CN101796145B - 经表面处理的金属氧化物颗粒 - Google Patents

经表面处理的金属氧化物颗粒 Download PDF

Info

Publication number
CN101796145B
CN101796145B CN2008801058799A CN200880105879A CN101796145B CN 101796145 B CN101796145 B CN 101796145B CN 2008801058799 A CN2008801058799 A CN 2008801058799A CN 200880105879 A CN200880105879 A CN 200880105879A CN 101796145 B CN101796145 B CN 101796145B
Authority
CN
China
Prior art keywords
metal oxide
approximately
oxide particle
particle
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2008801058799A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101796145A (zh
Inventor
德米特里·福米特切夫
乔基姆·K·弗洛斯
威廉·R·威廉斯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Cabot Corp
Original Assignee
Cabot Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cabot Corp filed Critical Cabot Corp
Publication of CN101796145A publication Critical patent/CN101796145A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101796145B publication Critical patent/CN101796145B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28Compounds of silicon
    • C09C1/30Silicic acid
    • C09C1/3081Treatment with organo-silicon compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28Compounds of silicon
    • C09C1/30Silicic acid
    • C09C1/3009Physical treatment, e.g. grinding; treatment with ultrasonic vibrations
    • C09C1/3018Grinding
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28Compounds of silicon
    • C09C1/30Silicic acid
    • C09C1/309Combinations of treatments provided for in groups C09C1/3009 - C09C1/3081
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C3/00Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
    • C09C3/006Combinations of treatments provided for in groups C09C3/04 - C09C3/12
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C3/00Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
    • C09C3/04Physical treatment, e.g. grinding, treatment with ultrasonic vibrations
    • C09C3/041Grinding
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C3/00Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
    • C09C3/12Treatment with organosilicon compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • G03G9/097Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09708Inorganic compounds
    • G03G9/09716Inorganic compounds treated with organic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • G03G9/097Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09708Inorganic compounds
    • G03G9/09725Silicon-oxides; Silicates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/80Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
    • C01P2002/86Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by NMR- or ESR-data
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/62Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/10Solid density
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/11Powder tap density
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991Coated
    • Y10T428/2993Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]
    • Y10T428/2995Silane, siloxane or silicone coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)

