T-8-505958、JP-A-2007-293221和JP-A-2007-293223中描述的具有亲水性基团的氨基甲酸酯化合物也是优选的。
在JP-T-2007-506125中描述的可光氧化聚合化合物也是优选的,并且尤其是,含有至少一个脲基团和/或叔氨基的可聚合化合物是优选的。具体地,可聚合化合物包括以下化合物。
用于可聚合化合物的使用方法的细节,如结构、单独的或组合的使用和所加入的量,可以根据最终的平版印刷版原版的性能设计任意地确定。基于光敏层的全部固体含量,在优选5至75质量%,更优选25至70质量%,再更优选30至60质量%的范围内使用可聚合化合物。
(d)粘合剂聚合物
在本发明中,光敏层含有粘合剂聚合物。作为粘合剂聚合物,使用能够将光敏层组分装载在载体上并且可用本发明的显影液移除的聚合物。例如,使用(甲基)丙烯酸类聚合物、聚氨酯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇缩甲醛、聚酰胺、聚酯或环氧树脂作为粘合剂聚合物。尤其是,优选使用(甲基)丙烯酸类聚合物,聚氨酯或聚乙烯醇缩丁醛。
在本发明中,“(甲基)丙烯酸类聚合物”意指含有(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸衍生物如(甲基)丙烯酸酯(例如,烷基酯、芳基酯、烯丙基酯)、(甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯酰胺衍生物作为聚合组分的共聚物。“聚氨酯”意指通过具有两个以上异氰酸酯基的化合物与具有两个以上羟基的化合物的缩合反应制备的聚合物。“聚乙烯醇缩丁醛”意指通过部分地或完全地皂化聚乙酸乙烯酯获得的聚乙烯醇与丁醛之间在酸性条件下的反应(缩醛化反应)合成的聚合物,并且包括其中例如通过使残留的羟基与具有酸基等的化合物反应的方法引入酸基等的聚合物。
用于在本发明中使用的(甲基)丙烯酸类聚合物的一个适宜的实例包括含有具有酸基的重复单元的共聚物。酸基的实例包括羧酸基、磺酸基、膦酸基、磷酸基和磺胺基,并且羧酸基是优选的。优选使用的具有酸基的重复单元是衍生自(甲基)丙烯酸的重复单元,或者由下式(I)表示的重复单元:
(在式(I)中,R1表示氢原子或甲基,R2表示单键或(n+1)价连接基团,A表示氧原子或-NR3-,R3表示氢原子或具有1至10的碳数的一价烃基,并且n表示1至5的整数。)
由式(I)中的R2表示的连接基团优选由选自由氢原子、碳原子、氧原子、氮原子、硫原子和卤素原子组成的组的一种或多种原子组成,并且组成由R2表示的连接基团的原子数优选为1至80。连接基团的具体实例包括亚烷基、取代的亚烷基、亚芳基和取代的亚芳基。连接基团可以具有其中多个这种二价基团通过酰胺键、醚键、氨基甲酸酯键、脲键和酯键中的任一种连接的结构。R2优选为单键、亚烷基、取代的亚烷基,或其中将多个至少任一种亚烷基或取代的亚烷基通过酰胺键、醚键、氨基甲酸酯键、脲键和酯键中的至少任一种连接的结构,更优选单键、具有1至5的碳数的亚烷基、具有1至5的碳数的取代的亚烷基或其中多个至少任一种具有1至5的碳数的亚烷基或具有1至5的碳数的取代的亚烷基通过酰胺键、醚键、氨基甲酸酯键、脲键和酯键中的至少任一种连接的结构,并且最优选单键、具有1至3的碳数的亚烷基、具有1至3的碳数的取代的亚烷基或其中多个至少任一种具有1至3的碳数的亚烷基或具有1至3的碳数的取代的亚烷基通过酰胺键、醚键、氨基甲酸酯键、脲键和酯键中的至少任一种连接的结构。
取代的亚烷基和取代的亚芳基中的取代基包括:不包括氢原子的一价非金属原子团,并且其实例包括卤素原子(-F、-Br、-Cl、-I)、羟基、氰基、烷氧基、芳氧基、巯基、烷基硫基、芳基硫基、烷基羰基、芳基羰基、羧基或其共轭碱基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、芳基、烯基和炔基。
R3优选为氢原子或具有1至5的碳数的烃基,更优选氢原子或具有1至3的碳数的烃基,并且最优选氢原子或甲基。n优选为1至3,更优选1或2,并且最优选1。
考虑到可显影性,(甲基)丙烯酸类聚合物的全部共聚组分中的含有羧酸基的共聚组分的比例(摩尔%)优选为1至70%。从满足可显影性和印刷寿命两者的角度,比例为更优选1至50%,再更优选1至30%。
用于在本发明中使用的(甲基)丙烯酸类聚合物优选还含有交联基团。如本文所使用的“交联基团”意指当平版印刷版原版曝光或加热时在光敏层中出现自由基聚合反应的过程中能够交联粘合剂聚合物的基团。对交联基团没有特别地限定,条件是它具有这样的功能,但能够引起加成聚合反应的官能团的实例包括烯键式不饱和键基团、氨基和环氧基。并且,交联基团可以是当用光照射时能够成为自由基的官能团,并且其实例包括硫醇基和卤素原子。其中,烯键式不饱和键基团是优选的。烯键式不饱和键基团优选是苯乙烯基、(甲基)丙烯酰基或烯丙基。
在(甲基)丙烯酸类聚合物中,例如,自由基(在可聚合化合物的聚合的过程中的聚合引发自由基或增殖自由基)加成至交联官能化基团以引起聚合物之间直接地或通过可聚合化合物的聚合链加成聚合,并且在聚合物分子之间形成桥,从而实现固化。备选地,聚合物中的原子(例如,与官能化交联基团相邻的碳原子上的氢原子)由自由基拉出以产生聚合物自由基,并且聚合物自由基彼此结合以形成聚合物分子之间的桥从而实现固化。
每g的粘合剂聚合物计,(甲基)丙烯酸类聚合物中的交联基团的含量(通过碘滴定测定的可自由基聚合不饱和双键的含量)优选为0.01至10.0mmol,更优选0.05至9.0mmol,并且最优选0.1至8.0mmol。
除了以上描述的含有酸基的聚合单元和含有交联基团的聚合单元之外,用于在本发明中使用的(甲基)丙烯酸类聚合物可以含有(甲基)丙烯酸烷基或芳烷基酯的聚合单元、(甲基)丙烯酰胺或其衍生物的聚合单元、α-羟甲基丙烯酸酯的聚合单元或者苯乙烯衍生物的聚合单元。(甲基)丙烯酸烷基酯中的烷基优选为具有1至5的碳数的烷基,或具有上述具有2至8的碳数的取代基的烷基,更优选甲基。(甲基)丙烯酸芳烷基酯的实例包括(甲基)丙烯酸苄酯。(甲基)丙烯酰胺衍生物的实例包括N-异丙基丙烯酰胺、N-苯基甲基丙烯酰胺、N-(4-甲氧基羰基苯基)甲基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺和吗啉代丙烯酰胺。α-羟甲基丙烯酸酯的实例包括α-羟甲基丙烯酸乙酯和α-羟甲基丙烯酸环己酯。苯乙烯衍生物的实例包括苯乙烯和4-叔丁基苯乙烯。
用于在本发明中使用的聚氨酯的优选实例包括在JP-A-2007-187836的第[0099]至[0210]段、JP-A-2008-276155的第[0019]至[0100]段、JP-A-2005-250438的第[0018]至[0107]段和JP-A-2005-250158的第[0021]至[0083]段中描述的聚氨酯树脂。
用于在本发明中使用的聚乙烯醇缩丁醛的优选实例包括在JP-A-2001-75279的第[0006]至[0013]段中描述的聚乙烯醇缩丁醛。
例如,如下所示的具有引入至其中的酸基的聚乙烯醇缩丁醛也是优选使用的。
在式(I-B)中,相应的重复单元的比例优选为p/q/r/s=50至78摩尔%/1至5摩尔%/5至28摩尔%/5至20摩尔%。
Ra和Rb的每一个是一价取代基,Rc、Rd、Re和Rf的每一个独立地是可以具有取代基的一价取代基,或者单键,并且m是0或1的整数。由Ra、Rb、Rc、Rd、Re和Rf表示的取代基优选是氢原子、可以具有取代基的烷基、卤素原子或可以具有取代基的芳基,更优选氢原子、直链烷基如甲基、乙基和丙基、用羧酸取代的烷基、卤素原子、苯基或用羧酸取代的苯基。Rc和Rd的对或Re和Rf的对可以形成环结构。Rc和Re所结合的碳原子与Rd和Rf所结合的碳原子之间的键是单键、双键或芳族双键,并且在双键或芳族双键的情况下,Rc和Rd、Re和Rf、Rc和Rf或Re和Rd彼此组合以形成单键。
由式(I-B)表示的聚乙烯醇缩丁醛可以通过根据已知方法使由下式(I-B′)表示的化合物与聚合物的羟基反应获得,所述聚合物通过由部分地或全部皂化的聚乙酸乙烯酯获得的聚乙烯醇与丁醛之间在酸性条件下的反应(缩醛化反应)合成。在式(I-B′)中,相应的基团和m具有与式(I-B)中相同的定义。
此外,可以将粘合剂聚合物中的酸基部分用碱性化合物中和。碱性化合物的实例包括含有碱性氮的化合物,以及碱金属氢氧化物或季铵氢氧化物。
粘合剂聚合物具有优选5,000以上,更优选10,000至300,000的质均分子量,并且具有优选1,000以上,更优选2,000至250,000的数均分子量。多分散性(质均分子量/数均分子量)优选为1.1至10。
对于粘合剂聚合物,可以单独使用一种聚合物,也可以使用两种以上聚合物的混合物。考虑到图像区的良好强度和良好的图像可形成性,基于光敏层的全部固体含量,粘合剂聚合物的含量优选为5至75质量%,更优选10至70质量%,再更优选10至60质量%。
基于光敏层的全部固体含量,可聚合化合物和粘合剂聚合物的总含量优选为90质量%以下。如果它超过90质量%,有时可以导致感光度上的下降和可显影性的劣化。其总含量更优选为35至80质量%。
在本发明中,调节平版印刷版原版的光敏层中可聚合化合物与粘合剂聚合物之间的比例,借此显影液至光敏层的可渗透性更加提高,并且可显影性进一步提高。换言之,光敏层中可聚合化合物/粘合剂聚合物的质量比优选为1.2以上、更优选1.25至4.5,并且最优选2至4。
光敏层优选含有链转移剂。链转移剂被定义在,例如,在由日本高分子学会(The Society of Polymer Science,Japan)编(2005)的Kobunshi Jiten (高分子辞典),第三版,第683至684页中。作为链转移剂,例如,使用在分子中具有SH、PH、SiH或GeH的化合物。这种化合物可以贡献氢至低活性自由基物种以产生自由基,也可以被氧化并且之后去质子化以产生自由基。
尤其是,在本发明的光敏层中可以优选使用硫醇化合物(如2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、3-巯基三唑和5-巯基四唑)。
每100质量份的光敏层的全部固体含量,所加入的链转移剂的量优选为0.01至20质量份,更优选1至10质量份,并且最优选1至5质量份。
<光敏层的其他组分>
此外,如果需要,可以将多种添加剂结合至光敏层中。添加剂的实例包括用于促进可显影性和改善涂层表面状态的表面活性剂,用于平衡可显影性和印刷寿命的微胶囊,用于改善可显影性并增强微胶囊的分散稳定性的亲水性聚合物,用于使得能够视觉识别图像区和非图像区的着色剂或印出剂,用于防止可自由基聚合化合物在光敏层的制备或储存中不需要的热聚合的聚合抑制剂,用于避免归因于氧的聚合抑制的疏水低分子量化合物如高级脂肪酸衍生物,用于增加图像区中固化膜的强度的无机或有机细粒,用于增强可显影性的亲水性低分子量化合物,用于增加感光度的共增感剂,以及用于提高可塑性的增塑剂。对于所有这些化合物,可以使用已知的化合物并且,例如,可以使用在JP-A-2007-206217的第[0161]至[0215]段,JP-T-2005-509192的第[0067]段和JP-A-2004-310000的第[0023]至[0026]和[0059]至[0066]段中描述的化合物。对于表面活性剂,也可以使用可以加入至后面描述的显影液的表面活性剂。
[阳图型平版印刷版原版]
阳图型平版印刷版原版具有亲水性载体上的含有粘合剂聚合物和红外线吸收剂的图像记录层(有时称为光敏层),并且图像记录层可以是单层也可以包括下层和上层。
其中图像记录层是单层的阳图型平版印刷版原版的合适的实例包括JP-A-7-285275、JP-A-10-268512、JP-A-10-282672和JP-A-2005-258451中描述的那些。
其中图像记录层包括下层和上层的阳图型平版印刷版原版的合适的实例包括其中下层含有作为粘合剂聚合物的(A)水不溶性而碱溶性的树脂和(B)红外线吸收剂并且上层含有作为粘合剂聚合物的(C)水不溶性而碱溶性的树脂和(D)聚有机硅氧烷的那些。
下面详细描述其中图像记录层包括下层和上层的阳图型平版印刷版原版的相应组分。
(A)水不溶性而碱溶性的树脂
在本发明中,对在下层中可以使用的水不溶性而碱溶性的树脂(A)没有特别地限定,条件是它是具有在水中为不溶的并且当与碱性显影液接触时变得可溶的性质的树脂,但该树脂优选为在聚合物的主链或侧链的至少任一个中具有酸性基团的均聚物,其共聚物,或者这些聚合物的混合物。
