WO2008001847A1 - Mold, process for manufacturing mold, and process for producing sheet - Google Patents

Mold, process for manufacturing mold, and process for producing sheet Download PDF

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WO2008001847A1
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oxide film
saddle
mold
convex structure
aluminum
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PCT/JP2007/063000
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Yoshihiro Uozu
Eiko Okamoto
Katsuhiro Kojima
Satoshi Sakuma
Hideki Masuda
Takashi Yanagishita
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Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
Kanagawa Academy Of Science And Technology
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    • B29C37/0067—Using separating agents during or after moulding; Applying separating agents on preforms or articles, e.g. to prevent sticking to each other

Definitions

  • the present invention relates to a vertical saddle-shaped manufacturing method for transferring a fine concave-convex structure, and a vertical mold and a method for manufacturing a sheet having a fine concave-convex structure using the vertical mold.
  • a fine concavo-convex structure is formed by a lithography method, and a metal stamper is produced by duplicating, and a large area and a large area are attached to a roll (for example, Patent Document 2)
  • Patent Document 2 A method of forming a fine concavo-convex structure on the inner peripheral surface of a cylindrical original mold by a lithography method, providing a metal layer with an electric lamp, removing the original mold, and placing a support roll inside to support it (for example, Patent document 3) has been proposed.
  • Patent Document 1 JP 2005-156695 A
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-264520
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 2005-35119 Disclosure of the invention
  • Patent Document 1 Although the method of Patent Document 1 is excellent as a simple method for producing a saddle shape, it is necessary to mention the obtained saddle shape macro unevenness!
  • the aluminum material formed by rolling or other methods has a force that cannot remove the rolling marks even if it is mirror-finished, such as electrolytic polishing. Even when using, there was a problem that macro irregularities that can be visually confirmed were formed after anodization, and macro irregularities were also transferred when transferred to the resin. Further, Patent Document 1 does not mention the roll saddle shape.
  • an object of the present invention is to provide a (roll) saddle type having a fine concavo-convex structure with a visible light wavelength or less having no joints or concavo-convex that can be visually confirmed on the surface formed by a simple production method, It is to provide a method and a method for producing a sheet having a fine concavo-convex structure on the surface having a wavelength of visible light or less using the saddle type.
  • an alumina having a fine concavo-convex structure in which the distance between adjacent concave portions or convex portions is equal to or less than the wavelength of visible light on the surface of an aluminum original pattern without rolling marks is anodized. It was found that the rugged shape, which is formed by the above-described method and has a grain boundary unevenness height or depth of 300 nm or less, cannot visually confirm macro unevenness.
  • a method for manufacturing a vertical mold having a fine concavo-convex structure on the surface, in which an aluminum with no rolling marks is polished or aluminum is formed on the substrate surface to prepare a prototype.
  • the active energy ray-curable composition is filled between the saddle mold produced by the above method and the transparent sheet, and then released after curing by irradiation with active energy rays, or after active release by active energy ray curing.
  • the present inventors have also found a method for producing a cured sheet having a fine relief structure on the surface.
  • the present invention makes it possible to easily obtain a saddle shape having a fine concavo-convex structure below the wavelength of visible light, in which there are no seams or visually identifiable irregularities on the surface. It was possible to manufacture a sheet having a fine concavo-convex structure on the surface with good economic efficiency.
  • FIG. 1 is a diagram showing a process of forming pores having a shape in which the diameter continuously decreases in the depth direction from the opening by combining anodization and pore diameter enlargement processing.
  • FIG. 2 is a view showing an example of a pore shape obtained by changing the anodizing time and the pore diameter expansion treatment time in the method of FIG.
  • FIG. 3 is a schematic view showing an example of an apparatus for continuously producing sheets having a fine concavo-convex structure using the roll saddle of the present invention.
  • the purity of aluminum used in the present invention is preferably 99.5% or more, more preferably 99.8% or more, and most preferably 99.99% or more. If the purity is lower than 99.5%, when anodized, an uneven structure with a size that scatters visible light due to segregation of impurities is formed, and the regularity of the pores obtained with anodized is reduced. There are things to do.
  • the original mold is a flat mold
  • aluminum that is not introduced with rolling marks, such as a forged product is cut to form a flat plate, or an aluminum film is formed on a flat substrate having another material strength. Also good. It is preferable to use machined, chemical, and electrochemical polishing after cutting forged products.
  • the original mold itself may be made of columnar aluminum, or cylindrical aluminum may be fitted to a support having another material strength.
  • a material obtained by depositing aluminum by a method such as vapor deposition or sputtering on a columnar or cylindrical substrate having a material strength may be used.
  • the aluminum can be cut from a fabricated product, or an extruded or drawn bar can be used.
  • the surface of the columnar or cylindrical aluminum that has been cut and polished in this way, or the aluminum film formed on another substrate, is polished and subjected to surface mirroring treatment. Is more preferable.
  • the polishing method include chemical polishing, electrochemical polishing, physical polishing, and physical chemical polishing.
  • the period of the saddle-shaped concavo-convex structure of the present invention is fine with a wavelength equal to or smaller than the wavelength of visible light.
  • This “below the wavelength of visible light” refers to 400 nm or less. If it is larger than 400 nm, it scatters visible light and is not suitable for use in optical applications such as an antireflection film.
  • the saddle mold of the present invention has each center of gravity of an arbitrary concave portion (pore) having a fine concavo-convex structure formed on the surface thereof and six concave portions (pores) adjacent to the concave portion (pore).
  • the standard deviation of the distance is 6.0 to 12.0, more preferably 6.0 to 9.6, and most preferably 7.5 to 9.6. If the standard deviation is less than 6.0, macroscopic unevenness of crystal grain boundaries will be seen in the transferred product, and the design will be reduced. If the standard deviation is more than 12.0, the gap between adjacent recesses (pores) will be reduced.
  • the saddle-shaped surface was observed with a field emission scanning electron microscope (50,000 times magnification), and the obtained 3.8 ⁇ m 2 field-of-view image, for example, “Image—Pro PLUS” (Nippon Roper) Analyze the image with software such as that of the company, and calculate the center-of-gravity coordinates of the recesses (pores) of the fine concavo-convex structure.
  • an arbitrary recess (pore) is selected, and 6 points are selected from the recesses (pores) adjacent to the recess (pore), and the standard deviation of the coordinate distance is obtained.
  • the above operation was carried out at 10 points each at any three locations of the mold, and the average of them was “arbitrary recesses (pores) of fine concavo-convex structure and 6 adjacent to the recesses (pores).
  • the standard deviation is an index of the regularity of the fine uneven structure.
  • the shape and height of the optimum uneven structure of the saddle shape depends on the use of the sheet having a fine uneven structure on the surface produced using the saddle shape.
  • Examples of the shape in which the diameter of the pores of the bowl-shaped concavo-convex structure continuously decreases in the depth direction from the opening include, for example, a conical shape, a reverse bell shape, and a sharp shape as shown in FIG. It is done.
  • the surface on which the saddle-shaped concavo-convex structure is transferred becomes a so-called Moth-Eye structure, which is an effective antireflection means.
  • the height (depth) of the bowl-shaped irregularities is preferably 50 nm or more, more preferably lOOnm or more.
  • the reflectivity of the transferred product decreases at 50 nm or more.
  • the unevenness height or depth of the grain boundary is 300 nm or less, more preferably 250 nm or less, and most preferably 180 nm or less. If it is larger than 300 nm, the crystal grain boundary of aluminum can be visually confirmed. When transferred, even the irregularities of the crystal grain boundary are transferred to the surface of the resin and the appearance is deteriorated.
  • the above-described crystal grain boundary height or depth is obtained by the following method. First, the surface of the bowl is observed using the “New View6 300”, a 3D profiler system of Zygo's scanning white interferometer, and the observation results of 10 mm square are obtained by joining the fields of view. The above 10 mm angular force The height or depth of any 10 grain boundary steps was measured, and the average value thereof was defined as “the grain boundary unevenness height (depth) J”.
  • the surface of the saddle mold of the present invention may be treated with a release agent so as to facilitate release.
  • the treatment method is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a silicone polymer or a fluorine polymer is coated, a fluorine compound is vapor-deposited, or a fluorine type or fluorine silicone type silane coupling agent is coated.
  • the saddle mold of the present invention can be easily formed into a roll saddle mold with higher productivity. Since the roll saddle of the present invention has no seams or irregularities that can be visually confirmed on the surface, a transfer product can be obtained with a high yield, which is economically superior.
  • the aluminum on the prototype surface is anodized under a constant voltage in an acidic electrolyte, once the oxide film is removed, and this is used as the pore generation point of the anodic acid so that the regularity of the pores can be improved.
  • the first step is to set the anodic acid soot for creating regular pore generation points.
  • the process of forming an acid film with an anodic acid is called “first acid film formation process”.
  • the anodic acid after removal of the acid film is referred to as “second-stage anodic oxidation”.
  • the process of forming the acid film using this anodized acid is referred to as the “second acid film forming process”.
  • Examples of the acidic electrolyte include sulfuric acid, oxalic acid, and a mixture thereof.
  • the concentration is preferably 0.7M or less. If it is higher than 7M, the current value may become too high and the surface may become rough.
