JP6696114B2 - 低反射シート - Google Patents
低反射シート Download PDFInfo
- Publication number
- JP6696114B2 JP6696114B2 JP2015087091A JP2015087091A JP6696114B2 JP 6696114 B2 JP6696114 B2 JP 6696114B2 JP 2015087091 A JP2015087091 A JP 2015087091A JP 2015087091 A JP2015087091 A JP 2015087091A JP 6696114 B2 JP6696114 B2 JP 6696114B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- groove
- low reflection
- low
- shape
- resin layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
本発明は、表面に多数の溝部を備える低反射シートに関する。
近年、光の反射を低減させる低反射シートとして、表面に多数の微細凹凸を有するシートが提案されている。微細凹凸を有する低反射シートは、モスアイ構造の原理を利用して、入射光に対する屈折率の急激な変化をなくすことで、物質界面での不連続な屈折率変化に起因する光の反射を抑制し、反射率を低減させる機能を有する。
このような低反射シートは、光透過性、遮光性等の機能に応じて様々な用途に適用されている。
光透過性を有する低反射シートは、例えば画像表示装置の出光面上に配置することで、表示装置の画面における日光等の外光反射を低減し、画像視認性を向上させることができる（特許文献１）。また、低反射シートの微細凹凸が形成された面上に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の透明導電層が設けられた透明導電性積層体は、タッチパネルに用いられるタッチパネル電極として用いることで、タッチパネル電極および隣接する各種部材間での光の反射を防止することができる（特許文献２）。
一方、遮光性を有する低反射シートは、例えば合成皮革として用いることで、表面のマット感がより鮮明となり、外観や質感、意匠性を向上させることができる。また、デジタルカメラなどの光学機器用のシャッター羽根表面に上記低反射シートを用いることで、撮像素子への外光照射を抑止することができる。
光透過性を有する低反射シートは、例えば画像表示装置の出光面上に配置することで、表示装置の画面における日光等の外光反射を低減し、画像視認性を向上させることができる（特許文献１）。また、低反射シートの微細凹凸が形成された面上に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の透明導電層が設けられた透明導電性積層体は、タッチパネルに用いられるタッチパネル電極として用いることで、タッチパネル電極および隣接する各種部材間での光の反射を防止することができる（特許文献２）。
一方、遮光性を有する低反射シートは、例えば合成皮革として用いることで、表面のマット感がより鮮明となり、外観や質感、意匠性を向上させることができる。また、デジタルカメラなどの光学機器用のシャッター羽根表面に上記低反射シートを用いることで、撮像素子への外光照射を抑止することができる。
しかし、遮光性を有する低反射シートにおいては、十分な反射率低減効果が得られていないという問題があった。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、優れた反射率低減効果を発揮することが可能な低反射シートを提供することを主目的とする。
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、シートの表面に付される凹凸形状を微細化することで反射率低減効果が向上することを見出したが、単に凹凸構造を微細化しただけでは、その効果が十分に発揮されないという問題があることを更に見出した。そして、上記問題が、低反射シートの表面に付される個々の凸部（突起部)および凹部（溝部）の形状および配置の規則性により生じることを知得した。本発明は、このような知得に基づくものである。
すなわち本発明は、着色基材の少なくとも一方の面側に、多数の溝部を備える低反射樹脂層を有し、上記溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの面積の平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内であり、上記溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの最大内角の分散が６００以上１０２０以下の範囲内であり、一の上記溝部および上記一の溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの重心に最も近接した位置に開口の重心を有する他の上記溝部の重心間距離の平均が５００ｎｍ以下であり、上記重心間距離の分散が８０００以上であることを特徴とする低反射シートを提供する。
本発明によれば、着色基材の色を呈する低反射シートの表面に、形状および配置位置に所望のばらつきを有する溝部が多数形成されていることから、溝部内において光を多数回反射させることができ、また、干渉によって特定の波長光の強度が強まるのを抑制することができる。さらに、上記溝部においては、光の多数回反射により低反射樹脂層内に光が吸収されるのに加えて、ミー散乱による低反射樹脂層への光の吸収も起こるため、反射率を低下させることができる。
このため、本発明の低反射シートは、優れた反射率低減効果を発揮することができる。
このため、本発明の低反射シートは、優れた反射率低減効果を発揮することができる。
上記発明においては、上記着色基材および上記低反射樹脂層が一体化した単一層であることが好ましい。単一層とすることで、製造工程の簡略化や材料費の低減を図ることができるからである。
本発明の低反射シートは、表面に有する多数の溝部について、形状および配置位置に所望のばらつきを付与することで、優れた反射率低減効果を発揮できるという効果を奏する。
以下、本発明の低反射シートについて詳細に説明する。
本発明の低反射シートは、着色基材の少なくとも一方の面側に、多数の溝部を備える低反射樹脂層を有し、上記溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの面積の平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内であり、上記溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの最大内角の分散が６００以上１０２０以下の範囲内であり、一の上記溝部および上記一の溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの重心に最も近接した位置に開口の重心を有する他の上記溝部の重心間距離（以下、最近接重心間距離と称する場合がある。）の平均が５００ｎｍ以下であり、上記重心間距離の分散が８０００以上であることを特徴とするものである。
本発明の低反射シートは、着色基材の少なくとも一方の面側に、多数の溝部を備える低反射樹脂層を有し、上記溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの面積の平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内であり、上記溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの最大内角の分散が６００以上１０２０以下の範囲内であり、一の上記溝部および上記一の溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの重心に最も近接した位置に開口の重心を有する他の上記溝部の重心間距離（以下、最近接重心間距離と称する場合がある。）の平均が５００ｎｍ以下であり、上記重心間距離の分散が８０００以上であることを特徴とするものである。
本発明の低反射シートについて図面を参照しながら説明する。図１は本発明の低反射シートの一例を示す概略断面図であり、図２は低反射樹脂層の一例を示す概略断面拡大図である。また、図３は溝部の形状を説明するための説明図であり、図３（ａ）は溝部の概略斜視図、図３（ｂ）は溝部の概略平面図である。
図１に例示するように、本発明の低反射シート１０は、着色基材１の少なくとも一方の面側に低反射樹脂層２を有するものである。また、図１および図２に例示するように、低反射樹脂層２は、その表面のうち着色基材１と接する面に対向する面上に、形状および配置位置に所望のばらつきを有する多数の溝部３を備える。
ここで、多数の溝部が有する所望のばらつきとは、３つのパラメータを定量化することで規定される。
第１のパラメータは、溝部の開口の大きさに因るものである。
ここで、溝部の開口および溝部の開口の平面視外形とは、図３（ａ）、（ｂ）で示すように、溝部の側面により囲まれた領域である開口部ｄ、および開口部ｄの平面視形状のことをいう。「溝部の開口」のことを「溝口部」、「溝部の開口の平面視外形」のことを「溝口部の平面視形状」と表記する場合がある。
溝部の開口の大きさに因るとは、すなわち、図３（ｂ）で示すように、溝部３Ａおよび３Ｂの溝口部ｄの平面視形状を八角形に近似したときの面積Ｓの平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内である。
第２のパラメータは、溝部の開口の形状によるものである。すなわち、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの最大内角の分散が６００以上１０２０以下の範囲内である。
第３のパラメータは、隣接する溝部の位置関係によるものである。すわなち、図３（ｂ）で示すように、一の溝部３Ａと、一の溝部３Ａの溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心Ｏに最も近接した位置に、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心Ｏを有する他の溝部３Ｂと、の重心間距離Ｌの平均が５００ｎｍ以下であり、重心間距離Ｌの分散が８０００以上である。
図１に例示するように、本発明の低反射シート１０は、着色基材１の少なくとも一方の面側に低反射樹脂層２を有するものである。また、図１および図２に例示するように、低反射樹脂層２は、その表面のうち着色基材１と接する面に対向する面上に、形状および配置位置に所望のばらつきを有する多数の溝部３を備える。
ここで、多数の溝部が有する所望のばらつきとは、３つのパラメータを定量化することで規定される。
第１のパラメータは、溝部の開口の大きさに因るものである。
ここで、溝部の開口および溝部の開口の平面視外形とは、図３（ａ）、（ｂ）で示すように、溝部の側面により囲まれた領域である開口部ｄ、および開口部ｄの平面視形状のことをいう。「溝部の開口」のことを「溝口部」、「溝部の開口の平面視外形」のことを「溝口部の平面視形状」と表記する場合がある。
溝部の開口の大きさに因るとは、すなわち、図３（ｂ）で示すように、溝部３Ａおよび３Ｂの溝口部ｄの平面視形状を八角形に近似したときの面積Ｓの平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内である。
第２のパラメータは、溝部の開口の形状によるものである。すなわち、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの最大内角の分散が６００以上１０２０以下の範囲内である。
第３のパラメータは、隣接する溝部の位置関係によるものである。すわなち、図３（ｂ）で示すように、一の溝部３Ａと、一の溝部３Ａの溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心Ｏに最も近接した位置に、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心Ｏを有する他の溝部３Ｂと、の重心間距離Ｌの平均が５００ｎｍ以下であり、重心間距離Ｌの分散が８０００以上である。
遮光性を有する従来の低反射シートにおいては、十分な反射率低減効果が得られていないという問題があった。本発明者が上記問題について検討したところ、シートの表面に付される凹凸形状を微細化することで反射率低減効果が向上することを見出した。
しかし、本発明者が上記問題について更に鋭意検討を重ねた結果、以下の理由から単に凹凸形状を微細化しただけでは、反射率低減効果が十分に得られないことを知得した。
すなわち、一般に低反射シートの表面に付される微細凹凸は、個々の凸部（突起部)および凹部（溝部）の形状や配置に規則性を有し、面全体として所望の表面粗さを有するものである。しかし、上記微細凹凸の有する上記規則性によっては、光が干渉し合うことで特定の波長光の強度が強まり、干渉縞が発生する等といった不具合が生じてしまう。このため、上記不具合の発生により反射率低減効果が阻害されるものと推量される。
しかし、本発明者が上記問題について更に鋭意検討を重ねた結果、以下の理由から単に凹凸形状を微細化しただけでは、反射率低減効果が十分に得られないことを知得した。
すなわち、一般に低反射シートの表面に付される微細凹凸は、個々の凸部（突起部)および凹部（溝部）の形状や配置に規則性を有し、面全体として所望の表面粗さを有するものである。しかし、上記微細凹凸の有する上記規則性によっては、光が干渉し合うことで特定の波長光の強度が強まり、干渉縞が発生する等といった不具合が生じてしまう。このため、上記不具合の発生により反射率低減効果が阻害されるものと推量される。
本発明によれば、着色基材の色を呈する低反射シートの表面には、形状および配置位置に所望のばらつきを有する溝部が多数形成された低反射樹脂層を有することから、溝部に入射した光を多数回反射させて低反射樹脂層へ吸収させることができ、反射率を低下させることができる。
