JP4579265B2 - 高度の流動性を有する疎水性球状シリカ微粒子、その製造方法、それを用いた静電荷像現像用トナー外添剤およびそれを含有する有機樹脂組成物 - Google Patents
高度の流動性を有する疎水性球状シリカ微粒子、その製造方法、それを用いた静電荷像現像用トナー外添剤およびそれを含有する有機樹脂組成物 Download PDFInfo
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Description
平均一次粒子径が5〜50nmのヒュームドシリカを、ヘキサメチルジシラザンで表面処理して粒子表面のシラノール基を40%以上封鎖し、かつ残存シラノール基濃度が1.5個/nm2以下である酸化ケイ素粒子を得る方法(特許文献2参照。)、
フュームドシリカをヘキサメチルジシラザン等の有機珪素化合物で疎水化処理して、80〜300g/lの嵩密度を有し、単位表面積あたりのOH基が0.5個/nm2以下であり、且つ粒子径45μm以上の凝集粒子が2000ppm以下である疎水性フュームドシリカを得る方法(特許文献3参照。)、
フュームドシリカを、ポリシロキサンで処理した後、トリメチルシリル化剤で処理して疎水性シリカ粉体を得る方法(特許文献4参照。)、
フュームドシリカにシリコーンオイル系処理剤による一次表面処理、一次表面処理後の解砕、および解砕後のアルキルシラザン系処理剤による二次表面処理を行うことによって高分散疎水性シリカ粉体を得る方法(特許文献5参照。)がある。
4官能性シラン化合物および/またはその部分加水分解縮合生成物を加水分解および縮合することによって得られた実質的にSiO2単位からなる親水性球状シリカ微粒子の表面にR1SiO3/2単位(式中、R1は置換または非置換の炭素原子数1〜20の1価炭化水素基である)を導入する工程と、次いでR2 3SiO1/2単位(式中、R2は同一または異なり、置換または非置換の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基である)を導入する工程とを含む疎水化処理をして得られ、
基本流動性エネルギーが500mJ以下であり、
粒子径が0.005〜0.09μmである
疎水性球状シリカ微粒子を提供する。
(A1)一般式(I):
Si(OR3)4 (I)
(但し、R3は同一または異種の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示される4官能性シラン化合物またはその部分加水分解生成物またはこれらの混合物を塩基性物質の存在下親水性有機溶媒と水の混合液中で加水分解、縮合することによって実質的にSiO2単位からなる親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得、
(A2):得られた親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液に、一般式(II):
R1Si(OR4)3 (II)
(但し、R1は置換または非置換の炭素原子数1〜20の一価炭化水素基、R4は同一または異種の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示される3官能性シラン化合物またはその部分加水分解生成物またはこれらの混合物を添加して親水性球状シリカ微粒子表面をこれにより処理することにより、前記親水性球状シリカ微粒子の表面にR1SiO3/2単位(但し、R1は前記の通り)を導入し、第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得、
(A3):次いで該第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液から親水性有機溶媒と水の一部を除去し濃縮することにより第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒濃縮分散液を得、
(A4)得られた第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒濃縮分散液に一般式(III):
R2 3SiNHSiR2 3 (III)
(但し、R2は同一または異種の置換または非置換の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示されるシラザン化合物、一般式(IV):
R2 3SiX (IV)
(但し、R2は一般式(III)に同じ。XはOH基または加水分解性基)
で示される1官能性シラン化合物またはこれらの混合物を添加し、前記第一の疎水性球状シリカ微粒子表面をこれにより処理して該第一の疎水性球状シリカ微粒子の表面にR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)を導入することにより第二の疎水性シリカ微粒子として得る、請求項1に記載の疎水性球状シリカ微粒子の製造方法を提供する。
(B1)一般式(I):
Si(OR3)4 (I)
(但し、R3は同一または異種の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示される4官能性シラン化合物またはその部分加水分解生成物またはこれらの混合物を塩基性物質を含む親水性有機溶媒と水の混合液中で加水分解、縮合することによって実質的にSiO2単位からなる親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得、
(B2)得られた親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液に、一般式(II):
R1Si(OR4)3 (II)
(但し、R1は置換または非置換の炭素原子数1〜20の一価炭化水素基、R4は同一または異種の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示される3官能性シラン化合物またはその部分加水分解生成物またはこれらの混合物を添加して親水性球状シリカ微粒子表面をこれにより処理することにより、前記親水性球状シリカ微粒子の表面にR1SiO3/2単位(但し、R1は前記の通り)を導入し、第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得、