酸性基团是-COOH、-SO3H、-OSO3H、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2、-SO2NHSO2-、酚羟基或活性亚胺基,优选-COOH、-SO3H、-OPO3H2或-SO2NHSO2-,更优选-COOH。
因此,该树脂可以适宜地通过聚合含具有上述酸性基团的一种或多种烯键式不饱和单体(在下文中,有时称为“赋予碱溶解性的单体”)的单体混合物获得。赋予碱溶解性的单体包括丙烯酸、甲基丙烯酸、由下式表示的化合物,及其混合物。在下式中,每个R4表示氢原子或CH3
顺便提及,在本发明的说明书中,当表示丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的任一种或两者时有时使用术语“(甲基)丙烯酸酯”,并且当表示丙烯酰基和甲基丙烯酰基的任一种或两者时有时使用术语“(甲基)丙烯酰基”。
在本发明中,下层中的水不溶性而碱溶性的树脂(A)优选为通过共聚赋予碱溶解性的单体并且附加地,其他可聚合单体获得的聚合物化合物。在这种情况下,对于共聚比例,共聚物优选以10至70摩尔%,更优选20摩尔%以上的比例含有赋予碱溶解性的单体。当赋予碱溶解性的单体的共聚组分在该范围内时,树脂变得在水中不溶并且在碱性显影液中可溶,并且获得良好的可显影性。
可以用于水不溶性而碱溶性的树脂(A)的制备的其他可聚合单体的实例包括以下化合物:
丙烯酸烷基酯和甲基丙烯酸烷基酯,如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸环己酯和甲基丙烯酸苄酯;各自具有脂族羟基的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯,如丙烯酸2-羟乙酯和甲基丙烯酸2-羟乙酯;丙烯酰胺和甲基丙烯酰胺,如丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺和N-苯基丙烯酰胺;乙烯酯如乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯和苯甲酸乙烯酯;苯乙烯类如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯和氯甲基苯乙烯;其他含氮原子单体如N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡啶、丙烯腈和甲基丙烯腈;以及马来酰亚胺如N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-丙基马来酰亚胺、N-丁基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-2-甲基苯基马来酰亚胺、N-2,6-二乙苯基马来酰亚胺、N-2-氯苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-月桂基马来酰亚胺和N-羟基苯基马来酰亚胺。
在这些作为共聚单体的其他烯键式不饱和单体中,优选使用(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、马来酰亚胺和(甲基)丙烯腈。
下面示例水不溶性而碱溶性的树脂(A)的共聚物的具体实例。在所有具体实例中,质均分子量为20,000至50,000。然而,本发明不限于这些具体实例。以下,重复单元的比例是摩尔比。
作为水不溶性而碱溶性的树脂(A)的另一个实施方案,具有酚羟基的树脂也是优选的。具有酚羟基的树脂的实例包括酚醛清漆树脂如苯酚甲醛树脂、间甲酚甲醛树脂、对甲酚甲醛树脂、间/对混合的甲酚甲醛树脂和苯酚/甲酚(可以是间、对和间/对混合中的任一种)混合的甲醛树脂。
此外,可以组合使用具有碳数为3至8的烷基作为取代基的苯酚-甲醛缩合物,如美国专利4,123,279中描述的叔丁基苯酚甲醛树脂和辛基苯酚甲醛树脂。
可以单独使用这些含有酚羟基的树脂中的一个,也可以组合使用其中两种以上。
在本发明中,在图像记录层的下层中使用的水不溶性而碱溶性的树脂(A)优选为具有2,000以上的质均分子量和500以上的数均分子量的树脂,更优选具有5,000至300,000的质均分子量,800至250,000的数均分子量,以及1.1至10的多分散性(质均分子量/数均分子量)的树脂。对于这些分子量的值,使用根据由GPC(凝胶渗透色谱)测量标定的聚苯乙烯的分子量计算的值。
对于在本发明的图像记录层的下层中使用的水不溶性而碱溶性的树脂(A),可以使用一种树脂,也可以使用两种以上的树脂。
基于图像记录层的下层的全部固体含量,水不溶性而碱溶性的树脂(A)的含量优选为50至98质量%,更优选65至95质量%。当水不溶性而碱溶性的树脂(A)的含量在该范围内时,图像记录层具有高感光度和良好的耐久性。
(B)红外线吸收剂
在本发明中,图像记录层的下层含有(B)红外线吸收剂。对红外线吸收剂(B)没有特别地限定,条件是它是染料或能够吸收红外光产生热的颜料即可,并且可以使用作为红外线吸收剂已知的多种染料和颜料。
作为红外线吸收剂的染料的实例包括JP-A-58-125246、JP-A-59-84356、JP-A-59-202829和JP-A-60-78787中描述的花青染料,JP-A-58-173696、JP-A-58-181690和JP-A-58-194595中描述的次甲基染料,JP-A-58-112793、JP-A-58-224793、JP-A-59-48187、JP-A-59-73996、JP-A-60-52940和JP-A-60-63744中描述的萘醌染料,JP-A-58-112792中描述的方酸染料,以及英国专利434,875中描述的花青染料。
对于作为红外线吸收剂的染料,也可以适宜地使用美国专利5,156,938中描述的近红外吸收增感剂,并且尤其是,优选使用美国专利3,881,924中描述的取代的芳基苯并(硫代)吡喃鎓盐,JP-A-57-142645(美国专利4,327,169)中描述的三次甲基噻喃鎓盐,JP-A-58-181051、JP-A-58-220143、JP-A-59-41363、JP-A-59-84248、JP-A-59-84249、JP-A-59-146063和JP-A-59-146061中描述的吡喃鎓系化合物,JP-A-59-216146中描述的花青染料,美国专利4,283,475中描述的五次甲基硫代吡喃鎓盐,JP-B-5-13514和JP-B-5-19702中描述的吡喃鎓化合物,以及商业产品如全部由Epoline Corp.制造的Epolight III-178、EpolightIII-130和Epolight III-125。
染料的其他特别优选的实例包括在美国专利4,756,993中作为式(I)和(II)描述的近红外线吸收染料。
作为在本发明的图像记录层的下层优选使用的红外线吸收剂,以下化合物是优选的。
在这些红外线吸收剂染料中,花青染料A和F是更优选的。
花青染料A
花青染料B
花青染料C
花青染料D
花青染料E
花青染料F
颜料包括商业颜料和Color Index(C.I.)Binran(颜色指数(C.I.)便览), Saishin Ganryo Binran(最新颜料便览)(由日本染料技术协会(JapanPigment Technical Association)编)(1977),以及Saishin Ganryo Oyo Gijutsu (最新颜料应用技术)(CMC出版,1986)中描述的颜料,并且其实例包括不溶性偶氮颜料、偶氮色淀颜料、稠合偶氮颜料、螯合偶氮颜料、酞菁系颜料、蒽醌系颜料、苝-和芘酮系颜料、硫靛系颜料、喹吖啶酮系颜料、二噁嗪系颜料、异吲哚啉酮系颜料、喹酞酮系颜料、还原色淀颜料、吖嗪颜料、亚硝基颜料、硝基颜料、天然颜料、荧光颜料、无机颜料和炭黑。尤其是,优选使用炭黑。
通过将红外线吸收剂结合至图像记录层的下层中,提高图像记录过程中感光度与耐消蚀性之间的平衡。
对于所加入的红外线吸收剂的量,基于下层的全部固体含量,可以以通常0.01至50质量%,优选0.1至30质量%,更优选1.0至30质量%的比例加入红外线吸收剂。具有该范围内的含量,可以降低在图像记录过程中所获得的上层温度,并且可以获得足够的感光度同时抑制消蚀。
图像记录层的下层还可以含有之后描述的其他添加剂。
(C)水不溶性而碱溶性的树脂
对可以在上层中使用的碱可溶树脂没有特别地限定,条件是它是具有当与碱性显影液接触时被溶解的性质的树脂,但树脂优选为由在聚合物的主链或侧链的至少任一个中具有酸性基团的单体获得的均聚物,其共聚物,或者这些聚合物的混合物。
具有这种酸性基团的碱可溶树脂尤其包括在分子中具有(1)酚羟基、(2)磺胺基和(3)活性亚胺基中任意一个官能团的聚合物化合物。例如,优选使用在JP-A-2009-069384的第[0072]至[0076]段中描述的那些,但本发明不限于此。
在本发明中,图像记录层的上层优选含有(C′)水不溶性而碱溶性的聚氨酯。
对上层中含有的聚氨酯没有特别地限定,条件是它在水中不溶并且在碱性水溶液中可溶,但其中,在聚合物主链中具有羧基的那些是优选的,并且其具体实例包括其中基本骨架是由下式(I)表示的二异氰酸酯化合物与至少一种由下式(II)或(III)表示的具有羧基的二醇化合物的反应产物的聚氨酯:
式(I)
OCN-R1-NCO
式(II)
式(III)
在式(I)中,R1表示二价连接基团。
可以作为R1的二价连接基团包括脂族烃基、脂环烃基和芳族烃基和优选为具有2至10的碳数的亚烷基,或者具有6至30的碳数的亚芳基。
并且,R1可以具有不能与异氰酸酯基反应的另一个官能团。
在式(II)中,R2表示氢原子、烷基、芳烷基、芳基、烷氧基或芳氧基。这里,R2可以具有取代基。
R2优选为氢原子,具有1至8的碳数的未取代的烷基,或者具有6至15的碳数的未取代的芳基。
在式(II)或(III)中,可以是相同或不同的R3、R4和R5各自表示单键或二价连接基团。
可以作为R3、R4和R5的二价连接基团包括脂族烃基和芳族烃基。这里,R3、R4和R5可以具有取代基。R3、R4和R5的每一个优选为具有1至20的碳数的未取代的亚烷基,或者具有6至15的碳数的未取代的亚芳基,更优选具有1至8的碳数的未取代的亚烷基。
并且,R3、R4和R5可以具有不能与异氰酸酯基反应的另一个官能团。
在式(III)中,Ar表示可以具有取代基的三价芳族烃,并且优选为具有6至15的碳数的亚芳基。
由式(I)表示的二异氰酸酯化合物的具体实例包括以下化合物,但本发明不限于此:
芳族二异氰酸酯化合物如2,4-甲苯二异氰酸酯、2,4-甲苯二异氰酸酯二聚物、2,6-甲苯二异氰酸酯、对二甲苯二异氰酸酯、间二甲苯二异氰酸酯、4,4′-二苯基甲烷二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯和3,3′-二甲基联苯-4,4′-二异氰酸酯;脂族二异氰酸酯化合物如六亚甲基二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、赖氨酸二异氰酸酯和二聚物酸二异氰酸酯;脂环二异氰酸酯化合物如异佛尔酮二异氰酸酯、4,4′-亚甲基双(环己基异氰酸酯)、甲基环己烷-2,4(或2,6)-二异氰酸酯和1,3-(异氰酸根合甲基)环己烷;和作为二醇与二异氰酸酯的反应产物的二异氰酸酯化合物,如1mol的1,3-丁二醇与2mol的甲苯二异氰酸酯的加合物。
在这些中,考虑到印刷寿命,具有芳族环的化合物,如4,4′-二苯基甲烷二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯和甲苯二异氰酸酯是优选的。
由式(II)或(III)表示的具有羧基的二醇化合物的具体实例包括以下化合物,但本发明不限于此:
3,5-二羟基苯甲酸、2,2-双(羟甲基)丙酸、2,2-双(羟乙基)丙酸、2,2-双(3-羟基丙基丙酸、2,2-双(羟甲基)乙酸、双-(4-羟基苯基)乙酸、4,4-双-(4-羟基苯基)戊酸和酒石酸。
在这些中,考虑到与异氰酸酯的反应性,2,2-双(羟甲基)丙酸和2,2-双(羟乙基)丙酸是优选的。
根据本发明的水不溶性而碱溶性的聚氨酯(C′)可以通过根据每个化合物与质子惰性溶剂的反应性加入二异氰酸酯化合物、二醇化合物和具有活性的已知催化剂并且加热溶液而合成。
所使用的二异氰酸酯与二醇化合物之间的摩尔比优选为0.8∶1至1.2∶1。在异氰酸酯基残留在聚合物末端的情况下,施加用醇、胺等的处理,借此在没有异氰酸酯基的残留的情况下最终合成了聚合物。