また、多数の溝部が所望のばらつきを有することで、干渉によって特定の波長光の強度が強まるのを抑制することができる。
さらに、多数の溝部が所望のばらつきを有することで、上記溝部、中でも溝口部においては、多数回反射により低反射樹脂層へ光が吸収されるのに加えて、溝部の形状により光をミー散乱させることで、低反射樹脂層への光の吸収量をさらに増加させることができ、反射率をより低減させることが可能となる。これは、ミー散乱が「前方散乱が強い」、「波長依存性が小さい」といった特長を有することによるものである。
すなわち、ミー散乱は前方散乱が強いため、溝部に入射した光は低反射樹脂層内で散乱されることとなり、散乱光を低反射樹脂層へ吸収させることができるからである。また、ミー散乱は波長依存性が小さいため、可視光領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域の光を散乱させ、その散乱光を低反射樹脂層に吸収させることが可能となるからである。
これにより、本発明の低反射シートは優れた反射率低減効果を発揮することができる。
また、多数の溝部が所望のばらつきを有することで、干渉によって特定の波長光の強度が強まるのを抑制することができる。
さらに、多数の溝部が所望のばらつきを有することで、上記溝部、中でも溝口部においては、多数回反射により低反射樹脂層へ光が吸収されるのに加えて、溝部の形状により光をミー散乱させることで、低反射樹脂層への光の吸収量をさらに増加させることができ、反射率をより低減させることが可能となる。これは、ミー散乱が「前方散乱が強い」、「波長依存性が小さい」といった特長を有することによるものである。
すなわち、ミー散乱は前方散乱が強いため、溝部に入射した光は低反射樹脂層内で散乱されることとなり、散乱光を低反射樹脂層へ吸収させることができるからである。また、ミー散乱は波長依存性が小さいため、可視光領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域の光を散乱させ、その散乱光を低反射樹脂層に吸収させることが可能となるからである。
これにより、本発明の低反射シートは優れた反射率低減効果を発揮することができる。
また、本発明の低反射シートは表面に溝部を有することで、構造的な耐久性が高いという特長も有する。表面に突起部を有する場合、外部衝撃により突起部が破損、変形してしまうと、反射率低減効果が低下することが予想される。これに対し、本発明によれば、低反射シートの表面に対して凹型となる溝部が形成されることから、溝部の破損や変形等が発生しにくく、長期にわたり高い反射率低減効果を発揮することができる。
以下、本発明の低反射シートにおける各構成について説明する。
Ａ．低反射樹脂層
本発明における低反射樹脂層は、着色基材の少なくとも一方の面側に有し、多数の溝部を備えるものである。
また、低反射樹脂層が備える溝部は、その形状および配置位置に所望のばらつきを有するものである。
本発明における低反射樹脂層は、着色基材の少なくとも一方の面側に有し、多数の溝部を備えるものである。
また、低反射樹脂層が備える溝部は、その形状および配置位置に所望のばらつきを有するものである。
１．溝部
溝部は、その形状および配置位置に所望のばらつきを有するものであり、多数の溝部が有するばらつきの程度により、本発明の低反射シートの反射率低減効果が決定される。
ここで、溝部の形状および配置位置のばらつきは、溝口部の大きさ、溝口部の形状、および隣接する溝部の位置関係の３つのパラメータを定量化することで規定される。
以下、各パラメータの定量化方法、および上記定量化方法により規定される各パラメータについて説明する。
溝部は、その形状および配置位置に所望のばらつきを有するものであり、多数の溝部が有するばらつきの程度により、本発明の低反射シートの反射率低減効果が決定される。
ここで、溝部の形状および配置位置のばらつきは、溝口部の大きさ、溝口部の形状、および隣接する溝部の位置関係の３つのパラメータを定量化することで規定される。
以下、各パラメータの定量化方法、および上記定量化方法により規定される各パラメータについて説明する。
（１）パラメータの定量化方法
本発明における溝部の形状および配置位置のばらつきは、低反射樹脂層上に備わる多数の溝部のうち、所望の点数を抽出して算出され、定量化される。
溝部の抽出は、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：SEM）や原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：AFM）等を用い、倍率１００００倍、視野範囲を縦４μｍ×横４μｍとして低反射シートの溝部を有する面側から平面視観察を行い、上記視野範囲における溝部の面内配列を画像で検出し、その中から所望の点数を抽出する方法を用いる。
本発明における溝部の形状および配置位置のばらつきは、低反射樹脂層上に備わる多数の溝部のうち、所望の点数を抽出して算出され、定量化される。
溝部の抽出は、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：SEM）や原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：AFM）等を用い、倍率１００００倍、視野範囲を縦４μｍ×横４μｍとして低反射シートの溝部を有する面側から平面視観察を行い、上記視野範囲における溝部の面内配列を画像で検出し、その中から所望の点数を抽出する方法を用いる。
本発明における各パラメータは、１つの視野範囲あたりの溝部の最低抽出点数を３０点として算出したものである。溝部の抽出点数は多いほど好ましく、抽出点数は３０点以上、中でも５０点以上であることが好ましい。また、溝部の抽出を行うための上記視野範囲の検出数は、低反射シートの溝部を備える面の単位面積（２５００ｍｍ２）当たり３箇所以上、中でも５箇所以上、特に１０箇所以上であることが好ましい。
抽出点数および視野範囲の検出数を上記範囲で規定することで、３つのパラメータをより高い精度で定量化することができ、溝部の形状および配置位置のばらつきを正確に規定することができるからである。
抽出点数および視野範囲の検出数を上記範囲で規定することで、３つのパラメータをより高い精度で定量化することができ、溝部の形状および配置位置のばらつきを正確に規定することができるからである。
各パラメータは、以下の（ａ）〜（ｆ）の手順により定量化される。
（ａ）走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：SEM）や原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：AFM）を用いて溝部の面内配列を検出する。検出された面内配列から、所望の点数の溝部を抽出し、各溝部について溝部側面により囲まれた領域である溝口部の平面視形状を検出する。溝口部の平面視形状は、ＳＥＭ像では白黒のコントラストから、ＡＦＭ像では色の明暗のコントラストから検出することができる。
具体的な検出方法は特に限定されないが、例えば、以下の方法を用いることができる。まず、画像内のコントラストの１次微分で勾配を計算することでエッジの強さを計算する。次に勾配の方向からエッジの局所的な変化を予測し、その方向の勾配が局所的に極大となる箇所を探すことで溝口部の平面視形状が検出される。
続いて、ＳＥＭ画像やＡＦＭ画像から、各溝部について溝口部の平面視形状を八角形に近似する。この際、部分的に途切れている線は補完する。補完方法としては、ある閾値を設けて閉空間を作る方法を用いることができる。
溝口部の平面視形状の近似は、画像から形状を近似する際に用いられる従来公知の方法を適用することができ、上記方法については特に限定されないが、具体的な方法としては、例えば、テンプレートマッチング、一般化ハフ変換、Douglas-Peucker法等の方法を用いることができる。
テンプレートマッチングは、予め形状を表現したテンプレートを準備し、画像認識の対象となる画像データに対してテンプレートを移動させながら相関係数等の類似度の指標を調べることによって画像データに含まれる形状を認識する技術である。テンプレートマッチングによる画像近似手法については、例えば、「中田崇行、包躍、藤原直史:“三次元環境におけるLog-Polar変換を用いた図形認識”,電気情報通信学会論文誌（D-II）, Vol.88, No.6, pp.985-993(2005.6)」、「斎藤文彦:“部分ランダム探索と適応型探索による半導体チップ画像テンプレートマッチング”, 精密工学会誌, Vol.61, No.11, pp.1604-1608(1995.11)」に開示される。
また、一般化ハフ変換は、無限に存在する直線の中から画像データ内の特徴点を最も多く通る直線を決定するハフ変換を一般化して曲線に応用したものであり、この一般化ハフ変換によっても、事前に用意した参照用のテーブルを利用して画像データの形状認識を行うことができる。一般化ハフ変換による画像近似手法については、例えば、「Ballad,D.H.: “GENERALIZING THE HOUGH TRANSFORM TO DETECT ARBITRARY SHAPES”, Pattern Recognition, Vol.13, No.2, pp.111-122(1981)」や、「木村彰男，渡辺孝志：“アフィン変換に不変な任意図形検出法として拡張された一般化ハフ変換”, 電気情報通信学会誌(D-II), Vol. J84-D-II, No. 5, pp.789-798(2001.5)」に開示される。
Douglas-Peucker法は、折れ線近似によって形状認識を行う手法である。Douglas-Peucker法による画像近似手法については、例えば、「Wu,S.T, M.R.G:“A non-self-intersection Douglas-Peucker Algorithm”, Proceeding of Sixteenth Brazilian Symposium on Computer Graphics and Image Processing, IEEE, pp.60-66(2003)」に開示される。
（ａ）走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：SEM）や原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：AFM）を用いて溝部の面内配列を検出する。検出された面内配列から、所望の点数の溝部を抽出し、各溝部について溝部側面により囲まれた領域である溝口部の平面視形状を検出する。溝口部の平面視形状は、ＳＥＭ像では白黒のコントラストから、ＡＦＭ像では色の明暗のコントラストから検出することができる。
具体的な検出方法は特に限定されないが、例えば、以下の方法を用いることができる。まず、画像内のコントラストの１次微分で勾配を計算することでエッジの強さを計算する。次に勾配の方向からエッジの局所的な変化を予測し、その方向の勾配が局所的に極大となる箇所を探すことで溝口部の平面視形状が検出される。
続いて、ＳＥＭ画像やＡＦＭ画像から、各溝部について溝口部の平面視形状を八角形に近似する。この際、部分的に途切れている線は補完する。補完方法としては、ある閾値を設けて閉空間を作る方法を用いることができる。
溝口部の平面視形状の近似は、画像から形状を近似する際に用いられる従来公知の方法を適用することができ、上記方法については特に限定されないが、具体的な方法としては、例えば、テンプレートマッチング、一般化ハフ変換、Douglas-Peucker法等の方法を用いることができる。
テンプレートマッチングは、予め形状を表現したテンプレートを準備し、画像認識の対象となる画像データに対してテンプレートを移動させながら相関係数等の類似度の指標を調べることによって画像データに含まれる形状を認識する技術である。テンプレートマッチングによる画像近似手法については、例えば、「中田崇行、包躍、藤原直史:“三次元環境におけるLog-Polar変換を用いた図形認識”,電気情報通信学会論文誌（D-II）, Vol.88, No.6, pp.985-993(2005.6)」、「斎藤文彦:“部分ランダム探索と適応型探索による半導体チップ画像テンプレートマッチング”, 精密工学会誌, Vol.61, No.11, pp.1604-1608(1995.11)」に開示される。
また、一般化ハフ変換は、無限に存在する直線の中から画像データ内の特徴点を最も多く通る直線を決定するハフ変換を一般化して曲線に応用したものであり、この一般化ハフ変換によっても、事前に用意した参照用のテーブルを利用して画像データの形状認識を行うことができる。一般化ハフ変換による画像近似手法については、例えば、「Ballad,D.H.: “GENERALIZING THE HOUGH TRANSFORM TO DETECT ARBITRARY SHAPES”, Pattern Recognition, Vol.13, No.2, pp.111-122(1981)」や、「木村彰男，渡辺孝志：“アフィン変換に不変な任意図形検出法として拡張された一般化ハフ変換”, 電気情報通信学会誌(D-II), Vol. J84-D-II, No. 5, pp.789-798(2001.5)」に開示される。
Douglas-Peucker法は、折れ線近似によって形状認識を行う手法である。Douglas-Peucker法による画像近似手法については、例えば、「Wu,S.T, M.R.G:“A non-self-intersection Douglas-Peucker Algorithm”, Proceeding of Sixteenth Brazilian Symposium on Computer Graphics and Image Processing, IEEE, pp.60-66(2003)」に開示される。
（ｂ）八角形に近似された溝口部の平面視形状の面積（以下、溝口部の面積とする場合がある。）を算出する。溝口部の面積は、画像のスケールのピクセルサイズと八角形に含まれるピクセル数との対比から算出する。算出された上記面積を統計処理することで、平均値および分散を求める。統計処理には既存の表計算ソフトを使用する。