(B3)得られた第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液に一般式(III):
R2 3SiNHSiR2 3 (III)
(但し、R2は同一または異種の置換または非置換の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示されるシラザン化合物、一般式(IV):
R2 3SiX (IV)
(但し、R2は一般式(III)に同じ。XはOH基または加水分解性基)
で示される1官能性シラン化合物またはこれらの混合物を添加し、第一の疎水性球状シリカ微粒子表面をこれにより処理してに残存する反応性基をトリオルガノシリル化して該疎水性球状シリカ微粒子の表面にR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)を導入し第二の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得、
(B4)得られた第二の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液の分散媒を炭化水素系溶媒に変換し、該第二の疎水性球状シリカ微粒子炭化水素系溶媒分散液を得、
(B5)得られた該第二の疎水性球状シリカ微粒子炭化水素系溶媒分散液に一般式(III)で示されるシラザン化合物、一般式(IV)で示される1官能性シラン化合物またはこれらの混合物を添加し、前記第二の疎水性球状シリカ微粒子表面をこれによりさらに処理して該疎水性球状シリカ微粒子の表面にR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)をさらに導入することにより第三の疎水性球状シリカ微粒子として得る、請求項1に記載の疎水性球状シリカ微粒子の製造方法を提供する。
(a)有機樹脂100質量部と、
(b)請求項1に記載の疎水性球状シリカ微粒子0.01〜20質量部と
を含んでなる有機樹脂組成物を提供する。
<疎水性球状シリカ微粒子の特徴>
まず、本発明の疎水性球状シリカ微粒子の特徴について、詳細に説明する。
本発明の微粒子は、4官能性シラン化合物および/またはその部分加水分解縮合生成物を加水分解および縮合することによって得られた実質的にSiO2単位からなる親水性球状シリカ微粒子の表面にR1SiO3/2単位(式中、R1は置換または非置換の炭素原子数1〜20の1価炭化水素基である)を導入する工程と、次いでR2 3SiO1/2単位(式中、R2は同一または異なり、置換または非置換の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基である)を導入する工程とを含む疎水化処理をして得られた疎水性球状シリカ微粒子であって、基本流動性エネルギーが500mJ以下、好ましくは400mJ以下であり、粒子径が0.005〜0.09μmであり、好ましくは0.01〜0.07μm、特に好ましくは0.04〜0.06μmである。
該方法によると、本発明の疎水性球状シリカ微粒子は、
工程(A1):親水性球状シリカ微粒子の合成工程、
工程(A2):3官能性シラン化合物による表面処理工程、
工程(A3):濃縮工程、
工程(A4):1官能性シラン化合物による表面処理工程
によって得られる。以下、各工程を順を追って説明する。
一般式(I):
Si(OR3)4 (I)
(但し、R3は同一または異種の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示される4官能性シラン化合物またはその部分加水分解生成物またはこれらの混合物を塩基性物質を含む親水性有機溶媒と水の混合液中で加水分解、縮合することによって親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得る。
R5OH (V)
[式中、R5は炭素原子数1〜6の1価炭化水素基である]
で示されるアルコールが挙げられる。
工程(A1)において得られた親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液に、一般式(II):
R1Si(OR4)3 (II)
(但し、R1は置換または非置換の炭素原子数1〜20の一価炭化水素基、R4は同一または異種の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示される3官能性シラン化合物またはその部分加水分解生成物またはこれらの混合物を添加して親水性球状シリカ微粒子表面をこれにより処理することにより、前記親水性球状シリカ微粒子の表面にR1SiO3/2単位(但し、R1は前記の通り)を導入し、第一の疎水性球状シリカ微粒子の混合溶媒分散液を得る。
工程(A2)で得られた第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液から親水性有機溶媒と水の一部を除去し濃縮することにより第一の疎水性球状シリカ微粒子の混合溶媒濃縮分散液を得る。親水性有機溶媒と水の一部を除去する方法としては、例えば留去、減圧留去などが挙げられる。得られる濃縮分散液はシリカ微粒子濃度が15〜40質量%であることが好ましく、20〜35質量%であることがより好ましく、25〜30質量%であることが特に好ましい。15質量%より少ないと後工程の表面処理がうまくゆかず、40質量%より大きいとシリカ微粒子の凝集が生じてしまう。
工程(A3)で得られた第一の疎水性球状シリカ微粒子の混合溶媒濃縮分散液に一般式(III):
R2 3SiNHSiR2 3 (III)
(但し、R2は同一または異種の置換または非置換の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示されるシラザン化合物、一般式(IV):
