WO2004060802A1 - シリカ微粒子 - Google Patents

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WO2004060802A1
WO2004060802A1 PCT/JP2003/016726 JP0316726W WO2004060802A1 WO 2004060802 A1 WO2004060802 A1 WO 2004060802A1 JP 0316726 W JP0316726 W JP 0316726W WO 2004060802 A1 WO2004060802 A1 WO 2004060802A1
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silica
toner
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Masakazu Ohara
Minoru Kimura
Hiroo Aoki
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Tokuyama Corporation
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Definitions

  • the present invention relates to novel silica fine particles. More specifically, it has a special particle shape that is simpler than fumed silica and more complex than spherical fused silica, and is particularly suitable for various uses such as filler for semiconductor encapsulation resin and toner external additive for electrophotography.
  • the present invention relates to silica fine particles capable of exhibiting excellent characteristics in the above. Background art
  • Silica fine particles having an average particle diameter of 1 / m or less are widely used in applications such as fillers for semiconductor encapsulation resins and external additives for electrophotographic toner.
  • the silica fine particles having such a particle diameter settle in a resin in a liquid state (hereinafter also referred to as a liquid resin) in a molten state or a solution state before molding. This is advantageous in maintaining a uniform composition because of its low property.
  • the silica fine particles having such a particle diameter have an adhesive property to the surface of the toner resin. This is because it is high and is advantageous in giving fluidity of the toner resin. Hitherto, there have been many reports of using fumed silica (so-called dry silica) produced by a flame hydrolysis method of chlorosilane as a filler for a resin for semiconductor encapsulation. Reference A).
  • the above-mentioned fumed silica has a property of imparting high viscosity only by adding a small amount to a liquid resin, and when the amount of addition is increased, molding of a resin for semiconductor encapsulation is performed. A problem arises.
  • the use of the above-mentioned spherical fused silica certainly suppresses an increase in the viscosity of the resin to be filled, and can increase the filling rate of the filler.
  • the strength of the highly filled resin is insufficient, and there is room for improvement.
  • an object of the present invention is to use fumed silica and spherical fused silica as silica fine particles of 1 m or less in various applications such as a filler for semiconductor encapsulation resin and an external additive for electrophotographic toner.
  • the problem is to solve the problem.
  • the present inventors have studied the production conditions of silica fine particles, the viscosity of the obtained silica fine particles, the effect of reinforcing resin strength, the effect of imparting fluidity, and the effect of preventing the silica particles from falling off the surface of the toner resin particles.
  • a flame reaction method such as a flame hydrolysis method or a flame pyrolysis method are adjusted to a specific range.
  • the average particle diameter is 0.05 to 1 / m
  • the fractal shape parameter of the analysis target range of 50 nm to 150 nm and the analysis target range of 150 nm is calculated by the following equations (1) and (2):
  • S represents the BET specific surface area (m 2 Zg) of the silica fine particles.
  • silica fine particles satisfying the following conditions: Further, according to the present invention, there is provided a filler for a semiconductor encapsulating resin comprising the above-mentioned silica fine particles, and an external additive for a toner for electrophotography.
  • the fractal shape parameter (direct d) determined from the scattering pattern obtained when small-angle X-ray scattering measurement of powder is used as an index indicating the degree of complexity of the shape of the independent particles. I have. In other words, the closer the ⁇ is to 4, the closer the particle shape is to a true spherical particle (the value of a true spherical particle is 4), and the smaller the value, the more complex the particle shape.
  • the present inventors have compared the values of the silica fine particles of the present invention having the specific particle structure with those of the existing silica fine particles. It was confirmed that the ⁇ -direct (0?) Obtained from the scattering pattern from 50 nm to 150 nm and the value ( 2 ) obtained from the scattering pattern from 150 nm to 353 nm in the analysis range showed unique values.
  • the silica fine particles having the above-mentioned special structure have an effect of suppressing an increase in viscosity when highly filled in a liquid resin, and exhibiting an effect of exhibiting good strength in a cured resin.
  • the particles when used for an external additive for an electrophotographic toner, exhibit an excellent effect of imparting fluidity and an effect of preventing the particles from falling off the surface of the toner resin particles. According to the small-angle X-ray scattering measurement, it is possible to obtain information on the periodic structure of nanometers or more (information on the period and frequency of the structure) that cannot be obtained by ordinary X-ray diffraction. Can be determined.
  • fumed silica when the fumed silica force is measured by small-angle X-ray scattering, fumed silica is an extremely strong material having a variety of shapes and particle diameters due to the solidification of multiple primary particles due to its manufacturing method.
  • the small-angle X-ray scattering curves obtained because of the aggregate of aggregated particles (or fused particles) are superpositions of the scattering curves with periods of various sizes. Therefore, by analyzing the obtained small-angle X-ray scattering curves, the “fractal shape parameter (value) that is an index of the shape of agglomerated (fused) particles” corresponding to the frequency of periodic structures of various sizes can be determined. Can be determined.
  • the unit of k is nm- 1 ; ⁇ is the pi; I is the wavelength of the incident X-ray (unit is nm); 0 is the X-ray scattering angle (where 0 is the scanning angle of the detector at 0. 5 times).
  • monochromatic X-rays are first squeezed finely using slits and blocks, irradiate the sample, and scattered by the sample while changing the scanning angle of the detector. X-rays are detected, and the horizontal axis is k and the vertical axis is I.
  • the silica fine particles of the present invention have the characteristics of both spherical particles and particles having a complicated structure in shape.For example, even if a large amount is added to a liquid semiconductor encapsulating resin before curing, its viscosity is low. It has the characteristic that it is difficult to increase. Also, in the preparation of a silica dispersion as an abrasive or a coating liquid for inkjet paper, the amount of filler can be increased without increasing the viscosity of the liquid, and the amount of filler can be increased.
  • the silica fine particles of the present invention when used as an external additive for an electrophotographic toner, the toner can have good fluidity due to its special particle structure, and can also be used for toner resin particles. Demonstrates good drop-prevention properties. Description of the drawings
  • Figure 1 illustrates the method for obtaining and 2 from a graph in which the logarithm of the scattering intensity (I) is plotted against the logarithm of the scattering vector (k) when the inorganic powder is measured by small-angle X-ray scattering.
  • FIG. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • the silica fine particles of the present invention have an average particle diameter of 0.05 to 1 im, preferably 0.1 to 1 / im. That is, when the average particle diameter of 0. 05 jum smaller than, given later fractal shape parameter ⁇ ! And 2, becomes smaller than the range of formula (1) and (2), an average particle If the diameter exceeds 1 jUm, 0 ⁇ ⁇ and 0? 2 will be larger than the range shown by equations (1) and (2).
  • the average particle diameter means the average value based on volume measured by a laser diffraction scattering method (D 5.).
  • the greatest feature of the silica fine particles of the present invention is that the analysis range is 50 nm to 150 nm.
  • the fractal shape parameter in nm satisfies the following equation (1)
  • the fractal shape parameter 2 in the range of analysis 150 to 353 nm satisfies the following equation (2).
  • the fractal shape parameters in the analysis range of 50 nm to 150 nm, and among the aggregated particles having various shapes and particle diameters in which a plurality of primary particles are fused together relatively small It indicates the complexity of the shape in the aggregate particle size range
  • the fractal shape parameter 2 for the analysis range of 150 nm to 353 nm is the shape complexity in the relatively large aggregate particle size range. It shows the degree. In general, the monument ⁇ ! And the 2, Oh to> 2 of the relationship.
  • Silica fine particles having the above-mentioned complicated particle shape are first proposed by the present invention. That is, known fumed silica described above is also shown in Comparative Examples described later, arsenic, and / or second value is less than the lower limit of the above range, has a complicated shape far from a spherical
  • the spherical fused silica has the values of and ⁇ or 2 exceeding the upper limit of the above range, and has a shape close to a sphere.
  • the silica fine particles of the present invention in which the values of and ⁇ 2 are within the ranges of the above formulas (1) and (2) have a particle shape with a complexity of the above-mentioned fumed silica force and spherical fused silica. In the middle.
  • the BET specific surface area of the silica fine particles of the present invention which indicates the average particle diameter and the fractal shape parameter, is generally 5 to 300 m 2 / g at an average particle diameter of 0.05 to 1 jtim, and 0 to 1!
  • the Zm can have a range of 5 to 150 m 2 g
  • the BET specific surface area is a value measured by a nitrogen adsorption method.
  • the silica fine particles of the present invention having the special particle structure, can reduce the problematic properties while enjoying the advantageous properties of fumed silica and fused spherical silica in the application. Become.
  • the It in the application of a filler for semiconductor encapsulation resin, the It can be filled, and when used as an external additive for electrophotographic toner, it can impart high fluidity to the toner resin particles and exhibit high drop-off prevention properties.
  • the silica fine particles of the present invention are not particularly limited in other properties and the like as long as the above conditions are satisfied, but the concentration of the halogen element and the alkali element such as sodium contained is 50 ppm or less, Preferably, the content is 30 ppm or less.
  • corrosion of metal wiring and the like due to silica fine particles can be reduced. It is suitable for suppressing variation in the rising speed of the size and the charge amount.
  • the method for producing silica fine particles of the present invention can be obtained by a reaction in a flame such as a flame hydrolysis method or a flame pyrolysis method, and particularly by performing partial welding while adjusting the aggregation of particles in the flame. can get.
  • flammable gas hydrogen, hydrogen, or hydrocarbons (hereinafter, these gases are collectively referred to as flammable gas) and oxygen are supplied to the outer periphery of a supply port for supplying the raw material silicon compound in a gaseous state, and oxygen is supplied to the outer periphery.
  • the silicon compound is converted into silica fine particles and fused appropriately in a flame.
  • the fused silica fine particles are cooled and collected in a dispersed state (for example, After passing through the pipe, the particles are collected by a bag filter), whereby the silica fine particles of the present invention can be produced.
  • one of the conditions that particularly affects the value of the fractal shape parameter is the flow rate at the burner outlet, and the flow rate is preferably adjusted to 0.5 to 10 mZ seconds.
  • the concentration of the starting silicon compound i.e., at a silica force concentration in the flame there, in such a concentration, S i 0 2 conversion. 0.5 to 5 mol / m 3 , particularly preferably 0.1 to 3 mol Zm 3 .
  • the adjustment of the average particle diameter ⁇ the specific surface area includes the concentration of the raw material silicon compound, the flow rate at the burner outlet, the length of the peripheral flame, and the like.
  • the average particle diameter is increased, the specific surface area is decreased, and the value of the fractal shape parameter is increased.
  • the flow velocity at the outlet of the noner is increased, the average particle diameter becomes smaller, the specific surface area becomes larger, and the value of the fractal shape parameter becomes smaller.
  • the length of the peripheral flame is increased, the average particle diameter increases, the specific surface area decreases, and the value of the fractal shape parameter increases.
  • the temperature of the peripheral flame is increased, the average particle diameter increases, the specific surface area decreases, and the value of the fractal shape parameter increases.
  • a silicon compound which is gaseous or liquid at room temperature is used without any particular limitation.
  • siloxanes such as hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, hexamethyldisiloxane, and octamethyltrisiloxane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, and dimethyldimethoxysilane Alkoxysilanes such as toxoxysilane and methyltriethoxysilane; organic silane compounds such as tetramethylsilane, getylsilane, and hexamethyldisilazane; silicon halides such as monochlorosilane, dichlorosilane, trichlorosilane, and tetrachlorosilane; monosilane,
  • siloxanes and / or silazanes or alkoxysilanes as the silicon compound, it is possible to obtain high-purity silicon oxide (silica fine particles) in which impurities such as chlorine are significantly reduced. Also, the handleability is improved.
  • the silica fine particles of the present invention are subjected to a surface treatment with at least one treatment agent selected from the group consisting of silylating agents, silicone oils, siloxanes, metal alkoxides, fatty acids and metal salts thereof, depending on the application. May be.
  • silylating agents include tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenylrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, o-methylphenyltrimethoxysilane, p-methylphenylsilane.
  • Silicone oils include dimethyl silicone oil, methyl hydrogen silicone oil, methylphenyl silicone oil, alkyl-modified silicone oil, fatty acid-modified silicone oil, polyether-modified silicone oil, alkoxy-modified silicone oil, and carbinol Modified silicone oil, amino-modified silicone oil, terminal-reactive silicone oil, and the like.
  • Examples of siloxanes include hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane, hexamethyldisiloxane, and octamethyltrisiloxane.
  • metal alkoxides examples include trimethoxyaluminum, triethoxyaluminum, tripropoxyaluminum, trir> -butoxyaluminum, tris-butoxyaluminum, tri-t-butoxyaluminum, and mono-s-aluminum.
  • fatty acids and metal salts thereof include pendecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, dodecylic acid, myristic acid, palmitic acid, pentadecylic acid, stearic acid, heptadecylic acid, araquinic acid, and montanic acid.
  • long-chain fatty acids such as oleic acid, linoleic acid and arachidonic acid.
  • the metal salts thereof include salts with metals such as zinc, iron, magnesium, aluminum, calcium, sodium and lithium.
  • silica fine particles for use as an external additive for electrophotographic toner include hexamethyldisilazane, dimethylsilicone oil, r-aminopropyltriethoxysilane, and mono (2-aminoethyl). It is more preferred that the surface is treated with at least one treating agent selected from the group consisting of aminopropylmethyldimethoxysilane.
  • Known methods can be used for the surface treatment using the surface treatment agent without any limitation.
  • a method of spraying a surface treating agent while stirring silica fine particles or bringing them into contact with steam is generally used.
  • the concentration of the halogen element and / or the elemental element of the surface-treated silica fine particles to 5 O ppm or less, preferably 30 ppm or less, corrosion of metals and the like caused by the filled silica fine particles can be prevented. It is suitable for reducing the amount of charge and the variation in the rate of rise of the charge amount in applications such as reduction and use as an external additive for electrophotography toners. It is preferable to use a refined one.
  • the mixing amount thereof can be 5 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the liquid resin.
  • epoxy resin, phenol resin, polyimide An uncured thermosetting resin used for semiconductor encapsulation, such as a resin or a maleimide resin, is used.
  • this liquid resin is used together with the above-mentioned fillers together with a curing agent, a curing accelerator, a coloring agent, A release agent and the like are blended.
  • the above-mentioned silica fine particles of the present invention having a small average particle diameter are mixed with particles of another filler having a large average particle diameter (for example, fused spherical silica particles) and the like, and the gaps of the particles of the filler having a large particle diameter are mixed. It should be used in a form that fills in the space.
  • the external addition amount is generally 0.2 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the toner resin particles. is there.
  • Silica microparticles of the sample were filled in through holes (40 mm long, 5 mm wide, 1 mm high) provided on the substrate, and both sides of the filled sample were held by scissors with 6 jUm thick polypropylene film. Those were subjected to measurement.
  • Incident X-ray Cu—KQf ray
  • Detector scanning angle 0.025 degrees to 0.900 degrees
  • silica fine particles After adding 4 parts by weight of silica fine particles to an epoxy resin (Epicoat 815, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and dispersing it at room temperature for 2 minutes at 3000 rpm using a homomixer manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd. The mixture was allowed to stand in a constant temperature bath at 25 degrees Celsius for 2 hours, and the viscosity at 60 rpm was measured using a BL-type rotational viscometer.
  • epoxy resin Epicoat 815, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.
  • This epoxy resin composition was thermally cured in a mold heated to 175 ° C. to obtain a cured epoxy resin of 1 Omm ⁇ 2 Omm ⁇ 5 mm. After standing for 10 hours in a thermo-hygrostat set at a temperature of 25 ° C and a relative humidity of 80% for 24 hours, the epoxy resin cured product was immersed in a 250 ° C oil bath for 10 seconds, and the number of cracks The strength of the cured epoxy resin was evaluated.
  • Epoxy resin (biphenyl type epoxy resin) 100 parts by weight
  • Curing agent phenol novolak resin
  • Curing accelerator triphenylphosphine
  • Silane coupling agent epoxy silane
  • Fused spherical silica average particle size 17 / m: 1 238
  • Sample silica fine particles 74.
  • silica fine particles obtained by hydrophobizing the surface of silica fine particles with hexamethyldisilazane were used.
  • the method of hydrophobization treatment with hexamethyldisilazane is as follows. Ri. First, the silica fine particles were placed in a mixer and stirred, replaced with a nitrogen atmosphere, and simultaneously heated to 250 ° C. Thereafter, the mixer was closed and 60 parts by weight of hexamethyldisilazane was sprayed, and the mixture was stirred for 30 minutes to perform a hydrophobic treatment.
  • a silica sample was added so as to be 2% by weight, and mixed with a mixer for 5 minutes. This was humidified at 35 ° C, 850/0 relative humidity.
  • the fluidity of this mixed powder sample was evaluated by measuring the degree of compressibility with a powder tester (manufactured by Hosokawa Micron Corporation, PT-R type). The compression degree is expressed by the following equation (3).
  • Loose apparent specific gravity Specific gravity measured without tapping by placing sample powder in a 10 Om I cup
  • Solidified apparent specific gravity Apparent specific gravity after placing sample powder in a 10 Om I cup and tapping 180 times
  • the degree of compression was measured when the mixing time in the mixer was changed from 5 minutes to 60 minutes, and the durability against a decrease in fluidity when the number of developed sheets increased in actual use was evaluated.
  • toner composition To the toner having an average particle diameter of 7 / m, 1 ⁇ 7 of the above silica sample was added, and the mixture was stirred and mixed to prepare a toner composition. Using this toner composition, 30,000 copies were made with a commercially available copying machine, and then 10 sheets of a full-size B4 size image were output. The smaller the occurrence of white spots in the image, the better the image characteristics.
  • the silica particles shown in Table 2 were obtained by burning and oxidizing octamethylcyclotetrasiloxane in an oxyhydrogen flame under the combustion conditions shown in Table 1 in the outer flame formed by the oxygen-hydrogen flame. Was manufactured.
  • Table 1 also shows the average particle size, BET specific surface area, fractal shape parameter value, binary value, viscosity, and cured resin strength of the obtained silica fine particles calculated by small-angle X-ray scattering measurement. In each case, no large increase in viscosity was observed as compared with the comparative example.
  • Table 3 shows the impurity measurement results.
  • Table 2 shows the average particle size, BET specific surface area, fractal shape parameters, binary values, viscosity, and cured resin strength of commercially available fumed silica particles and fused silica particles.
  • silica fine particles were produced under the combustion conditions shown in Table 4.
  • Table 4 shows the average particle size, BET specific surface area, fractal shape parameter value, binary value of the obtained silica fine particles, and evaluation of properties as an external additive for electrophotographic toner (fluidity, image characteristics, cleaning properties). Are shown together.
  • Table 5 shows the impurity measurement results.
  • the average particle diameter, BET specific surface area, fractal shape parameter value, binary value, and property evaluation as toner external additives for electrophotography of commercially available fumed silica particles and fused silica particles (fluidity, image characteristics, Table 4 shows the cleaning properties.
  • Table 5 shows the impurity measurement results. Table 4.

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Description

明 細 書 シリカ微粒子 技術分野
本発明は、 新規なシリカ微粒子に関する。 詳しくは、 ヒュームドシリカよリ単 純であり、 球状溶融シリカより複雑であるという特殊な粒子形状を有し、 特に、 半導体封止樹脂用充填材、 電子写真用トナー外添剤等の各種用途において優れた 特性を発揮することができるシリカ微粒子に関する。 背景技術
半導体封止樹脂用充填材、 電子写真用トナー外添剤等の用途においては、 平均 粒子径が 1 / m以下のシリカ微粒子が広く使用されている。 その理由は、 半導体 封止樹脂用充填材においては、 このような粒径のシリカ微粒子は成形前の溶融状 態または溶液状態を成す液体状態の樹脂 (以下、 液状樹脂ともいう) 中での沈降 性が低いため、 均一な組成を維持する上で有利であり、 また、 電子写真用トナー 外添剤の用途においては、 このような粒径のシリカ微粒子は、 トナー樹脂の表面 への付着性が高く、 トナー樹脂の流動性を付与する上で有利となるからである。 従来、 半導体封止用樹脂の充填材として、 クロロシランの火炎加水分解法によ つて製造されるヒュームドシリカ (所謂、 乾式シリカ) を使用することは、 数多 く報告されている (例えば、 先行文献 A参照)。
先行文献 A 特開平 1一 1 6 1 0 6 5号公報
ところで、 近年、 環境問題への意識の高まりから、 半導体パッケージなどに用 いられる各種配線基板での実装に際しては、 鉛を使用しない半田が使われ始め、 それに伴い、 実装のための半田付けの温度が上昇する傾向にある。 そのため、 半 導体パッケージの半導体封止用樹脂には、 耐熱性を向上させるため、 充填材の添 加量を増大することが必要となってきた。
ところが、 上記ヒュームドシリカは、 液状樹脂に少量添加するだけで高い粘性 を付与する性質があり、 その添加量を増大させた場合、 半導体封止用樹脂の成形 が困難となるという問題が生じる。
上記問題に対して、 上記ヒュームドシリカの高い粘性付与特性を抑制し、 高充 填を可能とするため、平均粒径が 1 jt m以下に制御された球状溶融シリカを使用 することも提案され (例えば、 先行文献 B参照)、 実施されるようになってきた。
先行文献 B: 特開平 8— 2 4 5 2 1 4号公報
上記球状溶融シリカの使用により、 確かに、 充填する樹脂の粘度上昇が抑えら れ、 充填材の充填率を上昇することができる。 しかしながら、 球状溶融シリカよ リなる充填材の場合、 これが高充填された樹脂の強度においては不十分であリ、 改良の余地があった。
一方、 電子写真用トナー外添剤の用途において、 前記ヒュームドシリカの使用 も報告されている (例えば、 先行文献 C )。 しかし、 ヒュームドシリカは、 その複 雑な粒子構造から卜ナ一の流動性の付与効果において不十分である。 また、 球状 溶融シリカをトナー用外添剤として使用することも報告されている (例えば、 先 行文献 D参照)。 しかし、 この場合も、球状であるがためにトナー樹脂粒子の表面 への付着力が乏しく、 シリ力微粒子が脱落したトナー粒子表面がコピー機の感光 体表面と接触し、 トナーが所定の用紙に転写されず、 感光体表面に残存し易い等 の問題を有している。
先行文献 C: 特開 2 0 0 2—1 1 6 5 7 5号公報
先行文献 D: 特開 2 0 0 2— 1 5 4 8 2 0号公報 発明の開示
従って、 本発明の目的は、 半導体封止樹脂用充填材、 電子写真用トナー外添剤 等の各種用途において、 1 m以下のシリカ微粒子として、 ヒュームドシリカ及 び球状溶融シリ力を使用することによる問題を解決することにある。
本発明者等は、 上記技術課題を解決すべく、 シリカ微粒子についてその製造条 件と得られるシリカ微粒子の增粘作用、 樹脂強度補強性、 流動性付与効果および トナー樹脂粒子表面からの脱落防止効果との関係について鋭意検討を行つた。 そ の結果、 火炎加水分解法や火炎熱分解法のような火炎中における反応 (以下、 火 炎反応法とも言う) によってシリカ微粒子を製造する際の条件を特定の範囲に調 整することにより、 ヒュームドシリカより単純であり、 しかも、 球状溶融シリカ より複雑である、 特殊な粒子形状を有するシリカ微粒子の開発に成功した。
即ち、 本発明によれば、 平均粒子径が 0. 05〜1 / mであり、 小角 X線散乱 測定において、 解析対象範囲 50 nm~1 50 n mのフラクタル形状パラメータ 及び解析対象範囲 1 50 nm~353 n mのフラクタル形状パラメータ 2 が下記式 (1 ) 及び (2) :
一 0. 0068 S + 2. 548≤0?-,≤-0. 0068S + 3. 748 ( 1 ) 一 0. 001 1 S + 1. 1 58≤ z≤-0. 001 1 S + 2. 058 (2) 式 (1 ) 及び (2) 中、 Sは、 シリカ微粒子の BET比表面積 (m2Zg) を示す、
で示される条件を満足していることを特徴とするシリカ微粒子が提供される。 また、本発明によれば、上記のシリカ微粒子よりなる半導体封止樹脂用充填材、 及び、 電子写真用トナー外添剤が提供される。 一般に、 粉末を小角 X線散乱測定したときに得られる散乱パターンから決定さ れるフラクタル形状パラメータ ( d直) は、 独立粒子の形状の複雑さの程度を表 す指標となることが一般に知られている。 すなわち θ 直が 4に近いほど粒子形状 が真球状粒子に近い (真球状粒子の 値は 4) ことを示し、 その値が小さくなる ほど粒子形状がより複雑であることを示している。
本発明者等は前記特定の粒子構造を有する本発明のシリカ微粒子と既存のシリ 力微粒子について Of値を比較したところ、 本発明のシリカ微粒子は、 既存のシリ 力微粒子に対して、 解析対象範囲 50 nm〜 1 50 n mの散乱パターンから求め た θ 直 (0? 、 および解析対象範囲 1 50 nm〜353 nmの散乱パターンから 求めた 値 ( 2) がそれぞれ特異な値を示すことを確認した。
そして、 上記特殊な構造を有するシリカ微粒子は、 液状樹脂に高充填した場合 の粘度の上昇が抑えられ、 且つ、 硬化後の樹脂において良好な強度を発現すると いう効果を奏すること、 また、 上記シリカ粒子は、 電子写真用トナー外添剤の用 途に使用した場合、 優れた流動性の付与効果とトナー樹脂粒子表面からの脱落防 止効果を発揮するものである。 尚、 小角 X線散乱測定によれば、 通常の X線回折では得ることのできないナノ メーター以上の周期構造に関する情報 (構造の周期および頻度に関する情報) を 得ることができるので、この情報に基づき 値を決定することができる。例えば、 ヒュームドシリ力を小角 X線散乱測定した場合には、 ヒュームドシリカはその製 造方法に由来して複数の一次粒子が互いに固結して種々の形状および粒径を有す る極めて強固な凝集粒子 (または融着粒子) の集合体となっているために得られ る小角 X線散乱曲線は、種々の大きさの周期による散乱曲線の重ね合わせとなる。 従って、 得られた小角 X線散乱曲線を解析することにより、 種々の大きさの周 期構造の頻度に対応する "凝集 (融着) 粒子の形状の指標となるフラクタル形状 パラメータ ( 値)" を決定することができる。すなわち、小角 X線散乱における 散乱強度 ( I )、散乱ベクトル (k ) およびフラクタル形状パラメータ (or ) との 間には下記式の関係があるので、 横軸を k、 縦軸を Iとしてプロットした小角 X 線散乱曲線から 値を決定することができる。
I oc k一 α
(但し、 k = 4兀 λ一1 s i η 0 )
尚、 kの単位は n m—1であり、 πは円周率、; Iは入射 X線の波長(単位は n m)、 0は X線散乱角度 (該 0は検出器の走査角度を 0 . 5倍した値である) を意味す る。
小角 X線散乱曲線を得るためには、 まず単色化された X線をスリツトおよぴブ ロックを用いて細く絞り、 試料に照射し、 検出器の走査角度を変化させながら、 試料によって散乱された X線を検出し、 横軸を k、 縦軸を Iとしてプロッ卜すれ ばよい。
このとき両対数目盛りでプロッ卜すれば、 散乱曲線の kにおける接線の傾きが 一 に等しくなるので 値を求めることができる。 また、 解析対象範囲を Dとす ると、 Dと X線散乱角度 0と入射 X線波長 Aとの間には、 ブラッグの式:
2 D s i η θ = λ
の関係があるので、 kと Dの間には下記式の関係が成立する。
D = 2兀 k _ 1
従って、 図 1に示すように、 kと Iの両対数プロットの横軸を、 L o g k =- 1. 377〜一 0. 902 (D = 50〜1 50 nm)
および、
L o g k =— 1. 750 1. 377 ( D = 1 50〜 353 n m) で区切り、 区切られた各々の範囲の曲線を直線で近似し、 その近似直線の傾きを 求めることによって、 各解析対象範囲毎のフラクタル形状パラメータである および 2を決定することができる。
本発明のシリカ微粒子は、 球状粒子と形状的に複雑な構造の粒子との特徴を兼 ね備えており、 例えば、 硬化前の液状の半導体封止用樹脂に大量に添加しても粘 度が増大し難いという特徴を有する。 また、 研磨剤やインクジェット紙コート液 としてのシリカ分散液の調製においても、 液の粘度を増大させずに充¾材の添加 量を増やすことができ、 その添加量を増やすことができる。
また、 本発明のシリカ微粒子は、 電子写真用トナー外添剤として使用すれば、 その特殊な粒子構造によつてトナーに良好な流動性を付与することができると共 に、 トナー樹脂粒子に対して良好な脱落防止性を発揮する。 図面の説明
図 1は、 無機粉体を小角 X線散乱測定したときの散乱強度 ( I ) の対数を散乱 べク卜ル(k)の対数に対してプロッ卜したグラフから、 および 2を求める 方法を説明するための図である。 発明を実施するための最良の形態,
本発明のシリカ微粒子は、 0. 05〜 1 im、 好ましくは、 0. 1〜1 /imの 平均粒子径を有する。 即ち、 平均粒子径が 0. 05 jumより小さい場合は、 後記 のフラクタル形状パラメータ ■!および 2が、 式 (1 ) 及び (2) で示される範 囲よりも小さい値となってしまい、 平均粒子径が 1 jUmを越える場合は、 0^ぉ よび 0?2が、 式 (1 ) 及び (2) で示される範囲よりも大きくなつてしまう。 尚、 上記平均粒子径は、 レーザー回折散乱法により測定した体積基準での平均 値 (D5。) を意味する。
本発明のシリカ微粒子における最大の特徴は、 解析対象範囲 50 nm~ 1 50 nmのフラクタル形状パラメータ が下記 (1 ) 式を満足し、 且つ解析対象範 囲 1 50 nm〜353 n mのフラクタル形状パラメータ 2が下記 (2) 式をそ れぞれ満足していることである。
一 0. 0068 S + 2. 548≤a,≤-0. 0068 S + 3. 748 ( 1 ) —0. 00 1 1 S+ 1. 1 58≤ Of 2≤- 0. 00 1 1 S + 2. 058 (2)
(式中、 Sは、 シリカ微粒子の BE T比表面積を示す。 )
上記シリカ微粒子のフラクタル形状パラメータのうち、 解析対象範囲 50 nm 〜 1 50 nmのフラクタル形状パラメータ ま、 複数の一次粒子が互いに融着 した種々の形状および粒径を有する凝集粒子のうち、 比較的小さな凝集粒子径範 囲での形状の複雑さを示すものであり、 また、 解析対象範囲が 1 50 nm~35 3 nmのフラクタル形状パラメータ 2は、 比較的大きな凝集粒子径範囲での形 状の複雑さを示すものである。 一般に、 上記ひ■!と 2とは、 > 2の関係に あ 。
上記粒子形状の複雑さを有するシリカ微粒子は、 本発明によって初めて提案さ れたものである。 即ち、 前述した公知のヒュームドシリカは、 後述の比較例でも 示すが、 ひ,及び/又は 2の値が、上記範囲の下限未満であり、球形から大きく 離れた複雑な形状を有しており、 球状溶融シリカは、 及び Ζ又は 2の値が、 上記範囲の上限を超えるものであり、 球形に近い形状を有している。 これに対し て、 及び α 2の値が上記式 (1 ) 及び (2) の範囲内にある本発明のシリカ微 粒子は、 その粒子形状の複雑さが上記のヒユームドシリ力と球状溶融シリカとの 中間にある。
また、 前記平均粒子径及びフラクタル形状パラメータを示す本発明のシリカ微 粒子の BE T比表面積は、 一般に、 平均粒子径 0. 05〜 1 jtimにおいて 5〜 300m2/g、 0. "! 〜 1 Zmにおいて 5〜 1 50m2 gの範囲を採り得る。 尚、 上記 BET比表面積は、 窒素吸着法によって測定した値である。
本発明のシリカ微粒子は、 前記特殊な粒子構造を有することによって、 その用 途において、ヒュームドシリカ及び溶融球状シリカの優位的特性を享受しながら、 前記問題となる特性を低減することが可能となる。
例えば、 半導体封止樹脂用充填材の用途においては、 樹脂に対して均一且つ高 充填を可能とし、 また、 電子写真用トナー外添剤の用途においては、 トナー樹脂 粒子に対して高い流動性の付与と高い脱落防止性を発揮することができる。 本発明のシリカ微粒子は、 上述した条件を満足するものであれば、 その他の性 状等は特に制限されないが、 含有されるハロゲン元素及びナトリウム等のアル力 リ元素の濃度が 5 0 p p m以下、 好ましくは 3 0 p p m以下であることが、 樹脂 等に充填した場合、シリカ微粒子に起因する金属配線等の腐食を低減でき、また、 電子写真用トナー外添剤としての用途においては、 帯電量の大きさや帯電量の立 ち上がり速度のパラツキを抑える上で好適である。
(シリカ微粒子の製造方法)
本発明のシリカ微粒子の製造方法は、 特に火炎加水分解法や火炎熱分解法のよ うな火炎中における反応によって得ることができ、 特に火炎中の粒子同士の凝集 を調整しながら部分溶着せしめことにより得られる。
具体的には、 原料珪素化合物をガス状で供給する供給口の外周に水素およびノ または炭化水素 (以下、 これらのガスを可燃性ガスと総称する) 並びに酸素をそ れぞれ供給して外周炎を形成することにより、 該珪素化合物をシリカ微粒子に変 換し、 且つ、 火炎中で適度に融着せしめ、 次いで、 融着したシリカ微粒子を分散 した状態で冷却して捕集する (例えば、 配管内を通過せしめた後、 バグフィルタ 一によつて捕集する) ことにより、 本発明のシリカ微粒子を製造することができ る。
上記製造方法において、 フラクタル形状パラメータの値に特に影響を及ぼす条 件の一つはバーナー出口の流速であり、 かかる流速は、 0 . 5〜 1 0 mZ秒の間 で調整することが好ましい。
また、 フラクタル形状パラメータの値に特に影響を及ぼす条件の他の一つは、 原料珪素化合物の濃度、即ち、火炎中におけるシリ力濃度であリ、かかる濃度は、 S i 0 2換算で 0 . 0 5〜5モル/ m 3、特に、 0 . 1〜 3モル Zm 3が好ましい。 さらに、 前記製造方法において、 平均粒子径ゃ比表面積の調整は、 原料珪素化 合物の濃度およびバーナー出口流速、 外周炎の長さ等を、 また、 フラクタル形状 パラメータの値は、 上記条件と共に、 外周炎の温度を調節することによって行う 2003/016726
8 ことができる。
一般に、 原料珪素化合物の濃度を上げると、 平均粒子径は大きくなリ、 比表面 積は小さくなリ、 また、 フラクタル形状パラメータの値は大きくなる。 また、 ノ ーナー出口流速を上げると、 平均粒子径は小さくなリ、 比表面積は大きくなリ、 また、 フラクタル形状パラメータの値は小さくなる。 更に、 外周炎の長さを長く すると、 平均粒子径は大きくなリ、 比表面積は小さくなリ、 また、 フラクタル形 状パラメータの値は大きくなる。 更にまた、 外周炎の温度を上げると、 平均粒子 径は大きくなリ、 比表面積は小さくなリ、 また、 フラクタル形状パラメータの値 は大きくなる。
前記製造方法において、 珪素化合物は、 常温でガス状または液状であるものが 特に制限なく使用される。 例えば、 へキサメチルシクロトリシロキサン、 ォクタ メチルシクロテトラシロキサン、 デカメチルシクロペンタシロキサン、 へキサメ チルジシロキサン、 ォクタメチルトリシロキサンなどのシロキサン、 テトラメ ト キシシラン、 テ卜ラエトキシシラン、 メチルトリメ トキシシラン、 ジメチルジメ トキシシラン、 メチルトリエトキシシランなどのアルコキシシラン、 テトラメチ ルシラン、 ジェチルシラン、 へキサメチルジシラザンなどの有機シラン化合物、 モノクロロシラン、 ジクロロシラン、 卜リクロロシラン、 亍卜ラクロロシラン等 のハロゲン化珪素、 モノシラン、 ジシランなどの無機シラン化合物を原料珪素化 合物として使用することができる。
特に、 上記珪素化合物としてシロキサン類および またはシラザン類またはァ ルコキシシランを使用することにより、 塩素等の不純物が著しく低減されたよリ 高純度の珪素酸化物 (シリカ微粒子) を得ることが可能であり、 また、 取扱い性 も向上する。
本発明のシリカ微粒子は、その用途に応じて、シリル化剤、シリコーンオイル、 シロキサン類、 金属アルコキシド、 脂肪酸及びその金属塩からなる群から選ばれ る少なくとも 1種の処理剤によつて表面処理されていてもよい。
具体的なシリル化剤として、 テトラメ トキシシラン、 メチルトリメ トキシシラ ン、 ジメチルジメ トキシシラン、 フエ二ル リメ トキシシラン、 ジフエ二ルジメ トキシシラン、 o—メチルフエニルトリメ トキシシラン、 p—メチルフエニルト リメ トキシシラン、 n—プチルトリメ トキシシラン、 ί一プチルトリメ トキシシ ラン、 へキシル卜リメ トキシシラン、 ォクチルトリメ 卜キシシラン、 デシルトリ メ トキシシラン、 ドデシルトリメ トキシシラン、 テトラエ卜キシシラン、 メチル トリエトキシシラン、ジメチルジェトキシシラン、フエニルトリエトキシシラン、 ジフエ二ルジェトキシシラン、 i一ブチルトリエトキシシラン、 デシルトリエト キシシラン、 ビニルトリエトキシシラン、 Γーメタクリロキシプロピル卜リメ ト キシシラン、 Tーグリシドキシプロビルトリメ トキシシラン、 rーグリシドキシ プロピルメチルジメトキシシラン、 —メルカプトプロビルトリメ トキシシラン、 r一クロ口プロビルトリメ トキシシラン、 τーァミノプロビルトリメ トキシシラ ン、 τーァミノプロピル卜リエトキシシラン、 r一 (2—アミノエチル) ァミノ プロビルトリメ 卜キシシラン、 r— ( 2—アミノエチル) ァミノプロピルメチル ジメ トキシシラン等のアルコキシシラン類、 へキサメチルジシラザン、 へキサェ チルジシラザン、 へキサプロピルジシラザン、 へキサブチルジシラザン、 へキサ ペンチルジシラザン、 へキサへキシルジシラザン、 へキサシクロへキシルジシラ ザン、 へキサフエニルジシラザン、 ジビニルテ卜ラメチルジシラザン、 ジメチル テトラビニルジシラザン等のシラザン類等が挙げられる。
また、 シリコーンオイルとしては、 ジメチルシリコーンオイル、 メチルハイド ロジェンシリコーンオイル、 メチルフエニルシリコーンオイル、 アルキル変性シ リコーンオイル、 脂肪酸変性シリコーンオイル、 ポリエーテル変性シリコーンォ ィル、 アルコキシ変性シリコーンオイル、 カルビノール変性シリコーンオイル、 ァミノ変性シリコーンオイル、 末端反応性シリコーンオイル等が挙げられる。 また、 シロキサン類としては、 へキサメチルシクロトリシロキサン、 ォクタメ チルシクロテトラシロキサン、 デカメチルシクロペンタシロキサン、 へキサメチ ルジシロキサン、 ォクタメチルトリシロキサン等が挙げられる。
また、 金属アルコキシドとしては、 トリメ トキシアルミニウム、 卜リエトキシ アルミニウム、 卜リー ί一プロポキシアルミニウム、 卜リー r>—ブ卜キシアルミ 二ゥム、 トリー s—ブトキシアルミニウム、 トリー t一ブトキシアルミニウム、 モノ一 s—ブトキシジ一 i一プロピルアルミニウム、 テトラメ トキシチタン、 テ トラエトキシチタン、 テトラー i一プロポキシチタン、 テトラー n—プロポキシ チタン、 テトラ一 n—ブトキシチタン、 テトラー s—ブトキシチタン、 テトラー t—ブトキシチタン、 テトラエトキシジルコニウム、 テトラー i一プロボキシジ ルコ二ゥム、テトラー n—ブトキシジルコ二ゥ厶、ジメトキシ錫、ジェトキシ錫、 ジー n—ブトキシ錫、 テトラエトキシ錫、 テトラー i一プロポキシ錫、 テトラー n—ブトキシ錫、 ジエトキシ亜鉛、 マグネシウムメトキシド、 マグネシウムエト キシド、 マグネシウムィソプロポキシド等が挙げられる。
また、 更に脂肪酸及びその金属塩を具体的に例示すれば、 ゥンデシル酸、 ラウ リン酸、 トリデシル酸、 ドデシル酸、 ミリスチン酸、 パルミチン酸、 ペンタデシ ル酸、 ステアリン酸、 ヘプタデシル酸、 ァラキン酸、 モンタン酸、 ォレイン酸、 リノール酸、 ァラキドン酸などの長鎖脂肪酸が挙げられ、 その金属塩としては亜 鉛、 鉄、 マグネシウム、 アルミニウム、 カルシウム、 ナトリウム、 リチウム等の 金属との塩が挙げられる。
上記表面処理剤のうち、 電子写真用トナー外添剤の用途に供するシリカ微粒子 に対しては、 へキサメチルジシラザン、 ジメチルシリコーンオイル、 rーァミノ プロピルトリエトキシシラン、 丫一 ( 2—アミノエチル) ァミノプロピルメチル ジメトキシシランからなる群から選ばれた少なくとも 1種の処理剤によって表面 処理するのがよリ好適である。
上記表面処理剤を使用した表面処理の方法は公知の方法が何ら制限無く使用で きる。 例えば、 シリカ微粒子を攪拌下に表面処理剤を噴霧するか、 蒸気で接触さ せる方法が一般的である。
また、上記表面処理されたシリカ微粒子のハロゲン元素及び/又はアル力リ元素 濃度も 5 O p p m以下、 好ましくは、 3 0 p p m以下とすることにより、 充填し たシリカ微粒子に起因する金属等の腐食低減や電子写真用トナー外添剤としての 用途において、 帯電量の大きさや帯電量の立ち上がり速度のバラツキを抑える上 で好適であり、 そのためには、 使用する処理剤は、 上記純度を達成する程度に精 製したものを使用することが好ましい。
本発明のシリカ微粒子を半導体封止樹脂用充填材として使用する場合、 その配 合量は、 液状樹脂 1 0 0重量部に対して 5〜 3 0 0重量部の割合で使用すること が出来る。 尚、 液状樹脂としては、 エポキシ樹脂、 フエノール樹脂、 ポリイミド 樹脂、 マレイミド樹脂などの半導体封止に使用される熱硬化性樹脂の未硬化物が 使用され、 この液状樹脂には、 一般に、 上記の充填材とともに、 硬化剤、 硬化促 進剤、 着色剤、 離型剤などが配合される。 例えば、 上述した平均粒径の小さい本 発明のシリカ微粒子は、 平均粒径の大きな他の充填材の粒子 (例えば溶融球状シ リカ粒子) などと混合し、 粒径の大きな充填材の粒子の隙間を埋めるような形で 使用に供されるのがよい。
また、 電子写真用トナー外添剤として本発明のシリカ微粒子を使用する場合、 その外添量は、 トナー樹脂粒子 1 00重量部に対して 0. 2〜3重量部とするの が一般的である。 実施例
本発明をさらに具体的に説明するため以下実施例および比較例をあげて説明す るが、 本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 なお、 以下の実施例 および比較例における各種の物性測定等は以下の方法による。
1. 小角 X線散乱測定
試料のシリカ微粒子を、 基板に設けられた貫通孔 (縦 40mm、 横 5mm、 高 さ 1 mm) に充填し、 充填した試料の両側を厚さ 6 jUmのポリプロピレンフィル ムで鋏み込むことで保持したものを測定に供した。 Kratzky-U-slitを装備したマ ックサイエンス社製二軸小角 X線散乱装置(M1 8XH F22) を用いて、下記の 条件で測定を行った。
入射 X線: C u— KQf線
管電圧: 40 k V
管電流: 300mA
スリット幅: 1 0 / m
検出器走査角度: 0. 025度〜 0. 900度
2. 平均粒子径測定
堀場製作所製レーザ一回折散乱式粒度分布測定装置(L A— 920)を用いて、 体積基準での 50 <½積算平均粒径 (D50) を測定した。 尚、 測定には純水 1 50 m lにシリカ微粒子 0. 5 gを加えた後に、 出力 200Wの超音波ホモジナイザ 一で 1分間分散させたシリカスラリーを測定試料として用いた。
3. 比表面積測定
柴田理化学社製比表面積測定装置 (SA— 1 000) を用いて、 窒素吸着 BE T 1点法により測定した。
4. 粘度測定
ジャパンエポキシレジン社製、 エポキシ樹脂 (ェピコート 81 5) にシリカ微 粒子を 4重量部添加し、 常温において特殊機化工業社製ホモミキサーを用い、 常 温において 3000 r pmで 2分間分散させた後、 摂氏 25度の恒温槽に 2時間 静置し、 BL型回転粘度計を用い 60 r pmでの粘度を測定した。
5. 高充填時の樹脂硬化物の強度
下記に示す割合で種々の成分と配合し、 加熱ロールで混練し、 冷却した後粉碎 しエポキシ樹脂組成物を得た。 このエポキシ樹脂組成物を 1 75°Cに加熱した金 型中で熱硬化させ、 1 Ommx 2 Ommx 5mmのエポキシ樹脂硬化物を得た。 このエポキシ樹脂硬化物 1 0個を温度 25°C、 相対湿度 80%に設定した恒温恒 湿器に 24時間静置後、 250°Cのオイルバスに 1 0秒間浸し、 クラックが発生 した個数でエポキシ樹脂硬化物の強度を評価した。
〔エポキシ樹脂組成物配合〕
エポキシ樹脂 (ビフエニル型エポキシ樹脂) 1 00重量部
硬化剤 (フエノールノボラック樹脂) 52. 3重量部 硬化促進剤 (トリフエニルホスフィン) 3. 0重量部
離型剤 (エステルワックス) 1 4. 9重量部 着色剤 (カーボンブラック) 3. 0重量部
シランカップリング剤 (エポキシシラン) 6. 0重量部 溶融球状シリカ (平均粒子径 1 7 /m) : 1 238
試料シリカ微粒子 : 74.
6. 電子写真用トナー外添剤としての特性評価
電子写真用トナー外添剤としての特性評価 (流動性、 画像特性、 クリーニング 性) には、 へキサメチルジシラザンによリシリカ微粒子表面を疎水化処理したシ リカ微粒子を用いた。 へキサメチルジシラザンによる疎水化処理の方法は次の通 リである。 まず、 シリカ微粒子をミキサーに入れて撹拌し、 窒素雰囲気に置換す ると同時に 250°Cに加熱した。 その後、 ミキサーを密閉してへキサメチルジシ ラザン 60重量部を噴霧し、 そのまま 30分間撹拌して疎水化処理を実施した。
6-1. 流動性
球状ポリスチレン樹脂 (綜研化学 (株) 社製 SX— 500H、 平均粒子径 5 m) に対して、 シリカ試料を 2重量%となるように添加し、 ミキサーで 5分間混 合した。これを 35°C、 850/0相対湿度で調湿した。この混合粉試料の流動性を、 パウダテスタ (ホソカワミクロン社製、 PT— R型) にて圧縮度を測定すること により評価した。 圧縮度とは次式 (3) で示される。
圧縮度 = (固め見掛け比重一ゆるみ見掛け比重) Z固め見掛け比重 X 1 00
… (3) 尚、 上記式 (3) において、 式中のゆるみ見掛け比重、 固め見掛け比重とは、 それぞれ、 以下の通りである。
ゆるみ見掛け比重: 1 0 Om Iのカップに試料粉を入れ、 タッピングをしな い状態で測定した比重
固め見掛け比重 : 1 0 Om Iのカップに試料粉を入れ、 1 80回タツピン グした後の見掛け比重
圧縮度の値が小さいほど、 流動性が良好と判定した。
また、 ミキサーでの混合時間を 5分間から 60分間に変えた時の圧縮度も測定 し、実使用下で現像枚数が増加した場合の流動性低下に対する耐久性を評価した。
6-2. 画像特性
平均粒子径 7/ mのトナーに上記のシリカ試料を 1 <½添加して攪拌混合し、 卜 ナー組成物を調製した。 このトナー組成物を用い、 市販の複写機によって 3万枚 複写した後に、 B 4サイズで全面ベタ画像を 1 0枚出力した。 画像中の白抜け発 生が少ない方ほど、 画像特性が良好と判定した。
o ほとんど白抜けは見られない。
厶 若干の白抜けが見られる。
X 白抜けが多く見られる。
6-3. クリーニング性 クリーニング性評価については、 実機評価終了後、 潜像担持体上表面の傷や残 留トナー の固着発生状況と出力画像への影響を目視で評価した。
◎:未発生。
〇:傷がわずかに認められるが、 画像への影響はない。
厶:残留トナー や傷が認められるが、 画像への影響は少ない。
X :残留トナー がかなリ多く、 縦スジ状の画像欠陥が発生。
X X :残留トナー が固着して、 画像欠陥も多数発生。
7 . 不純物分析
I C P発光分光光度法、 原子吸光光度法およびイオンクロマト法により、 鉄、 アルミニウム、 クロム、 ニッケル、 ナトリウムおよび塩素の元素について定量し た。 実施例 1〜 4
酸素一水素炎で形成された外炎中において、 表 1に記載した各燃焼条件で、 ォ クタメチルシクロテトラシロキサンを酸水素火炎中にて燃焼酸化させることによ つて、 表 2に示すシリカ微粒子を製造した。
得られたシリカ微粒子の平均粒子径、 B E T比表面積、 小角 X線散乱測定によ リ算出したフラクタル形状パラメータ 値、 2値、粘度および樹脂硬化物強度 を表 1に併せて示す。 何れの場合も、 比較例に比べ、 大きな粘度の増大は見られ ない。 また、 不純物測定結果を表 3に示す。
比較例 1〜 5
市販品のヒュームドシリカ粒子および溶融シリカ粒子について、 平均粒子径、 B E T比表面積、 フラクタル形状パラメータ 直、 2値、粘度および樹脂硬化 物強度を表 2に示す。
但し、 比較例"!〜 3ではエポキシ樹脂組成物作成時に粘度が高くなリ過ぎたた め、 加熱ロールでの混練が不可能となり、 樹脂硬化物強度を測定できなかった。 不純物測定結果を表 3に示す。 燃焼条件
シリカ 1モル
平均ガス
A 水素 に対する理論 酸素
供飴速度
(モル) (モル) 燃焼熱量 (比率)
(mZ秒 1
( k c a I )
実施例 1 1 1 6 0 2 7 5 3 1 . 0 1 . 0
実施例 2 1 4 0 1 0 2 5 2 . 1 1 . 1
実施例 3 1 1 6 0 2 7 5 3 1 . 6 0 . 9
実施例 4 1 1 6 0 2 7 5 3 2 . 1 1 . 1
* 1 標準状態の値である。
また、 表中 Aは、 ォクタメチルシクロテトラシロキサンである c 表 2
Figure imgf000017_0001
* 2 エポキシ樹脂組成物作成時に粘度が高くなリ過ぎたため、 加熱ロールでの 混練が不可能となリ、 樹脂硬化物強度を測定できなかった。
表 3
Figure imgf000018_0001
実施例 5 - 8
ォクタメチルシクロテトラシロキサンを酸水素火炎中で燃焼酸化させることに よって、 表 4に記載した各燃焼条件でシリカ微粒子を製造した。 得られたシリカ 微粒子の平均粒子径、 B E T比表面積、 フラクタル形状パラメータ 値、 2 値、 および電子写真用トナー外添剤としての特性評価 (流動性、 画像特性、 クリ 一二ング性) を表 4に併せて示す。 また、 不純物測定結果を表 5に示す。
比較例 6〜 1 0
市販品のヒュームドシリカ粒子および溶融シリカ粒子について、 平均粒子径、 B E T比表面積、 フラクタル形状パラメータ 値、 2値、 および電子写真用ト ナ一外添剤としての特性評価 (流動性、 画像特性、 クリーニング性) を表 4に示 す。 また、 不純物測定結果を表 5に示す。 表 4 .
原料ガス シリカ微粒子
シリカ 1 性
才クタメチ モルに対 平均ガス 平均粒 り土 ΐ 度
ルシクロテ 水素 酸素 比表面積
する理論 供給速度
卜ラシロキ /子径、 a 2
(モル) (比率) (m2/s) Oi l
(Nm ) 混合 混合 画像 クリー ナン (モル) 燃焼熱量
(kcal) 5分 6 0分 特性 ニング 性 夫雁 o 1 160 2753 1.0 1.0 0.2 35 2.766 1.293 28.5 29.1 O 〇
1 40 1025 2.1 1.1 0.2 65 2.367 1.706 26.9 27.2 〇
^MpU ( 1 160 2753 1.6 0.9 0.1 110 2.199 1.233 25.2 26.1 O ◎
Φ倫掘 R 1 160 2753 2.1 1.1 0.1 150 1.882 1.294 22.1 23.4 0 ◎ 比較例 6 0.2 63 2.031 1.023 35.6 39.8 X X 比較例 7 0.1 82 1.635 0.931 32.2 35.9 △ Δ 比較例 8 0.1 145 1.386 0.914 27.1 34.7 △ Δ 比較例 9 0.4 11 3.112 2.135 38.1 41.2 X X X 比較例 1 0 0.6 6 3.314 1.867 39.7 42.5 X X X
表 5
不純物元素の種類と量 (p pm)
F e A 1 N 1 C r N a C 1 実施例 <2
<5 <5 <5 <3 <3
5 0
実施例 ぐ 2
<5 <5 <5 <3 <3 6 0
実施例 <2
<5 <5 <5 <3 ぐ 3 7 0
実施例 ぐ 2
<5 <5 <5 <3 ぐ 3 8 0
比較例 <2 <5
<5 <5 <5 <3
6 0 0 比較例 <2 <5
<5 <5 ぐ 5 <3
7 0 0 比較例 ぐ 2 ぐ 5
<5 ぐ 5 <5 ぐ 3
8 0 0 比較例 <2
<5 <5 <5 <3 ぐ 3 9 0
比較例 1 <2
<5 <5 <5 <3 <3 0 0

Claims

請求の範囲
1. 平均粒子径が 0. 05〜1 jUmであり、 小角 X線散乱測定において、 解 析対象範囲 50 nm〜 1 50 n mのフラクタル形状パラメータ 及び解析対象 範囲 1 50 nm〜353 n mのフラクタル形状パラメータ 2が下記式 ( 1 ) 及 び (2) :
—0. 0068S + 2. 548≤α τ≤-0. 0068S + 3. 748 ( 1 ) - 0. 001 1 S + 1. 1 58≤ α2≤-0. 001 1 S + 2. 058 (2) 式 (1 ) 及び (2) 中、 Sは、 シリカ微粒子の BET比表面積 (m2Zg) を示す、
で示される条件を満足していることを特徴とするシリカ微粒子。
2. ハロゲン元素濃度が 50 p pm以下である請求の範囲 1記載のシリカ微 粒子。
3. ナトリウム元素濃度が 50 p pm以下である請求の範囲 1記載のシリカ 微粒子。
4. シリル化剤、 シリコーンオイル、 シロキサン類、 金属アルコキシド、 脂 肪酸及びその金属塩からなる群から選ばれる少なくとも 1種の処理剤によって表 面処理されてなる請求項 1に記載のシリカ微粒子。
5. 請求の範囲 1に記載のシリカ微粒子よりなる半導体封止樹脂用充填材。
6. 請求の範囲 1に記載のシリカ微粒子よりなる電子写真用トナー外添剤。
7. シリ力微粒子が、へキサメチルジシラザン、ジメチルシリコーンオイル、 一ァミノプロピルトリエトキシシラン、 T一 (2—アミノエチル) ァミノプロ ピルメチルジメ トキシシランからなる群から選ばれる少なくとも一種の処理剤に よって表面処理されてなる請求の範囲 6記載の電子写真用トナー外添剤。
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