なお、溝口部の面積の平均値および分散を求める際には、外れ値を除外することが望ましい。外れ値とは、以下の計算式によって算出される標準化得点の絶対値が３以上をいう。
標準化得点＝(個々の溝口部の面積−溝口部の面積の平均値)/標準偏差
なお、溝口部の面積の平均値および分散を求める際には、外れ値を除外することが望ましい。外れ値とは、以下の計算式によって算出される標準化得点の絶対値が３以上をいう。
標準化得点＝(個々の溝口部の面積−溝口部の面積の平均値)/標準偏差
（ｃ）各溝部について、八角形に近似された溝口部の平面視形状の最大内角（溝口部の最大内角とする場合がある。）を抽出して、統計処理によって分散を求める。統計処理には既存の表計算ソフトを使用する。また、上記最大内角の分散を求める際には外れ値を除外することが望ましい。外れ値とは、以下の計算式によって算出される標準化得点の絶対値が３以上をいう。
標準化得点＝(個々の溝口部の最大内角−溝口部の最大内角の平均値)/標準偏差
標準化得点＝(個々の溝口部の最大内角−溝口部の最大内角の平均値)/標準偏差
（ｄ）各溝部について、八角形に近似された溝口部の平面視形状の重心（以下、溝口部の重心とする場合がある。）を算出し、溝部の位置を規定する。溝口部の重心は、以下の方法により規定される。まず、溝口部の平面視形状を八角形に近似し、八角形の１つの頂点から対角線を結び６つの三角形に分割して、各々の三角形の重心を求める。次に、６つの三角形の各重心を結び六角形とし、同様の方法で六角形の１つの頂点から対角線を結び４つの三角形に分割して、各々の三角形の重心を求める。次に４つの三角形の各重心を結び、四角形とする。続いて、四角形を１つの対角線で２つの三角形に分割し、２つの三角形の各重心を求め、２つの重心を直線で結び、同様に、四角形を別の対角線で２つの三角形に分割して２つの三角形の各重心を求め、２つの重心を直線で結ぶ。２本の直線の交点が八角形の重心、すなわち溝口部の重心となる。
（ｅ）続いて、各溝口部の重心の位置の座標化する。座標の原点、軸は任意の方向にとることができる。例えば、ＳＥＭ画像またはＡＦＭ画像中の左下を原点として、上記原点からシート面、すなわち低反射樹脂層の溝部を有する面内の長さ方向と平行する右方向をｘ軸、ｘ軸に直交する上方向（面内の幅方向）をｙ軸とする。このように画像を座標平面とすることで、溝口部の重心の位置を座標化することができる。
溝口部の重心の位置の座標から、特定の一の溝部と、それに隣接する複数の溝部との溝部間の距離、すなわち重心間距離を算出する。重心間距離は以下の計算式によって算出される。算出される重心間距離のうち、最小の距離が「最近接重心間距離」と定義される。
重心間距離＝｛（ｘ１−ｘ２）２＋（ｙ１−ｙ２）２｝１／２｝
なお、式中のｘ１およびｙ１は、特定の一の溝部の溝口部の重心の位置を示すｘ座標およびｙ座標である。また、ｘ２およびｙ２は、上記特定の一の溝部に隣接する溝部の溝口部の重心の位置を示すｘ座標およびｙ座標である。
上記重心間距離は、ＳＥＭ画像またはＡＦＭ画像のスケールのピクセルサイズとピクセル数との対比から算出する。
溝口部の重心の位置の座標から、特定の一の溝部と、それに隣接する複数の溝部との溝部間の距離、すなわち重心間距離を算出する。重心間距離は以下の計算式によって算出される。算出される重心間距離のうち、最小の距離が「最近接重心間距離」と定義される。
重心間距離＝｛（ｘ１−ｘ２）２＋（ｙ１−ｙ２）２｝１／２｝
なお、式中のｘ１およびｙ１は、特定の一の溝部の溝口部の重心の位置を示すｘ座標およびｙ座標である。また、ｘ２およびｙ２は、上記特定の一の溝部に隣接する溝部の溝口部の重心の位置を示すｘ座標およびｙ座標である。
上記重心間距離は、ＳＥＭ画像またはＡＦＭ画像のスケールのピクセルサイズとピクセル数との対比から算出する。
（ｆ）上記の方法で各溝部の最近接重心間距離を抽出し、既存の表計算ソフトで統計処理することにより、最近接重心間距離の平均値および分散を計算する。なお、最近接重心間距離の平均値および分散を求める際には外れ値を除外することが望ましい。外れ値とは、以下の計算式によって算出される標準化得点の絶対値が３以上をいう。
標準化得点＝(個々の溝部の最近接重心間距離−最近接重心間距離の平均値)/標準偏差
標準化得点＝(個々の溝部の最近接重心間距離−最近接重心間距離の平均値)/標準偏差
なお、各パラメータの定量化において算出される分散の値は、一般に平均値から算出される値、すなわち測定値と測定値の平均値との差の二乗平均の和を抽出点数で割ることで算出される値である。
（２）パラメータ
次に、本発明における溝部の形状および配置位置のばらつきを規定する各パラメータについて説明する。
次に、本発明における溝部の形状および配置位置のばらつきを規定する各パラメータについて説明する。
（ａ）溝部の開口(溝口部)の大きさ
溝口部の大きさは、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの面積、すなわち溝口部の面積により規定される。溝口部の面積とは、図３および図４（ａ）中のＳで示す部分である。
なお、図４は本発明の低反射シートにおける溝部を有する表面の平面ＳＥＭ画像であり、図４について説明しない符号については、図１等と同様とする。
溝口部の大きさは、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの面積、すなわち溝口部の面積により規定される。溝口部の面積とは、図３および図４（ａ）中のＳで示す部分である。
なお、図４は本発明の低反射シートにおける溝部を有する表面の平面ＳＥＭ画像であり、図４について説明しない符号については、図１等と同様とする。
本発明においては、溝口部の面積の平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内であればよく、中でも９９０００ｎｍ２以上１２１０００ｎｍ２以下の範囲内であることが好ましい。
溝口部の面積の平均が上記範囲よりも大きいと、ミー散乱よりも幾何光学散乱が支配的になるため、前方散乱が起こりにくくなり、低反射樹脂層への光の吸収が小さくなり、所望の反射率低減効果が得られない場合があるからである。これは、球形粒子では幾何光学散乱が支配する直径は数μｍ以上であるが、溝口部での散乱は異なる挙動を示し、本発明においては、溝口部が上記範囲内に面積を有する形状である場合、ミー散乱が支配的になると推測されるからである。一方、溝口部の面積の平均が上記範囲よりも小さいと、レイリー散乱が支配的になるため、前方散乱が起こりにくくなり、低反射樹脂層への光の吸収が小さくなる場合があるからである。
溝口部の面積の平均が上記範囲よりも大きいと、ミー散乱よりも幾何光学散乱が支配的になるため、前方散乱が起こりにくくなり、低反射樹脂層への光の吸収が小さくなり、所望の反射率低減効果が得られない場合があるからである。これは、球形粒子では幾何光学散乱が支配する直径は数μｍ以上であるが、溝口部での散乱は異なる挙動を示し、本発明においては、溝口部が上記範囲内に面積を有する形状である場合、ミー散乱が支配的になると推測されるからである。一方、溝口部の面積の平均が上記範囲よりも小さいと、レイリー散乱が支配的になるため、前方散乱が起こりにくくなり、低反射樹脂層への光の吸収が小さくなる場合があるからである。
なお、溝口部の面積の平均が上記範囲内にあるとき、溝口部の面積の分散としては、４．０８Ｅ＋９以上１．０６Ｅ＋１０以下の範囲内であることが好ましい。干渉によって特定の波長の光の強度が強まるのを抑制できるからである。
溝口部の面積の分散の単位は（ｎｍ２）２となる。
溝口部の面積の分散の単位は（ｎｍ２）２となる。
（ｂ）溝部の開口(溝口部)の形状
溝口部の形状は、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの最大内角の大きさにより規定される。溝口部の最大内角とは、図４（ｂ）においてθmaxで示す部分をいう。
溝口部の形状は、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの最大内角の大きさにより規定される。溝口部の最大内角とは、図４（ｂ）においてθmaxで示す部分をいう。
溝口部の平面視形状は、最大内角が大きいほど形状のばらつきが大きくなり、一方、最大内角が小さいほど正八角形に近い形状となることから、形状のばらつきが小さくなる。したがって、抽出された各溝部について算出された最大内角の分散が大きいほど、溝部ごとの溝口部の平面視形状についてもばらつきが大きくなる。
本発明においては、溝口部の最大内角の分散は６００以上１０２０以下の範囲内であればよく、中でも６４０以上９８０以下の範囲内、特に６４０以上８１０以下の範囲内であることが好ましい。溝口部の最大内角の分散が上記範囲よりも大きいと、製造上、溝部の設計が困難となる場合があり、一方、上記範囲よりも小さいと干渉によって特定の波長の光の強度が強まる場合があるからである。
溝口部の最大内角の分散の単位は度（°）となる。
本発明においては、溝口部の最大内角の分散は６００以上１０２０以下の範囲内であればよく、中でも６４０以上９８０以下の範囲内、特に６４０以上８１０以下の範囲内であることが好ましい。溝口部の最大内角の分散が上記範囲よりも大きいと、製造上、溝部の設計が困難となる場合があり、一方、上記範囲よりも小さいと干渉によって特定の波長の光の強度が強まる場合があるからである。
溝口部の最大内角の分散の単位は度（°）となる。
このとき、溝口部の最大内角の平均としては、２００°以上２３０°以下の範囲内であることが好ましい。溝口部の最大内角の平均が上記範囲よりも大きいと、製造上、溝部の設計が困難となる場合があり、一方、上記範囲よりも小さいと干渉によって特定の波長の光の強度が強まる場合があるからである。
（ｃ）隣接する溝部の位置関係
溝部の位置とは、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心（「（溝口部の）重心」と称する場合がある。）の位置をいい、図３、図４においてＯで示す部分である。
本発明においては、隣接する溝部の位置関係は、一の溝部および上記一の溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心に最も近接した位置に溝口部の重心を有する他の溝部の重心間距離の平均により規定される。
溝部の位置とは、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心（「（溝口部の）重心」と称する場合がある。）の位置をいい、図３、図４においてＯで示す部分である。
本発明においては、隣接する溝部の位置関係は、一の溝部および上記一の溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心に最も近接した位置に溝口部の重心を有する他の溝部の重心間距離の平均により規定される。
ここで、最近接重心間距離は、先に説明した方法で算出され定量化されるが、さらに図を示して説明する。すなわち、図４（ｃ）で示すように、溝部３Ａに隣接する溝部のうち、溝部３Ａの溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心Ｏと最も近い位置に、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心Ｏを有する溝部３Ｂを抽出し、その重心間距離Ｌ１を最近接重心間距離として算出する。次に、溝部３Ｂに隣接する溝部のうち、溝部３Ｂの溝口部の重心Ｏと最も近い位置に溝口部の重心Ｏを有する溝部３Ｃを抽出し、その重心間距離Ｌ２を最近接重心間距離として算出する。
最近接重心間距離の平均は、上記操作を繰り返し行い、溝部の抽出点数分の最近接重心間距離の総和を算出し、抽出点数で割ることで算出される。
最近接重心間距離の平均は、上記操作を繰り返し行い、溝部の抽出点数分の最近接重心間距離の総和を算出し、抽出点数で割ることで算出される。
本発明においては、最近接重心間距離の平均は５００ｎｍ以下であればよく、中でも４２０ｎｍ以下の範囲内、特に４１０ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。最近接重心間距離の平均が上記範囲よりも大きいと、隣接する溝部が密接しておらず、溝部が形成されない平坦な領域（以下、非溝部領域と称する場合がある。）が多く存在することとなり、非溝部領域において生じる光の反射により、反射率低減効果が低下する場合がある。
なお、最近接重心間距離の平均の下限については特に限定されず、製造上設計可能な範囲で設定することができ、例えば３３０ｎｍ以上であることが好ましい。
なお、最近接重心間距離の平均の下限については特に限定されず、製造上設計可能な範囲で設定することができ、例えば３３０ｎｍ以上であることが好ましい。
また、最近接重心間距離の平均が上記範囲内にあるときの上記最近接重心間距離の分散は、８０００以上であればよく、中でも１１０００以上、特に１２０００以上であることが好ましい。最近接重心間距離の分散が上記範囲よりも小さいと、多数の溝部が均等なピッチ幅で配置されることとなり、干渉によって特定の波長の光の強度が強まり、所望の反射率低減効果が発揮されにくい場合があるからである。
上記分散の上限については特に限定されず、製造上設計可能な範囲で設定することができ、例えば２００００以下であることが好ましい。
なお、最近接重心間距離の分散の単位はｎｍ２となる。
上記分散の上限については特に限定されず、製造上設計可能な範囲で設定することができ、例えば２００００以下であることが好ましい。
なお、最近接重心間距離の分散の単位はｎｍ２となる。
（３）その他
溝部の深さとしては、上述のパラメータを備えることが可能な大きさであれば特に限定されないが、例えば、１００ｎｍ〜１０μｍの範囲内が好ましく、中でも３００ｎｍ〜１μｍの範囲内が好ましい。溝部の深さが上記範囲よりも小さい場合、溝口部の曲率が大きくなるため、ミー散乱よりも幾何光学散乱が支配的になり、前方散乱が起こりにくくなるため低反射樹脂層への光の吸収が小さくなる可能性がある。一方、溝部の高さが上記範囲よりも大きい場合、所望の溝部の形状に製造することが困難となる可能性がある。