R2 3SiX (IV)
(但し、R2は一般式(III)に同じ。XはOH基または加水分解性基)
で示される1官能性シラン化合物またはこれらの混合物を添加し、これにより前記第一の疎水性球状シリカ微粒子表面を処理し該微粒子の表面にR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)を導入することにより第二の疎水性球状シリカ微粒子を得る。この工程では、上記の処理により第一の疎水性球状シリカ微粒子の表面に残存するシラノール基をトリオルガノシリル化する形でR2 3SiO1/2単位が該表面に導入される。
次に、本発明の疎水性球状シリカ微粒子の別の製造方法について詳細に説明する。該製造方法によると、本発明の疎水性球状シリカ微粒子は、
工程(B1):親水性球状シリカ微粒子の合成工程、
工程(B2):3官能性シラン化合物による表面処理工程、
工程(B3):1官能性シラン化合物による表面処理工程、
工程(B4):溶媒変換工程、
工程(B5):1官能性シラン化合物による表面処理工程
によって得られる。
以下、各工程を順を追って説明する。
本工程は、製造方法Aにおける工程(A1)と同じであり、実質的にSiO2単位からなる親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得る。
本工程(B2)は、製造方法Aにおける工程(A2)と同じであり、第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得る。
工程(B2)で得られた第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液に前記一般式(III)で示されるシラザン化合物、前記一般式(IV)で示される1官能性シラン化合物またはこれらの混合物を添加し、これにより第一の疎水性球状シリカ微粒子の表面を処理して該表面にR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)を導入し、第二の疎水性球状シリカ微粒子の混合溶媒分散液を得る。
工程(B3)で得られた第二の疎水性球状シリカ微粒子の混合溶媒分散液の分散媒を炭化水素系溶媒に変換し、第二の疎水性球状シリカ微粒子の炭化水素系溶媒分散液を得る。
工程(B4)で得られた第二の疎水性球状シリカ微粒子の炭化水素系溶媒分散液に、前記一般式(III)で示されるシラザン化合物、前記一般式(IV)で示される1官能性シラン化合物またはこれらの混合物を添加し、これにより前記第二の疎水性球状シリカ微粒子表面をさらに処理して該疎水性球状シリカ微粒子の表面にR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)をさらに導入する。
この処理では、該第二の疎水性球状シリカ微粒子の表面に残存するシラノール基をトリオルガノシリル化する形でR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)がさらに導入される。
本発明の疎水性球状シリカ微粒子は、トナー外添剤として使用することができる。該微粒子からなるトナー外添剤(以下、単に「微粒子」とも言う)のトナーに対する配合量は、トナー100質量部に対して、通常0.01〜20質量部であり、好ましくは0.1〜5質量部、特に好ましくは1〜2質量部である。この配合量が少なすぎると、トナーへの付着量が少ないために、トナーに十分な流動性、耐ケーキング性を付与することができず、多すぎるとトナーの帯電性に悪影響を及ぼす。
本発明の有機樹脂組成物は、(a)有機樹脂100質量部と、(b)本発明の疎水性球状シリカ微粒子0.01〜20質量部とを含有してなる組成物である。
(b)成分の微粒子の粒子径は、例えば上記樹脂フィルムを成形した場合には、樹脂フィルム表面の滑り性、耐ブロッキング性および透明性が良好であり、かつ該微粒子の粒子径が0.005〜0.09μm、好ましく0.04〜0.06μmであるので、未硬化樹脂組成物中で経時的にも沈降が起り難い。
[製造方法Aによる疎水性球状シリカ微粒子の合成]
・工程(A1):親水性球状シリカ微粒子の合成工程
攪拌機と、滴下ロートと、温度計とを備えた3リットルのガラス製反応器にメタノール989.5gと、水135.5gと、28%アンモニア水66.5gとを入れて混合した。この溶液を35℃となるように調整し、攪拌しながらテトラメトキシシラン436.5g(2.87モル)を6時間かけて滴下した。この滴下が終了した後も、さらに0.5時間攪拌を継続して加水分解を行うことにより、親水性球状シリカ微粒子の懸濁液を得た。
上で得られた懸濁液に室温でメチルトリメトキシシラン4.4g(0.03モル)を0.5時間かけて滴下し、滴下後も12時間攪拌を継続し、シリカ微粒子表面を疎水化処理することにより、疎水性球状シリカ微粒子分散液を得た。
次いで、ガラス製反応器にエステルアダプターと冷却管とを取り付け、前工程で得られた分散液を60〜70℃に加熱してメタノールと水の混合物1021gを留去し、疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒濃縮分散液を得た。このとき、濃縮分散液中の疎水性球状シリカ微粒子含有量は28質量%であった。
前工程で得られた濃縮分散液に、室温において、ヘキサメチルジシラザン138.4g(0.86モル)を添加した後、この分散液を50〜60℃に加熱し、9時間反応させることにより、分散液中のシリカ微粒子をトリメチルシリル化した。次いで、この分散液中の溶媒を130℃、減圧下(6650Pa)で留去することにより、疎水性球状シリカ微粒子186gを得た。
1.工程(A1)で得られた親水性球状シリカ微粒子の粒子径測定
メタノールにシリカ微粒子懸濁液を、シリカ微粒子が0.5質量%となるように添加し、10分間超音波にかけることにより、該微粒子を分散させた。このように処理した微粒子の粒度分布を、動的光散乱法/レーザードップラー法ナノトラック粒度分布測定装置(日機装株式会社製、商品名:UPA-EX150)により測定し、その体積基準メジアン径を粒子径とした。なお、メジアン径とは粒度分布を累積分布として表した時の累積50%に相当する粒子径である。