考虑到耐化学性,根据本发明的水不溶性而碱溶性的聚氨酯(C′)优选具有芳族骨架。
用于在本发明中使用的水不溶性而碱溶性的聚氨酯(C′)的具体实例包括下面描述的异氰酸酯化合物与二醇化合物的反应产物。可以自由地设定组成比,条件是可以合成树脂并且可以维持碱溶解性。
在这些中,优选的是(1)、(3)、(4)、(7)、(8)、(9)、(11)、(13)、(15)、(19)、(21)和(22)。
以质均分子量计,根据本发明的水不溶性而碱溶性的聚氨酯树脂(C)的分子量为优选1,000以上,更优选5,000至100,000。可以单独使用这些水不溶性而碱溶性的聚氨酯树脂(C)中的一个,也可以使用其两种以上的混合物。
基于上层的全部固体含量,根据本发明的水不溶性而碱溶性的树脂如上层组分中的上述聚氨酯的含量优选为2至99.5质量%,更优选5至99质量%,再更优选10至98质量%。当含量在该范围内时,防止显影浮渣的时间相关的产生的效果与图像可形成性和印刷寿命很好地平衡。
(D)聚有机硅氧烷
用于在本发明中使用的图像记录层的上层优选含有(D)聚有机硅氧烷。
对聚有机硅氧烷(D)不特别地限定,条件是它含有由硅氧烷构成的非极性部分和具有氧原子等的极性部分。例如,可以使用聚醚改性的聚有机硅氧烷、醇改性的聚有机硅氧烷或者羧基改性的聚有机硅氧烷。
作为聚有机硅氧烷的具体实例,由下式表示的化合物中的烷氧基硅烷的水解缩合获得的聚有机硅氧烷是优选的:
RSi(OR′)3
[其中R表示烷基或芳基,并且R′表示烷基]。
在该式中,R优选为苯基。R′优选为甲基、乙基或丙基,并且每个R′可以是与每个其他的R′相同或不同的。
由下式(I)表示的接枝嵌段聚硅氧烷或者由下式(II)表示的嵌段聚硅氧烷也是优选使用的。
在式(I)和(II)中,n、p和q的每一个为1以上的整数。
有机聚硅氧烷的制备方法详细描述在WO2000/035994中。
并且,聚有机硅氧烷的商业产品的实例包括作为聚醚改性的聚二甲基硅氧烷的BYK-333(由BYK-Chemie制造),以及作为聚硅氧烷聚醚共聚物的TEGO GLIDE 410(可得自TegoChemie Service GmbH)。
基于上层的全部固体含量,根据本发明的图像记录层的上层中聚有机硅氧烷(D)的含量优选为0.01至10质量%,更优选0.03至5质量%,再更优选0.1至3质量%。
在以上范围内,该组分归因于低摩擦系数可以提高耐擦伤性并且起分散剂的作用,以促进聚氨酯树脂在显影液中的分散,作为结果,可以获得抑制显影浮渣的时间相关生成的效果。
此外,在根据本发明的上层组分中,可以组合使用另一种树脂,条件是不损害本发明的效果。尤其在非图像区中上层自身必须展现碱溶解性并且因此,必须选择不赋予该特性的树脂。
在上层含有水不溶性而碱溶性的聚氨酯的情况下,除聚氨酯之外,还可以组合使用另一种水不溶性而碱溶性的树脂。在组合使用另一种水溶性和碱溶性的树脂的情况下,其实例包括作为用于下层的必须组分描述的水不溶性而碱溶性的树脂(A)。
该结构可以与在下层中使用的树脂的结构相同或不同。
基于水不溶性而碱溶性的聚氨酯树脂(C′),与水不溶性而碱溶性的聚氨酯组合使用的另一种水不溶性而碱溶性的树脂的含量优选为50质量%以下。
此外,在根据本发明的上层组分中,可以加入红外线吸收剂,条件是不损害本发明的效果。通过加入至上层,可以防止在曝光过程中热对具有高热导率的金属基板的扩散,并且获得高感光度。可以类似地使用在(B)红外线吸收剂中描述的那些。
[其他组分]
如果需要,阳图型平版印刷版中图像记录层的上层和下层的每一个可以根据用途含有其他添加剂。
其他添加剂包括多种添加剂,但通常,将能够在热分解之前降低水不溶性而碱溶性的树脂在碱性显影液中的溶解性,但是通过热分解丧失其功能的溶解抑制剂加入至图像记录层的上层或下层中的至少任一个。
溶解抑制剂的实例包括盐、邻醌二叠氮化合物、芳族砜化合物和芳族磺酸酯化合物。该物质是热分解性的,并且在未分解的状态下,可以充分地降低水不溶性而碱溶性的树脂在碱性显影液中的溶解性,使得可以增强抑制图像区在显影液中溶解的效果。
作为溶解抑制剂的盐的实例包括重氮盐、铵盐、盐、碘盐、锍盐、硒盐和砷盐。
盐的优选实例包括S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal等,聚合物(Polymer),21,423(1980)和JP-A-5-158230中描述的重氮盐;美国专利4,069,055和4,069,056,以及JP-A-3-140140中描述的铵盐;D.C.Necker等,大分子(Macromlecules),17,2468(1984),C.S.Wen等,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,第478页,东京,十月(1988),以及美国专利4,069,055和4,069,056中描述的盐;J.V.Crivello等,大分子(Macromorecules),10(6),1307(1977),Chem.& amp;Eng.News,11月28日,第31页(1988),欧洲专利104,143,美国专利339,049和410,201,JP-A-2-150848和JP-A-2-296514中描述的碘盐;
J.V.Crivello等,Polymer J.17,73(1985),J.V.Crivello等,J.Org.Chem.,43,3055(1978),W.R.Watt等,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984),J.V.Crivello等,Polymer Bull.,14,279(1985),J.V.Crivello等,大分子(Macromorecules),14(5),1141(1981),J.V.Crivello等,J. Polymer Sci.,PolymerChem.Ed.,17,2877(1979),欧洲专利370,693、233,567、297,443和297,442,美国专利4,933,377、3,902,114、410,201、339,049、4,760,013、4,734,444和2,833,827,以及德国专利2,904,626、3,604,580和3,604,581中描述的锍盐;J.V.Crivello等,大分子 (Macromorecules),10(6),1307(1977),J.V.Crivello等,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)中描述的硒盐;和C.S.Wen等,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,第478页,东京,十月(1988)中描述的砷盐。
在这些中,重氮盐是优选的,并且作为重氮盐JP-A-5-158230中描述的那些是优选的。
盐的抗衡离子的实例包括四氟硼酸、六氟磷酸、三异丙基萘磺酸、5-磺基水杨酸、2,5-二甲基苯磺酸、2,4,6-三甲基苯磺酸、2-硝基苯磺酸、3-溴苯磺酸、2-氟癸酰基萘磺酸、十二烷基苯磺酸、1-萘酚-5-磺酸、2-甲氧基-4-羟基-5-苯甲酰基-苯磺酸和对甲苯磺酸。在这些中,烷基芳族磺酸如六氟磷酸,三异丙基萘磺酸和2,5-二甲基苯磺酸是优选的。
作为邻醌二叠氮化合物,作为具有一个以上邻醌二叠氮基团并且通过热分解在碱溶解性上增加的化合物的具有多种结构的化合物是优选的。当热分解时,邻醌二叠氮化物产生剥夺粘合剂的溶解抑制性的效果和将邻醌二叠氮化物自身改变为碱可溶物质的效果两者,并且因此,可以充当用于粘合剂的溶解促进剂。
对于加入至图像记录层的上层或下层的溶解抑制剂的量,基于向其加入的添加剂的层的全部固体含量,在将添加剂加入至下层的情况下,所加入的量优选为0.1至20质量%,更优选0.5至10质量%,并且在将添加剂加入至上层的情况下,所加入的量优选为0.1至30质量%,更优选0.5至20质量%。
并且,为了更加增强感光度的目的,可以将环状酸酐、苯酚或有机酸加入至图像记录层的上层和下层的任一个或两者。
环状酸酐的实例包括邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、马来酸酐、琥珀酸酐和均苯四甲酸酐。
苯酚的实例包括双酚A、对-乙氧基苯酚、2,4,4′-三羟基二苯甲酮、2,3,4-三羟基二苯甲酮、4-羟基二苯甲酮、4,4′,4″-三羟基三苯基甲烷和4,4′,3″,4″-四羟基-3,5,3′,5′-四甲基三苯基甲烷。
酸的实例包括磺酸、亚磺酸、烷基硫酸、膦酸、磷酸酯和羧酸,并且其具体实例包括对甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、对甲苯亚磺酸、乙基硫酸、苯基膦酸、苯基次膦酸、磷酸苯酯、磷酸二苯酯、苯甲酸、间苯二甲酸、己二酸、对甲苯甲酸、3,4-二甲氧基苯甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、4-环己烯-1,2-二羧酸、芥酸、月桂酸、正十一烷酸和抗坏血酸。
图像记录层的上层或下层中的环状酸酐、苯酚或有机酸的比例优选为0.05至20质量%,更优选0.1至15质量%,再更优选0.1至10质量%。
为了提高可涂布性,图像记录层的上层和下层中的任一个或两者可以含有表面活性剂如JP-A-62-170950中描述的含氟表面活性剂。基于用于图像记录层的上层或下层的涂布液组合物,表面活性剂的含量优选为0.01至1质量%,更优选0.05至0.5质量%。并且,为了增加对多种显影条件的处理稳定性,可以结合JP-A-62-251740和JP-A-3-208514中描述的非离子表面活性剂,以及JP-A-59-121044和JP-A-4-13149中描述的两性表面活性剂。
非离子表面活性剂的实例包括脱水山梨醇三硬脂酸酯、脱水山梨醇单棕榈酸酯、脱水山梨醇三油酸酯、硬脂酸单酸甘油酯和聚氧乙烯壬基苯基醚。两性表面活性剂的实例包括烷基二(氨基乙基)甘氨酸、烷基聚氨基乙基甘氨酸盐酸盐、2-烷基-N-羧基乙基-N-羟乙基咪唑啉甜菜碱和N-十四烷基-N,N-甜菜碱型。
用于图像记录层的上层或下层的涂布液组合物中的非离子表面活性剂和两性表面活性剂的含量优选为0.05至15质量%,更优选0.1至5质量%。
在图像记录层的上层和下层的任一个或两者中,可以结合用于在通过曝光加热之后立即获得可视图像的印出剂(print-out agent),以及作为图像着色剂的染料或颜料。代表性的印出剂是当通过曝光加热时能够释放酸的化合物(光酸释放剂)和能够形成盐的有机染料的组合。其具体实例包括JP-A-50-36209和JP-A-53-8128中描述的邻-萘醌二叠氮-4-磺酰卤与成盐有机染料的组合、以及JP-A-53-36223、JP-A-54-74728、JP-A-60-3626、JP-A-61-143748、JP-A-61-151644和JP-A-63-58440中描述的三卤甲基化合物和成盐有机染料的组合。三卤甲基化合物包括唑系化合物和三嗪系化合物,并且两种化合物都在随时间稳定性上出色并给出清晰的印出图像。
作为用于提高图像区的可见性的着色剂,可以使用多种染料。合适的染料包括油溶性染料和碱性染料。其具体实例包括亮绿、Oil Green BG、Oil Blue BOS、Oil Blue#603、Oil Black BY、Oil Black BS、Oil Black T-505(全部由Orient Chemical Industries,Co.,Ltd.制造)、维多利亚纯蓝、结晶紫(CI 42555)、甲基紫(CI 42535)、乙基紫、若丹明B(CI 145170B)、孔雀绿(CI 42000)和亚甲基蓝(CI 52015)。尤其是,JP-A-62-293247中描述的染料是优选的。
基于图像记录层的上层或下层的全部固体含量,染料的含量优选为0.01至10质量%,更优选0.1至3质量%。
此外,在图像记录层的上层和下层中的任一个或两者中,如果需要,可以加入用于对图像记录层赋予柔韧性等的增塑剂。增塑剂的实例包括丁基邻苯二甲酰、聚乙二醇、柠檬酸三丁酯、邻苯二甲酸二乙酯、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二己酯、邻苯二甲酸二辛酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三丁酯、磷酸三辛酯、油酸四氢糠基酯,以及丙烯酸或甲基丙烯酸的低聚物和聚合物。
<阴图型平版印刷版原版的图像记录层(光敏层)的形成>
