TWI631491B - 觸控面板、顯示裝置及光學薄片、以及光學薄片之選擇方法及光學薄片之製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種觸控面板,其能賦予防眩性等的諸特性,同時能防止畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件的映像光之眩目。
一種觸控面板,其係具有光學薄片作為構成構件之觸控面板,其中前述光學薄片係在表面具有凹凸形狀,同時前述凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件,且係使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面;條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角
度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
Description
本發明關於觸控面板、顯示裝置及光學薄片、以及光學薄片之選擇方法及光學薄片之製造方法。
近年來,以平板型PC以及智慧型手機為代表的具備雙向之通信機能,且搭載有資訊顯示以及資訊輸入用的透明觸控面板之行動型資訊終端機器,不僅在日本,而且在世界也開始廣泛普及。
作為透明觸控面板,有成本上優異的電阻膜方式,但在能多點觸控等的手勢操作,不易損害超高精細化的顯示元件之畫質等之點,靜電容量方式的觸控面板,尤其投影型靜電容量方式的觸控面板之需求係逐漸擴大。
於觸控面板之表面中,以防止外光的映入等為目的,有設置具有凹凸結構的防眩性薄片之情況。
再者,為了防止構成觸控面板之構件間的密接及干涉條紋,及防止觸控面板與顯示元件之間的密接及干涉條紋,作為觸控面板的最表面基材、內部基材及最背面基材等,使用具有凹凸結構的光學薄片。
然而,使用防眩性薄膜等之具有凹凸結構的光學薄片時,有發生起因於其凹凸結構,在映像光看到微細的亮度偏差之現象(眩目),使顯示品位降低之問題。尤其,於近年之超高精細化的顯示元件(畫素密度300ppi以上)中,眩目之問題進一步嚴重化。
作為防止因表面凹凸所致的眩目之技術,有提案專利文獻1~9之技術。
[專利文獻1]日本特開平11-305010號公報
[專利文獻2]日本特開2002-267818號公報
[專利文獻3]日本特開2009-288650號公報
[專利文獻4]日本特開2009-86410號公報
[專利文獻5]日本特開2009-128393號公報
[專利文獻6]日本特開2002-196117號公報
[專利文獻7]國際特開第2007/111026
[專利文獻8]日本特開2008-158536號公報
[專利文獻9]日本特開2011-253106號公報
專利文獻1及2係藉由賦予內部霧度而改善眩目者。然而,畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件係有眩目變強之傾向,若欲僅藉由內部霧度來抑制眩目,則不得不更加大內部霧度。又,內部霧度若大
則有解析度變差之傾向,於超高精細的顯示元件中該傾向更大。因此,即使如專利文獻1及2僅著眼於內部霧度,亦無法得到適合於畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件的光學薄片。
專利文獻3~9係藉由將光學薄片的表面形狀設計成特定的形狀,而賦予防眩性,同時改善眩目。然而,於專利文獻3~9之技術中,亦無法防止畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件的眩目。
本發明係在如此的狀況下完成者,目的在於提供即使具有凹凸結構時,也可防止畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件的映像光之眩目的觸控面板、顯示裝置及光學薄片。又,本發明提供光學薄片之選擇方法及製造方法,其係為了防止畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件的映像光之眩目。
本發明者等為了解決上述問題,對於防止眩目的光學薄片之表面形狀,進行專心致力的研究。首先,眩目之原因,茲認為係在映像光透過具有表面凹凸的光學薄片時,因凹凸形狀而在透過光發生歪斜。因此,以往為了防止眩目,如專利文獻3~9,進行降低凹凸的傾斜角度而減弱凹凸的程度之設計。然而,於此等之設計中,即使可以防止畫素密度低的顯示元件之眩目,也無法防止畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件之眩目。
本發明者等進一步地反覆研究,驚奇地發現若增強
凹凸之程度至一定水準,則反而有能防止眩目之傾向。然而,有僅增強凹凸之程度而無法防止眩目之情況,而且由於若過度增強凹凸之程度,則會對眩目以外的光學特性造成不利影響,故針對恰當的凹凸反覆研究而完成本發明。
即,本發明提供以下[1]~[9]之觸控面板、顯示裝置及光學薄片、以及光學薄片之選擇方法及光學薄片之製造方法。
[1]一種觸控面板,其係具有光學薄片作為構成構件之觸控面板,其中前述光學薄片係在表面具有凹凸形狀,同時前述凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件,且係使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面;條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
[2]如上述[1]記載之觸控面板,其中前述
光學薄片進一步滿足下述追加條件(1);追加條件(1):前述凹凸形狀之傾斜角度中的0~1.25度之傾斜角度的比例以累積百分率計為20%以下。
[3]如上述[1]或[2]記載之觸控面板,其中前述光學薄片進一步滿足下述追加條件(2);追加條件(2):凹凸形狀之傾斜角度中的15度以上之傾斜角度的比例以累積百分率計為3%以下。
[4]一種顯示裝置,其係在畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面具有光學薄片而成之顯示裝置,其中前述光學薄片係在表面具有凹凸形狀,同時前述凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件;條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
[5]一種使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面之光學薄片,其係在表面具有凹凸形狀之光學薄片,其中前述凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的
至少一個條件;條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
[6]如上述[5]記載之光學薄片,其進一步滿足下述追加條件(1);追加條件(1):前述凹凸形狀之傾斜角度中的0~1.25度之傾斜角度的比例以累積百分率計為20%以下。
[7]如上述[5]或[6]記載之光學薄片,其進一步滿足下述追加條件(2);追加條件(2):凹凸形狀之傾斜角度中的15度以上之傾斜角度的比例以累積百分率計為3%以下。
[8]一種使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面之光學薄片之選擇方法,其係在表面具有凹凸形狀的光學薄片之選擇方法,其係測定光學薄片的凹凸形狀之傾斜角度,選擇滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件者作為光學薄片;
條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
[9]一種使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面之光學薄片之製造方法,其係在表面具有凹凸形狀的光學薄片之製造方法,其中以前述凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件之方式來製造;條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分
布之峭度為1.5~6。
本發明之觸控面板、顯示裝置及光學薄片,係可賦予防眩性等的諸特性,同時可防止畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件的映像光之眩目。尤其,將光學薄片的凹凸面朝向視覺辨認者側使用時,即使在室外的明亮環境下,也可抑制外光之反射,可賦予高度的防眩性。
又,本發明的光學薄片之選擇方法,係即使不在顯示裝置中併入光學薄片,也可進行眩目之評價,可高效率地進行光學薄片之品質管理。又,本發明的光學薄片之製造方法,係可高效率地製造能賦予防眩性等的諸特性,同時能防止畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件的映像光之眩目的光學薄片。
1‧‧‧電阻膜式觸控面板
11‧‧‧透明基板
12‧‧‧透明導電膜
13‧‧‧間隔物
2‧‧‧靜電容量式觸控面板
21‧‧‧透明基板
22‧‧‧透明導電膜(X電極)
23‧‧‧透明導電膜(Y電極)
24‧‧‧接著劑層
第1圖係顯示本發明之電阻膜式觸控面板的一實施形態之截面圖。
第2圖係顯示本發明之靜電容量式觸控面板的一實施形態之截面圖。
第3圖係顯示實施例1的光學薄片之凹凸形狀的傾斜角度分布曲線之圖。
第4圖係顯示實施例2的光學薄片之凹凸形狀的傾斜角度分布曲線之圖。
第5圖係顯示實施例3的光學薄片之凹凸形狀的傾
斜角度分布曲線之圖。
第6圖係顯示比較例1的光學薄片之凹凸形狀的傾斜角度分布曲線之圖。
第7圖係顯示比較例2的光學薄片之凹凸形狀的傾斜角度分布曲線之圖。
第8圖係顯示比較例3的光學薄片之凹凸形狀的傾斜角度分布曲線之圖。
第9圖係顯示比較例4的光學薄片之凹凸形狀的傾斜角度分布曲線之圖。
第10圖係顯示實施例1的光學薄片之截面的掃描型透射電子顯微鏡照片(STEM)。
以下,說明本發明之實施形態。
[觸控面板]
本發明之觸控面板係具有光學薄片作為構成構件之觸控面板,前述光學薄片係在表面具有凹凸形狀,同時前述凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件,且係使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面。
條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差
為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
作為觸控面板,可舉出靜電容量式觸控面板、電阻膜式觸控面板、光學式觸控面板、超音波式觸控面板及電磁感應式觸控面板等。此等觸控面板係具有玻璃基材、塑膠薄膜基材等之基材,而在該基材上之表面,有形成為了賦予防眩性、抗密接及抗干涉條紋等之諸特性的凹凸形狀之情況。本發明之觸控面板,係使用後述光學薄片作為如此在表面具有凹凸形狀的基材。
又,後述之光學薄片係即使在室外的明亮環境下,也可賦予良好的防眩性,另一方面,亦可防止眩目及解析度之降低。因此,本發明之觸控面板較佳為以後述的光學薄片之凹凸面朝向操作者側(與顯示元件相反側)之方式使用。近年之智慧型手機為代表的攜帶資訊終端,由於顯示元件為超高精細,且在室外進行觸控面板操作,故以後述的光學薄片之凹凸面朝向操作者側之方式,構成本發明之觸控面板者係極有用。
電阻膜式觸控面板1係如第1圖所示,在以具有導電膜12的上下一對之透明基板11的導電膜12彼此相對向之方式,隔著間隔物13配置而成之構成作為基本構成上,連接未圖示的電路。於電阻膜式觸控面板之情況,作為上部透明基板及/或下部透明基板,較佳為
使用後述之光學薄片。再者,上部透明基板及下部透明基板亦可作為由2個以上的基材所成之多層結構,其中1個基材使用後述之光學薄片。
電阻膜式觸控面板中的光學薄片,例如只要是使用後述的光學薄片作為上部透明基板,且以光學薄片的凹凸面朝向與下部透明基板相反側之方式使用,則可對於電阻膜式觸控面板賦予高度的防眩性,同時可防止超高精細之顯示元件的眩目,更且可防止超高精細之顯示元件的解析度之降低。又,於此使用方式時,係在可難以看見在觸控面板之表面或導電膜等所產生的傷痕,能有助於良率的提高之點較宜。
又,藉由使用後述的光學薄片作為電阻膜式觸控面板之下部透明基板,且使光學薄片的凹凸面朝向上部透明基板側,而可抑制下部電極的表面之反射,同時防止超高精細之顯示元件的眩目。再者,於此使用方式時,係在操作時可防止上下的導電膜彼此密接,同時可防止因上下之導電膜接近而發生干涉條紋。
再者,作為上部透明基板及/或下部透明基板,以凹凸面朝向與上部電極相反側之方式使用後述的光學薄片時,在能防止密接或干涉條紋之點較宜。
靜電容量式觸控面板係可舉出表面型及投影型等,多使用投影型。投影型的靜電容量式觸控面板,係在將X軸電極及與該X電極呈正交的Y軸電極隔著絕緣體配置之基本構成上,連接電路而成者。若更具體地說明該基本構成,則可舉出於1片的透明基板上的
各自面上形成X電極及Y電極之態樣;於透明基板上依順序形成X電極、絕緣體層、Y電極之態樣;如第2圖所示,於透明基板21上形成X電極22,於另一透明基板21上形成Y電極23,隔著接著劑層24等進行積層之態樣等。又,可舉出於此等基本態樣上,更積層另一透明基板之態樣。
於靜電容量式觸控面板之情況,在透明基板的至少一個以上,使用後述之光學薄片。再者,透明基板亦可作為由2個以上的基材所成之多層結構,其中1個基材使用後述之光學薄片。
當靜電容量式觸控面板為於上述之基本態樣上更具有另一個透明基板之構成時,使用後述的光學薄片作為該另一個透明基板,且以光學薄片之凹凸面朝向與前述基本態樣側相反側之方式,使該凹凸面朝向操作者側時,可對於靜電容量式觸控面板賦予高度的防眩性,同時可防止超高精細之顯示元件的眩目,更且可防止超高精細之顯示元件的解析度之降低。又,於此使用方式時,在難以看見觸控面板的表面及導電膜等上所產生的傷痕以及電極圖案之形狀之點較佳。
又,當靜電容量式觸控面板係在透明基板上形成X電極,在另一個透明基板上形成Y電極,隔著接著劑等進行積層之構成時,即使當使用包含後述的光學薄片者作為至少一方之透明基板,且以光學薄片的凹凸面朝向與前述基本態樣側相反側之方式,使該凹凸面朝向操作者側時,亦可得到與上述同樣之效果。
再者,作為靜電容量式觸控面板之透明基板,以凹凸面朝向與操作者相反側之方式使用後述的光學薄片時,在可防止密接或干涉條紋之點較佳。
光學薄片係在表面具有凹凸形狀,同時前述凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件。
條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
光學薄片只要滿足條件(A)~(C)中的一個條件即可,但較佳為滿足(A)~(C)中的二個條件,更佳為滿足(A)~(C)的全部條件。
條件(A)係要求顯示凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔(以下亦稱為「半值全寬」)為5~15度。
半值全寬小於5度時,成為傾斜角度集中
於一定的窄範圍之凹凸形狀,容易發生眩目。又,半值全寬超過15度時,傾斜角度超過15度的陡峭之傾斜角度的比例增加,容易招致白化或解析度之降低,同時當使用光學薄片作為防眩性薄片時,對比容易降低。
半值全寬較佳為5~12度,更佳為6~10度。
條件(B)係要求自顯示凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度(以下亦稱為「顯示正方向的反曲點之傾斜角度」)為4~15度,且顯示在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差度(以下亦稱為「反曲點與峰值之傾斜角度差」)為2.2~10度。
顯示正方向的反曲點之傾斜角度小於4度時,傾斜係集中於傾斜角度低的角度區域,不具有各式各樣的傾斜角,容易發生眩目,同時傾斜角高的斜面係變少,難以賦予防眩性等的諸特性。顯示正方向的反曲點之傾斜角度超過15度時,傾斜角度超過15度的陡峭傾斜角度之比例係增加,容易招致白化或解析度之降低,同時當使用光學薄片作為防眩性薄片時,對比容易降低。
又,即使顯示正方向的反曲點之傾斜角度為4~15度,當反曲點與峰值的傾斜角度差小於2.2度時,傾斜角亦集中於峰值附近之區域,不具有各式各樣的傾斜角,容易發生眩目。另外,即使顯示正方向的反曲點之傾斜角度為4~15度,當反曲點與峰值之傾斜角度差超過
10度時,峰腳亦在傾斜角度高的區域變廣,容易招致白化或解析度之降低,同時當使用光學薄片作為防眩性薄片時,對比容易降低。
顯示正方向的反曲點之傾斜角度較佳為5~12度,更佳為5.5~10度,尤佳為6~8.5度。又,反曲點與峰值之傾斜角度差([顯示正方向的反曲點之傾斜角度]-[顯示峰值的傾斜角度])較佳為2.5~9度,更佳為2.8~8度,尤佳為2.8~5度。
條件(C)係要求顯示凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,且該凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或該凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
凹凸形狀整顯示傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度(以下亦稱為「峰值的傾斜角度」)小於2度時,傾斜係集中於傾斜角度低的角度區域,不具有各式各樣的傾斜角,容易發生眩目,同時傾斜角高的斜面係變少,難以賦予防眩性等的諸特性。峰值的傾斜角度超過8度時,傾斜角度超過8度的陡峭傾斜角度之比例係增加,容易招致白化或解析度之降低,同時當使用光學薄片作為防眩性薄片時,對比容易降低。
又,即使峰值的傾斜角度為2~8度,只要凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度(以下亦稱為「歪度」)及/或凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度(以下亦稱為「峭度」)未滿足本發明之範圍,則傾斜角度的分布不成為恰當的狀
態,容易發生眩目或白化。因此,於本發明中,要求一邊滿足峰值的傾斜角度為2~8度,一邊滿足歪度為0~1.5及/或峭度為1.5~6。
藉由峰值的傾斜角度為2~8度,且使光學薄片之歪度成為0~1.5,傾斜角分布係適度地偏向傾斜角小的區域,可容易防止因過度地偏向傾斜角大的區域而發生的弊病(白化、解析度之降低及對比之降低),同時可防止因過度地偏向傾斜角小的區域所致的弊病(眩目之發生)。
藉由峰值的傾斜角度為2~8度,且使光學薄片之峭度成為1.5以上,傾斜角度分布的峰腳變廣,而凹凸變得具有各式各樣的角度之傾斜角,可容易防止眩目。又,藉由峰值的傾斜角度為2~8度,且使光學薄片之峭度成為6以下,而防止傾斜集中於峰值附近的極端狹窄角度範圍,可容易防止眩目。再者,藉由峰值的傾斜角度為2~8度,且使光學薄片之峭度成為6以下,而減少平坦角度(低於峰值的角度)側之峰腳,使防眩性成為更良好,且減少陡峭角度(高於峰值的角度)側之峰腳,可容易防止白化、解析度之降低及對比之降低。
峰值的傾斜角度較佳為2.1~7度,更佳為2.1~6度。
光學薄片之歪度較佳為0~1.4,更佳為0~1.2。
光學薄片之峭度較佳為2~6,更佳為2.5~6。
再者,本發明之傾斜角度分布曲線,係傾斜角度分布的直方圖之各區間的值之經由直線內插所造
成的近似曲線。又,在直方圖之各區間的中心角度之位置,分配各區間之值(頻率)。例如,當直方圖的某區間為X度~Y度時,在(X+Y)/2度之位置,分配該區間之值(頻率)。另外,傾斜角度分布曲線之基礎的直方圖,為了正確地反映傾斜角度的分布狀況,較佳為充分窄化區間的寬度。區間的寬度只要是0.5度以下,則可正確地反映傾斜角度分布狀況。另一方面,當區間的寬度過窄時,雜訊的影響變大。因此,區間的寬度較佳為0.1~0.5度。例如,於後述之實施例1中,區間的寬度為0.425度。
以往為了防止眩目,進行減低傾斜角度而減弱凹凸的程度之設計,但於本發明中,反而藉由使傾斜角度高的凹凸存在,而防止眩目。即,滿足條件(A)~(C)的至少任一者,係顯示傾斜角度高的凹凸之存在,同時表示存在有各式各樣的傾斜角,更且表示接近平坦的區域少。茲認為本發明之觸控面板所用之光學薄片,係藉由具有使傾斜角高的斜面存在,同時存在有各式各樣的傾斜角,更且接近平坦的區域少之凹凸形狀,而可防止眩目。(正確說來,茲認為於本發明中亦多少有發生眩目。然而,茲認為於本發明中,藉由在光學薄片之表面上減少凹凸處與大略平滑處之邊界,或使各式各樣的傾斜角存在,以將眩目平均化而變得不顯眼)。
又,本發明之觸控面板所用之光學薄片,由於可藉由該凹凸形狀而提高抗眩目性,故不需要超出必要地提高內部霧度,可防止超高精細的顯示元件之解析度的降
低。另外,由於該凹凸形狀係接近平坦的區域少,存在有各式各樣的傾斜角,故可賦予高度的防眩性。再者,由於以往的光學薄片係藉由減弱凹凸的程度而防止眩目,且在形成凹凸的粒子間具有平坦部,故與本發明之光學薄片係在形狀上完全相異。
本發明之觸控面板係可一邊賦予防眩性等的諸特性,一邊使抗眩目性成為更良好。尤其,將光學薄片配置在觸控面板的操作者側而作為防眩性薄片使用時,在邊抑制對比的降低邊容易地賦予防眩性之點較佳。即,本發明所用之光學薄片,由於具有特定的凹凸形狀,而賦予抑制正反射方向的反射,即使在室外之明亮環境下也能耐得住的防眩性,更且由於抑制擴散反射的角度變過廣,可防止對比之降低。又,由於抑制擴散反射的角度變過廣,亦可防止超高精細之顯示元件的解析度降低。
光學薄片之凹凸形狀較佳為自傾斜角度分布曲線之峰值起,在±的角度方向中各自漸減之形狀。該形狀的光學薄片,由於顯示凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度為2點,該2點之間隔係成為半值全寬。再者,當光學薄片之凹凸形狀的傾斜角度分布曲線,係自峰值一旦漸減後增加,而再度漸減之形狀時,會有顯示該傾斜角度分布曲線之峰值的1/2之傾斜角度超過2點之情況。此時,將顯示自峰值起的+方向中最初來臨的1/2之角度、與顯示自峰值起-方向中最初來臨的1/2之角度的間隔當作半值全寬。
第3~9圖係將各自峰值規格化100時,實施例1~3及比較例1~4的光學薄片之凹凸形狀的傾斜角度分布曲線圖。第3~9圖的頻率為50時之傾斜角度的間隔,係相當於實施例1~3及比較例1~4的光學薄片之半值全寬。例如,第5圖之實施例3的光學薄片之半值全寬,係為頻率顯示50的傾斜角度(0.9度及6.1度)之間隔的5.2度。
光學薄片之凹凸形狀的傾斜角度分布,係可藉由自接觸式表面粗糙度計或非接觸式的表面粗糙度計(例如,干涉顯微鏡、共焦點顯微鏡、原子力顯微鏡等)之測定所得之三次元粗糙度曲面來算出。三次元粗糙度曲面之數據係在基準面(橫向為x軸、縱向為y軸)中,由以間隔d配置成方格狀之點與在該點的位置之高度所表示。將在x軸方向中第i號、y軸方向中第j號之點的位置(以下記載為(i,j))之高度當作Zi,j,於任意之位置(i,j)中,相對於x軸而言x軸方向之斜率Sx、相對於y軸而言y軸方向之斜率Sy,係如以下地算出。
Sx=(Zi+1,j-Zi-1,j)/2d
Sy=(Zi,j+1-Zi,j-1)/2d
再者,相對於(i,j)的基準面之斜率St,係由下述式(1)算出。
而且在(i,j)的傾斜角度係算為tan-1(St)。藉由對於各點進行上述之計算,而算出三次元粗糙度曲面的傾斜
角度分布。自所算出的傾斜角度分布數據的直方圖,藉由上述方法作成傾斜角度分布曲線,藉由該曲線可算出顯示上述之半值全寬及峰值的傾斜角度。
再者,上述的反曲點、歪度及峭度以及後述的三次元平均傾斜角,係可藉由實施例中記載之方法算出。
從簡便性來看,三次元粗糙度曲面較佳為使用干涉顯微鏡來測定。作為如此的干涉顯微鏡,可舉出Zygo公司製之「New View」系列等。
光學薄片係凹凸形狀之傾斜角中的0~5度之傾斜角的比例以累積百分率計較佳為40~80%,更佳為45~75%。藉由使該比例成為40%以上,可減少傾斜角超過5度的凹凸之比例,而防止白化或對比之降低。又,藉由使該比例成為80%以下,可更容易防止眩目,同時即使在室外的明亮環境下,也可賦予能耐得住的防眩性。
從使防眩性成為更良好之觀點來看,光學薄片較佳為滿足下述追加條件(1)。
追加條件(1):凹凸形狀之傾斜角中的0~1.25度之傾斜角的比例以累積百分率計為20%以下
追加條件(1)的累積百分率更佳為15%以下,尤佳為12%以下。
又,光學薄片較佳為滿足下述追加條件(2)。
追加條件(2):凹凸形狀之傾斜角中的超過15度之
傾斜角的比例以累積百分率計為3%以下
藉由滿足追加條件(2),可容易防止白化、解析度之降低及對比之降低。追加條件(2)的累積百分率更佳為2%以下,尤佳為1.5%以下。
光學薄片係凹凸形狀的三次元平均傾斜角(θa3D)較佳為3.0~9.0度,更佳為4.0~8.0度,尤佳為4.5~7.0度。藉由使θa3D成為3.0度以上,可容易地賦予防眩性等的諸特性。又,藉由使θa3D成為9.0度以下,可容易防止白化、解析度之降低及對比之降低。
上述條件(A)及/或(B)較佳為更滿足下述追加條件(3)。
追加條件(3):顯示傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度為2~8度
藉由使追加條件(3)之傾斜角度成為2度以上,可在賦予防眩性等的諸特性的同時容易地防止眩目。又,藉由使該傾斜角度成為8度以下,可容易防止白化、解析度之降低及對比之降低。
追加條件(3)之傾斜角度更佳為2.1~7度,尤佳為2.1~6度。
上述條件(A)及/或(B)較佳為更滿足下述追加條件(4)。
追加條件(4):凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5
藉由使追加條件(4)之歪度成為0~1.5,傾斜角分布適度地偏向傾斜角小之區域,可容易防止因過度偏向傾
斜角大的區域而發生的弊病(白化、解析度之降低及對比之降低),同時可容易防止因過度偏向傾斜角小的區域而造成的弊病(眩目之發生)。
追加條件(4)之歪度更佳為0~1.4,尤佳為0~1.2。
上述條件(A)及/或(B)更佳為滿足下述追加條件(5)。
追加條件(5):凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6
藉由使追加條件(5)之峭度成為1.5以上,而傾斜角度分布之峰腳變廣,凹凸變得具有各式各樣的角度之傾斜角,可進一步防止眩目。又,藉由使追加條件(5)之峭度成為6以下,而防止傾斜係集中於頻率的峰值附近之極端狹窄的角度範圍,可進一步防止眩目,同時減少平坦角度(低於峰值之角度)側的峰腳而使防眩性更良好,而且減少陡峭角度(高於峰值之角度)側的峰腳,可容易防止白化、解析度之降低及對比之降低。
追加條件(5)之峭度更佳為2~6,尤佳為2.5~6。
上述條件(A)及/或(C)較佳為更滿足下述追加條件(6)。
追加條件(6):自顯示傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度(顯示正方向的反曲點之傾斜角度)為4~15度
追加條件(6)之傾斜角度為4.0度以上者,係意指在凹凸面中,傾斜不集中於傾斜角度低的角度區域,而具有各式各樣的傾斜角。茲認為藉由如此地傾斜不集中於
傾斜角低的角度區域,具有各式各樣的傾斜角,而可進一步防止眩目。又,藉由追加條件(6)的傾斜角度成為4度以上,由於傾斜角高的斜面之存在,可容易地使防眩性等的諸特性成為良好。又,藉由使該角度成為15度以下,可容易防止白化、解析度之降低及對比之降低。
追加條件(6)之傾斜角度更佳為5~12度,尤佳為5.5~10度,尤更佳為6~8.5度。
上述條件(A)及/或(C)較佳為更滿足下述追加條件(7)。
追加條件(7):顯示反曲點的傾斜角度與顯示峰值的傾斜角度之差([顯示正方向的反曲點之傾斜角度]-[顯示峰值的傾斜角度])為2.2~10度
藉由滿足追加條件(7),可使追加條件(6)所致的效果成為更良好。
追加條件(7)之角度差更佳為2.5~9度,尤佳為2.8~8度,尤更佳為2.8~5度。
光學薄片係全光線透過率(JIS K7361-1:1997)較佳為80%以上,更佳為85%以上,尤佳為90%以上。
光學薄片係霧度(JIS K7136:2000)較佳為25~60%,更佳為30~60%,尤佳為30~50%。藉由使霧度成為25%以上,可賦予防眩性,同時難以看見電極的形狀或傷痕。又,藉由使霧度成為60%以下,可防止超高精細之顯示元件的解析度之降低,同時容易防止對比之降低。
又,將霧度分成表面霧度(Hs)與內部霧度(Hi)時,表
面霧度較佳為20~50%,更佳為20~45%,尤佳為25~40%。藉由使表面霧度成為20%以上,即使在室外等之明亮使用環境下,也可使防眩性成為良好,同時難以看見電極的形狀或傷痕,藉由成為50%以下,可容易防止對比之降低或解析度之降低。
另外,內部霧度較佳為5~30%,更佳為5~25%,尤佳為10~18%。藉由使內部霧度成為5%以上,因與表面凹凸的相乘作用而可容易防止眩目,藉由成為30%以下,可防止超高精細之顯示元件的解析度之降低。
還有,表面霧度與內部霧度之比(Hs/Hi),從上述表面霧度與內部霧度的效果之平衡的觀點來看,較佳為1.0~5.0,更佳為2.0~5.0,尤佳為2.5~4.5。
表面霧度及內部霧度,例如可藉由實施例中記載之方法求得。
從解析度之觀點及難以看見電極的形狀或傷痕觀點來看,光學薄片係使用JIS K7105:1981規定的圖像鮮明度測定裝置,通過具有2mm、1mm、0.5mm及0.125mm的寬度之光學梳後的4種類之透過像鮮明度之和較佳為100%以下,更佳為超過20%且80%以下。
光學薄片的凹凸形狀之算術平均粗糙度Ra較佳為0.20~0.70μm,更佳為0.25~0.50μm。藉由使Ra成為0.20μm以上,可容易防止眩目,同時可容易地使防眩性、抗密接性及抗干涉條紋性成為良好,更且可難以看見電極的形狀或傷痕。又,藉由使Ra成為0.70μm以下,可容易防止解析度及對比之降低。再者,Ra及後
述之Rz、Smp係截斷值0.8mm之值。
再者,本發明中Ra係3次元擴張JIS B0601:1994中記載的2次元粗糙度參數之Ra者,在基準面上放置正交座標軸X、Y軸,將粗糙度曲面當作Z(x,y),將基準面的大小當作Lx、Ly,由下述式(2)算出。
A=Lx×Ly
又,若使用上述之Zi,j,則由下述式(3)算出。
N:全點數
光學薄片的凹凸形狀之十點平均粗糙度Rz較佳為1.00~3.50μm,更佳為1.20~3.00μm。藉由使Rz成為1.00μm以上,可容易防止眩目,可容易地使防眩性、抗密接性及抗干涉條紋性成為良好,更且可難以看見電極的形狀或傷痕。又,藉由使Rz成為3.50μm以下,由於極端地高標高之凸部消失,可容易防止解析度及對比之降低。
又,從更容易得到上述Ra及Rz之效果的觀點來看,Rz與Ra之比[Rz/Ra]較佳為6.0以下,更佳為4.0~6.0,尤佳為4.5~5.7。
再者,本發明中Rz係3次元擴張JIS B0601:1994中記載的2次元粗糙度參數之Rz者。於基
準面上將通過基準面的中心之直線以網羅全域之方式大量地放置成360度放射狀,自3次元粗糙度曲面,得到以各直線為基礎所切斷的截面曲線,求得該截面曲線中的十點平均粗糙度(自最高的山頂起依高度順序至第5號為止的山高度之平均與自最深的谷底起依深度順序至第5號為止的谷深度之平均的和)。藉由將於如此所得之大量的十點平均粗糙度之中的上位50%予以平均而算出。
光學薄片的凹凸形狀之凹凸的平均山間隔Smp較佳為25~100μm,更佳為30~80μm,尤佳為30~70μm。藉由不但使傾斜角度分布曲線之半值全寬成為本發明的範圍,更使Smp成為前述範圍,而可形成不過緩且不過急的凹凸形狀,可防止眩目,同時容易發揮防眩性、抗密接、抗干涉條紋、電極形狀及傷痕之不可見化、防止解析度之降低、防止白化等之諸性能。
Smp係如以下地求得。自3次元粗糙度曲面起,在比基準面高的部分,將一個區域所包圍的部分當作一個山時,將山之個數當作Ps,將測定區域全體(基準面)之面積當作A,Smp係由下述式(4)算出。
上述Ra、Rz及Smp係可藉由上述之干涉顯微鏡「New View」系列所附屬的測定‧解析應用軟體「MetroPro」來算出。
上述光學薄片只要是在至少一側之面具有上述凹凸形狀,且具有透光性者,則可無特別限制地
使用。又,上述凹凸形狀亦可在光學薄片之兩面具有,但從操作性、映像的視覺辨認性(解析度、白化)之觀點來看,較佳為在單面具有上述凹凸形狀,另一面為大略平滑(Ra0.02μm以下)。
又,光學薄片係可為凹凸層的單層,也可為在透明基材上具有凹凸層的複層。從操作性及製造的容易性來看,宜為在透明基材上具有凹凸層之構成。
作為凹凸之形成方法,例如可舉出(1)使用壓花輥之方法,(2)蝕刻處理,(3)藉由模具之成型,(4)藉由塗覆的塗膜之形成等。於此等方法之中,從凹凸形狀的再現性之觀點來看,宜為(3)藉由模具之成型,從生產性及多品種對應之觀點來看,宜為(4)藉由塗覆的塗膜之形成。
藉由模具之成型,係可藉由製作由與凹凸面互補的形狀所成之模具,於該模具內流入高分子樹脂或玻璃等之構成凹凸層的材料,使其硬化後,自模具取出而製造。使用透明基材時,可於模具內流入高分子樹脂等,於其上疊合透明基材後,使高分子樹脂等硬化,連同透明基材自模具取出而製造。
藉由塗覆的塗膜之形成,係可藉由將含有樹脂成分及透光性粒子所成之凹凸層形成塗布液,以凹版塗覆、棒塗等眾所周知之塗布方法,塗布在透明基材上,視需要進行乾燥、硬化而形成。為了使凹凸形狀成為上述範圍,較佳為於凹凸層形成塗布液中,含有無機超微粒子。
第10圖係顯示將含有黏結劑樹脂、透光性粒子及無機超微粒子所成之凹凸層形成塗布液予以塗覆而形成之實施例1的光學薄片之凹凸層的截面之掃描型透射電子顯微鏡照片(STEM)。
通常,透光性粒子不存在處係凹凸層的表面為大略平滑,但第10圖之凹凸層係透光性粒子不存在處亦具有緩和的傾斜。此原因判斷係因為塗布液的搖變性及溶劑之乾燥特性受到無機超微粒子之影響,而不發生如通常的均平。茲認為藉由如此地在透光性粒子不存在處亦形成緩和的傾斜,而可在凹凸層中儘量消除大略平滑處,可容易使條件(A)~(C)及其它的追加條件成為本發明之範圍。
又,茲認為第10圖之凹凸層係因以下(1)~(3)之理由,而容易使條件(A)~(C)及其它的追加條件成為上述範圍。
(1)透光性粒子存在處之若干急劇的傾斜、與透光性粒子不存在處之緩和的傾斜係混合存在,傾斜係成為無規的凹凸形狀。
(2)通常凹凸層之表面附近所存在的透光性粒子之凹凸層的周邊形狀,係成為沿著透光性粒子的形狀之凸部形狀,但於第10圖之凹凸層中,未成為沿著透光性粒子的形狀之形狀。如此地,由於凹凸層之表面附近所存在的透光性粒子之形狀未充分反映於凹凸層之表面形狀,而成為陡峭的凹凸少之形狀。
(3)於第10圖之凹凸層中,透光性粒子係存在分散
與凝聚之兩者。此原因判斷係因為無機超微粒子影響塗布液的搖變性或透光性粒子彼此之親和性。如此地,由於存在分散與凝聚之兩者,而成為凹凸形狀的變化多且無規之表面形狀。
透光性粒子係透光性有機粒子及透光性無機粒子的任何者皆可使用。又,透光性粒子係可舉出球形、圓盤狀、橄欖球狀、不定形等之形狀,又可舉出此等形狀之中空粒子、多孔質粒子及實心粒子等。於此等之中,從抗眩目之觀點來看,宜為球形的實心粒子。
作為透光性有機粒子,可舉出由聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚氰胺樹脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯并胍胺-三聚氰胺-甲醛縮合物、聚矽氧、氟系樹脂及聚酯系樹脂等所成之粒子。
作為透光性無機粒子,可舉出由矽石、氧化鋁、氧化鋯及二氧化鈦等所成之粒子。
於上述透光性粒子之中,從分散控制的容易度之觀點來看,宜為透光性有機粒子,其中較宜為聚丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子。從折射率及親疏水的程度之控制為容易來看,在內部霧度及凝聚/分散之控制為容易之點,聚丙烯酸-苯乙烯共聚物粒子係良好。
從容易得到上述的凹凸形狀之觀點來看,透光性粒子平均粒徑較佳為2~10μm,更佳為3~8μm。
又,從容易得到上述的凹凸形狀之觀點來看,透光性粒子的平均粒徑與凹凸層的厚度之比(透光性粒子的平均粒徑/凹凸層的厚度)較佳為0.5~1.0,更佳為
0.6~0.9。
透光性粒子的平均粒徑係可藉由以下(1)~(3)之作業來算出。
(1)以光學顯微鏡拍攝本發明的光學薄片之透過觀察圖像。倍率較佳為500~2000倍。
(2)自觀察圖像中抽出任意的10個粒子,測定各個粒子的長徑及短徑,自長徑及短徑的平均來算出各個粒子之粒徑。長徑係各個粒子的畫面上中最長之直徑。又,短徑指畫出與構成長徑的線部分之中點呈正交的線部分,與該正交的線部分粒子相交的2點間之距離。
(3)於同樣品之另一畫面的觀察圖像中,進行5次同樣的作業,將自合計50個部分的粒徑之數量平均所得之值當作透光性粒子的平均粒徑。
無機超微粒子的平均一次粒徑,係首先以TEM或STEM拍攝本發明之光學薄片的截面。於拍攝後,藉由進行與上述(2)及(3)同樣之手法,可算出無機超微粒子的平均一次粒徑。TEM或STEM的加速電壓較佳為10kv~30kV,倍率較佳為5萬~30萬倍。
從容易得到上述凹凸形狀之觀點來看,透光性粒子之含量較佳為形成凹凸層的全部固體成分中之2~25質量%,更佳為5~20質量%。
作為無機超微粒子,可舉出由矽石、氧化鋁、氧化鋯及二氧化鈦等所成之超微粒子。於此等之中,從透明性之觀點來看,宜為矽石超微粒子。
從容易得到上述凹凸形狀之觀點來看,無機超微粒
子係平均一次粒徑較佳為1~25nm,更佳為5~20nm。
無機超微粒子較佳為經由表面處理導入有反應性基的反應性無機超微粒子。藉由導入反應性基,可使凹凸層中含有大量的無機超微粒子,可容易得到上述凹凸形狀。
作為反應性基,宜使用聚合性不飽和基,較佳為光硬化性不飽和基,特佳為電離放射線硬化性不飽和基。作為其具體例,可舉出(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯氧基、乙烯基及烯丙基等之乙烯性不飽和鍵以及環氧基等。
如此的反應性無機超微粒子,係可舉出經矽烷偶合劑所表面處理之無機超微粒子。以矽烷偶合劑處理無機超微粒子之表面,可舉出對於無機超微粒子噴灑矽烷偶合劑之乾式法,或使無機超微粒子分散於溶劑中後,添加矽烷偶合劑而使其反應之濕式法等。
無機超微粒子之含量較佳為形成凹凸層的全部固體成分中之10~90質量%,更佳為20~70質量%,尤佳為35~50質量%。由於成為該範圍,可藉由均平性的控制及凹凸層之聚合收縮的抑制,容易得到上述凹凸形狀。
又,凹凸層中的透光性粒子及無機超微粒子之含量的比(透光性粒子之含量/無機超微粒子之含量),從容易得到上述凹凸形狀之觀點來看,較佳為0.1~0.4,更佳為0.2~0.3。
凹凸層的樹脂成分較佳為包含熱硬化性樹脂組成物或電離放射線硬化性樹脂組成物,從使機械
強度成為更良好之觀點來看,更佳為包含電離放射線硬化性樹脂組成物,其中尤佳為包含紫外線硬化性樹脂組成物。
熱硬化性樹脂組成物係至少包含熱硬化性樹脂之組成物,係藉由加熱而硬化之樹脂組成物。
作為熱硬化性樹脂,可舉出丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、酚樹脂、尿素三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂等。熱硬化性樹脂組成物中,在此等硬化性樹脂中,視需要地添加硬化劑。
電離放射線硬化性樹脂組成物,係包含具有電離放射線硬化性官能基的化合物(以下亦稱為「電離放射線硬化性化合物」)之組成物。作為電離放射線硬化性官能基,可舉出(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等之乙烯性不飽和鍵結基、及環氧基、氧雜環丁烷基等。作為電離放射線硬化性化合物,較佳為具有乙烯性不飽和鍵結基的化合物,更佳為具有2個以上的乙烯性不飽和鍵結基之化合物,其中尤佳為具有2個以上的乙烯性不飽和鍵結基之多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物。作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物,可使用的單體及寡聚物的任一者
再者,所謂的電離放射線,就是意指在電磁波或荷電粒子線之中,具有能將分子聚合或交聯之能量子者,通常使用紫外線(UV)或電子束(EB),但另外亦可使用X射線、γ射線等之電磁波、α射線、離子線等之荷電粒子線。
於多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物之中,作為2官能(甲基)丙烯酸酯系單體,可舉出乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A四乙氧基二丙烯酸酯、雙酚A四丙氧基二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。
作為3官能以上的(甲基)丙烯酸酯系單體,例如可舉出三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸改性三(甲基)丙烯酸酯等。
又,上述(甲基)丙烯酸酯系單體亦可為將分子骨架的一部分改性者,也可使用經由環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、異三聚氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等所改性者。
又,作為多官能性(甲基)丙烯酸酯系寡聚物,可舉出胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等之丙烯酸酯系聚合物等。
胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯例如係藉由多元醇及有機二異氰酸酯與羥基(甲基)丙烯酸酯之反應而得。
另外,較佳的環氧(甲基)丙烯酸酯,係使3官能以上的芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與(甲基)丙烯酸反應而得之(甲基)丙烯酸酯,使2官能以上的芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與多元酸和(甲基)丙烯酸反應而得之(甲基)丙烯酸酯,及使2官能以上的芳香族環氧樹脂、脂環族環
氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與酚類和(甲基)丙烯酸反應而得之(甲基)丙烯酸酯。
上述電離放射線硬化性化合物係可單獨1種或組合2種以上使用。
於電離放射線硬化性化合物為紫外線硬化性化合物時,電離放射線硬化性組成物較佳為包含光聚合起始劑或光聚合促進劑等之添加劑。
作為光聚合起始劑,可舉出由苯乙酮、二苯基酮、α-羥基烷基苯酚、米蚩酮(Michler’s ketone)、苯偶姻、苄基甲基縮酮、苯甲醯基苯甲酸酯、α-醯基肟酯、噻噸酮類等所選出的1種以上。
此等光聚合引發劑係熔點較佳為100℃以上。藉由使光聚合引發劑的熔點成為100℃以上,可防止因觸控面板的透明導電膜形成時或結晶化步驟之熱,所殘留的光聚合引發劑昇華而損害透明導電膜的低電阻化。
又,光聚合促進劑係可減輕硬化時的因空氣所致的聚合阻礙,可加快硬化速度者,例如可舉出由對二甲基胺基苯甲酸異戊酯、對二甲基胺基苯甲酸乙酯等所選出的1種以上。
從與捲曲抑制、機械強度、硬度及韌性之平衡之觀點來看,凹凸層的厚度較佳為2~10μm,更佳為4~8μm。
凹凸層的厚度例如可使用掃描型透射電子顯微鏡(STEM),自所拍攝的截面之圖像中,測定20處的厚度,自20處之值的平均值來算出。STEM的加速電壓較佳為
10kv~30kV,倍率較佳為1000~7000倍。
凹凸層形成塗布液通常為了調節黏度或使各成分能溶解或分散,而使用溶劑。由於塗布、乾燥過程後的凹凸層之表面狀態係因溶劑的種類而異,故較佳為考慮溶劑的飽和蒸氣壓、溶劑對於透明基材的浸透性等來選擇溶劑。具體而言,溶劑例如可例示酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等)、醚類(二烷、四氫呋喃等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環式烴類(環己烷等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵化烴類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、醇類(丁醇、環己醇等)、賽路蘇類(甲基賽路蘇、乙基賽路蘇等)、賽路蘇乙酸酯類、亞碸類(二甲亞碸等)、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等,亦可為此等之混合物。
溶劑的乾燥過慢時或過快時,由於凹凸層的均平性為過度或不足,難以形成上述凹凸形狀。因此,作為溶劑,較佳為包含全部溶劑中的50質量%以上之蒸發速度(以正乙酸丁酯的蒸發速度作為100時的相對蒸發速度)為100~180之溶劑。作為全部溶劑中的50質量%以上之溶劑,更佳為蒸發速度100~150者。
若舉出相對蒸發速度之例,則甲苯為195,甲基乙基酮(MEK)為465,甲基異丁基酮(MIBK)為118,丙二醇單甲基醚(PGME)為68。
又,溶劑之種類,亦對於以矽石超微粒子為代表的無機超微粒子之分散性造成影響。例如,MIBK係在無
機超微粒子的分散性優異,容易形成上述凹凸形狀之點較宜。
又,從容易得到上述凹凸形狀之觀點來看,較佳為控制形成凹凸層時的乾燥條件。乾燥條件係可藉由乾燥溫度及乾燥機內之風速來調整。具體的乾燥溫度較佳為30~120℃,乾燥風速較佳為0.2~50m/s。另外,為了藉由乾燥條件來控制凹凸層的均平,電離放射線之照射係宜在乾燥後進行。
另外,從使表面凹凸成為適度地光滑,容易得到上述凹凸形狀之觀點來看,凹凸層形成塗布液較佳為含有均平劑。均平劑可舉出氟系或聚矽氧系者,宜為聚矽氧系的均平劑。均平劑之添加量,係相對於凹凸層形成塗布液之全部固體成分,較佳為0.01~0.5重量%,更佳為0.05~0.2重量%。
作為光學薄片之透明基材,較佳為具備透光性、平滑性、耐熱性,機械強度優異者。作為如此的透明基材,可舉出聚酯、三乙醯纖維素(TAC)、纖維素二乙酸酯、纖維素乙酸丁酸酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮乙醛、聚醚酮、丙烯酸、聚碳酸酯、聚胺基甲酸酯及非晶質烯烴(Cyclo-Olefin-Polymer:COP)等之塑膠薄膜。透明基材亦可為貼合有2片以上的塑膠薄膜者。
於上述之中,從機械強度或尺寸安定性之觀點來看,較佳為經延伸加工,尤其經雙軸延伸加工的聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)。又,TAC、丙
烯酸係在透光性或光學的各向同性之觀點較宜。另外,COP、聚酯係在耐候性優異之點較宜。還有,遲滯值3000~30000nm的塑膠薄膜或1/4波長相位差的塑膠薄膜,係在當通過偏光太陽眼鏡來觀察液晶顯示器的圖像時,可防止觀察到顯示畫面上的顏色相異之不均之點較宜。
透明基材之厚度較佳為5~300μm,更佳為30~200μm。
於透明基材之表面,為了提高接著性,亦可預先進行電暈放電處理、氧化處理等的物理處理,以及稱為錨固劑或底漆的塗料之塗布。
光學薄片係在凹凸形狀之上及/或與凹凸形狀相反側之面上,亦可具有抗反射層、防污層、抗靜電層等的機能性層。又,於透明基材上具有凹凸層之構成時,除了在前述處,也可在透明基材與凹凸層之間具有機能性層。
本發明之顯示裝置係在畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面具有光學薄片而成之顯示裝置,前述光學薄片係在表面具有凹凸形狀,同時前述凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件;條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角
度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件,係如上述容易發生眩目,但於本發明中,藉由使用特定之光學薄片作為具有凹凸形狀的光學薄片,可邊賦予防眩性等的諸特性邊防止眩目。
作為用於本發明之顯示裝置的光學薄片,可使用與上述本發明之觸控面板所用的光學薄片同樣者。
作為顯示元件,可舉出液晶顯示元件、內嵌觸控面板液晶顯示元件、EL顯示元件、電漿顯示元件等。
內嵌觸控面板液晶元件,係在以2片的玻璃基板夾住液晶而成之液晶元件的內部,併入電阻膜式、靜電容量式、光學式等的觸控面板機能者。再者,作為內嵌觸控面板液晶元件的液晶之顯示方式,可舉出IPS方式、VA方式、多域方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等。內嵌觸控面板液晶元件例如記載於日本特開2011-76602號公報、日本特開2011-222009號公報中。
光學薄片例如可依以下之順序設置在顯示元件之前面。
(1)顯示元件/表面保護板/光學薄片
(2)顯示元件/光學薄片
(3)顯示元件/具有光學薄片作為構成構件之觸控面板
(4)顯示元件/光學薄片/表面保護板
於(1)及(2)之情況,藉由以光學薄片的凹凸面朝向表面之方式(以凹凸面朝向與顯示元件相反側之方式)配置,可賦予高度的防眩性,同時可防止眩目,更且可難以看見在表面或顯示元件所產生的傷痕。
於(3)之情況,藉由如上述本發明之觸控面板的實施形態來配置光學薄片,可一邊賦予防眩性等的諸特性,一邊防止眩目。
再者,於(2)及(4)之情況,只要是以光學薄片的凹凸面朝向顯示元件側之方式,隔著空氣層配置,則可防止密接及干涉條紋,同時難以看見在顯示元件所產生的傷痕。
用於本發明之顯示裝置的光學薄片,係即使在室外的明亮環境下也可抑制外光的反射,可賦予高度的防眩性。近年之以智慧型手機為代表的攜帶資訊終端,由於多在室外使用,故本發明之顯示裝置較佳為以凹凸面朝向視覺辨認者側(與顯示元件相反側)之方式,使用光學薄片。
本發明之光學薄片係在表面具有凹凸形狀之光學薄片,其中前述凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件,且其係用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之
前面;條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
作為本發明之光學薄片,可舉出與上述本發明之觸控面板所用的光學薄片同樣者。
本發明之光學薄片係在藉由使用在畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面,而可一邊賦予防眩性等的諸特性,一邊防止超高精細之顯示元件的映像光之眩目及解析度的降低之點較佳。
又,本發明之光學薄片係即使在室外的明亮環境下也可抑制外光之反射,可賦予高度的防眩性。近年之以智慧型手機為代表的攜帶資訊終端,由於多在室外使用,故本發明之光學薄片較佳為在觸控面板或顯示裝置之最表面,以凹凸面朝向視覺辨認者側(與顯示元件相反側)之方式使用。
本發明之光學薄片之選擇方法係使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面的光學薄片之選擇方法,其係在表面具有凹凸形狀的光學薄片之選擇方法,其係測定光學薄片的凹凸形狀之傾斜角,選擇滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件者作為光學薄片;條件(A):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
於本發明之光學薄片之選擇方法中,即使不在顯示裝置中併入光學薄片,也在用於畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件時,可選擇抗眩目性為良好的光學薄片,可使光學薄片的品質管理成為高效率。
選擇光學薄片的判斷條件,係可為上述條件(A)~(C)之中的僅一個,也可為(A)~(C)之中的二個,亦可為(A)~(C)之全部。
條件(A)的傾斜角度較佳為5~12度,更佳為6~10度。
條件(B)之顯示反曲點的傾斜角度較佳為5~12度,更佳為5.5~10度,尤佳為6~8.5度。條件(B)之角度差較佳為2.5~9度,更佳為2.8~8度,更佳為2.8~5度。
條件(C)之顯示峰值的傾斜角度較佳為2.1~7度,更佳為2.1~6度。
於本發明中,藉由更將以下的追加條件(1)及/或(2)當作判斷條件,而可選擇能更正確防止眩目之光學薄片。
追加條件(1):凹凸形狀之傾斜角中的0~1.25度之傾斜角的比例以累積百分率計為20%以下,追加條件(2):凹凸形狀之傾斜角中的15度以上之傾斜角的比例以累積百分率計為3%以下,追加條件(1)之累積百分率較佳為15%以下,更佳為12%以下。追加條件(2)的累積百分率較佳為2%以下,更佳為1.5%以下。
上述條件(A)及/或(B)較佳為更滿足自下述追加條件(3)~(5)所選出的一個以上之條件。
追加條件(3):顯示傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度為2~8度,追加條件(4):凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5,追加條件(5):凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
追加條件(3)的傾斜角度更佳為2.1~7度,尤佳為2.1~6度。
追加條件(4)之歪度更佳為0~1.4,尤佳為0~1.2。
追加條件(5)之峭度更佳為2~6,尤佳為2.5~6。
上述條件(A)及/或(C)更佳為滿足下述追加條件(6)及/或(7)之條件。
追加條件(6):自顯示傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點的傾斜角度(顯示正方向的反曲點之傾斜角度)為4~15度,追加條件(7):顯示反曲點的傾斜角度與顯示峰值的傾斜角度之差([顯示正方向的反曲點之傾斜角度]-[顯示峰值的傾斜角度])為2.2~10度。
追加條件(6)的傾斜角度較佳為5~12度,更佳為5.5~10度,尤佳為6~8.5度。
追加條件(7)的角度差較佳為2.5~9度,更佳為2.8~8度,尤佳為2.8~5度。
本發明之光學薄片之製造方法,係使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面的光學薄片之製造方法,其係在表面具有凹凸形狀的光學薄片之製造方法,其中以前述凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件之方式來製造:條件(A):前述凹凸形狀顯示之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示前述在正方向之反曲點的傾斜角
度與顯示前述傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示前述凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且前述凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或前述凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
本發明之光學薄片之製造方法必須以滿足條件(A)~(C)的至少一個之方式來控制製造條件。條件(A)~(C)的合適範圍係與上述光學薄片之選擇方法同樣。
又,作為追加條件,較佳為滿足上述光學薄片之選擇方法的追加條件(1)及/或(2)。又,關於條件(A)及/或(B),較佳為滿足自上述光學薄片之選擇方法的追加條件(3)~(5)所選出的一個以上之條件。另外,關於條件(A)及/或(C),較佳為滿足上述光學薄片之選擇方法的追加條件(6)及/或(7)。
以本發明之光學薄片之製造方法,可高效率地製造能賦予防眩性等的諸特性,同時能防止畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件之映像光的眩目之光學薄片
製造條件(A)~(C)、(1)~(7)係可藉由在光學薄片的凹凸層中,儘量減少大略平滑處,使凹凸層的大略全體成為傾斜之形狀;及藉由全體不是均勻的傾斜,而是使包含傾斜角大的傾斜之各式各樣的傾斜角混合存在而控制。
控制製造條件(A)~(C)、(1)~(7)的具體手段,當藉由
模具來形成凹凸層時,只要控制模具的形狀即可。又,控制經由塗覆而形成凹凸層時的製造條件(A)~(C)、(1)~(7)之具體手段,係如上述,可舉出使用適量的無機超微粒子,使用相對蒸發速度為特定範圍之溶劑,調整乾燥溫度或風速等之乾燥條件,使用適量的均平劑。
其次,藉由實施例來更詳細說明本發明,惟本發明完全不受此等之例所限定。再者,「份」及「%」只要沒有特別預先指明,則為質量基準。
進行實施例及比較例的光學薄片之物性測定及評價如下。於表1中顯示結果。
將實施例及比較例所得的各光學薄片之與形成防眩層(凹凸層)之面相反側之面,經由透明黏著劑,貼附於玻璃板而成為樣品,使用白色干涉顯微鏡(New View7300,Zygo公司製),於以下之條件下,進行光學薄片的表面形狀之測定‧解析。再者,測定‧解析軟體使用MetroPro ver8.3.2之Microscope Application。
物鏡:50倍
縮放(Zoom):1倍
測定範圍:414μm×414μm
解析度(每1點的間隔):0.44μm
移除(Removed):無(None)
濾波器(Filter):帶通(Band Pass)
濾波器類型(Filter Type):Gauss Spline
低波長(Low wavelength):800μm
高波長(High wavelength):3μm
移除尖縫信號(Remove spikeS):on
尖縫信號高度(Spike Height)(xRMS):2.5
再者,低波長係相當於粗糙度參數中的截斷值λc。
其次,用上述解析軟體(MetroPro ver8.3.2-Microscope Application)來顯示Slope Mag Map畫面,於前述畫面中將直方圖作為nBins=100表示,得到三次元表面傾斜角度分布的直方圖數據。以所得的直方圖數據為基礎,算出半值全寬、特定範圍的傾斜角之累積百分率、平均傾斜角、顯示峰值的傾斜角度、比峰值較正(plus)側的反曲點、歪度及峭度。直方圖的各階級角度之區間寬度為0.1度以上0.5度以下。於表1中顯示結果。
再者,半值全寬及峰值之計算,係作成所得的直方圖數據之各階級角度的區間之值的經由直線內插所造成的近似曲線(傾斜角度分布曲線),自該曲線來算出。
特定範圍的傾斜角之累積百分率的計算,係自所得之直方圖數據求得每各階級角度的累積度數百分率,將其直線內插而算出。
反曲點的計算,係在所得之直方圖數據的每各階級角度,求得自該階級的度數扣除比該階級較前一個(角度
小之側)的度數後之值,將其值為負且絕對值成為最大時的階級角度當作反曲點。
來自凹凸形狀的傾斜角度分布之直方圖數據的三次元平均傾斜角、歪度及峭度係如下述地算出。
將直方圖數據的第i號之階級的代表角度當作θi,將度數當作fi時,三次元平均傾斜角m係由下述式(5)算出。
此處,N係全數據數,由下述式(6)算出。
歪度Sk、峭度Ku係由下述式(7)及(8)算出。
此處,sd係標準偏差,由下述式(9)算出。
於算出上述的表面傾斜角度分布時所得之表面形狀數據及於相同的解析條件下,使在Surface Map畫面上
顯示「Ra」、「SRz」,將各自的數值當作光學薄片的Ra、Rz。
其次,使上述Surface Map畫面中顯示「Save Data」按鈕,保存解析後的3次元曲面粗糙度數據。而且,用Advanced Texture Application,讀入前述的保存數據,採用以下之解析條件。
‧High FFT Filter:off
‧Low FFT Filter:off
‧移除(Remove):Plane(平面)
其次,顯示Peak/Valleys畫面,自「Peaks Stats」來計數山之個數。惟,為了移除沒有意義的山,將面積為全測定區域的面積(414×414μm2)之1/10000以上且高度為Rtm的1/10以上之山當作計數對象。Rtm係可自「Roughness/Waviness Map」畫面來讀取,表示將全測定區域分割成3×3時的每各區域之最大高度的平均。而且,根據上述式(4),算出Smp。
於實施例及比較例所得之各光學薄片中,將光學薄片的未形成防眩層之面與黑色矩陣(玻璃厚度0.7mm)的未形成矩陣之玻璃面,以透明黏著劑貼合。對於如此所得之試料,在黑色矩陣側設置白色面光源(HAKUBA公司製,LIGHTBOX,平均亮度1000cd/m2),而使其模擬地發生眩目。自光學薄片側,用CCD照相機(KP-M1,C安裝轉接器,近拍環;PK-11A Nikon,照相機透鏡;50mm,
F1.4s NIKKOR)來拍攝此。CCD照相機與光學薄片之距離為250mm,CCD照相機之焦點係對準光學薄片而調節。將經CCD照相機所拍攝的圖像輸入個人電腦,以圖像處理軟體(ImagePro Plus ver.6.2;Media Cybernetics公司製),如以下地進行解析。
首先,自所輸入圖像來選取200×160畫素的評價處,於該評價處中,轉換成16bit灰階。其次,自濾波器指令的強調標籤來選擇低通濾波器,於「3×3、次數3、強度10」之條件下施予濾波。藉此,去除來自黑色矩陣圖案的成分。隨後,選擇平坦化,於「背景:暗,物件寬度10」之條件下進行陰影校正。接著,以對比強調指令,作為「對比:96、亮度:48」,進行對比強調。將所得之圖像轉換成8位元灰階,藉由對於其中的150×110畫素,算出每畫素之值的偏差作為標準偏差值,將眩目予以數值化。此數值化的眩目值愈小,可說眩目愈少。再者,評價係黑色矩陣以相當於畫素密度350ppi者與相當於畫素密度200ppi者之2種來進行。
將於所得之光學薄片的基材側經由透明黏著劑貼合有黑色壓克力板的評價用樣品放置於水平面,在自評價用樣品起上方1.5m配置螢光燈,將螢光燈移到評價用樣品上,而且於評價用樣品上的照度為800~1200Lx之環境下,自各種角度來進行目視官能評價,依照以下之基準進行評價。
○:自任何的角度皆無法看到螢光燈的影像。
△:螢光燈的影像映入,惟螢光燈的輪廓係模糊,無法辨識輪廓的邊界部。
×:螢光燈的影像係如鏡面地映入,可清晰辨識螢光燈的輪廓(輪廓的邊界部)。
於對比之測定中,使用在冷陰極管光源上設置有擴散板者作為背光單元,使用2片的偏光板(SAMSUNG公司製AMN-3244TP),將該偏光板設置成平行尼科耳時的通過之光的亮度之Lmax除以設置成正交尼科耳時的通過之光的亮度之Lmin,而求得在最表面載置有防眩性薄膜(透光性基材+防眩層)時之對比(L1)、與在最表面載置有僅透光性基材時之對比(L2),算出(L1/L2)×100(%)而算出對比。
再者,於亮度之測定中,使用色彩亮度計(TOPCON公司製BM-5A),於照度為5Lx以下的暗室環境下進行。色彩亮度計的測定角係設定在1°,自樣品上的垂直方向,以視野Φ5mm進行測定。背光之光量係在不設置樣品之狀態下,以2片的偏光板設置成平行尼科耳時的亮度成為3600cd/m2之方式設置。
首先,使用霧度計(HM-150,村上色彩技術研究所製),依照JIS K-7136:2000,測定霧度(全體霧度)。又,於光學薄片之表面上,經由透明黏著劑,貼附厚度80μm的TAC薄膜(富士軟片公司製,TD80UL),而壓毀凹凸形狀使其平坦,於消除表面形狀所致的霧度之影響的狀態
下,測定霧度,求得內部霧度(Hi)。然後,自全體霧度值扣除內部霧度值,求得表面霧度(Hs)。光入射面作為基材側。
使用霧度計(HM-150,村上色彩技術研究所製),依照JIS K7361-1:1997,測定光學薄片的全光線透過率。光入射面作為基材側。
使用SUGA試驗機公司製的映像性測定器(商品名:ICM-1T),依照JIS K7105:1981,測定通過具有2mm、1mm、0.5mm及0.125mm之寬度的光學梳後之4種類的透過像鮮明度,算出此等之和。
製作經由透明黏著劑貼合有光學薄片的透明基材側之面與黑色的壓克力板之樣品。對於所製作的樣品,於暗室中,在以3波長螢光燈管作為光源的台式支架之下,用以下之基準觀察白濁感。
A:未觀察到白色。
C:觀察到白色。
將於白化之評價所製作的樣品之光學薄片的凹凸面,用#0000的鋼棉,以約100g/cm2之荷重擦過1次,目視評價表面的傷痕。結果,將傷痕不顯眼者當作「○」,將傷痕顯眼者當作「×」。
以其中一個光學薄片之凹凸面側與另一個光學薄片之透明基材側呈相對向的方式疊合2片的光學薄片。結果,將未發生干涉條紋者當作「○」,將發生干涉條紋者當作「×」。
於透明基材(厚度80μm三乙醯纖維素樹脂薄膜(TAC),富士軟片公司製,TD80UL)上,塗布下述配方的防眩層塗布液1,以70℃、風速5m/s乾燥30秒後,於氮氣環境(氧濃度200ppm以下)下以累計光量成為100mJ/cm2之方式照射紫外線,形成防眩層,而得到光學薄片。防眩層之膜厚為7.5μm。
‧季戊四醇三丙烯酸酯 10份
(日本化藥公司製,KAYARAD-PET-30)
‧胺基甲酸酯丙烯酸酯
(日本合成化學公司製,UV1700B) 45份
‧光聚合引發劑 3份
(BASF公司製,Irgacure 184)
‧聚矽氧系均平劑 0.2份
(Momentive Performance Materials公司製,TSF4460)
‧透光性粒子 12份
(積水化成品公司製,球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(平均粒徑6μm,折射率1.535)
‧無機超微粒子 160份
(日產化學公司製,在表面導入有反應性官能基的矽石,溶劑MIBK,固體成分30%)
(平均一次粒徑12nm)
‧溶劑1(MIBK) 110份
除了將實施例1之透光性粒變更為10份,將無機超微粒子變更為170份以外,與實施例1同樣地,得到光學薄片。
除了將實施例1之透光性粒子變更為15份,將無機超微粒子變更為150份以外,與實施例1同樣地,得到光學薄片。
除了將實施例1之防眩層塗布液1變更為下述配方之防眩層塗布液2,使防眩層(凹凸層)之膜厚成為2μm以外,與實施例1同樣地,得到光學薄片。
‧季戊四醇三丙烯酸酯 100份
(日本化藥公司製,KAYARAD-PET-30)
‧無機微粒子 14份
(富士SILYSIA化學公司製,凝膠法不定形矽石)
(疏水處理,平均粒徑(雷射繞射散射法)4.1μm)
‧光聚合引發劑 5份
(BASF公司製,Irgacure 184)
‧聚矽氧系均平劑 0.2份
(Momentive Performance Materials公司製TSF4460)
‧溶劑1(甲苯) 150份
‧溶劑2(MIBK) 35份
除了將實施例1之防眩層塗布液1變更為下述配方之防眩層塗布液3,使防眩層(凹凸層)之膜厚成為4.5μm以外,與實施例1同樣地,得到光學薄片。
‧季戊四醇三丙烯酸酯 90份
(日本化藥公司製,KAYARAD-PET-30)
‧丙烯酸聚合物
(三菱縲縈公司製,分子量75,000) 10份
‧光聚合引發劑 3份
(BASF公司製,Irgacure 184)
‧聚矽氧系均平劑 0.1份
(Momentive Performance Materials公司製TSF4460)
‧透光性粒子 12份
(綜研化學公司製,球狀聚苯乙烯粒子)
(粒徑3.5μ,折射率1.59)
‧溶劑1(甲苯) 145份
‧溶劑2(環己酮) 60份
除了將實施例1之防眩層塗布液1變更為下述配方之防眩層塗布液4,使防眩層(凹凸層)之膜厚成為7.0μm
以外,與實施例1同樣地,得到光學薄片。
‧季戊四醇三丙烯酸酯 38份
(日本化藥公司製,KAYARAD-PET-30)
‧異三聚氰酸EO改性三丙烯酸酯
(東亞合成公司製,M-313) 22份
‧光聚合引發劑 5份
(BASF公司製,Irgacure 184)
‧聚矽氧系均平劑 0.1份
(Momentive Performance Materials公司製,TSF4460)
‧透光性粒子 20份
(積水化成品公司製,球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(粒徑5μ,折射率1.525)
‧無機超微粒子 120份
(日產化學公司製,在表面導入有反應性官能基的矽石,溶劑MIBK,固體成分30%)
(平均一次粒徑12nm)
‧溶劑1(甲苯) 135份
除了將實施例1之防眩層塗布液1變更為下述配方之防眩層塗布液5,使防眩層(凹凸層)之膜厚成為5.0μm以外,與實施例1同樣地,得到光學薄片。
‧季戊四醇三丙烯酸酯 38份
(日本化藥公司製,KAYARAD-PET-30)
‧異三聚氰酸EO改性三丙烯酸酯
(東亞合成公司製M-313) 22份
‧光聚合引發劑 5份
(BASF公司製,Irgacure 184)
‧聚矽氧系均平劑 0.1份
(Momentive Performance Materials公司製TSF4460)
‧透光性粒子 12份
(積水化成品公司製,球狀聚丙烯酸-苯乙烯共聚物)
(粒徑3.5μ,折射率1.545)
‧無機超微粒子 120份
(日產化學公司製,在表面導入有反應性官能基的矽石,溶劑MIBK,固體成分30%)
(平均一次粒徑12nm)
‧溶劑1(甲苯) 135份
如由表1之結果可明知,實施例1~3之光
學薄片係可賦予防眩性等的諸特性,同時可防止畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件的眩目,更且對比亦優異。又,實施例1~3之光學薄片對於畫素密度350ppi的顯示元件之抗眩目性,係顯示較比較例1~4之光學薄片更極良好的效果,而對於畫素密度200ppi的顯示元件之抗眩目性能,與比較例1~4之光學薄片的效果之差變少。據此,可知實施例1~3之光學薄片係對於畫素密度300ppi以上的超高精細之顯示元件極有用。再者,上述防眩性之評價係在照度為800~1200Lx之環境下進行,但實施例1~3之防眩性薄片即使在照度10000Lx以上之室外環境下也防眩性良好。
於實施例1~3及比較例1~4的光學薄片之透明基材側,以濺鍍法形成厚度20nm的ITO之導電性膜,作為上部電極板。其次,於厚度1mm的強化玻璃板的一側之面上,以濺鍍法形成厚度約20nm的ITO之導電性膜,作為下部電極板。隨後,於下部電極板之具有導電性膜之面上,藉由網版印刷法將作為間隔物用塗布液的電離放射線硬化型樹脂(Dot Cure TR5903:太陽印墨公司)印刷成點狀後,以高壓水銀燈照射紫外線,使直徑50μm、高度8μm之間隔物以1mm之間隔排列。
其次,以導電性膜彼此呈相對向之方式,配置上部電極板與下部電極板,以厚度30μm、寬度3mm之雙面黏著膠帶來接著邊緣,製作實施例1~3及比較例1~4之電阻膜式觸控面板。
將所得之電阻膜式觸控面板載置於市售的超高精細液晶顯示裝置(畫素密度350ppi)上,目視評價有無眩目,結果實施例1~3之觸控面板係抑制眩目,外光的映入亦少,視覺辨認性為良好。又,實施例1~3之觸控面板亦不損害超高精細的映像之解析度,明室環境下的對比也良好。另一方面,比較例1~4之觸控面板係眩目為顯眼者。又,比較例2之觸控面板,由於光學薄片的內部霧度比較高,而若干損害超高精細之映像的解析度。
經由透明黏著劑貼合實施例1~3及比較例1~4之光學薄片與市售之超高精細液晶顯示裝置(畫素密度350ppi),製作實施例1~3及比較例1~4之顯示裝置。再者,貼合時係光學薄片的凹凸面朝向與顯示元件相反側。
目視評價所得之顯示裝置有無眩目,結果實施例1~3之顯示裝置係抑制眩目,外光的映入亦少,視覺辨認性為良好。又,實施例1~3之顯示裝置亦不損害超高精細的映像之解析度,明室環境下的對比也良好。另一方面,比較例1~4之顯示裝置係眩目為顯眼者。又,比較例2之示裝置,由於光學薄片的內部霧度比較高,而若干損害超高精細之映像的解析度。
Claims (9)
- 一種觸控面板,其係具有光學薄片作為構成構件之觸控面板,其中該光學薄片係在表面具有凹凸形狀,同時該凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件,且係使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面;條件(A):顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示該在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示該傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且該凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或該凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
- 如請求項1之觸控面板,其中該光學薄片進一步滿足下述追加條件(1);追加條件(1):該凹凸形狀之傾斜角度中的0~1.25度之傾斜角度的比例以累積百分率計為20%以下。
- 如請求項1之觸控面板,其中該光學薄片進一步滿足下述追加條件(2);追加條件(2):凹凸形狀之傾斜角度中的15度以上之傾斜角度的比例以累積百分率計為3%以下。
- 一種顯示裝置,其係在畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面具有光學薄片而成之顯示裝置,其中該光學薄片係在表面具有凹凸形狀,同時該凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件;條件(A):顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示該在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示該傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且該凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或該凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
- 一種光學薄片,其係使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面的光學薄片,其係在表面具有凹凸形狀之光學薄片,其中該凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件;條件(A):顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示該在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示該傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差 為2.2~10度,條件(C):顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且該凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或該凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
- 如請求項5之光學薄片,其進一步滿足下述追加條件(1);追加條件(1):該凹凸形狀之傾斜角度中的0~1.25度之傾斜角度的比例以累積百分率計為20%以下。
- 如請求項5之光學薄片,其進一步滿足下述追加條件(2);追加條件(2):凹凸形狀之傾斜角度中的15度以上之傾斜角度的比例以累積百分率計為3%以下。
- 一種光學薄片之選擇方法,其係使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面的光學薄片之選擇方法,其係在表面具有凹凸形狀的光學薄片之選擇方法,其中測定光學薄片的凹凸形狀之傾斜角度,選擇滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件者作為光學薄片;條件(A):顯示該凹凸形狀的傾斜角度分布曲線之峰值的1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示該在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示該傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差 為2.2~10度,條件(C):顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且該凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或該凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
- 一種光學薄片之製造方法,其係使用於畫素密度300ppi以上的顯示元件之前面的光學薄片之製造方法,其係在表面具有凹凸形狀的光學薄片之製造方法,其中以該凹凸形狀滿足自下述(A)~(C)選出的至少一個條件之方式來製造;條件(A):顯示該凹凸形狀的傾斜角度分布曲線之峰值的1/2值的傾斜角度之間隔為5~15度,條件(B):自顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度起,顯示在正方向之反曲點之傾斜角度為4~15度,而且顯示該在正方向之反曲點的傾斜角度與顯示該傾斜角度分布曲線之峰值的傾斜角度之差為2.2~10度,條件(C):顯示該凹凸形狀之傾斜角度分布曲線的峰值之傾斜角度為2~8度,而且該凹凸形狀的傾斜角度分布之歪度為0~1.5及/或該凹凸形狀的傾斜角度分布之峭度為1.5~6。
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