メタノールにシリカ微粒子を、0.5質量%となるように添加し、10分間超音波にかけることにより、該微粒子を分散させた。このように処理した微粒子の粒度分布を、動的光散乱法/レーザードップラー法ナノトラック粒度分布測定装置(日機装株式会社製、商品名:UPA-EX150)により測定し、その体積基準メジアン径を粒子径とした。
電子顕微鏡(日立製作所製、商品名:S-4700型、倍率:10万倍)によって観察を行い、形状を確認した。「球状」とは、真球だけでなく、若干歪んだ球も含む。なおこのような粒子の形状は、粒子を二次元に投影した時の円形度で評価し、円形度が0.8〜1の範囲にあるものとする。ここで円形度とは、(粒子面積と等しい円の周囲長)/(粒子周囲長)である。
流動性は、粉体流動性分析装置FT−4(シスメックス(株)製)を用いて測定した。この装置の測定原理を説明する。垂直に置かれた筒状容器に粉体を充填し、該粉体中を垂直な軸棒の先端に設けられた二枚の回転翼(ブレード)を回転させながら一定の距離(高さH1からH2まで)下降させる。このときに粉体から受ける力をトルク成分と荷重成分とに分けて測定することにより、ブレードがH1からH2まで下降するのに伴うそれぞれの仕事量(エネルギー)を求め、次いで両者のトータルエネルギー量を求める。こうして測定されたトータルエネルギー量が小さいほど粉体の流動性が良好であることを意味するので、粉体流動性の指標として使用する。この装置にて安定性試験を行なった。
容器:容積160ml(内径50mm、長さ79mm)のガラス製円筒型容器を使用した。
ガラス転移温度Tg60℃、軟化点110℃であるポリエステル樹脂96質量部と、着色剤(住友カラー(株)製、商品名:カーミン6BC)4質量部とを、溶融混練、粉砕および分級することにより、平均粒径7μmのトナーを得た。このトナー40gに上記の実施例および比較例の各例において得た疎水性球状シリカ微粒子1gをサンプルミルにより混合し、外添剤混合トナーとした。これを用いて、下記の測定方法5に従って、トナー流動性を測定した。なお、得られた結果を表1に示す。
5.トナー流動性の測定
トナーの流動性は、粉体流動性分析装置FT−4(シスメックス(株)製)を用いて測定した。安定性試験、及び圧縮試験を行なった。
容器:安定性試験では、容積120ml(内径50mm、長さ60mm)のガラス製円筒型容器を使用した。圧縮試験では容積25ml(内径25mm、長さ52.5mm)のガラス製円筒型容器を使用した。
ブレード:円筒型容器内の中央に鉛直に装入されるステンレス製の軸棒の先端に水平に対向する形で二枚取り付けられている。ブレードは、容積120mlの容器の場合は直径48mmのものを使用し、容積25mlの容器の場合には直径23.5mmのものを使用する。
外添剤混合トナー5質量部と、平均粒径85μmのフェライトコアにパーフルオロアルキルアクリレート樹脂およびアクリル樹脂をポリブレンドしたポリマーでコーティングしたキャリア95質量部とを混合して、現像剤を調製した。この現像剤を用いて、下記の測定方法6および7に従って、トナー帯電量および感光体へのトナー付着について測定した。なお、得られた結果を表1に示す。
6.トナー帯電量の測定
上記現像剤を高温高湿(30℃、90%RH)または低温低湿(10℃、15%RH)の条件下に1日放置した後、振とう機により30秒間混合して、摩擦帯電を行った。それぞれの試料の帯電量を、同一条件下で、ブローオフ粉体帯電量測定装置(東芝ケミカル(株)製、商品名:TB-200型)を用いて測定した。上記2つの条件におけるトナー帯電量の差を求めることにより、該トナーの環境依存性について評価した。
上記現像剤を有機感光体が備えられた二成分改造現像機に入れ、30000枚のプリントテストを行った。該感光体へのトナーの付着は、全ベタ画像での白抜けとして感知できる。なお、白抜けの程度は、10個以上/cm2の場合には「多い」、1〜9個/cm2の場合には「少ない」、0個/cm2の場合には「なし」と評価した。
実施例1において、工程(A1)でメタノール、水、及び28%アンモニア水の量を、それぞれ、メタノール1039.5g、水96.6g、28%アンモニア水55.4gに変えたこと以外は同様にして、疎水性球状シリカ微粒子159gを得た。この疎水性球状シリカ微粒子を用いて実施例1と同様に測定した。この結果を表1に示す。
実施例1において、工程(A1)でメタノール、水、及び28%アンモニア水の量をメタノール1045.7g、水112.6g、28%アンモニア水33.2gに変えたこと以外は同様にして、疎水性球状シリカ微粒子188gを得た。この疎水性球状シリカ微粒子を用いて実施例1と同様に測定した。この結果を表1に示す。
[製造方法Bによる疎水性球状シリカ微粒子の合成]
・工程(B1):親水性球状シリカ微粒子の合成工程
攪拌機と、滴下ロートと、温度計とを備えた3リットルのガラス製反応器にメタノール989.5gと、水135.5gと、28%アンモニア水66.5gとを入れて混合した。この溶液を35℃となるように調整し、攪拌しながらテトラメトキシシラン436.5g(2.87モル)を6時間かけて滴下した。この滴下が終了した後も、さらに0.5時間攪拌を継続して加水分解を行うことにより、親水性球状シリカ微粒子の懸濁液を得た。
前工程で得られた懸濁液に室温でメチルトリメトキシシラン4.4g(0.03モル)を0.5時間かけて滴下し、滴下後も12時間攪拌を継続し、シリカ微粒子表面を疎水化処理することにより、疎水性球状シリカ微粒子分散液を得た。
前工程で得られた分散液に、室温において、ヘキサメチルジシラザン185.2g(1.15モル)を添加した後、この分散液を50〜60℃に加熱し、7時間反応させることにより、分散液中のシリカ微粒子をトリメチルシリル化した。