阴图型平版印刷版原版的光敏层通过将上述所需组成组分的每一种分散或溶解在溶剂中以制备涂布液并涂布该溶液形成。这里所使用的溶剂的实例包括,但是不限于,甲基乙基酮、乙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸2-甲氧基乙酯、乙酸1-甲氧基-2-丙酯和γ-丁内酯。溶剂可以单独或作为混合物使用。涂布液的固体含量浓度优选为1至50质量%。
在涂布和干燥之后在载体上获得的光敏层的涂布量(固体含量)优选为0.3至3.0g/m2。对于涂布方法,可以使用多种方法。其实例包括棒涂机涂布、旋涂、喷涂、幕涂、浸涂、气刀刮涂、刮板涂布和辊涂。
<阳图型平版印刷版原版的图像记录层的形成>
可以通过以与阴图型平版印刷版原版的光敏层相同的方式涂布提供阳图型平版印刷版原版的图像记录层,并且当图像记录层是单层时涂布量(固体含量)的优选范围也与对于阴图型平版印刷版原版的光敏层所描述的相同。
在其中阳图型平版印刷版原版的图像记录层包含下层和上层的情况下,下层的涂布量(干燥之后的全部固体含量)优选为0.5至2.0g/m2,并且上层的涂布量(干燥之后的全部固体含量)优选为0.1至0.8g/m2
<保护层>
在阴图型平版印刷版原版中,优选将保护层(阻氧层)设置在光敏层上以便阻挡在曝光过程中抑制聚合反应的氧的扩散和侵入。作为可以用于保护层的材料,可以适当地选择并使用水溶性聚合物或水不溶性聚合物并且,如果需要,可以使用两种以上类型的聚合物的混合物。聚合物的具体实例包括聚乙烯醇、改性聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、水溶性纤维素衍生物和聚(甲基)丙烯腈。在这些中,优选使用在结晶性上相对出色的水溶性聚合物。具体地,在基础特性如阻氧性和通过显影的可移除性方面,使用聚乙烯醇作为主要组分产生最优选的结果。
用于保护层使用的聚乙烯醇可以部分地用酯、醚或缩醛取代,条件是它含有未取代的乙烯醇单元用于具有必须的阻氧性和水溶性。并且,聚乙烯醇可以部分地具有另一种共聚物组分。聚乙烯醇通过水解聚乙酸乙烯酯获得,并且具体地包括,例如,具有69.0至100摩尔%的水解度并且含有300至2,400个聚合重复单元的聚乙烯醇。其具体实例包括PVA-102、PVA-103、PVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-117H、PVA-120、PVA-124、PVA-124H、PVA-CS、PVA-CST、PVA-HC、PVA-203、PVA-204、PVA-205、PVA-210、PVA-217、PVA-220、PVA-224、PVA-235、PVA-217EE、PVA-217E、PVA-220E、PVA-224E、PVA-403、PVA-405、PVA-420、PVA-424H、PVA-505、PVA-617、PVA-613、PVA-706和L-8,全部由Kuraray Co.,Ltd.制造。可以单独地或者作为混合物使用这些聚乙烯醇。在一个优选的实施方案中,保护层中的聚乙烯醇的含量为20至95质量%,更优选30至90质量%。
此外,也可以优选使用已知的改性聚乙烯醇。其中,优选使用具有羧酸基或磺酸基的酸改性的聚乙烯醇。其特别优选的实例包括JP-A-2005-250216和JP-A-2006-259137中描述的聚乙烯醇。
在通过与另一种材料混合使用聚乙烯醇的情况下,从阻氧性和通过显影的可移除性的角度,所混合的组分优选为改性聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮或其改性产物。其在保护层中的含量优选为3.5至80质量%,更优选10至60质量%,再更优选15至30质量%。
作为用于保护层的另外的组合物,可以将甘油,二丙二醇等以对应于基于(共)聚合物数个质量%的量加入以便赋予柔韧性。此外,可以将阴离子表面活性剂如烷基硫酸钠和烷基磺酸钠,两性表面活性剂如烷基氨基羧酸盐和烷基氨基二羧酸盐,或非离子表面活性剂如聚氧乙烯烷基苯基醚以基于(共)聚合物数个质量%的量加入。
此外,为了增强阻氧性和保护光敏层表面的效果的目的,还优选的是将无机层状化合物结合至保护层中。在无机层状化合物中,作为合成无机层状化合物的氟系可溶胀合成云母是特别有用的。其特定优选的实例包括JP-A-2005-119273中描述的无机层状化合物。
以干燥之后的涂布量计,保护层的涂布量优选为0.05至10g/m2。在含有无机层状化合物的情况下,涂布量更优选为0.1至5g/m2,并且在不含有无机层状化合物的情况下,涂布量更优选为0.5至5g/m2
[亲水性载体]
对在平版印刷版原版中使用的亲水性载体没有特别地限定,并且如果它是具有亲水性表面的尺寸稳定的板状载体就可以是足够的。尤其是,铝板是优选的。在使用之前,优选对铝板进行表面处理如粗糙化处理和阳极氧化处理。铝板表面的粗糙化处理通过多种方法进行,并且其实例包括机械粗糙化处理、电化学粗糙化处理(电化学地溶解表面的粗糙化处理)和化学粗糙化处理(化学地选择性溶解表面的粗糙化处理)。关于这些处理,优选使用在JP-2007-206217的第[0241]至[0245]段中描述的方法。
载体的中心线平均粗糙度优选为0.10至1.2μm。在该范围内,获得对图像记录层良好的附着性、良好的印刷寿命和良好的耐污性。
以反射密度值计,载体的色彩密度优选为0.15至0.65。在该范围内,可以获得归因于图像曝光过程中晕光的防止的良好的图像可形成性和在显影之后良好的检板适用性。
载体的厚度优选为0.1至0.6mm,更优选0.15至0.4mm,再更优选0.2至0.3mm。
[载体和下涂层的亲水性化处理]
在平版印刷版原版中,为了增加非图像区的亲水性并防止印刷污染,还优选的是对载体表面进行亲水性化处理或在载体与图像记录层之间设置下涂层。
用于载体表面的亲水性化处理的实例包括在硅酸钠等的水溶液中对载体进行浸渍处理或电解处理的碱金属硅酸盐处理方法,用氟锆酸钾处理载体的方法,以及用聚乙烯基膦酸等处理载体的方法。优选使用用碱金属硅酸盐或有机膦酸中的至少任一种表面处理载体的方法。
作为下涂层,优选使用含具有酸基如膦酸、磷酸和磺酸的化合物的下涂层。该化合物优选还含有可聚合基团以便增强对图像记录层的附着。可聚合基团优选为烯键式不饱和键基团。还具有赋予亲水性的基团如亚乙氧基的化合物也是优选的化合物。这种化合物可以是低分子量化合物或高分子量聚合物。并且,如果需要,可以作为混合物使用这些化合物的两种以上。
化合物的优选实例包括JP-A-10-282679中描述的具有可加成聚合烯键式不饱和键基团的硅烷偶联剂和JP-A-2-304441中描述的具有烯键式不饱和键基团的磷化合物。此外,也优选使用JP-A-2005-238816、JP-A-2005-125749、JP-A-2006-239867和JP-A-2006-215263中描述的含有具有交联基团(优选烯键式不饱和键基团)、能够与载体表面相互作用的官能团以及亲水性基团的低分子量或聚合物化合物的化合物。
通过已知方法涂布下涂层。下涂层的涂布量(固体含量)优选为0.1至100mg/m2,更优选1至30mg/m2
[背涂层]
在本发明的平版印刷版原版中,如果需要,可以将背涂层设置在载体的背表面上,并且可以例如在将表面处理应用至载体或形成下涂层之后将背涂层设置在载体的背表面上。
背涂层的优选实例包括包含JP-A-5-45885中描述的有机聚合物化合物,或者JP-A-6-35174中描述的通过水解并缩聚有机金属化合物或无机金属化合物获得的金属氧化物的涂层。尤其是,从原材料廉价并且易得的角度,使用硅的烷氧基化合物,如Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4和Si(OC4H9)4是优选的。
本发明的印刷方法的特征在于通过上述平版印刷版的制版方法制备平版印刷版并且使用该平版印刷版进行印刷。对用于印刷的方法没有特别地限定,除了使用通过本发明的平版印刷版的制版方法获得的平版印刷版进行印刷,并且可以采用已知的印刷方法。
在本发明的说明书中,印刷是指从将平版印刷版装载在印刷机上之后一系列的操作。
本发明的印刷方法在平版印刷版的制造之后直至开始印刷之前优选不包括水洗步骤。在这种情况下,不单独地设置水洗步骤,例如,作为印刷的预处理,以使得可以更容易地进行印刷。
并且,在本发明的印刷方法中,优选的是通过本发明的平版印刷版的制版方法制备的平版印刷版在不通过水洗步骤的情况下制备,并且使用该平版印刷版,在平版印刷版的制备之后直至开始印刷之前不包括水洗步骤的情况下进行印刷(换言之,该实施方案意指平版印刷版在平版印刷版原版的曝光步骤之后通过显影步骤制备,并且在将平版印刷版安装在印刷机上之前绝对不包括水洗步骤)。借助于这样的实施方案,通过使用在可显影性和显影浮渣的可分散性上出色并且非图像区污染减少的平版印刷版,即使通过一种溶液和一个步骤的简单处理也可以更容易地进行印刷。
实施例
下面通过参考实施例更详细地描述本发明,但本发明不应被理解为限定于此。关于聚合物化合物,重复单元的比例是摩尔比,并且分子量是质均分子量。
<载体1的制备>
将具有0.3mm的厚度的铝板在60℃浸渍在10质量%氢氧化钠水溶液中25秒以进行侵蚀,用流水洗涤,用20质量%硝酸水溶液中和并且清洁并且之后用水洗涤。通过使用具有正弦波形交流电以300库仑/dm2的阳极时间电在1质量%硝酸水溶液中对铝板进行电解表面粗糙化处理。随后,将铝板浸渍在40℃的1质量%氢氧化钠水溶液中5秒,进一步浸渍在30质量%硫酸水溶液中以在60℃进行去污处理40秒,并且之后在2A/dm2的电流密度的条件下在20质量%硫酸水溶液中阳极氧化2分钟,以给出具有2.7g/m2的厚度的阳极氧化物膜。测量其表面粗糙度,并且发现其为0.28μm(根据JIS B0601的Ra表示)。将这样获得的载体指定为载体1。
<载体2的制备>
将载体1进一步浸渍在53℃的处理溶液中10秒,该溶液通过将0.4重量%的聚乙烯基膦酸(由PCAS制造)溶解在纯水中获得,并且通过夹持辊将过量的处理溶液移除。其后,将载体用以20至400ppm的浓度含有钙离子的井水在60℃洗涤4秒并且之后用纯水在25℃洗涤4秒,并且通过夹持辊移除过量的纯水。在随后的干燥步骤中,完全移除铝板上的水。将这样获得的载体指定为载体2。
<载体3的制备>
将具有0.24mm的厚度的铝板(材料:1050,精炼:H16)浸没在保持在65℃的5质量%氢氧化钠水溶液中1分钟以实现脱脂处理,并且之后用水洗涤。将脱脂的铝板浸没在保持在25℃的10质量%盐酸水溶液中1分钟以实现中和并且之后用水洗涤。随后,通过使用交流电在100A/dm2的电流密度的条件下对铝板在0.3质量%盐酸水溶液中在25℃进行电解表面粗糙化60秒,并且之后在保持在60℃的5质量%氢氧化钠水溶液中去污处理10秒。在10A/dm2的电流密度和15V的电压的条件下将在去污处理之后的表面粗糙化的铝板在15质量%硫酸水溶液中在25℃阳极氧化1分钟,并且之后使用1质量%聚乙烯基膦酸水溶液在75℃进行亲水性化处理以制备载体。测量其表面粗糙度,并且发现其为0.44μm(根据JISB0601的Ra表示)。将这样获得的载体指定为载体3。
<载体4的制备>
在30℃的温度将载体1进一步浸渍在含有1质量%3号硅酸钠水溶液的处理槽中10秒以进行亲水性化处理(硅酸盐处理),并且之后通过喷雾水洗。这样获得的载体被指定为载体4。
[阴图型平版印刷版原版的制备]
<平版印刷版原版1的制备>
<光敏层1的形成>
将具有以下组成的光敏层涂布液(1)棒涂在载体2上,并且之后在烘箱中在90℃干燥60秒以形成具有1.3g/m2的干涂布量的光敏层1。
<光敏层涂布液(1)>
粘合剂聚合物(1)
(酸值=85mgKOH/g)
可聚合化合物(1)
[以上同分异构体的混合物]
增感染料(1)
聚合引发剂(1)
链转移剂(1)
含氟表面活性剂(1)
<保护层1的形成>
将具有以下组成的保护层涂布液(1)棒涂在光敏层1上以具有1.5g/m2的干涂布量,并且之后在125℃干燥70秒以形成保护层,借此获得平版印刷版原版1。
<保护层涂布液(1)>
(云母液体分散体(1)的制备)
将32g的合成云母(SOMASIF ME-100,由CO-OP化学制造,纵横比:1,000以上)加入至368g的水,并且使用均化器分散直至平均粒径(激光散射方法)成为0.5μm,以获得云母分散体(1)。
<平版印刷版原版2的制备>
<光敏层2的形成>
将具有以下组成的光敏层涂布液(2)棒涂在载体3上,并且之后在烘箱中在90℃干燥60秒,以形成具有1.3g/m2的干涂布量的光敏层2。