なお、溝部の深さとは、溝部が形成された低反射樹脂層の表面から溝底の先端までの長さをいい、図２においてｈ１で示す部分である。溝部の深さは、例えば原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等を用いて、各溝部の深さの極大点および極小点を検出し、検出した極大点から、特定の基準位置（例えば溝口部を面内含む低反射樹脂層の最表面位置を「深さ＝０」とする。）からの各極大点位置の相対的な深さの差を取得してヒストグラム化し、ヒストグラムによる度数分布から算出し、平均化される。極大点および極小点の検出は、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって求める方法等、種々の手法を適用することができる。
溝部の深さとしては、上述のパラメータを備えることが可能な大きさであれば特に限定されないが、例えば、１００ｎｍ〜１０μｍの範囲内が好ましく、中でも３００ｎｍ〜１μｍの範囲内が好ましい。溝部の深さが上記範囲よりも小さい場合、溝口部の曲率が大きくなるため、ミー散乱よりも幾何光学散乱が支配的になり、前方散乱が起こりにくくなるため低反射樹脂層への光の吸収が小さくなる可能性がある。一方、溝部の高さが上記範囲よりも大きい場合、所望の溝部の形状に製造することが困難となる可能性がある。
なお、溝部の深さとは、溝部が形成された低反射樹脂層の表面から溝底の先端までの長さをいい、図２においてｈ１で示す部分である。溝部の深さは、例えば原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等を用いて、各溝部の深さの極大点および極小点を検出し、検出した極大点から、特定の基準位置（例えば溝口部を面内含む低反射樹脂層の最表面位置を「深さ＝０」とする。）からの各極大点位置の相対的な深さの差を取得してヒストグラム化し、ヒストグラムによる度数分布から算出し、平均化される。極大点および極小点の検出は、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって求める方法等、種々の手法を適用することができる。
また、溝部の深さが上記範囲内にあるとき、溝口部の平面視形状の最大径に対する深さのアスペクト比としては、所望の反射率低減効果を発揮することが可能なものであればよく、例えば、０．３〜３０の範囲内が好ましく、中でも０.８〜３の範囲内が好ましい。アスペクト比が上記範囲よりも小さいと、溝部内において光の反射が起こりにくくなり反射率低減効果が十分に発揮されない場合がある。一方、アスペクト比が上記範囲よりも大きいと、賦形が困難となり溝部が所望の形状とならない場合がある。
なお、溝口部の平面視形状の最大径とは、上記溝口部の平面視形状を八角形に近似したときに最も広幅の箇所、すなわち溝口部の平面視形状において重心を通る最大幅をいう。
なお、溝口部の平面視形状の最大径とは、上記溝口部の平面視形状を八角形に近似したときに最も広幅の箇所、すなわち溝口部の平面視形状において重心を通る最大幅をいう。
溝部は、凹型の錐状構造体を成している。このため、本発明の低反射シートは、溝部の形状を精度良く賦型することが可能であり、生産性が向上するという製造上の利点を有する。一般に、溝部が規則的に配置された低反射シートにおいては、反射率低減効果を向上させるために、溝底の形状を先端が分岐した多溝形状とし、表面積を大きくする方法が用いられる。しかし、このような形状は、精度良く賦型できない場合がある。一方、本発明においては、溝部に所望のばらつきをもたせることで反射率低減効果を奏することから、溝部を多溝形状とする必要がなく、個々の溝部を精度良く賦型することが可能となるのである。
溝部の溝底の先端は、尖っていてもよく、曲率を有していてもよい。中でもミー散乱による低反射樹脂層への光の吸収が大きくなることから、先端が尖っていることが好ましい。
溝部の溝底の先端は、尖っていてもよく、曲率を有していてもよい。中でもミー散乱による低反射樹脂層への光の吸収が大きくなることから、先端が尖っていることが好ましい。
溝口部の平面視形状としては、八角形に近似が可能な形状であれば特に限定されるものではなく、例えば円、楕円等の丸形状、五角形、六角形、八角形、十二角形等の多角形状等を挙げることができる。
また、溝部の側面形状としては、溝部の縦断面において直線状であってもよく、曲線状であってもよい。さらに、溝部の側面形状が多段状であってもよい。中でも溝部の側面が多段状であることが好ましい。溝部において多数回反射およびミー散乱がより起こりやすくなるからである。
また、溝部の側面形状としては、溝部の縦断面において直線状であってもよく、曲線状であってもよい。さらに、溝部の側面形状が多段状であってもよい。中でも溝部の側面が多段状であることが好ましい。溝部において多数回反射およびミー散乱がより起こりやすくなるからである。
２．低反射樹脂層
本発明においては、所望の反射率低減効果を発揮するために、多数の溝部が上述のパラメータの定量化により規定されるばらつきを有する必要がある。本発明においては、樹脂組成物の硬化物からなる低反射樹脂層上に溝部が形成されていることで、溝部ごとの形状の精度が高く、所望のばらつきを示すことが可能である。
本発明においては、所望の反射率低減効果を発揮するために、多数の溝部が上述のパラメータの定量化により規定されるばらつきを有する必要がある。本発明においては、樹脂組成物の硬化物からなる低反射樹脂層上に溝部が形成されていることで、溝部ごとの形状の精度が高く、所望のばらつきを示すことが可能である。
上記樹脂組成物は、上述のばらつきを有する多数の溝部を賦形することが可能なものであれば特に限定されず、少なくとも樹脂を含み、必要に応じて重合開始剤等のその他の成分を含有する。
上記樹脂としては、所望の形状および配置のばらつきを有する溝部を形成可能なものであれば特に限定されない。この様な樹脂としては、例えばアクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料および各種硬化形態の賦型用樹脂を使用することができる。なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えばすべての紫外線（ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が挙げられる。
中でも、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、硬度、耐傷性、平面性に優れるといった観点から、ポリエステル系樹脂が好ましい。また、本発明の低反射シートを合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いる場合は、柔軟性、触感等の観点からポリウレタン樹脂が好ましい。
中でも、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、硬度、耐傷性、平面性に優れるといった観点から、ポリエステル系樹脂が好ましい。また、本発明の低反射シートを合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いる場合は、柔軟性、触感等の観点からポリウレタン樹脂が好ましい。
上記樹脂組成物は、必要に応じて任意の材料を含んでいてもよい。任意の材料としては、例えば屈折率調整剤、重合開始剤、離型剤、光増感剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、粘度調整剤、密着性向上剤等を含有することもできる。屈折率調整剤としては、例えば特開２０１３−１４２８２１号公報等に開示される低屈折率材が挙げられる。
低反射樹脂層は、透明であってもよく不透明なものであってもよい。また、上記低反射樹脂層は着色されていてもよい。低反射樹脂層が着色されている場合、着色基材と同色であってもよく、異なる色であってもよい。
低反射樹脂層に含有可能な着色剤としては特に限定されず、後述する「Ｂ．着色基材」の項で説明する着色剤等を用いることができる。
なお、低反射樹脂層に含有される着色剤の平均粒径としては、溝部のばらつきによる反射率低減効果に影響を及ぼさない大きさであればよい。
低反射樹脂層に含有可能な着色剤としては特に限定されず、後述する「Ｂ．着色基材」の項で説明する着色剤等を用いることができる。
なお、低反射樹脂層に含有される着色剤の平均粒径としては、溝部のばらつきによる反射率低減効果に影響を及ぼさない大きさであればよい。
低反射樹脂層の厚さは特に限定はされず、使用する材料、要求される強度等を考慮して適宜設定することができる。上記厚さは、例えば３μｍ〜２００μｍの範囲内が好ましく、中でも５μｍ〜１００μｍの範囲内が好ましい。
なお、低反射樹脂層の厚さとは、低反射樹脂層の溝部が形成されていない面から溝部が形成された面における最も高い位置までの長さをいい、図２においてｈ２で示す部分である。
なお、低反射樹脂層の厚さとは、低反射樹脂層の溝部が形成されていない面から溝部が形成された面における最も高い位置までの長さをいい、図２においてｈ２で示す部分である。
低反射樹脂層は、ヘイズ値が高いことが好ましい。ヘイズ値が高い程、溝部の形状および配置位置のばらつきが大きくなることから、本発明の低反射シートが優れた反射率低減効果を奏することができるからである。具体的には、低反射樹脂層のヘイズ値が７０％以上であればよく、中でも８０％以上であることが好ましい。また、ヘイズ値の上限としては９５％以下であることが好ましい。
ヘイズ値が上記範囲よりも小さいと、低反射シート表面に形成された溝部が形状および配置位置に所望のばらつきを有しておらず、光の多数回反射およびミー散乱による低反射樹脂層への光の吸収が起こりにくくなり、本発明の低反射シートによる反射率低減効果が発揮されない場合があるからである。一方、ヘイズ値が上限よりも大きいと、所望の溝部の形状に製造することが困難となる場合があるからである。
なお、ヘイズ値は、ヘイズメーター（東洋精機製作所製 商品名：ヘイズガード）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。
ヘイズ値が上記範囲よりも小さいと、低反射シート表面に形成された溝部が形状および配置位置に所望のばらつきを有しておらず、光の多数回反射およびミー散乱による低反射樹脂層への光の吸収が起こりにくくなり、本発明の低反射シートによる反射率低減効果が発揮されない場合があるからである。一方、ヘイズ値が上限よりも大きいと、所望の溝部の形状に製造することが困難となる場合があるからである。
なお、ヘイズ値は、ヘイズメーター（東洋精機製作所製 商品名：ヘイズガード）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。
Ｂ．着色基材
本発明における着色基材は、少なくとも一方の面側に、多数の溝部を備える低反射樹脂層を有するものである。
着色基材の色については特に限定されず、本発明の低反射シートの用途に応じて適宜選択することができ、例えば黒色、白色等の無彩色、赤色、青色、黄色、緑色、灰色等の有彩色等が挙げられる。中でも、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、可視光の全波長域に対する反射率低減効果をより高める観点から、黒色または黒色に準ずる暗色が好ましい。暗色とは、例えば濃灰色、褐色、紺色、深緑色、臙脂色、濃紫色等の、低明度で国際照明委員会ＣＩＥによる標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が１０％以下を示す色が挙げられる。一方、本発明の低反射シートを合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いる場合は、無彩色でもよく有彩色でもよい。
なお、無彩色及び有彩色とは、ＪＩＳ Ｚ８１０２：２００１における定義に準じる。
本発明における着色基材は、少なくとも一方の面側に、多数の溝部を備える低反射樹脂層を有するものである。
着色基材の色については特に限定されず、本発明の低反射シートの用途に応じて適宜選択することができ、例えば黒色、白色等の無彩色、赤色、青色、黄色、緑色、灰色等の有彩色等が挙げられる。中でも、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、可視光の全波長域に対する反射率低減効果をより高める観点から、黒色または黒色に準ずる暗色が好ましい。暗色とは、例えば濃灰色、褐色、紺色、深緑色、臙脂色、濃紫色等の、低明度で国際照明委員会ＣＩＥによる標準光源Ｃを用いたＹｘｙ表色系でのＹ値が１０％以下を示す色が挙げられる。一方、本発明の低反射シートを合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いる場合は、無彩色でもよく有彩色でもよい。
なお、無彩色及び有彩色とは、ＪＩＳ Ｚ８１０２：２００１における定義に準じる。
本発明においては、所望の反射率低減効果を発揮するために、着色基材の光学濃度が高いことが好ましい。具体的には、着色基材の光学濃度が２以上であることが好ましく、中でも、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、上記光学濃度が３以上であることが好ましい。また、上記光学濃度の上限としては特に限定されないが、着色基材の材料選定の観点から６以下であることが好ましい。
なお、着色基材の上記光学濃度は、例えば、サカタインクスエンジニアリング株式会社製X-Rite 361T（V）で計測することができる。
なお、着色基材の上記光学濃度は、例えば、サカタインクスエンジニアリング株式会社製X-Rite 361T（V）で計測することができる。
着色基材としては、所望の色を呈するものであれば特に限定されず、例えば樹脂に着色剤を混合させた着色樹脂基材、着色紙、着色布等が挙げられる。
着色樹脂基材に用いられる樹脂としては、特に限定されず、熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等が硬化した硬化樹脂を用いることができる。
例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等を挙げることができる。また、「Ａ．低反射樹脂層」の項で説明した低反射樹脂層を構成する樹脂と同じものを用いてもよい。
例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等を挙げることができる。また、「Ａ．低反射樹脂層」の項で説明した低反射樹脂層を構成する樹脂と同じものを用いてもよい。
着色樹脂基材に含まれる着色剤としては、所望の色を呈することが可能なものであれば特に限定されず、一般に使用される無機顔料、有機顔料等を用いることができる。
具体的には、チタン白、亜鉛華、弁柄、朱、群青、コバルトブルー、チタン黄、黄鉛、カーボンブラック、チタンブラック等の無機顔料；イソインドリノン、ハンザイエローＡ、キナクリドン、パーマネントレッド４Ｒ、フタロシアニンブルー、アニリンブラック等の有機顔料；染料；アルミニウム、真鍮等の箔粉からなる金属顔料；二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸亜鉛等の箔粉からなる真珠光沢顔料等が用いられる。これらは、１種または２種以上を選ぶことができる。
具体的には、チタン白、亜鉛華、弁柄、朱、群青、コバルトブルー、チタン黄、黄鉛、カーボンブラック、チタンブラック等の無機顔料；イソインドリノン、ハンザイエローＡ、キナクリドン、パーマネントレッド４Ｒ、フタロシアニンブルー、アニリンブラック等の有機顔料；染料；アルミニウム、真鍮等の箔粉からなる金属顔料；二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸亜鉛等の箔粉からなる真珠光沢顔料等が用いられる。これらは、１種または２種以上を選ぶことができる。
着色剤の平均粒径としては、所望の色を呈することができれば特に限定されないが、例えば０．０１μｍ以上１μｍ以下の範囲内、中でも０．０１μｍ以上０．５μｍ以下の範囲内であることが好ましい。着色剤の平均粒径が上記範囲よりも小さいと、着色基材が所望の光学濃度を示さない場合があり、一方、上記範囲よりも大きいと、着色剤が凝集して着色樹脂内に分散されない場合がある。なお、着色剤の平均粒径は、遠心沈降法（測定装置：島津製作所社製 光透過型・遠心沈降式粒度分布測定装置「ＳＡ−ＣＰ３型」、測定モード：１０μｍ〜０．０２μｍ、加速度：１２０ｒｐｍ／分）で測定した値である。
着色剤の含有量としては、所望の光学濃度を示すことが可能な量であればよく、着色剤の平均粒径等によって適宜選択することができる。
着色樹脂基材は、必要に応じて充填剤、艶消し剤、発泡剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、ラジカル捕捉剤、軟質成分（例えばゴム）等の各種の添加剤が含まれていても良い。
着色樹脂基材は所望の光学濃度を示すものであればよく、板状、シート状、フィルム状等の各種態様のものを用いることができる。
また、着色基材として用いられる着色紙としては、クラフト紙、上質紙、各種コート紙、キャストコート紙、合成紙等に上述の着色剤が塗布されたもの、または添加されたものが挙げられる。
着色布としては、上述した着色樹脂基材に用いられる樹脂に上述の着色剤を含有させて不織布としたもの等が挙げられる。
着色布としては、上述した着色樹脂基材に用いられる樹脂に上述の着色剤を含有させて不織布としたもの等が挙げられる。
着色基材の厚さとしては、低反射樹脂層を支持することができ、所望の光学濃度を示すことが可能な厚さであれば特に限定されないが、例えば０．０２５ｍｍ〜２０ｍｍの範囲内が好ましい。
Ｃ．その他
本発明の低反射シートは、着色基材の少なくとも一方の面側に上述の低反射樹脂層を有していればよいが、基材の両面に上述の低反射樹脂層を有していてもよく、用途に応じて積層態様を選択することができる。例えば、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、両面の遮光性、平坦性が求められることから、基材の両面に低反射樹脂層を有する態様が好ましい。一方、本発明の低反射シートを合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いる場合は、通常、基材の一方の面側に低反射樹脂層を有する態様とする。
本発明の低反射シートは、着色基材の少なくとも一方の面側に上述の低反射樹脂層を有していればよいが、基材の両面に上述の低反射樹脂層を有していてもよく、用途に応じて積層態様を選択することができる。例えば、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、両面の遮光性、平坦性が求められることから、基材の両面に低反射樹脂層を有する態様が好ましい。一方、本発明の低反射シートを合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いる場合は、通常、基材の一方の面側に低反射樹脂層を有する態様とする。
本発明の低反射シートは、着色基材および低反射樹脂層が一体化した単一層であってもよい。すなわち、本発明の低反射シートが、着色基材と低反射樹脂層とが同一の樹脂材料により形成され着色された単一層であり、上記単一層の少なくとも一方の表面に多数の溝部が所望のばらつきを有して形成されたものであってもよい。着色基材および低反射樹脂層が一体化した単一層とすることで、製造工程の簡略化や材料費の低減を図ることができる。
着色基材および低反射樹脂層を一体化した単一層とする場合の樹脂材料については、上述した「Ａ．低反射樹脂層」の項で説明した樹脂材料が用いられる。また、上記単一層に用いられる着色剤およびその含有量については、「Ｂ．着色基材」の項で例示した着色剤およびその含有量と同様とすることができる。
なお、着色基材および低反射樹脂層を一体化した単一層とする場合、上記単一層の厚さとしては、上述した着色基材の厚さと同等とすることができる。
着色基材および低反射樹脂層を一体化した単一層とする場合の樹脂材料については、上述した「Ａ．低反射樹脂層」の項で説明した樹脂材料が用いられる。また、上記単一層に用いられる着色剤およびその含有量については、「Ｂ．着色基材」の項で例示した着色剤およびその含有量と同様とすることができる。
なお、着色基材および低反射樹脂層を一体化した単一層とする場合、上記単一層の厚さとしては、上述した着色基材の厚さと同等とすることができる。
本発明の低反射シートが着色基材および低反射樹脂層を一体化した単一層である場合、少なくとも低反射シートの一方の表面に多数の溝部が形成されているが、両面に所望のばらつきを示す多数の溝部を有していてもよい。
本発明の低反射シートは、必要に応じて任意の層を有することができる。任意の層としては、低反射樹脂層と着色基材との間に形成されるプライマー層（密着安定層）、低反射シートを被着体に貼り合せるための粘着層または接着層等を挙げることができる。
本発明の低反射シートの反射率としては、可視光領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける最大反射率が２．０％以下であることが好ましく、中でも１．５％以下であることが好ましい。低反射シートの反射率が上述の上限値以下であることで、可視光の全波長域に対して低い反射率を示すことができ、本発明の低反射シートによる反射率低減効果が十分に発揮され、その効果を目視でも確認できるからである。
なお、最大反射率は、計測装置としてScanning Spectrophotometer UV-3100PC(島津製作所製)を用い、８°入射光（波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）に対する全反射を測定することで得られる。
なお、最大反射率は、計測装置としてScanning Spectrophotometer UV-3100PC(島津製作所製)を用い、８°入射光（波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）に対する全反射を測定することで得られる。
Ｄ．製造方法
本発明の低反射シートの製造方法としては、着色基材上に、少なくとも形状および配置に所望のばらつきを有する溝部を有する低反射樹脂層を形成可能な方法であれば特に限定されず、例えば以下の方法により製造することができる。
まず、多数の凸型錐状構造体を備えた転写原版を準備する。上記凸型錐状構造体は、「Ａ．低反射樹脂層」の項で説明した３つのパラメータの定量化により規定された形状および配置位置のばらつきを有するものとする。次に、上記転写原版の上記凸型錐状構造体が形成された面上に、硬化性樹脂を含む第１ソフトモールド形成用組成物を塗布し、塗布層を硬化して第１ソフトモールドを転写形成する。このとき、第１ソフトモールドの一方の表面には、凸型錐状構造体の反転形状である凹型錐状構造体が形成される。続いて、第１ソフトモールドの凹型錐状構造体が形成された面上に、硬化性樹脂を含む第２ソフトモールド形成用組成物を塗布し、塗布層を硬化して第２ソフトモールドを転写形成する。このとき、第２ソフトモールドの一方の表面には、第１ソフトモールドの凹型錐状構造体の反転形状である凸型錐状構造体が形成される。続いて、第２ソフトモールドの凸型錐状構造体が形成された面上に、低反射樹脂層形成用組成物を塗布し、塗布層上にさらに着色基板を配置した状態で上記塗布層を硬化する。これにより、着色基材の一方の面側に多数の溝部を備える低反射樹脂層を有する低反射シートを得ることができる。なお、上記溝部は、上記転写原版の凸型錐状構造体の反転形状と、形状および配置位置のばらつきが対応する。
本発明の低反射シートの製造方法としては、着色基材上に、少なくとも形状および配置に所望のばらつきを有する溝部を有する低反射樹脂層を形成可能な方法であれば特に限定されず、例えば以下の方法により製造することができる。
まず、多数の凸型錐状構造体を備えた転写原版を準備する。上記凸型錐状構造体は、「Ａ．低反射樹脂層」の項で説明した３つのパラメータの定量化により規定された形状および配置位置のばらつきを有するものとする。次に、上記転写原版の上記凸型錐状構造体が形成された面上に、硬化性樹脂を含む第１ソフトモールド形成用組成物を塗布し、塗布層を硬化して第１ソフトモールドを転写形成する。このとき、第１ソフトモールドの一方の表面には、凸型錐状構造体の反転形状である凹型錐状構造体が形成される。続いて、第１ソフトモールドの凹型錐状構造体が形成された面上に、硬化性樹脂を含む第２ソフトモールド形成用組成物を塗布し、塗布層を硬化して第２ソフトモールドを転写形成する。このとき、第２ソフトモールドの一方の表面には、第１ソフトモールドの凹型錐状構造体の反転形状である凸型錐状構造体が形成される。続いて、第２ソフトモールドの凸型錐状構造体が形成された面上に、低反射樹脂層形成用組成物を塗布し、塗布層上にさらに着色基板を配置した状態で上記塗布層を硬化する。これにより、着色基材の一方の面側に多数の溝部を備える低反射樹脂層を有する低反射シートを得ることができる。なお、上記溝部は、上記転写原版の凸型錐状構造体の反転形状と、形状および配置位置のばらつきが対応する。
また、他の製造方法として、得られた第２ソフトモールドをロールに巻きつけて転写ロールを準備し、着色基材上に低反射樹脂層形成用組成物を塗布した後、上記転写ロールで塗布層を押圧し、押圧と同時に低反射樹脂層形成用組成物に適した硬化方法を適用して低反射樹脂層を成形する方法を用いることも可能である。
さらに、他の製造方法として、円筒形のシリンダーの表面をめっきすることで、所望のばらつきを有する多数の凸型錐状構造体が表面に形成されたロール原版を準備し、着色基材上に低反射樹脂層形成用組成物を塗布した後、上記ロール原版で押圧し、押圧と同時に低反射樹脂層形成用組成物に適した硬化方法を適用して低反射樹脂層を成形する方法を用いることも可能である。
さらに、他の製造方法として、円筒形のシリンダーの表面をめっきすることで、所望のばらつきを有する多数の凸型錐状構造体が表面に形成されたロール原版を準備し、着色基材上に低反射樹脂層形成用組成物を塗布した後、上記ロール原版で押圧し、押圧と同時に低反射樹脂層形成用組成物に適した硬化方法を適用して低反射樹脂層を成形する方法を用いることも可能である。
上記転写原版の材質としては、所望のばらつきを有する凸型錐状構造体の形成が可能なものであれば特に限定されず、金属、樹脂等が挙げられるが、中でも金属が好ましい。
また、上記転写原版の製造方法としては、形状および配置位置に所望のばらつきを有する凸型錐状構造体を表面に有することができる方法であれば特に限定されないが、例えばステンレス板の表面をブラスト加工し、ステンレス板の加工表面に対して、段階的に電流値を小さくしながら電解ニッケルめっき、電解クロムめっき、電解スズめっき等の電解めっき処理を施すことにより形成することができる。
このときブラストの表面粗さを調整することにより、凸型錐状構造体の距離や方向性等のばらつきを調整できる。また、段階的に電流値を小さくする割合を調整することにより、凸型錐状構造体の高さを調整できる。
また、上記転写原版の製造方法としては、形状および配置位置に所望のばらつきを有する凸型錐状構造体を表面に有することができる方法であれば特に限定されないが、例えばステンレス板の表面をブラスト加工し、ステンレス板の加工表面に対して、段階的に電流値を小さくしながら電解ニッケルめっき、電解クロムめっき、電解スズめっき等の電解めっき処理を施すことにより形成することができる。
このときブラストの表面粗さを調整することにより、凸型錐状構造体の距離や方向性等のばらつきを調整できる。また、段階的に電流値を小さくする割合を調整することにより、凸型錐状構造体の高さを調整できる。
第１および第２ソフトモールドは、同一のソフトモールド形成用組成物から形成されたものであってもよく、組成の異なるソフトモールド形成用組成物から個々に形成されたものであってもよい。
ソフトモールド形成用組成物に含まれる硬化性樹脂は、転写原版の凸型錐状構造体の形状を精度良く転写することが可能な樹脂であればよく、光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。また、必要に応じて「Ａ．低反射樹脂層」の項で説明した任意の材料を含むものであっても良い。
なお、ソフトモールド形成用組成物の塗布方法は、特に限定されず、一般に樹脂製原版の形成の際に用いられる方法と同様とすることができる。
ソフトモールド形成用組成物に含まれる硬化性樹脂は、転写原版の凸型錐状構造体の形状を精度良く転写することが可能な樹脂であればよく、光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。また、必要に応じて「Ａ．低反射樹脂層」の項で説明した任意の材料を含むものであっても良い。
なお、ソフトモールド形成用組成物の塗布方法は、特に限定されず、一般に樹脂製原版の形成の際に用いられる方法と同様とすることができる。
なお、低反射樹脂層形成用組成物に含まれる樹脂が光硬化性または電子線硬化性樹脂である場合、第２ソフトモールドは光透過性を有することが好ましい。低反射樹脂層形成用組成物の塗布層上に着色基材が配置される場合や、低反射樹脂層形成用組成物に着色剤を含有して単一層を形成する場合に、第２ソフトモールド側から光や電子線等の照射を行い、上記塗布層を硬化させる必要があるからである。
低反射樹脂層形成用組成物は、「Ａ．低反射樹脂層」の項で説明した材料を含むものである。また、低反射樹脂層形成用組成物の塗布方法は、特に限定されず、従来公知の塗布方法を適用することができる。
低反射樹脂層形成用組成物の硬化方法および硬化条件については、含有される樹脂の種類に応じて適宜選択することができる。例えば、低反射樹脂層形成用組成物が紫外線硬化性樹脂を含む場合、第２ソフトモールドを介して紫外線照射を行うこと硬化させることができる。
低反射樹脂層形成用組成物の硬化方法および硬化条件については、含有される樹脂の種類に応じて適宜選択することができる。例えば、低反射樹脂層形成用組成物が紫外線硬化性樹脂を含む場合、第２ソフトモールドを介して紫外線照射を行うこと硬化させることができる。
Ｅ．用途
本発明の低反射シートは、反射率の低減が求められる用途に使用することができるが、中でも着色基材を有することから、高遮光性が要求され、光透過性が要求されない用途への使用が好ましい。
例えば、本発明の低反射シートが黒色または暗色で且つ光学濃度の高いものである場合、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラのレンズシャッターなどのシャッター羽根または絞り羽根、カメラ付き携帯電話や車載モニターのレンズユニット内の固定絞り、プロジェクターの光量調整モジュールの絞り羽根等に用いることができる。
また、本発明の低反射シートは、反射率を低減することで表面にマット感を出すことができるため、外観性向上や意匠性付与を目的として、合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いることができる。
さらに、本発明の低反射シートは、分析機器や光学機器の迷光防止部材等に用いることができる。
本発明の低反射シートは、反射率の低減が求められる用途に使用することができるが、中でも着色基材を有することから、高遮光性が要求され、光透過性が要求されない用途への使用が好ましい。
例えば、本発明の低反射シートが黒色または暗色で且つ光学濃度の高いものである場合、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラのレンズシャッターなどのシャッター羽根または絞り羽根、カメラ付き携帯電話や車載モニターのレンズユニット内の固定絞り、プロジェクターの光量調整モジュールの絞り羽根等に用いることができる。
また、本発明の低反射シートは、反射率を低減することで表面にマット感を出すことができるため、外観性向上や意匠性付与を目的として、合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いることができる。
さらに、本発明の低反射シートは、分析機器や光学機器の迷光防止部材等に用いることができる。
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
［実施例１］
以下の方法により、低反射シートを得た。
以下の方法により、低反射シートを得た。
（転写原版の作製）
ステンレス板にブラスト加工し、三次元表面粗さ測定における算術平均面粗さ（以下、Ｓａと略する。）が０．３５μｍとなるように仕上げた。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ａを版面に有した転写原版Ａを得た。なお、錐状構造体Ａの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ａの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工し、三次元表面粗さ測定における算術平均面粗さ（以下、Ｓａと略する。）が０．３５μｍとなるように仕上げた。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ａを版面に有した転写原版Ａを得た。なお、錐状構造体Ａの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ａの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
以下の組成を含有するめっき浴を用い、陽極としてグラファイト電極を用いて、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に３．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
＜＜めっき浴の組成＞＞
・塩化クロム：２００ｇ／ｄｍ３（０．７５ｍｏｌ／ｄｍ３）
・塩化アンモニウム：３０ｇ／ｄｍ３（０．５６ｍｏｌ／ｄｍ３）
・シュウ酸：３ｇ／ｄｍ３（０．０２４ｍｏｌ／ｄｍ３）
・炭酸バリウム：５ｇ／ｄｍ３（０．０２５ｍｏｌ／ｄｍ３）
・ホウ酸：３０ｇ／ｄｍ３（０．４９ｍｏｌ／ｄｍ３）
・フッ化バリウム：１０ｇ／ｄｍ３（０．０５７ｍｏｌ／ｄｍ３）
以下の組成を含有するめっき浴を用い、陽極としてグラファイト電極を用いて、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に３．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
＜＜めっき浴の組成＞＞
・塩化クロム：２００ｇ／ｄｍ３（０．７５ｍｏｌ／ｄｍ３）
・塩化アンモニウム：３０ｇ／ｄｍ３（０．５６ｍｏｌ／ｄｍ３）
・シュウ酸：３ｇ／ｄｍ３（０．０２４ｍｏｌ／ｄｍ３）
・炭酸バリウム：５ｇ／ｄｍ３（０．０２５ｍｏｌ／ｄｍ３）
・ホウ酸：３０ｇ／ｄｍ３（０．４９ｍｏｌ／ｄｍ３）
・フッ化バリウム：１０ｇ／ｄｍ３（０．０５７ｍｏｌ／ｄｍ３）
（第１ソフトモールドの作製）
転写原版Ａの錐状構造体Ａが形成された面上に、下記の組成から成る紫外線硬化型のソフトモールド形成用組成物を塗布し、厚さ０．２ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（パンライトフィルム、帝人化成株式会社製)で挟んで、ＰＣフィルム面側から波長３６５ｎｍ、照射エネルギー１７０ｍＪ/ｃｍ２でＵＶ照射をした。転写原版Ａの錐状構造体Ａを転写し、ソフトモールド形成用組成物を硬化させた後、転写原版Ａを剥離して第１ソフトモールドを得た。
転写原版Ａの錐状構造体Ａが形成された面上に、下記の組成から成る紫外線硬化型のソフトモールド形成用組成物を塗布し、厚さ０．２ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（パンライトフィルム、帝人化成株式会社製)で挟んで、ＰＣフィルム面側から波長３６５ｎｍ、照射エネルギー１７０ｍＪ/ｃｍ２でＵＶ照射をした。転写原版Ａの錐状構造体Ａを転写し、ソフトモールド形成用組成物を硬化させた後、転写原版Ａを剥離して第１ソフトモールドを得た。
＜ソフトモールド形成用組成物＞
・ウレタンアクリレート … ３５質量％
・１，６‐ヘキサンジオールジアクリレート … ３５質量％
・ペンタエリスリトールトリアクリレート … １０質量％
・ビニルピロリドン … １５質量％
・１‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン … ２質量％
・ベンゾフェノン … ２質量％
・ポリエーテル変性シリコーンオイル … １質量％
・ウレタンアクリレート … ３５質量％
・１，６‐ヘキサンジオールジアクリレート … ３５質量％
・ペンタエリスリトールトリアクリレート … １０質量％
・ビニルピロリドン … １５質量％
・１‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン … ２質量％
・ベンゾフェノン … ２質量％
・ポリエーテル変性シリコーンオイル … １質量％
（第２ソフトモールドの作製）
第１ソフトモールドの錐状構造体Ａの反転形状が形成された面上に、第１ソフトモールドと同じソフトモールド形成用組成物を塗布し、厚さ０．２ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（パンライトフィルム、帝人化成株式会社製)で挟んで、ＰＣフィルム面側から波長３６５ｎｍ、照射エネルギー１７０ｍＪ/ｃｍ２でＵＶ照射をした。ソフトモールド形成用組成物を硬化させた後、第１ソフトモールドを剥離して、表面に錐状構造体Ａと同形状の錐状構造体Ａ’が形成された第２ソフトモールドを得た。
第１ソフトモールドの錐状構造体Ａの反転形状が形成された面上に、第１ソフトモールドと同じソフトモールド形成用組成物を塗布し、厚さ０．２ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（パンライトフィルム、帝人化成株式会社製)で挟んで、ＰＣフィルム面側から波長３６５ｎｍ、照射エネルギー１７０ｍＪ/ｃｍ２でＵＶ照射をした。ソフトモールド形成用組成物を硬化させた後、第１ソフトモールドを剥離して、表面に錐状構造体Ａと同形状の錐状構造体Ａ’が形成された第２ソフトモールドを得た。
（低反射シートの作製）
得られた第２ソフトモールドの、錐状構造体Ａ’が形成された面上に、下記組成から成る紫外線硬化型の低反射樹脂層形成用組成物を塗布し、塗布面上に厚さ２．０ｍｍの黒色アクリル板（アクリライトＬ 三菱レイヨン株式会社製)を配置した。第２ソフトモールドのＰＣフィルム面側から波長３６５ｎｍ、照射エネルギー１７０ｍＪ/ｃｍ２でＵＶ照射をして、低反射樹脂層形成用組成物を硬化させた。その後、第２ソフトモールドを剥離することで、表面に多数の溝部Ａを備える低反射樹脂層を黒色アクリル板上に有する低反射シートを得た。
得られた第２ソフトモールドの、錐状構造体Ａ’が形成された面上に、下記組成から成る紫外線硬化型の低反射樹脂層形成用組成物を塗布し、塗布面上に厚さ２．０ｍｍの黒色アクリル板（アクリライトＬ 三菱レイヨン株式会社製)を配置した。第２ソフトモールドのＰＣフィルム面側から波長３６５ｎｍ、照射エネルギー１７０ｍＪ/ｃｍ２でＵＶ照射をして、低反射樹脂層形成用組成物を硬化させた。その後、第２ソフトモールドを剥離することで、表面に多数の溝部Ａを備える低反射樹脂層を黒色アクリル板上に有する低反射シートを得た。
＜低反射樹脂層形成用組成物＞
・ウレタンアクリレート … ３５質量％
・１，６‐ヘキサンジオールジアクリレート … ３５質量％
・ペンタエリスリトールトリアクリレート … １０質量％
・ビニルピロリドン … １５質量％
・１‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン … ２質量％
・ベンゾフェノン … ２質量％
・ポリエーテル変性シリコーンオイル … １質量％
・ウレタンアクリレート … ３５質量％
・１，６‐ヘキサンジオールジアクリレート … ３５質量％
・ペンタエリスリトールトリアクリレート … １０質量％
・ビニルピロリドン … １５質量％
・１‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン … ２質量％
・ベンゾフェノン … ２質量％
・ポリエーテル変性シリコーンオイル … １質量％
［実施例２］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｂを版面に有した転写原版Ｂを得た。なお、錐状構造体Ｂの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｂの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｂを版面に有した転写原版Ｂを得た。なお、錐状構造体Ｂの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｂの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に２．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に２．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
転写原版Ａに換えて、転写原版Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして多数の溝部Ｂを備える低反射シートを得た。
［実施例３］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．２５μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｃを版面に有した転写原版Ｃを得た。なお、錐状構造体Ｃの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｃの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．２５μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｃを版面に有した転写原版Ｃを得た。なお、錐状構造体Ｃの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｃの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に１．５Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に１．５Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
転写原版Ａに換えて、転写原版Ｃを用いたこと以外は、実施例１と同様にして多数の溝部Ｃを備える低反射シートを得た。
［実施例４］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｄを版面に有した転写原版Ｄを得た。なお、錐状構造体Ｄの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｄの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｄを版面に有した転写原版Ｄを得た。なお、錐状構造体Ｄの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｄの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に１．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に１．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
転写原版Ａに換えて、転写原版Ｄを用いたこと以外は、実施例１と同様にして多数の溝部Ｄを備える低反射シートを得た。
［実施例５］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｅを版面に有した転写原版Ｅを得た。なお、錐状構造体Ｅの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｅの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｅを版面に有した転写原版Ｅを得た。なお、錐状構造体Ｅの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｅの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に２．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に２．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
転写原版Ａに換えて、転写原版Ｅを用いたこと以外は、実施例１と同様にして多数の溝部Ｅを備える低反射シートを得た。
［実施例６］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｆを版面に有した転写原版Ｆを得た。なお、錐状構造体Ｆの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｆの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｆを版面に有した転写原版Ｆを得た。なお、錐状構造体Ｆの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｆの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に０．５Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に０．５Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
転写原版Ａに換えて、転写原版Ｆを用いたこと以外は、実施例１と同様にして多数の溝部Ｆを備える低反射シートを得た。
［実施例７］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．２５μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｇを版面に有した転写原版Ｇを得た。なお、錐状構造体Ｇの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｇの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．２５μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｇを版面に有した転写原版Ｇを得た。なお、錐状構造体Ｇの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｇの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に５．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に５．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
転写原版Ａに換えて、転写原版Ｇを用いたこと以外は、実施例１と同様にして多数の溝部Ｇを備える低反射シートを得た。
［比較例１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｈを版面に有した転写原版Ｈを得た。なお、錐状構造体Ｈの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｈの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｈを版面に有した転写原版Ｈを得た。なお、錐状構造体Ｈの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｈの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に０．４Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に０．４Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
転写原版Ａに換えて、転写原版Ｈを用いたこと以外は、実施例１と同様にして多数の溝部Ｈを備える低反射シートを得た。
［比較例２］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｉを版面に有した転写原版Ｉを得た。なお、錐状構造体Ｉの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｉの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｉを版面に有した転写原版Ｉを得た。なお、錐状構造体Ｉの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｉの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に６．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に６．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
転写原版Ａに換えて、転写原版Ｉを用いたこと以外は、実施例１と同様にして多数の溝部Ｉを備える低反射シートを得た。
［比較例３］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｊを版面に有した転写原版Ｊを得た。なお、錐状構造体Ｊの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｊの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｊを版面に有した転写原版Ｊを得た。なお、錐状構造体Ｊの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｊの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に２．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に１０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に２．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に１０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
転写原版Ａに換えて、転写原版Ｊを用いたこと以外は、実施例１と同様にして多数の溝部Ｊを備える低反射シートを得た。
［比較例４］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．５μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｋを版面に有した転写原版Ｋを得た。なお、錐状構造体Ｋの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｋの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．５μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Ｋを版面に有した転写原版Ｋを得た。なお、錐状構造体Ｋの反転形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける溝部Ｋの形状およびばらつきとは、対応するものであった。
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に１．８Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に１．８Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
転写原版Ａに換えて、転写原版Ｋを用いたこと以外は、実施例１と同様にして多数の溝部Ｋを備える低反射シートを得た。
［評価１］
実施例１〜７、比較例１〜４で得られた低反射シートについて、以下の条件にてＳＥＭ観察を行った。実施例ごとに低反射樹脂層上の多数の溝部の中から表１に示す点数を抽出し、平面視ＳＥＭ像から溝部の開口（溝口部）の面積、溝部の開口（溝口部）の最大内角、および隣接する溝部の最近接重心間距離について平均および分散を求めた。なお、平面視ＳＥＭ像を用いた各パラメータの定量化については、先に説明した方法を用いた。
（条件）
・ＳＥＭ：電界放出形走査電子顕微鏡 S-4500(株式会社日立ハイテクノロジーズ社製)
・観察方法：Ｔｏｐ−Ｖｉｅｗ（溝部を有する面側から）
・前処理：Ｐｔ−Ｐｄスパッタ
・観察倍率：×１０ｋ
・視野範囲：縦４μｍ×横４μｍ
実施例１〜７、比較例１〜４で得られた低反射シートについて、以下の条件にてＳＥＭ観察を行った。実施例ごとに低反射樹脂層上の多数の溝部の中から表１に示す点数を抽出し、平面視ＳＥＭ像から溝部の開口（溝口部）の面積、溝部の開口（溝口部）の最大内角、および隣接する溝部の最近接重心間距離について平均および分散を求めた。なお、平面視ＳＥＭ像を用いた各パラメータの定量化については、先に説明した方法を用いた。
（条件）
・ＳＥＭ：電界放出形走査電子顕微鏡 S-4500(株式会社日立ハイテクノロジーズ社製)
・観察方法：Ｔｏｐ−Ｖｉｅｗ（溝部を有する面側から）
・前処理：Ｐｔ−Ｐｄスパッタ
・観察倍率：×１０ｋ
・視野範囲：縦４μｍ×横４μｍ
［評価２］
実施例１〜７、比較例１〜４で得られた低反射シートについて、以下の条件にて最大反射率を計測した。
（条件）
・計測装置：Scanning Spectrophotometer UV-3100PC(島津製作所製)
・計測方法：８°入射光（波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）に対する全反射
実施例１〜７、比較例１〜４で得られた低反射シートについて、以下の条件にて最大反射率を計測した。
（条件）
・計測装置：Scanning Spectrophotometer UV-3100PC(島津製作所製)
・計測方法：８°入射光（波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）に対する全反射
［評価３］
実施例１〜７、比較例１〜４で得られた低反射シートにおける低反射樹脂層のヘイズ値を以下の方法により測定した。
（測定方法）
実施例１〜７、比較例１〜４において、黒色アクリル板に換えてＰＣフィルムを用い、ＰＣフィルム上に低反射樹脂層を形成し、評価用サンプルを作製した。ヘイズメーター（東洋精機製作所製 商品名：ヘイズガード）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により各評価用サンプルのヘイズ値を測定した。
実施例１〜７、比較例１〜４で得られた低反射シートにおける低反射樹脂層のヘイズ値を以下の方法により測定した。
（測定方法）
実施例１〜７、比較例１〜４において、黒色アクリル板に換えてＰＣフィルムを用い、ＰＣフィルム上に低反射樹脂層を形成し、評価用サンプルを作製した。ヘイズメーター（東洋精機製作所製 商品名：ヘイズガード）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により各評価用サンプルのヘイズ値を測定した。