次いで、ガラス製反応器にエステルアダプターと冷却管とを取り付け、前工程で得られた分散液を60〜70℃に加熱して、メタノールと水の混合物1021gを留去した。さらに、トルエン1590gを添加した後、前記分散液を60〜110℃に加熱してメタノール、水及びトルエンの混合物727gを留去し、疎水性球状シリカ微粒子トルエン分散液を得た。
前工程で得られた分散液に、室温において、ヘキサメチルジシラザン51.7g(0.32モル)を添加した後、この分散液を100〜110℃に加熱し、2時間反応させることにより、分散液中のシリカ微粒子をさらにトリメチルシリル化した。次いで、この分散液中の溶媒を130℃、減圧下(6650Pa)で留去することにより、疎水性球状シリカ微粒子162gを得た。
実施例4において、工程(B1)でメタノール、水、及び28%アンモニア水の量を、それぞれ、メタノール1039.5g、水96.6g、28%アンモニア水55.4gに変えたこと以外は同様にして、疎水性球状シリカ微粒子193gを得た。この疎水性球状シリカ微粒子を用いて実施例1と同様に測定した。この結果を表1に示す。
実施例4において、工程(B1)でメタノール、水、及び28%アンモニア水の量をメタノール1045.7g、水112.6g、28%アンモニア水33.2gに変えたこと以外は同様にして、疎水性球状シリカ微粒子184gを得た。この疎水性球状シリカ微粒子を用いて実施例1と同様に測定した。この結果を表1に示す。
撹拌機、滴下ロート、温度計を備えた3リットルのガラス製反応器にメタノール623.7g、水41.4g、28%アンモニア水49.8gを添加して混合した。この溶液を35℃に調整し、撹拌しながらテトラメトキシシラン1163.7gおよび5.4%アンモニア水418.1gを同時に添加開始し、前者は6時間、そして後者は4時間かけて滴下した。テトラメトキシシラン滴下後も0.5時間撹拌を続け加水分解を行いシリカ微粒子の懸濁液を得た。ガラス製反応器にエステルアダプターと冷却管を取り付け、60〜70℃に加熱しメタノール1132gを留去したところで水1200gを添加し、次いでさらに70〜90℃に加熱しメタノール273gを留去し、シリカ微粒子の水性懸濁液を得た。
撹拌機、滴下ロート、温度計を備えた3リットルのガラス製反応器にメタノール623.7g、水41.4g、28%アンモニア水49.8gを添加して混合した。この溶液を35℃に調整し、撹拌しながらテトラメトキシシラン1163.7gおよび5.4%アンモニア水418.1gを同時に添加開始し、前者は6時間、そして後者は4時間かけて滴下した。テトラメトキシシラン滴下後も0.5時間撹拌を続け加水分解を行いシリカ微粒子の懸濁液を得た。
シリカ微粒子の合成の際にテトラメトキシシランの加水分解温度を35℃の代りに45℃とした以外は比較例1と同様にして各工程を行ったところ、メチルイソブチルケトンへの溶媒変換中にシリカ微粒子が凝固した。
実施例1における工程(A2)を省略した以外は実施例1と同様にして球状疎水性シリカ微粒子を183g得た。得られたシリカ微粒子について実施例1と同様の試験を行った。結果を表1に示す。
実施例1における工程(A3)を省略した以外は実施例1と同様にして球状疎水性シリカ微粒子を176g得た。得られたシリカ微粒子について実施例1と同様の試験を行った。結果を表2に示す。
実施例4における工程(B2)を省略した以外は実施例4と同様にして球状疎水性シリカ微粒子を183g得た。得られたシリカ微粒子について実施例1と同様の試験を行った。結果を表3に示す。
実施例4における工程(B3)を省略した以外は実施例4と同様にして各工程を行なったところ、工程(B4)の溶媒変換中にシリカ微粒子が凝固した。
実施例4における工程(B4)に用いたトルエンをメチルイソブチルケトンに換えた以外は実施例4と同様にして球状疎水性シリカ微粒子を204g得た。この時シリカ微粒子は黄色になった。得られたシリカ微粒子について実施例1と同様の試験を行った。結果を表3に示す。
攪拌機と温度計とを備えた0.3リットルのガラス製反応器に爆燃法シリカ(商品名:SO-C1、アドマテクス社製)100gを仕込み、純水1gを攪拌下で添加し、密閉後、さらに60℃で10時間攪拌した。次いで、室温まで冷却した後、ヘキサメチルジシラザン2gを攪拌下で添加し、密閉後、さらに24時間攪拌した。120℃に昇温し、窒素ガスを通気しながら残存原料および生成したアンモニアを除去し、疎水性球状シリカ微粒子100gを得た。
実施例1の疎水性球状シリカ微粒子の代わりに、ヒュームドシリカを疎水化処理した疎水性シリカ(商品名:アエロジルR972、日本アエロジル(株)製、1次粒子の凝集体、ジメチルジクロロシラン処理品)を用いて、実施例1と同様の試験を行った。結果を表3に示す。
実施例1の疎水性球状シリカ微粒子の代わりに、沈降法シリカ表面を疎水化処理した疎水性シリカ(商品名:ニプシルSS50F、日本シリカ(株)製、1次粒子の凝集体)を用いて、実施例1と同様の試験を行った。結果を表2に示す。
攪拌機と温度計とを備えた0.3リットルのガラス製反応器に爆燃法シリカ(商品名:SO-C1、アドマテクス社製)100gを仕込み、純水1gを攪拌下で添加し、密閉後、さらに60℃で10時間攪拌した。次いで、室温まで冷却した後、メチルトリメトキシシラン1gを攪拌下で添加し、密閉後、さらに24時間攪拌した。次にヘキサメチルジシラザン2gを攪拌下で添加し、密閉後、さらに24時間攪拌した。120℃に昇温し、窒素ガスを通気しながら残存原料および生成したアンモニアを除去し、疎水性球状シリカ微粒子101gを得た。
得られたシリカ微粒子について実施例1と同様の試験を行った。結果を表3に示す。
Tダイ成型用ポリプロピレン樹脂ノーブレンFL−200(メルトフローレート8g/10分)(商品名、三井東圧化学製)100質量部に実施例1で得られた疎水性シリカ微粒子を0.3質量部配合し均一に混合した。得られた混合物を25mm径の単軸押出機にて250℃で押し出し、ペレタイザーによりペレット化した。得られたペレットをさらに20mm径の単軸押出機にて250℃でTダイ押し出し成形を行い、厚み0.5mmのフィルムを得た。得られたフィルムについて以下の特性評価を行った。
フィルムを10枚重ね、全光線透過率を測定した。