<光敏层涂布液(2)>
粘合剂聚合物(2)(酸值=66mgKOH/g)
可聚合化合物(2)
增感染料(2)
增感染料(3)
增感染料(4)
<保护层2的形成>
将具有以下组成的保护层涂布液(2)通过使用棒涂布在光敏层1上以具有1.2g/m2的干涂布量,并且之后在125℃干燥70秒以形成保护层,借此获得平版印刷版原版2。
<保护层涂布液(2)>
<平版印刷版原版3的制备>
<下涂层1的制备>
将如下所示的下涂层溶液(1)通过使用棒涂机涂布在载体4上,并且之后在80℃干燥15秒以产生下涂层1。干燥之后下涂层的涂布量为15mg/m2
-下涂层溶液(1)-
β-丙氨酸     0.5g
甲醇          95g
水            5g
<光敏层3的形成>
在将下涂层(1)涂布并干燥在载体4上之后,通过棒涂机涂布具有以下组成的下层涂布液以具有1.5g/m2的涂布量,之后在160℃干燥44秒,并且立即用冷空气在17至20℃冷却直至载体温度降低至35℃。
-下层涂布液-
花青染料A
其后,通过棒涂机涂布具有以下组成的上层涂布液以具有0.5g/m2的涂布量,之后在130℃干燥40秒,并且此外,用空气在20至26℃缓慢地冷却以制备平版印刷版原版3。
-上层涂布液-
<聚氨酯树脂(1)>
[聚氨酯树脂(1)的合成]
在500-ml三颈烧瓶中,将以下四种类型的化合物按以下比例溶解在二烷中。在加入1g的N,N-二乙苯胺之后,将混合物在二烷中回流下搅拌6小时。在反应之后,将反应产物逐渐加入至含有4L的水和40ml的乙酸的溶液,从而使聚合物沉淀。将该固体在真空中干燥以获得185g的聚氨酯树脂(1)。其酸含量为2.47meq/g。通过GPC测量分子量,作为结果,质均分子量(聚苯乙烯基准)为28,000。
<平版印刷版原版4的制备>
<下涂层2的形成>
将具有以下组成的下涂层溶液(2)棒涂在载体1上,并且之后在烘箱中在80℃干燥20秒以具有10mg/m2的干涂布量,借此形成下涂层2。
下涂层溶液(2):
如下所示的溶胶溶液 100g
甲醇               900g
溶胶溶液:
在涂布并干燥下涂层2之后,棒涂具有以下组成的光敏层涂布液(4),并且之后在烘箱中在90℃干燥60秒以形成具有1.3g/m2的干涂布量的光敏层4。
<光敏层4的形成>
<光敏层涂布液(4)>
链转移剂(2)
将具有以下组成的保护层涂布液(3)通过使用棒涂布在光敏层4上以具有1.5g/m2的干涂布量,并且之后在125℃干燥70秒以形成保护层,借此获得平版印刷版原版4。
<保护层涂布液(3)>
<平版印刷版原版5的制备>
<下涂层3的形成>
通过使用棒涂机将具有以下组成的下涂层溶液(3)涂布在载体1上,并且之后在80℃干燥15秒以制备下涂层3。在干燥之后下涂层的涂布量为15mg/m2
下涂层溶液(3):
如下所示的聚合物(SP1)    0.87g
如下所示的聚合物(SP2)   0.73g
纯水                    1000.0g
聚合物(SP1)
聚合物(SP2)
<光敏层5的形成>
将具有以下组成的光敏层涂布液(5)棒涂在下涂层3上,并且在热空气干燥装置中在125℃干燥34秒以形成具有1.4g/m2的干涂布量的光敏层5。
<光敏层涂布液(5)>
在光敏层涂布液(5)中使用的红外线吸收剂(IR-1)、聚合引发剂A(S-1)、聚合引发剂B(I-2)、巯基化合物(E-1)、可聚合化合物(M-2)、粘合剂(B-1)、添加剂(T-1)、聚合抑制剂(Q-1)和乙基紫(EV-1)的结构如下所示。
通过使用棒将保护层涂布液(1)涂布在光敏层5上以具有1.2g/m2的干涂布量,并且之后在125℃干燥70秒以形成保护层(1),从而获得平版印刷版原版5。
<平版印刷版原版6的制备>
除了将平版印刷版原版1的载体由载体2换为载体3之外,以与平版印刷版原版1相同的方式获得平版印刷版原版6。
<平版印刷版原版7的制备>
除了将平版印刷版原版3的载体由载体4换为载体1之外,以与平版印刷版原版3相同的方式获得平版印刷版原版7。
<显影液的制备>
制备具有以下组成的显影液以获得显影液CD-1。
*通过适当地加入磷酸将具有以上组成的显影液调节至9.8的pH。
制备含有下面的表1中所示的糖或水溶性化合物的显影液以获得显影液CD-2至CD-6、CD-22和D-1至D-11。
制备具有在下面的表2中所示的组成和pH的显影液以获得显影液CD-7至CD-9和D-12至D-14。
制备具有在下面的表3中所示的组成和pH的显影液以获得显影液CD-10至CD-18和D-15至D-21。
制备具有在下面的表4中所示的组成和pH的显影液以获得显影液CD-19、CD-20、D-26至D-31和D-40至D-44。
制备具有在下面的表5中所示组成和pH的显影液以获得显影液CD-21和D-32至D-39。
表2:显影液CD-7至CD-9和D-12至D-14(单位:g)
[实施例1至47和比较例1至27]
(1)曝光、显影和印刷
[阴图型平版印刷版原版的曝光]
将平版印刷版原版1、2、4和6的每一个使用由FUJIFILM ElectronicImaging Ltd.制造的紫色半导体激光器版定位器(Plate Setter)Vx9600(配备有InGaN系半导体激光器,发射:405nm±10nm/输出功率:30mW)图像式曝光。使用由富士胶片公司(FUJIFILM CORPORATION)制造的FM屏(TAFFETA 20)以2,438dpi的分辨率在50%的网点和0.03mJ/cm2的版表面曝光量的条件下进行图像绘制(曝光条件1)。
将平版印刷版原版5通过配备有水冷却40W红外半导体激光器的由Creo Co.制造的Trendsetter 3244VX在9W的输出功率,210rpm的外鼓旋转速度和2,400dpi的分辨率的条件下图像式曝光。通过使用50%的方点作为曝光图案并且将版表面曝光量设定为60mJ/cm2进行曝光(曝光条件2)。
[阴图型平版印刷版原版的显影]
将平版印刷版原版1、2、5和6如下显影。
使用表6中所示的显影液在具有图1中所示的结构的自动显影处理机中以使得在100℃的预热时间变为10秒并且在显影液中的浸渍时间(显影时间)变为20秒的输送速度进行显影处理。将在通过干燥单元之后的版表面温度调节至成为通过辐射温度计以非接触方式测量的80℃,并且将通过干燥单元之后在版表面的中心获得的温度调节至成为通过辐射温度计以非接触方式测量的40℃。加热时间(通过干燥单元花费的时间)为7.4秒(显影条件1)。
将平版印刷版原版4如下显影。在具有图2中所示的结构的自动显影处理机中通过以下方式进行显影处理:将表6中所示的显影液不仅装至显影浴也装至润饰液单元,设定输送速度以使得显影浴中的显影液中的浸渍时间和接受润饰液单元中显影液的提供所花费的时间的总和(显影时间)成为20秒,并且以水洗关闭模式操作输送辊对和干燥装置。其他设置与显影条件1中的相同(显影条件2)。
[阳图型平版印刷版原版的曝光]
使用曝光装置(TRENDSETTER F,由Kodak制备)曝光平版印刷版原版3和7(激光功率:8.5W,旋转速度:185rpm)(曝光条件3)。
通过使用50%的方点作为曝光图案并且将版表面曝光量设定为100mJ/cm2进行曝光。
[阳图型平版印刷版原版的显影]
在显影条件1下使用表6中所示的显影液将平版印刷版原版3和7显影。
[印刷]
将显影之后的平版印刷版安装在由Heidelberger制造的印刷机SOR-M上,并且使用润版液(EU-3(刻蚀剂,由Fujifilm Corporation制造)/水/异丙醇=1/89/10(以体积计))和黑色墨TRANS-G(N)(由Dainippon Inkand Chemicals,Inc.制造)以每小时6,000张的印刷速度进行印刷。
(2)评价
<显影液的pH>
为了评价显影液的pH随时间的波动,在刚制备之后以及在从制备之后在室温下将在暗处经过2个月之后使用pH计测量显影液的pH。
[成膜性]
<非图像区的擦伤污染倾向>
作为载体表面上归因于显影液中含有的糖或水溶性聚合物化合物的成膜性的指标,评价平版印刷版表面在显影处理之后的擦伤污染倾向。在耐擦伤性的评价中,将0.3R金刚石针固定至由Shinto Scientific Co.,Ltd.制备的擦伤测试器,并且将用表1至5中所示的显影液处理之后的版表面在20g、50g、75g、100g、150g和200g的负载下划擦。随后,将划擦后的平版印刷版安装在由Heidelberger制造的印刷机SOR-M上,并且使用润版液(EU-3(刻蚀剂,由Fujifilm Corporation制造)/水/异丙醇=1/89/10(以体积计))和黑色墨TRANS-G(N)(由Dainippon Ink and Chemicals,Inc.制造)以每小时6,000张的印刷速度进行印刷。检查归因于每次划擦的污染存在还是不存在,并且估计产生擦伤污染的负载的g数。
<粘性>
作为载体表面上归因于显影液中含有的糖或水溶性聚合物化合物的成膜性的指标,在显影处理之后基于以下标准进行平版印刷版表面上粘性的感官评价。
对于版的粘性,将每个显影液装入至自动显影处理机中,并且用手触摸在500m2的处理之后最终的平版印刷版原版的表面以感官评价粘性。由10个操作者评价版表面上的粘性。当对于10个操作者,判断为令人不快的粘性的操作者的数目为10个中的2个时将版评定为A,当为10个中的3至4个时评定为B,并且当为10个中的5个以上时评定为C。
[印刷版性能]
<可显影性>
根据表6中所示的组合,如上曝光平版印刷版原版1至7,并且使用显影液CD-1至CD-22、D-1至D-21和D-26至D-44曝光。在显影处理之后,用肉眼检查平版印刷版的非图像区,并且评价图像记录层(光敏层)的残留。该评价在以下时间进行:(1)在显影液的制备之后立即,(2)从显影液的制备之后在室温在暗处静置2个月之后,和(3)通过使用从显影液的制备之后在暗处在室温静置2个月之后的显影液,在平版印刷版原版的以每1升的显影液显影处理20m2(运行处理)之后。
根据以下标准进行评价:
A:良好的可显影性,没有光敏层的残留,B:光敏层略微残留,但在可显影性上没有问题,和C:显影不良,光敏层残留。
<显影浮渣的可分散性>
用肉眼检查使用在以上可显影性的评价中的运行处理之后的显影液进行显影处理的平版印刷版的非图像区,并且评价显影浮渣的附着存在还是不存在。
根据以下标准进行评价:
A:每1m2无可见的浮渣附着;B:每1m2有1至3个可见浮渣附着;和C:每1m2有4个以上可见浮渣附着。
[印刷性能]
<耐污性>
对在以上可显影性的评价中使用的平版印刷版进行如上所述的印刷,并且评价最初500张印刷材料的非图像区的污染倾向。
通过以下等级评价非图像区的污染倾向:
C:当第500张的非图像区具有油墨污染时,
B:当第100张的非图像区具有油墨污染并且第500张的非图像区不具有油墨污染时,
A:当第30张的非图像区具有油墨污染并且第100张的非图像区不具有油墨污染时,并且
AA:当第30张的非图像区不具有油墨污染时。
这些评价结果在表6中给出。
从pH稳定性的结果看出,含具有带还原性末端的组分的糖的显影液在随时间的pH上降低,但含有非还原性糖(不具有还原性末端)的显影液防止了pH上的降低。
并且,在非还原性糖中,与含有特定非还原性糖的显影液比较,在其中对应于单糖的分子量为200以下的糖醇的情况下,非图像区的耐擦伤性和显影之后版表面上的粘性差,并且这显示成膜性低。
可以看出具有大分子量的糖和通过对磷酸改性的淀粉进行还原处理并且从而将其转化为非还原性糖获得的化合物在耐污性上出色。
在含有非还原性还原淀粉糖化产物的显影液中,无论刚制备之后的pH如何,pH在从制备过后2个月之内几乎不降低。另一方面,在含具有还原性末端的阿拉伯胶的显影液中,pH随着2个月的经过而降低,但是因为pH较低,pH的降低减少,并且当pH为5.5时,没有差别。未分析其原因的细节,但这被认为是因为还原反应当体系更加碱性时更多进行的结果。
因此,所明白的是由于非还原性糖而防止pH减低的效果在6至14的pH范围内产生。并且,在pH上降低的显影液不仅在可显影性上而且在耐污性上差。
可以看出不仅通过两性(甜菜碱)表面活性剂,而且通过阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂也获得与两性(甜菜碱)表面活性剂相同的效果。
所明白的是关于防止pH随时间降低和防止可显影性和耐污性的劣化的效果,含有特定非还原性糖的显影液在含有水溶性胺化合物和胺化合物的离子的处理过程中也产生与上面相同的效果。