Abstract

本发明提供用至少一种烷氧基硅烷化合物进行表面处理的金属氧化物颗粒、其制造方法、以及包含其的调色剂。

Description

经表面处理的金属氧化物颗粒
背景技术
疏水的金属氧化物颗粒具有可用于需要高度分散性的许多应用中的物理性质。一些疏水的金属氧化物颗粒具有对于调色剂组合物中的使用而言所期望的物理性质。
未经处理的金属氧化物颗粒是疏水的,这是由于存在极性基团,例如二氧化硅未经处理的二氧化硅颗粒的表面上存在的羟基(-OH)。通过对亲水的金属氧化物颗粒进行处理,可降低该颗粒的亲水性质,从而为该颗粒赋予不同程度的疏水性。已知用于处理金属氧化物颗粒的表面的许多不同的方法。然而,金属氧化物颗粒的含水分散体的直接处理通常是无效的或者难以实现的。
因此,仍然需要另外的经处理的金属氧化物颗粒,特别是可用于改变调色剂颗粒的电荷的那些,并且仍然需要用于制备这样的疏水的金属氧化物颗粒的其它方法,特别是可用于直接从含水分散体制备疏水的金属氧化物颗粒的方法。然而,不是所有这样的颗粒均提供某些应用所需的电荷控制特性。
发明内容
本发明提供包括用至少一种烷氧基硅烷化合物进行表面处理的金属氧化物颗粒的颗粒组合物,所述金属氧化物颗粒是疏水的、非聚集的、并且具有约110g/l~约420g/l的振实密度以及低于约200m2/g的BET表面积。
本发明还提供包括调色剂颗粒和用至少一种烷氧基硅烷化合物进行表面处理的金属氧化物颗粒的调色剂组合物,所述金属氧化物颗粒是疏水的、非聚集的、并且具有约110g/l~约420g/l的振实密度以及低于约200m2/g的BET表面积。
本发明还提供制备疏水的金属氧化物颗粒的方法,包括(a)提供亲水的金属氧化物颗粒的含水分散体,(b)将所述分散体与至少一种烷氧基硅烷处理剂组合以提供反应混合物,其中所述反应混合物为碱性的,和(c)对所述反应混合物进行干燥以提供具有约110g/l~约420g/l的振实密度以及低于约200m2/g的BET表面积的疏水的金属氧化物颗粒。
本发明另外提供制备疏水的金属氧化物颗粒的方法,包括(a)提供非聚集的亲水的金属氧化物颗粒的含水分散体,(b)将所述分散体与至少一种烷氧基硅烷处理剂组合以提供反应混合物,其中所述反应混合物为碱性的,(c)对所述反应混合物进行干燥以提供疏水的金属氧化物颗粒,和(d)通过气流粉碎或锤磨研磨减小所述疏水的金属氧化物颗粒的附聚尺寸。
附图说明
图1描述未经处理的二氧化硅颗粒和用OTES(辛基三乙氧基硅烷)进行处理的二氧化硅颗粒的NMR谱。
图2是已经气流粉碎的使用OTES(辛基三乙氧基硅烷)进行处理的二氧化硅颗粒以及未经气流粉碎的使用OTES进行处理的二氧化硅颗粒的颗粒体积百分数对颗粒直径(μm)的颗粒尺寸分布图二氧化硅二氧化硅。
具体实施方式
本发明提供包括用至少一种烷氧基硅烷化合物进行表面处理的金属氧化物颗粒的颗粒组合物,所述金属氧化物颗粒是疏水的、非聚集的、并且具有约110g/l~约420g/l的振实密度以及低于约200m2/g的BET表面积。本发明的颗粒可用于含有调色剂颗粒的组合物中。制备本发明金属氧化物颗粒的方法包括(a)提供亲水的金属氧化物颗粒的含水分散体,(b)将所述分散体与至少一种烷氧基硅烷处理剂组合以提供反应混合物,其中所述反应混合物为碱性的,和(c)对所述反应混合物进行干燥以提供疏水的金属氧化物颗粒。所得疏水的金属氧化物颗粒可具有约110g/l~约420g/l的振实密度和低于约200m2/g的BET表面积和/或所述方法还可包括其中使所述疏水的金属氧化物颗粒的平均颗粒尺寸减小的额外步骤。
本文中使用的术语“疏水的”金属氧化物颗粒涵盖各种水平或程度的疏水性。赋予金属氧化物颗粒的疏水性程度将根据所用处理剂的类型和用量而变化。根据本发明的疏水的金属氧化物颗粒优选,但非必须地有约25%或更多(例如约35%或更多、约45%或更多、或约50%或更多)的可用的金属氧化物表面羟基发生了反应。通常,根据本发明的疏水的金属氧化物颗粒有约85%或更少(例如约75%或更少、或约65%或更少)的可用的金属氧化物表面羟基发生了反应。
所述金属氧化物颗粒可包括任意合适类型的金属氧化物颗粒,例如二氧化硅、氧化铝、二氧化铈、或二氧化钛。优选地,所述金属氧化物颗粒为胶态金属氧化物颗粒,例如胶态二氧化硅颗粒。胶态金属氧化物颗粒是非聚集的,单独离散的颗粒,其通常为球形或接近球形,但是可具有其它形状(例如具有通常为椭圆形、正方形、或矩形横截面的形状)。这样的颗粒在结构上不同于热解颗粒或火成法制备(pyrogenically prepared)的颗粒,所述热解颗粒或火成法制备的颗粒为聚集的初级颗粒的链状结构。
可进行处理以提供根据本发明的经表面处理的金属氧化物的非聚集的金属氧化物(例如胶态金属氧化物)是可商购得到的,或者可通过已知方法由各种起始材料(例如湿法型金属氧化物)制备。二氧化硅颗粒可例如由得自具有约9~约11的pH的碱性硅酸盐溶液的硅酸制备,其中所述硅酸根阴离子经历聚合从而产生含水分散体形式的具有期望平均颗粒尺寸的离散的二氧化硅颗粒。通常,胶态金属氧化物起始材料可作为溶胶得到,该溶胶为胶态金属氧化物在合适溶剂中的分散体,其中,所述合适的溶剂最常用的为单独的水或者水与助溶剂和/或稳定剂。参见例如Akitoshi Yoshida在ColloidalSilica Fundamentals and Applications 47-56(H.E.Bergna & W.O.Roberts,eds.,2006)中的Silica Nucleation,Polymerization,and Growth Preparation ofMonodispersed Sols。适合用于本发明中的可商购得到的胶态二氧化硅的非限制性实例包括得来自Nissan Chemical的
Figure GPA00001045429100031
产品、可得自NyacolNanotechnologies,Inc.的NexSilTM和NexSil ATM系列产品、和可得自H.C.Starck的
Figure GPA00001045429100032
产品。
可用于制备经处理的金属氧化物颗粒的胶态二氧化硅通常含有碱金属阳离子,这是由于在分散体中制造或稳定这样的胶态二氧化硅的方法而引起的。所述碱金属阳离子可存在于颗粒的内部,以及所述颗粒的表面上。“游离的碱金属阳离子”是指溶解于胶态二氧化硅分散体的含水相中或者存在于金属氧化物颗粒的表面处的碱金属阳离子,而不是指可能被约束或俘获在金属氧化物颗粒内部并且由此无法进入含水相的碱金属阳离子。所述碱金属阳离子可为钠阳离子、钾阳离子、或任意其它第I族金属阳离子。
二氧化硅的金属氧化物分散体的游离碱金属阳离子含量可例如通过用酸性离子交换树脂对所述含水胶态分散体进行处理而降低。替换地或另外,二氧化硅的用碱稳定的分散体中的游离碱金属阳离子含量可通过使用超滤例如渗滤而降低。游离的碱金属阳离子含量的降低还可使分散体的pH降低。如果需要,可通过添加胺或者氢氧化铵(NH4OH)来调节pH而不增加游离的碱金属含量。在这方面,根据本发明的该优选方面,还可通过使用金属氧化物的用铵稳定的含水分散体作为起始材料来避免降低该分散体的碱金属阳离子含量的需要。
将金属氧化物的含水分散体的游离的碱金属阳离子含量降低至所需程度可在向所述金属氧化物的含水分散体中加入所述至少一种烷氧基硅烷之前或之后的任意时间进行。例如所述减少游离的碱金属阳离子的处理(例如,离子交换、超滤等)可作为金属氧化物分散体的制造过程的一部分而进行,或者可在将可商购得到的金属氧化物含水分散体用于本发明之前(例如,使用前约1小时或更短、或者使用前约1天或更短、或者使用前约1星期或更短)对其进行所述减少游离的碱金属阳离子的处理。或者,可在将所述至少一种烷氧基硅烷与所述金属氧化物颗粒的分散体组合之后采用这样的处理。替代地或另外,还可在稍后的时候使用减少游离的碱金属阳离子的处理以减少经处理的金属氧化物颗粒的碱金属含量,例如通过如下进行:将经干燥的、经处理的金属氧化物颗粒分散在水或可接受的溶剂中,并且减少该分散体的碱金属含量,之后该经处理的金属氧化物颗粒可通过任何合适的方法进行分离和/或干燥。
经离子交换的含水分散体通常特征在于具有约1~约7的pH和具有约0.05重量%或更低的游离的碱金属阳离子含量。碱性含水分散体通常特征在于具有约7~约12的pH。这样的分散体可用于制备本发明的颗粒,只要将反应混合物的pH调节至约7或更高的pH。
用至少一种烷氧基硅烷化合物处理亲水的金属氧化物颗粒。所述至少一种烷氧基硅烷化合物具有通式:R1 xSi(OR2)4-x,其中R1选自C1-C30支化和直链烷基、氨基烷基、链烯基、氨基链烯基,C3-C10环烷基,和C6-C10芳基,R2为C1-C10支化或直链烷基,且x为1~3的整数。合适的烷氧基硅烷化合物的实例包括但不限于三甲基甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷等。
优选地,所述烷氧基硅烷化合物为三烷氧基硅烷化合物。所述三烷氧基硅烷化合物可为任何合适的三烷氧基硅烷。例如,所述三烷氧基硅烷化合物可具有式:R1Si(OR2)3,其中R1选自C1-C30支化和直链烷基、氨基烷基、链烯基、氨基链烯基,C3-C10环烷基,且R2为C1-C10支化或直链烷基。优选地,所述三烷氧基硅烷化合物选自甲基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、戊基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、庚基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、壬基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、十一烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十四烷基三甲氧基硅烷、硬脂基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、戊基三乙氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、庚基三乙氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、壬基三乙氧基硅烷、癸基三乙氧基硅烷、十一烷基三乙氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷、十四烷基三乙氧基硅烷、硬脂基三乙氧基硅烷、及其组合。更优选地,所述三烷氧基硅烷化合物选自己基三甲氧基硅烷、庚基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、壬基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、十一烷基三甲氧基硅烷、十二烷基三甲氧基硅烷、十四烷基三甲氧基硅烷、硬脂基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、戊基三乙氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、庚基三乙氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、壬基三乙氧基硅烷、癸基三乙氧基硅烷、十一烷基三乙氧基硅烷、十二烷基三乙氧基硅烷、十四烷基三乙氧基硅烷、硬脂基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丁基三乙氧基硅烷、3-氨基丁基三乙氧基硅烷、及其组合。
所述金属氧化物颗粒可用超过一种烷氧基硅烷化合物(例如至少两种烷氧基硅烷化合物、或至少三种烷氧基硅烷化合物)进行处理。例如,所述金属氧化物颗粒可用辛基三乙氧基硅烷和3-氨基丙基三乙氧基硅烷进行处理。
所述疏水的金属氧化物颗粒具有低于约300g/l的倾倒(pour)密度。通常,所述金属氧化物颗粒具有约50g/l或更高(例如约60g/l或更高、约70g/l或更高、约80g/l或更高、约90g/l或更高、或者约100g/l或更高)的倾倒密度。所述金属氧化物颗粒的倾倒密度典型地为约280g/l或更低,更典型地为约270g/l或更低(例如,约250g/l或更低、约240g/l或更低、约230g/l或更低、约220g/l或更低、或者约210g/l或更低)。优选地,所述金属氧化物颗粒的倾倒密度为约20g/l~约300g/l,且更优选为约30g/l~约300g/l(例如,约50g/l~约300g/l、约75g/l~约300g/l、约80g/l~约280g/l、约100g/l~约300g/l、或约100g/l~约280g/l)。
通常,所述金属氧化物颗粒具有约75g/l或更高、或者约100g/L或更高的振实密度。所述金属氧化物颗粒的振实密度典型地为约450g/l或更低,更典型地为约420g/l或更低(例如,约400g/l或更低、约380g/l或更低、约350g/l或更低、约320g/l或更低、约300g/l或更低、约280g/l或更低、约250g/l或更低、约230g/l或更低、约210g/l或更低、或者约180g/l或更低)。优选地,所述金属氧化物颗粒的振实密度为约50g/l~约420g/l、约75g/l~约400g/l、约80g/l~约380g/l、约110g/l~约420g/l、或约150g/l~约400g/l。所述金属氧化物颗粒的振实密度可使用振实体积计和以下方程确定:振实密度(g/l)=(经处理的金属氧化物颗粒的重量(g))×(1000/(经处理的金属氧化物颗粒的体积(ml)))。倾倒密度与振实密度之比为约0.7。可通过振实体积计进行任意合适次数的振敲。优选地,振实体积计对经处理的金属氧化物颗粒样品进行约300次或更多次振敲(例如约600次或更多次振敲、约1250次或更多次振敲、或者约3000次或更多次振敲)。本文中所述的所有振实密度都在进行了3000次振敲之后测量,除非另有说明。
所述疏水的金属氧化物颗粒具有低于约200m2/g的BET表面积(通过S.Brunauer,P.H.Emmet,和I.Teller,J Am.Chemical Society,60,309(1938)的方法测定,该方法通常被称作BET法)。通常,所述金属氧化物颗粒具有约10m2/g或更高(例如,约20m2/g或更高、约30m2/g或更高、约40m2/g或更高、约50m2/g或更高、或者约60m2/g或更高)的BET表面积。所述金属氧化物颗粒的BET表面积典型地为约180m2/g或更低,更典型地为约160m2/g或更低(例如,约140m2/g或更低、约120m2/g或更低、约100m2/g或更低、约80m2/g或更低、约70m2/g或更低、或者约50m2/g或更低)。优选地,所述金属氧化物颗粒的BET表面积为约10m2/g~约200m2/g,且更优选为约20m2/g~约180m2/g(例如,约20m2/g~约160m2/g、约20m2/g~约140m2/g、约20m2/g~约130m2/g、约20m2/g~约120m2/g、或者约20m2/g~约100m2/g)。
经处理的金属氧化物颗粒可具有任何合适的平均非附聚颗粒尺寸。颗粒尺寸是指包围所述非附聚颗粒的最小球的直径。附聚颗粒(附聚物)由彼此松散附着(通常通过范德华力而彼此松散附着)的若干初级颗粒组成。这与聚集颗粒(聚集体)相反,在所述聚集颗粒中,初级颗粒之间的键更强,在颗粒烧结时情况如此。因此,对于附聚物可容易地实现解附聚。例如,使用高速搅拌或超声用调色剂颗粒将经处理的金属氧化物颗粒分散(干法分散)或者将其分散在合适的液体(例如四氢呋喃(THF))中可用于使附聚反转。然而,明显更加困难或者甚至不可能的是,将聚集反转至任何显著程度。所述非附聚的疏水的金属氧化物颗粒的平均颗粒尺寸可为例如低于约1微米(例如,约0.8微米或更低、约0.7微米或更低、约0.5微米或更低、或者约0.3微米或更低)。所述非附聚的疏水的金属氧化物颗粒的平均颗粒尺寸可为约0.01微米或更高(例如,约0.05微米或更高、约0.1微米或更高、约0.2微米或更高、或者约0.3微米或更高)。因此,所述非附聚的疏水的金属氧化物颗粒的平均颗粒尺寸可为例如约0.01微米~约5微米(例如,约0.05微米~约3微米、约0.1微米~约1微米、约0.2微米~约0.8微米、或者约0.3微米~约0.6微米)。
所述亲水的金属氧化物颗粒可具有任意合适的真实密度。通常,所述金属氧化物颗粒具有约1.5g/cm3或更高(例如,约1.6g/cm3或更高、约1.7g/cm3或更高、约1.8g/cm3或更高、约1.9g/cm3或更高、或者约2g/cm3或更高)的真实密度。所述金属氧化物颗粒的真实密度典型地为约5g/cm3或更低,更典型地为约4g/cm3或更低(例如,约3.5g/cm3或更低、约3g/cm3或更低、约2.8g/cm3或更低、或者约2.5g/cm3或更低)。优选地,所述金属氧化物颗粒的真实密度为约0.1g/cm3~约5g/cm3,且更优选为约0.5g/cm3约4g/cm3(例如,约1g/cm3约3.5g/cm3、约1.5g/cm3约3g/cm3、约1.8g/cm3~约2.8g/cm3、约2g/cm3~约2.5g/cm3、或者约2.2g/cm3~约2.4g/cm3)。
用烷氧基硅烷对亲水的金属氧化物颗粒进行表面处理产生与金属氧化物颗粒的表面连接或者间接地与金属氧化物颗粒的表面连接的被取代硅原子的各种模式。这些取代模式在文献中被称作M中心(site)、D中心、和T中心。参见例如Sindorf,Dean William,“Silicon-29and Carbon-13CP/MASNMR Studies of Silica Gel and Bonded Silane Phases,”Department of Chemistry,Colorado State University,Fort Collins,Colorado,1982。在Maciel,G.,Sindorf,D.W.,J.Am.Chem.Soc,102:7607-7608(1980),Sindorf,D.W.,Maciel,G.,J.Phys.Chem.,86:5208-5219(1982)以及Sindorf,D.W.,Maciel,G.,J.Am.Chem.Soc,105:3767-3776(1983)中也讨论了M中心、D中心、和T中心与CP/MAS29Si NMR谱中共振信号的关联性。