フィルム2枚を水平に重ねてその上下を2枚のガラス板にはさみ、上側のガラス板の上に100g/cm2の荷重をのせて室温で24時間放置した。その後上側のガラス板を取り、重なったままで2枚のフィルムを5cm×5cmに切断して試料を作製した。この試料の重ね合わさった端部において2枚のフィルムを反対方向に引っ張り、剥離するのに要する力(g)を測定して耐ブロッキング性の指標とした。剥離に要した力が小さいほど耐ブロッキング性が高い。
フィルムとSBRゴム面の動摩擦係数をASTM D-1894に準拠して測定した。結果を表4に示す。
用いるシリカ微粒子およびその配合量を表4に示すように変えた以外は実施例7と同様にしてフィルムを得、諸特性を同様に評価した。結果を表4に示す。
シリカ微粒子およびその配合量を表5及び6に示すように変えた以外は実施例7と同様にしてフィルムを得、諸特性を評価した。結果を表5及び6に示す。
(1)工程(A1)または工程(B1)で得られた分散液の親水性球状シリカ微粒子
(2)最終的に得られた疎水性シリカ微粒子
(3)加圧 10N
(1)工程(A1)または工程(B1)で得られた分散液の親水性球状シリカ微粒子
(2)最終的に得られた疎水性シリカ微粒子
(3)加圧 10N
(1)工程(A1)または工程(B1)で得られた分散液の親水性球状シリカ微粒子
(2)最終的に得られた疎水性シリカ微粒子
(3)加圧 10N
Claims (6)
- 4官能性シラン化合物、その部分加水分解縮合生成物、またはそれらの組み合わせを加水分解および縮合することによって得られた実質的にSiO2単位からなる親水性球状シリカ微粒子の表面にR1SiO3/2単位(式中、R1は置換または非置換の炭素原子数1〜20の1価炭化水素基である)を導入する工程と、次いでR2 3SiO1/2単位(式中、R2は同一または異なり、置換または非置換の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基である)を導入する工程とを含む疎水化処理をして得られ、
基本流動性エネルギーが500mJ以下であり、
粒子径が0.005〜0.09μmである
疎水性球状シリカ微粒子。 - (A1)一般式(I):
Si(OR3)4 (I)
(但し、R3は同一または異種の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示される4官能性シラン化合物またはその部分加水分解生成物またはこれらの混合物を塩基性物質の存在下親水性有機溶媒と水の混合液中で加水分解、縮合することによって実質的にSiO2単位からなる親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得、
(A2):得られた親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液に、一般式(II):
R1Si(OR4)3 (II)
(但し、R1は置換または非置換の炭素原子数1〜20の一価炭化水素基、R4は同一または異種の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示される3官能性シラン化合物またはその部分加水分解生成物またはこれらの混合物を添加して親水性球状シリカ微粒子表面をこれにより処理することにより、前記親水性球状シリカ微粒子の表面にR1SiO3/2単位(但し、R1は前記の通り)を導入し、第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得、
(A3):次いで該第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液から親水性有機溶媒と水の一部を除去し濃縮することにより第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒濃縮分散液を得、
(A4)得られた第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒濃縮分散液に一般式(III):
R2 3SiNHSiR2 3 (III)
(但し、R2は同一または異種の置換または非置換の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示されるシラザン化合物、一般式(IV):
R2 3SiX (IV)
(但し、R2は一般式(III)に同じ。XはOH基または加水分解性基)
で示される1官能性シラン化合物またはこれらの混合物を添加し、前記第一の疎水性球状シリカ微粒子表面をこれにより処理して該第一の疎水性球状シリカ微粒子の表面にR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)を導入することにより第二の疎水性シリカ微粒子として得る、請求項1に記載の疎水性球状シリカ微粒子の製造方法。 - (B1)一般式(I):
Si(OR3)4 (I)
(但し、R3は同一または異種の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示される4官能性シラン化合物またはその部分加水分解生成物またはこれらの混合物を塩基性物質を含む親水性有機溶媒と水の混合液中で加水分解、縮合することによって実質的にSiO2単位からなる親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得、
(B2)得られた親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液に、一般式(II):
R1Si(OR4)3 (II)
(但し、R1は置換または非置換の炭素原子数1〜20の一価炭化水素基、R4は同一または異種の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示される3官能性シラン化合物またはその部分加水分解生成物またはこれらの混合物を添加して親水性球状シリカ微粒子表面をこれにより処理することにより、前記親水性球状シリカ微粒子の表面にR1SiO3/2単位(但し、R1は前記の通り)を導入し、第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得、