可以看出关于防止可显影性和耐污性随时间的劣化的效果,含有特定非还原性糖的显影液在阳图型平版印刷版原版上也产生与上面相同的效果。
可以看出,关于防止可显影性和耐污性随时间的劣化的效果,含有特定非还原性糖的显影液在热阴图型平版印刷版原版上也产生与上面相同的效果。
可以看出,在使用Si处理过的载体的平版印刷版原版上也获得如上相同的效果。
可以看出,在耐污性方面,糖优于以聚乙烯醇为代表的亲水性树脂。
如从这些结果证明的,本发明的显影液具有随时间稳定的pH和出色的成膜性,使得能够进行一种溶液和不需要水洗步骤的一个步骤的简单处理,因为高可显影性和高显影浮渣的可分散性,使得它可以抑制非图像区的污染,并且可以提供能够制备出色的平版印刷版的方法。
工业实用性
根据本发明,可以提供具有随时间稳定的pH并且具有出色的成膜性的显影液。并且,归功于该显影液,可以提供平版印刷版的制备方法,其确保即使通过一种溶液和不需要水洗步骤的一个步骤的简单处理,也可以制备在可显影性和显影浮渣的可分散性上出色并且防止非图像区受到污染的平版印刷版,以及通过使用该平版印刷版的制备方法进行印刷的印刷方法。
虽然详细并且参考其特定实施方案描述了本发明,对本领域技术人员显见的是在其中可以进行多种变更和修改而不脱离本发明的精神和范围。
本申请基于2010年3月31日提交的日本专利申请(专利申请号2010-084414),其内容通过引用的方式结合在此。
附图标记和符号描述
11:用于平版印刷版原版的输送路径
50:外部槽
51:溢流开口
52:上限液位计
53:下限液位计
54:过滤器单元
55:显影液供给泵
71:补充用水槽
72:水补充泵
100:自动显影处理机
101:输送辊对
102:输送辊对
103:旋转刷辊
104:输送辊对
105:输送辊对
106:旋转刷辊
107:旋转刷辊
108:输送辊对
109:输送辊对
110:接收辊
111:输送辊对
112:输送辊对
113:输送辊对
200:预热单元
202:机架
208:加热室
210:斜辊
212:输入口
214:加热器
216:循环扇
218:输出口
300:显影单元
304:插入辊对
306:处理槽
308:显影槽
310:外面板
312:缝状插入口
316:浸入式辊对
318:送出辊对
322:刷辊对
324:遮蔽盖
326:刷辊对
330:喷管
332:隔板
334:缝状插入口
336:液温传感器
338:液位计
342:导向部件
344:导向辊
400:干燥单元
402:支持辊
404:排出口
406:输送辊对
408:输送辊对
410:导管
412:导管
414:狭缝孔
C1:第一循环管路
C2:第二循环管路
C3:第三循环管路

Claims (5)

1.一种印刷方法,所述方法包括:
通过用于制备平版印刷版的方法制备平版印刷版,其中所述用于制备平版印刷版的方法包括:图像式曝光阴图型平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括亲水性载体,所述亲水性载体在其上按以下顺序具有光敏层和保护层,所述光敏层含有(i)聚合引发剂、(ii)可聚合化合物和(iii)粘合剂聚合物;以及使用用于处理平版印刷版原版的显影液,移除所述保护层和未曝光区的所述光敏层并且进行胶溶液处理,所述用于处理平版印刷版原版的显影液包含其中结合有两种以上单糖的非还原性糖,并且具有6至14的pH,其中所述非还原性糖是具有1,000以上的分子量的还原淀粉糖化产物,并且所述非还原性糖具有选自酸基和阳离子基的吸附基团,
以及通过使用所述平版印刷版进行印刷,其中所述印刷是指从将所述平版印刷版装载在印刷机上之后一系列的操作。
2.如权利要求1所述的印刷方法,其中基于显影液的质量,所述显影液中还原性糖的含量为1.5质量%以下。
3.如权利要求1或2所述的印刷方法,其中在所述平版印刷版原版的图像曝光步骤与所述平版印刷版通过显影处理步骤的制备的完成之间不含有水洗步骤。
4.如权利要求1或2所述的印刷方法,其中所述平版印刷版原版的所述亲水性载体是用碱金属硅酸盐和有机膦酸中的至少任一种表面处理过的铝载体。
5.如权利要求1或2所述的印刷方法,所述方法在制备所述平版印刷版之后直至开始印刷之前不包括水洗步骤。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102722092A (zh) * 2012-06-06 2012-10-10 乐凯华光印刷科技有限公司 一种适用于光聚合型平版印刷版的显影液
BR112018068709A2 (pt) * 2016-03-16 2019-01-15 Agfa Nv método para processar uma chapa de impressão litográfica
CN106313870B (zh) * 2016-08-19 2018-06-15 浙江康尔达新材料股份有限公司 一种可成像涂层、热敏阴图平版印刷版及其制版方法
CN106227003A (zh) * 2016-09-29 2016-12-14 杭州格林达化学有限公司 一种显影液组合物及其制备方法
JP7022128B2 (ja) * 2016-11-16 2022-02-17 ミラクロン コーポレーション フレキソ印刷用現像液および使用法
JP6942799B2 (ja) 2017-05-31 2021-09-29 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
CN107340693B (zh) * 2017-09-04 2019-03-05 惠州威尔高电子有限公司 一种用于印制电路板的干膜显影液及其制备方法
CN109407477A (zh) * 2018-11-13 2019-03-01 南通赛可特电子有限公司 一种显影液及其制备方法
CN118265756A (zh) * 2021-11-12 2024-06-28 默克专利有限公司 组合物
WO2023237571A1 (en) * 2022-06-10 2023-12-14 Merck Patent Gmbh Composition comprising two different surfactants
KR20240005483A (ko) * 2022-07-05 2024-01-12 삼성에스디아이 주식회사 금속 함유 포토레지스트 현상액 조성물, 및 이를 이용한 현상 단계를 포함하는 패턴 형성 방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1511712A (zh) * 2002-12-27 2004-07-14 富士胶片株式会社 平版印刷版原版
JP2007038483A (ja) * 2005-08-02 2007-02-15 Fujifilm Corp 平版印刷方法および平版印刷版原版
CN101223480A (zh) * 2005-07-11 2008-07-16 伊斯曼柯达公司 平版印刷版原版及使用其的图像形成方法
EP2080616A1 (en) * 2008-01-21 2009-07-22 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor

Family Cites Families (157)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US410201A (en) 1889-09-03 Bent for suspension-bridges
US339049A (en) 1886-03-30 Sole-edge-burnishing
GB434875A (en) 1933-02-08 1935-09-05 Bela Gasper An improved method of producing multi-colour photographic images on coloured and differently sensitized multi-layer photographic material
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
US3902114A (en) 1967-10-20 1975-08-26 Gunther Alich Method of and apparatus for measuring the distance between cooperating rollers of a rolling mill
JPS4841708B1 (zh) 1970-01-13 1973-12-07
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
CA990722A (en) 1971-08-25 1976-06-08 Yoshinobu Murakami Organic photoconductive layer sensitized with trimethine compound
DE2331377C2 (de) 1973-06-20 1982-10-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Kopiermaterial
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US4123279A (en) 1974-03-25 1978-10-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive o-quinonediazide containing planographic printing plate
GB1512981A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Curable epoxide compositions
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
JPS5311314B2 (zh) 1974-09-25 1978-04-20
JPS538128A (en) 1976-07-09 1978-01-25 Fuji Photo Film Co Ltd Photosolubilizable composition
DE2641100C2 (de) 1976-09-13 1987-02-26 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
JPS5474728A (en) 1977-11-28 1979-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
US4173476A (en) 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
US4252887A (en) 1979-08-14 1981-02-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
US4283475A (en) 1979-08-21 1981-08-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Pentamethine thiopyrylium salts, process for production thereof, and photoconductive compositions containing said salts
US4327169A (en) 1981-01-19 1982-04-27 Eastman Kodak Company Infrared sensitive photoconductive composition, elements and imaging method using trimethine thiopyrylium dye
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4410621A (en) 1981-04-03 1983-10-18 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
