JP6497126B2 - タッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、タッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法に関する。

近年、タブレット型ＰＣならびにスマートフォンに代表される双方向の通信機能を備え、かつ情報表示ならびに情報入力用の透明タッチパネルを搭載したモバイル型の情報端末機器が、日本ばかりでなく世界で広く普及しはじめてきた。
透明タッチパネルとしては、コスト的に優れた抵抗膜方式があるが、マルチタッチ等のジェスチャー操作が可能であること、超高精細化された表示素子の画質を損ないづらい等の点で、静電容量方式のタッチパネル、特に、投影型静電容量方式のタッチパネルの需要が拡大してきている。

タッチパネルの表面には、外光の映り込みを防止すること等を目的として、凹凸構造を有する防眩性シートが設置されることがある。
さらには、タッチパネルを構成する部材間の密着及び干渉縞の防止、及びタッチパネルと表示素子との間の密着及び干渉縞の防止等のために、タッチパネルの最表面基材、内部基材及び最背面基材等として、凹凸構造を有する光学シートが用いられることがある。

しかし、防眩性フィルム等の凹凸構造を有する光学シートを用いた場合、その凹凸構造に起因して、映像光に微細な輝度のばらつきが見える現象（ギラツキ）が生じ、表示品位を低下させるという問題がある。特に、近年の超高精細化された表示素子（画素密度３００ｐｐｉ以上）においては、ギラツキの問題はさらに深刻化している。
表面凹凸によるギラツキを防止する技術として、特許文献１〜９の技術が提案されている。

特開２００３−３０２５０６号公報 特開２００２−２６７８１８号公報 特開２００９−２８８６５０号公報 特開２００９−８６４１０号公報 特開２００９−１２８３９３号公報 特開２００２−１９６１１７号公報 国際特開第２００７／１１１０２６ 特開２００８−１５８５３６号公報 特開２０１１−２５３１０６号公報

特許文献１及び２の光学シートは、内部ヘイズを付与することによりギラツキを改善するものである。しかし、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子はギラツキが強くなる傾向にあり、内部へイズのみによりギラツキを抑えようとすると、内部へイズをさらに大きくせざるを得ない。また、内部ヘイズが大きいと解像度が悪化する傾向にあるが、超高精細の表示素子ではよりその傾向が大きい。したがって、特許文献１及び２のように内部へイズにのみ着目しても、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子に適する光学シートを得ることができなかった。

特許文献３〜９の光学シートは、凹凸の傾斜角度を低くして凹凸の程度を弱めることにより、ギラツキを改善するものである。しかし、特許文献３〜９の光学シートでも、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子のギラツキを防止することはできなかった。また、特許文献３〜９の光学シートは、防眩性のレベルを低下させてしまうものであった。

本発明は、このような状況下になされたものであり、凹凸構造を有する場合においても、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキを防止できるタッチパネル、表示装置及び光学シートを提供することを目的とする。また、本発明は、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキを防止するための光学シートの選別方法及び製造方法を提供する。

本発明者らは鋭意研究した結果、光学シートの凹凸面を超高精細の表示素子の画素の大きさに相当する６４μｍ（６４μｍは、超高精細の表示素子として主流である３００〜５００ｐｐｉの中間値である４００ｐｐｉに相当する。）に区画し、かつ各区画の表面形状を特定の形状に制御することにより、上記課題を解決し得ることを見出した。
本発明は、以下の［１］〜［９］のタッチパネル、表示装置及び光学シート、並びに光学シートの選別方法及び光学シートの製造方法を提供する。

［１］光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは、表面に凹凸形状を有し、かつ前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。
［２］前記光学シートの内部へイズが１５〜４０％である上記［１］に記載のタッチパネル。
［３］ＪＩＳ Ｋ７３７４に準拠して、写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍのそれぞれについて前記光学シートの透過像鮮明度を測定し、光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_{０．１２５}、光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_０．２５、光学櫛の幅が０．５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_０．５、光学櫛の幅が１．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_１．０、光学櫛の幅が２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_２．０とした際に、以下の条件（３）及び（４）を満たす、上記［１］又は［２］に記載のタッチパネル。
条件（３）：Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．２５、Ｃ_０．５及びＣ_１．０の最大値と最小値との差が６．０％以内。
条件（４）：Ｃ_２．０とＣ_１．０との差が１０．０％以上。

［４］画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは、表面に凹凸形状を有し、かつ前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たす表示装置。
条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。
［５］表面に凹凸形状を有する光学シートであって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シート。
条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。
［６］前記光学シートは、内部へイズが１５〜４０％である上記［５］に記載の光学シート。
［７］ＪＩＳ Ｋ７３７４に準拠して、写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍのそれぞれについて前記光学シートの透過像鮮明度を測定し、光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_{０．１２５}、光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_０．２５、光学櫛の幅が０．５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_０．５、光学櫛の幅が１．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_１．０、光学櫛の幅が２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_２．０とした際に、以下の条件（３）及び（４）を満たす、上記［５］又は［６］に記載の光学シート。
条件（３）：Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．２５、Ｃ_０．５及びＣ_１．０の最大値と最小値との差が６．０％以内。
条件（４）：Ｃ_２．０とＣ_１．０との差が１０．０％以上。

［８］表面に凹凸形状を有する光学シートの選別方法であって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たすものを光学シートとして選別する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの選別方法。
条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。
［９］表面に凹凸形状を有する光学シートの製造方法であって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たすように製造する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの製造方法。
条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。

本発明のタッチパネル、表示装置及び光学シートは、凹凸形状によって防眩性等の諸特性を付与できるとともに、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキを防止できる。
また、本発明の光学シートの評価方法は、表示装置に光学シートを組み込まなくてもギラツキの評価を行うことができ、光学シートの品質管理を効率よくできる。また、本発明の光学シートの製造方法は、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキを防止できる光学シートを効率よく製造することができる。

本発明の抵抗膜式タッチパネルの一実施形態を示す断面図である。 本発明の静電容量式タッチパネルの一実施形態を示す断面図である。 実施例１の光学シートの断面を示す走査型透過電子顕微鏡写真（ＳＴＥＭ）である。

以下、本発明の実施形態を説明する。
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは、表面に凹凸形状を有し、かつ前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるものである。
条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。

タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。これらタッチパネルは、ガラス基材、プラスチックフィルム基材等の基材を有し、該基材上の表面には、防眩性、密着防止及び干渉縞防止等の諸特性を付与するための凹凸形状が形成される場合がある。本発明のタッチパネルは、このような表面に凹凸形状を有する基材として、後述する光学シートを用いてなるものである。
タッチパネルに防眩性を付与する場合、タッチパネルの表面部材として後述する光学シートを用い、かつ該光学シートの凹凸形状側の面が表面側を向くように設置することが好ましい。

抵抗膜式タッチパネル１は、図１に示すように、導電膜１２を有する上下一対の透明基板１１の導電膜１２同士が対向するようにスペーサー１３を介して配置されてなる基本構成に、図示しない回路が接続されてなるものである。抵抗膜式タッチパネルの場合、上部透明基板及び／又は下部透明基板として、後述する光学シートを用いることが好ましい。なお、上部透明基板及び下部透明基板は、２以上の基材からなる多層構造として、そのうちの１つの基材として後述する光学シートを用いてもよい。

抵抗膜式タッチパネルにおける光学シートは、例えば、上部透明基板として後述する光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸面が下部透明基板と反対側を向くように使用すれば、抵抗膜式タッチパネルに防眩性を付与できるとともに、超高精細の表示素子のギラツキを防止することができ、さらには超高精細の表示素子の解像度の低下を防止できる。また、この使い方の場合、タッチパネルの表面や導電膜等に生じた傷を見えづらくすることができ、歩留まりの向上に寄与できる点で好適である。
なお、上部透明基板として、後述する光学シートを凹凸面が下部透明基板側を向くように用いた場合、超高精細の表示素子のギラツキを防止するとともに、操作時に上下の導電膜同士が密着することを防止し、さらに上下の導電膜が近接することにより干渉縞が生じることを防止できる。
また、抵抗膜式タッチパネルの下部透明基板として後述する光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸面が上部透明基板側を向くようにすることにより、下部電極の表面の反射を抑制するとともに、超高精細の表示素子のギラツキを防止することができる。さらに、この使い方の場合、操作時に上下の導電膜同士が密着することを防止できるとともに、上下の導電膜が近接することにより干渉縞が生じることを防止できる。
なお、下部透明基板として、後述する光学シートを凹凸面が上部透明基板とは反対側を向くように用いた場合、ギラツキを防止するとともに、密着や干渉縞を防止できる点で好適である。

静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、１枚の透明基板上の別々の面にＸ電極及びＹ電極を形成する態様、透明基板上にＸ電極、絶縁体層、Ｙ電極をこの順で形成する態様、図２に示すように、透明基板２１上にＸ電極２２を形成し、別の透明基板２１上にＹ電極２３を形成し、接着剤層２４等を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。
静電容量式タッチパネルの場合、透明基板の少なくとも一以上に後述する光学シートを用いることが好ましい。なお、透明基板は、２以上の基材からなる多層構造として、そのうちの１つの基材として後述する光学シートを用いてもよい。

静電容量式タッチパネルが、上述の基本態様上にさらに別の透明基板を有する構成の場合、該別の透明基板として後述する光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸面が前記基本態様と反対側を向くようにして、該凹凸面を操作者側に向けた場合には、静電容量式タッチパネルに防眩性を付与できるとともに、超高精細の表示素子のギラツキを防止することができ、さらには超高精細の表示素子の解像度の低下を防止できる。また、この使い方の場合、タッチパネルの表面及び導電膜等に生じた傷、並びに電極パターンの形状を見えづらくできる点で好適である。
また、静電容量式タッチパネルが、透明基板上にＸ電極を形成し、別の透明基板上にＹ電極を形成し、接着剤等を介して積層する構成の場合、少なくとも一方の透明基板として後述する光学シートを含むものを用い、かつ光学シートの凹凸面を操作者側に向けた場合でも、上記と同様の効果を得ることができる。
なお、静電容量式タッチパネルの透明基板として、後述する光学シートを凹凸面が操作者とは反対側を向くように用いた場合、ギラツキを防止できるとともに、密着や干渉縞を防止できる点で好適である。

（光学シート）
本発明のタッチパネルに用いる光学シートは、表面に凹凸形状を有し、かつ凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たすものである。
条件（１）：凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５μｍ以下。
条件（２）：凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。

条件（１）のσ_ＳＲａは、６４μｍ四方の各測定領域の三次元算術平均粗さＳＲａのバラツキの度合いを示している。６４μｍ四方という大きさはカラーフィルターの画素の大きさと対応しているため、この領域ごとの凹凸度合いがばらついていると、カラーフィルターとの干渉により輝度ムラが生じやすくなる。つまり、σ_ＳＲａが０．０５０μｍを超える場合、カラーフィルターの画素と凹凸層の干渉による輝度ムラが大きくなり、ギラツキが生じてしまう。
σ_ＳＲａは、０．０４０μｍ以下であることが好ましく、０．０３０μｍ以下であることがより好ましい。

条件（２）のＳＲａ_ＡＶＥは、光学シートの凹凸形状の粗さの程度を示している。ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ未満の場合、防眩性、密着防止性及び干渉縞防止性等の凹凸形状によって付与する諸性能が不十分となる場合がある。また、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ未満の場合、電極の形状や光学シートの傷が目立ちやすくなる場合がある。
前記諸性能のうちの防眩性の観点から、ＳＲａ_ＡＶＥは、０．１１０μｍ以上であることが好ましく、０．１１５μｍであることがより好ましい。
なお、ＳＲａ_ＡＶＥが大き過ぎる場合、解像度及びコントラストが低下する傾向にある。このため、ＳＲａ_ＡＶＥは、０．３００μｍ以下であることが好ましく、０．２００μｍ以下であることがより好ましく、０．１７５μｍ以下であることがさらに好ましい。
本発明において、ＳＲａは、カットオフ値０．８ｍｍとした値である。

条件（１）及び（２）は、光学シートの略全域で満たすことが好ましい。略全域としたのは、光学シートの端部は切断時等に微小な欠陥を生じる可能性があり、端部に欠陥があったとしても視認者は欠陥として認識しにくいるためである。また、光学シートの端部周辺は視覚的に視認しにくい領域である。このため、光学シートの４辺の端部から１０ｍｍを除いた領域において条件（１）及び（２）を満たすことが好ましい。後述する条件（３）〜（６）及びその他のパラメータも同様である。

なお、本発明においてＳＲａはＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に記載されている２次元粗さパラメータの算術平均粗さＲａを３次元に拡張したものであり、基準面に直交座標軸Ｘ、Ｙ軸を置き、粗さ曲面をＺ（ｘ，ｙ）、基準面の大きさをＬｘ、Ｌｙとすると下記式（ａ）で算出される。
（式中、Ａ＝Ｌｘ×Ｌｙ）
また、Ｘ軸方向にｉ番目、Ｙ軸方向にｊ番目の点の位置における高さをＺ_ｉ，ｊとすると、上記算術平均粗さＳａは、下記式（ｂ）で算出される。
なお、各領域でのＳＲａを算出する際の基準面は、各領域毎に基準面を求めるのではなく、測定範囲全体で求めた基準面とした。

条件（１）及び（２）の測定では、合計１００個以上の数の測定領域を設けるものとする。また、各測定領域は連続させて間隔を空けないものとする。また、各測定領域は、Ｘ方向及びこれに直交するＹ方向の２つの方向に連続させることが好ましい。例えば、測定領域の合計数を１００個とする場合、６４μｍ×６４００μｍの領域から１００個の測定領域を形成するのではなく、６４０μｍ四方の領域から１００個の測定領域を形成することが好ましい。
三次元粗さ曲面は、簡便性から干渉顕微鏡を用いて測定することが好ましい。このような干渉顕微鏡としては、Ｚｙｇｏ社製の「Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ」シリーズ等が挙げられる。また、ＳＲａは上述の干渉顕微鏡「Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ」シリーズに付属の測定・解析アプリケーションソフト「ＭｅｔｒｏＰｒｏ」により算出できる。

本発明のタッチパネルで用いる光学シートは、上述した凹凸形状によりギラツキ防止性を向上できるため、内部へイズを必要以上に高くする必要がなくなり、超高精細な表示素子の解像度の低下を防止することができる。

光学シートは、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。

光学シートは、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが２５〜６０％であることが好ましく、３０〜６０％であることがより好ましく、３０〜５０％であることがさらに好ましい。ヘイズを２５％以上とすることにより、防眩性を付与するとともに、電極の形状や傷を見えづらくすることができる。また、ヘイズを６０％以下とすることにより、超高精細の表示素子の解像度の低下を防止するとともに、コントラストの低下を防止しやすくできる。

また、ヘイズを表面ヘイズ（Ｈｓ）と内部ヘイズ（Ｈｉ）とに分けた場合、表面へイズは５〜２５％であることが好ましく、５〜２０％であることがより好ましく、７〜１５％であることがさらに好ましい。表面ヘイズを５％以上とすることにより、防眩性を良好にするとともに、電極の形状や傷を見えづらくすることができ、２５％以下とすることにより、コントラストの低下や解像度の低下を防止しやすくできる。
また、内部へイズは、１５〜４０％であることが好ましく、２０〜４０％であることがより好ましく、２５〜３８％であることがさらに好ましい。内部ヘイズを１５％以上とすることにより、表面凹凸との相乗作用によりギラツキを防止しやすくでき、４０％以下とすることにより、超高精細の表示素子の解像度の低下を防止できる。
また、表面ヘイズと内部へイズとの比（Ｈｓ／Ｈｉ）は、上述した表面ヘイズと内部へイズの効果のバランスの観点から、０．１〜０．５であることが好ましく、０．２〜０．４であることがより好ましい。
表面ヘイズ及び内部へイズは、例えば、実施例に記載の方法で求めることができる。

光学シートは、さらに、ＪＩＳ Ｋ７３７４に準拠して、写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍのそれぞれについて前記光学シートの透過像鮮明度を測定し、光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_{０．１２５}、光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_０．２５、光学櫛の幅が０．５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_０．５、光学櫛の幅が１．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_１．０、光学櫛の幅が２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_２．０とした際に、以下の条件（３）及び（４）を満たすことが好ましい。
条件（３）：Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．２５、Ｃ_０．５及びＣ_１．０の最大値と最小値との差が６．０％以内。
条件（４）：Ｃ_２．０とＣ_１．０との差が１０．０％以上。

Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．２５、Ｃ_０．５、Ｃ_１．０及びＣ_２．０の値には、凹凸の傾斜角が影響していると考えられる。ここで、凹凸の傾斜角のレベルを５つに分け、レベル１を最も小さい傾斜角とした場合、Ｃ_{０．１２５}はレベル１以上の傾斜角、Ｃ_０．２５はレベル２以上の傾斜角、Ｃ_０．５はレベル３以上の傾斜角、Ｃ_１．０はレベル４以上の傾斜角、Ｃ_２．０はレベル５以上の傾斜角の影響を受けて、数値が１００％未満となっていると考えられる。
条件（３）を満たすことは、レベル１以上の傾斜角、レベル２以上の傾斜角、レベル３以上の傾斜角、及びレベル４以上の傾斜角の量がほぼ一定であることを示している。言い換えると、条件（３）を満たすことは、光学シートの凹凸にはレベル３以下の傾斜角がほとんど存在せず、ほとんどの傾斜角がレベル４であることを意味している。そして、ＳＲａ_ＡＶＥに大差がないことを前提とすれば、光学シートの凹凸のほとんどの傾斜角をレベル４とすることにより、光学シートの面内の凹凸のバラツキを少なくすることができ、ギラツキをより防止できると考えられる。
また、条件（４）を満たすことにより、レベル１〜４の傾斜角に対して、レベル５以上の傾斜角の割合が少なくなる。傾斜角が大きいとギラツキへの影響が大きくなり、レベル５以上になるとその傾向が顕著になると考えられる。したがって、レベル５以上の傾斜角の割合を少なくすることで、ギラツキをより防止できると考えられる。さらに、条件（４）を満たしてレベル５以上の傾斜角の割合を少なくすることにより、解像度を良好にできると考えられる。

条件（３）の差は、５．５％以内であることがより好ましく、４．０％以内であることがさらに好ましい。
条件（４）の差は、１１．０％以上であることがより好ましく、１１．５％以上であることがさらに好ましい。なお、防眩性、密着防止性及び干渉縞防止性等の凹凸形状によって付与する諸性能を良好とするため、条件（４）は２０．０％以下であることが好ましい。

また、条件（３）及び（４）による効果をより発揮しやすくするために、以下の条件（５）及び（６）を満たすことが好ましい。
条件（５）：Ｃ_{０．１２５}が３０．０％以上。
条件（６）：Ｃ_２．０が４０．０％以上。
条件（５）は、Ｃ_{０．１２５}が３５．０％以上であることがより好ましく、４０．０％以上であることがさらに好ましい。なお、防眩性、密着防止性及び干渉縞防止性等の凹凸形状によって付与する諸性能を良好とするため、Ｃ_{０．１２５}は５０．０％以下であることが好ましい。
条件（６）は、Ｃ_２．０が５０．０％以上であることがより好ましく、５５．０％以上であることがさらに好ましい。なお、防眩性、密着防止性及び干渉縞防止性等の凹凸形状によって付与する諸性能を良好とするため、Ｃ_２．０は７０．０％以下であることが好ましい。

上述の光学シートは、少なくとも一方の面に条件（１）及び（２）を満たす凹凸形状を有し、光透過性を有するものであれば、特に制限することなく使用できる。また、条件（１）及び（２）を満たす凹凸形状は光学シートの両面に有していてもよいが、取り扱い性、映像の視認性（解像度、白化）の観点から、上述した凹凸形状を片面に有し、他方の面は略平滑（Ｒａ０．０２μｍ以下）であることが好ましい。
また、光学シートは、凹凸層の単層であってもよいし、透明基材上に凹凸層を有する複層であってもよい。取り扱い性及び製造の容易性からは、透明基材上に凹凸層を有する構成が好適である。

凹凸の形成方法としては、例えば、１）エンボスロールを用いた方法、２）エッチング処理、３）型による成型、４）コーティングによる塗膜の形成等が挙げられる。これら方法の中では、凹凸形状の再現性の観点からは３）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応の観点からは４）のコーティングによる塗膜の形成が好適である。

型による成型は、凹凸面と相補的な形状からなる型を作製し、当該型に高分子樹脂やガラス等の凹凸層を構成する材料を流し込んで硬化させた後、型から取り出すことにより製造することができる。透明基材を使用する場合には、型に高分子樹脂等を流し込み、その上に透明基材を重ね合わせた後、高分子樹脂等を硬化させ、透明基材ごと型から取り出すことにより製造することができる。

コーティングによる塗膜の形成は、バインダー樹脂及び粒子を含有してなる凹凸層形成塗布液を、グラビアコーティング、バーコーティング等の公知の塗布方法により透明基材上に塗布し、必要に応じて乾燥、硬化することにより形成することができる。
条件（１）及び（２）を満たす凹凸形状とするためには、凹凸層形成塗布液中に、粒子として有機粒子及び無機微粒子を含有させることが好ましい。このように凹凸層中に異種の粒子を含有することにより、凹凸層の表面形状にバラツキが少なくなり、σ_ＳＲａ等を上述した範囲にしやすくできると考えられる。

図３は、バインダー樹脂、有機粒子及び無機微粒子を含有してなる凹凸層形成塗布液をコーティングして形成してなる、実施例１の光学シートの凹凸層の断面を示す走査型透過電子顕微鏡写真（ＳＴＥＭ）である。
通常、有機粒子の存在しない箇所は凹凸層の表面が略平滑となるが、図３の凹凸層は有機粒子の存在しない箇所も緩やかな傾斜を有している。この原因は、無機微粒子により、塗布液のチキソトロピー性及び溶媒の乾燥特性が影響を受け、通常のようなレベリングが生じていないためと考えられる。このように、有機粒子の存在しない箇所にも緩やかな傾斜が形成されることにより、凹凸層の表面形状にバラツキが少なくなり、σ_ＳＲａ等を上述した範囲にしやすくできると考えられる。

有機粒子は、球形、円盤状、ラグビーボール状、不定形等の形状が挙げられ、また、これら形状の中空粒子、多孔質粒子及び中実粒子等が挙げられる。これらの中でも、ギラツキ防止の観点からは、球形の中実粒子が好適である。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂及びポリエステル等からなる粒子が挙げられる。
有機粒子は表面が親水化処理されていない非親水化処理有機粒子が好ましい。無機微粒子の代表例であるシリカ微粒子は親水性の度合いが高いため、非親水化処理有機粒子を用いることにより、有機粒子とシリカとが凹凸層内で密集することなく（例えば、有機粒子の周りにシリカが偏在することなく）均一に分散され、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくしやすいためである。
また、上述の有機粒子の中でも、アクリル−スチレン共重合体粒子及びポリスチレン粒子が好ましく、ポリスチレン粒子がより好ましい。アクリル−スチレン共重合体粒子及びポリスチレン粒子は、比重が小さく凹凸層中で沈みにくいため、凹凸層の表面形状にバラツキが少なくなると考えられる。また、ポリスチレン粒子は疎水性の度合いが強いため、凹凸層内で無機微粒子の代表例であるシリカ微粒子と密集することなく均一に分散され、凹凸層の表面形状にバラツキが少なくなると考えられる。また、アクリル−スチレン共重合体粒子は、屈折率及び親疎水の程度の制御が容易であることから、内部ヘイズ、及び凝集／分散の制御がしやすい点で良好である。

また、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくする観点からは、［有機粒子の比重／バインダー樹脂及び無機微粒子の混合物の比重］が１．０未満であることが好ましい。

有機粒子は、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくする観点から、平均粒子径が２〜１０μｍであることが好ましく、３〜８μｍであることがより好ましい。
また、有機粒子の平均粒子径と凹凸層の厚みとの比（有機粒子の平均粒子径／凹凸層の厚み）は、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくする観点から、０．４〜０．８であることが好ましく、０．５〜０．７であることがより好ましい。

有機粒子の平均粒子径は、以下の（１）〜（３）の作業により算出できる。
（１）本発明の光学シートを光学顕微鏡にて透過観察画像を撮像する。倍率は５００〜２０００倍が好ましい。
（２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の長径及び短径を測定し、長径及び短径の平均から個々の粒子の粒子径を算出する。長径は、個々の粒子の画面上において最も長い径とする。また、短径は、長径を構成する線分の中点に直交する線分を引き、該直交する線分が粒子と交わる２点間の距離をいうものとする。
（３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を有機粒子の平均粒子径とする。
無機微粒子の平均一次粒子径及び無機微粒子の凝集体の平均粒子径は、まず、本発明の光学シートの断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。撮像後、上記（２）及び（３）と同様の手法を行うことにより、無機微粒子の平均一次粒子径及び無機微粒子の凝集体の平均粒子径を算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。

有機粒子の含有量は、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくする観点から、凹凸層を形成する全固形分中の２〜２５質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましく、６〜１２質量％であることがさらに好ましい。

無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる微粒子が挙げられる。無機微粒子は、凹凸層中に均一に分布していることで、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくしやすくできる。また、無機微粒子は、凹凸層中で凝集体を形成し、凝集体が疎に分布していることが好ましい。無機微粒子が凝集体を形成することで、表面形状のばらつきを少なくする効果がより大きくなり、該凝集体が疎に分布していることで無機微粒子による拡散の影響を小さくできる。
上記無機微粒子の中でも、透明性の観点、及び凹凸層の表面形状のバラツキをより少なくする観点からシリカ微粒子が好適である。

「凹凸層中で均一に分布している」とは、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等の透過型電子顕微鏡にて倍率１万倍の条件で凹凸層の厚み方向の有機粒子が観察されない箇所から任意の断面１０カ所を観察したときに、各断面で５μｍ四方の観察領域中のシリカ微粒子の面積割合を測定したとき、その平均値をＭ、その標準偏差をＳとしたとき、Ｓ／Ｍ≦０．１であることを意味する。
「凹凸層中で凝集体が疎に分布している」とは、局所的には、無機微粒子が不均一に分布していることを表し、上記と同様に観察したときに、各断面で０．５μｍ四方の観察領域中のシリカ微粒子の面積割合を測定したとき、その平均値をＭ、その標準偏差をＳとしたとき、Ｓ／Ｍ≧０．２であることを意味する。
なお、このような無機微粒子の分布は、凹凸層の厚み方向の断面電子顕微鏡観察にて容易に判別することができる。例えば、図３は、実施例１の光学シートの断面ＳＴＥＭ写真であり、下部の淡色領域が基材であり、基材上部の濃色帯状領域が凹凸層の断面である。該凹凸層の断面において、黒く斑に観察される部分が無機微粒子（シリカ微粒子）の凝集体であり、シリカ微粒子の凝集体が凹凸層中で均一に分散していることが明確に確認できる。また、無機微粒子の凝集体の面積割合は、例えば、画像解析ソフトを用いて算出することができる。

無機微粒子は、表面処理されていることが好ましい。無機微粒子が表面処理されていることで、凹凸層中での無機微粒子の分布を適切に制御しやすくできる。また、無機微粒子自体の耐薬品性及び耐ケン化性の向上を図ることもできる。
なお、有機粒子の周りに無機微粒子が密集しないようにするため、有機微粒子から５００ｎｍ外側の円周内でかつ有機微粒子を除いた領域に占める無機微粒子の面積割合を示す「Ｍｎ」と、有機微粒子から５００ｎｍ外側の円周より外側の領域での無機微粒子の面積割合を示す「Ｍｆ」とが、Ｍｆ／Ｍｎ≧１．０の関係を満たすことが好ましい。Ｍｎ及びＭｆは、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等の透過型電子顕微鏡にて倍率１万倍の条件で凹凸層の厚み方向の有機粒子が観察される断面を顕微鏡観察することにより算出できる。

上記表面処理としては、無機微粒子の表面を疎水性にする疎水化処理が好ましい。疎水化処理としては、例えば、無機微粒子を、メチル基、オクチル基等のアクリル基を有するシラン化合物で処理する方法等が挙げられる。
例えば、シリカ微粒子の表面には水酸基（シラノール基）が存在しているが、上記表面処理がされることでシリカ微粒子の表面の水酸基が少なくなり、シリカ微粒子が過度に凝集することを防止でき、シリカ微粒子が不均一に分散することを抑制できる。

無機微粒子としてシリカ微粒子を用いる場合、過度の凝集を抑制するために非晶質シリカが好ましい。一方、シリカ微粒子が結晶性シリカの場合、結晶構造中に含まれる格子欠陥によりシリカ微粒子のルイス酸性が強くなってしまい、シリカ微粒子が過度に凝集してしまう場合がある。

シリカ微粒子としては、それ自身が凝集しやすく後述の粒子径の範囲の凝集体を形成しやすいことから、例えば、フュームドシリカが好適に用いられる。
フュームドシリカとは、乾式法で作製された粒子径が２００ｎｍ以下の粒子径を有する非晶質のシリカをいい、ケイ素を含む揮発性化合物を気相で反応させることにより得られる。フュームドシリカは、例えば、ＳｉＣｌ_４等のケイ素化合物を酸素と水素の炎中で加水分解することにより生成することができ、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８０５（日本アエロジル社製）等が挙げられる。

無機微粒子の含有量は特に限定されないが、凹凸層を形成する全固形分の１．０〜１５．０質量％であることが好ましく、２．０〜１０．０質量％であることがより好ましく、３．０〜８．０質量％であることがさらに好ましい。当該範囲とすることにより、レベリング性の制御、及び凹凸層の重合収縮の抑制により、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくしやすくできる。
また、凹凸層中における有機粒子及び無機微粒子の含有量の比（有機粒子の含有量／無機微粒子の含有量）は、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくしやすくする観点から、０．５〜２．５であることが好ましく、０．８〜２．２であることがより好ましい。

無機微粒子は、平均一次粒子径が１〜１００ｎｍであることが好ましい。平均一次粒子径を１ｎｍ以上とすることにより、適切な凝集体を形成しやすくなり、１００ｎｍ以下とすることにより、光拡散によるコントラストの低下、及び内部へイズの過剰な上昇を抑制できる。より好ましい下限は５ｎｍ、より好ましい上限は５０ｎｍ、さらに好ましい上限は２０ｎｍである。

シリカ微粒子の凝集体は、図３の断面電子顕微鏡写真のように、任意の方向に連なった構造を形成することが好ましい。凹凸層中でシリカ微粒子が任意の方向に連なった凝集体を形成していることで、有機粒子に基づく均一な凹凸形状を形成させやすくできる。
なお、シリカ微粒子が任意の方向に連なった構造とは、例えば、シリカ微粒子が直線状に連続して連なった構造（直鎖構造）、該直鎖構造が複数絡み合った構造、上記直鎖構造にシリカ微粒子が複数連続して形成された側鎖を１又は２以上有する分岐構造等、任意の構造が挙げられる。
上記のようにシリカ微粒子が任意の方向に連なった凝集体を形成するためには、フュームドシリカを用いることが好ましい。

無機微粒子の凝集体は、平均粒子径が１００ｎｍ〜１μｍであることが好ましい。凝集体の平均粒子径を１００ｎｍ以上とすることにより、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくしやすくでき、１μｍ以下とすることにより、光拡散によるコントラストの低下を抑制できる。凝集体の平均粒子径のより好ましい下限は２００ｎｍ、より好ましい上限は８００ｎｍである。

凹凸層のバインダー樹脂は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物を含むことが好ましく、機械的強度をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物を含むことがより好ましく、その中でも紫外線硬化性樹脂組成物を含むことがさらに好ましい。

熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。

電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
また、本明細書において「電離放射線」とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。

電離放射線硬化性樹脂組成物は、分子中に水酸基を含有しない多官能性（メタ）アクリレート系化合物を５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましい。
分子中に水酸基を含まない多官能性（メタ）アクリレート系化合物の割合を多くすることにより、凹凸層形成用塗布液の溶剤として極性の高い溶剤（例えば、イソプロピルアルコール）を用いた際に、該溶剤を蒸発させやすくすることができ、無機微粒子の過剰な凝集を抑制できる。

分子中に水酸基を含まない多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）、ジプロピレングリコールジアクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ）、ＰＯ変性ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。なかでも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）が好適に用いられる。

その他の電離放射線硬化性化合物としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の１つの不飽和結合を有する化合物、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等の２以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。
なお、本発明では、電離放射線硬化性化合物として、上述した化合物をＰＯ、ＥＯ等で変性したものも使用できる。

さらに、電離放射線硬化性化合物として、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。

電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、タッチパネルの透明導電膜形成時や結晶化工程の熱により残留した光重合開始剤が昇華し、透明導電膜の低抵抗化が損なわれることを防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。

凹凸層の厚みは、カール抑制、機械的強度、硬度及び靭性とのバランスの観点から、２〜１０μｍであることが好ましく、５〜８μｍであることがより好ましい。
凹凸層の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましい。

凹凸層形成塗布液には、通常、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能とするために溶剤を用いる。溶剤の種類によって、塗布、乾燥過程した後の凹凸層の表面状態が異なるため、溶剤の飽和蒸気圧、透明基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。

溶剤の乾燥が遅い場合、凹凸層内で無機微粒子が過度に凝集して、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくしづらくなる。無機微粒子の過度な凝集を防ぐために、溶剤は、極性が高く、かつ揮発速度が速いものを所定量含有させることが好ましい。
また、極性が高く、揮発速度が速い溶剤は、他の溶剤よりも先に揮発するため、塗膜形成時に有機微粒子の周囲の疎水性が強くなる。このため、極性が高く、揮発速度が速い溶剤を用いることにより、有機粒子の周りに無機微粒子が偏在することを防止でき、凹凸層内で有機粒子と無機微粒子とが密集することなく均一に分散できる。
本明細書において「極性が高い溶剤」とは、溶解度パラメータが１０［（ｃａｌ／ｃｍ^３）^１／２］以上の溶剤を意味し、「揮発速度が速い溶剤」とは、相対蒸発速度が１５０以上の溶剤を意味する。

溶解度パラメータは、Ｆｅｄｏｒｓの方法で計算される。Ｆｅｄｏｒｓの方法は、例えば「ＳＰ値 基礎・応用と計算方法」（山本秀樹著 株式会社情報機構発行、２００５年）に記載されている。Ｆｅｄｏｒｓの方法において、溶解度パラメータは下記式より算出される。
溶解度パラメータ＝［ΣＥ_ｃｏｈ／ΣＶ］^２
上記式中、Ｅ_ｃｏｈは凝集エネルギー密度、Ｖはモル分子容である。原子団ごとに決められたＥ_ｃｏｈ及びＶに基づき、Ｅ_ｃｏｈ及びＶの総和であるΣＥ_ｃｏｈ及びΣＶを求めることによって、溶解度パラメータを算出することができる。

本明細書において「相対蒸発速度」とは、ｎ−酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした時の相対蒸発速度をいい、ＡＳＴＭ Ｄ３５３９−８７に準拠して測定される蒸発速度で、下記式により算出される。具体的には、２５℃、乾燥空気下におけるｎ−酢酸ブチルの蒸発時間と各溶剤の蒸発時間を測定し算出する。
相対蒸発速度＝［（ｎ−酢酸ブチル９０重量％が蒸発するのに要する時間）／（測定溶剤の９０重量％が蒸発するのに要する時間）］×１００

極性が高く、かつ、揮発速度が速い溶剤としては、例えば、エタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられるが、その中でも、イソプロピルアルコールが好適である。
また、極性が高く、かつ、揮発速度が速い溶剤の含有量は、全溶剤の１０〜４０質量％であることが好ましい。１０質量％以上とすることにより、無機微粒子の過度な凝集を抑制しやすくすることができ、４０質量％以下とすることにより、溶剤の揮発が速すぎることにより凹凸層形成塗布液のレベリング性が不足することを抑制できる。

また、上述した凹凸形状を得やすくする観点からは、凹凸層を形成する際、乾燥条件を制御することが好ましい。乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により調整することができる。具体的な乾燥温度としては、３０〜１２０℃、乾燥風速では０．２〜５０ｍ／ｓとすることが好ましい。また、乾燥条件により凹凸層のレベリングを制御するために、電離放射線の照射は乾燥後に行うことが好適である。

また、表面凹凸を適度に滑らかにして、上述した凹凸形状を得やすくする観点からは、凹凸層形成塗布液には、レベリング剤を含有させることが好ましい。レベリング剤は、フッ素系又はシリコーン系のものが挙げられ、凹凸層にベナードセル構造が生じることを抑制しやすいフッ素系のレベリング剤が好適である。レベリング剤の添加量としては、凹凸層形成塗布液の全固形分に対して０．０１〜０．５重量％が好ましく、０．０５〜０．２重量％がより好ましい。

また、凹凸層形成塗布液は、（１）溶剤にバインダー樹脂及び有機粒子を混合及び攪拌して中間組成物を調製する工程の後、（２）中間組成物に無機微粒子を混合、分散させる工程を行うことで調製することが好ましい。
凹凸層形成塗布液を上記のように調整することにより、凹凸層の表面形状のバラツキを抑制しやすくできる。一方、上記調整とは異なる手法の場合（有機粒子やバインダー樹脂を添加する前に、無機微粒子を溶剤に添加した場合）、溶剤アタックにより無機微粒子の過剰な凝集が発生してしまい、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくしにくくなる。
上記効果をより確実にするために、工程（２）で無機微粒子を添加する際、無機微粒子は溶剤に分散させた無機微粒子分散物であることが好ましい。

光学シートの透明基材としては、光透過性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものであることが好ましい。このような透明基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等のプラスチックフィルムが挙げられる。透明基材は、２枚以上のプラスチックフィルムを貼り合わせたものであってもよい。

上記の中でも、機械的強度や寸法安定性の観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）が好ましい。
ＴＡＣ、アクリルは光透過性光学的等方性の観点で好適である。また、ＴＡＣ、アクリルは溶剤により溶けやすく、溶解したＴＡＣ成分、アクリル成分が凹凸層に流入して、比重の小さい有機粒子を押し上げる作用がある。つまり、透明基材として、ＴＡＣ、アクリルを用いることにより、有機粒子が凹凸層中で沈み込みにくくなり、凹凸層の表面形状のバラツキを少なくしやすくなると考えられる。
ＣＯＰ、ポリエステルは耐候性に優れる点で好適である。また、リタデーション値３０００〜３００００ｎｍのプラスチックフィルム又は１／４波長位相差のプラスチックフィルムは、偏光サングラスを通して液晶ディスプレイの画像を観察した場合に、表示画面に色の異なるムラが観察されることを防止できる点で好適である。

透明基材の厚さは、５〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。
透明基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。

光学シートは、凹凸形状の上及び／又は凹凸形状と反対側の面上に、反射防止層、防汚層、帯電防止層等の機能性層を有していてもよい。また、透明基材上に凹凸層を有する構成の場合、前記箇所のほかに、透明基材と凹凸層との間に機能性層を有していてもよい。

本発明のタッチパネルは、防眩性等の諸特性を付与しつつギラツキ防止性をより良好にすることができる。特に、光学シートをタッチパネルの表面部材として用い、かつ光学シートの凹凸形状側の面が表面となるように配置することにより、コントラストの低下を抑制しつつ防眩性を付与しやすくなる点で好適である。

［表示装置］
本発明の表示装置は、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは、表面に凹凸形状を有し、かつ前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たすものである。
条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。

画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子は、上述のようにギラツキを生じやすいが、本発明では、凹凸形状を有する光学シートとして特定の光学シートを用いることにより、防眩性等の諸特性を付与しつつギラツキを防止できる。
本発明の表示装置に用いる光学シートとしては、上述した本発明のタッチパネルに用いる光学シートと同様のものを用いることができる。

表示素子としては、液晶表示素子、インセルタッチパネル液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子等が挙げられる。
インセルタッチパネル液晶素子は、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。なお、インセルタッチパネル液晶素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。インセルタッチパネル液晶素子は、例えば、特開２０１１−７６６０２号公報、特開２０１１−２２２００９号公報に記載されている。

光学シートは、例えば、以下の順で表示素子の前面に設置することができる。
（ａ）表示素子／表面保護板／光学シート
（ｂ）表示素子／光学シート
（ｃ）表示素子／光学シートを構成部材として有するタッチパネル
（ｄ）表示素子／光学シート／表面保護板
（ａ）及び（ｂ）の場合、光学シートの凹凸面が表面を向くように（凹凸面が表示素子とは反対側を向くように）配置することで、防眩性を付与できるとともに、ギラツキを防止でき、さらには、表面や表示素子に生じた傷を見えづらくすることができる。
（ｃ）の場合、上述した本発明のタッチパネルの実施の形態のように光学シートを配置することで、防眩性等の諸特性を付与しつつ、ギラツキを防止することができる。
なお、（ｂ）及び（ｄ）の場合、光学シートの凹凸面が表示素子側を向くようにして空気層を介して配置すれば、密着及び干渉縞を防止するとともに、表示素子に生じた傷を見づらくすることができる。
近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外で用いることが多い。このため、本発明の表示装置は、表示装置の最表面に光学シートを配置し、かつ凹凸面が表面側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。

［光学シート］
本発明の光学シートは、表面に凹凸形状を有する光学シートであって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるものである。
条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。

本発明の光学シートとしては、上述した本発明のタッチパネルに用いる光学シートと同様のものが挙げられる。
本発明の光学シートは、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いることで、防眩性等の諸特性を付与しつつ、超高精細の表示素子の映像光のギラツキ及び解像度の低下を防止できる点で好ましい。
近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外で用いることが多い。このため、本発明の光学シートは、タッチパネルや表示装置の最表面において、凹凸面が表面側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。

［光学シートの選別方法］
本発明の光学シートの選別方法は、表面に凹凸形状を有する光学シートの選別方法であって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たすものを光学シートとして選別する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの選別方法である。
条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。

本発明の光学シートの選別方法では、表示装置に光学シートを組み込まなくても、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子に用いた際にギラツキ防止性が良好な光学シートを選別することができ、光学シートの品質管理を効率よくできる。

光学シートを選別する判定条件は、上記（１）及び（２）を必須条件とする。条件（１）及び（２）の数値範囲は、上述した光学シートの好適な数値範囲であることが好ましい。例えば、条件（１）の判定条件は、σ_ＳＲａが０．０４０μｍ以下であることが好ましい。

本発明の光学シートの選別方法では、より正確にギラツキを防止できる光学シートを選別する観点から、以下に挙げる条件（３）及び（４）を判定条件とすることが好ましく、さらには以下に挙げる条件（３）〜（６）を判定条件とすることがより好ましい。また、前記条件（３）及び（４）、あるいは前記条件（３）〜（６）に加えて、以下の条件（７）を判定条件とすることがさらに好ましい。
なお、条件（３）〜（７）の数値範囲は、上述した光学シートの好適な数値範囲であることが好ましい。

条件（３）：Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．２５、Ｃ_０．５及びＣ_１．０の最大値と最小値との差が６．０％以内。
条件（４）：Ｃ_２．０とＣ_１．０との差が１０．０％以上。
条件（５）：Ｃ_{０．１２５}が３０．０％以上。
条件（６）：Ｃ_２．０が４０．０％以上。
条件（７）：光学シートの内部へイズが１５〜４０％。

［光学シートの製造方法］
本発明の光学シートの製造方法は、表面に凹凸形状を有する光学シートの製造方法であって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たすように製造する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの製造方法である。
条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。

本発明の光学シートの製造方法では、防眩性等の諸特性を付与できるとともに、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の映像光のギラツキを防止できる光学シートを効率よく製造することができる。

本発明の光学シートの製造方法は、上記条件（１）及び（２）を満たすように製造条件を制御することを必須とする。条件（１）及び（２）の数値範囲は、上述した光学シートの好適な数値範囲であることが好ましい。例えば、条件（１）は、σ_ＳＲａが０．０４０μｍ以下であることが好ましい。

本発明の光学シートの製造方法は、追加の条件として、上述した光学シートの選択方法の条件（３）及び（４）を満たすように製造条件を制御することが好ましく、上述した光学シートの選択方法の条件（３）〜（６）を満たすように製造条件を制御することがより好ましい。また、上述した光学シートの選択方法の条件（３）及び（４）、あるいは条件（３）〜（６）を満たしつつ、条件（７）を満たすことがさらに好ましい。

製造条件（１）〜（６）は、凹凸層の表面形状にバラツキが少なくすることにより制御できる。
製造条件（１）〜（６）を制御する具体的手段は、凹凸層を型により形成する場合は型の形状を制御すればよい。また、凹凸層をコーティングにより形成する場合の製造条件（１）〜（６）を制御する具体的手段は、有機粒子、無機微粒子、バインダー樹脂、レベリング剤、溶剤及び乾燥条件を上述した好適な実施形態とすることが挙げられる。
製造条件（７）は、内部拡散要素により制御できる。具体的には、バインダー樹脂の屈折率、有機粒子の形状、有機粒子の粒子径、有機粒子の添加量及び有機粒子の屈折率等の調整により、内部拡散要素を制御できる。また、バインダー樹脂に添加する有機粒子以外の材料（無機微粒子）の濃度等も内部拡散要素に影響を与える。

次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。

１．光学シートの物性測定及び評価
以下のように、実施例及び比較例の光学シートの物性測定及び評価を行った。結果を表１に示す。

１−１．光学シートの凹凸形状
＜ＳＲａ＞
実施例及び比較例で得られた各光学シートの凹凸層が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、ガラス板に貼付してサンプルとし、白色干渉顕微鏡（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にて、光学シートの表面形状の測定・解析を行った。
なお、測定・解析ソフトにはＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用いた。
（測定条件）
対物レンズ：５０倍
Ｚｏｏｍ：１倍
測定領域：１ｍｍ×１ｍｍ
解像度（１点当たりの間隔）：０．４４μｍ
（解析条件）
Ｒｅｍｏｖｅｄ：Ｎｏｎｅ
Ｆｉｌｔｅｒ：ＢａｎｄＰａｓｓ
ＦｉｌｔｅｒＴｙｐｅ：ＧａｕｓｓＳｐｌｉｎｅ
Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：８００μｍ
Ｈｉｇｈ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：３μｍ
Ｒｅｍｏｖｅ ｓｐｉｋｅｓ： ｏｎ
Ｓｐｉｋｅ Ｈｅｉｇｈｔ（ｘＲＭＳ）：２．５
Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈは、粗さパラメータにおけるカットオフ値λｃに相当する。
測定データを１２×１２の１４４個の領域（一つの領域は６４μｍ四方）に分割し、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面上に各領域のＳＲａを表示させた。各領域のＳＲａからσ_ＳＲａ及びＳＲａ_ＡＶＥを算出した。

１−２．透過像鮮明度
スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ−１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３７４に従って、０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ及び２ｍｍの巾をもつ光学くしを通した５種類の透過像鮮明度を測定した。
１−３．ヘイズ
まず、ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳＫ−７１３６：２０００に従ってヘイズ（全体ヘイズ）を測定した。また、光学シートの表面に、透明粘着剤を介して、厚み８０μｍのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を貼り付けることによって凹凸形状をつぶして平坦にし、表面形状起因のヘイズの影響をなくした状態でヘイズを測定して、内部ヘイズ（Ｈｉ）を求めた。そして、全体ヘイズ値から内部ヘイズ値を差し引いて、表面ヘイズ（Ｈｓ）を求めた。光入射面は基材側とした。

１−４．ギラツキ
実施例および比較例で得られた各光学シートにおいて、光学シートの凹凸層が形成されていない面と、ブラックマトリクス（ガラス厚み０．７ｍｍ）のマトリクスが形成されていないガラス面とを透明粘着剤で貼り合わせた。こうして得られた試料に対し、ブラックマトリクス側に白色面光源（ＨＡＫＵＢＡ社製、ＬＩＧＨＴＢＯＸ、平均輝度１０００ｃｄ／ｍ^２）を設置することで、疑似的にギラツキ発生させた。これを光学シート側からＣＣＤカメラ（ＫＰ−Ｍ１、Ｃマウントアダプタ、接写リング；ＰＫ−１１Ａ ニコン、カメラレンズ；５０ｍｍ，Ｆ１．４ｓ ＮＩＫＫＯＲ）で撮影した。ＣＣＤカメラと光学シートの距離は２５０ｍｍとし、ＣＣＤカメラのフォーカスは光学シートに合うように調節した。ＣＣＤカメラで撮影した画像をパーソナルコンピュータに取り込み、画像処理ソフト（ＩｍａｇｅＰｒｏ Ｐｌｕｓ ｖｅｒ．６．２；Ｍｅｄｉａ Ｃｙｂｅｒｎｅｔｉｃｓ社製）で次のように解析を行った。
まず、取り込んだ画像から２００×１６０ピクセルの評価箇所を選び、該評価箇所において、１６ｂｉｔグレースケールに変換した。次に、フィルタコマンドの強調タブからローパスフィルタを選択し「３×３、回数３、強さ１０」の条件でフィルタをかけた。これによりブラックマトリクスパターン由来の成分を除去した。次に、平坦化を選択し、「背景：暗い、オブジェクト幅１０」の条件でシェーディング補正を行った。次に、コントラスト強調コマンドで「コントラスト：９６、ブライトネス：４８」としてコントラスト強調を行った。得られた画像を８ビットグレースケールに変換し、その中の１５０×１１０ピクセルについてピクセルごとの値のばらつきを標準偏差値として算出することにより、ギラツキを数値化した。この数値化したギラツキ値が小さいほど、ギラツキが少ないと言える。なお、評価は、ブラックマトリクスが画素密度３５０ｐｐｉ相当のものと、画素密度２００ｐｐｉ相当のものの２つで行った。

１−５．防眩性
得られた光学シートの基材側に、黒色アクリル板を、透明粘着剤を介して貼り合わせた評価用サンプルを水平面に置き、評価用サンプルから１．５ｍ上方に蛍光灯を配置し、評価用サンプル上に蛍光灯を移しこませ、かつ評価用サンプル上の照度が８００〜１２００Ｌｘとした環境下で、様々な角度から目視官能評価を行い、以下の基準に従って評価した。
Ａ：いかなる角度からも蛍光灯の像が認識できない。
Ｂ：蛍光灯の像は映り込むが、蛍光灯の輪郭がぼやけ、輪郭の境界部が認識できない。
Ｃ：蛍光灯の像が鏡面のように映り込み、蛍光灯の輪郭（輪郭の境界部）がはっきりと認識できる。

１−６．白化
光学シートの透明基材側の面と、黒色のアクリル板とを透明粘着剤を介して貼り合わせたサンプルを作製した。作製したサンプルについて、暗室にて、３波長蛍光灯管を光源とする卓上スタンドの下で、以下の基準で白濁感を観察した。
Ａ：白さが観察されなかった。
Ｃ：白さが観察された。
１−７．干渉縞
２枚の光学シートを、一方の光学シートの凹凸面側と、他方の光学シートの透明基材側とが対向するようにして重ね合わせた。その結果、干渉縞が発生しなかったものを「Ａ」、干渉縞が発生したものを「Ｃ」とした。

２．凹凸層形成塗布液の調製
２−１．凹凸層形成塗布液１
下記に示した配合をビーズミルにて分散させて中間組成物を得た。次いで、下記に示した配合をビーズミルにて分散し無機微粒子分散物を得た。さらに、中間組成物をディスパーで撹拌しながら、無機微粒子分散物を徐々に加えていき、凹凸層形成塗布液１を得た。

（中間組成物）
・有機粒子（非親水化処理ポリスチレン粒子、平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５９、比重１．０５、積水化成品工業社製） １１質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（比重１．１６５） ６０質量部
・ウレタンアクリレート（商品名「Ｖ−４０００ＢＡ」、ＤＩＣ社製） ４０質量部
・光重合開始剤（商品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製） ５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（商品名「ＴＳＦ４４６０」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製） ０．０２５質量部
・トルエン １００質量部
・イソプロピルアルコール ４０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２５質量部

（無機微粒子分散物）
フュームドシリカ（オクチルシラン処理；平均１次粒子径１２ｎｍ、比重２．００、日本アエロジル社製） ７質量部
トルエン ５５質量部
イソプロピルアルコール ２０質量部

２−２．凹凸層形成塗布液２
中間組成物における有機粒子の配合量を１４質量部とした以外は、凹凸層形成塗布液１と同様にして凹凸層形成塗布液２を得た。

２−３．凹凸層形成塗布液３
中間組成物における有機粒子の配合量を８質量部とし、さらに無機微粒子分散物におけるフュームドシリカの配合量を９質量部とした以外は、凹凸層形成塗布液１と同様にして凹凸層形成塗布液３を得た。

２−４．凹凸層形成塗布液４
中間組成物における有機粒子を、非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子（平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５７、比重１．０８、積水化成品工業社製）として配合量を１２質量部とした以外は、凹凸層形成塗布液１と同様にして凹凸層形成塗布液４を得た。

２−５．凹凸層形成塗布液５
下記に示した配合をビーズミルにて分散して凹凸層用組成物５を得た。
・有機粒子（非親水化処理ポリスチレン粒子、平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５９、比重１．０６、綜研化学社製） １４質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １００質量部
・アクリルポリマー（分子量７５，０００、三菱レイヨン社製） １０質量部
・光重合開始剤（商品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製） ５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（商品名「ＴＳＦ４４６０」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製） ０．０２５質量部
・トルエン １２０質量部
・シクロヘキサノン ３０質量部

２−６．凹凸層形成塗布液６
有機粒子を、非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子（平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５７、比重１．０８、積水化成品工業社製）とした以外は、凹凸層用組成物５と同様にして凹凸層用組成物６を得た。

２−７．凹凸層形成塗布液７
有機粒子を配合しない以外は凹凸層用組成物５と同様にして凹凸層用組成物７を得た。

３．光学シートの作製
［実施例１］
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）上に、凹凸層形成塗布液１を塗布し、７０℃、風速５ｍ／ｓで３０秒間乾燥した後、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して、凹凸層を形成し、光学シートを得た。凹凸層の膜厚は６．０μｍであった。

［実施例２〜４］
凹凸層形成塗布液１を凹凸層塗布液２〜４とした以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜４の光学シートを得た。

［比較例１］
凹凸層形成塗布液１を凹凸層塗布液５とし、さらに凹凸層の膜厚を４．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして、比較例１の光学シートを得た。

［比較例２］
凹凸層形成塗布液５を凹凸層塗布液６とした以外は、比較例１と同様にして、比較例２の光学シートを得た。

［比較例３］
凹凸層形成塗布液５を凹凸層塗布液７とした以外は、比較例１と同様にして、比較例３の光学シートを得た。

表１の結果から明らかなように、実施例１〜４の光学シートは、防眩性等の諸特性を付与できるとともに、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子のギラツキを防止することができ、さらにはコントラストにも優れるものであった。また、実施例１〜４の光学シートは、画素密度３５０ｐｐｉの表示素子のギラツキ防止性については、比較例１〜２の光学シートよりも極めて良好な効果を示しているが、画素密度２００ｐｐｉの表示素子のギラツキ防止性能については、比較例１〜２の光学シートとの効果の差が少なくなっている。このことから、実施例１〜４の光学シートは、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子に対して極めて有用であることが分かる。
なお、比較例３のものは、凹凸層中に透光性粒子を含有しないためギラツキ防止性には優れているが、防眩性に劣るとともに、干渉縞が発生してしまい、使用に耐えないものであった。

４．タッチパネルの作製
実施例１〜４及び比較例１〜３の光学シートの透明基材側に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実施例１〜４及び比較例１〜３の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
得られた抵抗膜式タッチパネルを、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）上に載置し、ギラツキの有無を目視で評価したところ、実施例１〜４のタッチパネルはギラツキが抑制され、外光の映り込みも少なく、視認性が良好であった。また、実施例１〜４のタッチパネルは超高精細の映像の解像度が損なわれることもなく、明室環境下のコントラストも良好であった。一方、比較例１〜２のタッチパネルはギラツキが目立つものであった。なお、比較例３のタッチパネルは外光の映り込んでしまい、視認性が良好ではなかった。

５．表示装置の作製
実施例１〜４及び比較例１〜３の光学シートと、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤を介して貼り合わせ、実施例１〜４及び比較例１〜３の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、光学シートの凹凸面が表示素子とは反対側を向くようにした。
得られた表示装置のギラツキの有無を目視で評価したところ、実施例１〜４の表示装置はギラツキが抑制され、外光の映り込みも少なく、視認性が良好であった。また、実施例１〜４の表示装置は超高精細の映像の解像度が損なわれることもなく、明室環境下のコントラストも良好であった。一方、比較例１〜２の表示装置はギラツキが目立つものであった。なお、比較例３の表示装置は外光の映り込んでしまい、視認性が良好ではなかった。

１：抵抗膜式タッチパネル、１１：透明基板、１２：透明導電膜、１３：スペーサー
２：静電容量式タッチパネル、２１：透明基板、２２：透明導電膜（Ｘ電極）、２３：透明導電膜（Ｙ電極）、２４：接着剤層

Claims (14)

1. 光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは、表面に凹凸形状を有し、かつ前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たし、前記光学シートの内部へイズが１５〜４０％であり、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
   条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
   条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。
2. ＪＩＳ Ｋ７３７４に準拠して、写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍのそれぞれについて前記光学シートの透過像鮮明度を測定し、光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_{０．１２５}、光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_０．２５、光学櫛の幅が０．５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_０．５、光学櫛の幅が１．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_１．０、光学櫛の幅が２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_２．０とした際に、以下の条件（３）及び（４）を満たす、請求項１に記載のタッチパネル。
   条件（３）：Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．２５、Ｃ_０．５及びＣ_１．０の最大値と最小値との差が６．０％以内。
   条件（４）：Ｃ_２．０とＣ_１．０との差が１０．０％以上。
3. 画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは、表面に凹凸形状を有し、かつ前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たし、前記光学シートの内部へイズが１５〜４０％である表示装置。
   条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
   条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。
4. 表面に凹凸形状を有する光学シートであって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たし、内部へイズが１５〜４０％であり、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シート。
   条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
   条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。
5. ＪＩＳ Ｋ７３７４に準拠して、写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍのそれぞれについて前記光学シートの透過像鮮明度を測定し、光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_{０．１２５}、光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_０．２５、光学櫛の幅が０．５ｍｍの透過像鮮明度をＣ_０．５、光学櫛の幅が１．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_１．０、光学櫛の幅が２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ_２．０とした際に、以下の条件（３）及び（４）を満たす、請求項４に記載の光学シート。
   条件（３）：Ｃ_{０．１２５}、Ｃ_０．２５、Ｃ_０．５及びＣ_１．０の最大値と最小値との差が６．０％以内。
   条件（４）：Ｃ_２．０とＣ_１．０との差が１０．０％以上。
6. 表面に凹凸形状を有する光学シートの選別方法であって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たし、前記光学シートの内部へイズが１５〜４０％であるものを光学シートとして選別する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの選別方法。
   条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
   条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。
7. 表面に凹凸形状を有する光学シートの製造方法であって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たし、内部へイズが１５〜４０％となるように製造する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの製造方法。
   条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ_ＳＲａを算出した際に、σ_ＳＲａが０．０５０μｍ以下。
   条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ_ＡＶＥを算出した際に、ＳＲａ_ＡＶＥが０．１００μｍ以上。
8. 光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは、表面に凹凸形状を有し、かつ前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
   条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ _ＳＲａ を算出した際に、σ _ＳＲａ が０．０５０μｍ以下。
   条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ _ＡＶＥ を算出した際に、ＳＲａ _ＡＶＥ が０．１００μｍ以上かつ０．２００μｍ以下。
9. ＪＩＳ Ｋ７３７４に準拠して、写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍのそれぞれについて前記光学シートの透過像鮮明度を測定し、光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ _{０．１２５} 、光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ _０．２５ 、光学櫛の幅が０．５ｍｍの透過像鮮明度をＣ _０．５ 、光学櫛の幅が１．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ _１．０ 、光学櫛の幅が２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ _２．０ とした際に、以下の条件（３）及び（４）を満たす、請求項８に記載のタッチパネル。
   条件（３）：Ｃ _{０．１２５} 、Ｃ _０．２５ 、Ｃ _０．５ 及びＣ _１．０ の最大値と最小値との差が６．０％以内。
   条件（４）：Ｃ _２．０ とＣ _１．０ との差が１０．０％以上。
10. 画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは、表面に凹凸形状を有し、かつ前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たす表示装置。
    条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ _ＳＲａ を算出した際に、σ _ＳＲａ が０．０５０μｍ以下。
    条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ _ＡＶＥ を算出した際に、ＳＲａ _ＡＶＥ が０．１００μｍ以上かつ０．２００μｍ以下。
11. 表面に凹凸形状を有する光学シートであって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たす、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シート。
    条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ _ＳＲａ を算出した際に、σ _ＳＲａ が０．０５０μｍ以下。
    条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ _ＡＶＥ を算出した際に、ＳＲａ _ＡＶＥ が０．１００μｍ以上かつ０．２００μｍ以下。
12. ＪＩＳ Ｋ７３７４に準拠して、写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍのそれぞれについて前記光学シートの透過像鮮明度を測定し、光学櫛の幅が０．１２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ _{０．１２５} 、光学櫛の幅が０．２５ｍｍの透過像鮮明度をＣ _０．２５ 、光学櫛の幅が０．５ｍｍの透過像鮮明度をＣ _０．５ 、光学櫛の幅が１．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ _１．０ 、光学櫛の幅が２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ _２．０ とした際に、以下の条件（３）及び（４）を満たす、請求項１１に記載の光学シート。
    条件（３）：Ｃ _{０．１２５} 、Ｃ _０．２５ 、Ｃ _０．５ 及びＣ _１．０ の最大値と最小値との差が６．０％以内。
    条件（４）：Ｃ _２．０ とＣ _１．０ との差が１０．０％以上。
13. 表面に凹凸形状を有する光学シートの選別方法であって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たすものを光学シートとして選別する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの選別方法。
    条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ _ＳＲａ を算出した際に、σ _ＳＲａ が０．０５０μｍ以下。
    条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ _ＡＶＥ を算出した際に、ＳＲａ _ＡＶＥ が０．１００μｍ以上かつ０．２００μｍ以下。
14. 表面に凹凸形状を有する光学シートの製造方法であって、前記凹凸形状が下記条件（１）及び（２）を満たすように製造する、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子の前面に用いられる光学シートの製造方法。
    条件（１）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの標準偏差σ _ＳＲａ を算出した際に、σ _ＳＲａ が０．０５０μｍ以下。
    条件（２）：前記凹凸形状の表面を６４μｍ四方の測定領域に分割し、各測定領域における三次元算術平均粗さＳＲａを求め、全測定領域の三次元算術平均粗さの平均ＳＲａ _ＡＶＥ を算出した際に、ＳＲａ _ＡＶＥ が０．１００μｍ以上かつ０．２００μｍ以下。