具体而言,根据本发明的一个实施方式的用至少一种三烷氧基硅烷化合物对亲水的金属氧化物颗粒进行的表面处理提供了具有称作T2和T3中心的主要取代模式的金属氧化物颗粒。本文中所用的T2中心对应于源自所述烷氧基硅烷化合物的如下硅原子,所述硅原子具有:两个与氧原子所成的键,所述氧原子进一步键合至硅原子,所述硅原子的至少一个在所述金属氧化物颗粒的表面上;一个与构成硅醇(Si-OH)基团的氧原子所成的键;和一个与碳原子所成的键。T2中心由式(I):R-Si(OH)-(OSi-P1)(OSiP2)表示,其中R如本文对所述烷基硅烷化合物所定义的那样,且P1和P2独立地表示与颗粒表面上的硅原子和/或另一含有硅烷的分子的硅原子所成的键。已经将对应于T2中心的Si原子与CP/MAS 29Si NMR谱中化学位移在-56ppm至-59ppm范围中的共振信号关联,其中单位为ppm的化学位移是相对于标准物四甲基硅烷测量的。
本文使用的T3中心对应于源自所述烷氧基硅烷化合物的如下硅原子,所述硅原子具有三个与氧原子所成的键,所述氧原子进一步键合至硅原子。所述硅原子的至少一个为金属氧化物颗粒上的硅原子。该中心由式(II):R-Si(OSi-P1)(OSi-P2)(OSi-P3)表示,其中R如本文对所述烷氧基硅烷化合物所定义的那样,且其中P1、P2和P3独立地表示与颗粒表面上的硅原子和/或另一含有硅烷的分子的硅原子所成的键。已经将对应于T3中心的Si原子与CP/MAS 29Si NMR谱中化学位移在-65ppm至-69ppm范围中的共振信号关联,其中单位为ppm的化学位移是相对于标准物四甲基硅烷测量的。
如本文中所述,T2是在CP/MAS 29Si NMR谱中具有集中(center)在-56ppm至-59ppm范围内的化学位移的峰的积分强度。T3是在CP/MAS 29SiNMR谱中具有集中在-65ppm至-69ppm范围内的化学位移的峰的积分强度。峰强度是指在该近似位置处的信号的最大峰高或者在所列范围内出现的峰的面积,其使用本领域技术人员所公知的标准计算方法计算。
所述疏水金属氧化物颗粒优选地具有约1.5或更高(例如,约2或更高、约2.5或更高、约3或更高、或者约3.5或更高)的T3/T2比(即T3∶T2),其中T3和T2如本文中所定义的那样,所述T3/T2比是基于峰的积分面积。
可将所述疏水的金属氧化物颗粒配制为包含所述疏水的金属氧化物颗粒的干燥的颗粒组合物(例如干燥粉末)或湿的颗粒组合物(例如分散体)。所述分散体可包含:任何合适的分散剂,优选单独的水或者水与助溶剂;处理剂;或通常用于疏水的金属氧化物颗粒的分散体中的任意类型的添加剂。
所述疏水的金属氧化物颗粒可用于许多不同的应用,包括但不限于调色剂组合物、防粘连剂(antiblocking agent)、粘合调节剂、聚合物添加剂(例如用于弹性体和橡胶,例如硅橡胶)、耐磨涂层和膜、消光(delustering)涂层和膜、流变调节剂(例如,用于环氧或液体聚合物)、和力学/光学控制剂(例如,用于复合材料和塑料)。所述疏水的金属氧化物颗粒在调色剂组合物中特别有用。在这方面,本发明提供包括调色剂颗粒和用至少一种烷氧基硅烷化合物进行表面处理的金属氧化物颗粒的调色剂组合物,该金属氧化物颗粒是疏水的、非聚集的、并且具有约110g/l~约420g/l或更小的振实密度以及约200m2/g或更低的BET表面积。
用于调色剂组合物中的疏水的金属氧化物颗粒的所有方面与对于本发明的颗粒组合物所描述的一样。
含有所述经处理的金属氧化物颗粒的调色剂组合物的摩擦电荷可为正的或者负的。含有本发明经处理的金属氧化物颗粒的调色剂组合物的摩擦电荷受到所述经处理的颗粒的存在的影响。不希望受特定理论的制约,认为所述经处理的颗粒的存在稳定并提高了含有所述金属氧化物颗粒的调色剂组合物的正或负摩擦电荷。
含有所述经处理金属氧化物颗粒的调色剂组合物可例如通过如下方式配制:在实验室混合器中将4重量%的所述经处理的颗粒与粉碎的苯乙烯丙烯酸酯调色剂颗粒混合,其中,所述调色剂颗粒不含任何外部添加剂并且具有9μm的平均直径。可例如通过在玻璃罐中以2/98重量%的调色剂/载体比率滚动30分钟来逐渐形成含有所述经处理的颗粒的调色剂组合物。所述载体可为70μm的涂覆有有机硅树脂的Cu-Zn铁氧体。还可将样品在标准湿度箱中在高湿度和高温(30℃和80%相对湿度)或者低湿度和低温(18℃和15%相对湿度)下过夜进行条件适应(condition)。
含有所述经处理的金属氧化物颗粒的调色剂组合物的摩擦电荷可为正的或负的。摩擦电荷测量可使用合适的技术和本领域中已知的设备(例如Vertex T-150摩擦电荷仪(tribocharger))进行。可在使所述调色剂颗粒在标准湿度箱中在30℃和80%相对湿度(HH)下和在18℃和15%相对湿度(LL)下过夜进行条件适应之后进行测量。所述调色剂颗粒(例如包含约4重量%经处理的金属氧化物颗粒的调色剂组合物的调色剂颗粒)优选地在HH条件下具有约-40μC/g~约+15μC/g(例如约-40μC/g~约-20μC/g、约-40μC/g~约0μC/g、约-5μC/g~约+10μC/g、约0μC/g~约+5μC/g、或约+5μC/g~约+10μC/g)的摩擦电荷。所述调色剂颗粒优选地在LL条件下具有约-100μC/g~约+25μC/g(例如约-80μC/g~约-50μC/g、约-80μC/g~约0μC/g、约-5μC/g~约+10μC/g、约+5μC/g~约+35μC/g、或约+10μC/g~约+25μC/g)的摩擦电荷。
含有本发明经处理的金属氧化物颗粒的调色剂组合物的自由流动(freeflow)受到所述经处理的颗粒的的存在的影响。不希望受特定理论的制约,认为所述经处理金属氧化物颗粒(尤其是已经进行气流粉碎)的颗粒的存在改善了含有所述金属氧化物颗粒的调色剂组合物的自由流动,这是由于所述经处理的颗粒的较低振实密度和倾倒密度造成的。在本发明的内容中,自由流动是从如下的接地金属管(grounded metal role tube)中排出的调色剂的百分比:所述管直径为25mm、长度为350mm并且具有七个0.5mm的排出孔,所述管含有40g的调色剂组合物并且在30rpm下旋转1分钟,共旋转30次。所述调色剂组合物可具有约0.5重量%损失或更高(例如,约1重量%损失或更高、约1.5重量%损失或更高、约2重量%损失或更高、或者约3.5重量%损失或更高)的自由流动。所述调色剂组合物的自由流动通常为约8重量%损失或更低(例如约6重量%损失或更低、约5重量%损失或更低、约4重量%损失或更低、或者约3重量%损失或更低)。优选地,所述调色剂组合物的自由流动为约0.5重量%损失~约8重量%损失(例如,约1重量%损失~约6重量%损失、约1.5重量%损失~约5重量%损失、或者约2重量%损失~约4.5重量%损失)。
使用所述烷氧基硅烷化合物进行处理的亲水的金属氧化物颗粒在含水分散体中。该金属氧化物颗粒的含水分散体优选是胶态稳定的。该分散体的胶态稳定性防止所述颗粒的任何实质部分不可逆地附聚或胶凝,或者在使用期间从该分散体中沉降出来。结合本发明而使用的金属氧化物颗粒的含水分散体优选地具有这样的胶体稳定性程度,所述胶体稳定性程度使得分散体中该二氧化硅的平均总体颗粒尺寸在1小时或更长(例如约8小时或更长、或者约24星期或更长),更优选2星期或更长(例如约4星期或更长,或者约6星期或更长),最优选8星期或更长(例如约10星期或更长、或者约12星期或更长),或者甚至约16星期或更长的时间内不变化,其中所述平均总体颗粒尺寸通过动态光散射测量。
本发明提供制备疏水的金属氧化物颗粒的方法,包括(a)提供亲水的金属氧化物颗粒的含水分散体,(b)将所述分散体与至少一种烷氧基硅烷处理剂组合以提供反应混合物,其中所述反应混合物为碱性的,和(c)对所述反应混合物进行干燥以提供疏水的金属氧化物颗粒。根据本发明的一个方面,所述疏水的金属氧化物颗粒具有约110g/l~约420g/l的振实密度和低于约200m2/g的BET表面积。根据本发明的另一方面,可通过气流粉碎或锤磨研磨而使所述疏水的金属氧化物颗粒的附聚尺寸减小。
含有所述亲水的金属氧化物颗粒的含水分散体可为如本文中所述的可商购得到的金属氧化物分散体。或者,该含水分散体可通过任何合适的技术制备。在一个实施方式中,所述金属氧化物颗粒可通过湿法制备,例如通过将金属氧化物与水和水溶性有机溶剂混合而制备。所述水溶性有机溶剂可为任何合适的水溶性有机溶剂,例如醇(例如,甲醇、乙醇、正丙醇、2-丙醇、正丁醇、异丁醇、仲丁醇、叔丁醇、正丙醇、乙二醇、和丙二醇)、酮(例如丙酮和2-丁酮)、醚(例如四氢呋喃和1,2-二甲氧基乙烷)、及其组合。可以任何次序加入水和水溶性有机溶剂。例如,水可在水溶性有机溶剂之前加入,或者相反。虽然不希望受特定理论的制约,但是认为在水溶性有机溶剂之前加入水防止分散体胶凝。通常,反应混合物包含不超过约50重量%的有机溶剂,并且优选地包含不超过约40重量%的有机溶剂。
所述水溶性有机溶剂与水的体积比可为任何合适的比率。该比率通常小于约10(例如,约8或更低、约6或更低、约5或更低、约3或更低、或者约2或更低)。该比率可为约0.05或更高(例如,约0.1或更高、约0.5或更高、约0.7或更高、约1或更高、或者约1.2或更高)。该比率可例如为约0.05~约10(例如,约0.1~约5、或者约0.2~约2)。
含有所述亲水的金属氧化物颗粒的含水分散体可含有任意合适量的金属氧化物颗粒。该含水分散体通常包含约30重量%或更低(例如,约25重量%或更低、约20重量%或更低、约15重量%或更低、约10重量%或更低、或者约5重量%或更低)的金属氧化物颗粒。该含水分散体可包含约5重量%或更高(例如,约10重量%或更高、约15重量%或更高、约20重量%或更高、约25重量%或更高、或者约30重量%或更高)的金属氧化物颗粒。因此,该含水分散体可包含例如约5重量%~约30重量%(例如,约10重量%~约25重量%、或者约15重量%~约20重量%)的金属氧化物颗粒。
可以任意合适方式将含有所述亲水的金属氧化物颗粒的含水分散体与至少一种烷氧基硅烷处理剂组合以提供反应混合物。该分散体可为酸性或碱性的,并且可通过添加至少一种烷氧基硅烷处理剂来改变该分散体的pH。
加入到含有所述亲水的金属氧化物颗粒的含水分散体中的所述至少一种烷氧基硅烷化合物的量可为任何合适的量。所述至少一种烷氧基硅烷化合物的量通常包括少于约50μmol/m2金属氧化物颗粒(例如,约25μmol/m2金属氧化物颗粒或更低、约15μmol/m2金属氧化物颗粒或更低、约10μmol/m2金属氧化物颗粒或更低、或者约5μmol/m2金属氧化物颗粒或更低)。所述至少一种烷氧基硅烷化合物的量可包括约0.1μmol/m2金属氧化物颗粒或更高(例如,约0.5μmol/m2金属氧化物颗粒或更高、约1μmol/m2金属氧化物颗粒或更高、或者约2μmol/m2金属氧化物颗粒或更高)。因此,所述至少一种烷氧基硅烷化合物的量可包括例如约0.1μmol/m2金属氧化物颗粒~约50μmol/m2金属氧化物颗粒(例如,约0.5μmol/m2金属氧化物颗粒~约25μmol/m2金属氧化物颗粒、或者约2μmol/m2金属氧化物颗粒~约15μmol/m2金属氧化物颗粒)。
在将所述至少一种烷氧基硅烷加入到该含水分散体中之前,该含水分散体的pH可为任何合适的pH。不论起始分散体是酸性、碱性、还是中性的,反应混合物都应该具有碱性pH,即约7或更高的pH。反应混合物的pH可例如为约7或更高(例如,约8或更高、约9或更高、约10或更高、约11或更高、或者约12或更高)。通常,反应混合物的pH为约7~约12(例如,约8~约11、约9~约10.5、或者约9.5~约10.5)。
含有所述金属氧化物颗粒的含水分散体与所述烷氧基硅烷化合物之间的反应可在任何合适的温度下进行容许所述烷氧基硅烷化合物与所述金属氧化物颗粒的含水分散体完全反应,或者反应至任何期望的程度的任何合适量的时间。通常,将该反应混合物保持在约20℃~约100℃(例如,约30℃~约70℃、或者约45℃~约75℃)的温度下约5分钟或更长时间(例如,约30分钟或更长时间、约1小时或更长时间),或者甚至约2小时或更长时间(例如,约3小时或更长时间、或者约4小时或更长时间)。根据具体的反应条件(例如,温度和反应物的浓度),可需要较长的反应时间(例如,5小时或更长时间、10小时或更长时间、或者甚至20小时或更长时间)。
可在加入第一烷氧基硅烷化合物之前或之后的任意合适时间加入另外的烷氧基硅烷、硅氮烷、或者其它处理剂(例如,第二、第三、或者第四烷氧基硅烷、硅氮烷、或处理剂)。在加入另外的处理剂之后,可将该反应混合物的温度调节至任何合适的温度容许所述另外的烷氧基硅烷化合物与所述金属氧化物颗粒的含水分散体完全反应,或者反应至任何期望程度的任何合适量的时间。
优选地,将所述含有疏水的金属氧化物颗粒的反应混合物干燥以形成粉末。该反应混合物的干燥可以任何合适的方式进行。例如,可使用喷雾干燥以干燥该疏水的金属氧化物颗粒。喷雾干燥涉及将包含疏水的金属氧化物颗粒的反应混合物或者其某一部分作为细雾喷雾到干燥室中,在所述干燥室中所述细雾与热空气接触,从而导致该反应混合物的挥发组分蒸发。对于所述热空气而言,所选择的温度将取决于(至少部分取决于)需要蒸发的反应混合物的具体组分。通常,干燥温度为约40℃或更高(例如,约50℃或更高),例如约70℃或更高(例如,约80℃或更高),或者甚至约120℃或更高(例如,约130℃或更高)。因此,干燥温度通常可在约40~250℃(例如,约50~200℃),例如约60~200℃(例如约70~175℃),或者约80~150℃(例如,约90~130℃)的范围内。
所述疏水的金属氧化物颗粒可在干燥之前从所述反应混合物中分离,或者所述疏水的金属氧化物颗粒可直接从所述反应混合物进行干燥。可使用任何合适的方法从所述反应混合物中分离所述疏水的金属氧化物颗粒。合适的方法包括过滤和离心。
所述疏水的金属氧化物颗粒可在从所述反应混合物中分离之后进行干燥,或者通过任何合适的技术(例如通过将反应混合物的挥发性组分从该疏水的金属氧化物颗粒蒸发)直接由所述反应混合物进行干燥。反应混合物的挥发性组分的蒸发可使用任何合适的技术(例如热量和/或降低的气氛压力)完成。当利用热量时,可例如通过使用烘箱或其它类似设备将所述疏水的金属氧化物颗粒加热至任何合适的干燥温度。所述温度可与对于本发明的喷雾干燥实施方式所列举的一样。
所述疏水的金属氧化物颗粒可在任何提供有利的蒸发速率的压力下进行干燥。当使用约120℃和更高(例如,约120~150℃)的干燥温度时,约125kPa或更低(例如,约75~125kPa)的干燥压力是理想的。在低于约120℃的干燥温度(例如约40℃~约120℃)下,约100kPa或更低(例如约75kPa或更低)的干燥压力是理想的。当然,可使用降低的压力(例如,约100kPa或更低、75kPa或更低、或者甚至50kPa或更低的压力)作为用于使所述反应混合物的挥发性组分蒸发的唯一方法。
或者,所述疏水的金属氧化物颗粒可通过冷冻干燥法进行干燥,其中将所述反应混合物的液体组分转化为固相(即,冻结)然后通过施加真空而使之转化为气相。例如,可使包含所述疏水的金属氧化物颗粒的反应混合物达到合适的温度(例如,约-20℃或更低,或者约-10℃或更低,或者甚至-5℃或更低)以使该反应混合物的液体组分冻结和可施加真空以使该反应混合物的那些组分蒸发以提供干燥的疏水的金属氧化物颗粒。
所述疏水的金属氧化物颗粒可在从所述反应混合物中分离和/或干燥之前或之后进行洗涤。所述疏水的金属氧化物颗粒的洗涤可使用合适的洗涤溶剂(例如水、与水混溶的有机溶剂、不与水混溶的溶剂、或其混合物)进行。可将洗涤溶剂加入到所述反应混合物中并且适当地混合所得混合物,随后通过过滤、离心、或者干燥以分离经洗涤的疏水的金属氧化物颗粒。或者,所述疏水的金属氧化物颗粒可在洗涤之前从所述反应混合物中分离。经洗涤的疏水的金属氧化物颗粒可进一步以另外的洗涤步骤洗涤,随后进行另外的过滤、离心、和/或干燥步骤。
所述疏水的金属氧化物颗粒具有取决于(至少部分取决于)初始分散体中金属氧化物颗粒的总体颗粒尺寸的总体颗粒尺寸。所述疏水的金属氧化物颗粒的平均总体颗粒尺寸可通过任何合适的方法(其中许多方法是本领域中已知的)例如动态光散射确定。根据本发明的方法制备的疏水的金属氧化物颗粒的优选平均颗粒尺寸与对于本发明的经处理的金属氧化物颗粒所描述的一样。理想地,根据本发明的方法制备的疏水、非聚集的颗粒的平均颗粒尺寸在起始分散体的金属氧化物颗粒的平均颗粒尺寸的约50%以内,优选在约30%以内(例如,约20%以内、约15%以内、约10%以内、或者甚至约5%以内)。优选地,在干燥之后,使所述疏水的金属氧化物颗粒的平均颗粒尺寸进一步减小。还优选在干燥之后使所述疏水的金属氧化物颗粒的附聚尺寸减小。减小所述疏水的金属氧化物颗粒的颗粒尺寸和附聚尺寸的合适方法包括但不限于湿法或干法研磨、锤磨研磨、和气流粉碎。
所述疏水的金属氧化物颗粒的碳含量可用作所述疏水的金属氧化物颗粒的处理水平的指标,并由此用作疏水性程度的指标。所述经处理的颗粒的碳含量可使用可商购得到的碳分析仪(例如,Leco C-200)确定。根据本发明制备的疏水的金属氧化物颗粒理想地具有约0.1重量%或更高(例如,约0.2重量%或更高、约0.3重量%或更高、约0.4重量%或更高、约0.5重量%或更高、或者约0.8重量%或更高)的碳含量。经处理的金属氧化物颗粒的碳含量通常包括低于约10重量%(例如,约8重量%或更低、约7重量%或更低、约6重量%或更低、或者约5重量%或更低)。因此,经处理的金属氧化物颗粒的碳含量可为例如约0.01重量%~约10重量%(例如,约0.05重量%~约8重量%、约0.1重量%~约7重量%、约0.3重量%~约7重量%、或者约0.5重量%~约6重量%)。
如下实施例进一步说明本发明,但是当然不应该解释为以任何方式限制本发明的范围。
实施例1
本实施例说明通过使用烷氧基硅烷化合物对胶态二氧化硅颗粒进行处理来制备疏水的金属氧化物颗粒。
将41.6kg的pH为9.4的40重量%胶态二氧化硅水溶液(SNOWTEXMP-1040,Nissan Chemical Co.)二氧化硅进料到反应器中。将2.5kg去离子水和27kg的2-丙醇加入到该胶态二氧化硅溶液中,同时使用搅拌器连续搅拌该混合物。2-丙醇与水之比为1.24体积/体积。