評価１〜３の結果を表１に示す。なお、表１中のμは平均、σ２は分散を示す。
実施例１〜７で作製した低反射シートを光学計測機の遮光シートとして使用したところ、迷光の影響を十分に除去できた。
一方で比較例１〜４の低反射シートを光学計測機の遮光シートとして使用したところ、迷光の除去は不十分であった。
一方で比較例１〜４の低反射シートを光学計測機の遮光シートとして使用したところ、迷光の除去は不十分であった。
１ … 着色基材
２ … 低反射樹脂層
３、３Ａ、３Ｂ、３Ｃ … 溝部
１０ … 低反射シート
２ … 低反射樹脂層
３、３Ａ、３Ｂ、３Ｃ … 溝部
１０ … 低反射シート
Claims (2)
- 着色基材の少なくとも一方の面側に、多数の溝部を備える低反射樹脂層を有し、
前記溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの面積の平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内であり、
前記溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの最大内角の分散が６００（°） ２ 以上１０２０（°） ２ 以下の範囲内であり、
一の前記溝部および前記一の溝部の開口の平面視外形を八角形に近似したときの重心に最も近接した位置に開口の重心を有する他の前記溝部の重心間距離の平均が５００ｎｍ以下であり、前記重心間距離の分散が８０００（ｎｍ） ２ 以上であることを特徴とする低反射シート。 - 前記着色基材および前記低反射樹脂層が一体化した単一層であることを特徴とする請求項１に記載の低反射シート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015087091A JP6696114B2 (ja) | 2014-07-18 | 2015-04-21 | 低反射シート |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014148259 | 2014-07-18 | ||
| JP2014148259 | 2014-07-18 | ||
| JP2015087091A JP6696114B2 (ja) | 2014-07-18 | 2015-04-21 | 低反射シート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016029457A JP2016029457A (ja) | 2016-03-03 |
| JP6696114B2 true JP6696114B2 (ja) | 2020-05-20 |
Family
ID=55435360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015087091A Active JP6696114B2 (ja) | 2014-07-18 | 2015-04-21 | 低反射シート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6696114B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6743363B2 (ja) * | 2014-10-08 | 2020-08-19 | 大日本印刷株式会社 | 印刷物 |
| CN113840865A (zh) * | 2019-08-09 | 2021-12-24 | 株式会社大赛璐 | 遮光性膜及遮光性膜的制造方法 |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08127091A (ja) * | 1994-10-31 | 1996-05-21 | Nissan Motor Co Ltd | プラスチック製中空積層体及びその製造方法 |
| JP2000071290A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-07 | Teijin Ltd | 反射防止物品の製造方法 |
| JP4647048B2 (ja) * | 1999-07-23 | 2011-03-09 | 帝人株式会社 | 透明導電性積層体および透明タブレット |
| TW557368B (en) * | 2001-06-29 | 2003-10-11 | Jsr Corp | Anti-reflection film laminated body and method of manufacturing the laminated body |
| TW200504384A (en) * | 2003-07-24 | 2005-02-01 | Zeon Corp | Molded article for anti-reflection and method for preparing the article |
| CN1591055A (zh) * | 2003-09-05 | 2005-03-09 | 德阳科技股份有限公司 | 彩色滤光片的制造方法 |
| JP2006146063A (ja) * | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Sharp Corp | ３次元形状の形成方法、および液晶表示装置の製造方法 |
| JP4886314B2 (ja) * | 2006-02-14 | 2012-02-29 | 積水化学工業株式会社 | 凹部を有する延伸熱可塑性ポリエステル系樹脂シートの製造方法及びその積層シートの製造方法 |
| JP2007322763A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Nissan Motor Co Ltd | 反射防止構造、反射防止構造体及びその製造方法 |
| US8939752B2 (en) * | 2006-06-30 | 2015-01-27 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Mold, process for producing mold, and process for producing sheet |
| JP2008209540A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 反射防止物品 |
| KR20100011638A (ko) * | 2008-07-25 | 2010-02-03 | 삼성정밀화학 주식회사 | 내스크래치성이 향상된 광학시트, 이를 구비하는 필터, 및상기 시트 또는 필터를 구비하는 화상 표시 장치 |
| JP2010066346A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 画像コントラスト向上フィルター、その製造方法及び画像表示装置 |
| EP2426520A4 (en) * | 2009-06-12 | 2012-11-14 | Sharp Kk | ANTIREFLECTION FILM, DISPLAY DEVICE, AND LIGHT TRANSMISSION ELEMENT |
| CN102460283B (zh) * | 2009-06-23 | 2015-09-09 | 夏普株式会社 | 显示装置和多层基板 |
| JP2012068514A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Sekisui Chem Co Ltd | プリズムシート |
| KR101985030B1 (ko) * | 2011-05-25 | 2019-05-31 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광 제어 필름 |
| JP5899696B2 (ja) * | 2011-08-05 | 2016-04-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品 |
| CN104204922B (zh) * | 2012-04-02 | 2016-11-09 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置 |
| TW201509962A (zh) * | 2012-06-15 | 2015-03-16 | Mitsubishi Rayon Co | 活性能量線硬化性樹脂組成物以及光透射性物品活性能量線硬化性樹脂組成物 |
| JP5261596B1 (ja) * | 2012-07-31 | 2013-08-14 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
| KR102111380B1 (ko) * | 2012-07-31 | 2020-05-15 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 반사 방지 물품, 화상 표시 장치 및 반사 방지 물품의 제조용 금형 |
| JP6136517B2 (ja) * | 2013-04-18 | 2017-05-31 | 大日本印刷株式会社 | 導電性メッシュ、導電性メッシュシート、タッチパネル装置および画像表示装置 |
| JP6209271B2 (ja) * | 2014-04-21 | 2017-10-04 | シャープ株式会社 | 積層印刷物 |
-
2015
- 2015-04-21 JP JP2015087091A patent/JP6696114B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2016029457A (ja) | 2016-03-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5163943B2 (ja) | 防眩フィルム、防眩性偏光板および画像表示装置 | |
| JP6641720B2 (ja) | 低反射シート | |
| RU2489738C1 (ru) | Противоотражательная пленка, отображающее устройство и светопропускающий элемент | |
| JP5135871B2 (ja) | 防眩フィルム、防眩性偏光板及び画像表示装置 | |
| KR101608091B1 (ko) | 방현 필름 및 그 제조 방법 | |
| TWI702414B (zh) | 光學膜及附觸控面板之顯示裝置 | |
| JP6696114B2 (ja) | 低反射シート | |
| JP6515377B2 (ja) | タッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法 | |
| JP6565094B2 (ja) | タッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法 | |
| JP2017140720A (ja) | 印刷用記録媒体および印刷物 | |
| JP6544286B2 (ja) | 印刷物 | |
| JP2009122371A (ja) | 防眩フィルムおよび画像表示装置 | |
| KR20130041348A (ko) | 광확산 소자 | |
| JP6631282B2 (ja) | 車両用内装材および車両用内装材用フィルム | |
| JP6627546B2 (ja) | 車両用内装材および車両用内装材用フィルム | |
| JP2016224402A (ja) | シュリンクラベル | |
| JP6728674B2 (ja) | 視認性向上フィルム | |
| JP2015172834A (ja) | タッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法 | |
| JP2017072664A (ja) | 意匠性フィルム | |
| JP5915807B2 (ja) | 印刷物 | |
| JP2017071080A (ja) | 意匠性フィルム | |
| JP6743363B2 (ja) | 印刷物 | |
| JP6641864B2 (ja) | 印刷物 | |
| JP6565095B2 (ja) | タッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法 | |
| WO2016039392A1 (ja) | 視認性向上フィルム、および印刷物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180226 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181024 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181204 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190204 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190318 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190827 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191016 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200324 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200406 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6696114 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |