JPS58145614A - 有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとその製造法 - Google Patents

有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとその製造法

Info

Publication number
JPS58145614A
JPS58145614A JP2774682A JP2774682A JPS58145614A JP S58145614 A JPS58145614 A JP S58145614A JP 2774682 A JP2774682 A JP 2774682A JP 2774682 A JP2774682 A JP 2774682A JP S58145614 A JPS58145614 A JP S58145614A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silica
organic solvent
solvent
organosilica sol
sol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2774682A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH021090B2 (ja
Inventor
Yusaku Arima
悠策 有馬
Sumio Saito
齋藤 純夫
Hiroyasu Nishida
西田 廣泰
Takashi Harada
孝 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SHOKUBAI KASEI KOGYO KK
JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Original Assignee
SHOKUBAI KASEI KOGYO KK
Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SHOKUBAI KASEI KOGYO KK, Catalysts and Chemicals Industries Co Ltd filed Critical SHOKUBAI KASEI KOGYO KK
Priority to JP2774682A priority Critical patent/JPS58145614A/ja
Publication of JPS58145614A publication Critical patent/JPS58145614A/ja
Publication of JPH021090B2 publication Critical patent/JPH021090B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとそ
の製造法に関する。
本明細省に於て、「有機溶剤」とは親水性有機浴剤並び
に疎水性有機溶剤の両者を包含し。
「有機溶剤に均質に分散可能」とは、有機浴剤100 
ccに10gの粉末状シリカを添加混合した際に、透明
乃至半透明の分散液が形成場れ。
しかもその分散液を遠心分離機にて300 (1r、p
lm。
で5分間処理した場合に、シリカの沈澱景が1g以下で
あることを言う。
エステルシルと呼ばれる粉末状の疎水性シリカは、ニジ
ストマー、プラスチックス、ワックスなどの増強剤とし
て、あるいはまた液状樹脂。
塗料などの濃化剤乃至は粘度調整剤として従来から知ら
れている。この疎水性シリカ粉末はシリカ粒子表面のシ
ラノール基を一価のアルコールにてエステル化したもの
であって、このエステル化には従来法のような手段が採
用されて来た。その一つは四塩化珪素を水素炎中で熱分
解してシリカ(ポリ珪酸)を生成させ、引続きとのシリ
カにアルコール蒸気を接触させることにより、シリカ表
面のシラノール基をエステル化する方法である。他の一
つは水に分散したコロイド次元のシリカ粒子全凝集させ
、この凝集粒子をアルコールと共に加熱するなどの処理
によりシリカ表面のシラノール基をエステル化する方法
である。
しかしながら、従来の疎水性シリカ粉末は何れも有機溶
剤に均質に分散させることが不可能であって1例えばト
ルエンに添加混合した場合には、比較的短時間でシリカ
の沈澱が生起する。
つまり、従来の疎水性シリカ粉末はその分散媒が比較的
粘度の高い液体であ・、る、場合はともかく。
) そうでない場合は疎水性シリカ粉末の分散状態全安定に
保持することができない。
一方、オルガノシリカゾルの製造方法としてば、米国特
許第2285446〜第2285449号に教示されて
いる如く、水と共沸混合物音形成する極性有機溶剤とシ
リカヒドロシルを混合し。
これを蒸留して共沸により水を極性有機溶剤に置換させ
る方法が知られているほか、特公昭53−799号に教
示される如く、水ガラスの中第11水溶液からシロキシ
シラノールを極性有機溶剤で抽出分離した後、残液中に
オルガノシリル化剤を添加して反応させる方法が知られ
ている。
しかし、前者の方法で得られるオルガノシリカゾルはそ