JPS58112793A (ja) 1981-12-28 1983-07-05 Ricoh Co Ltd 光情報記録部材
JPS58112792A (ja) 1981-12-28 1983-07-05 Ricoh Co Ltd 光情報記録部材
JPS58125246A (ja) 1982-01-22 1983-07-26 Ricoh Co Ltd レ−ザ記録媒体
JPS58173696A (ja) 1982-04-06 1983-10-12 Canon Inc 光学記録媒体
JPS58220143A (ja) 1982-06-16 1983-12-21 Canon Inc 有機被膜
JPS58181690A (ja) 1982-04-19 1983-10-24 Canon Inc 光学記録媒体
JPS58181051A (ja) 1982-04-19 1983-10-22 Canon Inc 有機光導電体
JPS58194595A (ja) 1982-05-10 1983-11-12 Canon Inc 光学記録媒体
JPS5948187A (ja) 1982-09-10 1984-03-19 Nec Corp 光学記録媒体
JPS58224793A (ja) 1982-06-25 1983-12-27 Nec Corp 光学記録媒体
JPS5984248A (ja) 1982-11-05 1984-05-15 Canon Inc 有機被膜
JPS5984249A (ja) 1982-11-05 1984-05-15 Canon Inc 有機被膜
JPS5941363A (ja) 1982-08-31 1984-03-07 Canon Inc 新規ピリリウム系染料およびその製造方法
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
JPS5956403A (ja) 1982-09-27 1984-03-31 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合性組成物
JPS5973996A (ja) 1982-10-22 1984-04-26 Nec Corp 光学記録用媒体
JPS5984356A (ja) 1982-11-05 1984-05-16 Ricoh Co Ltd 光デイスク原盤の作成方法
JPS59121044A (ja) 1982-12-27 1984-07-12 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS59146061A (ja) 1983-02-09 1984-08-21 Canon Inc 有機被膜
JPS59146063A (ja) 1983-02-09 1984-08-21 Canon Inc 有機被膜
JPS59202829A (ja) 1983-05-04 1984-11-16 Sanpo Gokin Kogyo Kk 合成樹脂製品の射出成型金型
JPS59216146A (ja) 1983-05-24 1984-12-06 Sony Corp 電子写真用感光材料
JPS603626A (ja) 1983-06-22 1985-01-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6063744A (ja) 1983-08-23 1985-04-12 Nec Corp 光学的情報記録媒体
JPS6052940A (ja) 1983-09-02 1985-03-26 Nec Corp 光学記録媒体
JPS6078787A (ja) 1983-10-07 1985-05-04 Ricoh Co Ltd 光学的情報記録媒体
JPS61143748A (ja) 1984-12-17 1986-07-01 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS61151644A (ja) 1984-12-26 1986-07-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6259963A (ja) 1985-09-10 1987-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光材料
JPS6256971A (ja) 1985-09-05 1987-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光材料
JPH083630B2 (ja) 1986-01-23 1996-01-17 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US4756993A (en) 1986-01-27 1988-07-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor with light scattering layer or light absorbing layer on support backside
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
JPH0743501B2 (ja) 1986-04-24 1995-05-15 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版
JPH065384B2 (ja) 1986-06-12 1994-01-19 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
JPS6358440A (ja) 1986-08-29 1988-03-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
US5156938A (en) 1989-03-30 1992-10-20 Graphics Technology International, Inc. Ablation-transfer imaging/recording
JPH02296514A (ja) 1989-05-12 1990-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 車両用サスペンション制御装置
JP2655349B2 (ja) 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2845995B2 (ja) 1989-10-27 1999-01-13 株式会社日立製作所 領域抽出手法
JPH03208514A (ja) 1990-01-04 1991-09-11 Nippon Steel Corp 塗装鋼板の切断方法
JP2639741B2 (ja) 1990-05-02 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP2988756B2 (ja) 1991-04-26 1999-12-13 協和醗酵工業株式会社 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物
JP2739395B2 (ja) 1991-08-19 1998-04-15 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPH05158230A (ja) 1991-12-10 1993-06-25 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP2907643B2 (ja) 1992-07-16 1999-06-21 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版およびその処理方法
EP0680626B1 (en) 1993-01-20 1999-06-16 Agfa-Gevaert N.V. Photopolymerizable composition of high sensitivity and method for obtaining images therewith
JP3461377B2 (ja) 1994-04-18 2003-10-27 富士写真フイルム株式会社 画像記録材料
JP3642845B2 (ja) 1995-03-06 2005-04-27 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版用現像液
JPH09179298A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179297A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179296A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JP3690761B2 (ja) * 1996-04-04 2005-08-31 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の処理方法
JPH104778A (ja) 1996-06-22 1998-01-13 Terada Seisakusho:Kk 茶生葉管理装置
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
JP3866401B2 (ja) 1997-02-10 2007-01-10 富士フイルムホールディングス株式会社 平版印刷版用原版及び平版印刷方法
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JP3839552B2 (ja) 1997-06-03 2006-11-01 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法
JP3784931B2 (ja) 1997-08-13 2006-06-14 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 感光性平版印刷版の現像方法およびそれに用いる現像液
JP4045624B2 (ja) 1997-12-10 2008-02-13 コニカミノルタホールディングス株式会社 ポジ型感光性平版印刷版の処理方法
DE19857348A1 (de) 1998-12-11 2000-06-15 Wacker Chemie Gmbh Organopolysiloxanharze
JP2000250211A (ja) 1999-03-01 2000-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2001075279A (ja) 1999-09-03 2001-03-23 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001133969A (ja) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP4092055B2 (ja) 2000-02-09 2008-05-28 三菱製紙株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP3449342B2 (ja) 2000-03-30 2003-09-22 三菱化学株式会社 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法
JP2002023360A (ja) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
JP4156784B2 (ja) 2000-07-25 2008-09-24 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
JP2002040672A (ja) 2000-07-26 2002-02-06 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の作成方法