将1.44kg的OTES(辛基三乙氧基硅烷)加入到该反应混合物中,并且将该混合物加热至约72℃。在加入OTES之后,继续搅拌该混合物,并且通过均化器将该混合物再循环(re-circulate)约8小时。然后将该混合物保持在该反应器中并且在过夜搅拌的同时使其冷却至室温。第二天在约110℃的温度(干燥器出口温度)下对该混合物进行喷雾干燥。该干燥器的入口温度为230℃。从旋风(cyclone)收集器收集所得粉末。干燥之后,对该粉末进行气流粉碎并包装。
在图1中示出了本实施例中所述的本发明颗粒的29Si CP/MAS NMR谱(下面的谱图)和未经处理的二氧化硅颗粒的29Si CP/MAS NMR谱(上面的谱图)。谱图中Q3和Q4峰的相对强度的变化表明,经处理的二氧化硅颗粒的表面上存在的单一的硅烷醇基团中的一些与OTES反应。经处理的二氧化硅的谱图中T2和T3峰是由于OTES分子的Si原子引起的,其中,所述OTES分子的Si原子变成固定在二氧化硅颗粒的表面上。T3的强度为T2的约4~约5倍,表明辛基三硅烷醇在表面上充分交联。
气流粉碎对本实施例中所述的本发明颗粒的附聚尺寸分布的影响示于图2中。从图2中所明晰的是,气流粉碎产生了附聚程度显著较低的材料,这对于调色剂应用是优选的。
可提取的碳的量使用索氏方法通过用100ml甲苯提取0.5~2g经处理的二氧化硅并且煮沸3小时而确定。
调色剂通过如下方式配制:将4重量%所述经处理的二氧化硅颗粒在实验室混合器中与不含任何外部添加剂的粉碎的苯乙烯丙烯酸酯黑色调色剂混合。调色剂颗粒的平均直径为9μm。通过以2/98重量%调色剂/载体比在玻璃罐中滚动30分钟而逐渐形成调色剂。该载体为70μm的涂覆有有机硅树脂的Cu-Zn铁氧体。将样品在标准湿度箱中在高湿度和高温(30℃和80%相对湿度)下或者低湿度和低温(18℃和15%相对湿度)下过夜进行条件适应。使用Vertex T-150摩擦电荷仪进行摩擦电荷测量。
使用穿孔的接地金属管,通过测量旋转时从该管中排出的调色剂量来计算自由流动。在30秒、60秒、和90秒之后进行测量,然后将其取平均。该管直径为25mm,长度为350mm,具有七个0.5mm的排出孔,并在30rpm下转动。该管的初始进料为40g。
所述经处理的二氧化硅颗粒的性质示于表1中。
表1
 碳含量(重量%)   2.7
 提取之后的碳含量(重量%)   1.78
 BET表面积(m2/g)   28
 振实密度(3000次振敲)(g/L)   257
 在高湿度和高温下的摩擦电荷(μC/g)   -13
 T3∶T2比   4.7
 在低湿度和低温下的摩擦电荷(μC/g)   -36
 自由流动(重量%损失)   1.57
实施例2
本实施例说明通过使用烷氧基硅烷化合物对胶态二氧化硅颗粒进行处理来制备疏水的金属氧化物颗粒。
将48.3kg的pH为9.4的40重量%胶态二氧化硅水溶液(SNOWTEXMP-1040,Nissan Chemical Co.)二氧化硅进料到反应器中。将10.1kg去离子水和44.7kg的2-丙醇加入到该胶态二氧化硅溶液中同时使用搅拌器连续搅拌该混合物。2-丙醇与水之比为1.45体积/体积。
将1.78kg的OTES加入到该反应混合物中,并且将该混合物加热至约65℃。在加入OTES之后,继续搅拌该混合物,并且通过均化器使该混合物再循环约7小时。然后将该混合物保持在该反应器中并且在过夜搅拌的同时使其冷却至室温。第二天在约115℃的温度(干燥器出口温度)下对该混合物进行喷雾干燥。该干燥器的入口温度为230℃。将组合物2A在旋风干燥器中干燥和将组合物2B在袋滤(baghouse)干燥器中干燥。干燥之后,对该粉末进行气流粉碎并包装。
如实施例1中所述那样对组合物2A和2B的每一个测量可提取的碳的量和摩擦电荷。倾倒密度通过如下方式确定:得到组合物2A的经处理的二氧化硅颗粒的样品,将所述经处理的二氧化硅颗粒倒入具有刻度的容器中,并对它们进行称重。
所述经处理的二氧化硅颗粒的性质示于表2中。
表2
  组合物2A   组合物2B
  碳含量(重量%)   2.41   2.07
  提取之后的碳含量(重量%)   1.83   1.79
  倾倒密度(g/L)   234   未测定
  在高湿度和高温下的摩擦电荷(μC/g)   -18   -19
  在低湿度和低温下的摩擦电荷(μC/g)   -38   -45
实施例3
本实施例说明通过使用烷氧基硅烷化合物对胶态二氧化硅颗粒进行处理来制备疏水的金属氧化物颗粒。
将pH约9~约10的40重量%胶态二氧化硅水溶液(SNOWTEX XL,Nissan Chemical Co.)二氧化硅以示于表3中的量进料到反应器(组合物3A~3E)或者3L的3颈烧瓶(组合物3F)中。将去离子水和2-丙醇加入到该胶态二氧化硅溶液中同时使用搅拌器连续搅拌该混合物。
将单独的OTES或者OTES和APS((3-氨基丙基)三乙氧基硅烷)两者加入到该反应混合物中,并将该混合物加热至约68℃~约72℃。在加入单独的OTES或者OTES和APS两者之后,继续搅拌该混合物,并且通过均化器将该混合物再循环约5小时~约9小时。然后将该混合物保持在该反应器或烧瓶中,并且在过夜搅拌的同时使其冷却至室温。第二天在约118℃~约127℃的温度(干燥器出口温度)下对该混合物进行喷雾干燥。该干燥器的入口温度为235℃。干燥之后,对所得粉末进行气流粉碎并包装。将组合物3B和3D在旋风干燥器中干燥,和将组合物3C和3E在袋滤干燥器中干燥。将组合物3F在烘箱中在120℃下干燥。
如实施例1中所述那样测量各组合物的可提取的碳的量、摩擦电荷、和自由流动。如实施例2中所述那样测量组合物3A的倾倒密度。
所述经处理的二氧化硅颗粒的性质示于表3中。
表3
  组合物3A   组合物3B   组合物3C   组合物3D   组合物3E   组合物3F
  二氧化硅(kg)   39   60.3   60.3   35.7   35.7   0.9
  OTES(kg)   2.92   3.51   3.51   1.83   1.83   0.052
  APS(kg)   -   -   -   0.283   0.283   0.0024
  IPA/水之比(体积/体积)   1.25(2.9kg水,24.2kgIPA)   0.72(30kg水,37.5kgIPA)   0.72(30kg水,37.5kgIPA)   0.74(30kg水,30.1kg IPA)   0.74(30kg水,30.1kg IPA)   -(750g水,750gIPA)
  碳含量(重量%)   3.12   2.55   2.3   4.3   3.03   4.2
  提取之后的碳含量(重量%)   2.76   2.5   2.3   2.51   2.41   3.31
  BET表面积(m2/g)   45.9   -   -    -   -    -
  倾倒密度(g/L)   230   -   -    -   -    -
  振实密度(g/L)   -   269   254    -   -    -
  在高湿度和高温下的摩擦电荷(μC/g)   -19   -24   -26   -11   -16   -17
  在低湿度和低温下的摩擦电荷(μC/g)   -44   -59   -58   -16   -21   -31
  自由流动(重量%损失)   1.88   4.42   4.04   4.6   4.57   -
实施例4
本实施例说明通过使用烷氧基硅烷化合物对胶态二氧化硅颗粒进行处理来制备疏水的金属氧化物颗粒。
将137g的pH为9.2的40重量%胶态二氧化硅水溶液(SNOWTEX YL,Nissan Chemical Co.)二氧化硅进料到装有高架的搅拌电机和冷凝器的500ml3颈圆底烧瓶中。将87g 2-丙醇加入到该胶态二氧化硅溶液中同时使用搅拌器连续搅拌该混合物。
将6.2g OTES加入到该反应混合物中,然后将该混合物加热至约70℃约3.5小时。然后将该混合物保持在烧瓶中并且使其冷却至室温。将该混合物转移到派热克斯托盘并且在约120℃的温度下进行干燥。
如实施例1中所述那样对所得经处理的二氧化硅颗粒的摩擦电荷和自由流动进行测量。
所述经处理的二氧化硅颗粒的性质示于表4中。
表4
  在高湿度和高温下的摩擦电荷(μC/g)   -20
  在低湿度和低温下的摩擦电荷(μC/g)   -60
  自由流动(重量%损失)   1.2
实施例5
本实施例说明通过使用烷氧基硅烷化合物对两种不同类型的胶态二氧化硅颗粒进行处理来制备疏水的金属氧化物颗粒。
向装有高架的搅拌电机和冷凝器的500ml 3颈圆底烧瓶中进料100g的pH 9.2的40重量%胶态二氧化硅水溶液(SNOWTEX XL,Nissan Chemical Co.)二氧化硅,并向该水溶液中加入50ml去离子水和65g的2-丙醇,或者向圆底烧瓶中进料75g的40重量%胶态二氧化硅水溶液(NYACOL9950,EkaChemicals)二氧化硅并向该水溶液中加入75ml去离子水和65g的2-丙醇。两种组合物均使用搅拌器连续搅拌。
向各反应混合物加入5.8g OTES。含有SNOWTEX二氧化硅的组合物的pH为10.1,和含有NYACOL9950二氧化硅的组合物的pH为9.7。将混合物加热至约70℃约5.5小时。使混合物冷却至室温,然后在烘箱中在约125℃的温度下进行干燥。然后使用IKAA11实验室研磨机对经干燥的混合物进行研磨。
如实施例1中所述那样对各组合物的可提取的碳的量和自由流动进行测量。
所述经处理的二氧化硅颗粒的性质示于表5中。
表5
  SNOWTEX XL二氧化硅   NYACOL9950二氧化硅
  碳含量(重量%)   3.9   3.4
  提取之后的碳含量(重量%)   3.7   3.4
  BET表面积(m2/g)   49   54
  T3∶T2比   2.6   5.2
  自由流动(重量%损失)   2.5   1.9
对比例6
本实施例说明通过使用烷氧基硅烷化合物对胶态二氧化硅颗粒进行处理来制备疏水的金属氧化物颗粒。
将113g的35重量%胶态二氧化硅水溶液(PL-8L,Fuso Co.)二氧化硅进料到具有高架的搅拌电极和冷凝器的500ml 3颈圆底烧瓶中。将37ml去离子水和65g的2-丙醇加入到该胶态二氧化硅溶液中,同时使用搅拌器连续搅拌该混合物。
将4.5g OTES加入到该反应混合物中。该反应混合物的pH为约7.5。将该混合物加热至约70℃约5.5小时。使该混合物冷却至室温,然后在烘箱中在约125℃温度下进行干燥。然后使用IKAA 11实验室研磨机对经干燥的混合物进行研磨。
如实施例1中所述那样对所得经处理的二氧化硅颗粒的可提取的碳的量和自由流动进行测量。
所述经处理的二氧化硅颗粒的性质示于表6中。
表6
  碳含量(重量%)   0.27
  自由流动(重量%损失)   0.6
  T3∶T2比   未测得
表6中所示数据明显表明,所述经处理的颗粒的碳含量非常低,并且无法测得T3∶T2比,这表明该处理不成功。
实施例7
本实施例说明通过使用烷氧基硅烷化合物对胶态二氧化硅颗粒进行处理来制备疏水的金属氧化物颗粒。
如本文中所述那样制备含有疏水的胶态二氧化硅颗粒的三种不同组合物。以示于表7中的量将40重量%胶态二氧化硅碱性水溶液(Nissan ChemicalCo.)二氧化硅进料到反应器中。将去离子水和2-丙醇(IPA)以示于表7中的量加入到该胶态二氧化硅溶液中,同时使用搅拌器连续搅拌该混合物。
将OTES以示于表7中的量加入到该反应混合物中,并且将该混合物加热至约64℃。在加入OTES之后,连续搅拌该混合物,并且通过均化器将该混合物再循环约8~9小时。然后将该混合物保持在该反应器中并且在过夜搅拌的同时使其冷却至室温。第二天在约119℃~约125℃的温度(干燥器出口温度)下对该混合物进行喷雾干燥。该干燥器的入口温度为235℃。从旋风收集器收集该粉末。干燥之后,对所得粉末进行气流粉碎并包装。
所述经处理的二氧化硅颗粒的性质示于表7中。
表7
  组合物   二氧化硅   IPA/水之比(体积/体积)   OTES(kg)   振实密度(3000次振敲)(g/L)
  7A   40kg SNOWTEXXL   1.38(0.8kg水,27.1kg IPA)   2.3   271
  7B   39kgSNOWTEXMP-1040   1.68(0.8kg水,32.1kg IPA)   1.47   265
  7C   79.1kgSNOWTEX XL   0.75(40.9kg水,51.5kg IPA)   4.65   220
实施例8
本实施例说明通过使用烷氧基硅烷化合物对胶态二氧化硅颗粒进行处理来制备疏水的金属氧化物颗粒。
将1829g用NaOH稳定化的41重量%胶态二氧化硅水溶液(NEXSIL 86,Eka Chemicals)二氧化硅进料到具有高架的搅拌电极和冷凝管的5L 3颈圆底烧瓶中。将895g去离子水和1136g的2-丙醇加入到该胶态二氧化硅溶液中,同时使用搅拌器连续搅拌该混合物。
将103.7g OTES加入到该反应混合物中,并且将该混合物加热至约70℃约6小时。然后将该混合物在烧瓶中保持过夜并且使其冷却至室温。搅拌该混合物以使其均化,然后通过离心而分离固相并且将所述固相在约60℃的温度下干燥过夜,然后再在约120℃的温度下干燥过夜。干燥之后,对所得粉末进行气流粉碎并包装。
所述胶态二氧化硅颗粒在0次、300次、600次、1250次、和3000次振敲之后二氧化硅的振实密度示于表8中。
表8
  振实密度(0次振敲)(g/L)  214
  振实密度(300次振敲)(g/L)  277
  振实密度(600次振敲)(g/L)  287
  振实密度(1250次振敲)(g/L)  296
  振实密度(3000次振敲)(g/L)  299
对比例9
本实施例说明疏水的热解二氧化硅颗粒的振实密度。
用OTES处理的可商购得到的热解二氧化硅颗粒(AEROSIL R 805,Degussa)的振实密度是使用振实体积计在0次、300次、600次、1250次、和3000次振敲之后测量的。
所述热解二氧化硅颗粒的振实密度示于表9中。
表9
  振实密度(0次振敲)(g/L)   51
  振实密度(300次振敲)(g/L)   51
  振实密度(600次振敲)(g/L)   55
  振实密度(1250次振敲)(g/L)   59
  振实密度(3000次振敲)(g/L)   63
实施例10
本实施例说明将包含疏水的金属氧化物颗粒的粉末进行气流粉碎对倾倒密度的影响。
将40重量%胶态二氧化硅碱性水溶液(Nissan Chemical Co.)二氧化硅以示于表10中的量进料到反应器中。将去离子水和2-丙醇(IPA)以示于表10中的量加入到该胶态二氧化硅溶液中,同时使用搅拌器对该混合物进行连续搅拌。
将OTES以示于表10中的量加入到该反应混合物中,并且将该混合物加热至约65℃~约70℃。在加入OTES之后,连续搅拌该混合物,并且通过均化器将该混合物再循环约8~9小时。然后将该混合物保持在该反应器中并且在过夜搅拌的同时使其冷却至室温。第二天将该混合物在约110℃~约125℃的温度(干燥器出口温度)下对该混合物进行喷雾干燥。该干燥器的入口温度为235℃。从旋风收集器或者袋滤器收集该粉末。收集之后,对该粉末进行气流粉碎。
如实施例2中所述那样测量倾倒密度。
所述经处理的二氧化硅颗粒的性质示于表10中。
表10
  样品   胶态二氧化硅颗粒   水(kg)   IPA(kg)   OTES(kg)   未经研磨的倾倒密度(g/L)   未经研磨的振实密度(3000次振敲)(g/L)   经研磨的倾倒密度(g/L)   经研磨的振实密度(3000次振敲)(g/L)
  10A   41.6kgSNOWTEXMP-1040   2.5   27   1.44   293   379   194   257
  10B   39kgSNOWIEXMP-1040   0.8   32   1.47   342   478   190   265
  10C   59kgSNOWTEXMP-1040   31   38   1.77   204   271   165   234
  10D   40kgSNOWTEXXL   0.8   27.1   2.3   354   508   185   271
  10E   79kgSNOWTEXXL   41   52   4.65   206   265   150   220
表10中所示数据表明,粉末的倾倒密度通过气流粉碎而显著减小。
本文中引用的所有参考文献(包括出版物、专利申请、和专利)在此引入作为参考,其参考程度如同引入作为参考的各参考文献被单独并具体地说明并且各参考文献在本文中完全阐述一般。
在描述本发明的范围(特别是权利要求的范围)中使用术语“一个(a)”、“一个(an)”和“该(the)”以及类似的指示物应理解为包括单数和复数,除非本文中另有说明或与上下文明显矛盾。术语“包含”、“具有”、“包括”和“含有”应该理解为开放式的术语(即意味着“包括,但不限于”),除非另有说明。本文中数值范围的列举仅意图用作单独提及落入该范围内的各个独立值的简写方法,除非本文中另有说明,并且在说明书中引入每个独立数值,就如同其在本文中被单独列举。本文所述的所有方法可以任意合适的次序进行,除非本文中另有说明或者与上下文明显矛盾。本文中提供的任何和所有实施例、或者示例性语言(如,“例如”)的使用仅旨在更好地说明本发明,而不是对本发明的范围加以制约,除非另有说明。本说明书中没有语言应被解释为指出对本发明的实践所必要的任意非要求保护的要素。
本文中描述了本发明的优选实施方式,包括本发明人已知的用于实施本发明的最佳模式。在阅读上述说明后,那些优选实施方式的变型对于本领域普通技术人员来说可以变得明晰。本发明人期望本领域技术人员适当地采用这种变型,并且本发明人希望本发明以不同于本文中所具体描述的方式进行实施。因此,本发明包括适用法律所允许的所附权利要求中列举的主题的所有修改和等价物。此外,在其所有可能变型中的上述要素的任意组合也涵盖在本发明中,除非本文中另有说明或者与上下文明显矛盾。