(B3)得られた第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液に一般式(III):
R2 3SiNHSiR2 3 (III)
(但し、R2は同一または異種の置換または非置換の炭素原子数1〜6の一価炭化水素基)
で示されるシラザン化合物、一般式(IV):
R2 3SiX (IV)
(但し、R2は一般式(III)に同じ。XはOH基または加水分解性基)
で示される1官能性シラン化合物またはこれらの混合物を添加し、第一の疎水性球状シリカ微粒子表面をこれにより処理して該疎水性球状シリカ微粒子の表面にR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)を導入し第二の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得、
(B4)得られた第二の疎水性球状シリカ微粒子の混合溶媒分散液の分散媒を炭化水素系溶媒に変換し、該第二の疎水性球状シリカ微粒子炭化水素系溶媒分散液を得、
(B5)得られた該第二の疎水性球状シリカ微粒子炭化水素系溶媒分散液に一般式(III)で示されるシラザン化合物、一般式(IV)で示される1官能性シラン化合物またはこれらの混合物を添加し、前記第二の疎水性球状シリカ微粒子表面をこれによりさらに処理して該疎水性球状シリカ微粒子の表面にR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)をさらに導入することにより第三の疎水性球状シリカ微粒子として得る、請求項1に記載の疎水性球状シリカ微粒子の製造方法。 - 炭化水素系溶媒が芳香族炭化水素系溶媒である請求項3に記載の疎水性球状シリカ微粒子の製造方法。
- 請求項1記載の疎水性球状シリカ微粒子からなる静電荷像現像用トナー外添剤。
- (a)有機樹脂100質量部と、
(b)請求項1に記載の疎水性球状シリカ微粒子0.01〜20質量部と
を含んでなる有機樹脂組成物。
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JP2011032114A (ja) * | 2009-07-30 | 2011-02-17 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 疎水性球状シリカ微粒子、その製造方法及びそれを用いた静電荷像現像用トナー外添剤 |
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CN101880478A (zh) * | 2010-06-17 | 2010-11-10 | 华南理工大学 | 一种粒径可控的疏水性纳米二氧化硅的制备方法 |
JP5477193B2 (ja) | 2010-06-24 | 2014-04-23 | 富士ゼロックス株式会社 | シリカ粒子及びその製造方法 |
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US8728692B2 (en) * | 2010-07-30 | 2014-05-20 | Eastman Kodak Company | Surface decorated particles |
US8722304B2 (en) * | 2010-07-30 | 2014-05-13 | Eastman Kodak Company | Method for forming surface decorated particles |
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US10261431B2 (en) | 2016-02-09 | 2019-04-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | External additive for toner, process for producing the same, and toner comprising the same |
JP6304277B2 (ja) * | 2016-02-10 | 2018-04-04 | 富士ゼロックス株式会社 | 樹脂粒子組成物 |
US10061216B2 (en) | 2016-02-10 | 2018-08-28 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrostatic image developer and toner, electrostatic image developer and toner cartridge |
JP6671259B2 (ja) * | 2016-07-12 | 2020-03-25 | 信越ポリマー株式会社 | 非晶性熱可塑性樹脂フィルムの製造方法 |
JP6896504B2 (ja) * | 2017-05-10 | 2021-06-30 | キヤノン株式会社 | トナー |
JP6883504B2 (ja) * | 2017-11-07 | 2021-06-09 | 信越化学工業株式会社 | 疎水性球状ゾルゲルシリカ微粒子を含む油中水滴型エマルジョン組成物 |
CN112047351A (zh) * | 2020-09-10 | 2020-12-08 | 刘树峰 | 一种利用固体废弃物制备超硅粉的方法 |
CN114634802B (zh) * | 2020-12-15 | 2023-08-04 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种耐温抗盐超疏水覆膜堵剂及制备方法 |