の分散媒が極性有機溶剤であるため。
非極性有機浴剤との相溶性が不充分であり、用途が限ら
れてしまう欠点がある。また、後者の方法で得られるオ
ルガノゾルは水分の残存量が比戟的多く、シかも低分子
量シリカであるため安定性に欠ける憾みがある。加えて
後者の方法ではシロキシシラノールを抽出分離してしま
うため、原料水ガラスからみたシリカの利用率が低いと
いう欠点もある。
本発明は有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとそ
の製造法を提案するものであって。
本発明の粉末状シリカは炭素数1〜36のシリル基で被
われたコロイド次元のシリカ粒子からなり、シリカ表面
10平方ミリミクロン当り1〜100個のシリル基がシ
リカに化学的に結合していることで特徴付けられる。そ
して本発明の粉末状シリカは次のような物理的特性ケ備
えている。
嵩密度    0.6〜1− Og /me吸 油 量
50 g / 100m1以下粉末粒子径(90%) 
    0.01〜3.0mmトルエン分散液(濃度I
Qwt%) 粘 度       10cps以下 本発明による粉末シリカは、シリカ粒子がコロイド次元
のままシリル化されているために。
粉末自体がM乗していても、有機溶剤に添加すれば簡単
にコロイド次元のシリカ粒子として均一に分散する。
 5− 一般にコロイド次元の粒子とは直径1〜100ミリミク
ロン程度の大きさの粒子會指すが1本発明に於てシリル
基が化学的に結合するシリカ粒子はその粒径が4〜10
0ミリミクロンの範囲であることを可とし、好ましくは
5〜30ミリミクロンの範囲にある。このシリカ粒子は
本発明によればその表面に化学的に結合した炭素数1〜
36のシリル基で被われるが、そのシリル基の数はシリ
カ表面10平方ミリミクロン当91〜100個であるこ
とを可とする。ここで。
「シリル基がシリカ表面に化学的に結合している」とは
、シリカ表面のシラノール基(−8ioH)の珪素原子
にシリル基が直接結合していることを意味する。
コロイド次元のシリカ粒子にシリル基が化学的に結合し
た粉末状シリカに於て、その粉末状シリカを有機溶剤に
均質に分散可能ならしめるのに必要なシリル基の数は、
厳密には当該シリル基の鎖長に依存する。一般的に言え
ば、鎖長の長いシリル基を有する粉末状シリカは、鎖長
 6− の短かいシリル基を有する粉末状シリカよりも。
化学的に結合したシリル基が少なくても有機溶剤に均質
に分散可能となる。ちなみに、コロイド次元のシリカ粒
子にシリル基が化学的に結合した粉末状シリカに於て、
その粉末状シリカを有機溶剤に均質に分散可能ならしめ
るのに必要なシリル基の数と化学的に結合可能なシリル
基の最大個数を、シリル基の炭素数との関係で示せば次
の通りである。
第1表 1   50  100 3   25  37 6   10  16 246 823 412 611 進んで本発明に係る粉末状シリカの製造法について説明
する。本発明の粉末状シリカはその核となるシリカ粒子
がコロイド次元でなければならないため、シリカヒドロ
シルが出発原料として使用されるが、そのシリカヒドロ
シルは8i02濃度2Qwt%での粘度が100センチ
ポイズ以下のものでなければならない。この池のシリカ
ヒドロシルは水ガラスを陽イオン交換樹脂で脱アルカリ
し、得られたケイ酸液をアルカリ性雰囲気で重分させる
方法(イオン交換法と通称される〕、水ガラスヲ酸で中
和してゲル化させた後、地を水で洗い流して得られるゲ
ルをオートクレーブで解膠させる方法(解膠法と通称さ
れる〕、さらにはエチルグリコートヲ酸で加水分解して
得られるケイ酸液全加熱熟成する方法などで一般に製造
することができる。
ちなみに、アロエジル、ホワイトカー、]?ンなどの粉
状シリカi2’Qwt%濃度で水に分散でせた場合の粘
度は敵方センチIイドと極端に高い点で本発明のシリカ
ヒドロシルと区別される。
また水ガラスケ酸で中和したり、陽イオン交換樹脂で脱
アルカリしただけの低重合のケイ酸液や有機ケイ素化合
物を加水分解しただけのケイ酸液もシリカヒドロシルと
通称されているが。
これらもSin2濃度20 wt%での粘度が敵方セン
チボイズと高く、経時ゲル化してしまうことで1本発明
のシリカヒドロシルと明確に区別される。
出発原料たるシリカヒドロシルの8i02濃度は任意に
選ぶことができるが、一般にはSin。
濃度f 5 Q wt%以下とすることが好ましい。
本発明によれば、シリカヒドロシルはまス溶媒置換によ
ってオルガノシリカゾルに変換せしめられる。この溶媒
置換はシリカヒドロシルに任意の割合で相互溶解する親
水性有機溶剤を混合し、徐々にシリカヒドロシルの分散
媒たる水を有機溶剤と置換することを内容とする。この
場合前記の親水性有機溶剤には、これと相互溶解する疎
水性有機溶剤を併用することができる溶媒の置換方法と
しては1例えば蒸留によって水音留去させる方法、限外
濾過膜を用い、徐々 9− に溶媒を水から有機溶媒へ置換する方法、モレキュラー
シーブ等の脱水剤を用い、水のみを除去する方法などを
採用することができる。ちなみに、アセトンなどの水よ
り低沸点溶媒については、限外濾過やモレキュラーシー
ブを用いるのが有利である。n−ブチルアルコールやn
−オクチルアルコールのような分子量のよシ大きいアル
コール類、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸イソ
ジチル等のエステル類で溶媒置換したい場合には、原料
のシリカヒドロシルとの相溶性に劣るため、予めメチル
アルコール等で水を溶媒置換した後に、P+び溶媒置換
を行うのがよい。エチルグリコール等のエーテル類。
エチレングリコール等の多価アルコール類。
N、N−ジメチルホルムアマイド(DMF )等のアル
キルアマイド類は直接蒸留法で水と置換することが可能
である。但し、炭素数3以下のアルコールは後工程で用
いるシリル化剤と直接反応し易いため望捷しくない。
コノヨウにして、溶媒置換されたオルガノシリカゾルは
、その溶媒置換の方法による差はあっても多少の水?f
−キ有する。しかし1本発明にあってはオルガノシリカ
ゾル中に残存する水のりは39w1%以下、好ましくは
5 wt%以下でなければならない。10wt%を越え
る水が存在すると次工程でのシリル化剤の加水分解速度
が早く、シリル化剤同志の反応が促進され、コロイド表
面への選択的な反応が#1とんど期待できない。もつと
も、シリカゾルを非常に低濃度とし、シリル化剤を低濃
度で長時間かけて添加する等の特別な工夫を凝らせばあ
る程度コロイド表面への反応を期待できるが、実用的で
はない。水分が5 wt%以下では高濃度シリカでシリ
ル化剤を一挙に混合してもコロイド粒子表面への選択的
な反応が起り、目的としたものが得られる。
溶媒置換によって得られた搾ルガノシリ力ゾルは1次に
、シリル化処理に供され1表面シラノールとシリル化剤
との化学反応によリシリカ表面はコロイド状態を保った
ままで親油性に改質される。
不発明に用いられるシリル化剤としては、メチルトリク
ロルシラン、ジメチルジクロルシラン、トリメチルクロ
ルシラン、エチルトリクロルシラン、ジエチルジクロル
シラン、lJエチルクロルシラン、ビニールトリクロル
シラン。
ステアリルトリクロルシラン、ジヘキシルジクロルシラ
ン、ジフェニルジクロルシラン、トリフェニルクロルシ
ラン。n−アミル) IJ りC1ルシラン等のクロル
シラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、ビニールトリメトキシシラン、n−アミル
トリエトキシシラン、Rンジルトリエトキシシラン等の
アルコキシシラン類、ヘキサメチルジシラザン等のシラ
ザン類やこれらを加水分解して得られるヒドロキシシラ
ン類のいずれもが使用可能である。
クロルシラン類を用いる場合は1反応によシ塩化水素(
塩酸〕が、アルコキシシラン類を用いる場合はアルコー
ルがそれぞれ副生ずるが。
いずれの場合も1反応後の脱溶媒操作時に溶媒と共に除
去されるので問題はない。ヒドロキシシランの場合は、
不安定で重合し易いため、実際的にはクロルシランを使
用直前に冷却しながら加水分解し、油層のヒドロキシシ
ランをすばやく本発明に用いるのが効果的である。
本発明に於て、シリカ表面に反応するシリル基の最大個
数にシリル基の炭素数に依存し、前掲の第1表に示すと
おり、シリル基の炭素数が増大するにつれて減少する。
従って、シリル化処理に当っては、シリカの比表面積と
前掲の第1表とからシリル基の炭素数に応じて必要なシ
リル化剤量と最大シリル化剤量を算出し、その必要量と
最大量の範囲内に収まる量のシリル化剤を用いなければ
ならない。この範囲以下では次工程の粉末化に当って、
未反応の表面シラノール基による隣接コロイド粒子間の
反応が起シ。
再分散性に劣る粉末しか得られない。また上記の範囲以
上では余剰シリル化剤同志の反応で不揮発成分が生成し
、粉末化が困難となる。
13− シリル化に当っては、シリル化剤とオルガノシリカゾル
を混合するだけでも十分であるが。
反応を完全ならしめるために、混合液を加熱処理するの
が好ましい。特にシリル化剤の炭素数が大きい場合は加
熱による反応完結が重要となる。シリル化反応終了後の
反応混合物は、シリル化されたコロイド次元のシリカ粒
子がシリル化に際して副生ずる塩酸、アルコール、水を
含んだ有機媒体に分散した状態にある。従ってこの反応
混合物から液相成分を留出させることによシ本発明の粉
末状シリカを得ることが出来る。
粉末化工程はシリル化工程に引続いて行われるのが好ま
しい。粉末化に際しては200℃以下での液相留出が好
ましく、200℃以上ではシリル基の有機成分が燃焼し
1分散のよい粉末が得られないおそれがある。150℃
以下で必要ならば減圧下での粉末化が最も好ましい。こ
のようにして得られた粉末状シリカは通常白色を呈し。
アルコール、ケトン、エーテル、芳香族炭化水素、脂肪
族炭化水素などほとんどの有機溶剤に14− 均質に分散する。
比較例1 滴下口及び留出口を具えた11の三ツロフラスコに、平
均粒子径12mμ(比表面積230 m”/8i0. 
g ) 、 Sin、濃度20%のシリカヒドロシル1
50il’i入れ、されに同量の1−プロピルアルコー
ルを加える。次いで減圧蒸留させながら滴下口よりi−
プロピルアルコールケ徐々に加えると共に、留出口より
水とアルコールを留出させた。この操作をSin、9度
20%、水分2.0係のi−プロピルアルコールゾルが
得られるまで続行した。
次に、上記盪−プロビルアルコールゾルにn−ブチルア
ルコール200+nli加え、減圧下でi−プロピルア
ルコール、水、n−ブチルアルコールを留出させて、1
50mA’のn−ブチルアルコールを分散媒とするオル
ガノシリカゾルを得た。このゾルのSiO,9度は21
.4%、水分15饅、粘度は7センチポイズであった。
このn−ブチルアルコールを分散媒とするオルガノシリ
カゾル100 gにトリメチルクロルシラン0.05 
g (0,02X10−”モル/SiO2g)を添加し
、加熱により50°Cで10分間攪拌した後、減圧下で
溶媒と副生物を蒸発させ、粉末状のシリカを得た。
比較例2 比較例1と同様な方法でn−ブチルアルコールを分散媒
とするオルガノシリカゾル金得り。
ただし、溶媒置換時のn−ブチルアルコール量を70m
1に制限した。
得られたn−ブチルアルコールを分散媒とするゾルはS
iO2濃度20.3%、水分20.3%、粘If 5セ
ンチビイズであった。
このn−ブチルアルコールを分散媒とするゾル100g
にトリメチルクロルシラン28g(1,3X 10−’
 %に/ 5102g ) ’に添加し、加熱により5
0°Cで10分間攪拌した後、減圧下で溶媒と副生物を
蒸発はせ、粉末状シリカを得た。
実施例1 滴下口及び留出口を具えfc、11の三ツロフラスコに
、平均粒子径12mμ(比表面積230 m”/ 8i
0. g ) 、 SiO2濃度20%のシリカヒドロ
シル150 rd 5入れ、さらにこれと同量のi−プ
ロピルアルコールを加える。次いで減圧蒸留させながら
滴下口より1−プロピルアルコールを徐々に加えると共
に、留出口よシ水とアルコールを留出させた。この操作
を8i0.濃度20.5チ。
水分3.o%のi−プロピルアルコールゾルが得られる
まで続けた。
次に上記1−プロぎルアルコールゾルにn−ブチルアル
コール2001rLl f加え、減圧下で1−プロピル
アルコールJ、n−ゾチルアルコールを留出させて1s
omA!のn−ゾ、チルアルコール全分散媒とするオル
ガノシリカゾル會得た。
このゾルのStO,濃度は20.1%、水分20%。
粘度6センチポイズであった。
とのn−ブチルアルコールを分散媒とするオルガノシリ
カゾル100gにトリメチルクロルシラン2.8 g 
(1,3X10−’モル/ 8 io、 g )を添加
し、加熱により50″Cで10分間攪拌した後。
17− 減圧下で溶媒と副生物を蒸発させ、粉末状のシリカ會得
た。
実施例2〜7 シリル化剤としてのトリメチルクロルシランを第2表に
示すものに代え、さらにシリル化剤の添加量とシリル化
処理時の加熱温度を第2表に示す通りに変更した以外は
実施例1と全く同様にして各種の粉末状シリカを得た。
2    トリエチルクロルシラン       06
         503    トリエチルクロルシ
ラン       03         6゜4  
  トリ64式乙シクロルシラン      O:2 
         755    トリオクチルクロル
シラン       0.1           8
06    シフ〉〃口、ルンラン       03
          80実施例8 1−プロピルアルコールとn−ブチルアルコールの溶媒
置換時にn−ブチルアルコール添7]0量を143m7
に減らした以外は、全〈実施例1と同一条件下で粉末状
シリカを得た。
シリル化剤を添加する前のn−ブチルアルコールゾルは
Sin、濃度20,2%、水分43饅。
粘度5センチポイズでおった。
実施例9 トリメチルクロルシラン7gに15°Cに冷却した水5
 (l gを混ぜ、よく攪拌した後、静置して層を分離
した。T層の水層を除去した後改めて冷水50gを混じ
てよく攪拌した後、静置して1@ヲ分離した。この操作
を計5回くり返した後5.7gのトリメチルクロルシラ
ンの加水分解物(トリメチルヒドロキシシラン)を得た
実施例1と同様にして得ら□れたn−ブチルアルコール
ゾル(Sin2濃度30.1%、水分0.47%)10
0gに、上記のトリメチルクロルシランの加水分解物を
混じ、攪拌下80℃で10分間加熱した後、減圧下で溶
媒と副生物を蒸発させ、粉末状のシリカを得た。
実施例10 実施例1と同一の手法でn−ブチルアルコールを分散媒
とするオルガノシリカゾル100gを得た。このゾルの
8i0.濃度は20.2%、水分は2.0%、粘度は6
.1センチポイズであった。
このゾルにn−プロピルトリエトキシシラン4.0 g
 (1,0X10−3モル/sio2g ) k混合し
、攪拌しながら80°Cで30分加熱した後、減圧下で
溶媒と副生物を蒸発させ、粉末状のシリカを得た。
実施例11 滴下口及び留出口を具えた11の三ツロフラスコに平均
粒子径12mμ(比表面積230m2/8102g )
 、 8i0.濃度20%(2)シリカヒドロシル15
0tJi入れ、これに150m/のエチレングリコール
モノエチルエーテル(セロンルi)’c加え、減圧蒸留
下で水とエチレングリコールモノエチルエーテルの一部
とを留出させ、エチレングリコールモノエチルエーテル
を分散媒とするオルガノシルカゾル160mA!l得た
。このゾルのSin、濃度は20.1%、水分2.1%
、粘度24センチポイズであった。このオルガノシリカ
シk 100 gにトリメチルクロルシラン2.8g(
1,3X10−”モル/s+o、 g ) ’に添加し
攪拌下50’Cで10分間加熱処理した後、減圧下で溶
媒と副生物を蒸発させて粉末状のシリカを得た。
比較例1.2及び実施例1〜11で得られた各粉末の性
状と種々の有機溶剤に対する分散性をまとめて第3表に
示す。なお、第3表中「沈澱l°」は粉末10gをトル
エン100 ccに分散させた分散液を300Orpm
で遠心分離した場合の沈澱量を意味する。「分散性」は
粉末10gを各種有機溶剤100 ccに混合し次場合
の分散性を次の基準で評価した。
○良好なもの (沈澱量1.0g未満〕 ×沈澱1公離 (沈澱!jk1.0g以上) 21− 22−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 炭素数1〜36のシリル基で被われたコロイド次
    元のシリカ粒子からなり、シリカの表面10平方ミリミ
    クロン当91〜100個のシリル基がシリカに化学的に
    結合した有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカ。 2、 コロイド次元のシリカ粒子が粒径5〜30ミリミ
    クロンのシリカ粒子である特許請求の範囲第1項記載の
    粉末状シリカ。 3、 8in、濃[20wt%で測定した粘度が100
    センチポイズ以下であるシリカヒドロシル全溶媒置換さ
    せて水分i′10wt%以下のオルガノシリカゾルヲ調
    製し、このオルガノシリカゾルを炭素数1〜36のオル
    ガノシリル化剤と反応させてシリカ表面をシリル化処理
    した後、得られた反応混合物から液層成分を除去するこ
    とからなる有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカの
    製造法。 4、 オルガノシリカゾル中の水分量が5wt%以下で
    ある特許請求の範囲第3項記載の方法。
JP2774682A 1982-02-23 1982-02-23 有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとその製造法 Granted JPS58145614A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2774682A JPS58145614A (ja) 1982-02-23 1982-02-23 有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとその製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2774682A JPS58145614A (ja) 1982-02-23 1982-02-23 有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとその製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58145614A true JPS58145614A (ja) 1983-08-30
JPH021090B2 JPH021090B2 (ja) 1990-01-10

Family

ID=12229591

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2774682A Granted JPS58145614A (ja) 1982-02-23 1982-02-23 有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとその製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58145614A (ja)

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS636062A (ja) * 1986-06-25 1988-01-12 Toray Silicone Co Ltd シリカ微粉末の表面改質方法
JPH0445181A (ja) * 1990-06-11 1992-02-14 Matsushita Refrig Co Ltd 撥水性コーティング用塗料及びその塗料を塗布した熱交換器
JPH04108606A (ja) * 1990-08-27 1992-04-09 Idemitsu Kosan Co Ltd 撥水性シリカゾルおよびその製造方法
US6025455A (en) * 1997-05-26 2000-02-15 Nissan Chemicals Industries, Ltd. Process of producing hydrophobic organosilica sol
WO2001055030A3 (en) * 2000-01-28 2002-02-14 Dsm Nv Method for manufacturing hydrophobic colloidal silica
JP2005249031A (ja) * 2004-03-03 2005-09-15 Nok Corp ゴム−金属積層ガスケット素材
EP1657283A1 (en) 2004-11-16 2006-05-17 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process for producing hydrophobic silica powder
KR100618129B1 (ko) * 2006-01-11 2006-09-01 (주) 개마텍 표면개질 산화물 오가노졸의 제조방법
JP2006299248A (ja) * 2005-03-22 2006-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 無機微粒子含有組成物、光学フィルム、反射防止フィルム、それを用いた偏光板および表示装置
EP1754685A2 (en) 2005-08-02 2007-02-21 Nissan Chemical Industries, Ltd. Organosol of silica and process for producing the same
US7186440B2 (en) 2005-07-04 2007-03-06 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process for producing hydrophobic silica powder
WO2008093775A1 (ja) 2007-02-02 2008-08-07 Nissan Chemical Industries, Ltd. 反応性モノマー分散シリカゾル、その製造方法、硬化用組成物及びその硬化体
EP1988129A2 (en) 2007-04-25 2008-11-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrophobic spherical silica microparticles having a high degree of flowability, method of producing same, electrostatic image developing toner external additive using same, and organic resin compositon containing same
WO2009101974A1 (ja) 2008-02-12 2009-08-20 Nissan Chemical Industries, Ltd. シリカコロイド粒子及びその製造方法、並びにその有機溶媒分散シリカゾル、重合性化合物分散シリカゾル及びジカルボン酸無水物分散シリカゾル
JP2009256562A (ja) * 2008-03-26 2009-11-05 Arakawa Chem Ind Co Ltd 表面被覆シリカオルガノゾルの製造方法、および表面被覆シリカ粒子含有エポキシ樹脂組成物の製造方法
US7737187B2 (en) 2003-12-19 2010-06-15 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process for producing inorganic oxide organosol
JP2011001281A (ja) * 2009-06-17 2011-01-06 Kao Corp グリセリンモノ脂肪酸エステルの製造方法
JP2013510061A (ja) * 2009-11-05 2013-03-21 アクゾ ノーベル ケミカルズ インターナショナル ベスローテン フエンノートシャップ シリカ水性分散体
JP2015061881A (ja) * 2014-12-25 2015-04-02 株式会社 菊星 ヘアスタイリング剤組成物
KR20170039137A (ko) * 2014-08-07 2017-04-10 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 실란 처리 포르스테라이트 미립자 및 그 제조 방법, 그리고 실란 처리 포르스테라이트 미립자의 유기 용매 분산액 및 그 제조 방법
WO2022009889A1 (ja) 2020-07-07 2022-01-13 日産化学株式会社 炭化水素に分散した無機酸化物ゾル及びその製造方法

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS636062A (ja) * 1986-06-25 1988-01-12 Toray Silicone Co Ltd シリカ微粉末の表面改質方法
JPH0445181A (ja) * 1990-06-11 1992-02-14 Matsushita Refrig Co Ltd 撥水性コーティング用塗料及びその塗料を塗布した熱交換器
JPH04108606A (ja) * 1990-08-27 1992-04-09 Idemitsu Kosan Co Ltd 撥水性シリカゾルおよびその製造方法
US5651921A (en) * 1990-08-27 1997-07-29 Idemitsu Kosan Company Limited Process for preparing a water repellent silica sol
US6025455A (en) * 1997-05-26 2000-02-15 Nissan Chemicals Industries, Ltd. Process of producing hydrophobic organosilica sol
KR100716853B1 (ko) 2000-01-28 2007-05-09 코닌클리즈케 디에스엠 엔.브이. 소수성 콜로이드상 실리카의 제조 방법
WO2001055030A3 (en) * 2000-01-28 2002-02-14 Dsm Nv Method for manufacturing hydrophobic colloidal silica
US7737187B2 (en) 2003-12-19 2010-06-15 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process for producing inorganic oxide organosol
JP2005249031A (ja) * 2004-03-03 2005-09-15 Nok Corp ゴム−金属積層ガスケット素材
EP1657283A1 (en) 2004-11-16 2006-05-17 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process for producing hydrophobic silica powder
JP2006299248A (ja) * 2005-03-22 2006-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 無機微粒子含有組成物、光学フィルム、反射防止フィルム、それを用いた偏光板および表示装置
US7186440B2 (en) 2005-07-04 2007-03-06 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process for producing hydrophobic silica powder
EP1754685A2 (en) 2005-08-02 2007-02-21 Nissan Chemical Industries, Ltd. Organosol of silica and process for producing the same
KR100618129B1 (ko) * 2006-01-11 2006-09-01 (주) 개마텍 표면개질 산화물 오가노졸의 제조방법
WO2008093775A1 (ja) 2007-02-02 2008-08-07 Nissan Chemical Industries, Ltd. 反応性モノマー分散シリカゾル、その製造方法、硬化用組成物及びその硬化体
EP1988129A2 (en) 2007-04-25 2008-11-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrophobic spherical silica microparticles having a high degree of flowability, method of producing same, electrostatic image developing toner external additive using same, and organic resin compositon containing same
WO2009101974A1 (ja) 2008-02-12 2009-08-20 Nissan Chemical Industries, Ltd. シリカコロイド粒子及びその製造方法、並びにその有機溶媒分散シリカゾル、重合性化合物分散シリカゾル及びジカルボン酸無水物分散シリカゾル
JP2009256562A (ja) * 2008-03-26 2009-11-05 Arakawa Chem Ind Co Ltd 表面被覆シリカオルガノゾルの製造方法、および表面被覆シリカ粒子含有エポキシ樹脂組成物の製造方法
JP2011001281A (ja) * 2009-06-17 2011-01-06 Kao Corp グリセリンモノ脂肪酸エステルの製造方法
JP2013510061A (ja) * 2009-11-05 2013-03-21 アクゾ ノーベル ケミカルズ インターナショナル ベスローテン フエンノートシャップ シリカ水性分散体
KR20170039137A (ko) * 2014-08-07 2017-04-10 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 실란 처리 포르스테라이트 미립자 및 그 제조 방법, 그리고 실란 처리 포르스테라이트 미립자의 유기 용매 분산액 및 그 제조 방법
JPWO2016021688A1 (ja) * 2014-08-07 2017-05-25 日産化学工業株式会社 シラン処理フォルステライト微粒子及びその製造方法、並びにシラン処理フォルステライト微粒子の有機溶媒分散液及びその製造方法
US10501637B2 (en) 2014-08-07 2019-12-10 Nissan Chemical Industries, Ltd. Silane-treated forsterite fine particles and production method therefor, and organic solvent dispersion of silane-treated forsterite fine particles and production method therefor
JP2020100561A (ja) * 2014-08-07 2020-07-02 日産化学株式会社 シラン処理フォルステライト微粒子及びその製造方法、並びにシラン処理フォルステライト微粒子の有機溶媒分散液及びその製造方法
JP2015061881A (ja) * 2014-12-25 2015-04-02 株式会社 菊星 ヘアスタイリング剤組成物
WO2022009889A1 (ja) 2020-07-07 2022-01-13 日産化学株式会社 炭化水素に分散した無機酸化物ゾル及びその製造方法
KR20220020431A (ko) 2020-07-07 2022-02-18 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 탄화수소에 분산한 무기산화물졸 및 그의 제조방법
US11549019B2 (en) 2020-07-07 2023-01-10 Nissan Chemical Corporation Inorganic oxide sol dispersed in hydrocarbon and production method therefor

Also Published As

Publication number Publication date
JPH021090B2 (ja) 1990-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS58145614A (ja) 有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとその製造法
JP3319763B2 (ja) 疎水性のオルガノシリケート変性シリカゲル
EP0881192B1 (en) Process of producing hydrophobic organosilica sol
US9388314B2 (en) Surface modified silicon dioxide particles
US5708069A (en) Method for making hydrophobic silica gels under neutral conditions
JP4032503B2 (ja) 疎水性オルガノシリカゾルの製造方法
JP4938994B2 (ja) シリカエアロゲル膜及びその製造方法
JPH04108606A (ja) 撥水性シリカゾルおよびその製造方法
JP2009513741A (ja) 高い充填剤含量を有するシラン製剤
US6239243B1 (en) Method for preparing hydrophilic silica gels with high pore volume
JP3394048B2 (ja) 減少した表面積を有する中性−熟成疎水性シリカゲル
JP5627662B2 (ja) 表面処理シリカ系粒子の製造方法
JP2001504757A (ja) 有機的に修飾された持続的に疎水性のエロゲルの製造方法
US5942590A (en) Process for making hydrophobic silica with reduced surface area under neutral conditions
CN111801369B (zh) 一种在加热时无刺激性气味的聚硅氧烷粉体及其制备方法
JP5426869B2 (ja) メソポーラスシリカ微粒子の製造方法、メソポーラスシリカ微粒子含有組成物、及びメソポーラスシリカ微粒子含有成型物
TW202104081A (zh) 無機氧化物粒子、無機氧化物粒子分散液及其製造方法以及表面修飾劑之製造方法
US5789495A (en) Method for making hydrophobic organosilicate-modified silica gels under neutral conditions
JPH0798655B2 (ja) 表面修飾シリカの製造方法
JP2001513065A (ja) 中性で熟成された疎水性オルガノシリケート変性シリカゲル
JPH021089B2 (ja)
JP808H (ja) 有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカとその製法
JP3493109B2 (ja) 有機基含有シリカ微粒子分散ゾルの製造方法
JP2001513066A (ja) 縮小した表面積を有する疎水性シリカゲル
JP3729234B2 (ja) 微粒子分散体およびその製造方法