Claims (21)

1.颗粒组合物,其包括用至少一种烷氧基硅烷化合物进行表面处理的金属氧化物颗粒,所述经表面处理的金属氧化物颗粒是疏水的、非聚集的、并且具有110g/l~420g/l的振实密度以及200m2/g或更低的BET表面积,和
其中所述经表面处理的金属氧化物颗粒的固态Si核磁共振谱呈现出2或更高的T3∶T2比,其中T2为在CP/MAS 29Si NMR谱中具有集中在-56ppm~-59ppm范围内的化学位移的峰的积分强度,且其中T3为在CP/MAS 29SiNMR谱中具有集中在-65ppm~-69ppm范围内的化学位移的峰的积分强度。
2.权利要求1的组合物,其中所述至少一种烷氧基硅烷化合物为辛基三乙氧基硅烷。
3.权利要求1的组合物,其中所述金属氧化物颗粒用两种烷氧基硅烷化合物进行处理。
4.权利要求3的组合物,其中所述两种烷氧基硅烷化合物为辛基三乙氧基硅烷和3-氨基丙基三乙氧基硅烷。
5.权利要求1的组合物,其中所述经表面处理的金属氧化物颗粒具有0.1微米~1微米的平均非附聚颗粒尺寸。
6.权利要求1的组合物,其中所述经表面处理的金属氧化物颗粒具有100m2/g或更低的BET表面积。
7.权利要求6的组合物,其中所述经表面处理的金属氧化物颗粒具有80m2/g或更低的BET表面积。
8.权利要求1的组合物,其中所述经表面处理的金属氧化物颗粒为干燥粉末的形式。
9.权利要求8的组合物,其中所述经表面处理的金属氧化物颗粒具有0.3微米~0.6微米的平均非附聚颗粒尺寸。
10.权利要求1的组合物,其中在表面处理之前的所述金属氧化物颗粒具有2g/cm3~2.5g/cm3的真实密度。
11.调色剂组合物,其包括调色剂颗粒和权利要求1~10中任一项的颗粒组合物。
12.制备疏水的金属氧化物颗粒的方法,包括:
(a)提供亲水的金属氧化物颗粒的含水分散体,
(b)将所述分散体与至少一种烷氧基硅烷处理剂组合以提供反应混合物,其中所述反应混合物为碱性的,和
(c)对所述反应混合物进行干燥以提供经表面处理的金属氧化物颗粒,该经表面处理的金属氧化物颗粒是疏水的、非聚集的、并且具有110g/l~420g/l的振实密度以及200m2/g或更低的BET表面积,和
其中所述经表面处理的金属氧化物颗粒的固态Si核磁共振谱呈现出2或更高的T3∶T2比,其中T2为在CP/MAS 29Si NMR谱中具有集中在-56ppm~-59ppm范围内的化学位移的峰的积分强度,且其中T3为在CP/MAS 29SiNMR谱中具有集中在-65ppm~-69ppm范围内的化学位移的峰的积分强度。
13.权利要求12的方法,其中所述至少一种烷氧基硅烷化合物为辛基三乙氧基硅烷。
14.权利要求12的方法,其中所述金属氧化物颗粒用两种烷氧基硅烷化合物进行处理。
15.权利要求14的方法,其中所述两种烷氧基硅烷化合物为辛基三乙氧基硅烷和3-氨基丙基三乙氧基硅烷。
16.权利要求12的方法,其中在干燥所述反应混合物之后使所述经表面处理的疏水的金属氧化物颗粒的颗粒尺寸减小。
17.权利要求16的方法,其中通过气流粉碎或锤磨研磨使所述经表面处理的疏水的金属氧化物颗粒的颗粒尺寸减小。
18.权利要求12的方法,其中所述分散体通过如下制备:将金属氧化物分散体与水混合,然后将该混合物与水溶性有机溶剂混合。
19.权利要求18的方法,其中所述水溶性有机溶剂与水的体积比为0.2~2。
20.权利要求12的方法,其中将所述反应混合物保持在45℃~75℃的温度下1小时或更长时间。
21.权利要求1 2的方法,其中所述分散体包含10重量%~25重量%的金属氧化物颗粒。
CN2008801058799A 2007-07-06 2008-07-02 经表面处理的金属氧化物颗粒 Active CN101796145B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/774,478 2007-07-06
US11/774,478 US8435474B2 (en) 2006-09-15 2007-07-06 Surface-treated metal oxide particles
PCT/US2008/008293 WO2009009011A1 (en) 2007-07-06 2008-07-02 Surface-treated metal oxide particles