  • the formation voltage is 30 to 60 V, an acid-oil film (hereinafter referred to as porous alumina) having highly regular pores with a period of lOOnm can be obtained. Regardless of whether the formation voltage is higher or lower than this range, the regularity tends to decrease, and an uneven structure larger than the wavelength of visible light may be formed.
  • the temperature of the electrolyte during the anodic oxidation reaction is preferably 60 ° C or less, and more preferably 45 ° C or less. If the temperature is higher than 60 ° C, the so-called “burning” phenomenon may occur, the structure may be broken, and the regularity may be disturbed due to the surface force S.
  • the concentration is preferably 0.7M or less. If it is higher than 7M, the current value may become too high and the voltage may not be constant. It is possible to obtain pores with a high regularity with a formation voltage of 25 to 30 V and a period of 63 nm. Regardless of whether the formation voltage is higher or lower than this range, the regularity tends to decrease, and an uneven structure larger than the wavelength of visible light may be formed.
  • the temperature of the electrolyte during the anodic oxidation reaction is preferably 30 ° C or less, and more preferably 20 ° C or less. When the temperature is higher than 30 ° C, a so-called “burning” phenomenon occurs, and the structure may be broken, or the surface may melt and the regularity may be disturbed.
  • the thickness of the oxide film formed by anodizing columnar or cylindrical aluminum or at least aluminum existing on the surface of the shape under the electrolytic solution and a formation voltage is a field emission type. 1 to 5 / ⁇ ⁇ is preferred, and 1 to 3 / ⁇ ⁇ is more preferred when observed with a scanning electron microscope.
  • the thickness of the oxide film is 10 / z m or less, the crystal grain boundaries of aluminum cannot be visually confirmed. When transferred, even the irregularities of the crystal grain boundaries can be prevented from being transferred to the surface of the resin.
  • the pore generation point is formed by removing the porous alumina film of the present invention.
  • the method for removing the porous alumina film is not particularly limited, but examples include a method in which aluminum is not dissolved but dissolved in a solution that selectively dissolves alumina.
  • a mixed solution of chromic acid and Z phosphoric acid is used.
  • the pore diameter expansion treatment is a treatment for expanding the pore diameter obtained by anodic oxidation by immersing in a solution dissolving alumina, and does not remove all the oxide film as in the first step.
  • a solution dissolving alumina for example, about 5% phosphoric acid aqueous solution is used as a solution for dissolving alumina.
  • the pore shape varies depending on the conditions of anodization and pore diameter expansion treatment. At this time, the anodization is performed at the same range of electrolyte concentration, electrolyte temperature, and almost the same formation voltage as the first stage.
  • FIG. 1 shows the production of anodized porous alumina having a tapered shape in the present invention.
  • the method is shown.
  • anodized porous alumina 2 having a thickness of 10 m or less is formed on the surface of aluminum (original) 1 (first-stage anodic oxidation).
  • first-stage anodic oxidation the surface of aluminum (original) 1
  • regular pore generation points can be obtained.
  • the re-anodized layer 4 is formed by second-stage anodic oxidation.
  • the pore 3 of the re-anodized layer 4 has a substantially cylindrical shape, and as it is, it is difficult to use it as a saddle for forming a film having an antireflection effect.
  • anodized porous alumina having a desired taper-shaped hole is realized by combining anodization and a pore diameter expansion process by etching. After anodizing for a predetermined time to form pores with the desired depth (Fig. 1 (c)), the pores are enlarged by immersion in an appropriate alumina solution (Fig. L ( d)). After this, anodization is performed again to form a hole with a smaller diameter than that in Fig. 1 (c) (Fig. L (e)).
  • anodized porous alumina having a tapered shape can be obtained (Fig. L (f)).
  • a smoother taper shape can be obtained by increasing the number of repeated steps.
  • the anodizing time and the hole diameter expansion processing time it is possible to form holes with various taper shapes, and it is possible to design the optimal refractive index change according to the period and hole depth.
  • the shape of Fig. 2 (a) can be obtained by repeating the anodization and pore size expansion treatment under the same conditions, and Fig. 2 (b), () by changing the anodization time and the pore size expansion processing time. It is possible to obtain the shape of c).
  • the number of repetitions of steps (d) to (e) is preferably 3 times or more, more preferably 5 times or more.
  • the effect of reducing the reflectivity is inferior because the pore diameter decreases discontinuously at 2 times or less.
  • a sheet having a fine concavo-convex structure on the surface can be produced using the saddle mold produced by the method of the present invention.
  • the active energy ray-curable composition is filled between the saddle shape produced by the method and the transparent sheet and then released after curing by irradiation with active energy rays, or the active energy ray-curable composition is It is carried out by transferring the uneven shape and then releasing the mold, and then irradiating with active energy rays and curing.
  • the transparent sheet used in the present invention is not particularly limited as long as the active energy ray irradiation is remarkably inhibited since the active energy ray irradiation is performed through the sheet.
  • the active energy ray specifically indicates visible rays, ultraviolet rays, electron rays, plasma, heat rays such as infrared rays, and the like.
  • the active energy ray-curable composition of the present invention is a mixture of monomers, oligomers, and reactive polymers having a radical polymerizable bond or Z and a cation polymerizable bond in a molecule as appropriate. May be added. Also, an active energy ray sol-gel reactive composition may be used.
  • the monomer having a radical polymerizable bond is not particularly limited and can be used, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n —Butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethyl hexyl (meth) acrylate, lauryl ( (Meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxychetyl (meth) acrylate, Isobornyl (meth) acrylate, darisidyl (meth) acrylate,
  • Examples of the monomer having a cationic polymerizable bond include monomers having an epoxy group, an oxetal group, an oxazolyl group, a vinyloxy group, and the like that can be used without any particular limitation. Preferred is a monomer having
  • Examples of the oligomer and the reactive polymer include unsaturated polyesters such as a condensation product of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meta ) Acrylate, epoxy (meth) acrylate, urea (meth) acrylate, cationic polymerization type epoxy compound, single or copolymer of the above-mentioned monomers having a radical polymerizable bond in the side chain.
  • non-reactive polymer examples include acrylic resin, styrenic resin, polyurethane resin, cellulose resin, polybutyl pentyl resin, polyester resin, and thermoplastic elastomer.
  • Examples of the active energy ray sol-gel reactive composition include, but are not limited to, for example, alkoxysilane compounds and alkylsilique compounds.
  • 0 represents an alkyl group
  • the alkyl silicate compound is represented by 0 [Si (OR 3 ) (OR 4 ) O] R 2 , R z
  • i to R 4 each represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and z represents an integer of 3 to 20. Specific examples include methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n-propyl silicate, n-butyl silicate, n-pentyl silicate, and acetyl silicate.
  • a polymerizable initiator for curing is added to the active energy ray-curable composition.
  • the polymerization initiator is not particularly limited and known ones can be used.
  • examples of the photoinitiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2, 2-diethoxyacetophenone, ⁇ , a-dimethoxy- ⁇ -phenylacetophenone, methylphenyldallyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4,1bis (dimethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-1-2-methyl 1-Phenolpropane 1-one, etc.
  • the polymerization initiators include, for example, benzophenone, 4,4-bis (jetylamino) benzophenone, 2,4,6 trimethylbenzophenone, methylorthobenzoylbenzoate, 4-phenol.
  • thermal polymerization initiator examples include methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, and t-butyl hydride peroxide.
  • Organic peroxides such as side, cumene hydride peroxide, t-butyl peroxide, t-butyl peroxide, lauroyl peroxide; azo compounds such as azobisisobutyl-tolyl; Examples include redox polymerization initiators in which amines such as N, N dimethylaline, N, N dimethyl-p-toluidine and the like are combined with an acid compound.
  • the addition amount of the polymerization initiator is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable composition. When the amount is less than 1 part by mass, polymerization is difficult to proceed. When the amount is more than 10 parts by mass, the resulting cured product may be colored or the mechanical strength may be lowered.
  • the active energy ray-curable composition is added with an antistatic agent, a release agent, an additive such as a fluorine compound for improving antifouling property, fine particles and a small amount of solvent. May be.
  • the filling method of (1) includes a method of supplying an active energy ray-curable composition between a mold and a transparent sheet and rolling it with a nip roll or the like, and an active energy ray-curable resin composition.
  • the pressure contact condition of (2) is not particularly limited, but the temperature condition is preferably 50-2 50 ° C, more preferably 50-200 ° C, more preferably 50-150 ° C. Most preferred. If the temperature is lower than 50 ° C, fine irregularities are difficult to be transferred. If it is higher than 250 ° C, it may be colored or thermally decomposed.
  • the pressure condition is preferably 0.1 to 15 MPa, 0.5 to: LOMPa is more preferably 1 to 5 MPa. 0. Less than IMPa is difficult to transfer the fine uneven shape. If it is higher than 15MPa, the durability of the saddle type may be problematic. Either way Also, after release, it may be irradiated with active energy rays or heat-treated.
  • the active energy ray irradiation is performed using, for example, a high-pressure mercury lamp.
  • the amount of light irradiation energy is not particularly limited as long as the active energy ray-curable composition is cured, but is preferably 100 to 10,000 mjZcm 2 , for example.
  • FIG. 3 is a schematic view showing an example of an apparatus for producing a sheet having a fine concavo-convex structure using a roll saddle mold according to an embodiment of the present invention.
  • 11 is a roll mold manufactured by the method of the present invention.
  • Active energy ray curable composition 13 is supplied from tank 17 between roll mold 11 and transparent sheet 12, and nip pressure is applied by pneumatic cylinder 18. Then, the active energy ray-curable composition 13 is also filled in the recesses of the roll mold 11.
  • An active energy line irradiation device 15 is installed below the roll saddle 11 and the active energy ray is irradiated to the composition 13 through the transparent sheet 12, crosslinks and cures, adheres to the transparent sheet 12, and roll roll The unevenness of the mold 1 1 is transferred. Thereafter, the sheet 14 having a fine concavo-convex structure is peeled off from the roll mold 11 by the peeling roll 16b and transferred in the right-hand direction on the paper surface. In this way, a sheet having a fine concavo-convex structure is formed.
  • the sheet material having a fine concavo-convex structure manufactured by the method of the present invention includes an antireflection film, an antireflection film, an antireflection article, an optical article such as an optical waveguide, a relief hologram, a lens, and a polarization separation element, and a cell culture sheet. It can be expected to be used as a super-water-repellent film, a super-hydrophilic film, etc., and is particularly suitable for use as an anti-reflection film, an anti-reflection film, and an anti-reflection article.
  • antireflection films, antireflection films, and antireflection articles include liquid crystal display devices, plasma display panels, electoric luminescence displays, image display devices such as cathode ray tube display devices, lenses, show windows, display cases, meter panels, Examples thereof include an antireflection film, an antireflection film and an antireflection sheet used on the surface of meter covers and glasses.
  • a film When used in an image display device, a film may be pasted on the outermost surface or directly formed on a material that forms the outermost surface, or may be formed on a front plate.
  • the sheet material having a fine concavo-convex structure obtained by the present invention has a large area such as an antireflection film for large displays, a show window, and an exhibition case. Suitable for the application used.
  • the haze of the antireflection film of the present invention is preferably 3% or less, and more preferably 1% or less.
  • Most preferred is 5% or less. If it is higher than 3%, for example, when used in an image display device, the sharpness of the image is lowered, which is preferable.
  • the antireflection film may have an antiglare function for scattering external light.
  • An antiglare function can be imparted by providing a fine concavo-convex structure having a wavelength of visible light or less on the surface of the present invention on the concavo-convex structure having a wavelength of visible light or more.
  • Part of the bowl is cut off, and the cross-section is Pt deposited for 1 minute, and JEOL field emission scanning electron microscopic impact SM-7400F is observed with acceleration voltage 3. OOkV, and the oxide film thickness, pore period, pore The opening, bottom, and hole depth were measured.
  • Pt was vapor-deposited on the fracture surface for 5 minutes, and the period, the height of the convex part, the diameter of the convex part, and the diameter of the convex part were measured in the same manner.
  • the image of the field of view 3 was obtained with the image analysis software “Image—Pro PLUS” (trade name: manufactured by Nippon Roper). Image analysis was performed, and the barycentric coordinates of the recesses (pores) of the fine relief structure were calculated. Next, select an arbitrary recess (pore), select any 6 of the recesses (pores) adjacent to the recess (pore), and standard deviation of the coordinate distance of the previous arbitrary recess force Asked. Perform the above operation at 10 points each at any 3 locations of the mold, find the average value of them, and calculate the standard deviation. And used as an index of regularity.
  • the back surface of the measurement surface of the transfer sample was applied in black, and the relative reflectance was measured in the wavelength range of 380 to 780 nm at an incident angle of 5 ° using a Hitachi spectrophotometer U-4000.
  • the active energy ray-curable composition having the following composition was used.
  • An aluminum disc having a thickness of 2 mm and a diameter of 75 mm obtained by machining from an aluminum billet having a purity of 99.99% was subjected to a feather polishing treatment and then subjected to electropolishing.
  • the mirror-finished aluminum disc was anodized in 0.3M oxalic acid aqueous solution at a bath temperature of 17 ° C under a direct current of 40V for 30 minutes to form a first oxide film.
  • the formed oxide layer was dissolved and removed in a mixed aqueous solution of 6% by mass phosphoric acid and 1.8% by mass chromic acid, and then anodized again for 30 seconds under the same conditions.
  • the obtained mold was soaked in 0.5% by mass of KBM-7803 (trade name) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. for 10 minutes, then air-dried for 20 minutes and heat-treated at 120 ° C for 2 hours to release the mold. Processed.
  • An active energy ray curable composition A was filled between the vertical shape obtained in this way and the Toyobo PET film product name "A4300", and the accumulated light quantity was 3000 miZcm with a high-pressure mercury lamp.
  • a film having a fine concavo-convex structure was obtained by irradiating with ultraviolet rays of 2 .
  • a film having a fine concavo-convex structure with a period of 100 nm, a ridge height of 200 nm, a ridge tip diameter of 40 nm, and a ridge bottom diameter of 85 nm was obtained.
  • Table 1 shows the thickness of the first bowl-shaped oxide film obtained, the height of the grain boundary unevenness, the regularity, the reflectance of the transfer film, and the visual appearance.
  • a film having a saddle shape and a fine concavo-convex structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that the first-stage anodic acid was changed to 60 minutes.
  • Table 1 shows the thickness of the first vertical oxide film obtained, the height of the grain boundary irregularities, the regularity, the reflectance of the transfer film, and the visual appearance.
  • a film having a saddle shape and a fine concavo-convex structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that the first stage anodic acid was changed to 80 minutes.
  • Table 1 shows the thickness of the first vertical oxide film obtained, the height of the grain boundary irregularities, the regularity, the reflectance of the transfer film, and the visual appearance.
  • a film having a saddle shape and a fine concavo-convex structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that the first-stage anodic oxidation was performed with a 0.5 M aqueous oxalic acid solution for 1 minute.
  • Table 1 shows the thickness of the first vertical oxide film obtained, the grain boundary unevenness height, regularity, the reflectance of the transfer film, and the visual appearance. The height of the grain boundary unevenness was too low to be measured.
  • the obtained roll mold was spray-coated with a trade name “Novec EGC-1720” manufactured by Sumitomo 3M as a release agent and air-dried at room temperature for 30 minutes for use.
  • Die-coated roll molds subjected to mold release treatment are coated with a photo-curing resin, “PAK-01”, manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd., and covered with a polyethylene terephthalate film with a thickness of 500 ⁇ m. Then, the film was cured by irradiating with ultraviolet rays with an energy of 8000 mjZcm 2 from the top of the film.
  • PAK-01 photo-curing resin
  • the film and the roll saddle were peeled to obtain a film having a fine concavo-convex structure with a period of 100 nm, a convex part height of 300 nm, a convex part tip diameter of 25 nm, and a convex part bottom part diameter of 80 nm. Visually macroscopic unevenness was observed on the surface.
  • the roll roll obtained was dubbed in a 0.3% by weight solution of m-xylene hexane fluoride, trade name “KP-801M” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. for 30 minutes and air-dried for 1 hour.
  • KP-801M m-xylene hexane fluoride
  • the active energy ray-curable composition A was used as the active energy ray-curable composition 13.
  • PET film product name “A4300” manufactured by Toyobo Co., Ltd. in which the active energy ray-curable composition 13 is nipped between the nip roll 16a and the roll bowl 11 through a supply nozzle from the tank 17 at room temperature. 12 Fed on.
  • the active energy ray curing composition 13 is sandwiched between the roll mold 11 and the PET film 12 and irradiated with 240 WZcm of ultraviolet rays.
  • the active energy ray curable composition 13 was cured and shaped by irradiating ultraviolet rays from the device 15, and then peeled off from the roll mold 11 to obtain a sheet 14 having a fine concavo-convex structure.
  • a film having a fine concavo-convex structure with a period of 100 nm, a ridge height of 160 nm, a ridge tip diameter of 25 nm, and a ridge bottom diameter of 80 nm was obtained.
  • Table 1 shows the reflectivity of the obtained film having a fine relief structure.
  • a film having a saddle shape and a fine concavo-convex structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that the first-stage anodized acid was changed to 120 minutes.
  • Table 1 shows the thickness of the first vertical oxide film obtained, the grain boundary height, the regularity, the reflectance of the transfer film, and the visual appearance. [0093] [Table 1]
  • the sheet material having a fine concavo-convex structure produced by the method of the present invention includes an antireflection film, an antireflection film, an antireflection article, an optical article such as an optical waveguide, a relief hologram, a lens, and a polarization separation element
  • Applications can be expected as cell culture sheets, super-water-repellent films, super-hydrophilic films, etc., and it is particularly suitable for use as anti-reflection films, anti-reflection films, and anti-reflection articles.

Description

明 細 書
铸型、铸型の製造方法及びシートの製造方法
技術分野
[0001] 本発明は微細凹凸構造を転写するための铸型铸型の製造方法、铸型及び铸型を 用いて微細凹凸構造を有するシートを製造する方法に関する。
背景技術
[0002] 近年、可視光の波長以下の周期の微細な凹凸構造を表面に有する材料は、反射 防止機能、 Lotus効果などの機能性を発現することから有用性が認識されている。特 に、 Moth— Eye構造と呼ばれる凹凸構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連 続的に増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
[0003] 一般的に材料表面に微細構造を形成する方法としては、直接材料上に加工する 方法もあるが、生産性、経済性の観点から微細な反転構造を有する铸型を作製して 材料上に転写する方法が優れている。このような微細な凹凸構造を形成する方法と しては、電子線描画やレーザー光干渉法による方法が知られていた力 近年、より簡 便に作製できる铸型として陽極酸ィ匕ポーラスアルミナも注目されて ヽる（例えば、特 許文献 1)。
[0004] また、上述のように材料表面に微細形状を付与する工程にぉ 、ては、経済性が高 ぃ大面積铸型ゃ連続生産が可能になり、より生産性、経済性が向上するよう铸型を 使用することが多い。
[0005] 例えば、リソグラフィ一法で微細な凹凸構造を形成して複製して金属スタンパーを 作製、多面付けして大面積ィ匕したものをロールに貼り付ける方法 (例えば、特許文献 2)や、円筒状の元型内周面にリソグラフィ一法で微細な凹凸構造を形成し、電铸に より金属層を設けた後に元型を除去して内側に支持ロールを入れて支持する方法（ 例えば、特許文献 3)が提案されている。
特許文献 1 :特開 2005— 156695号公報
特許文献 2：特開 2001 - 264520号公報
特許文献 3：特開 2005— 35119号公報 発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] し力しながら、可視光の波長以下の周期の微細な凹凸構造を有する大面積铸型又 はロール铸型を作製するのは難しぐ特許文献 2の方法では継ぎ目を溶接しても完 全に除去できないためロール铸型の長所を生力しきれず歩留まりが低下するという課 題がある。
[0007] また、特許文献 3の方法では継ぎ目は無くなるが、リソグラフィ一法で可視光の波長 以下の微細な凹凸構造を大面積作製することは難しいため、可視光の波長以下の 微細な凹凸構造を有するロール铸型を作製するのは困難という課題がある。また、非 常に工程の多い煩雑な方法であり、安価に製造することも難しいという問題点もあつ た。
[0008] 特許文献 1の方法は簡便に铸型を作製する方法として優れるが得られた铸型のマ クロな凹凸に!/ヽては言及して ヽな 、。圧延などの方法で形成されたアルミニウム材料 は、電解研磨などの鏡面化処理を行なっても圧延痕は除去できな力つたり、仮に铸 造品など圧延加工をして!/ヽな ヽアルミニウム材料を使用しても陽極酸化後には目視 で確認できるマクロな凹凸が出来、榭脂に転写するとマクロな凹凸も転写されるという 問題点があった。また、特許文献 1ではロール铸型についても言及していない。
[0009] 従って本発明の目的は、簡便な製造方法により形成される表面に継ぎ目や目視で 確認可能な凹凸がない可視光の波長以下の微細な凹凸構造を有する（ロール)铸型 、その製造方法、及びその铸型を用いた可視光の波長以下の微細凹凸構造を表面 に有するシートの製造方法を提供することである。
課題を解決するための手段
[0010] 本発明者らは鋭意検討の結果、圧延痕のないアルミニウム原型の表面に、隣り合う 凹部または凸部間の距離が可視光の波長以下の微細凹凸構造を有するアルミナが 陽極酸ィ匕により形成され、且つ結晶粒界の凹凸高さ、または深さが 300nm以下であ ることを特徴とする铸型は目視でマクロな凹凸が確認できないことを見出した。
[0011] また、表面に微細凹凸構造を有する铸型の製造方法であって、圧延痕のないアル ミニゥムを研磨して、或いは、基体表面にアルミニウムを成膜して原型を用意するェ 程、該原型表面のアルミニウムを定電圧で陽極酸化して細孔を有する厚さ 10 m以 下の酸化皮膜を形成する第 1の酸化被膜形成工程と、前記酸化皮膜の全部を除去 する酸化被膜除去工程、前記原型表面のアルミニウムを定電圧で陽極酸化して酸化 皮膜を形成する第 2の酸化被膜形成工程と、前記酸化皮膜の一部を除去して前記 細孔の孔径を拡大処理する孔径拡大処理工程とを含むことで、簡便に可視光の波 長以下の微細である程度規則的な凹凸構造を有する铸型が得られることを見出した
[0012] さらに、前記方法で製造された铸型と透明シートの間に活性エネルギー線硬化性 組成物を充填して活性エネルギー線照射により硬化後離型する、または離型後活性 エネルギー線硬化により硬化する、微細凹凸構造を表面に有するシートの製造方法 も見出した。
発明の効果
[0013] 本発明は簡便に表面に継ぎ目や目視で確認可能な凹凸がなぐ可視光の波長以 下の微細な凹凸構造を有する铸型を得ることを可能にすると同時に、該铸型を用い て経済性良く表面に微細な凹凸構造を有するシートを製造することを可能とした。 図面の簡単な説明
[0014] [図 1]陽極酸化と孔径拡大処理を組み合わせることで、直径が開口部から深さ方向に 連続的に減少する形状の細孔を形成する過程を示す図である。
[図 2]図 1の方法において陽極酸ィ匕時間と孔径拡大処理時間を変更することで得ら れる細孔形状例を示す図である。
[図 3]本発明のロール铸型を用いて微細凹凸構造を有するシートを連続的に製造す るための装置の一例を示す概略図である。
符号の説明
[0015] 1 アルミニウム (原型）
2 陽極酸ィ匕ポーラスアルミナ
3 細孔
4 再陽極酸化層
11 ロール铸型 12 透明シート
13 活性エネルギー線硬化組成物
14 微細凹凸構造を有するシート
15 活性エネルギー線照射装置
16a ニップロール
16b 剥離ロール
17 タンク
18 空気圧シリンダー
発明を実施するための最良の形態
[0016] 以下、本発明を更に詳しく説明する。
[0017] (アルミニウム原型）
本発明に使用されるアルミニウムの純度は 99. 5%以上のものが好ましぐ更に 99 . 8%以上のものが好ましぐ 99. 99%以上のものが最も好ましい。 99. 5%より純度 が低いと陽極酸ィ匕した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構 造が形成されたり、陽極酸ィ匕で得られる細孔の規則性が低下することがある。
[0018] 原型は平型の時は铸造品などの圧延痕が導入されていないアルミニウムを切削し て平板上にする又は他の材質力 なる平板状の基体にアルミニウムを成膜したもの を用いても良い。铸造品を切削したものは機械研磨、化学研磨、電気化学的研磨を 行なって用いるのが好まし 、。
[0019] また、ロール铸型とする時は原型はそのものが円柱状のアルミニウムで作製されて いてもよいし、円筒状のアルミニウムを他の材質力 なる支持体にはめてもよいし、他 の材質力 なる円柱状又は円筒状の基体上にアルミニウムを蒸着やスパッタリングな どの方法で成膜したものを用いても良い。円柱状または円筒状のアルミニウムの場合 は、アルミニウムは铸造品から切削したり、押し出し棒や引き抜き棒などを使用するこ とが出来る。本発明では、原型として円柱状又は円筒状のアルミニウムを使用する場 合には、圧延痕が導入されない铸造品から切削して得られた丸棒を機械研磨処理し て用いるのが望ましい。このように切削研磨した円柱状又は円筒状アルミニウム、ある いは他の基体上に成膜したアルミニウムの表面を研磨して表面鏡面化処理を行うこ とは、さらに好ましい。研磨の方法として、化学研磨、電気化学的研磨、物理研磨、 物理化学研磨などが挙げられる。
[0020] (铸型）
本発明の铸型の凹凸構造の周期は可視光の波長以下の微細なものである。この「 可視光の波長以下」とは 400nm以下を指す。 400nmより大きいと可視光の散乱が おこるため反射防止膜などの光学用途の使用には適さない。
[0021] 本発明の铸型はその表面に形成された微細凹凸構造の任意の凹部 (細孔）と該凹 部 (細孔)部に隣接する 6個の凹部 (細孔)との各重心間距離の標準偏差が、 6. 0〜 12. 0であり、 6. 0〜9. 6が更に好ましぐ 7. 5〜9. 6が最も好ましい。該標準偏差が 6. 0未満だと転写品に結晶粒界のマクロな凹凸が見られるようになるなど、意匠性が 低下し、 12. 0より大きいと、隣り合う凹部 (細孔)の間に平坦部位が生じ、該铸型を用 いて転写を行うと凸部間に平坦部位が生じ、その反射により反射防止特性が低下す るという問題がある。なお、上述した標準偏差は以下の方法により求められる。
[0022] まず、铸型の表面を電界放出形走査電子顕微鏡（5万倍)で観察し、得られた 3. 8 μ m2の視野の画像を、例えば「Image— Pro PLUS」（日本ローパー社製）などのソ フトウエアで画像解析し、微細凹凸構造の凹部 (細孔)の重心座標を計算する。次い で、任意の凹部 (細孔)を選択し、その凹部 (細孔）に隣接する凹部 (細孔)のうち 6点 を選択し、座標距離の標準偏差を求める。以上の操作を金型の任意の三箇所にお いて各々 10点ずつ実施し、それらの平均を「微細凹凸構造の任意の凹部 (細孔）と、 該凹部 (細孔）に隣接する 6個の凹部との各重心間距離の標準偏差」とする。該標準 偏差は、微細凹凸構造の規則性の指標となる。
[0023] 铸型の最適な凹凸構造の形状や高さは該铸型を使用して製造した表面に微細な 凹凸構造を有するシートの用途による。
[0024] 铸型の凹凸構造の細孔の直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状と して、例えば図 2に示すように円錐状、逆釣鐘状、先鋭状などが挙げられる。該铸型 の凹凸構造が転写された表面は、いわゆる Moth— Eye構造となり有効な反射防止 の手段となる。この場合、铸型の凹凸の高さ（深さ）は 50nm以上、更には lOOnm以 上であることが好ましい。 50nm以上で転写品の反射率が低下する。また、アスペクト 比（=高さ Z周期）は 0. 5以上が好ましぐ 1以上が更に好ましい。 0. 5以上で転写 品の反射率が低ぐ入射角依存性も小さくなるため、高いほうが好ましい。
[0025] 上記では、細孔形状が深さ方向に変化する場合について説明したが、細孔径の拡 大処理を行わずに、細孔形状が円柱状の铸型を用いてシート上に転写した場合でも 、凹凸層が低屈折率層となり反射を低減する効果は期待できる。
[0026] 本発明の铸型は結晶粒界の凹凸高さ、または深さが 300nm以下であり、更には 2 50nm以下であることが好ましぐ 180nm以下が最も好ましい。 300nmより大きいと、 アルミニウムの結晶粒界が目視で確認でき、転写した場合、榭脂表面に結晶粒界の 凹凸までもが転写され外観が低下する。
[0027] なお、上述した結晶粒界の高さまたは深さは以下の方法で求められる。まず、铸型 の表面を Zygo社製走査型白色干渉計 3次元プロファイラ一システム「New View6 300」を用いて観察を行い、視野をつなぎ合わせて 10mm角の観察結果を得る。上 記 10mm角力 任意の 10点の結晶粒界段差の高さまたは深さを測定し、それらの平 均値を「結晶粒界の凹凸高さ (深さ） Jとした。
[0028] 本発明の铸型は離型が容易になるよう、表面が離形剤で処理されていても良い。
処理方法としては特に限定されないが、例えば、シリコーン系ポリマーやフッ素ポリマ 一をコーティングしたり、フッ素化合物を蒸着したり、フッ素系またはフッ素シリコーン 系のシランカップリング剤をコーティングする方法などが挙げられる。
[0029] また、本発明の铸型はより生産性が高いロール铸型にすることも容易である。本発 明のロール铸型は表面に継ぎ目や目視で確認できる凹凸がないため、歩留まり高く 転写品を得ることができ、経済的に優れる。
[0030] (铸型の製造方法）
(陽極酸化）
原型表面のアルミニウムは酸性電解液中で定電圧下で陽極酸化し、一旦酸化皮膜 を除去し、これを陽極酸ィ匕の細孔発生点にすることで細孔の規則性を向上すること が出来る（例えば、益田，応用物理， vol. 69, No. 5, p558 (2000) ) o本発明にお いては、規則的な細孔発生点をつくるための陽極酸ィ匕を「一段階目の陽極酸化」とい い、この陽極酸ィ匕による酸ィ匕被膜の形成工程を「第 1の酸ィ匕被膜形成工程」という。 また、酸ィ匕皮膜除去後の陽極酸ィ匕を「二段階目の陽極酸化」といい、この陽極酸ィ匕 による酸ィ匕被膜の形成工程を「第 2の酸ィ匕被膜形成工程」と 、う。
[0031] まず、一段階目の陽極酸ィ匕について説明する。
[0032] 酸性電解液とは、例えば硫酸、シユウ酸、それらの混合物などが挙げられる。
[0033] シユウ酸を電解液として用いた場合を例に挙げると、濃度は 0. 7M以下が好ましい 。 0. 7Mより高い場合は、電流値が高くなりすぎて表面が粗くなることがある。化成電 圧が 30〜60Vの時、周期が lOOnmの規則性の高い細孔を有する酸ィ匕皮膜 (以下、 ポーラスアルミナという）を得ることが出来る。化成電圧がこの範囲より高くても低くても 規則性が低下する傾向があり、可視光の波長より大きい凹凸構造が出来ることがある 。陽極酸化反応時の電解液の温度は 60°C以下が好ましぐ 45°C以下が更に好まし い。 60°Cより高いといわゆる「やけ」といわれる現象がおこり、構造が壊れたり、表面 力 Sとけて規則性が乱れることがある。
[0034] 硫酸を電解液として用いた場合は、濃度は 0. 7M以下が好ましい。 0. 7Mより高い 場合は電流値が高くなりすぎて定電圧でなくなることがある。化成電圧が 25〜30V で周期 63nmの規則性の高 、細孔を得ることが可能である。化成電圧がこの範囲より 高くても低くても規則性が低下する傾向があり、可視光の波長より大きい凹凸構造が 出来ることがある。陽極酸化反応時の電解液の温度は 30°C以下が好ましぐ 20°C以 下が更に好ましい。 30°Cより高いといわゆる「やけ」といわれる現象がおこり、構造が 壊れたり、表面がとけて規則性が乱れることがある。
[0035] 本発明で円柱または円筒形状のアルミニウムまたは少なくとも該形状の表面に存在 しているアルミニウムを前記電解液及び化成電圧下で陽極酸化して形成される酸ィ匕 皮膜の厚みは電界放出形走査電子顕微鏡で観察した時に 10 m以下が好ましぐ 1〜5 /ζ πιが更に好ましぐ 1〜3 /ζ πιが最も好ましい。酸ィ匕皮膜の厚みが 10 /z m以 下では、アルミニウムの結晶粒界が目視では確認できず、転写した場合、榭脂表面 に結晶粒界の凹凸までもが転写されることが防止できる。
[0036] また、本発明のポーラスアルミナ皮膜をー且除去することにより、細孔発生点の形 成を行う。ポーラスアルミナ皮膜の除去方法は特に限定されないが、アルミニウムを 溶解せず、アルミナを選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられ 、例えばクロム酸 Zリン酸混合液などが使用される。陽極酸化を比較的長時間施すこ とで、陽極酸ィ匕ポーラスアルミナ層の孔配列を規則化させることができる力 上記の 通り、酸ィ匕皮膜の膜厚が 10 mを超えると結晶粒界によるマクロな凹凸が顕著となる ため、孔配列を規則化させるための一段階目の陽極酸ィ匕においては、 10 /z m以下 の酸ィ匕膜厚となるように陽極酸ィ匕の時間を調整することが望まし 、。このように一段 階目の陽極酸ィ匕で形成されたアルミナ層を全て除去することで、アルミニウム表面の ポーラスアルミナの底部 (バリア層と呼ばれる）に対応する比較的規則的な窪み配列 が得られ、再び陽極酸化及び細孔径拡大処理を組み合わせることで、最表面から細 孔が規則配列したテーパー状ポーラスアルミナを形成することができる。
[0037] 次に二段階目の陽極酸ィ匕について説明する。
[0038] 一段階目の陽極酸ィ匕皮膜を除去した後、二段階目の陽極酸化を行うと、円柱状の 細孔が得られる。陽極酸ィ匕は一段階目と同じ範囲の電解液濃度、電解液温度、略同 一の化成電圧で行い、時間を長くするほど深い細孔を得ることが出来るが、二段階 目の陽極酸化では、一段階目の陽極酸化におけるような厚さの酸化被膜を形成する 必要はない。
[0039] 陽極酸化と細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に 減少する形状の細孔が得られる。細孔径拡大処理はアルミナを溶解する溶液に浸漬 して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理であり一段階目のように全ての 酸ィ匕被膜を除去するわけではない。この時、アルミナを溶解する溶液には例えば 5% 程度のリン酸水溶液などが使用される。陽極酸化、細孔径拡大処理の条件により細 孔形状が異なってくるが、この際の陽極酸化は一段階目と同じ範囲の電解液濃度、 電解液温度、略同一の化成電圧で行う。陽極酸ィ匕時間が長いほど細孔は深くなり、 細孔径拡大処理が長いほど細孔径は大きくなる。本発明では、一段階目の陽極酸 化を行うことなぐ二段階目の陽極酸化と細孔径拡大処理を繰り返すことによつても 铸型の製造が可能であるが、形成される細孔の規則性の点では一段階目の陽極酸 化を行い、形成された酸ィ匕被膜を一旦全て除去した後、二段階目の陽極酸化と細孔 径拡大処理とを繰り返すことが好ま ヽ。
[0040] 図 1は、本発明において、テーパー形状を有する陽極酸ィ匕ポーラスアルミナの作製 方法を示したものである。同図（a)に示したように、アルミニウム（原型） 1の表面に厚 さ 10 m以下の陽極酸ィ匕ポーラスアルミナ 2を形成する（一段階目の陽極酸化)。次 に、同図 (b)に形成されたポーラスアルミナ 2を全て除去することで、規則的な細孔発 生点が得られる。続いて、二段階目の陽極酸化により再陽極酸化層 4を形成する。再 陽極酸ィヒ層 4の細孔 3の形状は、ほぼ円筒形状をしており、そのままでは、反射防止 効果のある膜を形成するための铸型としての利用は困難である。本発明にお 、ては 、陽極酸化と、エッチングによる細孔径拡大処理を組み合わせることにより、所望のテ 一パー形状の孔を有する陽極酸ィ匕ポーラスアルミナの作製を実現する。所定の時間 陽極酸ィ匕を施して所望の深さの細孔を形成したのち（図 1 (c) )、適当なアルミナ溶解 溶液中に浸漬することにより孔径の拡大処理を施す（図 l (d) )。この後、再び陽極酸 化を施すことにより、図 1 (c)に比較して孔径の小さな孔を形成する（図 l (e) )。この操 作を繰り返すことにより、テーパー形状を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得ること ができる（図 l (f) )。このとき、繰り返し段数を増大することにより、より滑らかなテーパ 一形状を得ることが可能となる。陽極酸化時間と孔径拡大処理時間とを調整すること で、様々なテーパー形状を有する孔の形成が可能であり、周期、孔深さに合わせて、 最適な屈折率変化を設計することが可能となる。ここで、同じ条件で陽極酸化、細孔 径拡大処理を繰り返すことで図 2 (a)の形状が得られ、陽極酸化時間、細孔径拡大 処理時間を変化させることで図 2 (b)、（c)の形状を得ることが可能である。工程 (d) 〜（e)の繰り返し回数は 3回以上が好ましく 5回以上が更に好ましい。 2回以下では非 連続的に細孔の直径が減少するため、転写品を反射防止として使用する場合は、反 射率低減効果が劣る。
(ロール铸型）
上記のような方法で製造するため、本発明の方法で製造すると大面積铸型ゃ表面 に継ぎ目のな 、ロール铸型が簡便に製造でき、また、目視で確認できる凹凸がな ヽ
(シートの製造方法）
本発明の方法で製造された铸型を用いて微細凹凸構造を表面に有するシートを製 造することが出来る。微細凹凸構造を表面に有するシートを作成するには、本発明の 方法で製造された铸型と透明シートとの間に活性エネルギー線硬化性組成物を充 填して、活性エネルギー線照射により硬化後離型するか、活性エネルギー線硬化性 組成物に铸型の凹凸形状を転写した後離型し、その後活性エネルギー線を照射し て硬化させることにより行われる。
[0043] 本発明で使用する透明シートとは、活性エネルギー線照射を該シートを通して行う ため、この活性エネルギー線照射を著しく阻害しなけれ特に限定されない。例えば、 メチルメタタリレート（共)重合体、ポリカーボネート、スチレン (共)重合体、メチルメタ クリレートースチレン共重合体、セノレロースジアセテート、セノレローストリアセテート、セ ルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスル フォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビュル、ポリビニ ルァセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、ガラスなどが挙げられる。シート状で もフィルム状でも良ぐ密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等改良のために表面 にコーティングやコロナ放電処理が施されて 、ても良 、。
[0044] 本発明で ヽぅ活性エネルギー線とは具体的には可視光線、紫外線、電子線、ブラ ズマ、赤外線等の熱線、などを示す。
[0045] 本発明の活性エネルギー線硬化性組成物とは、分子中にラジカル重合性結合また は Z及びカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマーを適宜 混合したものであり、非反応性のポリマーを添加しても良い。また、活性エネルギー 線ゾルゲル反応性組成物を使用しても良 、。
[0046] ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、特に限定されることなく使用するこ とができる力 例えば、メチル (メタ）アタリレート、ェチル (メタ）アタリレート、プロピル（ メタ）アタリレート、 n—ブチル (メタ）アタリレート、 i—ブチル (メタ）アタリレート、 s—ブチ ル (メタ）アタリレート、 t—ブチル (メタ）アタリレート、 2—ェチルへキシル (メタ）アタリレ ート、ラウリル (メタ）アタリレート、アルキル (メタ）アタリレート、トリデシル (メタ）アタリレ ート、ステアリル (メタ）アタリレート、シクロへキシル (メタ）アタリレート、ベンジル (メタ） アタリレート、フエノキシェチル (メタ）アタリレート、イソボル-ル (メタ）アタリレート、ダリ シジル (メタ）アタリレート、テトラヒドロフルフリル (メタ）アタリレート、ァリル (メタ）アタリ レート、 2—ヒドロキシェチル (メタ）アタリレート、ヒドロキシプロピル (メタ）アタリレート、 2—メトキシェチル (メタ）アタリレート、 2—エトキシェチル (メタ）アタリレートなどの（メタ )アタリレート誘導体、（メタ)アクリル酸、（メタ）アクリロニトリル、スチレン、 α—メチル スチレンなどのスチレン誘導体、（メタ）アクリルアミド、 Ν—ジメチル (メタ）アクリルアミ ド、 Ν—ジェチル (メタ）アクリルアミド、ジメチルァミノプロピル (メタ）アクリルアミドなど の (メタ)アクリルアミド誘導体等の単官能モノマー、エチレングリコールジ (メタ)アタリ レート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アタリレート、イソシァヌール酸エチレンォキ サイド変性ジ (メタ）アタリレート、トリエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ジェチレ ングリコールジ (メタ）アタリレート、ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレート、 1, 6
—へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、 1, 5—ペンタンジオールジ (メタ）アタリレー ト、 1, 3—ブチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ポリブチレングリコールジ (メタ）ァ タリレート、 2, 2—ビス（4— (メタ）アタリロキシポリエトキシフエ-ル）プロパン、 2, 2- ビス（4— (メタ）アタリロキシエトキシフヱ-ル）プロパン、 2, 2—ビス（4— (3— (メタ）ァ クリロキシ一 2—ヒドロキシプロボキシ）フエ-ル）プロパン、 1, 2—ビス（3— (メタ）ァク リロキシ一 2—ヒドロキシプロボキシ）ェタン、 1, 4—ビス（3— (メタ）アタリ口キシ一 2— ヒドロキシプロボキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アタリレート、ビス フエノール Αのエチレンオキサイド付力卩物ジ (メタ）アタリレート、ビスフエノール Aのプ ロピレンオキサイド付加物ジ (メタ）アタリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグリ コールジ (メタ）アタリレート、ジビュルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能 性モノマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ )アタリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アタリレート、ト リメチロールプロパンプロピレンォキシド変性トリアタリレート、トリメチロールプロパンェ チレンォキシド変性トリアタリレート、イソシァヌール酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ )アタリレート、等の三官能モノマー、コハク酸 Zトリメチロールェタン Zアクリル酸の縮 合反応混合物、ジペンタエリストールへキサ (メタ）アタリレート、ジペンタエリストール ペンタ (メタ）アタリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアタリレート、テトラメチロール メタンテトラ (メタ）アタリレート等の多官能のモノマー、二官能以上のウレタンアタリレ ート、二官能以上のポリエステルアタリレートなどが挙げられる。これらは、単独で用い ても良ぐ二種類以上を組み合わせて使用しても良い。 [0047] カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、特に限定されることなく使用できる 力 エポキシ基、ォキセタ-ル基、ォキサゾリル基、ビニルォキシ基などを有するモノ マーが挙げられ、これらの中でも特にエポキシ基を有するモノマーが好まし 、。
[0048] オリゴマー及び反応性ポリマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコー ルの縮合物などの不飽和ポリエステル類、ポリエステル (メタ）アタリレート、ポリエーテ ル (メタ）アタリレート、ポリオール (メタ）アタリレート、エポキシ (メタ）アタリレート、ウレタ ン (メタ）アタリレート、カチオン重合型エポキシィ匕合物、側鎖にラジカル重合性結合を 有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。
[0049] 非反応性のポリマーとしては、アクリル榭脂、スチレン系榭脂、ポリウレタン榭脂、セ ルロース榭脂、ポリビュルプチラール榭脂、ポリエステル榭脂、熱可塑性エラストマ一 などが挙げられる。
[0050] 活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、特に限定されな ヽが例えばァ ルコキシシランィ匕合物、アルキルシリケ一トイ匕合物などが挙げられる。
[0051] アルコキシシラン化合物として R Si (OR' )で表せるもので R及び R，は炭素数 1〜1
0のアルキル基を表し、 X及び yは x +y=4の関係を満たす整数である。具体的には 、テトラメトキシシラン、テトラー iso—プロボキシシラン、テトラー n—プロボキシシラン、 テトラー n—ブトキシシラン、テトラー sec—ブトキシシラン、テトラー tert—ブトキシシラ ン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジ メチルジメトキシシラン、ジメチルジェトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチル メトキシシラン、トリメチルプロボキシシラン、トリメチルブトキシシランなどが挙げられる
[0052] アルキルシリケート化合物としては、 0 [Si (OR3) (OR4) O] R2で表せるもので、 R z
i〜R4はそれぞれ炭素数 1〜5のアルキル基を示し、 zは 3〜20の整数を示す。具体 的にはメチルシリケート、ェチルシリケート、イソプロピルシリケート、 n—プロピルシリ ケート、 n—ブチルシリケート、 n—ペンチルシリケート、ァセチルシリケートなどが挙げ られる。
[0053] 活性エネルギー線硬化性組成物中には硬化の為の重合性開始剤を添加する。重 合性開始剤としては特に限定されず公知のものが使用できる [0054] 光反応を利用する場合、光開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチル エーテル、ベンゾインェチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン イソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフエノン、 p—メトキシベンゾフエノン、 2, 2—ジ エトキシァセトフエノン、 α , a—ジメトキシ一 α—フエ-ルァセトフエノン、メチルフエ ニルダリオキシレート、ェチルフエ-ルグリオキシレート、 4, 4，一ビス（ジメチルァミノ） ベンゾフエノン、 2—ヒドロキシ一 2—メチル 1—フエ-ルプロパン一 1—オン等の力 ルポ-ル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフイド、テトラメチルチウラムジスルフィ ド等の硫黄化合物； 2, 4, 6 トリメチルベンゾィルジフエ-ルフォスフィンオキサイド、 ベンゾィルジェトキシフォスフィンオキサイド；などが挙げられる。これらは 1種を単独 で用いても良いし、 2種以上を併用しても良い。
[0055] 電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤は例えば、ベンゾフヱノン、 4, 4ービ ス（ジェチルァミノ）ベンゾフエノン、 2, 4, 6 トリメチルベンゾフエノン、メチルオルソ ベンゾィルベンゾエート、 4—フエ-ルペンゾフエノン、 t—ブチルアントラキノン、 2— ェチルアントラキノン、 2, 4 ジェチルチオキサントン、イソプロピルチォキサントン、 2 , 4ージクロ口チォキサントン等のチォキサントン；ジエトキシァセトフエノン、 2 ヒドロ キシ 2—メチルー 1 フエニルプロパン 1 オン、ベンジルジメチルケタール、 1 -ヒドロキシシクロへキシル一フエ-ルケトン、 2 メチル 2 モルホリノ（4 -チオメ チルフエ-ル）プロパン— 1—オン、 2—ベンジル— 2—ジメチルァミノ— 1— (4—モ ルホリノフエニル）一ブタノン等のァセトフエノン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾィ ンェチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル 等のベンゾインエーテル； 2, 4, 6 トリメチルベンゾィルジフエニルホスフィンォキサ イド、ビス（2, 6 ジメトキシベンゾィル）一2, 4, 4 トリメチルペンチルホスフィンォキ サイド、ビス（2, 4, 6 トリメチルベンゾィル）—フエ-ルホスフィンオキサイド等のァシ ルホスフィンオキサイド；メチルベンゾィルホルメート、 1, 7 ビスアタリジ-ルヘプタン 、 9—フエ-ルァクリジン等が挙げられる。
[0056] これらは、一種単独で又は二種以上を併用して用いることができる。熱反応を利用 する場合、熱重合開始剤の具体例としては、例えばメチルェチルケトンパーォキサイ ド、ベンゾィルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、 t ブチルハイド口パーォキ サイド、クメンハイド口パーオキサイド、 t ブチルパーォキシォクトエート、 t ブチル パーォキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸ィ匕物；ァゾビスイソ ブチ口-トリル等のァゾ系化合物；前記有機過酸ィ匕物に N, N ジメチルァ-リン、 N , N ジメチルー p トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が 挙げられる。
[0057] 重合開始剤の添加量は活性エネルギー線硬化性組成物 100質量部に対して 0. 1 〜10質量部である。 0. 1質量部より少ないと、重合が進行しにくぐ 10質量部より多 いと得られる硬化物が着色したり、機械強度が低下することがある。
[0058] 活性エネルギー線硬化性組成物には、前記のもの以外に帯電防止剤、離型剤や 防汚性を向上させるためのフッ素化合物などの添加剤、微粒子や少量の溶剤が添 カロされても良い。
[0059] 本発明の方法によって製造される铸型、前記の透明シート及び活性エネルギー線 硬化性組成物を用いて表面に可視光の周期以下の微細な凹凸構造を有するシート を製造する方法としては、（1)铸型と透明シートの間に活性エネルギー線硬化性組 成物を充填して活性エネルギー線照射により硬化後離型する方法、（2)透明シート 上にコ一ティングした固体状活性エネルギー線硬化性組成物に铸型を圧接して微 細凹凸構造を形成し、離型後、活性エネルギー線照射により硬化させる方法がある。
[0060] (1)の充填方法としては、铸型と透明シートの間に活性エネルギー線硬化性組成 物を供給してニップロールなどで圧延して充填する方法、活性エネルギー線硬化性 榭脂組成物を塗布した铸型上に透明シートをラミネートする方法、あらかじめ透明シ ート上に活性エネルギー線硬化性榭脂組成物を塗布して铸型にラミネートする方法 などがある。
[0061] (2)の圧接する時の条件としては、特に限定されないが、温度条件としては 50〜2 50°Cが好ましぐ 50〜200°Cが更に好ましぐ 50〜150°Cが最も好ましい。 50°C未 満では微細凹凸形状が転写されにくぐ 250°Cより高いと着色したり、熱分解したりす ることがある。また、圧力条件としては 0. l〜15MPaが好ましぐ 0. 5〜： LOMPaが更 に好ましぐ l〜5MPaが最も好ましい。 0. IMPa未満では微細凹凸形状が転写され にくぐ 15MPaより高いと铸型の耐久性に問題が起こることがある。いずれの方法で も離型後にさらに活性エネルギー線照射したり、熱処理しても良 ヽ。
[0062] 活性エネルギー線照射は例えば高圧水銀ランプを用いて行われる。光照射ェネル ギー量は、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化が進むエネルギー量であれば特 に限定はされないが、例えば 100〜10000mjZcm2が好ましい。
[0063] 図 3は、本発明の 1実施形態であるロール铸型を用いて微細凹凸構造を有するシ ートを製造するための装置の一例を示す概略図である。図 3において、 11は本発明 の方法で製造したロール铸型であり、タンク 17からロール铸型 11と透明シート 12の 間に活性エネルギー線硬化組成物 13が供給され、空気圧シリンダー 18によりニップ 圧の調整された-ップロール 16aによって-ップされ、ロール铸型 11の凹部内にも活 性エネルギー線硬化組成物 13が充填される。ロール铸型 11の下方には、活性エネ ルギ一線照射装置 15が設置されており、透明シート 12を通して活性エネルギー線 が組成物 13に照射され、架橋硬化し、透明シート 12に接着すると共にロール铸型 1 1の凹凸が転写される。この後、剥離ロール 16bにより微細凹凸構造を有するシート 1 4がロール铸型 11から剥離され、紙面右手方向に移送される。このようにして、微細 凹凸構造を有するシートが形成される。
[0064] (用途）
本発明の方法で製造された微細凹凸構造を有するシート材料は、反射防止フィル ム、反射防止膜、反射防止物品、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素 子などの光学物品、細胞培養シート、超撥水性フィルム、超親水性フィルムなどとし ての用途展開が期待でき、特に反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止物品、と しての用途に適している。反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止物品としては、 例えば液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクト口ルミネッセンスディスプ レイ、陰極管表示装置のような画像表示装置、レンズ、ショーウインドー、展示ケース 、メーターパネル、メーターカバー、眼鏡等の表面で使用される反射防止膜、反射防 止フィルムや反射防止シート等が挙げられる。画像表示装置に用いる場合は、最表 面上にフィルムを貼り付けたり直接最表面を形成する材料上に形成しても良ぐまた 、前面板に形成しても良い。特に本発明で得られる微細凹凸構造を有するシート材 料は大型ディスプレイの反射防止膜やショーウインドー、展示ケースなどの大面積で 使用する用途に適している。
[0065] 本発明の反射防止膜のヘイズは 3%以下が好ましぐ 1%以下が更に好ましぐ 0.
5%以下が最も好ましい。 3%より高いと例えば画像表示装置に用いた場合、画像の 鮮明度が低下するため好ましくな 、。
[0066] 反射防止膜は外光を散乱させるアンチグレア機能を有していても良い。可視光の 波長以上の凹凸構造上に本発明の表面に可視光の波長以下の微細な凹凸構造を 設けることでアンチグレア機能を付与することが出来る。
実施例
[0067] 以下に本発明の実施例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例中における物性は、以下の方法に従って評価した。
[0068] (1) 酸化皮膜厚、細孔形状、榭脂微細凹凸形状
铸型の一部を削り取り、断面を 1分間 Pt蒸着し、日本電子製電界放出形走査電子 顕微衝 SM— 7400Fで加速電圧 3. OOkVで観察を行い、酸化皮膜厚、細孔周期、 細孔開口部、底部、孔深さを測定した。榭脂は破断面を 5分間 Pt蒸着し、同様に観 察して周期、凸部高さ、凸部先端径、凸部底部径を測定した。
[0069] (2) 結晶粒界凹凸高さ (深さ）
铸型の表面を Zygo社製走査型白色干渉計 3次元プロファイラ一システム「New V iew6300」を用いて 2. 5倍の対物レンズ、 0. 5倍のズームレンズで観察を行い視野 をつなぎ合わせて 10mm角の観察結果を得た。上記 10mm角力も任意の 10点の結 晶粒界段差の高さまたは深さを測定し、それらの平均値を結晶粒界高さ (深さ）とした
[0070] (3) 規則性
铸型の表面を電界放出形走査電子顕微鏡（5万倍)で観察し、得られた 3. の視野の画像を、画像解析ソフト「Image— Pro PLUS」（商品名：日本ローパー社 製)で画像解析し、微細凹凸構造の凹部 (細孔)の重心座標を計算した。次いで、任 意の凹部 (細孔)を選択し、その凹部 (細孔）に隣接する凹部 (細孔)のうち任意の 6点 を選択し、先の任意の凹部力もの座標距離の標準偏差を求めた。以上の操作を金 型の任意の三箇所において各々 10点ずつ実施し、それらの平均値を求め標準偏差 とし、規則性の指標とした。
[0071] (4) 反射率測定
転写サンプルの測定面の裏面を黒色に塗布し、 日立社製分光光度計 U— 4000を 用いて入射角 5° で波長 380〜780nmの範囲で相対反射率を測定した。
[0072] (5)フィルムの外観
転写フィルムを目視で観察し、 目視でゎ力るマクロな凹凸が確認できる時を X、確 認できないときを〇とした。
[0073] また、活性エネルギー線硬化性組成物は以下の組成のものを使用した。
<活性エネルギー線硬化性組成物 A >
トリメチロールェタンアクリル酸 ·無水コハク酸縮合エステル 40質量部 へキサンジオールジアタリレート 40質量部
信越化学社製商品名「x— 22— 1602」 10質量部
チバ 'スぺシャリティケミカルズ社製商品名「ィルガキュア 184」 2. 7質量部 チバ 'スぺシャリティケミカルズ社製商品名「ィルガキュア 819」 0. 18質量部
[0074] <実施例 1 >平型の作製
純度 99. 99%のアルミニウムビレットから機械加工で得た厚さ 2mm、直径 75mm のアルミニウム円板に羽布研磨処理を施した後、電解研磨を行った。鏡面化を行つ たアルミニウム円板を、 0. 3Mシユウ酸水溶液中で、浴温 17°Cにおいて直流 40Vの 条件下で 30分間陽極酸化を行い、第 1の酸化皮膜を形成した。形成した酸化物層 を、 6質量％のリン酸と 1. 8質量％のクロム酸混合水溶液中でー且溶解除去した後、 再び同一条件下において、 30秒間陽極酸化を行った。その後、 5質量％リン酸 30°C 中に 8分間浸漬し、孔径拡大処理を施した。この操作を 5回繰り返すことで、周期 100 nm、細孔径開口部 85nm、底部 40nm、孔深さ 220nmのテーパー状細孔を有する 铸型を得た。
[0075] 得られた铸型は信越ィ匕学社製商品名の KBM— 7803の 0. 5質量％に 10分間浸 漬した後 20分間風乾して 2時間 120°Cで熱処理して離型処理を行った。
[0076] このようにして得られた铸型と東洋紡社製 PETフィルム商品名「A4300」の間に活 性エネルギー線硬化組成物 Aを充填して高圧水銀ランプで積算光量 3000miZcm 2の紫外線を照射して微細凹凸構造を有するフィルムを得た。
[0077] 周期 100nm、凸部高さ 200nm、凸部先端径 40nm、凸部底部径 85nmの微細凹 凸構造を有するフィルムを得た。
[0078] 得られた铸型の第一の酸化皮膜厚、結晶粒界凹凸高さ、規則性、転写フィルムの 反射率、目視外観を表 1に示す。
[0079] <実施例 2 >平型の作製
一段階目の陽極酸ィ匕を 60分にした以外は、実施例 1と同様の方法で铸型と微細凹 凸構造を有するフィルムを得た。得られた铸型の第一の酸化皮膜厚、結晶粒界凹凸 高さ、規則性、転写フィルムの反射率、目視外観を表 1に示す。
[0080] <実施例 3 >平型の作製
一段階目の陽極酸ィ匕を 80分にした以外は、実施例 1と同様の方法で铸型と微細凹 凸構造を有するフィルムを得た。得られた铸型の第一の酸化皮膜厚、結晶粒界凹凸 高さ、規則性、転写フィルムの反射率、目視外観を表 1に示す。
[0081] <実施例 4 >平型の作製
一段階目の陽極酸化を 0. 5Mのシユウ酸水溶液で 1分間行った以外は、実施例 1 と同様の方法で铸型と微細凹凸構造を有するフィルムを得た。得られた铸型の第一 の酸化皮膜厚、結晶粒界凹凸高さ、規則性、転写フィルムの反射率、目視外観を表 1に示す。結晶粒界凹凸高さについては低すぎて測定できな力つた。
[0082] <実施例 5 >ロール铸型の作製
外径 75mm、純度 99. 99%のアルミニウムスラブ力 切削したアルミニウム丸棒を 用い、二段階目の陽極酸ィ匕時間が 15秒間、リン酸浸漬が 30°C3分間である以外は 実施例 1と同様に一段階目の陽極酸ィ匕までの処理を実施し、周期 100nm、細孔径 開口部 80nm、底部 25nm、孔深さ 300nmのテーパー状細孔を有する目視で表面 に結晶粒界の段差が確認できないロール铸型を得た。
[0083] 得られたロール铸型は離形剤として住友 3M社製商品名「ノベック EGC— 1720」を スプレーコーティングして室温で 30分間風乾して使用した。
[0084] 離形処理したロール铸型を光硬化性榭脂東洋合成工業社製商品名「PAK— 01」 にディップコーティングし、厚さ 500 μ mのポリエチレンテレフタレートフィルムで被覆 して、フィルム上から 8000mjZcm2のエネルギーで紫外線を照射して硬化させた。 その後、フィルムとロール铸型を剥離して、周期 100nm、凸部高さ 300nm、凸部先 端径 25nm、凸部底部径 80nmの微細凹凸構造を有するフィルムを得た。 目視で表 面にマクロな凹凸は観察されな力つた。
[0085] <実施例 6 >
外径が 200mm、内径が 155mmの円筒形状であること以外は実施例 4と同様の方 法で目視で表面に結晶粒界の段差が確認できな！、ロール铸型を得た。
[0086] 得られたロール铸型は信越化学社製商品名「KP— 801M」のm—キシレンへキサ フロライド 0. 3質量％溶液に 30分間デイツビングし、 1時間風乾した後、 120
°Cで 2時間熱処理した。
[0087] これを冷却水用の流路を内部に設けた機械構造用炭素鋼製の軸芯にはめ込み図
3のロール铸型 11とした。
[0088] 活性エネルギー線硬化組成物 13として活性エネルギー線硬化組成物 Aを使用し た。
[0089] 活性エネルギー線硬化組成物 13を、タンク 17から室温で供給ノズルを介してニッ プロール 16aとロール铸型 11の間に-ップされている東洋紡社製 PETフィルム商品 名「A4300」 12上に供給した。
[0090] 毎分 4. Omの速度でロール铸型 11を回転させながら、活性エネルギー線硬化組 成物 13がロール铸型 11と PETフィルム 12の間に挟まれた状態で 240WZcmの紫 外線照射装置 15から紫外線を照射し、活性エネルギー線硬化組成物 13を硬化 ·賦 型した後、ロール铸型 11から剥離して微細凹凸構造を有するシート 14を得た。
[0091] 周期 100nm、凸部高さ 160nm、凸部先端径 25nm、凸部底部径 80nmの微細凹 凸構造を有するフィルムを得た。得られた微細凹凸構造を有するフィルムの反射率を 表 1に示す。
[0092] <比較例 1 >
一段階目の陽極酸ィ匕を 120分にした以外は、実施例 1と同様の方法で铸型と微細 凹凸構造を有するフィルムを得た。得られた铸型の第一の酸化皮膜厚、結晶粒界高 さ、規則性、転写フィルムの反射率、目視外観を表 1に示す。 [0093] [表 1]
表 l .
Figure imgf000022_0001
1 ) 0. 5Mシユウ酸水溶液中
産業上の利用可能性
[0094] 本発明の方法で製造された微細凹凸構造を有するシート材料は、反射防止フィル ム、反射防止膜、反射防止物品、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素 子などの光学物品、細胞培養シート、超撥水性フィルム、超親水性フィルムなどとし ての用途展開が期待でき、特に反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止物品、と しての用途に適している。

Claims

請求の範囲
[1] 圧延痕のないアルミニウム原型の表面に、隣り合う凹部または凸部間の距離が可視 光の波長以下の微細凹凸構造を有するアルミナが陽極酸化により形成され、且つ結 晶粒界の凹凸高さ、または深さが 300nm以下であることを特徴とする铸型。
[2] 微細凹凸構造の任意の凹部と該凹部に隣接する 6個の凹部との各重心間距離の 標準偏差が、 6. 0〜12. 0であることを特徴とする請求項 1記載の铸型。
[3] 铸型がロール铸型である請求項 1または 2記載の铸型。
[4] 表面に微細凹凸構造を有する铸型の製造方法であって、圧延痕のないアルミニゥ ムを研磨して、或いは、基体表面にアルミニウムを成膜して原型を用意する工程、該 原型表面のアルミニウムを定電圧で陽極酸化して細孔を有する厚さ 10 μ m以下の酸 化皮膜を形成する第 1の酸化被膜形成工程と、前記酸化皮膜の全部を除去する酸 化被膜除去工程、前記原型表面のアルミニウムを定電圧で陽極酸化して酸化皮膜 を形成する第 2の酸化被膜形成工程と、前記酸化皮膜の一部を除去して前記細孔 の孔径を拡大処理する孔径拡大処理工程とを含み、前記第 2の酸化皮膜形成工程 と、前記孔径拡大処理工程を繰り返す請求項 1〜3のいずれかに記載の铸型の製造 方法。
[5] 前記第 1の酸化被膜形成工程と前記第 2の酸化被膜形成工程との定電圧が略同 一であることを特徴とする請求項 4に記載の铸型の製造方法。
[6] 請求項 1〜3のいずれかに記載の铸型と透明シートの間に活性エネルギー線硬化 性組成物を充填して活性エネルギー線照射により硬化後離型する、または離型後活 性エネルギー線硬化により硬化する、微細凹凸構造を表面に有するシートの製造方 法。
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