JP2016170779A - タッチパネル、表示装置及び光学シート - Google Patents
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Abstract
【課題】凹凸形状によって防眩性等の諸特性を付与するとともに、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制できるタッチパネルを提供する。
【解決手段】光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす、表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
【選択図】なし
【解決手段】光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす、表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
【選択図】なし
Description
本発明は、タッチパネル、表示装置及び光学シートに関する。
近年、タブレット型ＰＣならびにスマートフォンに代表される双方向の通信機能を備え、かつ情報表示ならびに情報入力用の透明タッチパネルを搭載したモバイル型の情報端末機器が、日本ばかりでなく世界で広く普及しはじめてきた。
透明タッチパネルとしては、コスト的に優れた抵抗膜方式があるが、マルチタッチ等のジェスチャー操作が可能であること、超高精細化された表示素子の画質を損ないづらい等の点で、静電容量方式のタッチパネル、特に、投影型静電容量方式のタッチパネルの需要が拡大してきている。
透明タッチパネルとしては、コスト的に優れた抵抗膜方式があるが、マルチタッチ等のジェスチャー操作が可能であること、超高精細化された表示素子の画質を損ないづらい等の点で、静電容量方式のタッチパネル、特に、投影型静電容量方式のタッチパネルの需要が拡大してきている。
タッチパネルの表面には、外光の映り込みを防止すること等を目的として、透明基材上に凹凸層を有する防眩性シートが設置されることがある。
さらには、タッチパネルを構成する部材間の密着及び干渉縞の防止、及びタッチパネルと表示素子との間の密着及び干渉縞の防止等のために、タッチパネルの最表面基材、内部基材及び最背面基材等として、透明基材上に凹凸層を有する光学シートが用いられることがある。
さらには、タッチパネルを構成する部材間の密着及び干渉縞の防止、及びタッチパネルと表示素子との間の密着及び干渉縞の防止等のために、タッチパネルの最表面基材、内部基材及び最背面基材等として、透明基材上に凹凸層を有する光学シートが用いられることがある。
しかし、防眩性フィルム等の透明基材上に凹凸層を有する光学シートを用いた場合、その凹凸構造に起因して、映像光に微細な輝度のばらつきが見える現象（ギラツキ）が生じ、表示品位を低下させるという問題がある。特に、近年の超高精細化された表示素子においては、ギラツキの問題はさらに深刻化している。また、近年急速に増加している携帯情報端末は屋外で使用することが多いため、より強い防眩性が求められるが、かかる要求を満足するために防眩性を強くした際にもギラツキが悪化する傾向にある。
凹凸層を有する光学シートにおいてギラツキを防止する技術として、特許文献１〜９の技術が提案されている。
凹凸層を有する光学シートにおいてギラツキを防止する技術として、特許文献１〜９の技術が提案されている。
特許文献１及び２の光学シートは、内部ヘイズを付与することによりギラツキを改善するものである。しかし、超高精細の表示素子はギラツキが強くなる傾向にあり、内部へイズのみによりギラツキを抑えようとすると、内部へイズをさらに大きくせざるを得ない。また、内部ヘイズが大きいと解像度が悪化する傾向にあるが、超高精細の表示素子ではよりその傾向が大きい。したがって、特許文献１及び２のように内部へイズにのみ着目しても、近年の超高精細の表示素子に適する光学シートを得ることができなかった。
特許文献３〜９の光学シートは、凹凸の傾斜角度を低くして凹凸の程度を弱めることにより、ギラツキを改善するものである。しかし、特許文献３〜９の光学シートでも、超高精細の表示素子のギラツキを防止することはできなかった。また、特許文献３〜９の光学シートは、防眩性、密着防止等の凹凸形状により付与される諸性能を低下させてしまうものであった。
本発明は、このような状況下になされたものであり、凹凸形状によって防眩性等の諸特性を付与するとともに、解像度の低下及びギラツキを抑制できるタッチパネル、表示装置及び光学シートを提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明は、以下の［１］〜［１１］のタッチパネル、表示装置及び光学シートを提供する。
［１］光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす、表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
［２］前記条件（１）の上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上７５％以下である上記［１］に記載のタッチパネル。
［３］前記透光性粒子として、比重の異なる２種類以上の透光性粒子を含む上記［１］又は［２］に記載のタッチパネル。
［４］前記透光性粒子として、屈折率の異なる２種類以上の透光性粒子を含む上記［１］〜［３］の何れかに記載のタッチパネル。
［５］前記光学シートの内部へイズが１０〜３０％である上記［１］〜［４］の何れかに記載のタッチパネル。
［１］光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす、表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
［２］前記条件（１）の上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上７５％以下である上記［１］に記載のタッチパネル。
［３］前記透光性粒子として、比重の異なる２種類以上の透光性粒子を含む上記［１］又は［２］に記載のタッチパネル。
［４］前記透光性粒子として、屈折率の異なる２種類以上の透光性粒子を含む上記［１］〜［３］の何れかに記載のタッチパネル。
［５］前記光学シートの内部へイズが１０〜３０％である上記［１］〜［４］の何れかに記載のタッチパネル。
［６］表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす、表示装置。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
［７］透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす光学シート。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
［８］前記条件（１）の上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上７５％以下である上記［７］に記載の光学シート。
［９］前記透光性粒子として、比重の異なる２種類以上の透光性粒子を含む上記［７］又は［８］に記載の光学シート。
［１０］前記透光性粒子として、屈折率の異なる２種類以上の透光性粒子を含む上記［７］〜［９］の何れかに記載の光学シート。
［１１］前記光学シートの内部へイズが１０〜３０％である上記［７］〜［１０］の何れかに記載の光学シート。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
［８］前記条件（１）の上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上７５％以下である上記［７］に記載の光学シート。
［９］前記透光性粒子として、比重の異なる２種類以上の透光性粒子を含む上記［７］又は［８］に記載の光学シート。
［１０］前記透光性粒子として、屈折率の異なる２種類以上の透光性粒子を含む上記［７］〜［９］の何れかに記載の光学シート。
［１１］前記光学シートの内部へイズが１０〜３０％である上記［７］〜［１０］の何れかに記載の光学シート。
本発明のタッチパネル、表示装置及び光学シートは、凹凸形状によって防眩性等の諸特性を付与できるとともに、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制できる。
以下、本発明の実施形態を説明する。
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす、表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす、表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
タッチパネルとしては、静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。これらタッチパネルは、ガラス基材、プラスチックフィルム基材等の透明基材を有し、該透明基材上には、防眩性、密着防止及び干渉縞防止等の諸特性を付与するための凹凸層が形成される場合がある。本発明のタッチパネルは、このような透明基材上に凹凸層を有する部材として、後述する光学シートを用いてなるものである。
例えば、タッチパネルに防眩性を付与する場合、タッチパネルの表面部材として後述する光学シートを用い、かつ該光学シートの凹凸層側の面が表面側を向くように設置することが好ましい。
上記タッチパネルは、表示素子上に設置して用いるため、タッチパネルによって、表示素子の映像光にギラツキが生じたり、表示素子の解像度が低下する場合がある。本発明のタッチパネルは、特定の光学シートを構成部材に有していることから、光学シートの凸形状によって防眩性等の諸特性を付与できるとともに、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制できる。
例えば、タッチパネルに防眩性を付与する場合、タッチパネルの表面部材として後述する光学シートを用い、かつ該光学シートの凹凸層側の面が表面側を向くように設置することが好ましい。
上記タッチパネルは、表示素子上に設置して用いるため、タッチパネルによって、表示素子の映像光にギラツキが生じたり、表示素子の解像度が低下する場合がある。本発明のタッチパネルは、特定の光学シートを構成部材に有していることから、光学シートの凸形状によって防眩性等の諸特性を付与できるとともに、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制できる。
抵抗膜式タッチパネル１は、図１に示すように、導電膜１２を有する上下一対の透明基板１１の導電膜１２同士が対向するようにスペーサー１３を介して配置されてなる基本構成に、図示しない回路が接続されてなるものである。抵抗膜式タッチパネルの場合、上部透明基板及び／又は下部透明基板として、後述する光学シートを用いることが好ましい。なお、上部透明基板及び下部透明基板は、２以上の基材からなる多層構造として、そのうちの１つの基材として後述する光学シートを用いてもよい。
このように、抵抗膜式タッチパネルの上部透明基板及び／又は下部透明基板として、後述する光学シートを用いることにより、光学シートの凹凸形状によって諸特性を付与できるとともに、表示素子の解像度の低下を抑制しつつ、表示素子のギラツキの発生を抑制できる。
このように、抵抗膜式タッチパネルの上部透明基板及び／又は下部透明基板として、後述する光学シートを用いることにより、光学シートの凹凸形状によって諸特性を付与できるとともに、表示素子の解像度の低下を抑制しつつ、表示素子のギラツキの発生を抑制できる。
光学シートの凹凸形状によって付与される諸特性は、光学シートの使い方によって異なる。例えば、上部透明基板として光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸層が下部透明基板と反対側を向くように使用した場合、凹凸形状によって、防眩性を付与できる。さらに、この使い方の場合、タッチパネルの表面や導電膜等に生じた傷を見えづらくすることができ、歩留まりの向上にも寄与できる。
また、上部透明基板として、後述する光学シートを凹凸層が下部透明基板側を向くように用いた場合、凹凸形状によって、上下の導電膜同士が密着することや、上下の導電膜が近接して干渉縞が生じることを防止できる。
また、抵抗膜式タッチパネルの下部透明基板として後述する光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸層が上部透明基板側を向くように使用した場合、凹凸形状によって、下部電極の表面の反射を抑制できる。さらに、この使い方の場合、上下の導電膜同士が密着することや、上下の導電膜が近接して干渉縞が生じることを防止できる。
また、下部透明基板として、後述する光学シートを凹凸層が上部透明基板とは反対側を向くように用いた場合、凹凸形状によって、タッチパネルと、タッチパネルの下方に位置する部材（表示素子等）との密着を防止するとともに、タッチパネルと該部材との間で干渉縞が発生することを防止できる。
また、上部透明基板として、後述する光学シートを凹凸層が下部透明基板側を向くように用いた場合、凹凸形状によって、上下の導電膜同士が密着することや、上下の導電膜が近接して干渉縞が生じることを防止できる。
また、抵抗膜式タッチパネルの下部透明基板として後述する光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸層が上部透明基板側を向くように使用した場合、凹凸形状によって、下部電極の表面の反射を抑制できる。さらに、この使い方の場合、上下の導電膜同士が密着することや、上下の導電膜が近接して干渉縞が生じることを防止できる。
また、下部透明基板として、後述する光学シートを凹凸層が上部透明基板とは反対側を向くように用いた場合、凹凸形状によって、タッチパネルと、タッチパネルの下方に位置する部材（表示素子等）との密着を防止するとともに、タッチパネルと該部材との間で干渉縞が発生することを防止できる。
静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、１枚の透明基板上の別々の面にＸ軸電極及びＹ軸電極を形成する態様、１枚の透明基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極をこの順で形成する態様、図２に示すように、１枚の透明基板２１上にＸ軸電極２２を形成し、別の透明基板２１上にＹ軸電極２３を形成し、接着剤層２４等を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。
静電容量式タッチパネルの場合、透明基板の少なくとも一以上に後述する光学シートを用いることが好ましい。なお、透明基板は、２以上の基材からなる多層構造として、そのうちの１つの基材として後述する光学シートを用いてもよい。
このように、静電容量式タッチパネルの透明基板の少なくとも一以上に後述する光学シートを用いることにより、光学シートの凹凸形状によって諸特性を付与できるとともに、表示素子の解像度の低下を抑制しつつ、表示素子のギラツキの発生を抑制できる。
静電容量式タッチパネルの場合、透明基板の少なくとも一以上に後述する光学シートを用いることが好ましい。なお、透明基板は、２以上の基材からなる多層構造として、そのうちの１つの基材として後述する光学シートを用いてもよい。
このように、静電容量式タッチパネルの透明基板の少なくとも一以上に後述する光学シートを用いることにより、光学シートの凹凸形状によって諸特性を付与できるとともに、表示素子の解像度の低下を抑制しつつ、表示素子のギラツキの発生を抑制できる。
光学シートの凹凸形状によって付与される諸特性は、光学シートの使い方によって異なる。例えば、静電容量式タッチパネルが、上述の基本態様上にさらに別の透明基板を有する構成の場合において、該別の透明基板として後述する光学シートを用い、かつ光学シートの凹凸層が前記基本態様と反対側を向くようにして、該凹凸層を操作者側に向けた場合には、静電容量式タッチパネルに防眩性を付与できる。また、この使い方の場合、タッチパネルの表面及び導電膜等に生じた傷、並びに電極パターンの形状を見えづらくできる。
また、静電容量式タッチパネルが、透明基板上にＸ軸電極を形成し、別の透明基板上にＹ軸電極を形成し、接着剤等を介して積層する構成の場合、少なくとも一方の透明基板として後述する光学シートを含むものを用い、かつ光学シートの凹凸層を操作者側に向けた場合でも、上記と同様の効果を得ることができる。
また、静電容量式タッチパネルの透明基板として、後述する光学シートを凹凸層が操作者とは反対側を向くように用いた場合、密着や干渉縞を防止できる。
また、静電容量式タッチパネルが、透明基板上にＸ軸電極を形成し、別の透明基板上にＹ軸電極を形成し、接着剤等を介して積層する構成の場合、少なくとも一方の透明基板として後述する光学シートを含むものを用い、かつ光学シートの凹凸層を操作者側に向けた場合でも、上記と同様の効果を得ることができる。
また、静電容量式タッチパネルの透明基板として、後述する光学シートを凹凸層が操作者とは反対側を向くように用いた場合、密着や干渉縞を防止できる。
（光学シート）
透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす光学シート。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
なお、本発明において、透光性粒子とは一次粒子径１．０μｍ以上のものをいう。一次粒子径１．０μｍ未満のものは条件（１）及び（２）ではカウントしない。
透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす光学シート。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
なお、本発明において、透光性粒子とは一次粒子径１．０μｍ以上のものをいう。一次粒子径１．０μｍ未満のものは条件（１）及び（２）ではカウントしない。
条件（１）は、凹凸層を厚み方向で均等に分割した場合、上部の側に透光性粒子を多く含むことを意味している。
条件（１）を満たさない場合、凹凸層の表面に凹凸形状を形成するのに必要となる透光性粒子の添加量が増加し、解像度が低下してしまう。一方、条件（１）を満たすことにより、透光性粒子の添加量が少量でも凹凸形状を形成しやすくなるため、透光性粒子に起因する解像度の低下を抑制することができる。また、条件（１）を満たして透光性粒子の添加量を少量化できることにより、内部へイズの減少により迷光が減少して、輝度及びコントラストを向上することができる。
また、詳細は条件（２）の段落で説明するが、凹凸層の厚み方向の様々な箇所に透光性粒子が存在することにより、ギラツキを抑制しやすくなる。つまり、凹凸層の下部に透光性粒子が存在することにより、ギラツキを抑制しやすくなる。このため、条件（１）は、５５％以上７５％以下であることが好ましく、６０％以上７０％以下であることがより好ましい。
なお、条件（１）は、以下の式で表すこともできる。
５５％≦［上部に存在する透光性粒子数／凹凸層に存在する全透光性粒子数］×１００
条件（１）を満たさない場合、凹凸層の表面に凹凸形状を形成するのに必要となる透光性粒子の添加量が増加し、解像度が低下してしまう。一方、条件（１）を満たすことにより、透光性粒子の添加量が少量でも凹凸形状を形成しやすくなるため、透光性粒子に起因する解像度の低下を抑制することができる。また、条件（１）を満たして透光性粒子の添加量を少量化できることにより、内部へイズの減少により迷光が減少して、輝度及びコントラストを向上することができる。
また、詳細は条件（２）の段落で説明するが、凹凸層の厚み方向の様々な箇所に透光性粒子が存在することにより、ギラツキを抑制しやすくなる。つまり、凹凸層の下部に透光性粒子が存在することにより、ギラツキを抑制しやすくなる。このため、条件（１）は、５５％以上７５％以下であることが好ましく、６０％以上７０％以下であることがより好ましい。
なお、条件（１）は、以下の式で表すこともできる。
５５％≦［上部に存在する透光性粒子数／凹凸層に存在する全透光性粒子数］×１００
条件（２）は、凹凸層の上部を１０区間に分割した際に、各区間における透光性粒子の存在割合がばらつかないことを意味している。本発明では、条件（２）を満たすことにより、ギラツキの発生を抑制できる。この原因は以下のように考えられる。
まず、透光性粒子を透過した映像光は、光学シートの表面に向かうにつれて徐々に集光する。該映像光の光学シートの表面付近での集光の度合いは、凹凸層内の透光性粒子の厚み方向の位置により異なる。つまり、条件（２）を満たす場合、光学シートの表面付近において様々な集光度合いの映像光が存在することになる。
次に、集光した映像光は、凹凸層の表面凹凸により拡散され、視認者により観察される。この際、映像光が特定の角度に集中していると、視認者にはギラツキが生じていると感じられる。しかし、条件（２）を満たす場合、光学シートの表面付近では様々な集光度合いの映像光が存在するため、凹凸層の表面凹凸で拡散されて視認者に届く映像光は、特定の角度に集中しにくく、ギラツキが抑制されると考えられる。
まず、透光性粒子を透過した映像光は、光学シートの表面に向かうにつれて徐々に集光する。該映像光の光学シートの表面付近での集光の度合いは、凹凸層内の透光性粒子の厚み方向の位置により異なる。つまり、条件（２）を満たす場合、光学シートの表面付近において様々な集光度合いの映像光が存在することになる。
次に、集光した映像光は、凹凸層の表面凹凸により拡散され、視認者により観察される。この際、映像光が特定の角度に集中していると、視認者にはギラツキが生じていると感じられる。しかし、条件（２）を満たす場合、光学シートの表面付近では様々な集光度合いの映像光が存在するため、凹凸層の表面凹凸で拡散されて視認者に届く映像光は、特定の角度に集中しにくく、ギラツキが抑制されると考えられる。
一方、条件（２）を満たさない場合、各区間における透光性粒子の存在割合がばらつくこと、言い換えると、透光性粒子の存在割合が多い区間と、少ない区間との差が明確に現れることを意味している。条件（２）を満たさない場合、光学シートの表面付近において様々な集光度合いの映像光を存在させることができないため、ギラツキを抑制することができないと考えられる。
条件（２）は９．５％以下であることが好ましく、９．０％以下であることがより好ましく、８．５％以下であることがさらに好ましい。条件（２）の下限は特に限定されないが、５．０％程度である。
条件（１）及び（２）は、光学シートを凹凸層の厚み方向に切断し、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した切断面の画像から観察される「凹凸層の厚み」、「凹凸層中における透光性粒子の位置」から算出できる。条件（１）及び（２）の算出では、凹凸層中の全透光性粒子の数が１００個に達するまで断面観察を続けるものとする。すなわち、一つの断面で透光性粒子の数が１００個にならない場合、透光性粒子の数が１００個に達するまで複数の断面を観察し、透光性粒子の数が１００個に達した段階で条件（１）及び（２）を算出するものとする。
なお、透光性粒子が凹凸層の上部または下部の何れに存在するかは、透光性粒子の中心（透光性粒子が非球形の場合は重心）が凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側にあるか否か（透明基材側にある場合を下部、透明基材と反対側にある場合を上部とする）で決定するものとする。同様に、上部に存在する透光性粒子が１０区間のうちの何れの区間に属するかについても、透光性粒子の中心（透光性粒子が非球形の場合は重心）が各区間の境界線から透明基材側にあるか否かで決定するものとする。
また、凹凸層の厚みは、各断面で透光性粒子が存在しない箇所の厚みを１０箇所測定し、全測定箇所の厚みを平均した値とする。例えば、透光性粒子の数が１００個に達するまでに５つの断面を観察した場合、５０箇所の厚みの平均値とする。条件（１）の「凹凸層の厚み方向の中央」は、透明基材の表面を基準として、前記のように決定した凹凸層の厚みの１／２の距離に位置するラインのことをいう。
断面観察時のＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましい。
なお、透光性粒子が凹凸層の上部または下部の何れに存在するかは、透光性粒子の中心（透光性粒子が非球形の場合は重心）が凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側にあるか否か（透明基材側にある場合を下部、透明基材と反対側にある場合を上部とする）で決定するものとする。同様に、上部に存在する透光性粒子が１０区間のうちの何れの区間に属するかについても、透光性粒子の中心（透光性粒子が非球形の場合は重心）が各区間の境界線から透明基材側にあるか否かで決定するものとする。
また、凹凸層の厚みは、各断面で透光性粒子が存在しない箇所の厚みを１０箇所測定し、全測定箇所の厚みを平均した値とする。例えば、透光性粒子の数が１００個に達するまでに５つの断面を観察した場合、５０箇所の厚みの平均値とする。条件（１）の「凹凸層の厚み方向の中央」は、透明基材の表面を基準として、前記のように決定した凹凸層の厚みの１／２の距離に位置するラインのことをいう。
断面観察時のＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は１０００〜７０００倍とすることが好ましい。
条件（１）及び（２）は、光学シートの略全域で満たすことが好ましい。略全域としたのは、光学シートの端部は切断時等に微小な欠陥を生じる可能性があり、端部に欠陥があったとしても視認者は欠陥として認識しにくいるためである。また、光学シートの端部周辺は視覚的に視認しにくい領域である。このため、光学シートの４辺の端部から１０ｍｍを除いた領域において条件（１）及び（２）を満たすことが好ましい。後述するその他のパラメータも同様である。
本発明のタッチパネルで用いる光学シートは、条件（１）及び（２）によりギラツキ防止性を向上できるため、内部へイズを必要以上に高くする必要がなくなり、表示素子の解像度の低下を防止することができる。
光学シートは、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１：１９９７の全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
光学シートは、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが１５〜５５％であることが好ましく、２０〜５０％であることがより好ましく、２０〜４０％であることがさらに好ましい。ヘイズを１５％以上とすることにより、防眩性を付与するとともに、電極の形状や傷を見えづらくすることができる。また、ヘイズを５５％以下とすることにより、表示素子の解像度の低下を防止するとともに、コントラストの低下を防止しやすくできる。
また、ヘイズを表面ヘイズ（Ｈｓ）と内部ヘイズ（Ｈｉ）とに分けた場合、表面へイズは５〜２５％であることが好ましく、５〜２０％であることがより好ましく、７〜１５％であることがさらに好ましい。表面ヘイズを５％以上とすることにより、防眩性が良好となり屋外で使用しやすくなるとともに、電極の形状や傷を見えづらくすることができる。また、表面ヘイズを２５％以下とすることにより、コントラストの低下や解像度の低下を抑制しやすくできる。
また、内部へイズは、１０〜３０％であることが好ましく、１５〜３０％であることがより好ましく、１５〜２５％であることがさらに好ましい。内部ヘイズを１０％以上とすることにより、表面凹凸との相乗作用によりギラツキを抑制しやすくできる。通常、ギラツキを抑制するためには内部へイズをさらに大きくする必要があるが、本発明では条件（１）及び（２）を満たすことにより、内部へイズが１０％程度であっても、ギラツキを抑制しやすくできる。また、内部へイズを３０％以下とすることにより、表示素子の解像度の低下を抑制できるとともに、迷光を少なくして、輝度及びコントラストを良好にすることができる。
また、表面ヘイズと内部へイズとの比（Ｈｓ／Ｈｉ）は、上述した表面ヘイズと内部へイズの効果のバランスの観点から、０．２〜０．７であることが好ましく、０．４〜０．６であることがより好ましい。
表面ヘイズ及び内部へイズは、例えば、実施例に記載の方法で求めることができる。
また、内部へイズは、１０〜３０％であることが好ましく、１５〜３０％であることがより好ましく、１５〜２５％であることがさらに好ましい。内部ヘイズを１０％以上とすることにより、表面凹凸との相乗作用によりギラツキを抑制しやすくできる。通常、ギラツキを抑制するためには内部へイズをさらに大きくする必要があるが、本発明では条件（１）及び（２）を満たすことにより、内部へイズが１０％程度であっても、ギラツキを抑制しやすくできる。また、内部へイズを３０％以下とすることにより、表示素子の解像度の低下を抑制できるとともに、迷光を少なくして、輝度及びコントラストを良好にすることができる。
また、表面ヘイズと内部へイズとの比（Ｈｓ／Ｈｉ）は、上述した表面ヘイズと内部へイズの効果のバランスの観点から、０．２〜０．７であることが好ましく、０．４〜０．６であることがより好ましい。
表面ヘイズ及び内部へイズは、例えば、実施例に記載の方法で求めることができる。
光学シートは、ＪＩＳ Ｋ７３７４に準拠して、写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍのそれぞれについて光学シートの透過像鮮明度を測定した際に、４つの透過鮮明度の合計が１８０％以上であることが好ましく、１９０％以上であることがより好ましく、２０５％以上であることがさらに好ましい。４つの透過鮮明度の合計の上限は特に限定されないが、２５０％程度である。
上述の光学シートは、少なくとも一方の面に条件（１）及び（２）を満たす凹凸層を有し、光透過性を有するものであれば、特に制限することなく使用できる。また、条件（１）及び（２）を満たす凹凸層は光学シートの両面に有していてもよいが、取り扱い性、映像の視認性（防眩性、解像度、白化）の観点から、上述した凹凸層を片面に有し、他方の面は略平滑（Ｒａ０．０２μｍ以下）であることが好ましい。
凹凸層は、例えば、バインダー樹脂及び透光性粒子を含有してなる凹凸層形成塗布液を、グラビアコーティング、バーコーティング等の公知の塗布方法により透明基材上に塗布し、必要に応じて乾燥、硬化することにより形成することができる。ここで、透光性粒子として有機粒子を用い、さらに、凹凸層形成塗布液中に無機微粒子を含有させることにより、条件（１）及び（２）を満たす凹凸層を形成しやすくできる。この原因は以下のように考えられる。
まず、無機微粒子のような粒子径の小さい粒子を塗布液に添加すると、塗布液の粘度が増加する。また、ストークスの式から、塗布液の粘度が増加すると、透光性粒子は沈降しにくくなる。したがって、凹凸層形成塗布液に無機微粒子を添加することにより、透光性粒子が下部に沈みにくくなり、さらに溶剤の揮発時の上昇流が作用することにより、条件（１）を満たしやすくなると考えられる。
また、バインダー樹脂、透光性粒子、無機微粒子及び溶剤を含む凹凸層形成塗布液は、初期の段階では比重の小さい溶剤の割合が多いため、塗布液としての比重は小さくなる。一方、乾燥過程で比重の小さい溶剤が揮発し、比重が大きい無機微粒子の割合が増加するにつれて、塗布液としての比重は大きくなる。また、比重の変化だけでなく、凹凸層の形成過程では凹凸層形成塗布液の粘度も経時的に変化している（初期段階の粘度は小さく、徐々に粘度が増加する）。このように、凹凸層形成塗布液の比重及び粘度が凹凸層の形成過程で経時的に変化するため、塗布液の比重及び粘度の小さい初期段階では透光性粒子は沈みやすく、塗布液の比重及び粘度が大きくなった段階では透光性粒子が浮かび上がりやすくなる。そして、塗膜の厚み方向では溶剤の揮発が均等に起こらないため、塗膜の厚み方向において比重や粘度の分布がばらつきやすくなり、透光性粒子の沈みやすさの程度が異なる箇所が局所的に発生する。かかる状況において、さらに溶剤の揮発時の上昇流が作用することにより、条件（２）を満たしやすくできると考えられる。
また、比重の異なる２種類以上の透光性粒子を用いることにより、より条件（１）及び（２）を満たしやすくなると考えられる。
また、バインダー樹脂、透光性粒子、無機微粒子及び溶剤を含む凹凸層形成塗布液は、初期の段階では比重の小さい溶剤の割合が多いため、塗布液としての比重は小さくなる。一方、乾燥過程で比重の小さい溶剤が揮発し、比重が大きい無機微粒子の割合が増加するにつれて、塗布液としての比重は大きくなる。また、比重の変化だけでなく、凹凸層の形成過程では凹凸層形成塗布液の粘度も経時的に変化している（初期段階の粘度は小さく、徐々に粘度が増加する）。このように、凹凸層形成塗布液の比重及び粘度が凹凸層の形成過程で経時的に変化するため、塗布液の比重及び粘度の小さい初期段階では透光性粒子は沈みやすく、塗布液の比重及び粘度が大きくなった段階では透光性粒子が浮かび上がりやすくなる。そして、塗膜の厚み方向では溶剤の揮発が均等に起こらないため、塗膜の厚み方向において比重や粘度の分布がばらつきやすくなり、透光性粒子の沈みやすさの程度が異なる箇所が局所的に発生する。かかる状況において、さらに溶剤の揮発時の上昇流が作用することにより、条件（２）を満たしやすくできると考えられる。
また、比重の異なる２種類以上の透光性粒子を用いることにより、より条件（１）及び（２）を満たしやすくなると考えられる。
透光性粒子としては、無機粒子も用いることができるが、上述したように、条件（１）及び（２）を満たしやすくする観点から、有機粒子を用いることが好ましい。
有機粒子は、球形、円盤状、ラグビーボール状、不定形等の形状が挙げられ、また、これら形状の中空粒子、多孔質粒子及び中実粒子等が挙げられる。これらの中でも、ギラツキ抑制の観点からは、球形の中実粒子が好適である。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂及びポリエステル等からなる粒子が挙げられる。
有機粒子は、球形、円盤状、ラグビーボール状、不定形等の形状が挙げられ、また、これら形状の中空粒子、多孔質粒子及び中実粒子等が挙げられる。これらの中でも、ギラツキ抑制の観点からは、球形の中実粒子が好適である。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂及びポリエステル等からなる粒子が挙げられる。
条件（１）及び（２）を満たしやすくする観点からは、比重の異なる２種以上の透光性粒子を用いることが好ましい。その際、比重が最大の透光性粒子と、比重が最小の透光性粒子との比重差が０．０２以上とすることが好ましい。
また、ギラツキをより抑制する観点から、透光性粒子として屈折率の異なる２種類以上の透光性粒子を用いることが好ましい。屈折率の異なる２種類以上の透光性粒子を用いることにより、透光性粒子を通過した映像光の集光度合いをより様々なものとすることができ、凹凸層の表面凹凸で拡散されて視認者に届く映像光は特定の角度に集中しにくくなり、ギラツキをより抑制することができる。その際、屈折率が最大の透光性粒子と、屈折率が最小の透光性粒子との屈折率差を０．０１以上とすることが好ましい。
また、ギラツキをより抑制する観点から、透光性粒子として屈折率の異なる２種類以上の透光性粒子を用いることが好ましい。屈折率の異なる２種類以上の透光性粒子を用いることにより、透光性粒子を通過した映像光の集光度合いをより様々なものとすることができ、凹凸層の表面凹凸で拡散されて視認者に届く映像光は特定の角度に集中しにくくなり、ギラツキをより抑制することができる。その際、屈折率が最大の透光性粒子と、屈折率が最小の透光性粒子との屈折率差を０．０１以上とすることが好ましい。
上述の透光性粒子の中でも、アクリル−スチレン共重合体粒子及び／又はポリスチレン粒子が好ましく、アクリル−スチレン共重合体粒子及びポリスチレン粒子を併用することがより好ましい。
透光性粒子の平均粒子径は、条件（１）及び（２）を満足する限り特に限定されず、また、凹凸層の厚みにより範囲が異なるため一概にはいえないが、取り扱い性の観点から、１〜１０μｍであることが好ましく、２〜５μｍであることがより好ましい。
また、透光性粒子の平均粒子径と凹凸層の厚みとの比（透光性粒子の平均粒子径／凹凸層の厚み）は、条件（１）及び（２）を満たしやすくする観点から、０．４〜０．８であることが好ましく、０．５〜０．７であることがより好ましい。
また、透光性粒子の平均粒子径と凹凸層の厚みとの比（透光性粒子の平均粒子径／凹凸層の厚み）は、条件（１）及び（２）を満たしやすくする観点から、０．４〜０．８であることが好ましく、０．５〜０．７であることがより好ましい。
透光性粒子の平均粒子径は、以下の（１）〜（３）の作業により算出できる。
（１）本発明の光学シートを光学顕微鏡にて透過観察画像を撮像する。倍率は５００〜２０００倍が好ましい。
（２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の長径及び短径を測定し、長径及び短径の平均から個々の粒子の粒子径を算出する。長径は、個々の粒子の画面上において最も長い径とする。また、短径は、長径を構成する線分の中点に直交する線分を引き、該直交する線分が粒子と交わる２点間の距離をいうものとする。
（３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を透光性粒子の平均粒子径とする。
無機微粒子の平均一次粒子径及び無機微粒子の凝集体の平均粒子径は、まず、本発明の光学シートの断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。撮像後、上記（２）及び（３）と同様の手法を行うことにより、無機微粒子の平均一次粒子径及び無機微粒子の凝集体の平均粒子径を算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
（１）本発明の光学シートを光学顕微鏡にて透過観察画像を撮像する。倍率は５００〜２０００倍が好ましい。
（２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の長径及び短径を測定し、長径及び短径の平均から個々の粒子の粒子径を算出する。長径は、個々の粒子の画面上において最も長い径とする。また、短径は、長径を構成する線分の中点に直交する線分を引き、該直交する線分が粒子と交わる２点間の距離をいうものとする。
（３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を透光性粒子の平均粒子径とする。
無機微粒子の平均一次粒子径及び無機微粒子の凝集体の平均粒子径は、まず、本発明の光学シートの断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。撮像後、上記（２）及び（３）と同様の手法を行うことにより、無機微粒子の平均一次粒子径及び無機微粒子の凝集体の平均粒子径を算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
透光性粒子の含有量は、凹凸形状によって付与する防眩性等の諸特性、及び解像度のバランスの観点から、凹凸層を形成する全固形分中の２〜２５質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましく、６〜１２質量％であることがさらに好ましい。
無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア及びチタニア等からなる微粒子が挙げられる。無機微粒子を用いることにより、凹凸層形成塗布液の比重や粘度が上がり、条件（１）及び（２）を満たしやすくできる。凹凸層塗布液の粘度を上げるため、無機微粒子は凹凸層塗布液中で過度に凝集しないことが好ましい。ただし、無機微粒子が凝集することは、必ずしも凹凸層塗布液の粘度の低下を意味しない。例えば、無機微粒子の凝集体が三次元鎖状構造を形成すれば、該構造は凹凸層塗布液の粘度を上げることができる。なお、無機微粒子の凝集体が三次元鎖状構造を形成する場合であっても、過度に凝集させることは、粘度コントロールが困難となるとともに、光拡散によるコントラストの低下を招くため好ましくない。
上記無機微粒子の中でも、透明性の観点からシリカが好適である。また、シリカは屈折率が低いため、シリカを添加することにより透光性粒子と透光性粒子以外の成分との屈折率差が大きくなり、所定の内部へイズを得るために必要となる透光性粒子の添加量を少なくできる点で好適である。
上記無機微粒子の中でも、透明性の観点からシリカが好適である。また、シリカは屈折率が低いため、シリカを添加することにより透光性粒子と透光性粒子以外の成分との屈折率差が大きくなり、所定の内部へイズを得るために必要となる透光性粒子の添加量を少なくできる点で好適である。
無機微粒子は、表面処理されていることが好ましい。無機微粒子が表面処理されていることで、凹凸層中での無機微粒子の分布を適切に制御しやすくなり、ひいては条件（１）及び（２）を満たしやすくできる。また、無機微粒子自体の耐薬品性及び耐ケン化性の向上を図ることもできる。
上記表面処理としては、無機微粒子の過度な凝集を抑制する観点から、無機微粒子の表面を疎水性にする疎水化処理が好ましい。疎水化処理としては、例えば、無機微粒子を、メチル基、オクチル基等のアクリル基を有するシラン化合物で処理する方法等が挙げられる。
例えば、シリカ微粒子の表面には水酸基（シラノール基）が存在しているが、上記表面処理がされることでシリカ微粒子の表面の水酸基が少なくなり、シリカ微粒子が過度に凝集することを防止でき、シリカ微粒子が不均一に分散することを抑制できる。
例えば、シリカ微粒子の表面には水酸基（シラノール基）が存在しているが、上記表面処理がされることでシリカ微粒子の表面の水酸基が少なくなり、シリカ微粒子が過度に凝集することを防止でき、シリカ微粒子が不均一に分散することを抑制できる。
無機微粒子としてシリカ微粒子を用いる場合、過度の凝集を抑制するために非晶質シリカが好ましい。一方、シリカ微粒子が結晶性シリカの場合、結晶構造中に含まれる格子欠陥によりシリカ微粒子のルイス酸性が強くなってしまい、シリカ微粒子が過度に凝集してしまう場合がある。
シリカ微粒子としては、三次元鎖状の凝集体を形成しやすく、かつ後述の粒子径の範囲の凝集体を形成しやすいことから、例えば、フュームドシリカが好適に用いられる。フュームドシリカを用いることにより、凹凸層塗布液の粘度を適切な範囲に調整しやすくなり、条件（１）及び（２）を満たしやすくできる。
フュームドシリカとは、乾式法で作製された粒子径が２００ｎｍ以下の粒子径を有する非晶質のシリカをいい、ケイ素を含む揮発性化合物を気相で反応させることにより得られる。フュームドシリカは、例えば、ＳｉＣｌ４等のケイ素化合物を酸素と水素の炎中で加水分解することにより生成することができ、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８０５（日本アエロジル社製）等が挙げられる。
フュームドシリカとは、乾式法で作製された粒子径が２００ｎｍ以下の粒子径を有する非晶質のシリカをいい、ケイ素を含む揮発性化合物を気相で反応させることにより得られる。フュームドシリカは、例えば、ＳｉＣｌ４等のケイ素化合物を酸素と水素の炎中で加水分解することにより生成することができ、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８０５（日本アエロジル社製）等が挙げられる。
無機微粒子の含有量は特に限定されないが、凹凸層を形成する全固形分の１．０〜１５．０質量％であることが好ましく、２．０〜１０．０質量％であることがより好ましく、３．０〜８．０質量％であることがさらに好ましい。当該範囲とすることにより、凹凸層塗布液の比重、粘度が適切となり、条件（１）及び（２）を満たしやすくできる。
また、凹凸層中における透光性粒子及び無機微粒子の含有量の比（透光性粒子の含有量／無機微粒子の含有量）は、条件（１）及び（２）を満たしやすくする観点から、０．５〜２．５であることが好ましく、０．８〜２．２であることがより好ましい。
また、凹凸層中における透光性粒子及び無機微粒子の含有量の比（透光性粒子の含有量／無機微粒子の含有量）は、条件（１）及び（２）を満たしやすくする観点から、０．５〜２．５であることが好ましく、０．８〜２．２であることがより好ましい。
無機微粒子は、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であることが好ましい。平均一次粒子径を１００ｎｍ以下とすることにより、光拡散によるコントラストの低下、及び内部へイズの過剰な上昇を抑制できる。平均一次粒子径のより好ましい上限は５０ｎｍ、さらに好ましい上限は２０ｎｍである。なお、平均一次粒子径の下限は１ｎｍ程度である。
無機微粒子の凝集体は、平均粒子径が１μｍ以下であることが好ましい。凝集体の平均粒子径を１μｍ以下とすることにより、光拡散によるコントラストの低下を抑制できる。凝集体の平均粒子径のより好ましい上限は８００ｎｍである。また、凝集体の平均粒子径の下限は１００ｎｍ程度である。なお、フュームドシリカを用いるなどして凝集体が三次元鎖状構造を形成する場合において、凝集体の平均粒子径を１００ｎｍ以上とすることにより、凹凸層塗布液の粘度を上げることができ、条件（１）及び（２）を満足しやすくできる。
凹凸層塗布液のバインダー樹脂は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物を含むことが好ましく、機械的強度をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物を含むことがより好ましく、その中でも紫外線硬化性樹脂組成物を含むことがさらに好ましい。凹凸層中には、これら硬化性樹脂組成物の硬化物が含まれることになる。
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
また、本明細書において「電離放射線」とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
また、本明細書において「電離放射線」とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
電離放射線硬化性樹脂組成物は、分子中に水酸基を含有しない多官能性（メタ）アクリレート系化合物を５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましい。
分子中に水酸基を含まない多官能性（メタ）アクリレート系化合物の割合を多くすることにより、凹凸層形成用塗布液の溶剤として極性の高い溶剤（例えば、イソプロピルアルコール）を用いた際に、該溶剤を蒸発させやすくすることができ、無機微粒子の過剰な凝集を抑制できる。
分子中に水酸基を含まない多官能性（メタ）アクリレート系化合物の割合を多くすることにより、凹凸層形成用塗布液の溶剤として極性の高い溶剤（例えば、イソプロピルアルコール）を用いた際に、該溶剤を蒸発させやすくすることができ、無機微粒子の過剰な凝集を抑制できる。
分子中に水酸基を含まない多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）、ジプロピレングリコールジアクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ）、ＰＯ変性ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。なかでも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）が好適に用いられる。
その他の電離放射線硬化性化合物としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の１つの不飽和結合を有する化合物、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等の２以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。
なお、本発明では、電離放射線硬化性化合物として、上述した化合物をＰＯ、ＥＯ等で変性したものも使用できる。
なお、本発明では、電離放射線硬化性化合物として、上述した化合物をＰＯ、ＥＯ等で変性したものも使用できる。
さらに、電離放射線硬化性化合物として、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。
電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、タッチパネルの透明導電膜形成時や結晶化工程の熱により残留した光重合開始剤が昇華し、透明導電膜の低抵抗化が損なわれることを防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサントン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、タッチパネルの透明導電膜形成時や結晶化工程の熱により残留した光重合開始剤が昇華し、透明導電膜の低抵抗化が損なわれることを防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
凹凸層の厚みは、カール抑制、機械的強度、硬度及び靭性とのバランスの観点から、２〜１０μｍであることが好ましく、４〜８μｍであることがより好ましい。
凹凸層形成塗布液には、通常、粘度を調節したり、各成分を溶解または分散可能とするために溶剤を用いる。溶剤の種類によって、塗布、乾燥過程した後の凹凸層の表面状態が異なるため、溶剤の飽和蒸気圧、透明基材への溶剤の浸透性等を考慮して溶剤を選定することが好ましい。具体的には、溶剤は、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
溶剤の乾燥が遅い場合、凹凸層内で無機微粒子が過度に凝集して、凹凸層塗布液の粘度の制御が困難となり、条件（１）及び（２）を満たしにくくなる。無機微粒子の過度な凝集を防ぐために、溶剤は、極性が高く、かつ揮発速度が速いものを所定量含有させることが好ましい。
本明細書において「極性が高い溶剤」とは、溶解度パラメータが１０［（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２］以上の溶剤を意味し、「揮発速度が速い溶剤」とは、相対蒸発速度が１５０以上の溶剤を意味する。
本明細書において「極性が高い溶剤」とは、溶解度パラメータが１０［（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２］以上の溶剤を意味し、「揮発速度が速い溶剤」とは、相対蒸発速度が１５０以上の溶剤を意味する。
溶解度パラメータは、Ｆｅｄｏｒｓの方法で計算される。Ｆｅｄｏｒｓの方法は、例えば「ＳＰ値 基礎・応用と計算方法」（山本秀樹著 株式会社情報機構発行、２００５年）に記載されている。Ｆｅｄｏｒｓの方法において、溶解度パラメータは下記式より算出される。
溶解度パラメータ＝［ΣＥｃｏｈ／ΣＶ］２
上記式中、Ｅｃｏｈは凝集エネルギー密度、Ｖはモル分子容である。原子団ごとに決められたＥｃｏｈ及びＶに基づき、Ｅｃｏｈ及びＶの総和であるΣＥｃｏｈ及びΣＶを求めることによって、溶解度パラメータを算出することができる。
溶解度パラメータ＝［ΣＥｃｏｈ／ΣＶ］２
上記式中、Ｅｃｏｈは凝集エネルギー密度、Ｖはモル分子容である。原子団ごとに決められたＥｃｏｈ及びＶに基づき、Ｅｃｏｈ及びＶの総和であるΣＥｃｏｈ及びΣＶを求めることによって、溶解度パラメータを算出することができる。
本明細書において「相対蒸発速度」とは、ｎ−酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした時の相対蒸発速度をいい、ＡＳＴＭ Ｄ３５３９−８７に準拠して測定される蒸発速度で、下記式により算出される。具体的には、２５℃、乾燥空気下におけるｎ−酢酸ブチルの蒸発時間と各溶剤の蒸発時間を測定し算出する。
相対蒸発速度＝［（ｎ−酢酸ブチル９０重量％が蒸発するのに要する時間）／（測定溶剤の９０重量％が蒸発するのに要する時間）］×１００
相対蒸発速度＝［（ｎ−酢酸ブチル９０重量％が蒸発するのに要する時間）／（測定溶剤の９０重量％が蒸発するのに要する時間）］×１００
極性が高く、かつ、揮発速度が速い溶剤としては、例えば、エタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられるが、その中でも、イソプロピルアルコールが好適である。
また、極性が高く、かつ、揮発速度が速い溶剤の含有量は、全溶剤の１０〜４０質量％であることが好ましい。１０質量％以上とすることにより、無機微粒子の過度な凝集を抑制しやすくすることができ、４０質量％以下とすることにより、溶剤の揮発が速すぎることにより凹凸層形成塗布液のレベリング性が不足することを抑制できる。
また、極性が高く、かつ、揮発速度が速い溶剤の含有量は、全溶剤の１０〜４０質量％であることが好ましい。１０質量％以上とすることにより、無機微粒子の過度な凝集を抑制しやすくすることができ、４０質量％以下とすることにより、溶剤の揮発が速すぎることにより凹凸層形成塗布液のレベリング性が不足することを抑制できる。
また、上述した凹凸形状を得やすくする観点からは、凹凸層を形成する際、乾燥条件を制御することが好ましい。乾燥条件は、乾燥温度及び乾燥機内の風速により調整することができる。具体的な乾燥温度としては、３０〜１２０℃、乾燥風速では０．２〜５０ｍ／ｓとすることが好ましい。また、バインダー樹脂として電離放射線硬化性樹脂を用いる場合、乾燥条件により凹凸層のレベリングを制御するために、電離放射線の照射は乾燥後に行うことが好適である。
また、表面凹凸を適度に滑らかにすることはギラツキの抑制につながる。このため、凹凸層形成塗布液には、レベリング剤を含有させることが好ましい。レベリング剤は、フッ素系又はシリコーン系のものが挙げられ、凹凸層にベナードセル構造が生じることを抑制しやすいフッ素系のレベリング剤が好適である。レベリング剤の添加量としては、凹凸層形成塗布液の全固形分に対して０．０１〜０．５重量％が好ましく、０．０５〜０．２重量％がより好ましい。
また、凹凸層形成塗布液は、（１）溶剤にバインダー樹脂及び透光性粒子を混合及び攪拌して中間組成物を調製する工程の後、（２）中間組成物に無機微粒子を混合、分散させる工程を行うことで調製することが好ましい。
凹凸層形成塗布液を上記のように調整することにより、条件（１）及び（２）を満たしやすくできる。一方、上記調整とは異なる手法の場合（透光性粒子やバインダー樹脂を添加する前に、無機微粒子を溶剤に添加した場合）、溶剤アタックにより無機微粒子の過剰な凝集が発生してしまい、粘度のコントロールが困難となり、条件（１）及び（２）を満たしにくくなる。
上記効果をより確実にするために、工程（２）で無機微粒子を添加する際、無機微粒子は溶剤に分散させた無機微粒子分散物であることが好ましい。
凹凸層形成塗布液を上記のように調整することにより、条件（１）及び（２）を満たしやすくできる。一方、上記調整とは異なる手法の場合（透光性粒子やバインダー樹脂を添加する前に、無機微粒子を溶剤に添加した場合）、溶剤アタックにより無機微粒子の過剰な凝集が発生してしまい、粘度のコントロールが困難となり、条件（１）及び（２）を満たしにくくなる。
上記効果をより確実にするために、工程（２）で無機微粒子を添加する際、無機微粒子は溶剤に分散させた無機微粒子分散物であることが好ましい。
凹凸層表面の三次元算術平均粗さＳＲａは、凹凸形状により付与する諸性能、解像度及びコントラストのバランスの観点から、０．１０〜０．３０μｍであることが好ましく、０．１２〜０．２０μｍであることがより好ましい。ＳＲａはカットオフ値０．８ｍｍとした際の値である。
ＳＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に記載されている２次元粗さパラメータであるＲａを３次元に拡張したものであり、基準面に直交座標軸Ｘ、Ｙ軸を置き、粗さ曲面をＺ（ｘ，ｙ）、基準面の大きさをＬｘ、Ｌｙとすると下記式（ｉ）で算出される。
Ａ＝Ｌｘ×Ｌｙ
また、上述のＺｉ，ｊを用いると下記式（ii）で算出される。
Ｎ：全点数
Ａ＝Ｌｘ×Ｌｙ
また、上述のＺｉ，ｊを用いると下記式（ii）で算出される。
Ｎ：全点数
光学シートの透明基材としては、光透過性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものであることが好ましい。このような透明基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等のプラスチックフィルムが挙げられる。透明基材は、２枚以上のプラスチックフィルムを貼り合わせたものであってもよい。
上記の中でも、機械的強度や寸法安定性の観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）が好ましい。
ＴＡＣ、アクリルは光透過性光学的等方性の観点で好適である。また、ＴＡＣ、アクリルは溶剤により溶けやすく、溶解したＴＡＣ成分、アクリル成分が凹凸層に流入して、比重の小さい粒子を押し上げる作用がある。つまり、透明基材として、ＴＡＣ、アクリルを用いることにより、比重の小さい粒子（有機粒子等）が凹凸層中で沈み込みにくくなり、条件（１）及び（２）を満たしやすくできる。
ＣＯＰ、ポリエステルは耐候性に優れる点で好適である。また、リタデーション値３０００〜３００００ｎｍのプラスチックフィルム又は１／４波長位相差のプラスチックフィルムは、偏光サングラスを通して液晶ディスプレイの画像を観察した場合に、表示画面に色の異なるムラが観察されることを防止できる点で好適である。
ＴＡＣ、アクリルは光透過性光学的等方性の観点で好適である。また、ＴＡＣ、アクリルは溶剤により溶けやすく、溶解したＴＡＣ成分、アクリル成分が凹凸層に流入して、比重の小さい粒子を押し上げる作用がある。つまり、透明基材として、ＴＡＣ、アクリルを用いることにより、比重の小さい粒子（有機粒子等）が凹凸層中で沈み込みにくくなり、条件（１）及び（２）を満たしやすくできる。
ＣＯＰ、ポリエステルは耐候性に優れる点で好適である。また、リタデーション値３０００〜３００００ｎｍのプラスチックフィルム又は１／４波長位相差のプラスチックフィルムは、偏光サングラスを通して液晶ディスプレイの画像を観察した場合に、表示画面に色の異なるムラが観察されることを防止できる点で好適である。
透明基材の厚さは、５〜３００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましい。
透明基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
透明基材の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
光学シートは、凹凸形状の上及び／又は凹凸形状と反対側の面上に、反射防止層、防汚層、帯電防止層等の機能性層を有していてもよい。また、透明基材上に凹凸層を有する構成の場合、前記箇所のほかに、透明基材と凹凸層との間に機能性層を有していてもよい。
本発明のタッチパネルは、光学シートの凹凸形状によって防眩性等の諸特性を付与できるとともに、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制できる。特に、光学シートをタッチパネルの表面部材として用い、かつ光学シートの凹凸形状側の面が表面となるように配置することにより、防眩性を付与しつつ、解像度の低下をより抑制しやすくなる点で好適である。
また、本発明のタッチパネルは、表示素子が超高精細である場合のギラツキの抑制に優れている。ギラツキの抑制は、タッチパネルの下方に位置する表示素子の画素密度が２５０ｐｐｉ以上の場合により効果を生じやすく、画素密度３００ｐｐｉ以上の場合にさらに効果を生じやすい。
また、本発明のタッチパネルは、表示素子が超高精細である場合のギラツキの抑制に優れている。ギラツキの抑制は、タッチパネルの下方に位置する表示素子の画素密度が２５０ｐｐｉ以上の場合により効果を生じやすく、画素密度３００ｐｐｉ以上の場合にさらに効果を生じやすい。
［表示装置］
本発明の表示装置は、表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たすものである。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
本発明の表示装置は、表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たすものである。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
超高精細の表示素子は、上述のようにギラツキを生じやすいが、本発明の表示装置は、光学シートとして特定の光学シートを用いることにより、防眩性等の諸特性を付与できるとともに、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制できる。
本発明の表示装置に用いる光学シートとしては、上述した本発明のタッチパネルに用いる光学シートと同様のものを用いることができる。
本発明の表示装置に用いる光学シートとしては、上述した本発明のタッチパネルに用いる光学シートと同様のものを用いることができる。
表示素子としては、液晶表示素子、インセルタッチパネル液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子等が挙げられる。
インセルタッチパネル液晶素子は、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。なお、インセルタッチパネル液晶素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。インセルタッチパネル液晶素子は、例えば、特開２０１１−７６６０２号公報、特開２０１１−２２２００９号公報に記載されている。
本発明の表示装置は、上記表示素子のギラツキを抑制できる。ギラツキの抑制は、画素密度２５０ｐｐｉ以上の表示素子においてより効果を生じやすく、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子においてさらに効果を生じやすい。
インセルタッチパネル液晶素子は、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。なお、インセルタッチパネル液晶素子の液晶の表示方式としては、ＩＰＳ方式、ＶＡ方式、マルチドメイン方式、ＯＣＢ方式、ＳＴＮ方式、ＴＳＴＮ方式等が挙げられる。インセルタッチパネル液晶素子は、例えば、特開２０１１−７６６０２号公報、特開２０１１−２２２００９号公報に記載されている。
本発明の表示装置は、上記表示素子のギラツキを抑制できる。ギラツキの抑制は、画素密度２５０ｐｐｉ以上の表示素子においてより効果を生じやすく、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子においてさらに効果を生じやすい。
光学シートは、例えば、以下の順で表示素子の前面に設置することができる。
（ａ）表示素子／表面保護板／光学シート
（ｂ）表示素子／光学シート
（ｃ）表示素子／光学シートを構成部材として有するタッチパネル
（ｄ）表示素子／光学シート／表面保護板
（ａ）及び（ｂ）の場合、光学シートの凹凸層が表面を向くように（凹凸層が表示素子とは反対側を向くように）配置することで、防眩性を付与できるとともに、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制でき、さらには、表面や表示素子に生じた傷を見えづらくすることができる。
（ｃ）の場合、上述した本発明のタッチパネルの実施の形態のように光学シートを配置することで、防眩性等の諸特性を付与しつつ、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制することができる。
なお、（ｂ）及び（ｄ）の場合、光学シートの凹凸層が表示素子側を向くようにして空気層を介して配置すれば、密着及び干渉縞を防止するとともに、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制でき、さらには、表示素子に生じた傷を見づらくすることができる。
近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外で用いることが多い。このため、本発明の表示装置は、表示装置の最表面に光学シートを配置し、かつ凹凸層が表面側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。
（ａ）表示素子／表面保護板／光学シート
（ｂ）表示素子／光学シート
（ｃ）表示素子／光学シートを構成部材として有するタッチパネル
（ｄ）表示素子／光学シート／表面保護板
（ａ）及び（ｂ）の場合、光学シートの凹凸層が表面を向くように（凹凸層が表示素子とは反対側を向くように）配置することで、防眩性を付与できるとともに、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制でき、さらには、表面や表示素子に生じた傷を見えづらくすることができる。
（ｃ）の場合、上述した本発明のタッチパネルの実施の形態のように光学シートを配置することで、防眩性等の諸特性を付与しつつ、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制することができる。
なお、（ｂ）及び（ｄ）の場合、光学シートの凹凸層が表示素子側を向くようにして空気層を介して配置すれば、密着及び干渉縞を防止するとともに、解像度の低下及びギラツキの発生を抑制でき、さらには、表示素子に生じた傷を見づらくすることができる。
近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外で用いることが多い。このため、本発明の表示装置は、表示装置の最表面に光学シートを配置し、かつ凹凸層が表面側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。
［光学シート］
本発明の光学シートは、透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たすものである。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
本発明の光学シートは、透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たすものである。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。
本発明の光学シートとしては、上述した本発明のタッチパネルに用いる光学シートと同様のものが挙げられる。
本発明の光学シートは、表示素子の前面に用いることで、防眩性等の諸特性を付与しつつ、表示素子の映像光のギラツキ及び解像度の低下を抑制できる点で好ましい。ギラツキの抑制は、画素密度２５０ｐｐｉ以上の表示素子においてより効果を生じやすく、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子においてさらに効果を生じやすい。
近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外で用いることが多い。このため、本発明の光学シートは、タッチパネルや表示装置の最表面において、凹凸面が表面側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。
本発明の光学シートは、表示素子の前面に用いることで、防眩性等の諸特性を付与しつつ、表示素子の映像光のギラツキ及び解像度の低下を抑制できる点で好ましい。ギラツキの抑制は、画素密度２５０ｐｐｉ以上の表示素子においてより効果を生じやすく、画素密度３００ｐｐｉ以上の表示素子においてさらに効果を生じやすい。
近年のスマートフォンに代表される携帯情報端末は、屋外で用いることが多い。このため、本発明の光学シートは、タッチパネルや表示装置の最表面において、凹凸面が表面側（表示素子とは反対側）を向くようにして用いることが好ましい。
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「％」は特に断りのない限り質量基準とする。
１．光学シートの物性測定及び評価
以下のように、実施例及び比較例の光学シートの物性測定及び評価を行った。結果を表１に示す。
１−１．条件（１）の透光性粒子の割合、及び条件（２）の標準偏差の算出
走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて、明細書本文の記載の手順で、条件（１）の透光性粒子の割合、及び条件（２）の標準偏差を算出した。なお、光学シートの断面観察時のＳＴＥＭの加速電圧は３０ｋｖ、倍率は２５００倍とした。
以下のように、実施例及び比較例の光学シートの物性測定及び評価を行った。結果を表１に示す。
１−１．条件（１）の透光性粒子の割合、及び条件（２）の標準偏差の算出
走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて、明細書本文の記載の手順で、条件（１）の透光性粒子の割合、及び条件（２）の標準偏差を算出した。なお、光学シートの断面観察時のＳＴＥＭの加速電圧は３０ｋｖ、倍率は２５００倍とした。
１−２．ヘイズ
まず、ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳＫ−７１３６：２０００に従ってヘイズ（全体ヘイズ）を測定した。また、光学シートの表面に、透明粘着剤を介して、厚み８０μｍのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を貼り付けることによって凹凸形状をつぶして平坦にし、表面形状起因のヘイズの影響をなくした状態でヘイズを測定して、内部ヘイズ（Ｈｉ）を求めた。そして、全体ヘイズ値から内部ヘイズ値を差し引いて、表面ヘイズ（Ｈｓ）を求めた。光入射面は基材側とした。
まず、ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳＫ−７１３６：２０００に従ってヘイズ（全体ヘイズ）を測定した。また、光学シートの表面に、透明粘着剤を介して、厚み８０μｍのＴＡＣフィルム（富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）を貼り付けることによって凹凸形状をつぶして平坦にし、表面形状起因のヘイズの影響をなくした状態でヘイズを測定して、内部ヘイズ（Ｈｉ）を求めた。そして、全体ヘイズ値から内部ヘイズ値を差し引いて、表面ヘイズ（Ｈｓ）を求めた。光入射面は基材側とした。
１−３．全光線透過率
ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳＫ７３６１−１：１９９７に従って全光線透過率を測定した。光入射面は基材側とした。
ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳＫ７３６１−１：１９９７に従って全光線透過率を測定した。光入射面は基材側とした。
１−４．ＳＲａ
光学シートの凹凸層が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、ガラス板に貼付してサンプルとし、白色干渉顕微鏡（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にて、光学シートの表面形状の測定・解析を行った。
測定・解析ソフトにはＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用い、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面上にＲａを表示させ、該値をＳＲａとした。
（測定条件）
対物レンズ：５０倍
Ｚｏｏｍ：１倍
測定領域：１ｍｍ×１ｍｍ
解像度（１点当たりの間隔）：０．４４μｍ
（解析条件）
Ｒｅｍｏｖｅｄ：Ｎｏｎｅ
Ｆｉｌｔｅｒ：ＢａｎｄＰａｓｓ
ＦｉｌｔｅｒＴｙｐｅ：ＧａｕｓｓＳｐｌｉｎｅ
Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：８００μｍ
Ｈｉｇｈ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：３μｍ
Ｒｅｍｏｖｅ ｓｐｉｋｅｓ： ｏｎ
Ｓｐｉｋｅ Ｈｅｉｇｈｔ（ｘＲＭＳ）：２．５
Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈは、粗さパラメータにおけるカットオフ値λｃに相当する。
光学シートの凹凸層が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、ガラス板に貼付してサンプルとし、白色干渉顕微鏡（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にて、光学シートの表面形状の測定・解析を行った。
測定・解析ソフトにはＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用い、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面上にＲａを表示させ、該値をＳＲａとした。
（測定条件）
対物レンズ：５０倍
Ｚｏｏｍ：１倍
測定領域：１ｍｍ×１ｍｍ
解像度（１点当たりの間隔）：０．４４μｍ
（解析条件）
Ｒｅｍｏｖｅｄ：Ｎｏｎｅ
Ｆｉｌｔｅｒ：ＢａｎｄＰａｓｓ
ＦｉｌｔｅｒＴｙｐｅ：ＧａｕｓｓＳｐｌｉｎｅ
Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：８００μｍ
Ｈｉｇｈ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ：３μｍ
Ｒｅｍｏｖｅ ｓｐｉｋｅｓ： ｏｎ
Ｓｐｉｋｅ Ｈｅｉｇｈｔ（ｘＲＭＳ）：２．５
Ｌｏｗ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈは、粗さパラメータにおけるカットオフ値λｃに相当する。
１−５．ギラツキ
光学シートの凹凸層が形成されていない面と、ブラックマトリクス（ガラス厚み０．７ｍｍ）のマトリクスが形成されていないガラス面とを透明粘着剤で貼り合わせた。こうして得られた試料に対し、ブラックマトリクス側に白色面光源（ＨＡＫＵＢＡ社製、ＬＩＧＨＴＢＯＸ、平均輝度１０００ｃｄ／ｍ２）を設置することで、疑似的にギラツキ発生させた。これを光学シート側からＣＣＤカメラ（ＫＰ−Ｍ１、Ｃマウントアダプタ、接写リング；ＰＫ−１１Ａ ニコン、カメラレンズ；５０ｍｍ，Ｆ１．４ｓ ＮＩＫＫＯＲ）で撮影した。ＣＣＤカメラと光学シートの距離は２５０ｍｍとし、ＣＣＤカメラのフォーカスは光学シートに合うように調節した。ＣＣＤカメラで撮影した画像をパーソナルコンピュータに取り込み、画像処理ソフト（ＩｍａｇｅＰｒｏ Ｐｌｕｓ ｖｅｒ．６．２；Ｍｅｄｉａ Ｃｙｂｅｒｎｅｔｉｃｓ社製）で次のように解析を行った。
まず、取り込んだ画像から２００×１６０ピクセルの評価箇所を選び、該評価箇所において、１６ｂｉｔグレースケールに変換した。次に、フィルタコマンドの強調タブからローパスフィルタを選択し「３×３、回数３、強さ１０」の条件でフィルタをかけた。これによりブラックマトリクスパターン由来の成分を除去した。次に、平坦化を選択し、「背景：暗い、オブジェクト幅１０」の条件でシェーディング補正を行った。次に、コントラスト強調コマンドで「コントラスト：９６、ブライトネス：４８」としてコントラスト強調を行った。得られた画像を８ビットグレースケールに変換し、その中の１５０×１１０ピクセルについてピクセルごとの値のばらつきを標準偏差値として算出することにより、ギラツキを数値化した。この数値化したギラツキ値が小さいほど、ギラツキが少ないと言える。なお、評価は、ブラックマトリクスが画素密度３５０ｐｐｉ相当のものと、画素密度２００ｐｐｉ相当のものの２つで行った。
光学シートの凹凸層が形成されていない面と、ブラックマトリクス（ガラス厚み０．７ｍｍ）のマトリクスが形成されていないガラス面とを透明粘着剤で貼り合わせた。こうして得られた試料に対し、ブラックマトリクス側に白色面光源（ＨＡＫＵＢＡ社製、ＬＩＧＨＴＢＯＸ、平均輝度１０００ｃｄ／ｍ２）を設置することで、疑似的にギラツキ発生させた。これを光学シート側からＣＣＤカメラ（ＫＰ−Ｍ１、Ｃマウントアダプタ、接写リング；ＰＫ−１１Ａ ニコン、カメラレンズ；５０ｍｍ，Ｆ１．４ｓ ＮＩＫＫＯＲ）で撮影した。ＣＣＤカメラと光学シートの距離は２５０ｍｍとし、ＣＣＤカメラのフォーカスは光学シートに合うように調節した。ＣＣＤカメラで撮影した画像をパーソナルコンピュータに取り込み、画像処理ソフト（ＩｍａｇｅＰｒｏ Ｐｌｕｓ ｖｅｒ．６．２；Ｍｅｄｉａ Ｃｙｂｅｒｎｅｔｉｃｓ社製）で次のように解析を行った。
まず、取り込んだ画像から２００×１６０ピクセルの評価箇所を選び、該評価箇所において、１６ｂｉｔグレースケールに変換した。次に、フィルタコマンドの強調タブからローパスフィルタを選択し「３×３、回数３、強さ１０」の条件でフィルタをかけた。これによりブラックマトリクスパターン由来の成分を除去した。次に、平坦化を選択し、「背景：暗い、オブジェクト幅１０」の条件でシェーディング補正を行った。次に、コントラスト強調コマンドで「コントラスト：９６、ブライトネス：４８」としてコントラスト強調を行った。得られた画像を８ビットグレースケールに変換し、その中の１５０×１１０ピクセルについてピクセルごとの値のばらつきを標準偏差値として算出することにより、ギラツキを数値化した。この数値化したギラツキ値が小さいほど、ギラツキが少ないと言える。なお、評価は、ブラックマトリクスが画素密度３５０ｐｐｉ相当のものと、画素密度２００ｐｐｉ相当のものの２つで行った。
１−６．透過像鮮明度
解像度の評価の代替として、光学シートの透過線明度を測定した。具体的には、スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ−１Ｔ）を用いて、ＪＩＳＫ７３７４に従って、０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ及び２ｍｍの４つの光学櫛の巾のそれぞれについて、光学シートの透過像鮮明度を測定し、４つの透過線明度の和を算出した。光入射面は基材側とした。
解像度の評価の代替として、光学シートの透過線明度を測定した。具体的には、スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ−１Ｔ）を用いて、ＪＩＳＫ７３７４に従って、０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ及び２ｍｍの４つの光学櫛の巾のそれぞれについて、光学シートの透過像鮮明度を測定し、４つの透過線明度の和を算出した。光入射面は基材側とした。
１−７．コントラスト（暗室）
コントラスト比の測定では、バックライトユニットとして冷陰極管光源に拡散板を設置したものを用い、２枚の偏光板（サムスン社製、商品名ＡＭＮ−３２４４ＴＰ）を用い、該偏光板をパラレルニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬｍａｘを、クロスニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬｍｉｎで割ることで、防眩性フィルム（光透過性基材＋防眩層）を最表面に載置したときのコントラスト（Ｌ１）と、光透過性基材のみを最表面に載置したときのコントラスト（Ｌ２）とを求め、（Ｌ１／Ｌ２）×１００（％）を算出することでコントラスト比を算出した。
なお、輝度の測定には、色彩輝度計（トプコン社製、商品名ＢＭ−５Ａ）を用い、照度が５Ｌｘ以下の暗室環境下で行った。色彩輝度計の測定角は１°に設定し、サンプル上の垂直方向から視野φ５ｍｍで測定した。バックライトの光量は、サンプルを設置しない状態で、２枚の偏光板をパラレルニコルに設置したときの輝度が３６００ｃｄ／ｍ２になるように設置した。
コントラスト比の測定では、バックライトユニットとして冷陰極管光源に拡散板を設置したものを用い、２枚の偏光板（サムスン社製、商品名ＡＭＮ−３２４４ＴＰ）を用い、該偏光板をパラレルニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬｍａｘを、クロスニコルに設置したときに通過する光の輝度のＬｍｉｎで割ることで、防眩性フィルム（光透過性基材＋防眩層）を最表面に載置したときのコントラスト（Ｌ１）と、光透過性基材のみを最表面に載置したときのコントラスト（Ｌ２）とを求め、（Ｌ１／Ｌ２）×１００（％）を算出することでコントラスト比を算出した。
なお、輝度の測定には、色彩輝度計（トプコン社製、商品名ＢＭ−５Ａ）を用い、照度が５Ｌｘ以下の暗室環境下で行った。色彩輝度計の測定角は１°に設定し、サンプル上の垂直方向から視野φ５ｍｍで測定した。バックライトの光量は、サンプルを設置しない状態で、２枚の偏光板をパラレルニコルに設置したときの輝度が３６００ｃｄ／ｍ２になるように設置した。
１−８．防眩性
得られた光学シートの基材側に、黒色アクリル板を、透明粘着剤を介して貼り合わせた評価用サンプルを水平面に置き、評価用サンプルから１．５ｍ上方に蛍光灯を配置し、評価用サンプル上に蛍光灯を移しこませ、かつ評価用サンプル上の照度が８００〜１２００Ｌｘとした環境下で、様々な角度から目視官能評価を行い、以下の基準に従って評価した。
Ａ：いかなる角度からも蛍光灯の像が認識できない。
Ｂ：蛍光灯の像は映り込むが、蛍光灯の輪郭がぼやけ、輪郭の境界部が認識できない。
Ｃ：蛍光灯の像が鏡面のように映り込み、蛍光灯の輪郭（輪郭の境界部）がはっきりと認識できる。
得られた光学シートの基材側に、黒色アクリル板を、透明粘着剤を介して貼り合わせた評価用サンプルを水平面に置き、評価用サンプルから１．５ｍ上方に蛍光灯を配置し、評価用サンプル上に蛍光灯を移しこませ、かつ評価用サンプル上の照度が８００〜１２００Ｌｘとした環境下で、様々な角度から目視官能評価を行い、以下の基準に従って評価した。
Ａ：いかなる角度からも蛍光灯の像が認識できない。
Ｂ：蛍光灯の像は映り込むが、蛍光灯の輪郭がぼやけ、輪郭の境界部が認識できない。
Ｃ：蛍光灯の像が鏡面のように映り込み、蛍光灯の輪郭（輪郭の境界部）がはっきりと認識できる。
１−９．白化
光学シートの透明基材側の面と、黒色のアクリル板とを透明粘着剤を介して貼り合わせたサンプルを作製した。作製したサンプルについて、暗室にて、３波長蛍光灯管を光源とする卓上スタンドの下で、以下の基準で白濁感を観察した。
Ａ：白さが観察されなかった。
Ｃ：白さが観察された。
１−１０．干渉縞
２枚の光学シートを、一方の光学シートの凹凸面側と、他方の光学シートの透明基材側とが対向するようにして重ね合わせた。その結果、干渉縞が発生しなかったものを「Ａ」、干渉縞が発生したものを「Ｃ」とした。
光学シートの透明基材側の面と、黒色のアクリル板とを透明粘着剤を介して貼り合わせたサンプルを作製した。作製したサンプルについて、暗室にて、３波長蛍光灯管を光源とする卓上スタンドの下で、以下の基準で白濁感を観察した。
Ａ：白さが観察されなかった。
Ｃ：白さが観察された。
１−１０．干渉縞
２枚の光学シートを、一方の光学シートの凹凸面側と、他方の光学シートの透明基材側とが対向するようにして重ね合わせた。その結果、干渉縞が発生しなかったものを「Ａ」、干渉縞が発生したものを「Ｃ」とした。
１−１１．解像性
画素密度３５０ｐｐｉの表示素子の前面に光学シートを設置した状態で画像を表示し、解像性を目視で評価した。その結果、表示素子の解像性が損なわれなかったものを「Ａ」、表示素子の解像性が損なわれたものを「Ｃ」とした。
画素密度３５０ｐｐｉの表示素子の前面に光学シートを設置した状態で画像を表示し、解像性を目視で評価した。その結果、表示素子の解像性が損なわれなかったものを「Ａ」、表示素子の解像性が損なわれたものを「Ｃ」とした。
２．凹凸層形成塗布液の調製
２−１．凹凸層形成塗布液１
下記に示した配合をビーズミルにて分散させて中間組成物を得た。次いで、下記に示した配合をビーズミルにて分散し無機微粒子分散物を得た。さらに、中間組成物をディスパーで撹拌しながら、無機微粒子分散物を徐々に加えていき、凹凸層形成塗布液１を得た。
２−１．凹凸層形成塗布液１
下記に示した配合をビーズミルにて分散させて中間組成物を得た。次いで、下記に示した配合をビーズミルにて分散し無機微粒子分散物を得た。さらに、中間組成物をディスパーで撹拌しながら、無機微粒子分散物を徐々に加えていき、凹凸層形成塗布液１を得た。
（中間組成物）
・有機粒子１（非親水化処理ポリスチレン粒子、平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５９、比重１．０５） ３質量部
・有機粒子２（非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子、平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５７、比重１．０８） ７質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（比重１．１６５） ６０質量部
・ウレタンアクリレート（商品名「Ｖ−４０００ＢＡ」、ＤＩＣ社製） ４０質量部
・光重合開始剤（商品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製） ５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（商品名「ＴＳＦ４４６０」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製） ０．０２５質量部
・トルエン １００質量部
・イソプロピルアルコール ４０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２５質量部
・有機粒子１（非親水化処理ポリスチレン粒子、平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５９、比重１．０５） ３質量部
・有機粒子２（非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子、平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５７、比重１．０８） ７質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（比重１．１６５） ６０質量部
・ウレタンアクリレート（商品名「Ｖ−４０００ＢＡ」、ＤＩＣ社製） ４０質量部
・光重合開始剤（商品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製） ５質量部
・ポリエーテル変性シリコーン（商品名「ＴＳＦ４４６０」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製） ０．０２５質量部
・トルエン １００質量部
・イソプロピルアルコール ４０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２５質量部
（無機微粒子分散物）
フュームドシリカ（オクチルシラン処理；平均１次粒子径１２ｎｍ、比重２．００、日本アエロジル社製） ７質量部
トルエン ５５質量部
イソプロピルアルコール ２０質量部
フュームドシリカ（オクチルシラン処理；平均１次粒子径１２ｎｍ、比重２．００、日本アエロジル社製） ７質量部
トルエン ５５質量部
イソプロピルアルコール ２０質量部
２−２．凹凸層形成塗布液２
中間組成物における有機粒子を非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子（平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５５、比重１．１０）のみとして、該粒子の配合量を１４質量部とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに代えてシクロヘキサノンとし、さらに無機微粒子分散物におけるフュームドシリカの配合量を６質量部とした以外は、凹凸層形成塗布液１と同様にして凹凸層形成塗布液２を得た。
中間組成物における有機粒子を非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子（平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５５、比重１．１０）のみとして、該粒子の配合量を１４質量部とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに代えてシクロヘキサノンとし、さらに無機微粒子分散物におけるフュームドシリカの配合量を６質量部とした以外は、凹凸層形成塗布液１と同様にして凹凸層形成塗布液２を得た。
２−３．凹凸層形成塗布液３
中間組成物における有機粒子１及び２を、同一素材の平均粒子径が２．８μｍのものに変更した以外は、凹凸層形成塗布液１と同様にして凹凸層形成塗布液３を得た
中間組成物における有機粒子１及び２を、同一素材の平均粒子径が２．８μｍのものに変更した以外は、凹凸層形成塗布液１と同様にして凹凸層形成塗布液３を得た
２−４．凹凸層形成塗布液４
中間組成物における有機粒子を非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子（平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５４、比重１．１２、積水化成品工業製）のみとして、該粒子の配合量を１８質量部とした以外は、凹凸層形成１と同様にして凹凸層形成塗布液４を得た。
中間組成物における有機粒子を非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子（平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．５４、比重１．１２、積水化成品工業製）のみとして、該粒子の配合量を１８質量部とした以外は、凹凸層形成１と同様にして凹凸層形成塗布液４を得た。
２−５．凹凸層形成塗布液５
中間組成物における有機粒子を非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子（平均粒子径２．８μｍ、屈折率１．５５、比重１．１０、積水化成品工業製）のみとして、該粒子の配合量を１８質量部とした以外は、凹凸層形成１と同様にして凹凸層形成塗布液５を得た。
中間組成物における有機粒子を非親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子（平均粒子径２．８μｍ、屈折率１．５５、比重１．１０、積水化成品工業製）のみとして、該粒子の配合量を１８質量部とした以外は、凹凸層形成１と同様にして凹凸層形成塗布液５を得た。
３．光学シートの作製
［実施例１］
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）上に、凹凸層形成塗布液１を塗布し、７０℃、風速５ｍ／ｓで３０秒間乾燥した後、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して、凹凸層を形成し、光学シートを得た。凹凸層の膜厚は６μｍであった。
［実施例１］
透明基材（厚み８０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム、富士フイルム社製、ＴＤ８０ＵＬ）上に、凹凸層形成塗布液１を塗布し、７０℃、風速５ｍ／ｓで３０秒間乾燥した後、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して、凹凸層を形成し、光学シートを得た。凹凸層の膜厚は６μｍであった。
［実施例２］
凹凸層形成塗布液１を凹凸層塗布液３に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
凹凸層形成塗布液１を凹凸層塗布液３に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
［比較例１］
凹凸層形成塗布液１を凹凸層塗布液２に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
凹凸層形成塗布液１を凹凸層塗布液２に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
［比較例２］
凹凸層形成塗布液１を凹凸層塗布液４に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
凹凸層形成塗布液１を凹凸層塗布液４に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
［比較例３］
凹凸層形成塗布液１を凹凸層塗布液５に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
凹凸層形成塗布液１を凹凸層塗布液５に変更した以外は、実施例１と同様にして光学シートを得た。
表１の結果から明らかなように、実施例１〜２の光学シートは、防眩性等の諸特性を付与できるとともに、表示素子のギラツキを抑制することができるものであった。さらに、実施例１〜２の光学シートは、内部へイズを大きくすることなくギラツキを抑制できることから、内部へイズの増加に伴う弊害（解像度及びコントラストの低下）も抑制できるものであった。
一方、比較例１〜３の光学シートはギラツキが目立つものであった。
また、実施例１〜２の光学シートは、画素密度３５０ｐｐｉの表示素子のギラツキ防止性については、比較例１〜３の光学シートよりも極めて良好な効果を示しているが、画素密度２００ｐｐｉの表示素子のギラツキ防止性能については、比較例１〜３の光学シートとの効果の差が少なくなっている。このことから、実施例１〜２の光学シートは、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子に対して極めて有用であることが分かる。
一方、比較例１〜３の光学シートはギラツキが目立つものであった。
また、実施例１〜２の光学シートは、画素密度３５０ｐｐｉの表示素子のギラツキ防止性については、比較例１〜３の光学シートよりも極めて良好な効果を示しているが、画素密度２００ｐｐｉの表示素子のギラツキ防止性能については、比較例１〜３の光学シートとの効果の差が少なくなっている。このことから、実施例１〜２の光学シートは、画素密度３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子に対して極めて有用であることが分かる。
４．タッチパネルの作製
実施例１〜２及び比較例１〜３の光学シートの透明基材側に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実施例１〜２及び比較例１〜３の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
得られた抵抗膜式タッチパネルを、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）上に載置し、ギラツキの有無を目視で評価したところ、実施例１〜２のタッチパネルはギラツキが抑制され、外光の映り込みも少なく、視認性が良好であった。さらに、実施例１〜２のタッチパネルは超高精細の映像の解像度が損なわれることもなく、明室環境下のコントラストも良好であった。
一方、比較例１〜３のタッチパネルはギラツキが目立つものであった。
実施例１〜２及び比較例１〜３の光学シートの透明基材側に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実施例１〜２及び比較例１〜３の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
得られた抵抗膜式タッチパネルを、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）上に載置し、ギラツキの有無を目視で評価したところ、実施例１〜２のタッチパネルはギラツキが抑制され、外光の映り込みも少なく、視認性が良好であった。さらに、実施例１〜２のタッチパネルは超高精細の映像の解像度が損なわれることもなく、明室環境下のコントラストも良好であった。
一方、比較例１〜３のタッチパネルはギラツキが目立つものであった。
５．表示装置の作製
実施例１〜２及び比較例１〜３の光学シートと、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤を介して貼り合わせ、実施例１〜２及び比較例１〜３の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、光学シートの凹凸面が表示素子とは反対側を向くようにした。
得られた表示装置のギラツキの有無を目視で評価したところ、実施例１〜２の表示装置はギラツキが抑制され、外光の映り込みも少なく、視認性が良好であった。また、実施例１〜２の表示装置は超高精細の映像の解像度が損なわれることもなく、明室環境下のコントラストも良好であった。
一方、比較例１〜３の表示装置はギラツキが目立つものであった。
実施例１〜２及び比較例１〜３の光学シートと、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤を介して貼り合わせ、実施例１〜２及び比較例１〜３の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、光学シートの凹凸面が表示素子とは反対側を向くようにした。
得られた表示装置のギラツキの有無を目視で評価したところ、実施例１〜２の表示装置はギラツキが抑制され、外光の映り込みも少なく、視認性が良好であった。また、実施例１〜２の表示装置は超高精細の映像の解像度が損なわれることもなく、明室環境下のコントラストも良好であった。
一方、比較例１〜３の表示装置はギラツキが目立つものであった。
１：抵抗膜式タッチパネル、１１：透明基板、１２：透明導電膜、１３：スペーサー
２：静電容量式タッチパネル、２１：透明基板、２２：透明導電膜（Ｘ軸電極）、２３：透明導電膜（Ｙ軸電極）、２４：接着剤層
２：静電容量式タッチパネル、２１：透明基板、２２：透明導電膜（Ｘ軸電極）、２３：透明導電膜（Ｙ軸電極）、２４：接着剤層
Claims (11)
- 光学シートを構成部材として有するタッチパネルであって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす、表示素子の前面に用いられるタッチパネル。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。 - 前記条件（１）の上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上７５％以下である請求項１に記載のタッチパネル。
- 前記透光性粒子として、比重の異なる２種類以上の透光性粒子を含む請求項１又は２に記載のタッチパネル。
- 前記透光性粒子として、屈折率の異なる２種類以上の透光性粒子を含む請求項１〜３の何れか１項に記載のタッチパネル。
- 前記光学シートの内部へイズが１０〜３０％である請求項１〜４の何れか１項に記載のタッチパネル。
- 表示素子の前面に光学シートを有してなる表示装置であって、前記光学シートは透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす、表示装置。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。 - 透明基材上に透光性粒子を含む凹凸層を有してなり、かつ前記凹凸層が下記条件（１）及び（２）を満たす光学シート。
条件（１）：前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材側を下部、前記凹凸層の厚み方向の中央から透明基材とは反対側を上部とした際に、上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上。
条件（２）：前記上部を均等な厚みの１０区間に分割し、前記上部に存在する全透光性粒子に対する各区間の透光性粒子の割合を算出し、さらに、各区間の透光性粒子の割合から算出される標準偏差が１０．０％未満。 - 前記条件（１）の上部に存在する透光性粒子の割合が５５％以上７５％以下である請求項７に記載の光学シート。
- 前記透光性粒子として、比重の異なる２種類以上の透光性粒子を含む請求項７又は８に記載の光学シート。
- 前記透光性粒子として、屈折率の異なる２種類以上の透光性粒子を含む請求項７〜９の何れか１項に記載の光学シート。
- 前記光学シートの内部へイズが１０〜３０％である請求項７〜１０の何れか１項に記載の光学シート。
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