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101796145A CN101796145A (zh) 2010-08-04
CN101796145B true CN101796145B (zh) 2013-04-17

Family

ID=39792775

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008801058799A Active CN101796145B (zh) 2007-07-06 2008-07-02 经表面处理的金属氧化物颗粒

Country Status (6)

Country Link
US (3) US8435474B2 (zh)
EP (1) EP2176361B1 (zh)
JP (2) JP5757734B2 (zh)
KR (2) KR20100041735A (zh)
CN (1) CN101796145B (zh)
WO (1) WO2009009011A1 (zh)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8202502B2 (en) * 2006-09-15 2012-06-19 Cabot Corporation Method of preparing hydrophobic silica
US8455165B2 (en) * 2006-09-15 2013-06-04 Cabot Corporation Cyclic-treated metal oxide
US20080070146A1 (en) * 2006-09-15 2008-03-20 Cabot Corporation Hydrophobic-treated metal oxide
DE102006061057A1 (de) * 2006-12-22 2008-06-26 Wacker Chemie Ag Organofunktionelle Silikonharzschichten auf Metalloxiden
US8945804B2 (en) * 2008-07-09 2015-02-03 Cabot Corporation Treated metal oxide particles and toner compositions
KR101760529B1 (ko) * 2009-06-05 2017-07-21 바스프 에스이 화학 기계적 평탄화(CMP)를 위한 CeO2 나노입자 코팅된 라스베리형 금속 산화물 나노구조체
US20110244382A1 (en) 2010-04-06 2011-10-06 Christopher Alyson M Hydrophobic silica particles and method of producing same
US20120070771A1 (en) * 2010-09-17 2012-03-22 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Electrophotographic toner
JP6089173B2 (ja) * 2010-12-28 2017-03-08 日本メナード化粧品株式会社 分散安定剤及びこの製造方法
FR2979107A1 (fr) * 2011-08-16 2013-02-22 Bluestar Silicones France Procede de preparation d'une silice greffee par un compose organosilicie
US8790856B2 (en) * 2011-11-09 2014-07-29 Xerox Corporation Low dielectric additives for toner
US8673530B2 (en) * 2011-11-09 2014-03-18 Xerox Corporation Alkyl silane surface treated silica for toner
US9581922B2 (en) 2012-03-26 2017-02-28 Cabot Corporation Treated fumed silica
JP2014196215A (ja) * 2013-03-29 2014-10-16 日揮触媒化成株式会社 改質金属酸化物微粒子粉末およびその製造方法
US9029057B2 (en) * 2013-04-17 2015-05-12 Xerox Corporation Single component developer composition
WO2015066717A1 (en) 2013-11-04 2015-05-07 BioPharmX, Inc. Dosage form comprising an active ingredient and a plurality of solid porous microcarriers
CN105722789B (zh) * 2013-11-13 2019-01-01 住友大阪水泥股份有限公司 氧化硅包覆的氧化锌及其制造方法和含有氧化硅包覆的氧化锌的组合物以及化妆料
DE102013224206A1 (de) * 2013-11-27 2015-05-28 Wacker Chemie Ag Oberflächenmodifizierte partikuläre Metalloxide
CN103919693A (zh) * 2014-03-26 2014-07-16 上海得高实业有限公司 一种亲油处理的水分散粉浆及应用该粉浆的产品
EP3127869B1 (en) * 2014-03-31 2021-06-09 Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. Silicon oxide-coated zinc oxide, method for producing same, and composition and cosmetic including silicon oxide-coated zinc oxide
WO2018085483A1 (en) 2016-11-04 2018-05-11 Cabot Corporation Nanocomposites containing crystalline polyester and organosilica
JP7095534B2 (ja) * 2018-09-28 2022-07-05 住友大阪セメント株式会社 表面処理金属酸化物粒子、分散液、化粧料および表面処理金属酸化物粒子の製造方法
WO2020067406A1 (ja) * 2018-09-28 2020-04-02 住友大阪セメント株式会社 表面処理金属酸化物粒子、分散液、組成物、化粧料および表面処理金属酸化物粒子の製造方法
BR112022004542A2 (pt) * 2019-10-02 2022-05-31 Dow Global Technologies Llc Composição
JP7442659B2 (ja) 2020-02-04 2024-03-04 キャボット コーポレイション 液状積層造形用組成物
CN113105758B (zh) * 2021-03-11 2022-06-14 中国科学院理化技术研究所 一种具有扁平化结构的高振实密度的改性气相二氧化硅及其制备方法和用途
CN113717709B (zh) * 2021-08-27 2023-02-17 西安长庆化工集团有限公司 一种纳米流体渗吸剂及其制备方法和应用
CN113881250A (zh) * 2021-10-20 2022-01-04 广州集泰化工股份有限公司 一种导热填料及其表面处理方法
WO2023230251A1 (en) 2022-05-27 2023-11-30 Cabot Corporation Aerogel composition for thermal insulation

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5415936A (en) * 1992-01-31 1995-05-16 Degussa Aktiengesellschaft Surface-modified pyrogenically produced titanium dioxide
CN1167729A (zh) * 1996-04-26 1997-12-17 德古萨股份公司 硅烷化硅酸
US6579929B1 (en) * 2000-01-19 2003-06-17 Bridgestone Corporation Stabilized silica and method of making and using the same
CN1678695A (zh) * 2002-08-28 2005-10-05 德古萨股份公司 二氧化硅

Family Cites Families (209)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3900588A (en) 1974-02-25 1975-08-19 Xerox Corp Non-filming dual additive developer
GB8320086D0 (en) 1983-07-26 1983-08-24 Ciba Geigy Ag Spherical fused silica
JP2684033B2 (ja) 1986-03-11 1997-12-03 コニカ株式会社 静電像現像用トナーおよび画像形成方法
FR2613708B1 (fr) 1987-04-13 1990-10-12 Rhone Poulenc Chimie Silice de precipitation hydrophobe, son procede de preparation et son application au renforcement des elastomeres silicones
JP2630946B2 (ja) 1987-05-29 1997-07-16 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 正帯電性樹脂粉末の流動性向上剤
US4950502A (en) * 1987-09-10 1990-08-21 Dow Corning Corporation Method of hydrophobing silica
US4985477A (en) 1988-05-13 1991-01-15 Dow Corning Corporation Method of producing treated silica filler for silicone rubber
US5226930A (en) 1988-06-03 1993-07-13 Monsanto Japan, Ltd. Method for preventing agglomeration of colloidal silica and silicon wafer polishing composition using the same
WO1989012082A1 (en) 1988-06-03 1989-12-14 Mitsubishi Monsanto Chemical Company Abrasive composition for silicon wafer
JP2810389B2 (ja) 1988-11-17 1998-10-15 キヤノン株式会社 正帯電性現像剤
JPH02180963A (ja) 1989-01-06 1990-07-13 Shin Etsu Chem Co Ltd オルガノポリシロキサン組成物
US5008305A (en) 1989-02-06 1991-04-16 Dow Corning Corporation Treated silica for reinforcing silicone elastomer
US5013585A (en) 1989-06-13 1991-05-07 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Method for the preparation of surface-modified silica particles
US5096733A (en) 1989-10-30 1992-03-17 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Dept. Of Health And Human Services Prevention of the acute cytotoxicity associated with silica containing minerals
JPH0764544B2 (ja) * 1989-12-15 1995-07-12 信越化学工業株式会社 シリカ粉末の製造方法
JP2932084B2 (ja) 1990-06-07 1999-08-09 花王株式会社 静電荷像現像剤組成物
JP2646150B2 (ja) 1990-08-27 1997-08-25 出光興産 株式会社 撥水性シリカゾルおよびその製造方法
US5194356A (en) 1990-11-05 1993-03-16 Xerox Corporation Toner compositions
US5135832A (en) 1990-11-05 1992-08-04 Xerox Corporation Colored toner compositions
US5266432A (en) 1991-03-01 1993-11-30 Kao Corporation Hydrophobic polyester toner composition
JP2633130B2 (ja) 1991-03-08 1997-07-23 キヤノン株式会社 磁性トナー、画像形成方法、表面改質シリカ微粉末及びその製造方法
JP2624027B2 (ja) 1991-05-14 1997-06-25 富士ゼロックス株式会社 表面処理無機微粉末を用いた電子写真現像剤
JP2715691B2 (ja) 1991-05-14 1998-02-18 富士ゼロックス株式会社 電子写真用トナー組成物
JPH05224456A (ja) 1992-02-14 1993-09-03 Fuji Xerox Co Ltd 静電荷像現像剤とその製造方法および画像形成方法
JPH05257316A (ja) * 1992-03-11 1993-10-08 Sharp Corp 静電荷像用現像剤
JPH0695426A (ja) 1992-09-16 1994-04-08 Fuji Xerox Co Ltd 静電荷像現像用乾式トナー
US5376172A (en) 1992-12-23 1994-12-27 Xerox Corporation Metal oxide processes and toners thereof
US6193795B1 (en) 1993-08-02 2001-02-27 Degussa Corporation Low structure pyrogenic hydrophilic and hydrophobic metallic oxides, production and use
JP3368005B2 (ja) 1993-08-26 2003-01-20 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 消泡剤組成物
US5543173A (en) 1993-10-12 1996-08-06 Aluminum Company Of America Surface treating aluminum trihydrate powders with prehydrolized silane
US5597853A (en) 1993-11-08 1997-01-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone rubber compositions
GB2284812B (en) 1993-12-20 1997-11-26 Gen Electric Co Plc Addition-curable silicone adhesive compositions
DE4402370A1 (de) 1994-01-27 1995-08-03 Degussa Silanisierte Kieselsäuren
JPH07323204A (ja) 1994-05-30 1995-12-12 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd 抑泡剤組成物
DE4419234A1 (de) 1994-06-01 1995-12-07 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Silylierung von anorganischen Oxiden
FR2721615A1 (fr) * 1994-06-24 1995-12-29 Rhone Poulenc Chimie Procédé de préparation de particules d'oxyde métallique organophiles.
EP0694576A1 (en) 1994-07-28 1996-01-31 General Electric Company Treating process for precipitated silica fillers
JPH0895285A (ja) 1994-09-22 1996-04-12 Mita Ind Co Ltd 電子写真用トナー
IT1270628B (it) * 1994-10-06 1997-05-07 Enichem Spa Manufatti in ossido di silicio e/o altri ossidi metallici misti e procedimento per la loro preparazione in dimensioni finali o quasi finali
JPH08119619A (ja) * 1994-10-26 1996-05-14 Tokuyama Corp シリカ粒子の表面処理方法
DE69520328T2 (de) 1994-11-08 2001-08-23 Canon K.K., Tokio/Tokyo Toner für die Entwicklung elektrostatischer Bilder, Zwei-Komponenten-Entwickler, Entwicklungsmethode, Bilderzeugungsverfahren, Hitzefixierverfahren und Verfahren zur Herstellung von Tonern
US5484678A (en) 1994-12-01 1996-01-16 Xerox Corporation Toner compositions with charge additive mixture
US5827632A (en) 1994-12-05 1998-10-27 Canon Kabushiki Kaisha Toner for developing electrostatic image containing hydrophobized inorganic fine powder
ES2154748T3 (es) 1995-02-04 2001-04-16 Degussa Granulados a base de dioxido de silicio preparado por via pirogena, procedimiento para su preparacion y su empleo.
US5716748A (en) 1995-07-28 1998-02-10 Nippon Zeon Co., Ltd. Developer and finely particulate polymer
JP3229174B2 (ja) 1995-08-21 2001-11-12 日本アエロジル株式会社 表面改質金属酸化物微粉末およびその製造方法
US5747211A (en) 1996-02-20 1998-05-05 Minolta Co., Ltd. Toner for developing electrostatic latent images
US6191122B1 (en) 1996-03-29 2001-02-20 DEGUSSA HüLS AKTIENGESELLSCHAFT Partially hydrophobic precipitated silicas
US6165663A (en) 1996-04-08 2000-12-26 Canon Kabushiki Kaisha Magnetic coated carrier two-component type developer and developing method
EP0801334B1 (en) 1996-04-08 2001-08-29 Canon Kabushiki Kaisha Magnetic coated carrier, two-component type developer and developing method
US5959005A (en) 1996-04-26 1999-09-28 Degussa-Huls Aktiengesellschaft Silanized silica
US5776646A (en) 1996-06-21 1998-07-07 Minolta Co., Ltd. Negatively chargeable toner with specified fine particles added externally
US5725987A (en) 1996-11-01 1998-03-10 Xerox Corporation Supercritical processes
US5840287A (en) 1996-12-20 1998-11-24 Procter & Gamble Company Antiperspirant compositions containing gellants in the form of alkyl amides of di- and tri-carboxylic acids
US5942590A (en) 1997-02-24 1999-08-24 Dow Corning Corporation Process for making hydrophobic silica with reduced surface area under neutral conditions
BR9807718A (pt) 1997-02-24 2000-02-15 Dow Corning Géis de sìlica hidrofóbica envelhecida neutra com área de superfìcie reduzida
US5989768A (en) 1997-03-06 1999-11-23 Cabot Corporation Charge-modified metal oxides with cyclic silazane and electrostatographic systems incorporating same
JP3576741B2 (ja) 1997-03-06 2004-10-13 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 シリコーン硬化物の難燃性を向上させる方法
CA2205789A1 (en) 1997-05-22 1998-11-22 Bayer Inc. Process for hydrophobicizing particles, and their use as fillers in polymer masterbatches
EP0881192B1 (en) 1997-05-26 2002-03-27 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process of producing hydrophobic organosilica sol
US6448331B1 (en) 1997-07-15 2002-09-10 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Alkoxysilane/organic polymer composition for thin insulating film production and use thereof
US6242147B1 (en) 1997-09-03 2001-06-05 Minolta Co., Ltd. Negatively chargeable toner and developing device using thereof
US5908660A (en) 1997-09-03 1999-06-01 Dow Corning Corporation Method of preparing hydrophobic precipitated silica
DE19740440A1 (de) 1997-09-15 1999-03-18 Degussa Leicht dispergierbare Fällungskieselsäure
US6045650A (en) 1997-09-16 2000-04-04 Sunsmart, Inc. Hydrophilic materials and their method of preparation
EP0908494A3 (en) 1997-10-08 1999-11-10 E.I. Dupont De Nemours And Company Uniformly coated particulate metal oxide
DE19756831A1 (de) 1997-12-19 1999-07-01 Wacker Chemie Gmbh Siliciumdioxid, das an seiner Oberfläche teil- oder vollständig silylierte Polykieselsäureketten trägt
US5919298A (en) 1998-01-12 1999-07-06 Dow Corning Corporation Method for preparing hydrophobic fumed silica
US6015843A (en) 1998-01-14 2000-01-18 Dendreon Corporation Process for making silanized colloidal silica
US5916722A (en) 1998-02-05 1999-06-29 Xerox Corporation Toner compositions
US6376077B1 (en) 1998-04-10 2002-04-23 Kyowa Chemical Industry Co., Ltd. Process for the production of coupling agent-treated inorganic particles and use thereof
EP1708038B1 (en) 1998-05-11 2009-02-18 Nippon Aerosil Co., Ltd. Method for producing fine powder of hydrophobic metal oxide for electrophotography
EP0959102B1 (en) 1998-05-18 2005-09-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silica particles surface-treated with silane, process for producing the same and uses thereof
JP3756339B2 (ja) 1998-05-18 2006-03-15 信越化学工業株式会社 シラン表面処理シリカ系微粒子、その製造方法およびそれを含有する有機樹脂組成物
DE19828364A1 (de) 1998-06-25 1999-12-30 Degussa Hydrophobe Fällungskieselsäure
CN100474136C (zh) 1998-06-25 2009-04-01 松下电器产业株式会社 调色剂及其制造方法
JP2000026727A (ja) 1998-07-06 2000-01-25 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd 硬化性シリコーンレジン組成物
EP0971273B1 (en) 1998-07-06 2005-04-13 Canon Kabushiki Kaisha Toner, image forming method, and apparatus unit
US6004714A (en) 1998-08-11 1999-12-21 Xerox Corporation Toner compositions
US6190815B1 (en) 1998-08-11 2001-02-20 Xerox Corporation Toner compositions
US6214507B1 (en) 1998-08-11 2001-04-10 Xerox Corporation Toner compositions
US6051672A (en) 1998-08-24 2000-04-18 Dow Corning Corporation Method for making hydrophobic non-aggregated colloidal silica
US6066421A (en) 1998-10-23 2000-05-23 Julien; Paul C. Color toner compositions and processes thereof
US6103441A (en) 1998-11-12 2000-08-15 Ricoh Company, Ltd. Color toner for electrophotography
US6174926B1 (en) * 1999-01-13 2001-01-16 Cabot Corporation Method of preparing organically modified silica
US6004711A (en) 1999-02-03 1999-12-21 Lexmark International, Inc. Toner composition including positive and negative tribocharging hydrophobic extra-particulate additives
JP4343378B2 (ja) 1999-02-22 2009-10-14 キヤノン株式会社 トナーの製造方法、及び画像形成方法
JP4013014B2 (ja) 1999-03-05 2007-11-28 信越化学工業株式会社 静電荷像現像剤
JP2000258955A (ja) 1999-03-10 2000-09-22 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真用トナー、その製造方法及び現像剤、画像形成方法
JP3927741B2 (ja) 1999-03-12 2007-06-13 信越化学工業株式会社 静電荷像現像用トナー外添剤
US6184408B1 (en) 1999-04-28 2001-02-06 Dow Corning Corporation Method for preparation of hydrophobic precipitated silica
JP2001031843A (ja) 1999-05-14 2001-02-06 Toagosei Co Ltd シリカ充填材及びエポキシ樹脂組成物
US6087059A (en) 1999-06-28 2000-07-11 Xerox Corporation Toner and developer compositions
JP2003506519A (ja) 1999-07-30 2003-02-18 ピーピージー インダストリーズ オハイオ,インコーポレイティド 改良ひっかき抵抗性を有するコーティング組成物、コート基材及びそれに関連する方法
US6610777B1 (en) 1999-07-30 2003-08-26 Ppg Industries Ohio, Inc. Flexible coating compositions having improved scratch resistance, coated substrates and methods related thereto
JP2003507557A (ja) 1999-08-19 2003-02-25 ダウ・コーニング・コーポレーシヨン 化学変性シリカフィラー及びその製造方法、並びに、それを含むシリコーン組成物
US7015271B2 (en) 1999-08-19 2006-03-21 Ppg Industries Ohio, Inc. Hydrophobic particulate inorganic oxides and polymeric compositions containing same
US6736891B1 (en) 1999-08-19 2004-05-18 Ppg Industries Ohio, Inc. Process for producing hydrophobic particulate inorganic oxides
US6318124B1 (en) 1999-08-23 2001-11-20 Alliedsignal Inc. Nanoporous silica treated with siloxane polymers for ULSI applications
JP4076681B2 (ja) 1999-08-24 2008-04-16 富士ゼロックス株式会社 静電潜像現像用トナーの製造方法
JP2001097710A (ja) 1999-09-29 2001-04-10 Nippon Aerosil Co Ltd 低粘性スラリー用表面改質シリカ微粉末とその用途
JP4800535B2 (ja) 1999-10-28 2011-10-26 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ナノサイズシリカ粒子を含有する歯科材料
DE60031072T2 (de) 1999-11-22 2007-02-15 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Toner für elektrostatische Bildentwicklung und Bildherstellungsverfahren unter Verwendung desselben
EP1249474B1 (en) 1999-12-08 2012-10-03 Nippon Aerosil Co., Ltd. Fine metal oxide powder having high dispersibility and toner composition comprising the same
GB2357497A (en) * 1999-12-22 2001-06-27 Degussa Hydrophobic silica
US6294303B1 (en) 2000-01-24 2001-09-25 Nexpress Solutions Llc Monocomponent developer containing positively chargeable fine power
JP4631119B2 (ja) 2000-01-28 2011-02-16 Jsr株式会社 疎水化コロイダルシリカの製造方法
US6319647B1 (en) 2000-03-07 2001-11-20 Xerox Corporation Toner and developer for magnetic brush development system
JP4512872B2 (ja) 2000-03-31 2010-07-28 日本アエロジル株式会社 表面改質シリカ微粉末とその製造方法
DE50005683D1 (de) 2000-04-11 2004-04-22 Degussa Streichfarben für Inkjet-Medien
EP1156373A1 (en) 2000-05-17 2001-11-21 Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft Electrographic developer compositions and method for development of an electrostatic image
US7083770B2 (en) 2000-06-20 2006-08-01 Nippon Aerosil Co., Ltd. Amorphous, fine silica particles, and method for their production and their use
JP4674936B2 (ja) 2000-07-17 2011-04-20 チタン工業株式会社 疎水性微粒子及びその応用
US6465670B2 (en) 2000-08-01 2002-10-15 The Goodyear Tire & Rubber Company Preparation of surface modified silica
US6203960B1 (en) 2000-08-22 2001-03-20 Xerox Corporation Toner compositions
JP4390994B2 (ja) 2000-09-27 2009-12-24 富士ゼロックス株式会社 静電荷像現像用トナー、それを用いた画像形成方法及び画像形成装置
JP4306951B2 (ja) 2000-11-07 2009-08-05 電気化学工業株式会社 表面処理された微細球状シリカ粉末および樹脂組成物
JP3964617B2 (ja) 2000-11-14 2007-08-22 株式会社巴川製紙所 負帯電性非磁性一成分トナー及びその現像方法
US6686110B2 (en) 2000-12-28 2004-02-03 Seiko Epson Corporation Toner and image forming apparatus using the same
JP2002214825A (ja) 2001-01-17 2002-07-31 Fuji Xerox Co Ltd 電子写真用トナー、電子写真用現像剤、及び画像形成方法
JP4161535B2 (ja) 2001-02-16 2008-10-08 日本ゼオン株式会社 静電潜像現像用トナー
JP4828032B2 (ja) 2001-03-05 2011-11-30 株式会社トクヤマ 疎水性シリカ粉末およびその製造方法
JP2002275356A (ja) 2001-03-22 2002-09-25 Denki Kagaku Kogyo Kk エポキシ樹脂用充填材及びエポキシ樹脂組成物
US6696212B2 (en) 2001-03-27 2004-02-24 Heidelberger Druckmaschinen Ag Single component toner for improved magnetic image character recognition
DE10118345A1 (de) 2001-04-12 2002-10-17 Creavis Tech & Innovation Gmbh Eigenschaften von Strukturbildnern für selbstreinigende Oberflächen und die Herstellung selbiger
JP2002338230A (ja) 2001-05-22 2002-11-27 Toagosei Co Ltd シリカ粒子及び樹脂組成物
US6890657B2 (en) 2001-06-12 2005-05-10 Eastman Kodak Company Surface contacting member for toner fusing system and process, composition for member surface layer, and process for preparing composition
US6503677B1 (en) 2001-07-10 2003-01-07 Xerox Corporation Emulsion aggregation toner particles coated with negatively chargeable and positively chargeable additives and method of making same
DE10138490A1 (de) 2001-08-04 2003-02-13 Degussa Hydrophobe Fällungskieselsäure mit hohem Weißgrad und extrem niedriger Feuchtigkeitsaufnahme
DE10138492A1 (de) 2001-08-04 2003-02-13 Degussa Hydrophobe, nicht getemperte Fällungskieselsäure mit hohem Weißgrad
DE10145162A1 (de) 2001-09-13 2003-04-10 Wacker Chemie Gmbh Kieselsäure mit geringem Gehalt an Kieselsäure-Silanolgruppen
DE10146325A1 (de) 2001-09-20 2003-04-10 Degussa Fällungskieselsäure mit hohem BET/CTAB-Verhältnis
DE10151478C1 (de) 2001-10-18 2003-03-13 Wacker Chemie Gmbh Mit Aminogruppen oberflächenmodifizierte Feststoffe, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
JP3694474B2 (ja) 2001-10-30 2005-09-14 秀博 神谷 球状シリカ粉末の製造方法
JP3891265B2 (ja) 2001-11-30 2007-03-14 信越化学工業株式会社 疎水性シリカ微粉末及びその製造方法
US20050203214A1 (en) 2001-12-14 2005-09-15 Nippon Aerosil Co., Ltd. Surface modified inorganic oxide powder and its use
US20050011409A1 (en) 2001-12-25 2005-01-20 Yasuhide Isobe Inorganic oxide
JP2003201112A (ja) 2001-12-28 2003-07-15 Nippon Aerosil Co Ltd 表面改質シリカ粉末とそのシリカスラリー
JP2003238141A (ja) 2002-02-07 2003-08-27 Mitsubishi Rayon Co Ltd 表面改質球状シリカ及びその製造方法、並びに半導体封止用樹脂組成物
DE10209698A1 (de) 2002-03-06 2003-09-18 Sachtleben Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von gecoateten, feinteiligen, anorganischer Festkörpern und deren Verwendung
JP2004029699A (ja) 2002-05-02 2004-01-29 Bridgestone Corp 画像表示用粒子及びそれを用いた画像表示装置
US6972301B2 (en) 2002-06-06 2005-12-06 Sasol North America Inc. Process for producing organically modified metal oxides and products thereof
EP1525159B1 (de) 2002-08-03 2012-01-25 Evonik Degussa GmbH Faellungskieselsaeure mit hoher oberflaeche
US6780559B2 (en) 2002-08-07 2004-08-24 Xerox Corporation Toner processes
ES2284905T3 (es) 2002-08-29 2007-11-16 Amber Chemical Company Ltd. Composiciones de organopolisiloxano curables a temperatura ambiente.
US6875559B2 (en) 2002-08-29 2005-04-05 Micron Technology, Inc. Method of etching materials patterned with a single layer 193nm resist
US6706398B1 (en) 2002-09-13 2004-03-16 Dow Corning Corporation Organosilicon compounds and blends for treating silica
WO2004031076A1 (en) 2002-10-02 2004-04-15 Dow Corning Corporation Filled silicone composition and cured silicone product
US6830811B2 (en) 2002-10-02 2004-12-14 Dow Corning Corporation Method of preparing hydrophobic partially aggregated colloidal silica
EP1406129B8 (en) 2002-10-02 2012-05-23 Canon Kabushiki Kaisha Silica fine particle, toner, two-component developer and image forming method
DE10247359A1 (de) 2002-10-10 2004-04-29 Basf Coatings Ag Nanopartikel, Verfahren zur Modifizierung ihrer Oberfläche, Dispersion der Nanopartikel, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
CN100337914C (zh) 2002-10-14 2007-09-19 阿克佐诺贝尔公司 含水二氧化硅分散液
US7544726B2 (en) 2002-10-14 2009-06-09 Akzo Nobel N.V. Colloidal silica composition
JP2004168559A (ja) 2002-11-15 2004-06-17 Nippon Aerosil Co Ltd 高分散高疎水性シリカ粉末とその製造方法
US20040102529A1 (en) 2002-11-22 2004-05-27 Campbell John Robert Functionalized colloidal silica, dispersions and methods made thereby
WO2004060802A1 (ja) 2002-12-27 2004-07-22 Tokuyama Corporation シリカ微粒子
JP4189235B2 (ja) 2003-02-25 2008-12-03 花王株式会社 非磁性一成分現像用トナー
DE10319937A1 (de) * 2003-05-02 2004-12-02 Wacker-Chemie Gmbh Organofunktionelle oberflächenmodifizierte Metalloxide
JP2004359476A (ja) 2003-06-02 2004-12-24 Tokuyama Corp 疎水化シリカ組成物
JP4148033B2 (ja) 2003-06-09 2008-09-10 富士ゼロックス株式会社 静電潜像現像用トナー、静電潜像現像剤、及び画像形成方法
JP2005062797A (ja) 2003-07-30 2005-03-10 Canon Inc 磁性トナー
DE602004028992D1 (de) 2003-07-30 2010-10-21 Canon Kk Hydrophobische, inorganische Teilchen enthaltender Toner
US7008982B2 (en) 2003-09-29 2006-03-07 J.M. Huber Corporation Surface treated silicas
US7547498B2 (en) 2003-10-16 2009-06-16 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Toner for developing electrostatic latent images and a production method for the same
US20050095522A1 (en) 2003-10-30 2005-05-05 Eastman Kodak Company Control of charge-to-mass of toner using silica blends
US7316881B2 (en) 2003-10-30 2008-01-08 Eastman Kodak Company Method of producing a custom color toner
US7737187B2 (en) 2003-12-19 2010-06-15 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process for producing inorganic oxide organosol
JP4239835B2 (ja) 2004-01-28 2009-03-18 富士ゼロックス株式会社 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像用現像剤及び画像形成方法
US7435450B2 (en) 2004-01-30 2008-10-14 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Surface modification of silica in an aqueous environment
JP2005215491A (ja) 2004-01-30 2005-08-11 Sekisui Chem Co Ltd トナー
US7906188B2 (en) 2004-01-30 2011-03-15 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Porous silica coated inkjet recording material
DE602005024664D1 (de) 2004-02-17 2010-12-23 Chevron Phillips Chemical Co Schwefelhaltige zusammensetzungen und verfahren zu deren herstellung
DE102004010756A1 (de) 2004-03-05 2005-09-22 Degussa Ag Silanisierte Kieselsäuren
JP4102771B2 (ja) 2004-03-25 2008-06-18 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用媒体
US7081234B1 (en) 2004-04-05 2006-07-25 Xerox Corporation Process of making hydrophobic metal oxide nanoparticles
US20050239921A1 (en) 2004-04-27 2005-10-27 Birmingham John N Preparation of organic additive-treated, pyrogenic silica-encapsulated titanium dioxide particles
KR100657415B1 (ko) 2004-05-13 2006-12-13 주식회사 엘지화학 대전부 오염을 낮춘 칼라토너
JP2006022316A (ja) 2004-06-10 2006-01-26 Tokuyama Corp エポキシ樹脂組成物用充填剤
JP3983234B2 (ja) 2004-08-16 2007-09-26 電気化学工業株式会社 トナー外添材の製造方法
JP2006065107A (ja) 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Xerox Co Ltd 静電荷現像用マゼンタトナー、静電荷現像用現像剤、トナーの製造方法及び画像形成方法
JP4615952B2 (ja) 2004-09-30 2011-01-19 株式会社トクヤマ 改質疎水化シリカ及びその製造方法
EP1807347B1 (en) 2004-10-20 2014-01-22 Cabot Corporation Method of preparing hydrophobic silica directly from an aqueous colloidal silica dispersion
JP4888633B2 (ja) 2004-11-16 2012-02-29 日産化学工業株式会社 疎水性シリカ粉末の製造法
US20060112860A1 (en) 2004-11-16 2006-06-01 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process for producing hydrophobic silica powder
JP2006171017A (ja) 2004-11-18 2006-06-29 Seiko Epson Corp トナーの製造方法
DE602005027124D1 (de) 2004-11-18 2011-05-05 Evonik Degussa Gmbh Hydrophobe kieselsäure und verwendungin siliconkautschuk
DE102004056862A1 (de) * 2004-11-25 2006-06-14 Degussa Ag Pulverförmige, kosmetische Zubereitung mit hohem Wassergehalt
US7300734B2 (en) 2004-12-03 2007-11-27 Xerox Corporation Toner compositions
KR100677155B1 (ko) 2004-12-04 2007-02-02 삼성전자주식회사 전자사진용 현상제
JP4125777B2 (ja) 2005-01-18 2008-07-30 エルジー・ケム・リミテッド 印刷品質を向上させることができる非磁性一成分系カラートナー及びその製造方法
US8987351B2 (en) 2005-02-08 2015-03-24 Momentive Performance Materials Inc. Filler treatments utilizing low VOC silanes
US20060188722A1 (en) 2005-02-22 2006-08-24 Daniella White Colloidal particle sols, methods for preparing and curable film-forming compositions containing the same
ATE434024T1 (de) 2005-02-28 2009-07-15 Samsung Sdi Germany Gmbh Metallische tinte und substrat für eine anzeige und deren fertigungsmethode
EP1871824B1 (en) 2005-03-24 2017-03-01 Bridgestone Corporation Compounding silica-reinforced rubber with low volatile organic compound (voc) emission
TR201819114T4 (tr) 2005-04-11 2019-01-21 Ppg Ind Ohio Inc İşlenmi̇ş dolgu maddeleri̇ ve üretmek i̇çi̇n i̇şlem.
US20060225615A1 (en) 2005-04-11 2006-10-12 Raman Narayan K Treated filler and process and producing
WO2006116887A1 (en) 2005-04-29 2006-11-09 Eidgenössische Technische Hochschule Zürich Surface functionalization and coating of flame-generated nanoparticles
KR101302646B1 (ko) 2005-07-04 2013-09-03 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 소수성 실리카 분말의 제조방법
US20070009823A1 (en) 2005-07-08 2007-01-11 Xerox Corporationd Toner and developer compositions
JP2007033583A (ja) 2005-07-25 2007-02-08 Tomoegawa Paper Co Ltd 電子写真用トナー
JP2007034224A (ja) 2005-07-29 2007-02-08 Kyocera Mita Corp 静電荷像現像用トナーおよび画像形成方法
JP2007034223A (ja) 2005-07-29 2007-02-08 Kyocera Mita Corp 静電荷像現像用トナーおよび画像形成方法
US7402370B2 (en) 2005-08-30 2008-07-22 Xerox Corporation Single component developer of emulsion aggregation toner
KR20090028636A (ko) 2006-07-10 2009-03-18 보르그워너 인코퍼레이티드 충전 및 배출 제어를 구비하는 점성 팬 구동 시스템들
US20080049997A1 (en) 2006-07-12 2008-02-28 Daniel Chin Method and device for enhancing images in display devices
US7885436B2 (en) 2006-07-13 2011-02-08 Authentec, Inc. System for and method of assigning confidence values to fingerprint minutiae points
US8455165B2 (en) 2006-09-15 2013-06-04 Cabot Corporation Cyclic-treated metal oxide
US20080070146A1 (en) 2006-09-15 2008-03-20 Cabot Corporation Hydrophobic-treated metal oxide
US8202502B2 (en) 2006-09-15 2012-06-19 Cabot Corporation Method of preparing hydrophobic silica

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5415936A (en) * 1992-01-31 1995-05-16 Degussa Aktiengesellschaft Surface-modified pyrogenically produced titanium dioxide
CN1167729A (zh) * 1996-04-26 1997-12-17 德古萨股份公司 硅烷化硅酸
US6579929B1 (en) * 2000-01-19 2003-06-17 Bridgestone Corporation Stabilized silica and method of making and using the same
CN1678695A (zh) * 2002-08-28 2005-10-05 德古萨股份公司 二氧化硅

Also Published As

Publication number Publication date
US20130129597A1 (en) 2013-05-23
KR101665839B1 (ko) 2016-10-12
CN101796145A (zh) 2010-08-04
EP2176361B1 (en) 2017-11-29
JP2010532742A (ja) 2010-10-14
JP2015145331A (ja) 2015-08-13
WO2009009011A1 (en) 2009-01-15
JP6013531B2 (ja) 2016-10-25
KR20100041735A (ko) 2010-04-22
EP2176361A1 (en) 2010-04-21
US8435474B2 (en) 2013-05-07
US20080070140A1 (en) 2008-03-20
US20170174896A1 (en) 2017-06-22
JP5757734B2 (ja) 2015-07-29
KR20140146142A (ko) 2014-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101796145B (zh) 经表面处理的金属氧化物颗粒
CN101688069B (zh) 经疏水处理的金属氧化物
CN101796144B (zh) 经环状物处理的金属氧化物
CN101517012B (zh) 制备疏水性二氧化硅的方法
KR101463879B1 (ko) 실리카 입자 및 그 제조 방법
JP5477192B2 (ja) シリカ粒子の製造方法
US9187502B2 (en) Silica particles and method for producing the same
JP5267758B2 (ja) 疎水性シリカ粉末の製造法
JP5880351B2 (ja) シリカ粒子及びその製造方法
JP2005536426A (ja) 安定化された水性二酸化ケイ素分散液
JP7261570B2 (ja) 中空シリカ粒子及びその製造方法
CN101302358B (zh) 一种无水纳米锑酸锌溶胶及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant