JP5158443B2 - 防眩フィルムおよびその製造方法、ならびに金型の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、低ヘイズでありながら防眩特性に優れた防眩（アンチグレア）フィルム、その製造方法、かかる防眩フィルムを得るための金属金型の製造方法に関する。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、反射光を利用して表示を行う携帯電話などにおいては、従来から画像表示装置の表面に外光の映り込みを防止するフィルム層が設けられている。このフィルム層は、光学多層膜による干渉を利用した無反射処理が施されたフィルムからなるものと、表面に微細な凹凸を形成することにより入射光を散乱させて映り込み像をぼかす防眩処理が施されたフィルムからなるものとに大別される。このうち、前者の無反射フィルムは、均一な光学膜厚の多層膜を形成する必要があるため、コスト高になる。これに対して後者の防眩フィルムは、比較的安価に製造することができるため、大型のパーソナルコンピュータやモニタなどの用途に広く用いられている。

このような防眩フィルムは従来から、たとえば微粒子を分散させた樹脂溶液を基材シート上に塗布し、塗布膜厚を調整して微粒子を塗布膜表面に露出させることでランダムな凹凸をシート上に形成する方法などによって製造されている。しかしながら、このような微粒子を分散させることにより製造された防眩フィルムは、樹脂溶液中の微粒子の分散状態や塗布状態などによって凹凸の配置や形状が左右されてしまうため、意図したとおりの凹凸を得ることが困難であり、ヘイズが低いものでは十分な防眩効果が得られないという問題があった。さらに、このような従来の防眩フィルムを画像表示装置の表面に配置した場合、散乱光によって表示面全体が白っぽくなり、表示が濁った色になる、いわゆる「白ちゃけ」が発生しやすいという問題があった。また、最近の画像表示装置の高精細化に伴って、画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸形状とが干渉し、結果として輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」現象が発生しやすいという問題もあった。ギラツキを解消するために、バインダー樹脂と分散微粒子との間に屈折率差を設けて光を散乱させる試みもあるが、そのような防眩フィルムを画像表示装置の表面に配置した際には、微粒子とバインダー樹脂界面における光の散乱によって、コントラストが低下しやすいという問題もあった。

一方、微粒子を含有させずに、透明樹脂層の表面に形成された微細な凹凸だけで防眩性を発現させる試みもある。たとえば、特開２００２−１８９１０６号公報（特許文献１）には、エンボス鋳型と透明樹脂フィルムとの間に電離放射線硬化性樹脂を挟んだ状態で当該電離放射線硬化性樹脂を硬化させることにより、三次元１０点平均粗さおよび三次元粗さ基準面上における隣接する凸部どうしの平均距離が、それぞれ所定値を満足する微細な凹凸を形成させ、その凹凸が形成された電離放射線硬化性樹脂層を前記透明樹脂フィルム上に設けたかたちの防眩フィルムが開示されている。しかしながら、特許文献１に開示される防眩フィルムによっても、十分な防眩効果、白ちゃけの抑制、高コントラスト、およびギラツキの抑制を達成することは難しかった。

また、表示装置の表示面に配置される防眩フィルムではなく、液晶表示装置の背面側に配置される光拡散層として、表面に微細な凹凸が形成されたフィルムを用いることも、たとえば特開平６−３４９６１号公報（特許文献２）、特開２００４−４５４７１号公報（特許文献３）、特開２００４−４５４７２号公報（特許文献４）などに開示されている。このうち特許文献３、４には、フィルムの表面に凹凸を形成する手法として、凹凸を反転させた形状を有するエンボスロールに電離放射線硬化性樹脂液を充填し、充填された樹脂にロール凹版の回転方向に同期して走行する透明基材を接触させ、透明基材がロール凹版に接触しているときに、ロール凹版と透明基材との間にある樹脂を硬化させ、硬化と同時に硬化樹脂と透明基材とを密着させた後、硬化後の樹脂と透明基材との積層体をロール凹版から剥離する方法が開示されている。

しかしながらこのような特許文献３、４に開示された方法では、用いることのできる電離放射線硬化性樹脂液の組成が限られ、また溶媒で希釈して塗布したときのようなレベリングが期待できないことから、膜厚の均一性に課題があることが予想される。さらに、特許文献３、４に開示された方法では、エンボスロール凹版に直接樹脂液を充填する必要があることから、凹凸面の均一性を確保するためには、エンボスロール凹版に高い機械精度が要求され、エンボスロールの作製が難しいという課題があった。

次に、表面に凹凸を有するフィルムの作製に用いられるロールの作製方法としては、たとえば、上述した特許文献２には、金属などを用いて円筒体を作り、その表面に電子彫刻、エッチング、サンドブラストなどの手法により凹凸を形成する方法が開示されている。
また、特開２００４−２９２４０号公報（特許文献５）には、ビーズショット法によってエンボスロールを作製する方法が開示されており、特開２００４−９０１８７号公報（特許文献６）には、エンボスロールの表面に金属めっき層を形成する工程、金属めっき層の表面を鏡面研磨する工程、さらに必要に応じてピーニング処理をする工程を経て、エンボスロールを作製する方法が開示されている。

しかしながら、このようにエンボスロールの表面にブラスト処理を施したままの状態では、ブラスト粒子の粒径分布に起因する凹凸径の分布が生じるとともに、ブラストにより得られるくぼみの深さを制御することが困難であり、防眩機能に優れた凹凸の形状を再現性よく得ることに課題があった。

また、上述した特許文献１には、好ましくは鉄の表面にクロムめっきしたローラを用い、サンドブラスト法やビーズショット法により凹凸型面を形成することが記載されている。さらに、このように凹凸が形成された型面には、使用時の耐久性を向上させる目的で、クロムめっきなどを施してから使用することが好ましく、それにより硬膜化および腐食防止を図ることができる旨の記載もある。一方、上述した特許文献３、４のそれぞれの実施例には、鉄芯表面にクロムめっきし、＃２５０の液体サンドブラスト処理をした後に、再度クロムめっき処理して、表面に微細な凹凸形状を形成することが記載されている。

しかしながら、このようなエンボスロールの作製法では、硬度の高いクロムめっきの上にブラストやショットを行うため、凹凸が形成されにくく、しかも形成された凹凸の形状を精密に制御することが困難であった。また、特開２００４−２９６７２号公報（特許文献７）にも記載されるとおり、クロムめっきは、下地となる材質およびその形状に依存して表面が荒れることが多く、ブラストにより形成された凹凸上にクロムめっきで生じた細かいクラックが形成されるため、どのような凹凸ができるかの設計が難しいという課題があった。さらに、クロムめっきで生じる細かいクラックがあるため、最終的に得られる防眩フィルムの散乱特性が好ましくない方向に変化するという課題もあった。さらには、エンボスロール母材表面の材質とめっき種の組み合わせにより、仕上がりのロール表面が多種多様に変化するため、必要とする表面凹凸形状を精度よく得るためには、適切なロール表面の材質と適切なめっき種を選択しなければならないという課題もあった。さらにまた、望む表面凹凸形状が得られたとしても、めっき種によっては使用時の耐久性が不十分となることもあった。

特開２０００−２８４１０６号公報（特許文献８）には、基材にサンドブラスト加工を施した後、エッチング工程および／または薄膜の積層工程を施すことが記載されているが、サンドブラスト工程前に金属めっき層を設けることについては記載も示唆もされていない。また、特開２００６−５３３７１号公報（特許文献９）には基材を研磨し、サンドブラスト加工を施した後、無電解ニッケルめっきを施すことが記載されている。また、特開２００７−１８７９５２号公報（特許文献１０）には基材に銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、クロムめっきを施してエンボス版を作製することが記載されており、さらに、特開２００７−２３７５４１号公報（特許文献１１）には銅めっきまたはニッケルめっきを施した後、研磨し、サンドブラスト加工を施した後、エッチング工程または銅めっき工程を施した後にクロムめっきを施してエンボス版を作製することが記載されている。これらのサンドブラスト加工を用いる製法では表面凹凸形状を精密に制御された状態で形成することが難しいため、表面凹凸形状に５０μｍ以上の周期を持つ比較的大きい凹凸形状も作製されてしまう。結果として、それらの大きい凹凸形状と画像表示装置の画素が干渉し、輝度分布が発生して見にくくなる、いわゆるギラツキが発生しやすいという問題があった。

特開２００２−１８９１０６号公報 特開平６−３４９６１号公報 特開２００４−４５４７１号公報 特開２００４−４５４７２号公報 特開２００４−２９２４０号公報 特開２００４−９０１８７号公報 特開２００４−２９６７２号公報 特開２０００−２８４１０６号公報 特開２００６−５３３７１号公報 特開２００７−１８７９５２号公報 特開２００７−２３７５４１号公報

本発明は、優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときに、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現する防眩フィルムおよびその製造方法、ならびに、防眩フィルムを得るための金属金型の製造方法を提供することを目的とする。

本発明の防眩フィルムは、透明支持体上に、微細な凹凸表面を有する防眩層が形成されてなる防眩フィルムであって、前記微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₁ ²と、空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂ ²の比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²が３〜１５の範囲内であることを特徴とする。

本発明の防眩フィルムは、前記微細凹凸表面の標高の空間周波数０．１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₃ ²と、空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂ ²の比Ｈ₃ ²／Ｈ₂ ²が０．０１以下であることが、好ましい。

本発明の防眩フィルムは、微細凹凸表面の傾斜角度が５°以下である面の割合が９５％以上であることが好ましい。

また本発明の防眩フィルムは、防眩層が０．４μｍ以上の微粒子を含まないことが好ましい。

本発明は、上述した本発明の防眩フィルムを製造する方法であって、エネルギースペクトルが０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下に極大値を持たないパターンを用いることを特徴とする、防眩フィルムの製造方法についても提供する。

本発明の防眩フィルムの製造方法において、前記パターンを用いて金型を作製し、前記金型の凹凸面を透明支持体上に転写し、次いで凹凸面が転写された透明支持体を金型から剥がすことが、好ましい。

本発明はまた、上述した本発明の金型を製造する方法であって、金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施す第１めっき工程と、第１めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する研磨工程と、研磨された面に感光性樹脂膜を塗布形成する感光性樹脂膜塗布工程と、感光性樹脂膜上に前記パターンを露光する露光工程と、前記パターンが露光された感光性樹脂膜を現像する現像工程と、現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行い、研磨されためっき面に凹凸を形成する第１エッチング工程と、感光性樹脂膜を剥離する感光性樹脂膜剥離工程と、形成された凹凸面にクロムめっきを施す第２めっき工程とを含むことを特徴とする金型の製造方法についても提供する。

本発明の金型の製造方法は、前記感光性樹脂膜剥離工程と前記第２めっき工程の間に、形成された凹凸面をエッチング処理によって鈍らせる第２エッチング工程を含むことが好ましい。

本発明の金型の製造方法においては、クロムめっきを施した後、表面を研磨せず、そのままクロムめっき面を金型の凹凸面として用いることが、好ましい。

本発明の金型の製造方法においては、クロムめっきにより形成されたクロムめっき層が１〜１０μｍの厚みを有することが、好ましい。

本発明の防眩フィルムは、優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が防止され、また、高精細の画像表示装置の表面に配置したときに、ギラツキを発生させずに高いコントラストを発現するものとなる。また、本発明の防眩フィルムの製造方法および金型の製造方法によれば、優れた防眩性能を示す防眩フィルムを再現性よく製造することができる。

本発明の防眩フィルムの表面を模式的に示す斜視図である。 標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。 本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面形状の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表したものである。 図３に示した二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られたエネルギースペクトルＨ²（ｆ_x，ｆ_y）を白と黒のグラデーションで示したものである。 図４に示したエネルギースペクトルＨ²（ｆ_x，ｆ_y）のｆ_x＝０における断面を示す図である。 微細凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。 防眩フィルムの微細凹凸表面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。 本発明の防眩フィルムを作製するために用いたパターンである画像データの一部を、階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表した図である。 図８に示した階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られたエネルギースペクトルＧ²（ｆ_x，ｆ_y）を白と黒のグラデーションで示した図である。 図９に示したエネルギースペクトルＧ²（ｆ_x，ｆ_y）のｆ_x＝０における断面を示す図である。 本発明の金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。 本発明の金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。 第１エッチング工程においてサイドエッチングが進行する状態を模式的に示す図である。 第１エッチング工程によって形成された凹凸面が第２エッチング工程によって鈍る状態を模式的に示す図である。 実施例２の金型作製の際に使用したパターンより得られた画像データの階調を二次元関数で表した図である。 比較例１の金型作製の際に使用したパターンより得られた画像データの階調を二次元関数で表した図である。 比較例２の金型作製の際に使用したパターンより得られた画像データの階調を二次元関数で表した図である。 防眩フィルムＢ〜Ｆの微細凹凸表面形状の標高の二次元関数より得られたエネルギースペクトルのｆ_x＝０における断面を表した図である。 実施例２、比較例１および比較例２に使用したパターンのエネルギースペクトルのｆ_x＝０における断面を表した図である。

＜防眩フィルム＞
以下、本発明の好適な実施形態について、詳細に説明する。

本発明の防眩フィルムは、透明支持体上に、微細な凹凸表面形状（微細凹凸表面）を有する防眩層が形成されたものであって、微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₁ ²と、空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂ ²の比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²が３〜１５の範囲内であることを特徴とする。これまでに防眩フィルムの微細凹凸表面の周期についてはＪＩＳ Ｂ ０６０１に記載される粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍ、断面曲線要素の平均長さＰＳｍ、およびうねり曲線要素の平均長さＷＳｍなどで評価されていた。しかしながら、このような従来の評価方法では、微細凹凸表面に含まれる複数の周期を正確に評価することができなかった。よって、ギラツキと微細凹凸表面との相関および防眩性と微細凹凸表面との相関についても正確に評価することができず、ギラツキの抑制と十分な防眩性能を兼備する防眩フィルムを作製することが困難であった。

本発明者らは、透明支持体上に微細凹凸表面を有する防眩層が形成されてなる防眩フィルムにおいて、微細凹凸表面が特定の空間周波数分布を示すようにすれば、十分な防眩効果を発現しつつ、ギラツキが十分に防止されることを見出した。すなわち、本発明によれば、微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₁ ²と、空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂ ²の比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²を特定の範囲内とすることで、優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が防止され、また、高精細の画像表示装置の表面に配置したときに、ギラツキを発生させずに高いコントラストを発現する防眩フィルムが提供される。

まず、防眩フィルムの微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトルについて説明する。図１は、本発明の防眩フィルムの表面を模式的に示す斜視図である。図１に示されるように、本発明の防眩フィルム１は、その表面に微細な凹凸２が形成された防眩層を有する。ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の標高」とは、フィルム１表面の任意の点Ｐにおける、微細凹凸表面の最低点の高さにおいて当該高さを有する仮想的な平面（標高は基準として０μｍ）からのフィルムの主法線方向５（上記仮想的な平面における法線方向）における直線距離を意味する。図１に示すように、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示した際には、微細凹凸表面の標高は座標（ｘ，ｙ）の二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）と表すことができる。図１には、フィルム全体の面を投影面３で表示している。

微細凹凸表面の標高は、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。測定機に要求される水平分解能は、少なくとも５μm以下、好ましくは２μｍ以下であり、また垂直分解能は、少なくとも０．１μｍ以下、好ましくは０．０１μm以下である。この測定に好適な非接触三次元表面形状・粗さ測定機としては、Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０００シリーズ（Ｚｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製、日本ではザイゴ（株）から入手可能）、三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）などを挙げることができる。測定面積は、標高のエネルギースペクトルの分解能が０．０１μｍ^-1以下である必要があるため、少なくとも２００μｍ×２００μm以上とするのが好ましく、より好ましくは、５００μm×５００μm以上である。

次に、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より標高のエネルギースペクトルを求める方法について説明する。まず、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より、式（１）で定義される二次元フーリエ変換によって二次元関数Ｈ（ｆ_x，ｆ_y）を求める。

ここでｆ_xおよびｆ_yはそれぞれｘ方向およびｙ方向の周波数であり、長さの逆数の次元を持つ。また、式（１）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。得られた二次元関数Ｈ（ｆ_x，ｆ_y）を二乗することによって、エネルギースペクトルＨ²（ｆ_x，ｆ_y）を求めることができる。このエネルギースペクトルＨ²（ｆ_x，ｆ_y）は防眩フィルムの微細凹凸表面の空間周波数分布を表している。

以下、防眩フィルムの微細凹凸表面のエネルギースペクトルを求める方法をさらに具体的に説明する。上記の共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡などによって実際に測定される表面形状の三次元情報は一般的に離散的な値、すなわち、多数の測定点に対応する標高として得られる。図２は、標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。図２に示すように、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、フィルム投影面３上にｘ軸方向にΔｘ毎に分割した線およびｙ軸方向にΔｙ毎に分割した線を破線で示すと、実際の測定では微細凹凸表面の標高はフィルム投影面３上の各破線の交点毎の離散的な標高値として得られる。

得られる標高値の数は測定範囲とΔｘおよびΔｙによって決まり、図２に示すようにｘ軸方向の測定範囲をＸ＝ＭΔｘとし、ｙ軸方向の測定範囲をＹ＝ＮΔｙとすると、得られる標高値の数は（Ｍ＋１）×（Ｎ＋１）個である。

図２に示すようにフィルム投影面３上の着目点Ａの座標を（ｊΔｘ，ｋΔｙ）（ここでｊは０以上Ｍ以下であり、ｋは０以上Ｎ以下である。）とすると、着目点Ａに対応するフィルム面上の点Ｐの標高はｈ（ｊΔｘ，ｋΔｙ）と表すことができる。

ここで、測定間隔ΔｘおよびΔｙは測定機器の水平分解能に依存し、精度良く微細凹凸表面を評価するためには、上述したとおりΔｘおよびΔｙともに５μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。また、測定範囲ＸおよびＹは上述したとおり、ともに２００μｍ以上が好ましく、ともに５００μｍ以上がより好ましい。

このように実際の測定では微細凹凸表面の標高を表す関数は（Ｍ＋１）×（Ｎ＋１）個の値を持つ離散関数ｈ（ｘ，ｙ）として得られる。測定によって得られた離散関数ｈ（ｘ，ｙ）と式（２）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｈ（ｆ_x，ｆ_y）が求まり、離散関数Ｈ（ｆ_x，ｆ_y）を二乗することによってエネルギースペクトルの離散関数Ｈ²（ｆ_x，ｆ_y）が求められる。式（２）中のｌは−（Ｍ＋１）／２以上（Ｍ＋１）／２以下の整数であり、ｍは−（Ｎ＋１）／２以上（Ｎ＋１）／２以下の整数である。また、Δｆ_xおよびΔｆ_yはそれぞれｘ方向およびｙ方向の周波数間隔であり、式（３）および式（４）で定義される。

図３は、本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表したものである。図３において標高は白と黒のグラデーションで示している。図３に示した離散関数ｈ（ｘ，ｙ）は５１２×５１２個の値を持ち、水平分解能ΔｘおよびΔｙは１．６６μｍである。

また、図４は図３に示した二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られたエネルギースペクトルＨ²（ｆ_x，ｆ_y）を白と黒のグラデーションで示したものである。図４に示したエネルギースペクトルＨ²（ｆ_x，ｆ_y）も５１２×５１２個の値を持つ離散関数であり、水平分解能Δｆ_xおよびΔｆ_yは０．００１２μｍ^-1である。

図３に示したように本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面は凹凸がランダムに形成されているため、図４のエネルギースペクトルは原点を中心に対称となる。よって、空間周波数０．０１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₁ ²と、空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂ ²は二次元関数であるエネルギースペクトルＨ²（ｆ_x，ｆ_y）の原点を通る断面より求めることができる。図５に図４に示したエネルギースペクトルＨ²（ｆ_x，ｆ_y）のｆ_x＝０における断面を示した。これより空間周波数０．０１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₁ ²は４．８、空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂ ²は０．３５であり、比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²は１４であることが分かる。

上述したように、本発明の防眩フィルムは、前記微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₁ ²と、空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂ ²の比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²が３〜１５であることを特徴とする。エネルギースペクトルの比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²が３を下回ることは、防眩フィルムの微細凹凸表面に含まれる１００μｍ以上の長周期の凹凸形状が少なく、２５μｍ未満の短周期の凹凸形状が多いことを示している。そのような場合には外光の映り込みを効果的に防止することができず、十分な防眩性能が得られない。またこれに対して、エネルギースペクトルの比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²が１５を上回ることは、微細凹凸表面に含まれる１００μｍ以上の長周期の凹凸形状が多く、２５μｍ未満の短周期の凹凸形状が少ないことを示している。そのような場合には、防眩フィルムは高精細の画像表示装置に配置した際にギラツキを発生させる傾向にある。また、微細凹凸表面に含まれる１０μｍ未満の短周期成分は、防眩性に効果的に寄与せず、微細凹凸表面に入射した光を散乱させて白ちゃけの原因となるため、少ない方が好ましい。具体的には空間周波数０．１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルをＨ₃ ²とすると、エネルギースペクトルの比Ｈ₃ ²／Ｈ₂ ²は０．１以下であることが好ましく、０．０１以下であることがより好ましい。図５に示したエネルギースペクトルでは、空間周波数０．１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₃ ²は０．０００７６である。これより比Ｈ₃ ²／Ｈ₂ ²は０．００２２であることが分かる。

本発明者らはまた、防眩フィルムにおいて、微細凹凸表面が特定の傾斜角度分布を示すようにすれば、優れた防眩性能を示しつつ、白ちゃけを効果的に防止するうえで一層有効であることを見出した。すなわち、本発明の防眩フィルムは、微細凹凸表面の傾斜角度が５°以下である面の割合が９５％以上であることが好ましい。微細凹凸表面の傾斜角度が５°以下である面の割合が９５％を下回ったりすると、凹凸表面の傾斜角度が急峻になって、周囲からの光を集光し、表示面が全体的に白くなる白ちゃけが発生しやすくなる。このような集光効果を抑制し、白ちゃけを防止するためには、微細凹凸表面の傾斜角度が５°以下である面の割合が高ければ高いほどよく、９７％以上であることが好ましく、９９％以上であることがより好ましい。

ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の傾斜角度」とは、図１に示す防眩フィルム１表面の任意の点Ｐにおいて、フィルムの主法線方向５に対する、そこでの凹凸を加味した局所的な法線６のなす角度ψを意味する。微細凹凸表面の傾斜角度についても標高と同様に、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。

ここで、図６は、微細凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。具体的な傾斜角度の決定方法を説明すると、図６に示すように、点線で示される仮想的な平面ＦＧＨＩ上の着目点Ａを決定し、そこを通るｘ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＢおよびＤを、また点Ａを通るｙ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＣおよびＥをとり、これらの点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応するフィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔを決定する。なお図６では、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、フィルム厚み方向の座標をｚで表示している。平面ＦＧＨＩは、ｙ軸上の点Ｃを通るｘ軸に平行な直線、および同じくｙ軸上の点Ｅを通るｘ軸に平行な直線と、ｘ軸上の点Ｂを通るｙ軸に平行な直線、および同じくｘ軸上の点Ｄを通るｙ軸に平行な直線とのそれぞれの交点Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉによって形成される面である。また図６では、平面ＦＧＨＩに対して、実際のフィルム面の位置が上方にくるように描かれているが、着目点Ａのとる位置によって当然ながら、実際のフィルム面の位置が平面ＦＧＨＩの上方にくることもあるし、下方にくることもある。

そして、得られる表面形状データの傾斜角度は、着目点Ａに対応する実際のフィルム面上の点Ｐと、その近傍にとられた４点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する実際のフィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔの合計５点により張られるポリゴン４平面、すなわち、四つの三角形ＰＱＲ，ＰＲＳ，ＰＳＴ，ＰＴＱの各法線ベクトル６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを平均して得られる平均法線ベクトル６の極角を求めることにより、得ることができる。各測定点について傾斜角度を求めた後、ヒストグラムが計算される。

図７は、防眩フィルムの微細凹凸表面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。図７に示すグラフにおいて、横軸は傾斜角度であって、０．５°刻みで分割してある。例えば、一番左の縦棒は、傾斜角度が０〜０．５°の範囲にある集合の分布を示し、以下、右へ行くにつれて角度が０．５°ずつ大きくなっている。図では、横軸の２目盛毎に値の下限値を表示しており、例えば、横軸で「１」とある部分は、傾斜角度が１〜１．５°の範囲にある集合の分布を示す。また、縦軸は傾斜角度の分布を表し、合計すれば１になる値である。この例では、傾斜角度が５°以下である面の割合は略１００％である。

本発明の防眩フィルムはまた、画像表示装置の表面に配置したときに、高いコントラストを効果的に発現し得る観点から、防眩層中に０．４μｍ以上の微粒子を含まないことが好ましい。従来の防眩フィルムは微粒子を分散させた樹脂溶液を基材シート上に塗布し、塗布膜厚を調整して微粒子を塗布膜表面に露出させることでランダムな凹凸をシート上に形成する方法などによって製造されている。このような微粒子を分散させることにより製造された防眩フィルムは、ギラツキを解消するために、バインダー樹脂と微粒子との間に屈折率差を設けて光を散乱させていることが多い。そのような防眩フィルムを画像表示装置の表面に配置した際には、微粒子とバインダー樹脂界面における光の散乱によって、コントラストが低下する。本発明の防眩フィルムにおいては、微細凹凸表面の周波数分布を適切に設計しているため、光を散乱させてギラツキを解消する必要がない。従って、コントラストの低下の原因となる０．４μｍ以上の微粒子は含まないことが好ましい。

＜防眩フィルムの製造方法＞
本発明の防眩フィルムは、上記した周波数分布を持つ微細凹凸表面を精度よく形成するために、エネルギースペクトルが０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下に極大値を持たないパターンを用いて作製することが好ましい。ここで、「パターン」とは、本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面を形成するための画像データや透光部と遮光部を有するマスクのことなどを意味する。

パターンのエネルギースペクトルは、たとえば画像データであれば、画像データを２５６階調のグレースケールに変換した後、画像データの階調を二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）で表し、得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）をフーリエ変換して二次元関数Ｇ（ｆ_x，ｆ_y）を計算し、得られた二次元関数Ｇ（ｆ_x，ｆ_y）を二乗することによって求められる。また、透光部と遮光部を有するマスクであれば、透過率を二次元関数ｔ（ｘ，ｙ）で表し、得られた二次元関数ｔ（ｘ，ｙ）をフーリエ変換して二次元関数Ｔ（ｆ_x，ｆ_y）を計算し、得られた二次元関数Ｔ（ｆ_x，ｆ_y）を二乗することによって求められる。ここで、ｘおよびｙは画像データ面内もしくはマスク面内の直交座標を表し、ｆ_xおよびｆ_yはｘ方向の周波数およびｙ方向の周波数を表している。

微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトルを求める場合と同様に、パターンのエネルギースペクトルを求める場合についても、階調の二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）や透過率の二次元関数ｔ（ｘ，ｙ）は離散関数として得られる場合が一般的である。その場合は、微細凹凸表面の標高のエネルギースペクトルを求める場合と同様に、離散フーリエ変換によって、エネルギースペクトルを計算すれば良い。

図８は、本発明の防眩フィルムを作製するために用いたパターン（後述する実施例１の金型作製の際に使用したパターン）である画像データの一部を、階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表わした図である。図８に示した二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）は５１２×５１２個の値を持ち、水平分解能ΔｘおよびΔｙは２μｍである。また、図８に示したパターンである画像データは２ｍｍ×２ｍｍの大きさで、１２８００ｄｐｉで作成した。

図９は、図８に示した階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られたエネルギースペクトルＧ²（ｆ_x，ｆ_y）を白と黒のグラデーションで示した図である。図８に示した離散関数Ｇ²（ｆ_x，ｆ_y）も５１２×５１２個の値を持ち、水平分解能Δｆ_xおよびΔｆ_yは０．００１０μｍ^-1である。図８に示したように本発明の防眩フィルムを製造するために作成したパターンはランダムであるため、図９のエネルギースペクトルは原点を中心に対称となる。よって、パターンのエネルギースペクトルの極大値はエネルギースペクトルの原点を通る断面より求めることができる。図１０は、図９に示したエネルギースペクトルＧ²（ｆ_x，ｆ_y）のｆ_x＝０における断面を示す図である。これより図８に示したパターンは空間周波数０．０４５μｍ^-1に極大値を持つが、０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下には極大値を持たないことが分かる。

防眩フィルムを作製するためのパターンのエネルギースペクトルが０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下に極大値を持つ場合には、結果として得られる防眩フィルムの微細凹凸表面の周波数分布が、本発明の要件を満たさなくなるため、ギラツキの解消と十分な防眩性を兼備することができない。

エネルギースペクトルが０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下には極大値を持たないパターンを作成するためには、２０μｍ未満のドット径をランダムかつ均一に配置すればよい。ランダムに配置するドット径は１種類でも良いし、複数種類でも良い。

上述したパターンを用いた微細凹凸表面を有する防眩フィルムは、印刷法、パターン露光法、エンボス法などによって製造することができる。たとえば、印刷法では、光硬化性樹脂もしくは熱硬化性樹脂を用いたフレキソ印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷などによって、上述したパターンを透明支持体上に印刷して作製した後、乾燥、または、活性光線もしくは加熱により硬化させることによって、本発明の防眩フィルムを製造することができる。また、パターン露光法では光硬化性樹脂を透明支持体上に塗布した後、上述したパターンを用いたレーザによる直描露光や、上述したパターンを有するマスクを介しての全面露光により、パターン露光を行い、必要に応じて現像した後、活性光線もしくは加熱により硬化させることによって、本発明の防眩フィルムを製造することができる。さらにエンボス法では、上述したパターンを用いて微細凹凸表面を有する金型を製造し、製造された金型の凹凸面を透明支持体上に転写し、次いで凹凸面が転写された透明支持体を金型から剥がすことによって、本発明の防眩フィルムを製造することができる。ここで、本発明の防眩フィルムは、微細凹凸表面を精度よく、かつ、再現性よく製造する観点から、エンボス法によって製造されることが好ましい。

ここで、エンボスとしては、光硬化性樹脂を用いるＵＶエンボス法、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法が例示され、中でも、生産性の観点から、ＵＶエンボス法が好ましい。

ＵＶエンボス法は、透明支持体の表面に光硬化性樹脂層を形成し、その光硬化性樹脂層を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることで、金型の凹凸面が光硬化性樹脂層に転写される方法である。具体的には、透明支持体上に紫外線硬化型樹脂を塗工し、塗工した紫外線硬化型樹脂を金型の凹凸面に密着させた状態で透明支持体側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、その後金型から、硬化後の紫外線硬化型樹脂層が形成された透明支持体を剥離することにより、金型の形状を紫外線硬化型樹脂に転写する。

ＵＶエンボス法を用いる場合、透明支持体としては、実質的に光学的に透明なフィルムであればよく、たとえばトリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。

またＵＶエンボス法を用いる場合における紫外線硬化型樹脂の種類は特に限定されないが、市販の適宜のものを用いることができる。また、紫外線硬化型樹脂に適宜選択された光開始剤を組み合わせて、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂を用いることも可能である。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどの多官能アクリレートをそれぞれ単独で、あるいはそれら２種以上を混合して用い、それと、イルガキュアー９０７（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）などの光重合開始剤とを混合したものを好適に用いることができる。

一方、ホットエンボス法は、熱可塑性樹脂で形成された透明支持体を加熱状態で金型に押し付け、金型の表面形状を透明支持体に転写する方法である。ホットエンボス法に用いる透明支持体としては、実質的に透明なものであればいかなるものであってもよく、たとえば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどを用いることができる。これらの透明樹脂フィルムはまた、上で説明したＵＶエンボス法における紫外線硬化型樹脂を塗工するための透明支持体としても好適に用いることができる。

＜防眩フィルム製造用の金型の製造方法＞
以下では、本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型を製造する方法について説明する。本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型の製造方法については、上述したパターンを用いた所定の表面形状が得られる方法であれば、特に制限されないが、微細凹凸表面を精度よく、かつ、再現性よく製造するために、〔１〕第１めっき工程と、〔２〕研磨工程と、〔３〕感光性樹脂膜塗布工程と、〔４〕露光工程と、〔５〕現像工程と、〔６〕第１エッチング工程と、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程と、〔８〕第２めっき工程とを基本的に含むことが好ましい。図１１は、本発明の金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図１１には各工程での金型の断面を模式的に示している。本発明の金型の製造方法は以下、図１１を参照しながら、本発明の金型の製造方法の各工程について詳細に説明する。

〔１〕第１めっき工程
本発明の金型の製造方法ではまず、金型に用いる基材の表面に、銅めっきまたはニッケルめっきを施す。このように、金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施すことにより、後の第２めっき工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を向上させることができる。すなわち、背景技術として上述したように、鉄などの表面にクロムめっきを施した場合、あるいはクロムめっき表面にサンドブラスト法やビーズショット法などで凹凸を形成してから再度クロムめっきを施した場合には、表面が荒れやすく、細かいクラックが生じて、金型の表面の凹凸形状が制御しにくくなる。これに対して、まず、基材表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施しておくことにより、このような不都合をなくすことができる。これは、銅めっきまたはニッケルめっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金型用基材の微小な凹凸や巣などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。これらの銅めっきまたはニッケルめっきの特性によって、後述する第２めっき工程においてクロムめっきを施したとしても、基材に存在していた微小な凹凸や巣に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきまたはニッケルめっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減される。

第１めっき工程において用いられる銅またはニッケルとしては、それぞれの純金属であることができるほか、銅を主体とする合金、またはニッケルを主体とする合金であってもよく、したがって、本明細書でいう「銅」は、銅および銅合金を含む意味であり、また「ニッケル」は、ニッケルおよびニッケル合金を含む意味である。銅めっきおよびニッケルめっきは、それぞれ電解めっきで行っても無電解めっきで行ってもよいが、通常は電解めっきが採用される。

銅めっきまたはニッケルめっきを施す際には、めっき層が余り薄いと、下地表面の影響が排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であるのが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コストなどとのからみから、一般的には５００μｍ程度までで十分である。

なお、本発明の金型の製造方法において、基材の形成に好適に用いられる金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄などが挙げられる。さらに取扱いの利便性から、軽量なアルミニウムがより好ましい。ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属であることができるほか、アルミニウムまたは鉄を主体とする合金であってもよい。

また、基材の形状は、当分野において従来より採用されている適宜の形状であれば特に制限されず、平板状であってもよいし、円柱状または円筒状のロールであってもよい。ロール状の基材を用いて金型を作製すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができるという利点がある。

〔２〕研磨工程
続く研磨工程では、上述した第１めっき工程にて銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する。本発明の金型の製造方法では、当該工程を経て、基材表面を、鏡面に近い状態に研磨することが好ましい。これは、基材となる金属板や金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、銅めっきまたはニッケルめっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあるし、また、めっきした状態で、表面が完全に平滑になるとは限らないためである。すなわち、このような深い加工目などが残った表面に後述する工程を施したとしても、各工程を施した後に形成される凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。図１１（ａ）には、平板状の金型用基材７が、第１めっき工程において銅めっきまたはニッケルめっきをその表面に施され（当該工程で形成した銅めっきまたはニッケルめっきの層については図示せず）、さらに研磨工程によって鏡面研磨された表面８を有するようにされた状態を模式的に示している。

銅めっきまたはニッケルめっきが施された基材表面を研磨する方法については特に制限されるものではなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。研磨後の表面粗度は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した中心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的な金型表面の凹凸形状に研磨後の表面粗度の影響が残る可能性があるので好ましくない。また、中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されず、加工時間や加工コストの観点から、おのずと限界があるので、特に指定する必要性はない。

〔３〕感光性樹脂膜塗布工程
続く感光性樹脂膜塗布工程では、上述した研磨工程によって鏡面研磨を施した基材７の表面８に、感光性樹脂を溶媒に溶解した溶液として塗布し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜を形成する。図１１（ｂ）には、基材７の表面８に感光性樹脂膜９が形成された状態を模式的に示している。

感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができる。たとえば、感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては分子中にアクリル基またはメタアクリル基を有するアクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物などを用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としてはフェノール樹脂系やノボラック樹脂系などを用いることができる。また、感光性樹脂には、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤などの各種添加剤を配合してもよい。

これらの感光性樹脂を基材７の表面８に塗布する際には、良好な塗膜を形成するために、適当な溶媒に希釈して塗布することが好ましく、セロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、高極性溶媒などを使用することができる。

感光性樹脂溶液を塗布する方法としては、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布などの公知の方法を用いることができる。塗布膜の厚さは乾燥後で１〜６μｍの範囲とすることが好ましい。

〔４〕露光工程
続く露光工程では、前記したエネルギースペクトルが０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下には極大値を持たないパターンを上述した感光性樹脂膜塗布工程で形成された感光性樹脂膜９上に露光する。露光工程に用いる光源は塗布された感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、たとえば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、高圧水銀灯のｈ線（波長：４０５ｎｍ）、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍなど）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマーレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマーレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマーレーザ（波長：１５７ｎｍ）等を用いることができる。

本発明の金型の製造方法において表面凹凸形状を精度良く形成するためには、露光工程において、上述したパターンを感光性樹脂膜上に精密に制御された状態で露光することが好ましい。本発明の金型の製造方法においては、上述したパターンを感光性樹脂膜上に精度よく露光するために、コンピュータ上でパターンを画像データとして作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することが好ましい。レーザー描画を行うに際しては印刷版作成用のレーザー描画装置を使用することができる。このようなレーザー描画装置としては、たとえばＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）などが挙げられる。

図１１（ｃ）には、感光性樹脂膜９にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜をネガ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１０は露光によって樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。よって、現像工程において露光されていない領域１１が現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ基材表面上に残りマスクとなる。一方、感光性樹脂膜をポジ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１０は露光によって樹脂の結合が切断され、後述する現像液に対する溶解性が増加する。よって、現像工程において露光された領域１０が現像液によって溶解され、露光されていない領域１１のみ基材表面上に残りマスクとなる。

〔５〕現像工程
続く現像工程においては、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域１１は現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ金型用基材上に残存し、続く第１エッチング工程においてマスクとして作用する。一方、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域１０のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域１１が金型用基材上に残存して、続く第１エッチング工程におけるマスクとして作用する。

現像工程に用いる現像液については従来公知のものを使用することができる。たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水などの無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミンなどの第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミンなどの第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニウム塩、ピロール、ピヘリジンなどの環状アミン類などのアルカリ性水溶液、キシレン、トルエンなどの有機溶剤などを挙げることができる。

現像工程における現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法を用いることができる。

図１１（ｄ）には、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行った状態を模式的に示している。図１１（ｃ）において露光されていない領域１１が現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ基材表面上に残りマスク１２となる。図１１（ｅ）には、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行った状態を模式的に示している。図１１（ｃ）において露光された領域１０が現像液によって溶解され、露光されていない領域１１のみ基材表面上に残りマスク１２となる。

〔６〕第１エッチング工程
続く第１エッチング工程では、上述した現像工程後に金型用基材表面上に残存した感光性樹脂膜をマスクとして用いて、主にマスクの無い箇所の金型用基材をエッチングする。図１２は、本発明の金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図１２（ａ）には第１エッチング工程によって、主にマスクの無い箇所１３の金型用基材７がエッチングされる状態を模式的に示している。マスク１２の下部の金型用基材７は金型用基材表面からはエッチングされないが、エッチングの進行とともにマスクの無い領域１３からのエッチングが進行する。よって、マスク１２とマスクの無い領域１３の境界付近では、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされる。このようなマスク１２とマスクの無い領域１３の境界付近において、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされることを、以下ではサイドエッチングと呼ぶ。図１３にはサイドエッチングの進行を模式的に示した。図１３の点線１４はエッチングの進行とともに変化する金型用基材の表面を段階に示している。

第１エッチング工程におけるエッチング処理は、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ₃）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ₂）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ₃）₄Ｃｌ₂）などを用いて、金属表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した際の金型用基材に形成される凹形状は、下地金属の種類、感光性樹脂膜の種類およびエッチング手法などによって異なるため、一概にはいえないが、エッチング量が１０μｍ以下である場合には、エッチング液に触れている金属表面から略等方的にエッチングされる。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られる基材の厚みである。

第１エッチング工程におけるエッチング量は好ましくは１〜５０μｍである。エッチング量が１μｍ未満である場合には、金属表面に凹凸形状がほとんど形成されずに、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。また、エッチング量が５０μｍを超える場合には、金属表面に形成される凹凸形状の高低差が大きくなり、得られた金型を使用して作製した防眩フィルムが白ちゃけることとなるため好ましくない。第１エッチング工程におけるエッチング処理は１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。

〔７〕感光性樹脂膜剥離工程
続く感光性樹脂膜剥離工程では、第１エッチング工程でマスクとして使用した残存する感光性樹脂膜を完全に溶解し除去する。感光性樹脂膜剥離工程では剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解する。剥離液としては、上述した現像液と同様のものを用いることができて、ｐＨ、温度、濃度および浸漬時間などを変化させることによって、ネガ型の感光性樹脂膜を用いた場合には露光部の、ポジ型の感光性樹脂膜を用いた場合には非露光部の感光性樹脂膜を完全に溶解して除去する。感光性樹脂膜剥離工程における剥離方法についても特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法を用いることができる。

図１２（ｂ）は、感光性樹脂膜剥離工程によって、第１エッチング工程でマスクとして使用した感光性樹脂膜を完全に溶解し除去した状態を模式的に示している。感光性樹脂膜によるマスク１２とエッチングによって、第１の表面凹凸形状１５が金型用基材表面に形成される。

〔８〕第２めっき工程
続いて、クロムめっきを施すことによって、表面の凹凸形状を鈍らせる。図１２（ｃ）には、上述したように第１エッチング工程のエッチング処理によって形成された表面凹凸形状にクロムめっき層１６を形成し、表面１７を鈍らせた状態が示されている。

本発明では、平板やロールなどの表面に、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与え得るクロムめっきを採用する。クロムめっきの種類は特に制限されないが、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきを用いることが好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行われ、そのめっき浴としては、無水クロム酸（ＣｒＯ₃）と少量の硫酸を含む水溶液が用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっきの厚みを制御することができる。

上述した特開２００２−１８９１０６号公報、特開２００４−４５４７２号公報、特開２００４−９０１８７号公報などには、クロムめっきを採用することが開示されているが、金型のめっき前の下地とクロムめっきの種類によっては、めっき後に表面が荒れたり、クロムめっきによる微小なクラックが多数発生したりすることが多く、その結果、作製される防眩フィルムの光学特性が好ましくない方向へと進む。めっき表面が荒れた状態の金型は、防眩フィルムの製造用に適していない。何故ならば、一般的にざらつきを消すためにクロムめっき後にめっき表面を研磨することが行われているが、後述するように、本発明ではめっき後の表面の研磨が好ましくないからである。本発明では、下地金属に銅めっきまたはニッケルめっきを施すことにより、クロムめっきで生じ易いこのような不都合を解消している。

なお、第２めっき工程において、クロムめっき以外のめっきを施すことは好ましくない。何故なら、クロム以外のめっきでは、硬度や耐摩耗性が低くなるため、金型としての耐久性が低下し、使用中に凹凸が磨り減ったり、金型が損傷したりする。そのような金型から得られた防眩フィルムでは、十分な防眩機能が得られにくい可能性が高く、また、フィルム上に欠陥が発生する可能性も高くなる。

また、上述した特開２００４−９０１８７号公報などに開示されているようにめっき後の表面を研磨することも、やはり本発明では好ましくない。研磨することにより、最表面に平坦な部分が生じるため、光学特性の悪化を招く可能性があること、また、形状の制御因子が増えるため、再現性のよい形状制御が困難になることなどの理由による。

このように本発明では、クロムめっきを施した後、表面を研磨せず、そのままクロムめっき面を金型の凹凸面として用いることが好ましい。微細表面凹凸形状が形成された表面にクロムめっきを施すことにより、凹凸形状が鈍らせられるとともに、その表面硬度が高められた金型が得られるためである。この際の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、第１エッチング工程より得られた凹凸のサイズと深さ、まためっきの種類や厚みなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御するうえで最も大きな因子は、やはりめっき厚みである。クロムめっきの厚みが薄いと、クロムめっき加工前に得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、めっき厚みが厚すぎると、生産性が悪くなるうえに、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥が発生してしまうため好ましくない。そこで、クロムめっきの厚みは１〜１０μｍの範囲内であるのが好ましく、３〜６μｍの範囲内であるのがより好ましい。

当該第２めっき工程で形成されるクロムめっき層は、ビッカース硬度が８００以上となるように形成されていることが好ましく、１０００以上となるように形成されていることがより好ましい。クロムめっき層のビッカース硬度が８００未満である場合には、金型使用時の耐久性が低下するうえに、クロムめっきで硬度が低下することはめっき処理時にめっき浴組成、電解条件などに異常が発生している可能性が高く、欠陥の発生状況についても好ましくない影響を与える可能性が高いためである。

また、本発明の防眩フィルムを作製するための、金型の製造方法においては上述した〔７〕感光性樹脂膜剥離工程と〔８〕第２めっき工程との間に、第１エッチング工程によって形成された凹凸面をエッチング処理によって鈍らせる第２エッチング工程を含むことが好ましい。第２エッチング工程では、感光性樹脂膜をマスクとして用いた第１エッチング工程によって形成された第１の表面凹凸形状１５を、エッチング処理によって鈍らせる。この第２エッチング処理によって、第１エッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状１５における表面傾斜が急峻な部分がなくなり、得られた金型を用いて製造された防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化する。図１４には、第２エッチング処理によって、基材７の第１の表面凹凸形状１５が鈍化し、表面傾斜が急峻な部分が鈍らされ、緩やかな表面傾斜を有する第２の表面凹凸形状１８が形成された状態が示されている。

第２エッチング工程のエッチング処理も、第１エッチング工程と同様に、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ₃）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ₂）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ₃）₄Ｃｌ₂）などを用い、表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した後の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、エッチング手法、および第１エッチング工程により得られた凹凸のサイズと深さなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、エッチング量である。ここでいうエッチング量も、第１エッチング工程と同様に、エッチングにより削られる基材の厚みである。エッチング量が小さいと、第１エッチング工程により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、エッチング量が大きすぎると、凹凸形状がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。そこで、エッチング量は１〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、４〜２０μｍの範囲内であることがより好ましい。第２エッチング工程におけるエッチング処理についても、第１エッチング工程と同様に、１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。

以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す％および部は、特記ない限り重量基準である。また、以下の例における金型または防眩フィルムの評価方法は、次のとおりである。

〔１〕防眩フィルムの表面形状の測定
三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて、防眩フィルムの表面形状を測定した。サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定の際、対物レンズの倍率は１０倍として測定を行った。水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに１．６６μｍであり、測定面積は８５０μｍ×８５０μｍであった。

（エネルギースペクトルの比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²およびＨ₃ ²／Ｈ₂ ²）
上で得られた測定データから、防眩フィルムの微細凹凸表面の標高を二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）として求め、得られた二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して二次元関数Ｈ（ｆ_x，ｆ_y）を求めた。二次元関数Ｈ（ｆ_x，ｆ_y）を二乗してエネルギースペクトルの二次元関数Ｈ²（ｆ_x，ｆ_y）を計算し、ｆ_x＝０の断面曲線であるＨ²（０，ｆ_y）より、空間周波数０．０１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₁ ²および空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂ ²を求め、エネルギースペクトルの比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²を計算した。また、空間周波数０．１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₃ ²を求め、エネルギースペクトルの比Ｈ₃ ²／Ｈ₂ ²についても計算した。

（微細凹凸表面の傾斜角度）
上で得られた測定データをもとに、前述のアルゴリズムに基づいて計算し、凹凸面の傾斜角度のヒストグラムを作成し、そこから傾斜角度毎の分布を求め、傾斜角度が５°以下である面の割合を計算した。

〔２〕防眩フィルムの光学特性の測定
（ヘイズ）
防眩フィルムのヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠したヘイズメータＨＭ−１５０型（村上色彩技術研究所製）を用いてヘイズを測定した。防眩フィルムの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。一般的にヘイズが大きくなると、画像表示装置に適用したときに画像が暗くなり、その結果、正面コントラストが低下しやすくなる。それ故に、ヘイズは低い方が好ましい。

〔３〕防眩フィルムの防眩性能の評価
（映り込み、白ちゃけの目視評価）
防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの有無、白ちゃけの程度を目視で評価した。映り込み、白ちゃけおよび質感は、それぞれ１から３の３段階で次の基準により評価した。

映り込み １：映り込みが観察されない。
２：映り込みが少し観察される。
３：映り込みが明瞭に観察される。

白ちゃけ １：白ちゃけが観察されない。
２：白ちゃけが少し観察される。
３：白ちゃけが明瞭に観察される。

（ギラツキの評価）
ギラツキは、以下の方法で評価した。すなわち、市販の液晶テレビ（ＬＣ−３２ＧＨ３（シャープ（株）製）から表裏両面の偏光板を剥離した。それらオリジナル偏光板の代わりに、背面側および表示面側とも、偏光板スミカラン ＳＲＤＢ３１Ｅ（住友化学（株）製）を、それぞれの吸収軸がオリジナルの偏光板の吸収軸と一致するように粘着剤を介して貼合し、さらに表示面側偏光板の上には、以下の各例に示す防眩フィルムを凹凸面が表面となるように粘着剤を介して貼合した。この状態で、サンプルから約３０ｃｍ離れた位置から、目視観察することにより、ギラツキの程度を７段階で官能評価した。レベル１はギラツキが全く認められない状態、レベル７はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル３はごくわずかにギラツキが観察される状態である。

〔４〕防眩フィルム製造用のパターンの評価
作成したパターンデータを２５６階調のグレースケールの画像データとし、階調を二次元の離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表した。離散関数ｇ（ｘ，ｙ）の水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに２μｍとした。得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して、二次元関数Ｇ（ｆ_x，ｆ_y）を求めた。二次元関数Ｇ（ｆ_x，ｆ_y）を二乗してエネルギースペクトルの二次元関数Ｇ²（ｆ_x，ｆ_y）を計算し、ｆ_x＝０の断面曲線であるＧ²（０，ｆ_y）より、空間周波数が０μｍ^-1より大きく、かつ、絶対値が最も小さい空間周波数での極大値を求めた。

＜実施例１＞
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図８に示すパターンを繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像した。レーザ光による露光、および現像はＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行った。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用した。

その後、塩化第二銅液で第１のエッチング処理を行った。その際のエッチング量は７μｍとなるように設定した。第１のエッチング処理後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再度、塩化第二銅液で第２のエッチング処理を行った。その際のエッチング量は１８μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行い、金型Ａを作製した。このとき、クロムめっき厚みが４μｍとなるように設定した。

光硬化性樹脂組成物ＧＲＡＮＤＩＣ ８０６Ｔ（大日本インキ化学工業（株）製）を酢酸エチルにて溶解して、５０重量％濃度の溶液とし、さらに、光重合開始剤であるルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製、化学名：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド）を、硬化性樹脂成分１００重量部あたり５重量部添加して塗布液を調製した。厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、この塗布液を乾燥後の塗布厚みが１０μｍとなるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型Ａの凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ²の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ²となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。この後、ＴＡＣフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な防眩フィルムＡを作製した。

＜実施例２＞
レーザ光によって露光するパターンとして図１５に示すパターンを用いたこと以外は実施例１と同様にして金型Ｂを得た。図１５に示したパターンである画像データは１ｍｍ×１ｍｍの大きさで、６４００ｄｐｉで作成した。得られた金型Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムＢを作製した。

＜比較例１＞
レーザ光によって露光するパターンとして図１６に示すパターンを用いたこと以外は実施例１と同様にして金型Ｃを得た。図１６に示したパターンである画像データは２ｍｍ×２ｍｍの大きさで、１２８００ｄｐｉで作成した。得られた金型Ｃを用いたこと以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムＣを作製した。

＜比較例２＞
レーザ光によって露光するパターンとして図１７に示すパターンを用い、第１のエッチング処理のエッチング量は１０μｍとなるように設定し、第２のエッチング処理のエッチング量は３０μｍとなるように設定したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｄを得た。図１７に示したパターンである画像データは２０ｍｍ×２０ｍｍの大きさで、３２００ｄｐｉで作成した。得られた金型Ｄを用いたこと以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムＤを作製した。

＜比較例３＞
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、ジルコニアビーズＴＺ−ＳＸ−１７（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を、ブラスト圧力０.０５ＭＰａ（ゲージ圧、以下同じ）、ビーズ使用量８ｇ／ｃｍ²（ロールの表面積１ｃｍ²あたりの使用量、以下同じ）でブラストし、表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つき銅めっきアルミニウムロールにクロムめっき加工を行い、金属金型Ｅを作製した。このとき、クロムめっき厚みが６μｍとなるように設定した。得られた金型Ｅを用いたこと以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムＥを作製した。

＜比較例４＞
直径３００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面を鏡面研磨し、研磨されたアルミ面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、ジルコニアビーズＴＺ−ＳＸ−１７（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を、ブラスト圧力０．１ＭＰａ（ゲージ圧、以下同じ）、ビーズ使用量８ｇ／ｃｍ²（ロールの表面積１ｃｍ²あたりの使用量、以下同じ）でブラストし、表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つきアルミロールに対し、無電解ニッケルめっき加工を行い、金型Ｆを作製した。このとき、無電解ニッケルめっき厚みが１５μｍとなるように設定した。得られた金型Ｆを用いたこと以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムＦを作製した。

結果を表１に示す。また、図１８に防眩フィルムＢ〜Ｆの微細凹凸表面の標高を示す二次元関数から得られたエネルギースペクトルのｆ_x＝０における断面を示した。さらに、図１９に防眩フィルムＢ〜Ｄの作製に使用したパターンより得られたエネルギースペクトルのｆ_x＝０における断面を示した。図１９より防眩フィルムＢの作製に使用したパターンのエネルギースペクトルは空間周波数が０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下に極大値を持たないことが分かる。対して、防眩フィルムＣおよびＤの作製に使用したパターンのエネルギースペクトルは空間周波数が０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下に極大値を持つことが分かる。

表１に示す結果から、本発明の要件を全て満たす防眩フィルムＡおよびＢは、ギラツキが発生せず、十分な防眩性を示し、白ちゃけも発生しなかった。また、ヘイズも低いため、画像表示装置に配置した際にもコントラストの低下を引き起こすことが無い。エネルギースペクトルが０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下に極大値を持つパターンより作成された防眩フィルムＣおよびＤは、エネルギースペクトルの比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²が本発明の要件を満たさないため、十分な防眩性を示し、白ちゃけも発生しなかったがギラツキが発生していた。また、所定のパターンを用いずに作成した防眩フィルムＥおよびＦは、エネルギースペクトルの比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²が本発明の要件を満たさないため、十分な防眩性とギラツキの抑制を両立することができなかった。

今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

１ 防眩フィルム、２ フィルム表面に形成された凹凸、３ フィルムの投影面、５ フィルムの主法線、６ 凹凸を加味した局所的な法線、６ａ〜６ｄ ポリゴン面の法線ベクトル、ψ 表面傾斜角度、７ 金型用基材、８ 研磨工程によって研磨された基材の表面、９ 感光性樹脂膜、１０ 露光工程において露光された感光性樹脂膜、１１ 露光工程において露光されない感光性樹脂膜、１２ マスクとして作用する感光性樹脂膜、１３ マスクの無い箇所、１４ エッチングによって段階的に形成される表面、１５ 第１エッチング工程後の基材表面（第１の表面凹凸形状）、１６ クロムめっき層、１７ クロムめっきの表面、１８ 第２エッチング工程後の基材表面（第２の表面凹凸形状）。

Claims (10)

1. 透明支持体上に、微細な凹凸表面を有する防眩層が形成されてなる防眩フィルムであって、前記微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₁ ²と、空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂ ²の比Ｈ₁ ²／Ｈ₂ ²が３〜１５の範囲内である、防眩フィルム。
2. 前記微細凹凸表面の標高の空間周波数０．１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₃ ²と、空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂ ²の比Ｈ₃ ²／Ｈ₂ ²が０．０１以下である、請求項１に記載の防眩フィルム。
3. 前記微細凹凸表面の傾斜角度が５°以下である面の割合が９５％以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の防眩フィルム。
4. 前記防眩層が０．４μｍ以上の微粒子を含まないことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の防眩フィルム。
5. 請求項１〜４のいずれかに記載の防眩フィルムを製造する方法であって、
   エネルギースペクトルが０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下に極大値を持たないパターンを用いることを特徴とする、防眩フィルムの製造方法。
6. 前記パターンを用いて金型を作製し、前記金型の凹凸面を透明支持体上に転写し、次いで凹凸面が転写された透明支持体を金型から剥がすことを特徴とする請求項５に記載の防眩フィルムの製造方法。
7. 請求項６に記載の金型を製造する方法であって、
   金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施す第１めっき工程と、
   第１めっき工程によってめっきが施された表面を研磨する研磨工程と、
   研磨された面に感光性樹脂膜を塗布形成する感光性樹脂膜塗布工程と、
   感光性樹脂膜上に前記パターンを露光する露光工程と、
   前記パターンが露光された感光性樹脂膜を現像する現像工程と、
   現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行い、研磨されためっき面に凹凸を形成する第１エッチング工程と、
   感光性樹脂膜を剥離する感光性樹脂膜剥離工程と、
   形成された凹凸面にクロムめっきを施す第２めっき工程とを含むことを特徴とする金型の製造方法。
8. 前記感光性樹脂膜剥離工程と前記第２めっき工程の間に、形成された凹凸面をエッチング処理によって鈍らせる第２エッチング工程を含むことを特徴とする請求項７に記載の金型の製造方法。
9. クロムめっきを施した後、表面を研磨せず、そのままクロムめっき面を金型の凹凸面として用いる、請求項７または８に記載の金型の製造方法。
10. クロムめっきにより形成されたクロムめっき層が１〜１０μｍの厚みを有する、請求項７〜９のいずれかに記載の金型の製造方法。