JP2022129112A (ja) * | 2021-02-24 | 2022-09-05 | 信越化学工業株式会社 | 表面処理ゾルゲルシリカ粒子の製造方法、表面処理ゾルゲルシリカ粒子、及び静電荷像現像用トナー外添剤 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000044226A (ja) * | 1998-05-18 | 2000-02-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シラン表面処理シリカ系微粒子、その製造方法およびそれを含有する有機樹脂組成物 |
JP2007099582A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 高疎水性球状ゾルゲルシリカ微粒子、その製造方法、該微粒子からなる静電荷像現像用トナー外添剤および該トナー外添剤を用いた現像剤 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58145614A (ja) | 1982-02-23 | 1983-08-30 | Shokubai Kasei Kogyo Kk | 有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとその製造法 |
JPH0764544B2 (ja) | 1989-12-15 | 1995-07-12 | 信越化学工業株式会社 | シリカ粉末の製造方法 |
JP3284743B2 (ja) | 1994-04-19 | 2002-05-20 | 東レ株式会社 | 粒子分散性に優れたポリエステル組成物の製造方法 |
US6521290B1 (en) * | 1998-05-18 | 2003-02-18 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silica particles surface-treated with silane, process for producing the same and uses thereof |
US6051672A (en) | 1998-08-24 | 2000-04-18 | Dow Corning Corporation | Method for making hydrophobic non-aggregated colloidal silica |
JP3523081B2 (ja) * | 1998-09-21 | 2004-04-26 | 信越化学工業株式会社 | 有機珪素樹脂の製造方法及び該製造方法で得られた有機珪素樹脂を用いたポリウレタンフォームの製造方法 |
JP2000256008A (ja) | 1999-03-08 | 2000-09-19 | Tokuyama Corp | 疎水性煙霧シリカ及びその製造方法 |
JP3927741B2 (ja) * | 1999-03-12 | 2007-06-13 | 信越化学工業株式会社 | 静電荷像現像用トナー外添剤 |
US6184408B1 (en) | 1999-04-28 | 2001-02-06 | Dow Corning Corporation | Method for preparation of hydrophobic precipitated silica |
JP3767788B2 (ja) | 2000-01-06 | 2006-04-19 | 信越化学工業株式会社 | 静電荷像現像用トナー外添剤 |
US7083888B2 (en) * | 2000-09-07 | 2006-08-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | External additive for electrostatically charged image developing toner |
JP4828032B2 (ja) | 2001-03-05 | 2011-11-30 | 株式会社トクヤマ | 疎水性シリカ粉末およびその製造方法 |
JP2004168559A (ja) | 2002-11-15 | 2004-06-17 | Nippon Aerosil Co Ltd | 高分散高疎水性シリカ粉末とその製造方法 |
JP3988936B2 (ja) * | 2003-05-13 | 2007-10-10 | 信越化学工業株式会社 | シラン表面処理球状シリカチタニア系微粒子、その製造方法、および、それを用いた静電荷像現像用トナー外添剤 |
US20060112860A1 (en) * | 2004-11-16 | 2006-06-01 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Process for producing hydrophobic silica powder |
-
2007
- 2007-04-25 JP JP2007116094A patent/JP4579265B2/ja active Active
-
2008
- 2008-04-24 EP EP08251510A patent/EP1988129A3/en not_active Withdrawn
- 2008-04-24 US US12/108,983 patent/US20080268362A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000044226A (ja) * | 1998-05-18 | 2000-02-15 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シラン表面処理シリカ系微粒子、その製造方法およびそれを含有する有機樹脂組成物 |
JP2007099582A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 高疎水性球状ゾルゲルシリカ微粒子、その製造方法、該微粒子からなる静電荷像現像用トナー外添剤および該トナー外添剤を用いた現像剤 |
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