JP4319363B2 (ja) 2001-01-15 2009-08-26 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP4414607B2 (ja) 2001-03-14 2010-02-10 富士フイルム株式会社 ラジカル重合性化合物
JP2002287344A (ja) 2001-03-27 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版
US20030118939A1 (en) 2001-11-09 2003-06-26 Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. High speed negative working thermal printing plates
JP2003064130A (ja) 2001-08-29 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP3989270B2 (ja) 2002-03-25 2007-10-10 富士フイルム株式会社 光重合性組成物
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
US6887654B2 (en) 2002-05-07 2005-05-03 Shipley Company, L.L.C. Residue and scum reducing composition and method
JP2004093744A (ja) 2002-08-30 2004-03-25 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成方法
DE10255663B4 (de) 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente
JP4458778B2 (ja) 2003-02-20 2010-04-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4299032B2 (ja) 2003-03-28 2009-07-22 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
DE602004030519D1 (de) 2003-07-22 2011-01-27 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches Druckverfahren
EP1668418A1 (en) 2003-09-22 2006-06-14 Agfa-Gevaert Photopolymer printing plate precursor
JP4815113B2 (ja) 2003-09-24 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4401262B2 (ja) 2004-02-02 2010-01-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4319567B2 (ja) 2004-03-04 2009-08-26 富士フイルム株式会社 重合性組成物及び平版印刷版原版
JP4351933B2 (ja) 2004-03-05 2009-10-28 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法
WO2005111727A1 (en) 2004-05-19 2005-11-24 Agfa-Gevaert Method of making a photopolymer printing plate
JP2006065210A (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2006189604A (ja) 2005-01-06 2006-07-20 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 光重合性組成物、感光性平版印刷版材料および平版印刷版の製造方法
JP4469734B2 (ja) 2005-02-03 2010-05-26 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2006239867A (ja) 2005-02-28 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2006243493A (ja) 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4393408B2 (ja) 2005-03-16 2010-01-06 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版
JP4905770B2 (ja) 2005-05-10 2012-03-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び該原版を用いた平版印刷版の作製方法
US7507525B2 (en) 2005-05-10 2009-03-24 Fujifilm Corporation Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
US7153632B1 (en) 2005-08-03 2006-12-26 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP5170960B2 (ja) 2005-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び平版印刷方法
JP4666488B2 (ja) 2005-09-07 2011-04-06 株式会社竹中工務店 物品のレイアウト支援システム
JP2007093866A (ja) 2005-09-28 2007-04-12 Fujifilm Corp 感光性組成物および平版印刷版原版
JP2007094138A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP4911457B2 (ja) 2005-12-02 2012-04-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP4820640B2 (ja) 2005-12-20 2011-11-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP4719574B2 (ja) 2006-01-12 2011-07-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2007206216A (ja) 2006-01-31 2007-08-16 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2007206217A (ja) 2006-01-31 2007-08-16 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2007225701A (ja) 2006-02-21 2007-09-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2007225702A (ja) 2006-02-21 2007-09-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2007293221A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP4796890B2 (ja) 2006-03-31 2011-10-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2007328243A (ja) 2006-06-09 2007-12-20 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
EP1868036B1 (en) 2006-06-14 2010-09-22 Eastman Kodak Company Method for processing of photopolymer printing plates with overcoat
JP5064952B2 (ja) 2006-09-29 2012-10-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4887173B2 (ja) 2007-02-16 2012-02-29 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP4991430B2 (ja) 2007-03-30 2012-08-01 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4826918B2 (ja) 2007-04-03 2011-11-30 三菱化学株式会社 光重合性組成物
JP2009047927A (ja) 2007-08-20 2009-03-05 Fujifilm Corp 平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法
JP2009069384A (ja) 2007-09-12 2009-04-02 Fujifilm Corp 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版
WO2010004778A1 (ja) 2008-07-08 2010-01-14 コニカミノルタエムジー株式会社 平版印刷版材料用の現像液および平版印刷版材料
JP2010084414A (ja) 2008-09-30 2010-04-15 Ykk Ap株式会社 採光部付き扉
US20120141935A1 (en) * 2010-12-03 2012-06-07 Bernd Strehmel Developer and its use to prepare lithographic printing plates

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1511712A (zh) * 2002-12-27 2004-07-14 富士胶片株式会社 平版印刷版原版
CN101223480A (zh) * 2005-07-11 2008-07-16 伊斯曼柯达公司 平版印刷版原版及使用其的图像形成方法
JP2007038483A (ja) * 2005-08-02 2007-02-15 Fujifilm Corp 平版印刷方法および平版印刷版原版
EP2080616A1 (en) * 2008-01-21 2009-07-22 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor

Also Published As

Publication number Publication date
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JP2011227499A (ja) 2011-11-10
AU2011236976A1 (en) 2012-10-25
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US8846300B2 (en) 2014-09-30
CN102834779A (zh) 2012-12-19
AU2011236976B2 (en) 2014-08-14
US20130014658A1 (en) 2013-01-17

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