JP6515377B2 - タッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、タッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法に関する。
近年、タブレット型ＰＣならびにスマートフォンに代表される双方向の通信機能を備え、かつ情報表示ならびに情報入力用の透明タッチパネルを搭載したモバイル型の情報端末機器が、日本ばかりでなく世界で広く普及しはじめてきた。
透明タッチパネルとしては、コスト的に優れた抵抗膜方式があるが、マルチタッチ等のジェスチャー操作が可能であること、超高精細化された表示素子の画質を損ないづらい等の点で、静電容量方式のタッチパネル、特に、投影型静電容量方式のタッチパネルの需要が拡大してきている。
透明タッチパネルとしては、コスト的に優れた抵抗膜方式があるが、マルチタッチ等のジェスチャー操作が可能であること、超高精細化された表示素子の画質を損ないづらい等の点で、静電容量方式のタッチパネル、特に、投影型静電容量方式のタッチパネルの需要が拡大してきている。
タッチパネルの表面には、外光の映り込みを防止すること等を目的として、凹凸構造を有する防眩性シートが設置されることがある。
さらには、タッチパネルを構成する部材間の密着及び干渉縞の防止、及びタッチパネルと表示素子との間の密着及び干渉縞の防止等のために、タッチパネルの最表面基材、内部基材及び最背面基材等として、凹凸構造を有する光学シートが用いられることがある。
さらには、タッチパネルを構成する部材間の密着及び干渉縞の防止、及びタッチパネルと表示素子との間の密着及び干渉縞の防止等のために、タッチパネルの最表面基材、内部基材及び最背面基材等として、凹凸構造を有する光学シートが用いられることがある。
しかし、防眩性フィルム等の凹凸構造を有する光学シートを用いた場合、その凹凸構造に起因して、映像光に微細な輝度のばらつきが見える現象（ギラツキ）が生じ、表示品位を低下させるという問題がある。特に、近年の超高精細化された表示素子（画素密度３００ｐｐｉ以上）ではギラツキが強くなる傾向にあり、ギラツキの問題はさらに深刻化している。
表面凹凸によるギラツキを防止する技術として、特許文献１〜９の技術が提案されている。
表面凹凸によるギラツキを防止する技術として、特許文献１〜９の技術が提案されている。
特許文献１及び２は、内部ヘイズを付与することによりギラツキを改善するものである。しかし、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子はギラツキが強くなる傾向にあり、内部へイズのみによりギラツキを抑えようとすると、内部へイズをさらに大きくせざるを得ない。また、内部ヘイズが大きいと解像度が悪化する傾向にあるが、超高精細の表示素子ではよりその傾向が大きい。したがって、特許文献１及び２では、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子において、ギラツキ及び解像度の低下を同時に防止することができなかった。
特許文献３〜９は、光学シートの表面形状を特定の形状に設計することにより、防眩性を付与するとともに、ギラツキを改善するものである。しかし、特許文献３〜９の技術においても、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子のギラツキを防止することはできない。
特許文献３〜９は、光学シートの表面形状を特定の形状に設計することにより、防眩性を付与するとともに、ギラツキを改善するものである。しかし、特許文献３〜９の技術においても、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子のギラツキを防止することはできない。
本発明は、このような状況下になされたものであり、凹凸構造を有する場合においても、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキを防止でき、かつ解像度の低下を防止できるタッチパネル、表示装置及び光学シートを提供することを目的とする。また、本発明は、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキを防止しつつ、解像度の低下を防止できる光学シートの選別方法及び製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは上記課題を解決すべく、ギラツキを防止する光学シートについて鋭意研究を行った。まず、ギラツキの原因は、映像光が表面凹凸を有する光学シートを透過する際、凹凸形状により透過光に歪みが生じることが原因であると考えられる。このため、従来はギラツキを防止するために、特許文献３〜９のように凹凸の傾斜角度を低くして平滑な面を増やす設計（凹凸の程度を弱める設計）が行われていた。
しかし、上述したように、凹凸の程度を弱める設計では、画素密度が低い表示素子のギラツキを防止できたとしても、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子のギラツキは防止できなかった。また、近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外でタッチパネル操作を行うため高度な防眩性が要求されるが、平滑な面の割合を増やしてギラツキを防止する設計では、このような高度な防眩性を到底満足できるものではなかった。
また、上述したように、内部へイズを付与したのみでは、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子のギラツキ及び解像度の低下を同時に防止できない。
本発明者らは鋭意研究した結果、ギラツキは、画素密度と凹凸形状とが相乗的に関連することにより、輝度等の局所的なムラが生じることにより発生すること、及び内部へイズは拡散によりギラツキを緩和して見えづらくする役割を有するとの知見を得た。そして、本発明者らは、解像度の低下を招く可能性のある内部へイズに頼ることなくギラツキを防止することについて鋭意研究した結果、表面凹凸の分布密度及び凹凸の傾斜角分布を間接的に表す後述する式（Ｉ）を特定の範囲とすることにより、内部ヘイズを必要以上に高くすることなく、超高精細の表示素子のギラツキ防止と、解像度の低下防止を両立できることを見出し、本発明を完成するに至った。
しかし、上述したように、凹凸の程度を弱める設計では、画素密度が低い表示素子のギラツキを防止できたとしても、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子のギラツキは防止できなかった。また、近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外でタッチパネル操作を行うため高度な防眩性が要求されるが、平滑な面の割合を増やしてギラツキを防止する設計では、このような高度な防眩性を到底満足できるものではなかった。
また、上述したように、内部へイズを付与したのみでは、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子のギラツキ及び解像度の低下を同時に防止できない。
本発明者らは鋭意研究した結果、ギラツキは、画素密度と凹凸形状とが相乗的に関連することにより、輝度等の局所的なムラが生じることにより発生すること、及び内部へイズは拡散によりギラツキを緩和して見えづらくする役割を有するとの知見を得た。そして、本発明者らは、解像度の低下を招く可能性のある内部へイズに頼ることなくギラツキを防止することについて鋭意研究した結果、表面凹凸の分布密度及び凹凸の傾斜角分布を間接的に表す後述する式（Ｉ）を特定の範囲とすることにより、内部ヘイズを必要以上に高くすることなく、超高精細の表示素子のギラツキ防止と、解像度の低下防止を両立できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下の［１］〜［１３］のタッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法を提供する。
［１］光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは一方の面に凹凸形状を有してなり、かつ前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
［２］前記光学シートにおいて、前記透過強度の測定を−２０度〜＋２０度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ20」とした際に、Ｐ15及びＰ20が下記式（II）の関係を満たす、上記［１］に記載のタッチパネル。
０．９９００≦Ｐ15／Ｐ20 （II）
［３］前記光学シートの内部へイズが５〜３０％である上記［１］又は［２］に記載のタッチパネル。
［４］前記光学シートの表面へイズが２０〜５０％である上記［１］〜［３］の何れかに記載のタッチパネル。
［５］前記光学シートの表面ヘイズと内部へイズとの比［表面ヘイズ／内部ヘイズ］が１．０〜５．０である上記［１］〜［４］の何れかに記載のタッチパネル。
［６］画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは、一方の面に凹凸形状を有してなり、かつ前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たす、表示装置。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
［１］光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは一方の面に凹凸形状を有してなり、かつ前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
［２］前記光学シートにおいて、前記透過強度の測定を−２０度〜＋２０度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ20」とした際に、Ｐ15及びＰ20が下記式（II）の関係を満たす、上記［１］に記載のタッチパネル。
０．９９００≦Ｐ15／Ｐ20 （II）
［３］前記光学シートの内部へイズが５〜３０％である上記［１］又は［２］に記載のタッチパネル。
［４］前記光学シートの表面へイズが２０〜５０％である上記［１］〜［３］の何れかに記載のタッチパネル。
［５］前記光学シートの表面ヘイズと内部へイズとの比［表面ヘイズ／内部ヘイズ］が１．０〜５．０である上記［１］〜［４］の何れかに記載のタッチパネル。
［６］画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは、一方の面に凹凸形状を有してなり、かつ前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たす、表示装置。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
［７］一方の面に凹凸形状を有する光学シートであって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シート。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
［８］前記光学シートにおいて、前記透過強度の測定を−２０度〜＋２０度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ20」とした際に、Ｐ15及びＰ20が下記式（II）の関係を満たす、上記［７］に記載の光学シート。
０．９８０≦Ｐ15／Ｐ20 （II）
［９］前記光学シートの内部へイズが５〜３０％である上記［７］又は［８］に記載の光学シート。
［１０］前記光学シートの表面へイズが２０〜５０％である上記［７］〜［９］の何れかに記載の光学シート。
［１１］前記光学シートの表面ヘイズと内部へイズとの比［表面ヘイズ／内部ヘイズ］が１．０〜５．０である上記［７］〜［１０］の何れかに記載の光学シート。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
［８］前記光学シートにおいて、前記透過強度の測定を−２０度〜＋２０度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ20」とした際に、Ｐ15及びＰ20が下記式（II）の関係を満たす、上記［７］に記載の光学シート。
０．９８０≦Ｐ15／Ｐ20 （II）
［９］前記光学シートの内部へイズが５〜３０％である上記［７］又は［８］に記載の光学シート。
［１０］前記光学シートの表面へイズが２０〜５０％である上記［７］〜［９］の何れかに記載の光学シート。
［１１］前記光学シートの表面ヘイズと内部へイズとの比［表面ヘイズ／内部ヘイズ］が１．０〜５．０である上記［７］〜［１０］の何れかに記載の光学シート。
［１２］一方の面に凹凸形状を有する光学シートの選別方法であって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすものを光学シートとして選別する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの選別方法。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０
［１３］一方の面に凹凸形状を有する光学シートの製造方法であって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすように製造する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの製造方法。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０
［１３］一方の面に凹凸形状を有する光学シートの製造方法であって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすように製造する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの製造方法。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
本発明のタッチパネル、表示装置及び光学シートは、防眩性等の諸特性を付与しつつ、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子のギラツキを防止でき、さらに超高精細の表示素子の解像度の低下を防止できる。特に、光学シートの凹凸面を視認者側に向けて用いた場合には、屋外の明るい環境下でも外光の反射を抑えることができ、高度な防眩性を付与できる。
また、本発明の光学シートの評価方法は、表示装置に光学シートを組み込まなくても、ギラツキを防止しつつ解像度の低下を防止できる性能を保証することができ、光学シートの品質管理を効率よくできる。また、本発明の光学シートの製造方法は、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度を低下させることなく、映像光のギラツキを防止できる光学シートを効率よく製造することができる。
また、本発明の光学シートの評価方法は、表示装置に光学シートを組み込まなくても、ギラツキを防止しつつ解像度の低下を防止できる性能を保証することができ、光学シートの品質管理を効率よくできる。また、本発明の光学シートの製造方法は、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度を低下させることなく、映像光のギラツキを防止できる光学シートを効率よく製造することができる。
以下、本発明の実施形態を説明する。
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは一方の面に凹凸形状を有してなり、かつ前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たし、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるものである。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは一方の面に凹凸形状を有してなり、かつ前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たし、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるものである。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。これらタッチパネルは、ガラス基材、プラスチックフィルム基材等の基材を有し、該基材上の表面には、防眩性、密着防止及び干渉縞防止等の諸特性を付与するための凹凸形状が形成される場合がある。本発明のタッチパネルは、このような表面に凹凸形状を有する基材として、後述する光学シートを用いてなるものである。
また、後述する光学シートは、屋外での明るい環境下においても良好な防眩性を付与することができ、その一方で、ギラツキ及び解像度の低下も防止できる。したがって、本発明のタッチパネルは、後述する光学シートの凹凸面が操作者側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、表示素子が超高精細であり、かつ屋外でタッチパネル操作を行うため、後述する光学シートの凹凸面が操作者側を向くようにして本発明のタッチパネルを構成することは極めて有用である。
また、後述する光学シートは、屋外での明るい環境下においても良好な防眩性を付与することができ、その一方で、ギラツキ及び解像度の低下も防止できる。したがって、本発明のタッチパネルは、後述する光学シートの凹凸面が操作者側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、表示素子が超高精細であり、かつ屋外でタッチパネル操作を行うため、後述する光学シートの凹凸面が操作者側を向くようにして本発明のタッチパネルを構成することは極めて有用である。
抵抗膜式タッチパネルは、図１に示すように、導電膜１２を有する上下一対の透明基板１１の導電膜１２同士が対向するようにスペーサー１３を介して配置されてなる構成を基本構成に、図示しない回路が接続されてなるものである。抵抗膜式タッチパネルの場合、上部透明基板及び／又は下部透明基板として、後述する光学シートを用いることが好ましい。なお、上部透明基板及び下部透明基板は、２以上の基材からなる多層構造として、そのうちの１つの基材として後述する光学シートを用いてもよい。
抵抗膜式タッチパネルにおける光学シートは、例えば、上部透明基板として後述する光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸面が下部透明基板と反対側を向くように使用すれば、抵抗膜式タッチパネルに高度な防眩性を付与できるとともに、超高精細の表示素子のギラツキを防止することができ、さらには超高精細の表示素子の解像度の低下を防止できる。また、この使い方の場合、タッチパネルの表面や導電膜等に生じた傷を見えづらくすることができ、歩留まりの向上に寄与できる点で好適である。
また、抵抗膜式タッチパネルの下部透明基板として後述する光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸面が上部透明基板側を向くようにすることにより、下部電極の表面の反射を抑制するとともに、超高精細の表示素子のギラツキを防止することができる。さらに、この使い方の場合、操作時に上下の導電膜同士が密着することを防止できるとともに、上下の導電膜が近接することにより干渉縞が生じることを防止できる。
なお、上部透明基板及び／又は下部透明基板として、後述する光学シートを凹凸面が上部電極とは反対側を向くように用いた場合、密着や干渉縞を防止できる点で好適である。
また、抵抗膜式タッチパネルの下部透明基板として後述する光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸面が上部透明基板側を向くようにすることにより、下部電極の表面の反射を抑制するとともに、超高精細の表示素子のギラツキを防止することができる。さらに、この使い方の場合、操作時に上下の導電膜同士が密着することを防止できるとともに、上下の導電膜が近接することにより干渉縞が生じることを防止できる。
なお、上部透明基板及び／又は下部透明基板として、後述する光学シートを凹凸面が上部電極とは反対側を向くように用いた場合、密着や干渉縞を防止できる点で好適である。
静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、１枚の透明基板上の別々の面にＸ電極及びＹ電極を形成する態様、透明基板上にＸ電極、絶縁体層、Ｙ電極をこの順で形成する態様、図２に示すように、透明基板２１上にＸ電極２２を形成し、別の透明基板２１上にＹ電極２３を形成し、接着剤層２４等を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。
静電容量式タッチパネルの場合、透明基板の少なくとも一以上に後述する光学シートを用いることが好ましい。なお、透明基板は、２以上の基材からなる多層構造として、そのうちの１つの基材として後述する光学シートを用いてもよい。
静電容量式タッチパネルの場合、透明基板の少なくとも一以上に後述する光学シートを用いることが好ましい。なお、透明基板は、２以上の基材からなる多層構造として、そのうちの１つの基材として後述する光学シートを用いてもよい。
静電容量式タッチパネルが、上述の基本態様上にさらに別の透明基板を有する構成の場合、該別の透明基板として後述する光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸面が前記基本態様側と反対側を向くようにして、該凹凸面を操作者側に向けた場合には、静電容量式タッチパネルに高度な防眩性を付与できるとともに、超高精細の表示素子のギラツキを防止することができ、さらには超高精細の表示素子の解像度の低下を防止できる。また、この使い方の場合、タッチパネルの表面及び導電膜等に生じた傷、並びに電極パターンの形状を見えづらくできる点で好適である。
また、静電容量式タッチパネルが、透明基板上にＸ電極を形成し、別の透明基板上にＹ電極を形成し、接着剤等を介して積層する構成の場合、少なくとも一方の透明基板として後述する光学シートを含むものを用い、かつ光学シートの凹凸面が前記基本態様側と反対側を向くようにして、該凹凸面を操作者側に向けた場合でも、上記と同様の効果を得ることができる。
なお、静電容量式タッチパネルの透明基板として、後述する光学シートを凹凸面が操作者とは反対側を向くように用いた場合、密着や干渉縞を防止できる点で好適である。
また、静電容量式タッチパネルが、透明基板上にＸ電極を形成し、別の透明基板上にＹ電極を形成し、接着剤等を介して積層する構成の場合、少なくとも一方の透明基板として後述する光学シートを含むものを用い、かつ光学シートの凹凸面が前記基本態様側と反対側を向くようにして、該凹凸面を操作者側に向けた場合でも、上記と同様の効果を得ることができる。
なお、静電容量式タッチパネルの透明基板として、後述する光学シートを凹凸面が操作者とは反対側を向くように用いた場合、密着や干渉縞を防止できる点で好適である。
（光学シート）
本発明のタッチパネルに用いる光学シートは、方の面に凹凸形状を有する光学シートであって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすものである。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
本発明のタッチパネルに用いる光学シートは、方の面に凹凸形状を有する光学シートであって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすものである。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
本発明のタッチパネルに用いる光学シートは、式（Ｉ）の関係を満たすことにより、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキを防止でき、かつ解像度の低下を防止できる。以下、この理由を説明する。
まず、ギラツキの原因は、映像光が表面凹凸を有する光学シートを透過する際、凹凸形状により透過光に歪みが生じることが原因であると考えられる。このため、従来はギラツキを防止するために、特許文献３〜９のように傾斜角度を低くして凹凸の程度を弱める設計、若しくは特許文献１及び２のように内部へイズを付与してギラツキ感を低減する設計が行われていた。
しかし、凹凸の程度を弱める設計や内部へイズを付与するのみでは、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキを防止できなかった。
本発明者らは鋭意研究した結果、従来のように傾斜角度を低くして凹凸の程度を弱めた場合、凹凸ではない略平滑な箇所の割合が増え、該略平滑な箇所と凹凸面との境界（言い換えると、急激な角度変化を生じる箇所）がギラツキの一因であることを見出した。また、表面形状に関するＪＩＳ規格（ＪＩＳ Ｂ０６０１）は接触式の表面形状測定器を用いることを定めているが、触針の形状と表面形状との関係から、測定結果が表面形状を正確に反映できない場合がある。
しかし、凹凸の程度を弱める設計や内部へイズを付与するのみでは、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキを防止できなかった。
本発明者らは鋭意研究した結果、従来のように傾斜角度を低くして凹凸の程度を弱めた場合、凹凸ではない略平滑な箇所の割合が増え、該略平滑な箇所と凹凸面との境界（言い換えると、急激な角度変化を生じる箇所）がギラツキの一因であることを見出した。また、表面形状に関するＪＩＳ規格（ＪＩＳ Ｂ０６０１）は接触式の表面形状測定器を用いることを定めているが、触針の形状と表面形状との関係から、測定結果が表面形状を正確に反映できない場合がある。
そこで、本発明者らは、表面凹凸の分布密度及び凹凸の傾斜角分布を間接的に表す式（Ｉ）に着目し、式（Ｉ）を特定の範囲として凹凸形状を間接的に規定することにより、超高精細の表示素子のギラツキを防止しつつ、解像度の低下を防止することを可能とした。
式（Ｉ）中のＱは、拡散要素（内部拡散要素及び表面拡散要素の合計）に実質的に衝突しない光の強度を示す。また、式（Ｉ）中のＰ15は、拡散要素に衝突する光の強度と、衝突しない光の強度との和を示す。したがって、Ｐ15からＱを減じたファクターを分子に有する式（Ｉ）は、拡散要素に衝突する光の強度割合に近似するパラメータである言える。
また、図３〜８は、それぞれ異なる光学シートの透過強度分布を示す図である。図３〜８から、透過光の強度は０度が最も強く、また、０度に近いほど拡散透過強度の減少割合が大きいことが分かる。また、０度の透過光の強度が最も高い図７と、図３〜６及び８をと対比すると、０度の透過光の強度の低下度合いに比べて、拡散した透過光の強度がそれほど上昇していないことが分かる。これは、透過光の強度測定を一方向のみで行っており、強度を立体的に測定していないためである。図３〜８の強度分布図の回転体の体積は、透過光の強度を立体的に捉えたものとなるため、全ての体積が略同一となる。このことから、Ｐ15の大きさは拡散の裾に影響を受けることが分かる。したがって、Ｐ15を分母に有する式（Ｉ）は、拡散の裾を示すパラメータであると言える。
以上のように、式（Ｉ）は、拡散要素に衝突する光の強度割合を示すとともに、拡散の裾を示すパラメータであると言える。また、内部拡散要素と表面拡散要素とを比べた場合、光の強度に与える影響は表面拡散要素の方がはるかに大きく、拡散の裾には凹凸の傾斜角が大きな影響を与える。したがって、式（Ｉ）は、表面凹凸の分布密度及び凹凸の傾斜角分布凹凸の傾斜角の分布を表すのに適したパラメータといえる。
式（Ｉ）中のＱは、拡散要素（内部拡散要素及び表面拡散要素の合計）に実質的に衝突しない光の強度を示す。また、式（Ｉ）中のＰ15は、拡散要素に衝突する光の強度と、衝突しない光の強度との和を示す。したがって、Ｐ15からＱを減じたファクターを分子に有する式（Ｉ）は、拡散要素に衝突する光の強度割合に近似するパラメータである言える。
また、図３〜８は、それぞれ異なる光学シートの透過強度分布を示す図である。図３〜８から、透過光の強度は０度が最も強く、また、０度に近いほど拡散透過強度の減少割合が大きいことが分かる。また、０度の透過光の強度が最も高い図７と、図３〜６及び８をと対比すると、０度の透過光の強度の低下度合いに比べて、拡散した透過光の強度がそれほど上昇していないことが分かる。これは、透過光の強度測定を一方向のみで行っており、強度を立体的に測定していないためである。図３〜８の強度分布図の回転体の体積は、透過光の強度を立体的に捉えたものとなるため、全ての体積が略同一となる。このことから、Ｐ15の大きさは拡散の裾に影響を受けることが分かる。したがって、Ｐ15を分母に有する式（Ｉ）は、拡散の裾を示すパラメータであると言える。
以上のように、式（Ｉ）は、拡散要素に衝突する光の強度割合を示すとともに、拡散の裾を示すパラメータであると言える。また、内部拡散要素と表面拡散要素とを比べた場合、光の強度に与える影響は表面拡散要素の方がはるかに大きく、拡散の裾には凹凸の傾斜角が大きな影響を与える。したがって、式（Ｉ）は、表面凹凸の分布密度及び凹凸の傾斜角分布凹凸の傾斜角の分布を表すのに適したパラメータといえる。
本発明のタッチパネルで用いる光学シートは、式（Ｉ）の値を０．６５０以上としている。このため、該光学シートは、拡散要素のうち表面拡散要素が多いこと、言い換えると、凹凸面は平滑に近い面が少なく、ほぼ全面が凹凸形状であることを示している。つまり、該光学シートは、平滑な箇所が多い特許文献３〜９の光学シートの設計とは全く異なるものである。また、式（Ｉ）の値が０．６５０以上であることは、光学シートの表面凹凸中に傾斜角の大きい凹凸が存在することを表している。つまり、式（Ｉ）の値が０．６５０以上であることは、光学シートの表面凹凸には、傾斜角の小さい傾斜と傾斜角の大きい傾斜とが混在し、様々な傾斜角を有することを示している。
さらに、該光学シートは、式（Ｉ）の値が０．８５０以下であることから、拡散の裾が大き過ぎないこと、言い換えると、傾斜角の大きい傾斜を過度に有さないことを示している。
さらに、該光学シートは、式（Ｉ）の値が０．８５０以下であることから、拡散の裾が大き過ぎないこと、言い換えると、傾斜角の大きい傾斜を過度に有さないことを示している。
本発明のタッチパネルで用いる光学シートは、平滑に近い面が少なく全面が凹凸形状であることから、光学シートの表面に凹凸箇所と略平滑な箇所との境界が少なくなり、ギラツキを防止しやすくできると考えられる。さらに、該光学シートは、小さすぎずかつ大きすぎない傾斜角を適度な量で有し、凹凸内に様々な傾斜角を有することから、ギラツキをより防止しやすくできる。（正確には、本発明でも多少のギラツキは生じていると考えられる。しかし、本発明では、光学シートの表面に凹凸箇所と略平滑な箇所との境界を少なくすることや、様々な傾斜角を存在させることにより、ギラツキを平均化して目立たなくしていると考えられる。）
また、該光学シートは、凹凸面に平滑に近い面が少ないことから、正反射方向の反射を抑制し、屋外の明るい環境にも耐え得るような高度な防眩性を付与できる。
また、該光学シートは、凹凸面に平滑に近い面が少ないことから、正反射方向の反射を抑制し、屋外の明るい環境にも耐え得るような高度な防眩性を付与できる。
以上のように、本発明では、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15が０．６５０以上０．８５０以下の光学シートを用いることにより、防眩性等の諸特性を付与しつつ、超高精細の表示素子のギラツキ及び解像度の低下を防止できる。
（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15が０．８５０超の場合、傾斜角が大きい凹凸が多くなり解像度が低下してしまう。また、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15が０．８５０超の場合、光学シートの白化を招き、また、光学シートを防眩性シートとして用いた場合に、コントラストが低下してしまう。
（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15が０．６５０未満の場合はギラツキを防止できない場合がある。また（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15が０．６５０未満の場合は、拡散要素を有する箇所の割合が減り、屋外の明るい環境にも耐え得るような高度な防眩性を付与しにくくなる。
（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15は０．６７０以上であることが好ましく、０．７００以上であることがより好ましく、０．７２０以上であることがさらに好ましい。また、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15は０．８３０以下であることが好ましく、０．８２０以下であることがより好ましく、０．８００以下であることがさらに好ましい。
（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15が０．８５０超の場合、傾斜角が大きい凹凸が多くなり解像度が低下してしまう。また、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15が０．８５０超の場合、光学シートの白化を招き、また、光学シートを防眩性シートとして用いた場合に、コントラストが低下してしまう。
（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15が０．６５０未満の場合はギラツキを防止できない場合がある。また（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15が０．６５０未満の場合は、拡散要素を有する箇所の割合が減り、屋外の明るい環境にも耐え得るような高度な防眩性を付与しにくくなる。
（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15は０．６７０以上であることが好ましく、０．７００以上であることがより好ましく、０．７２０以上であることがさらに好ましい。また、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15は０．８３０以下であることが好ましく、０．８２０以下であることがより好ましく、０．８００以下であることがさらに好ましい。
（透過光の強度の測定方法）
光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から光学シートに垂直に可視光線（平行光線）を照射する。凹凸形状を有する面とは反対側の面は略平滑であることが好ましい。凹凸形状を有する面とは反対側の面が略平滑でない場合、粘着層テープを介して表面が略平滑な基材を貼り合わせ、略平滑化した面方向から光学シートに垂直に可視光線を入射して、強度を測定する。なお、略平滑面とは、Ｒａが０．０２μｍ以下であることを意味する。そして、透過した光について、凹凸形状を有する面側から一定の角度範囲で１度ごとに受光器を走査して、各角度での強度（光度）を測定する。測定範囲は、前記垂直方向を０度（正透過方向）として、±１５度の範囲の測定を行えばよい。強度測定の際は光源の明るさを一定とする。また、強度（光度）測定の際は、受光器の絞りにより検出する受光器の開口角を１度とする。このため、例えば、０度（正透過方向）の測定では±０．５度の範囲を測定し、１度の測定では０．５〜１．５度の範囲を測定し、−１度の測定では−０．５〜−１．５度の範囲を測定することになる。強度を測定する装置については、特に制限はなく、汎用の変角光度計（ゴニオフォトメーター）を用いることができる。本発明においては、変角光度計として、日本電色工業社製の商品名ＧＣ５０００Ｌ（光束径：約３ｍｍ、光束内傾斜角：０．８度以内、受光器の開口角：１度）を使用した。
図３〜８は、実施例１及び２、並びに比較例１〜４の光学シートの透過光の強度分布を示す図である。なお、図３〜８の強度分布図は、１度ごとの強度の値の直線補間による近似曲線である。
光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から光学シートに垂直に可視光線（平行光線）を照射する。凹凸形状を有する面とは反対側の面は略平滑であることが好ましい。凹凸形状を有する面とは反対側の面が略平滑でない場合、粘着層テープを介して表面が略平滑な基材を貼り合わせ、略平滑化した面方向から光学シートに垂直に可視光線を入射して、強度を測定する。なお、略平滑面とは、Ｒａが０．０２μｍ以下であることを意味する。そして、透過した光について、凹凸形状を有する面側から一定の角度範囲で１度ごとに受光器を走査して、各角度での強度（光度）を測定する。測定範囲は、前記垂直方向を０度（正透過方向）として、±１５度の範囲の測定を行えばよい。強度測定の際は光源の明るさを一定とする。また、強度（光度）測定の際は、受光器の絞りにより検出する受光器の開口角を１度とする。このため、例えば、０度（正透過方向）の測定では±０．５度の範囲を測定し、１度の測定では０．５〜１．５度の範囲を測定し、−１度の測定では−０．５〜−１．５度の範囲を測定することになる。強度を測定する装置については、特に制限はなく、汎用の変角光度計（ゴニオフォトメーター）を用いることができる。本発明においては、変角光度計として、日本電色工業社製の商品名ＧＣ５０００Ｌ（光束径：約３ｍｍ、光束内傾斜角：０．８度以内、受光器の開口角：１度）を使用した。
図３〜８は、実施例１及び２、並びに比較例１〜４の光学シートの透過光の強度分布を示す図である。なお、図３〜８の強度分布図は、１度ごとの強度の値の直線補間による近似曲線である。
光学シートは、透過強度の測定を−２０度〜＋２０度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ20」とした際に、Ｐ15及びＰ20が下記式（II）の関係を満たすことが好ましい。
０．９９００≦Ｐ15／Ｐ20 （II）
Ｐ15／Ｐ20が０．９９００以上であることは、±１５度を超える透過光の強度が極めて弱く、拡散の裾が広がりすぎないことを意味する。言い換えると、Ｐ15／Ｐ20が０．９９００以上であることは、±１５度を超える透過光の起因となるような傾斜角が大きい凹凸が少ないことを示す。したがって、式（Ｉ）を満たしつつ、Ｐ15／Ｐ20が０．９９００以上を満たすことにより、解像度の低下、白化の発生をより一層防止でき、また、光学シートを防眩性シートとして用いた場合に、コントラストが低下することをより防止できる。Ｐ15／Ｐ20は０．９９５０以上であることがより好ましい。
０．９９００≦Ｐ15／Ｐ20 （II）
Ｐ15／Ｐ20が０．９９００以上であることは、±１５度を超える透過光の強度が極めて弱く、拡散の裾が広がりすぎないことを意味する。言い換えると、Ｐ15／Ｐ20が０．９９００以上であることは、±１５度を超える透過光の起因となるような傾斜角が大きい凹凸が少ないことを示す。したがって、式（Ｉ）を満たしつつ、Ｐ15／Ｐ20が０．９９００以上を満たすことにより、解像度の低下、白化の発生をより一層防止でき、また、光学シートを防眩性シートとして用いた場合に、コントラストが低下することをより防止できる。Ｐ15／Ｐ20は０．９９５０以上であることがより好ましい。
光学シートは、全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７）が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
光学シートは、ヘイズ（ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００）が２５〜６０％であることが好ましく、３０〜６０％であることがより好ましく、３０〜５０％であることがさらに好ましい。ヘイズを２５％以上とすることにより、防眩性を付与するとともに、電極の形状や傷を見えづらくすることができる。また、ヘイズを６０％以下とすることにより、超高精細の表示素子の解像度の低下を防止するとともに、コントラストの低下を防止しやすくできる。
また、ヘイズを表面ヘイズ（Ｈｓ）と内部ヘイズ（Ｈｉ）とに分けた場合、表面へイズは２０〜５０％であることが好ましく、２０〜４５％であることがより好ましく、２５〜４０％であることがさらに好ましい。表面ヘイズを２０％以上とすることにより、屋外等の明るい使用環境においても防眩性を良好にするとともに、電極の形状や傷を見えづらくすることができ、５０％以下とすることにより、コントラストの低下や解像度の低下を防止しやすくできる。
また、内部へイズは、５〜３０％であることが好ましく、５〜２５％であることがより好ましく、１０〜１８％であることがさらに好ましい。内部ヘイズを５％以上とすることにより、表面凹凸との相乗作用によりギラツキを防止しやすくでき、３０％以下とすることにより、超高精細の表示素子の解像度の低下を防止できる。
また、表面ヘイズと内部へイズとの比（Ｈｓ／Ｈｉ）は、上述した表面ヘイズと内部へイズの効果のバランスの観点から、１．０〜５．０であることが好ましく、２．０〜５．０であることがより好ましく、２．５〜４．５であることがさらに好ましい。
表面ヘイズ及び内部へイズは、例えば、実施例に記載の方法で求めることができる。
光学シートは、ヘイズ（ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００）が２５〜６０％であることが好ましく、３０〜６０％であることがより好ましく、３０〜５０％であることがさらに好ましい。ヘイズを２５％以上とすることにより、防眩性を付与するとともに、電極の形状や傷を見えづらくすることができる。また、ヘイズを６０％以下とすることにより、超高精細の表示素子の解像度の低下を防止するとともに、コントラストの低下を防止しやすくできる。
また、ヘイズを表面ヘイズ（Ｈｓ）と内部ヘイズ（Ｈｉ）とに分けた場合、表面へイズは２０〜５０％であることが好ましく、２０〜４５％であることがより好ましく、２５〜４０％であることがさらに好ましい。表面ヘイズを２０％以上とすることにより、屋外等の明るい使用環境においても防眩性を良好にするとともに、電極の形状や傷を見えづらくすることができ、５０％以下とすることにより、コントラストの低下や解像度の低下を防止しやすくできる。
また、内部へイズは、５〜３０％であることが好ましく、５〜２５％であることがより好ましく、１０〜１８％であることがさらに好ましい。内部ヘイズを５％以上とすることにより、表面凹凸との相乗作用によりギラツキを防止しやすくでき、３０％以下とすることにより、超高精細の表示素子の解像度の低下を防止できる。
また、表面ヘイズと内部へイズとの比（Ｈｓ／Ｈｉ）は、上述した表面ヘイズと内部へイズの効果のバランスの観点から、１．０〜５．０であることが好ましく、２．０〜５．０であることがより好ましく、２．５〜４．５であることがさらに好ましい。
表面ヘイズ及び内部へイズは、例えば、実施例に記載の方法で求めることができる。
光学シートは、解像度の観点、及び電極の形状や傷を見えづらくする観点から、ＪＩＳ Ｋ７１０５：１９８１に定める像鮮明度測定装置を用いて、２ｍｍ、１ｍｍ、０．５ｍｍ及び０．１２５ｍｍの巾をもつ光学くしを通した４種類の透過像鮮明度の和が１００％以下であることが好ましく、２０％を超えて８０％以下であることがより好ましい。
光学シートの凹凸形状の算術平均粗さＲａは０．２０〜０．７０μｍであることが好ましく、０．２５〜０．５０μｍであることがより好ましい。Ｒａを０．２０μｍ以上とすることにより、ギラツキを防止しやすくできるとともに、防眩性、密着防止性及び干渉縞防止性を良好にしやすくでき、さらに電極の形状や傷を見えづらくすることができる。また、Ｒａを０．７０μｍ以下とすることにより、解像度及びコントラストの低下を防止しやすくできる。なお、Ｒａ、及び後述のＲｚ、Ｓｍｐは、カットオフ値０．８ｍｍとした値である。
なお、本発明においてＲａはＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に記載されている２次元粗さパラメータであるＲａを３次元に拡張したものであり、基準面に直交座標軸Ｘ、Ｙ軸を置き、粗さ曲面をＺ（ｘ，ｙ）、基準面の大きさをＬｘ、Ｌｙとすると下記式（１）で算出される。
Ａ＝Ｌｘ×Ｌｙ
また、上述のＺi,jを用いると下記式（２）で算出される。
Ｎ：全点数
また、上述のＺi,jを用いると下記式（２）で算出される。
光学シートの凹凸形状の十点平均粗さＲｚは１．００〜３．５０μｍであることが好ましく、１．２０〜３．００μｍであることがより好ましい。Ｒｚを１．００μｍ以上とすることにより、ギラツキを防止しやすくできるとともに、防眩性、密着防止性及び干渉縞防止性を良好にしやすくでき、さらに電極の形状や傷を見えづらくすることができる。また、Ｒｚを３．５０μｍ以下とすることにより、極端に標高の高い凸部がなくなるため、解像度及びコントラストの低下を防止しやすくできる。
また、上述したＲａ及びＲｚの効果をより得やすくする観点から、ＲｚとＲａとの比［Ｒｚ／Ｒａ］は、６．０以下であることが好ましく、４．０〜６．０であることがより好ましく、４．５〜５．７であることがさらに好ましい。
また、上述したＲａ及びＲｚの効果をより得やすくする観点から、ＲｚとＲａとの比［Ｒｚ／Ｒａ］は、６．０以下であることが好ましく、４．０〜６．０であることがより好ましく、４．５〜５．７であることがさらに好ましい。
なお、本発明においてＲｚはＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に記載されている２次元粗さパラメータであるＲｚを３次元に拡張したものである。基準面上に基準面の中心を通る直線を、全域を網羅するように３６０度放射状に多数置き、３次元粗さ曲面から各直線に基づいて切断した断面曲線を得て、該断面曲線における十点平均粗さ（最高の山頂から高い順に５番目までの山高さの平均と最深の谷底から深い順に５番目までの谷深さの平均との和）を求める。そのようにして得られた多数の十点平均粗さのうち、上位５０％を平均することにより算出される。
光学シートの凹凸形状の凹凸の平均間隔Ｓｍｐは２５〜１００μｍであることが好ましく、３０〜８０μｍであることがより好ましく、３０〜７０μｍであることがさらに好ましい。Ｓｍｐを前記範囲とすることにより、緩すぎずかつ急すぎない凹凸形状とすることができ、ギラツキを防止しやすくできるとともに、防眩性、密着防止、干渉縞防止、電極形状及び傷の不可視化、解像度の低下防止、白化防止等の諸性能を発揮しやすくできる。
Ｓｍｐは次のように求める。３次元粗さ曲面から基準面より高い部分で一つの領域で囲まれた部分を一つの山としたきの山の個数をＰｓとし、測定領域全体（基準面）の面積をＡとすると、Ｓｍｐは下記式（３）で算出される。
上記Ｒａ、ＲｚおよびＳｍｐは上述の干渉顕微鏡「Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ」シリーズに付属の測定・解析アプリケーションソフト「ＭｅｔｒｏＰｒｏ」により算出することができる。
光学シートの凹凸形状の三次元平均傾斜角（θａ3D）は、３．０〜９．０度であることが好ましく、４．０〜８．０度であることがより好ましく、４．５〜７．０度であることがさらに好ましい。θａ3Dを３．０度以上とすることにより、防眩性等の諸特性を付与しやすくすることができる。また、θａ3Dを９．０度以下とすることにより、白化、解像度の低下、及びコントラストの低下を防止しやすくすることができる。三次元平均傾斜角（θａ3D）は実施例に記載の方法で算出できる。
上述の光学シートは、一方の面に凹凸形状を有するものであって、光透過性を有するものであれば、特に制限することなく使用できる。
また、光学シートは、凹凸層の単層であってもよいし、透明基材上に凹凸層を有する複層であってもよい。取り扱い性及び製造の容易性からは、透明基材上に凹凸層を有する構成が好適である。
また、光学シートは、凹凸形状の上及び／又は凹凸形状と反対側の面上に、反射防止層、防汚層、帯電防止層等の機能性層を有していてもよい。また、透明基材上に凹凸層を有する構成の場合、前記箇所のほかに、透明基材と凹凸層との間に機能性層を有していてもよい。
光学シートの凹凸形状を有する側と反対側の面は、略平滑であることが好ましい。例えば、光学シートが凹凸層の単層の場合、凹凸面とは反対側の面は略平滑であることが好ましい。また、光学シートが透明基材上に凹凸層を有する構成の場合、透明基材の凹凸層を有する面とは反対側の面は略平滑であることが好ましい。また、光学シートが、凹凸形状と反対側の面上に機能性層を有する場合、機能性層の表面は略平滑であることが好ましい。 ここで、略平滑とは、Ｒａが０．０２μｍ以下であることをいう。
なお、光学シートの凹凸形状を有する側と反対側の面のＲａが０．０２μｍを超える場合、該反対側の面を略平滑化して透過強度及び内部へイズを測定するものとする。該反対側の面を略平滑化するには、実施例の内部へイズの測定法のように、該反対側の面に粘着層テープを介して、表面が略平滑な透明プラスチックフィルムを貼り合わせればよい。
また、光学シートは、凹凸層の単層であってもよいし、透明基材上に凹凸層を有する複層であってもよい。取り扱い性及び製造の容易性からは、透明基材上に凹凸層を有する構成が好適である。
また、光学シートは、凹凸形状の上及び／又は凹凸形状と反対側の面上に、反射防止層、防汚層、帯電防止層等の機能性層を有していてもよい。また、透明基材上に凹凸層を有する構成の場合、前記箇所のほかに、透明基材と凹凸層との間に機能性層を有していてもよい。
光学シートの凹凸形状を有する側と反対側の面は、略平滑であることが好ましい。例えば、光学シートが凹凸層の単層の場合、凹凸面とは反対側の面は略平滑であることが好ましい。また、光学シートが透明基材上に凹凸層を有する構成の場合、透明基材の凹凸層を有する面とは反対側の面は略平滑であることが好ましい。また、光学シートが、凹凸形状と反対側の面上に機能性層を有する場合、機能性層の表面は略平滑であることが好ましい。 ここで、略平滑とは、Ｒａが０．０２μｍ以下であることをいう。
なお、光学シートの凹凸形状を有する側と反対側の面のＲａが０．０２μｍを超える場合、該反対側の面を略平滑化して透過強度及び内部へイズを測定するものとする。該反対側の面を略平滑化するには、実施例の内部へイズの測定法のように、該反対側の面に粘着層テープを介して、表面が略平滑な透明プラスチックフィルムを貼り合わせればよい。
光学シートの内部へイズを５〜３０％にするためには、内部拡散要素を調整すればよい。具体的には、凹凸層をバインダー樹脂及び透光性粒子から形成し、バインダー樹脂の屈折率の制御、透光性粒子の形状、分散状態、粒子径、添加量及び屈折率等の制御により、内部拡散要素を調整できる。また、バインダー樹脂に添加し得る透光性粒子以外の添加剤の濃度等も内部拡散要素に影響を与える。
光学シートの（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を０．６５０以上０．８５０以下とするためには、凹凸層の拡散要素の割合を増やし、素抜ける光の割合を減らすことが好ましい。そのためには、凹凸層に平滑に近い箇所を極力なくし、凹凸層の略全体が斜面となるような形状とすることが好ましい。
さらに、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を０．６５０以上０．８５０以下とするためには、光学シートの凹凸面を単に全面が緩やかな傾斜にするのではなく、傾斜角の大きい傾斜を含んだ様々な傾斜角を混在させることが好ましい。
さらに、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を０．６５０以上０．８５０以下とするためには、光学シートの凹凸面を単に全面が緩やかな傾斜にするのではなく、傾斜角の大きい傾斜を含んだ様々な傾斜角を混在させることが好ましい。
凹凸の形成方法としては、例えば、１）エンボスロールを用いた方法、２）エッチング処理、３）型による成型、４）コーティングによる塗膜の形成等が挙げられる。これら方法の中では、凹凸形状の再現性の観点からは３）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応の観点からは４）のコーティングによる塗膜の形成が好適である。
型による成型は、凹凸面と相補的な形状からなる型を作製し、当該型に高分子樹脂やガラス等の凹凸層を構成する材料を流し込んで硬化させた後、型から取り出すことにより製造することができる。透明基材を使用する場合には、型に高分子樹脂等を流し込み、その上に透明基材を重ね合わせた後、高分子樹脂等を硬化させ、透明基材ごと型から取り出すことにより製造することができる。なお、透光性粒子や、添加剤等で内部拡散を付与する場合には、型に高分子樹脂等を流し込む際に、さらに透光性粒子や添加剤等も流し込めばよい。
コーティングによる塗膜の形成は、樹脂成分及び透光性粒子を含有してなる凹凸層形成塗布液を、グラビアコーティング、バーコーティング等の公知の塗布方法により透明基材上に塗布し、必要に応じて乾燥、硬化することにより形成することができる。（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくするためには、凹凸層形成塗布液中に、無機超微粒子を含有させることが好ましい。
図９は、バインダー樹脂、透光性粒子及び無機超微粒子を含有してなる凹凸層形成塗布液をコーティングして形成してなる、実施例１の光学シートの凹凸層の断面を示す走査型透過電子顕微鏡写真（ＳＴＥＭ）である。
通常、透光性粒子の存在しない箇所は凹凸層の表面が略平滑となるが、図９の凹凸層は透光性粒子の存在しない箇所も緩やかな傾斜を有している。この原因は、無機超微粒子により、塗布液のチキソトロピー性及び溶媒の乾燥特性が影響を受け、通常のようなレベリングが生じていないためと考えられる。このように、透光性粒子の存在しない箇所にも緩やかな傾斜が形成されることにより、凹凸層に略平滑な箇所を極力なくし、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくなると考えられる。
図９は、バインダー樹脂、透光性粒子及び無機超微粒子を含有してなる凹凸層形成塗布液をコーティングして形成してなる、実施例１の光学シートの凹凸層の断面を示す走査型透過電子顕微鏡写真（ＳＴＥＭ）である。
通常、透光性粒子の存在しない箇所は凹凸層の表面が略平滑となるが、図９の凹凸層は透光性粒子の存在しない箇所も緩やかな傾斜を有している。この原因は、無機超微粒子により、塗布液のチキソトロピー性及び溶媒の乾燥特性が影響を受け、通常のようなレベリングが生じていないためと考えられる。このように、透光性粒子の存在しない箇所にも緩やかな傾斜が形成されることにより、凹凸層に略平滑な箇所を極力なくし、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくなると考えられる。
また、図９の凹凸層は、以下（１）〜（３）の理由、及び上述のように凹凸層に略平滑な箇所を極力少なくすることにより、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を上述した範囲にしやすくできると考えられる。
（１）透光性粒子が存在する箇所の若干急な傾斜と、透光性粒子の存在しない箇所の緩やかな傾斜とが混在し、傾斜がランダムな凹凸形状となっている。
（２）通常は、凹凸層の表面付近に存在する透光性粒子の凹凸層の周辺の形状は、透光性粒子の形状に沿った凸部形状になるが、図９の凹凸層では透光性粒子の形状に沿った形状となっていない。このように、凹凸層の表面付近に存在する透光性粒子の形状が凹凸層の表面形状に十分に反映されないことにより、急峻な凹凸も少ない形状となっている。
（３）図９の凹凸層では、透光性粒子は分散と凝集の両者が存在している。この原因は、無機超微粒子が、塗布液のチキソトロピー性や透光性粒子同士の親和性に影響を及ぼしているためと考えられる。このように、分散と凝集の両者が存在することにより、凹凸形状のバリエーションが多くランダムな表面形状となっている。
（１）透光性粒子が存在する箇所の若干急な傾斜と、透光性粒子の存在しない箇所の緩やかな傾斜とが混在し、傾斜がランダムな凹凸形状となっている。
（２）通常は、凹凸層の表面付近に存在する透光性粒子の凹凸層の周辺の形状は、透光性粒子の形状に沿った凸部形状になるが、図９の凹凸層では透光性粒子の形状に沿った形状となっていない。このように、凹凸層の表面付近に存在する透光性粒子の形状が凹凸層の表面形状に十分に反映されないことにより、急峻な凹凸も少ない形状となっている。
（３）図９の凹凸層では、透光性粒子は分散と凝集の両者が存在している。この原因は、無機超微粒子が、塗布液のチキソトロピー性や透光性粒子同士の親和性に影響を及ぼしているためと考えられる。このように、分散と凝集の両者が存在することにより、凹凸形状のバリエーションが多くランダムな表面形状となっている。
透光性粒子は、透光性有機粒子及び透光性無機粒子の何れも用いることができる。また、透光性粒子は、球形、円盤状、ラグビーボール状、不定形等の形状が挙げられ、また、これら形状の中空粒子、多孔質粒子及び中実粒子等が挙げられる。これらの中でも、ギラツキ防止の観点からは、球形の中実粒子が好適である。
透光性有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。
透光性無機粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。
上述の透光性粒子の中でも、分散制御の容易さの観点から透光性有機粒子が好適であり、その中でも、ポリアクリル−スチレン共重合体粒子が好適である。ポリアクリル−スチレン共重合体粒子は、屈折率及び親疎水の程度の制御が容易であることから、内部ヘイズ、及び凝集／分散の制御がしやすい点で良好である。また、内部へイズを本発明の範囲とする観点からは、透光性粒子とバインダー樹脂との屈折率差は０．０１〜０．１０であることが好ましい。
透光性有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。
透光性無機粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。
上述の透光性粒子の中でも、分散制御の容易さの観点から透光性有機粒子が好適であり、その中でも、ポリアクリル−スチレン共重合体粒子が好適である。ポリアクリル−スチレン共重合体粒子は、屈折率及び親疎水の程度の制御が容易であることから、内部ヘイズ、及び凝集／分散の制御がしやすい点で良好である。また、内部へイズを本発明の範囲とする観点からは、透光性粒子とバインダー樹脂との屈折率差は０．０１〜０．１０であることが好ましい。
透光性粒子は、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくする観点から、平均粒子径が２〜１０μｍであることが好ましく、３〜８μｍであることがより好ましい。なお、透光性粒子の平均粒子径は、コールターカウンター法により算出できる。
また、透光性粒子の平均粒子径と凹凸層の厚みとの比（透光性粒子の平均粒子径／凹凸層の厚み）は、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくする観点から、０．５〜１．０であることが好ましく、０．６〜０．９であることがより好ましい。
また、透光性粒子の平均粒子径と凹凸層の厚みとの比（透光性粒子の平均粒子径／凹凸層の厚み）は、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくする観点から、０．５〜１．０であることが好ましく、０．６〜０．９であることがより好ましい。
透光性粒子の含有量は、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくする観点、及び内部へイズを上述の範囲とする観点から、凹凸層を形成する全固形分中の２〜２５質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。
無機超微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる超微粒子が挙げられる。これらの中でも透明性の観点からシリカ超微粒子が好適である。
無機超微粒子は、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくする観点から、平均粒子径が１〜２５ｎｍであることが好ましく、５〜２０ｎｍであることがより好ましい。なお、無機超微粒子の平均粒子径は、ＢＥＴ窒素吸着法による比表面積測定値(ＪＩＳ Ｚ８８３０に準じる)から換算することにより算出できる。
無機超微粒子は、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくする観点から、平均粒子径が１〜２５ｎｍであることが好ましく、５〜２０ｎｍであることがより好ましい。なお、無機超微粒子の平均粒子径は、ＢＥＴ窒素吸着法による比表面積測定値(ＪＩＳ Ｚ８８３０に準じる)から換算することにより算出できる。
無機超微粒子は、表面処理により反応性基が導入された反応性無機超微粒子が好ましい。反応性基を導入することにより、凹凸層中に多量の無機超微粒子を含有させることが可能となり、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくできる。
反応性基としては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基等のエチレン性不飽和結合並びにエポキシ基等が挙げられる。
このような反応性無機超微粒子は、シランカップリング剤で表面処理した無機超微粒子を挙げることができる。無機超微粒子の表面をシランカップリング剤で処理するには、無機超微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、無機超微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。
反応性基としては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基等のエチレン性不飽和結合並びにエポキシ基等が挙げられる。
このような反応性無機超微粒子は、シランカップリング剤で表面処理した無機超微粒子を挙げることができる。無機超微粒子の表面をシランカップリング剤で処理するには、無機超微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、無機超微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。
無機超微粒子の含有量は、凹凸層を形成する全固形分中の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜７０質量％であることがより好ましく、３５〜５０質量％であることがさらに好ましい。当該範囲とすることにより、レベリング性の制御、及び凹凸層の重合収縮の抑制により、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくできる。
また、凹凸層中における透光性粒子及び無機超微粒子の含有量の比（透光性粒子の含有量／無機超微粒子の含有量）は、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくする観点から、０．１〜０．４であることが好ましく、０．２〜０．３であることがより好ましい。
また、凹凸層中における透光性粒子及び無機超微粒子の含有量の比（透光性粒子の含有量／無機超微粒子の含有量）は、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を本発明の範囲にしやすくする観点から、０．１〜０．４であることが好ましく、０．２〜０．３であることがより好ましい。
凹凸層の樹脂成分は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物を含むことが好ましく、機械的強度をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物を含むことがより好ましく、その中でも電子線硬化性樹脂組成物を含むことがさらに好ましい。
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、タッチパネルの透明導電膜形成時や結晶化工程の熱により残留した光重合開始剤が昇華し、透明導電膜の低抵抗化が損なわれることを防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、タッチパネルの透明導電膜形成時や結晶化工程の熱により残留した光重合開始剤が昇華し、透明導電膜の低抵抗化が損なわれることを防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
凹凸層の厚みは、カール抑制、機械的強度、硬度及び靭性とのバランスの観点から、２〜１０μｍであることが好ましく、４〜８μｍであることがより好ましい。なお、凹凸層の厚みは、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）による光学シートの断面写真の任意の箇所を１０点選び、その平均値により算出できる。
凹凸層形成塗布液には、通常、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能とするために溶剤を用いる。溶剤の種類によって、塗布、乾燥過程した後の凹凸層の表面状態が異なる（言い換えると、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15の値が異なる）ため、溶剤の飽和蒸気圧、透明基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。
具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
溶剤の乾燥が遅すぎる場合又は速すぎる場合、凹凸層のレベリング性が過度又は不足することにより、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15の値を上述した範囲に調整しづらくなる。したがって、溶剤としては、相対蒸発速度（ｎ−酢酸ブチルの蒸発速度を１００としたときの相対蒸発速度）が１００〜１８０である溶剤を、全溶剤中の５０質量％以上含むことが好ましい。全溶剤中の５０質量％以上の溶剤としては、相対蒸発速度が１００〜１５０であるものがより好ましい。
相対蒸発速度の例を挙げると、トルエンが１９５、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）が４６５、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）が１１８、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）が６８である。
また、溶剤の種類は、シリカ超微粒子に代表される無機超微粒子の分散性にも影響を与える。例えば、ＭＩＢＫは、無機超微粒子の分散性に優れ、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を上述した範囲に調整しやすい点で好適である。
具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
溶剤の乾燥が遅すぎる場合又は速すぎる場合、凹凸層のレベリング性が過度又は不足することにより、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15の値を上述した範囲に調整しづらくなる。したがって、溶剤としては、相対蒸発速度（ｎ−酢酸ブチルの蒸発速度を１００としたときの相対蒸発速度）が１００〜１８０である溶剤を、全溶剤中の５０質量％以上含むことが好ましい。全溶剤中の５０質量％以上の溶剤としては、相対蒸発速度が１００〜１５０であるものがより好ましい。
相対蒸発速度の例を挙げると、トルエンが１９５、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）が４６５、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）が１１８、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）が６８である。
また、溶剤の種類は、シリカ超微粒子に代表される無機超微粒子の分散性にも影響を与える。例えば、ＭＩＢＫは、無機超微粒子の分散性に優れ、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を上述した範囲に調整しやすい点で好適である。
また、（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を上述の範囲としやすくする観点からは、凹凸層を形成する際、乾燥条件を制御することが好ましい。乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により制御することができる。具体的な乾燥温度としては、３０〜１２０℃、乾燥風速では０．２〜５０ｍ／ｓとすることが好ましい。また、乾燥条件により凹凸層のレベリングを制御するために、電離放射線の照射は乾燥後に行うことが好適である。
また、表面凹凸を適度に滑らかにして（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15を上述の範囲としやすくする観点からは、凹凸層形成塗布液には、レベリング剤を含有させることが好ましい。レベリング剤は、フッ素系又はシリコーン系のものが挙げられ、シリコーン系のレベリング剤が好適である。レベリング剤の添加量としては、凹凸層形成塗布液の全固形分に対して０．０１〜０．５重量％が好ましく、０．０５〜０．２重量％がより好ましい。
光学シートの透明基材としては、光透過性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものであることが好ましい。このような透明基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等のプラスチックフィルムが挙げられる。透明基材は、２枚以上のプラスチックフィルムを貼り合わせたものであってもよい。
上記の中でも、機械的強度や寸法安定性の観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）が好ましい。また、ＴＡＣ、アクリルは光透過性光学的等方性の観点で好適である。また、ＣＯＰ、ポリエステルは耐候性に優れる点で好適である。また、リタデーション値３０００〜３００００ｎｍのプラスチックフィルム又は１／４波長位相差のプラスチックフィルムは、偏光サングラスを通して液晶ディスプレイの画像を観察した場合に、表示画面に色の異なるムラが観察されることを防止できる点で好適である。
上記の中でも、機械的強度や寸法安定性の観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）が好ましい。また、ＴＡＣ、アクリルは光透過性光学的等方性の観点で好適である。また、ＣＯＰ、ポリエステルは耐候性に優れる点で好適である。また、リタデーション値３０００〜３００００ｎｍのプラスチックフィルム又は１／４波長位相差のプラスチックフィルムは、偏光サングラスを通して液晶ディスプレイの画像を観察した場合に、表示画面に色の異なるムラが観察されることを防止できる点で好適である。
透明基材の厚さは、５〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。
透明基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
透明基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
光学シートは、凹凸形状の上及び／又は凹凸形状と反対側の面上に、反射防止層、防汚層、帯電防止層等の機能性層を有していてもよい。また、透明基材上に凹凸層を有する構成の場合、前記箇所のほかに、透明基材と凹凸層との間に機能性層を有していてもよい。
［表示装置］
本発明の表示装置は、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは、一方の面に凹凸形状を有してなり、かつ前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすものである。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
本発明の表示装置は、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは、一方の面に凹凸形状を有してなり、かつ前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすものである。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子は、上述のようにギラツキを生じやすいが、本発明では、凹凸形状を有する光学シートとして特定の光学シートを用いることにより、防眩性等の諸特性を付与しつつ、超高精細の表示素子の映像光のギラツキ及び解像度の低下を防止できる。
本発明の表示装置に用いる光学シートとしては、上述した本発明のタッチパネルに用いる光学シートと同様のものを用いることができる。
本発明の表示装置に用いる光学シートとしては、上述した本発明のタッチパネルに用いる光学シートと同様のものを用いることができる。
表示素子としては、液晶表示素子、インセルタッチパネル液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子等が挙げられる。
インセルタッチパネル液晶素子は、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。なお、インセルタッチパネル液晶素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。インセルタッチパネル液晶素子は、例えば、特開２０１１−７６６０２号公報、特開２０１１−２２２００９号公報に記載されている。
インセルタッチパネル液晶素子は、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。なお、インセルタッチパネル液晶素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。インセルタッチパネル液晶素子は、例えば、特開２０１１−７６６０２号公報、特開２０１１−２２２００９号公報に記載されている。
光学シートは、例えば、以下の順で表示素子の前面に設置することができる。
（１）表示素子／表面保護板／光学シート
（２）表示素子／光学シート
（３）表示素子／光学シート／表面保護板
（４）表示素子／光学シートを構成部材として有するタッチパネル
（１）及び（２）の場合、光学シートの凹凸面が表面を向くように（凹凸面が表示素子とは反対側を向くように）配置することで、高度な防眩性を付与できるとともに、ギラツキを防止でき、さらには、解像度の低下を防止できる。また、この使い方の場合、表面や表示素子に生じた傷を見えづらくすることもできる。
（３）の場合、上述した本発明のタッチパネルの実施の形態のように光学シートを配置することで、防眩性等の諸特性を付与しつつ、ギラツキを防止することができる。
なお、（２）及び（４）の場合、光学シートの凹凸面が表示素子側を向くようにして空気層を介して配置すれば、密着及び干渉縞を防止するとともに、表示素子に生じた傷を見づらくすることができる。
本発明の表示装置に用いる光学シートは、屋外の明るい環境下でも外光の反射を抑えることができ、高度な防眩性を付与できる。近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外で用いることが多いため、本発明の表示装置は、光学シートを凹凸面が視認者側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。
（１）表示素子／表面保護板／光学シート
（２）表示素子／光学シート
（３）表示素子／光学シート／表面保護板
（４）表示素子／光学シートを構成部材として有するタッチパネル
（１）及び（２）の場合、光学シートの凹凸面が表面を向くように（凹凸面が表示素子とは反対側を向くように）配置することで、高度な防眩性を付与できるとともに、ギラツキを防止でき、さらには、解像度の低下を防止できる。また、この使い方の場合、表面や表示素子に生じた傷を見えづらくすることもできる。
（３）の場合、上述した本発明のタッチパネルの実施の形態のように光学シートを配置することで、防眩性等の諸特性を付与しつつ、ギラツキを防止することができる。
なお、（２）及び（４）の場合、光学シートの凹凸面が表示素子側を向くようにして空気層を介して配置すれば、密着及び干渉縞を防止するとともに、表示素子に生じた傷を見づらくすることができる。
本発明の表示装置に用いる光学シートは、屋外の明るい環境下でも外光の反射を抑えることができ、高度な防眩性を付与できる。近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外で用いることが多いため、本発明の表示装置は、光学シートを凹凸面が視認者側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。
［光学シート］
本発明の光学シートは、一方の面に凹凸形状を有する光学シートであって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるものである。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
本発明の光学シートは、一方の面に凹凸形状を有する光学シートであって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるものである。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
本発明の光学シートとしては、上述した本発明のタッチパネルに用いる光学シートと同様のものが挙げられる。
本発明の光学シートは、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いることで、防眩性等の諸特性を付与しつつ、超高精細の表示素子の映像光のギラツキ及び解像度の低下を防止できる点で好ましい。
また、本発明の光学シートは、屋外の明るい環境下でも外光の反射を抑えることができ、高度な防眩性を付与できる。近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外で用いることが多いため、本発明の光学シートは、タッチパネルや表示装置の最表面において、凹凸面が視認者側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。
本発明の光学シートは、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いることで、防眩性等の諸特性を付与しつつ、超高精細の表示素子の映像光のギラツキ及び解像度の低下を防止できる点で好ましい。
また、本発明の光学シートは、屋外の明るい環境下でも外光の反射を抑えることができ、高度な防眩性を付与できる。近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外で用いることが多いため、本発明の光学シートは、タッチパネルや表示装置の最表面において、凹凸面が視認者側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。
［光学シートの選別方法］
本発明の光学シートの選別方法は、一方の面に凹凸形状を有する光学シートの選別方法であって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすものを光学シートとして選別する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの選別方法である。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
本発明の光学シートの選別方法は、一方の面に凹凸形状を有する光学シートの選別方法であって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすものを光学シートとして選別する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの選別方法である。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
本発明の光学シートの選別方法では、表示装置に光学シートを組み込まなくても、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子に用いた際にギラツキ及び解像度の低下を防止できる光学シートを選別することができ、光学シートの品質管理を効率よくできる。
光学シートを選別する判定条件は、（ａ）下記式（Ｉ）を満たすことを必須条件とする。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
判定条件（ａ）は、０．６７０以上０．８３０以下とすることが好ましく、０．７００以上０．８２０以下とすることがより好ましく、０．７２０以上０．８００以下とすることがさらに好ましい。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
判定条件（ａ）は、０．６７０以上０．８３０以下とすることが好ましく、０．７００以上０．８２０以下とすることがより好ましく、０．７２０以上０．８００以下とすることがさらに好ましい。
さらに、以下に挙げる条件（ｂ）及び／又は（ｃ）を判定条件とすることにより、より正確にギラツキ及び解像度の低下を防止できる光学シートを選別できる。
（ｂ）透過強度の測定を−２０度〜＋２０度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ20」とした際に、Ｐ15及びＰ20が下記式（II）を満たすこと。
０．９９００≦Ｐ15／Ｐ20 （II）
（ｃ）光学シートの内部へイズが５〜３０％
条件（ｂ）は、Ｐ15／Ｐ20を０．９９５０以上とすることが好ましい。条件（ｃ）は、光学シートの内部へイズを５〜２５％とすることが好ましく、１０〜１８％とすることがより好ましい。
（ｂ）透過強度の測定を−２０度〜＋２０度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ20」とした際に、Ｐ15及びＰ20が下記式（II）を満たすこと。
０．９９００≦Ｐ15／Ｐ20 （II）
（ｃ）光学シートの内部へイズが５〜３０％
条件（ｂ）は、Ｐ15／Ｐ20を０．９９５０以上とすることが好ましい。条件（ｃ）は、光学シートの内部へイズを５〜２５％とすることが好ましく、１０〜１８％とすることがより好ましい。
［光学シートの製造方法］
本発明の光学シートの製造方法は、一方の面に凹凸形状を有する光学シートの製造方法であって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすように製造する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの製造方法である。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
本発明の光学シートの製造方法は、一方の面に凹凸形状を有する光学シートの製造方法であって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ15」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ15及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすように製造する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの製造方法である。
０．６５０≦（Ｐ15−Ｑ）／Ｐ15≦０．８５０ （Ｉ）
本発明の光学シートの製造方法は、（ａ）上記式（Ｉ）を満たすように製造条件を制御することを必須とする。本発明の光学シートの製造方法は、追加の条件として、上述した光学シートの選択方法の条件（ｂ）及び／又は（ｃ）を満たすように製造条件を制御することが好ましい。
本発明の光学シートの製造方法では、防眩性等の諸特性を付与できるとともに、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキ及び解像度の低下を防止できる光学シートを効率よく製造することができる。
本発明の光学シートの製造方法では、防眩性等の諸特性を付与できるとともに、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキ及び解像度の低下を防止できる光学シートを効率よく製造することができる。
製造条件（ａ）及び（ｂ）は、光学シートの凹凸層に略平滑な箇所を極力少なくし、凹凸層の略全体が傾斜となるような形状とすること、及び全体が均一な傾斜にするのではなく、傾斜角の大きい傾斜を含んだ様々な傾斜角を混在させることにより制御できる。
製造条件（ａ）及び（ｂ）を制御する具体的手段は、凹凸層を型により形成する場合は型の形状を制御すればよい。また、凹凸層をコーティングにより形成する場合の製造条件（ａ）及び（ｂ）を制御する具体的手段は、上述したように、適量の無機超微粒子を用いること、相対蒸発速度が特定の範囲の溶剤を用いること、乾燥温度や風速等の乾燥条件を調整すること、適量のレベリング剤を用いることが挙げられる。
製造条件（ｃ）は、内部拡散要素の調整により制御できる。具体的には、凹凸層をバインダー樹脂及び透光性粒子から形成し、バインダー樹脂の屈折率の制御、透光性粒子の形状、分散状態、粒子径、添加量及び屈折率等の制御により、内部拡散要素を調整できる。また、バインダー樹脂に添加し得る透光性粒子以外の添加剤の濃度等も内部拡散要素に影響を与える。
製造条件（ａ）及び（ｂ）を制御する具体的手段は、凹凸層を型により形成する場合は型の形状を制御すればよい。また、凹凸層をコーティングにより形成する場合の製造条件（ａ）及び（ｂ）を制御する具体的手段は、上述したように、適量の無機超微粒子を用いること、相対蒸発速度が特定の範囲の溶剤を用いること、乾燥温度や風速等の乾燥条件を調整すること、適量のレベリング剤を用いることが挙げられる。
製造条件（ｃ）は、内部拡散要素の調整により制御できる。具体的には、凹凸層をバインダー樹脂及び透光性粒子から形成し、バインダー樹脂の屈折率の制御、透光性粒子の形状、分散状態、粒子径、添加量及び屈折率等の制御により、内部拡散要素を調整できる。また、バインダー樹脂に添加し得る透光性粒子以外の添加剤の濃度等も内部拡散要素に影響を与える。
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。
１．光学シートの物性測定及び評価
以下のように、実施例及び比較例の光学シートの物性測定及び評価を行った。結果を表１に示す。
以下のように、実施例及び比較例の光学シートの物性測定及び評価を行った。結果を表１に示す。
［ヘイズ］
まず、ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ−７１３６：２０００に従ってヘイズ（全体ヘイズ）を測定した。また、光学シートの表面に、透明粘着剤を介して、厚み８０μｍのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を貼り付けることによって凹凸形状をつぶして平坦にし、表面形状起因のヘイズの影響をなくした状態でヘイズを測定して、内部ヘイズ（Ｈｉ）を求めた。そして、全体ヘイズ値から内部ヘイズ値を差し引いて、表面ヘイズ（Ｈｓ）を求めた。光入射面は基材側とした。
［透過光の強度］
実施例及び比較例で得られた各光学シートの防眩層（凹凸層）が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、ガラス板に貼付してサンプルとした。明細書本文に記載した方法により、変角光度計（ＧＣ−５０００Ｌ、日本電色工業社製）を用いて、透過測定にて光源角度０度、感度設定を１０００倍に設定し、ガラス面を光源側にしてサンプルを設置して、光学シートの透過光の強度を１度ごとに測定し、直線補間により透過光の強度分布図を作成した。なお、強度は正透過方向の±２０度の範囲を測定した。また、強度の値は、基準値としてサンプルを設置しないときの正透過光（受光角度０度）強度を１０００００としたときの値である。
まず、ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ−７１３６：２０００に従ってヘイズ（全体ヘイズ）を測定した。また、光学シートの表面に、透明粘着剤を介して、厚み８０μｍのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を貼り付けることによって凹凸形状をつぶして平坦にし、表面形状起因のヘイズの影響をなくした状態でヘイズを測定して、内部ヘイズ（Ｈｉ）を求めた。そして、全体ヘイズ値から内部ヘイズ値を差し引いて、表面ヘイズ（Ｈｓ）を求めた。光入射面は基材側とした。
［透過光の強度］
実施例及び比較例で得られた各光学シートの防眩層（凹凸層）が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、ガラス板に貼付してサンプルとした。明細書本文に記載した方法により、変角光度計（ＧＣ−５０００Ｌ、日本電色工業社製）を用いて、透過測定にて光源角度０度、感度設定を１０００倍に設定し、ガラス面を光源側にしてサンプルを設置して、光学シートの透過光の強度を１度ごとに測定し、直線補間により透過光の強度分布図を作成した。なお、強度は正透過方向の±２０度の範囲を測定した。また、強度の値は、基準値としてサンプルを設置しないときの正透過光（受光角度０度）強度を１０００００としたときの値である。
［光学シートの三次元平均傾斜角］
実施例及び比較例で得られた各光学シートの防眩層（凹凸層）が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、ガラス板に貼付してサンプルとし、白色干渉顕微鏡（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にて、光学シートの表面形状の測定・解析を行った。なお、測定・解析ソフトにはＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用いた。
（測定条件）
対物レンズ：５０倍
Ｚｏｏｍ：１倍
測定領域：４１４μｍ×４１４μｍ
解像度（１点当たりの間隔）：０．４４μｍ
（解析条件）
Ｒｅｍｏｖｅｄ：Ｎｏｎｅ
Ｆｉｌｔｅｒ：ＢａｎｄＰａｓｓ
ＦｉｌｔｅｒＴｙｐｅ：ＧａｕｓｓＳｐｌｉｎｅ
Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：８００μｍ
Ｈｉｇｈ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：３μｍ
Ｒｅｍｏｖｅ ｓｐｉｋｅｓ： ｏｎ
Ｓｐｉｋｅ Ｈｅｉｇｈｔ（ｘＲＭＳ）：２．５
なお、Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈは粗さパラメータにおけるカットオフ値λｃに相当する。
次に、上記解析ソフト（ＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２−Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ）にてＳｌｏｐｅ Ｍａｇ Ｍａｐ画面を表示し、前記画面中でヒストグラムをｎＢｉｎｓ＝１００として表示させ、三次元表面傾斜角度分布のヒストグラムデータを得た。ヒストグラムの各階級角度の区間幅は０．５度以下であった。
ヒストグラムデータのｉ番目の階級の代表角度をθi、度数をｆiとすると、三次元平均傾斜角ｍは下記式（４）で算出される。
ここでＮは全データ数であり下記式（５）で算出される。
実施例及び比較例で得られた各光学シートの防眩層（凹凸層）が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、ガラス板に貼付してサンプルとし、白色干渉顕微鏡（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にて、光学シートの表面形状の測定・解析を行った。なお、測定・解析ソフトにはＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用いた。
（測定条件）
対物レンズ：５０倍
Ｚｏｏｍ：１倍
測定領域：４１４μｍ×４１４μｍ
解像度（１点当たりの間隔）：０．４４μｍ
（解析条件）
Ｒｅｍｏｖｅｄ：Ｎｏｎｅ
Ｆｉｌｔｅｒ：ＢａｎｄＰａｓｓ
ＦｉｌｔｅｒＴｙｐｅ：ＧａｕｓｓＳｐｌｉｎｅ
Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：８００μｍ
Ｈｉｇｈ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：３μｍ
Ｒｅｍｏｖｅ ｓｐｉｋｅｓ： ｏｎ
Ｓｐｉｋｅ Ｈｅｉｇｈｔ（ｘＲＭＳ）：２．５
なお、Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈは粗さパラメータにおけるカットオフ値λｃに相当する。
次に、上記解析ソフト（ＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２−Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ）にてＳｌｏｐｅ Ｍａｇ Ｍａｐ画面を表示し、前記画面中でヒストグラムをｎＢｉｎｓ＝１００として表示させ、三次元表面傾斜角度分布のヒストグラムデータを得た。ヒストグラムの各階級角度の区間幅は０．５度以下であった。
ヒストグラムデータのｉ番目の階級の代表角度をθi、度数をｆiとすると、三次元平均傾斜角ｍは下記式（４）で算出される。
［光学シートのＲａ、Ｒｚ、Ｓｍｐ］
上述の表面傾斜角度分布を算出する際に得られた表面形状データ及び同一の解析条件にて、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面上に「Ｒａ」、「ＳＲｚ」を表示させ、それぞれの数値を光学シートのＲａ、Ｒｚとした。
次に、上記Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面中に「Ｓａｖｅ Ｄａｔａ」ボタンを表示させ、解析後の３次元曲面粗さデータを保存した。そして、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｔｅｘｔｕｒｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎにて、前記の保存データを読み込み以下の解析条件を適用した。
（解析条件）
・Ｈｉｇｈ ＦＦＴ Ｆｉｌｔｅｒ：ｏｆｆ
・Ｌｏｗ ＦＦＴ Ｆｉｌｔｅｒ：ｏｆｆ
・Ｒｅｍｏｖｅ：Ｐｌａｎｅ
次に、Ｐｅａｋ／Ｖａｌｌｅｙｓ画面を表示し「Ｐｅａｋｓ Ｓｔａｔｓ」から山の個数をカウントした。ただし、微細な山を除くために、面積が全測定領域の面積（４１４×４１４μｍ2）の１／１００００以上、かつ、高さがＲｔｍの１／１０以上の山をカウント対象とした。Ｒｔｍは「Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ／Ｗａｖｉｎｅｓｓ Ｍａｐ」画面から読み取ることができ、全測定領域を３×３に分割したときの各区域毎の最大高さの平均を表す。そして、上記式（３）に基づき、Ｓｍｐを算出した。
上述の表面傾斜角度分布を算出する際に得られた表面形状データ及び同一の解析条件にて、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面上に「Ｒａ」、「ＳＲｚ」を表示させ、それぞれの数値を光学シートのＲａ、Ｒｚとした。
次に、上記Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面中に「Ｓａｖｅ Ｄａｔａ」ボタンを表示させ、解析後の３次元曲面粗さデータを保存した。そして、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｔｅｘｔｕｒｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎにて、前記の保存データを読み込み以下の解析条件を適用した。
（解析条件）
・Ｈｉｇｈ ＦＦＴ Ｆｉｌｔｅｒ：ｏｆｆ
・Ｌｏｗ ＦＦＴ Ｆｉｌｔｅｒ：ｏｆｆ
・Ｒｅｍｏｖｅ：Ｐｌａｎｅ
次に、Ｐｅａｋ／Ｖａｌｌｅｙｓ画面を表示し「Ｐｅａｋｓ Ｓｔａｔｓ」から山の個数をカウントした。ただし、微細な山を除くために、面積が全測定領域の面積（４１４×４１４μｍ2）の１／１００００以上、かつ、高さがＲｔｍの１／１０以上の山をカウント対象とした。Ｒｔｍは「Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ／Ｗａｖｉｎｅｓｓ Ｍａｐ」画面から読み取ることができ、全測定領域を３×３に分割したときの各区域毎の最大高さの平均を表す。そして、上記式（３）に基づき、Ｓｍｐを算出した。
［ギラツキ］
実施例および比較例で得られた各光学シートにおいて、光学シートの防眩層が形成されていない面と、ブラックマトリクス（ガラス厚み０．７ｍｍ）のマトリクスが形成されていないガラス面とを透明粘着剤で貼り合わせた。こうして得られた試料に対し、ブラックマトリクス側に白色面光源（ＨＡＫＵＢＡ社製、ＬＩＧＨＴＢＯＸ、平均輝度１０００ｃｄ／ｍ2）を設置することで、疑似的にギラツキ発生させた。これを光学シート側からＣＣＤカメラ（ＫＰ−Ｍ１、Ｃマウントアダプタ、接写リング；ＰＫ−１１Ａ ニコン、カメラレンズ；５０ｍｍ，Ｆ１．４ｓ ＮＩＫＫＯＲ）で撮影した。ＣＣＤカメラと光学シートの距離は２５０ｍｍとし、ＣＣＤカメラのフォーカスは光学シートに合うように調節した。ＣＣＤカメラで撮影した画像をパーソナルコンピュータに取り込み、画像処理ソフト（ＩｍａｇｅＰｒｏ Ｐｌｕｓ ｖｅｒ．６．２；Ｍｅｄｉａ Ｃｙｂｅｒｎｅｔｉｃｓ社製）で次のように解析を行った。
まず、取り込んだ画像から２００×１６０ピクセルの評価箇所を選び、該評価箇所において、１６ｂｉｔグレースケールに変換した。次に、フィルタコマンドの強調タブからローパスフィルタを選択し「３×３、回数３、強さ１０」の条件でフィルタをかけた。これによりブラックマトリクスパターン由来の成分を除去した。次に、平坦化を選択し、「背景：暗い、オブジェクト幅１０」の条件でシェーディング補正を行った。次に、コントラスト強調コマンドで「コントラスト：９６、ブライトネス：４８」としてコントラスト強調を行った。得られた画像を８ビットグレースケールに変換し、その中の１５０×１１０ピクセルについてピクセルごとの値のばらつきを標準偏差値として算出することにより、ギラツキを数値化した。この数値化したギラツキ値が小さいほど、ギラツキが少ないと言える。なお、評価は、ブラックマトリクスが画素密度３５０ｐｐｉ相当のものと、画素密度２００ｐｐｉ相当のものの２つで行った。
実施例および比較例で得られた各光学シートにおいて、光学シートの防眩層が形成されていない面と、ブラックマトリクス（ガラス厚み０．７ｍｍ）のマトリクスが形成されていないガラス面とを透明粘着剤で貼り合わせた。こうして得られた試料に対し、ブラックマトリクス側に白色面光源（ＨＡＫＵＢＡ社製、ＬＩＧＨＴＢＯＸ、平均輝度１０００ｃｄ／ｍ2）を設置することで、疑似的にギラツキ発生させた。これを光学シート側からＣＣＤカメラ（ＫＰ−Ｍ１、Ｃマウントアダプタ、接写リング；ＰＫ−１１Ａ ニコン、カメラレンズ；５０ｍｍ，Ｆ１．４ｓ ＮＩＫＫＯＲ）で撮影した。ＣＣＤカメラと光学シートの距離は２５０ｍｍとし、ＣＣＤカメラのフォーカスは光学シートに合うように調節した。ＣＣＤカメラで撮影した画像をパーソナルコンピュータに取り込み、画像処理ソフト（ＩｍａｇｅＰｒｏ Ｐｌｕｓ ｖｅｒ．６．２；Ｍｅｄｉａ Ｃｙｂｅｒｎｅｔｉｃｓ社製）で次のように解析を行った。
まず、取り込んだ画像から２００×１６０ピクセルの評価箇所を選び、該評価箇所において、１６ｂｉｔグレースケールに変換した。次に、フィルタコマンドの強調タブからローパスフィルタを選択し「３×３、回数３、強さ１０」の条件でフィルタをかけた。これによりブラックマトリクスパターン由来の成分を除去した。次に、平坦化を選択し、「背景：暗い、オブジェクト幅１０」の条件でシェーディング補正を行った。次に、コントラスト強調コマンドで「コントラスト：９６、ブライトネス：４８」としてコントラスト強調を行った。得られた画像を８ビットグレースケールに変換し、その中の１５０×１１０ピクセルについてピクセルごとの値のばらつきを標準偏差値として算出することにより、ギラツキを数値化した。この数値化したギラツキ値が小さいほど、ギラツキが少ないと言える。なお、評価は、ブラックマトリクスが画素密度３５０ｐｐｉ相当のものと、画素密度２００ｐｐｉ相当のものの２つで行った。
［防眩性］
得られた光学シートの基材側に、黒色アクリル板を、透明粘着剤を介して貼り合わせた評価用サンプルを水平面に置き、評価用サンプルから１．５ｍ上方に蛍光灯を配置し、評価用サンプル上に蛍光灯を移しこませ、かつ評価用サンプル上の照度が８００〜１２００Ｌｘとした環境下で、様々な角度から目視官能評価を行い、以下の基準に従って評価した。
○：いかなる角度からも蛍光灯の像が認識できない。
△：蛍光灯の像は映り込むが、蛍光灯の輪郭がぼやけ、輪郭の境界部が認識できない。
×：蛍光灯の像が鏡面のように映り込み、蛍光灯の輪郭（輪郭の境界部）がはっきりと認識できる。
［コントラスト（暗室）］
コントラスト比の測定では、バックライトユニットとして冷陰極管光源に拡散板を設置したものを用い、２枚の偏光板（サムスン社製 ＡＭＮ−３２４４ＴＰ）を用い、該偏光板をパラレルニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬmaxを、クロスニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬminで割ることで、防眩性フィルム（光透過性基材＋防眩層）を最表面に載置したときのコントラスト（Ｌ1）と、光透過性基材のみを最表面に載置したときのコントラスト（Ｌ2）とを求め、（Ｌ1／Ｌ2）×１００（％）を算出することでコントラスト比を算出した。
なお、輝度の測定には、色彩輝度計(トプコン社製 ＢＭ−５Ａ)を用い、照度が５Ｌｘ以下の暗室環境下で行った。色彩輝度計の測定角は１°に設定し、サンプル上の垂直方向から視野φ５ｍｍで測定した。バックライトの光量は、サンプルを設置しない状態で、２枚の偏光板をパラレルニコルに設置したときの輝度が３６００ｃｄ／ｍ2になるように設置した。
得られた光学シートの基材側に、黒色アクリル板を、透明粘着剤を介して貼り合わせた評価用サンプルを水平面に置き、評価用サンプルから１．５ｍ上方に蛍光灯を配置し、評価用サンプル上に蛍光灯を移しこませ、かつ評価用サンプル上の照度が８００〜１２００Ｌｘとした環境下で、様々な角度から目視官能評価を行い、以下の基準に従って評価した。
○：いかなる角度からも蛍光灯の像が認識できない。
△：蛍光灯の像は映り込むが、蛍光灯の輪郭がぼやけ、輪郭の境界部が認識できない。
×：蛍光灯の像が鏡面のように映り込み、蛍光灯の輪郭（輪郭の境界部）がはっきりと認識できる。
［コントラスト（暗室）］
コントラスト比の測定では、バックライトユニットとして冷陰極管光源に拡散板を設置したものを用い、２枚の偏光板（サムスン社製 ＡＭＮ−３２４４ＴＰ）を用い、該偏光板をパラレルニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬmaxを、クロスニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬminで割ることで、防眩性フィルム（光透過性基材＋防眩層）を最表面に載置したときのコントラスト（Ｌ1）と、光透過性基材のみを最表面に載置したときのコントラスト（Ｌ2）とを求め、（Ｌ1／Ｌ2）×１００（％）を算出することでコントラスト比を算出した。
なお、輝度の測定には、色彩輝度計(トプコン社製 ＢＭ−５Ａ)を用い、照度が５Ｌｘ以下の暗室環境下で行った。色彩輝度計の測定角は１°に設定し、サンプル上の垂直方向から視野φ５ｍｍで測定した。バックライトの光量は、サンプルを設置しない状態で、２枚の偏光板をパラレルニコルに設置したときの輝度が３６００ｃｄ／ｍ2になるように設置した。
［全光線透過率］
ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７に従って、光学シートの全光線透過率を測定した。光入射面は基材側とした。
［透過像鮮明度］
スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ−１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５：１９８１に従って、２ｍｍ、１ｍｍ、０．５ｍｍ及び０．１２５ｍｍの巾をもつ光学くしを通した４種類の透過像鮮明度を測定し、これらの和を算出した。
ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７に従って、光学シートの全光線透過率を測定した。光入射面は基材側とした。
［透過像鮮明度］
スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ−１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５：１９８１に従って、２ｍｍ、１ｍｍ、０．５ｍｍ及び０．１２５ｍｍの巾をもつ光学くしを通した４種類の透過像鮮明度を測定し、これらの和を算出した。
［白化］
光学シートの透明基材側の面と、黒色のアクリル板とを透明粘着剤を介して貼り合わせたサンプルを作製した。作製したサンプルについて、暗室にて、３波長蛍光灯管を光源とする卓上スタンドの下で、以下の基準で白濁感を観察した。
Ａ：白さが観察されなかった。
Ｃ：白さが観察された。
［傷の視認性］
白化の評価で作製したサンプルの光学シートの凹凸面を、♯００００のスチールウールで約１００ｇ／ｃｍ2の荷重で１回擦り、表面の傷を目視で評価した。その結果、傷が目立たないものを「○」、傷が目立つものを「×」とした。
［干渉縞］
２枚の光学シートを、一方の光学シートの凹凸面側と、他方の光学シートの透明基材側とが対向するようにして重ね合わせた。その結果、干渉縞が発生しなかったものを「〇」、干渉縞が発生したものを「×」とした。
光学シートの透明基材側の面と、黒色のアクリル板とを透明粘着剤を介して貼り合わせたサンプルを作製した。作製したサンプルについて、暗室にて、３波長蛍光灯管を光源とする卓上スタンドの下で、以下の基準で白濁感を観察した。
Ａ：白さが観察されなかった。
Ｃ：白さが観察された。
［傷の視認性］
白化の評価で作製したサンプルの光学シートの凹凸面を、♯００００のスチールウールで約１００ｇ／ｃｍ2の荷重で１回擦り、表面の傷を目視で評価した。その結果、傷が目立たないものを「○」、傷が目立つものを「×」とした。
［干渉縞］
２枚の光学シートを、一方の光学シートの凹凸面側と、他方の光学シートの透明基材側とが対向するようにして重ね合わせた。その結果、干渉縞が発生しなかったものを「〇」、干渉縞が発生したものを「×」とした。
２．光学シートの作製
［実施例１］
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（ＴＡＣ）、富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）上に、下記処方の防眩層塗布液１を塗布し、７０℃、風速５ｍ／ｓで３０秒間乾燥した後、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ2になるように照射して、防眩層（凹凸層）を形成し、光学シートを得た。防眩層の膜厚は７．５μｍであった。なお、光学シートの凹凸層とは反対側のＲａは０．０２μｍであった。
［実施例１］
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム（ＴＡＣ）、富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）上に、下記処方の防眩層塗布液１を塗布し、７０℃、風速５ｍ／ｓで３０秒間乾燥した後、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ2になるように照射して、防眩層（凹凸層）を形成し、光学シートを得た。防眩層の膜厚は７．５μｍであった。なお、光学シートの凹凸層とは反対側のＲａは０．０２μｍであった。
＜防眩層塗布液１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ４５部
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子 １２部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径６μｍ、屈折率１．５３５）
・無機超微粒子 １６０部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（ＭＩＢＫ） １１０部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ） ４５部
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子 １２部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（平均粒子径６μｍ、屈折率１．５３５）
・無機超微粒子 １６０部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（ＭＩＢＫ） １１０部
［実施例２］
実施例１の透光性粒子を１５部、無機超微粒子を１５０部に変更した以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
実施例１の透光性粒子を１５部、無機超微粒子を１５０部に変更した以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
［比較例１］
実施例１の防眩層塗布液１を下記処方の防眩層塗布液２に変更し、防眩層（凹凸層）の膜厚を２μｍとした以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
＜防眩層塗布液２＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １００部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・無機微粒子 １４部
（富士シリシア化学社製、ゲル法不定形シリカ）
（疎水処理、平均粒子径（レーザー回折散乱法）４．１μｍ）
・光重合開始剤 ５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） １５０部
・溶剤２（ＭＩＢＫ） ３５部
実施例１の防眩層塗布液１を下記処方の防眩層塗布液２に変更し、防眩層（凹凸層）の膜厚を２μｍとした以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
＜防眩層塗布液２＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １００部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・無機微粒子 １４部
（富士シリシア化学社製、ゲル法不定形シリカ）
（疎水処理、平均粒子径（レーザー回折散乱法）４．１μｍ）
・光重合開始剤 ５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン） １５０部
・溶剤２（ＭＩＢＫ） ３５部
［比較例２］
実施例１の防眩層塗布液１を下記処方の防眩層塗布液３に変更し、防眩層（凹凸層）の膜厚を４．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
＜防眩層塗布液３＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ９０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・アクリルポリマー
（三菱レイヨン社製、分子量７５，０００） １０部
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子 １２部
（綜研化学社製、球状ポリスチレン粒子）
（粒径３．５μ、屈折率１．５９）
・溶剤１（トルエン） １４５部
・溶剤２（シクロヘキサノン） ６０部
実施例１の防眩層塗布液１を下記処方の防眩層塗布液３に変更し、防眩層（凹凸層）の膜厚を４．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
＜防眩層塗布液３＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ９０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・アクリルポリマー
（三菱レイヨン社製、分子量７５，０００） １０部
・光重合開始剤 ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子 １２部
（綜研化学社製、球状ポリスチレン粒子）
（粒径３．５μ、屈折率１．５９）
・溶剤１（トルエン） １４５部
・溶剤２（シクロヘキサノン） ６０部
［比較例３］
実施例１の防眩層塗布液１を下記処方の防眩層塗布液４に変更し、防眩層（凹凸層）の膜厚を７．０μｍとした以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
＜防眩層塗布液４＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ３８部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート
（東亜合成社製、Ｍ−３１３） ２２部
・光重合開始剤 ５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子 ２０部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（粒径５μ、屈折率１．５２５）
・無機超微粒子 １２０部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（トルエン） １３５部
実施例１の防眩層塗布液１を下記処方の防眩層塗布液４に変更し、防眩層（凹凸層）の膜厚を７．０μｍとした以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
＜防眩層塗布液４＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ３８部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート
（東亜合成社製、Ｍ−３１３） ２２部
・光重合開始剤 ５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子 ２０部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（粒径５μ、屈折率１．５２５）
・無機超微粒子 １２０部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（トルエン） １３５部
［比較例４］
実施例１の防眩層塗布液１を下記処方の防眩層塗布液５に変更し、防眩層（凹凸層）の膜厚を５．０μｍとした以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
＜防眩層塗布液５＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ３８部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート
（東亜合成社製 Ｍ−３１３） ２２部
・光重合開始剤 ５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子 １２部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（粒径３．５μ、屈折率１．５４５）
・無機超微粒子 １２０部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（トルエン） １３５部
実施例１の防眩層塗布液１を下記処方の防眩層塗布液５に変更し、防眩層（凹凸層）の膜厚を５．０μｍとした以外は、実施例１と同様にして、光学シートを得た。
＜防眩層塗布液５＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ３８部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート
（東亜合成社製 Ｍ−３１３） ２２部
・光重合開始剤 ５部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 ＴＳＦ４４６０）
・透光性粒子 １２部
（積水化成品社製、球状ポリアクリル−スチレン共重合体）
（粒径３．５μ、屈折率１．５４５）
・無機超微粒子 １２０部
（日産化学社製、表面に反応性官能基が導入されたシリカ、溶剤ＭＩＢＫ、固形分３０％）
（平均一次粒子径１２ｎｍ）
・溶剤１（トルエン） １３５部
表１の結果から明らかなように、実施例１及び２の光学シートは、防眩性等の諸特性を付与できるとともに、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子のギラツキを防止することができ、さらにはコントラストにも優れるものであった。また、実施例１〜３の光学シートは、画素密度３５０ｐｐｉの表示素子のギラツキ防止性については、比較例１〜４の光学シートよりも極めて良好な効果を示しているが、画素密度２００ｐｐｉの表示素子のギラツキ防止性能については、比較例１〜４の光学シートとの効果の差が少なくなっている。このことから、実施例１及び２の光学シートは、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子に対して極めて有用であることが分かる。なお、上述の防眩性の評価は、照度が８００〜１２００Ｌｘの環境下で行ったが、実施例１及び２の光学シートは、照度１００００Ｌｘ以上の屋外環境においても防眩性が良好なものであった。
３．タッチパネルの作製
実施例１及び２及び比較例１〜４の光学シートの透明基材側に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実施例１〜３及び比較例１〜４の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
得られた抵抗膜式タッチパネルを、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）上に載置し、ギラツキの有無を目視で評価したところ、実施例１及び２のタッチパネルはギラツキが抑制され、外光の移り込みも少なく、視認性が良好であった。また、実施例１及び２のタッチパネルは超高精細の映像の解像度が損なわれることもなく、明室環境下のコントラストも良好であった。一方、比較例１〜４のタッチパネルはギラツキが目立つものであった。また、比較例２のタッチパネルは、光学シートの内部へイズが比較的高いことから、超高精細の映像の解像度が若干損なわれるものであった。
実施例１及び２及び比較例１〜４の光学シートの透明基材側に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実施例１〜３及び比較例１〜４の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
得られた抵抗膜式タッチパネルを、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）上に載置し、ギラツキの有無を目視で評価したところ、実施例１及び２のタッチパネルはギラツキが抑制され、外光の移り込みも少なく、視認性が良好であった。また、実施例１及び２のタッチパネルは超高精細の映像の解像度が損なわれることもなく、明室環境下のコントラストも良好であった。一方、比較例１〜４のタッチパネルはギラツキが目立つものであった。また、比較例２のタッチパネルは、光学シートの内部へイズが比較的高いことから、超高精細の映像の解像度が若干損なわれるものであった。
４．表示装置の作製
実施例１及び２及び比較例１〜４の光学シートと、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤を介して貼り合わせ、実施例１〜３及び比較例１〜４の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、光学シートの凹凸面が表示素子とは反対側を向くようにした。
得られた表示装置のギラツキの有無を目視で評価したところ、実施例１及び２の表示装置はギラツキが抑制され、外光の移り込みも少なく、視認性が良好であった。また、実施例１及び２の表示装置は超高精細の映像の解像度が損なわれることもなく、明室環境下のコントラストも良好であった。一方、比較例１〜４の表示装置はギラツキが目立つものであった。また、比較例２の表示装置は、光学シートの内部へイズが比較的高いことから、超高精細の映像の解像度が若干損なわれるものであった。
実施例１及び２及び比較例１〜４の光学シートと、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤を介して貼り合わせ、実施例１〜３及び比較例１〜４の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、光学シートの凹凸面が表示素子とは反対側を向くようにした。
得られた表示装置のギラツキの有無を目視で評価したところ、実施例１及び２の表示装置はギラツキが抑制され、外光の移り込みも少なく、視認性が良好であった。また、実施例１及び２の表示装置は超高精細の映像の解像度が損なわれることもなく、明室環境下のコントラストも良好であった。一方、比較例１〜４の表示装置はギラツキが目立つものであった。また、比較例２の表示装置は、光学シートの内部へイズが比較的高いことから、超高精細の映像の解像度が若干損なわれるものであった。
１：抵抗膜式タッチパネル、１１：透明基板、１２：透明導電膜、１３：スペーサー
２：静電容量式タッチパネル、２１：透明基板、２２：透明導電膜（Ｘ電極）、２３：透明導電膜（Ｙ電極）、２４：接着剤層
２：静電容量式タッチパネル、２１：透明基板、２２：透明導電膜（Ｘ電極）、２３：透明導電膜（Ｙ電極）、２４：接着剤層
Claims (28)
- 光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは一方の面に凹凸形状を有してなり、かつ前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ１５」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ１５及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
０．６５０≦（Ｐ１５−Ｑ）／Ｐ１５≦０．８５０ （Ｉ） - 前記光学シートにおいて、前記透過強度の測定を−２０度〜＋２０度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ２０」とした際に、Ｐ１５及びＰ２０が下記式（II）の関係を満たす、請求項１に記載のタッチパネル。
０．９９００≦Ｐ１５／Ｐ２０ （II） - 前記光学シートの内部へイズが５〜３０％である請求項１又は２に記載のタッチパネル。
- 前記光学シートの表面へイズが２０〜５０％である請求項１〜３の何れかに記載のタッチパネル。
- 前記光学シートの表面ヘイズと内部へイズとの比［表面ヘイズ／内部ヘイズ］が１．０〜５．０である請求項１〜４の何れかに記載のタッチパネル。
- 前記光学シートは、凹凸層の単相、又は、透明基材上に凹凸層を有する複層であり、
前記凹凸層に、平均粒子径が１〜２５ｎｍの無機超微粒子を含有する請求項１〜５の何れかに記載のタッチパネル。 - 前記無機超微粒子の含有量が前記凹凸層を形成する全固形分中の１０〜９０質量％である請求項６に記載のタッチパネル。
- 前記凹凸層は、透光性粒子を含有し、
前記凹凸層中における前記透光性粒子及び無機超微粒子の比［透光性粒子の含有量／無機超微粒子の含有量］が０．１〜０．４である請求項６又は７に記載のタッチパネル。 - 画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは、一方の面に凹凸形状を有してなり、かつ前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ１５」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ１５及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たす、表示装置。
０．６５０≦（Ｐ１５−Ｑ）／Ｐ１５≦０．８５０ （Ｉ） - 前記光学シートは、凹凸層の単相、又は、透明基材上に凹凸層を有する複層であり、
前記凹凸層に、平均粒子径が１〜２５ｎｍの無機超微粒子を含有する請求項９に記載の表示装置。 - 前記無機超微粒子の含有量が前記凹凸層を形成する全固形分中の１０〜９０質量％である請求項１０に記載の表示装置。
- 前記凹凸層は、透光性粒子を含有し、
前記凹凸層中における前記透光性粒子及び無機超微粒子の比［透光性粒子の含有量／無機超微粒子の含有量］が０．１〜０．４である請求項１０又は１１に記載の表示装置。 - 一方の面に凹凸形状を有する光学シートであって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ１５」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ１５及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シート。
０．６５０≦（Ｐ１５−Ｑ）／Ｐ１５≦０．８５０ （Ｉ） - 前記光学シートにおいて、前記透過強度の測定を−２０度〜＋２０度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ２０」とした際に、Ｐ１５及びＰ２０が下記式（II）の関係を満たす、請求項１３に記載の光学シート。
０．９９００≦Ｐ１５／Ｐ２０ （II） - 前記光学シートの内部へイズが５〜３０％である請求項１３又は１４に記載の光学シート。
- 前記光学シートの表面へイズが２０〜５０％である請求項１３〜１５の何れかに記載の光学シート。
- 前記光学シートの表面ヘイズと内部へイズとの比［表面ヘイズ／内部ヘイズ］が１．０〜５．０である請求項１３〜１６の何れかに記載の光学シート。
- 前記光学シートは、凹凸層の単相、又は、透明基材上に凹凸層を有する複層であり、
前記凹凸層に、平均粒子径が１〜２５ｎｍの無機超微粒子を含有する請求項１３〜１７の何れかに記載の光学シート。 - 前記無機超微粒子の含有量が前記凹凸層を形成する全固形分中の１０〜９０質量％である請求項１８に記載の光学シート。
- 前記凹凸層は、透光性粒子を含有し、
前記凹凸層中における前記透光性粒子及び無機超微粒子の比［透光性粒子の含有量／無機超微粒子の含有量］が０．１〜０．４である請求項１８又は１９に記載の光学シート。 - 一方の面に凹凸形状を有する光学シートの選別方法であって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ１５」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ１５及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすものを光学シートとして選別する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの選別方法。
０．６５０≦（Ｐ１５−Ｑ）／Ｐ１５≦０．８５０ （Ｉ） - 前記光学シートは、凹凸層の単相、又は、透明基材上に凹凸層を有する複層であり、
前記凹凸層に、平均粒子径が１〜２５ｎｍの無機超微粒子を含有する請求項２１に記載の光学シートの選別方法。 - 前記無機超微粒子の含有量が前記凹凸層を形成する全固形分中の１０〜９０質量％である請求項２２に記載の光学シートの選別方法。
- 前記凹凸層は、透光性粒子を含有し、
前記凹凸層中における前記透光性粒子及び無機超微粒子の比［透光性粒子の含有量／無機超微粒子の含有量］が０．１〜０．４である請求項２２又は２３に記載の光学シートの選別方法。 - 一方の面に凹凸形状を有する光学シートの製造方法であって、前記光学シートの凹凸形状を有する面とは反対側の面方向から前記光学シートに垂直に可視光線を照射し、透過した光について、凹凸形状を有する面側から０度を含む−１５度〜＋１５度までの範囲で１度ごとに強度を測定し、測定した透過強度の総和を「Ｐ１５」、測定した０度における透過強度を「Ｑ」とした際に、Ｐ１５及びＱが下記式（Ｉ）の関係を満たすように製造する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの製造方法。
０．６５０≦（Ｐ１５−Ｑ）／Ｐ１５≦０．８５０ （Ｉ） - 前記光学シートは、凹凸層の単相、又は、透明基材上に凹凸層を有する複層であり、
前記凹凸層に、平均粒子径が１〜２５ｎｍの無機超微粒子を含有する請求項２５に記載の光学シートの製造方法。 - 前記無機超微粒子の含有量が前記凹凸層を形成する全固形分中の１０〜９０質量％である請求項２６に記載の光学シートの製造方法。
- 前記凹凸層は、透光性粒子を含有し、
前記凹凸層中における前記透光性粒子及び無機超微粒子の比［透光性粒子の含有量／無機超微粒子の含有量］が０．１〜０．４である請求項２６又は２７に記載の光学シートの製造方法。
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