CN101846754B - 防眩膜 - Google Patents

Abstract

本发明能够提供防眩膜，其为在透明支承体上形成了具有微细的凹凸表面的防眩层而成的防眩膜，上述微细凹凸表面的标高的空间频率0.01μm^-1处的能谱H₁ ²与空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²之比H₁ ²/H₂ ²为3～15的范围内，通过该防眩膜，在显示优异的防眩性能的同时，防止泛白引起的辨识性的降低，配置于高清晰的图像显示装置的表面时，不产生晃眼而显现高对比度。

Description

防眩膜

技术领域

本发明涉及低浊度且防眩特性优异的防眩(antiglare)膜。 

背景技术

液晶显示器和等离子显示器面板、布劳恩管(阴极射线管：CRT)显示器、有机电致发光(EL)显示器等图像显示装置，如果外部光映入其显示面，则显著损害辨识性。为了防止这样的外部光的映入，在重视画质的电视机和个人电脑、在外部光强的室外使用的摄像机和数码相机、利用反射光进行显示的移动电话等中，目前为止在图像显示装置的表面设置有防止外光的映入的膜层。该膜层大致分为由实施了利用光学多层膜所致的干涉的无反射处理的膜形成的膜层和由实施了通过在表面形成微细的凹凸而使入射光散射并使映入像模糊的防眩处理的膜形成的膜层。其中，前者的无反射膜，由于有必要形成光学膜厚均匀的多层膜，因此成本升高。与其相对，后者的防眩膜能够比较低价地制造，因此已广泛用于大型的个人电脑、监视器等用途。 

这样的防眩膜，目前为止，通过例如在基材片材上涂布分散有微粒的树脂溶液，调节涂布膜厚而使微粒在涂布膜表面露出，从而在片材上形成无规的凹凸的方法等来制造。但是，通过使这样的微粒分散而制造的防眩膜，凹凸的配置、形状由树脂溶液中的微粒的分散状态、涂布状态等控制，因此难以获得意向的凹凸，对于浊度低的防眩膜，存在不能获得充分的防眩效果的问题。此外，将这样的现有的防眩膜配置于图像显示装置的表面时，存在容易产生整个显示面因散射光而变得发白、成为显示浑浊的颜色的所谓“泛白”的问题。此外，伴随着最近的图像显示装置的高清晰化，还具有容易产生图像显示装置的像素和防眩膜的表面凹凸形状发生干涉、结 果产生亮度分布而难以看清的所谓“晃眼”现象的问题。为了消除晃眼，也尝试了在粘结剂树脂和分散微粒之间设置折射率差来使光散射，但将这样的防眩膜配置在图像显示装置的表面时，由于微粒和粘结剂树脂界面的光的散射，还存在对比度容易降低的问题。 

另一方面，也尝试了在不含有微粒的情况下仅通过在透明树脂层的表面形成的微细的凹凸来显现防眩性。例如，特开2002-189106号公报(专利文献1)中公开了通过在压花铸型和透明树脂膜之间夹有电离放射线固化性树脂的状态下使该电离放射线固化性树脂固化，从而形成三维10点平均粗糙度和三维粗糙度基准面上的邻接凸部之间的平均距离分别满足规定值的微细的凹凸，在上述透明树脂膜上设置了形成有该凹凸的电离放射线固化性树脂层的形式的防眩膜。但是，即使利用专利文献1中公开的防眩膜也难以实现足够的防眩效果、泛白的抑制、高对比度和晃眼的抑制。 

此外，作为不是在显示装置的显示面配置的防眩膜而是在液晶显示装置的背面侧配置的光扩散层，使用表面形成了微细凹凸的膜也公开于例如特开平6-34961号公报(专利文献2)、特开2004-45471号公报(专利文献3)、特开2004-45472号公报(专利文献4)等中。其中，在专利文献3、4中，作为在膜的表面形成凹凸的手法，公开了如下方法：将电离放射线固化性树脂液填充到具有使凹凸反转的形状的压花辊，使填充的树脂接触在辊凹版的旋转方向同步移动的透明基材，透明基材与辊凹版接触时，使辊凹版和透明基材之间的树脂固化，固化的同时使固化树脂与透明基材密合后，从辊凹版将固化后的树脂和透明基材的层合体剥离。 

但是，对于这样的专利文献3、4中公开的方法，能够使用的电离放射线固化性树脂液的组成受到限制，而且不能期待用溶剂稀释而涂布时的流平性，因此预测膜厚的均匀性存在问题。此外，对于专利文献3、4中公开的方法，由于必须直接将树脂液填充到压花辊凹版，为了确保凹凸面的均一性，对压花辊凹版要求高机械精度，存在压花辊的制作难的问题。 

其次，作为表面具有凹凸的膜的制作中使用的辊的制作方法，例如，上述专利文献2中公开了如下方法：使用金属等制作圆筒体，采用电子雕刻、蚀刻、喷砂等方法在其表面形成凹凸。此外，特开2004-29240号公报 (专利文献5)中公开了采用喷珠粒(beads shot)法制作压花辊的方法，特开2004-90187号公报(专利文献6)中公开了经过在压花辊的表面形成金属镀层的工序、对金属镀层的表面进行镜面研磨的工序以及根据需要进行喷丸处理的工序，制作压花辊的方法。 

但是，这样在压花辊的表面实施了喷射处理的状态下，产生由喷射粒子的粒径分布引起的凹凸径的分布，同时难以控制由喷射得到的凹穴的深度，在再现性良好地得到防眩功能优异的凹凸形状方面存在问题。 

此外，上述的专利文献1中，记载了优选使用在铁的表面镀铬得到的辊，采用喷砂法、喷珠粒法形成凹凸模面。还记载为了改善使用时的耐久性，优选对如此形成了凹凸的模面实施镀铬等后使用，由此能够实现硬膜化和防腐蚀。另一方面，上述专利文献3、4各自的实施例中记载了对铁芯表面镀铬，进行#250的液体砂喷射处理后，再次进行镀铬处理，在表面形成微细的凹凸形状。 

但是，对于这样的压花辊的制作法，由于在硬度高的铬镀层上进行喷砂、喷珠粒，所以难以形成凹凸，并且难以精密地控制形成的凹凸的形状。此外，如特开2004-29672号公报(专利文献7)中也记载的那样，铬镀层依赖于成为基底的材质及其形状，常常表面粗糙，在通过喷射形成的凹凸上形成由铬镀层产生的细小裂纹，因此存在难以对能够形成什么样的凹凸进行设计的课题。此外，由于存在由铬镀层产生的细小裂纹，因此还存在最终得到的防眩膜的散射特性向不优选的方向变化的问题。此外，通过压花辊母材表面的材质和镀种的组合，精加工的辊表面有多种多样的变化，因此为了高精度地得到需要的表面凹凸形状，还存在必须选择适当的辊表面的材质和适当的镀种的问题。此外，即使得到了所希望的表面凹凸形状，因镀种的不同，也有使用时的耐久性变得不足的情况。 

特开2000-284106号公报(专利文献8)中记载了对基材实施喷砂加工后，实施蚀刻工序和/或薄膜的层合工序，但对于喷砂工序前设置金属镀层既没有记载也没有暗示。此外，特开2006-53371号公报(专利文献9)中记载了研磨基材，实施喷砂加工后，实施非电解镀镍。此外，特开2007-187952号公报(专利文献10)中记载了对基材实施镀铜或镀镍后， 进行研磨，实施喷砂加工后，实施镀铬，制作压花版，此外，特开2007-237541号公报(专利文献11)中记载了实施镀铜或镀镍后，进行研磨，实施喷砂加工后，实施蚀刻工序或镀铜工序后实施镀铬，制作压花版。对于这些使用喷砂加工的制法，难以在精密控制的状态下形成表面凹凸形状，因此制作表面凹凸形状具有50μm以上的周期的比较大的凹凸形状。结果存在如下问题：这些大的凹凸形状和图像显示装置的像素干涉，容易发生产生亮度分布而难以看清的所谓晃眼。 

发明内容

本发明的目的在于，提供显示优异的防眩性能、同时防止泛白所致的辨识性的降低、配置在高清晰的图像显示装置的表面时不产生晃眼而显现高对比度的防眩膜。 

本发明的防眩膜，其为在透明支承体上形成具有微细的凹凸表面的防眩层而成的防眩膜，上述微细凹凸表面的标高的空间频率0.01μm^-1处的能谱H₁ ²与空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²之比H₁ ²/H₂ ²为3～15的范围内。 

本发明的防眩膜，优选上述微细凹凸表面的标高的空间频率0.1μm^-1处的能谱H₃ ²与空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²之比H₃ ²/H₂ ²为0.01以下。 

本发明的防眩膜，优选微细凹凸表面的倾斜角度为5°以下的面的比例为95％以上。 

此外，本发明的防眩膜，优选防眩层不包含0.4μm以上的微粒。 

由与附图关联理解的与本发明有关的以下详细说明，本方法的上述和其他目的、特征、局面和优点变得清晰。 

附图说明

图1为示意地表示本发明的防眩膜的表面的立体图。 

图2为表示离散地得到表示标高的函数h(x，y)的状态的示意图。 

图3为用二元的离散函数h(x，y)表示本发明的防眩膜的微细凹凸表面形状的标高的图。 

图4为用白和黑的层次(gradation)表示对图3所示的二元函数h(x， y)进行离散傅立叶变换而得到的能谱H²(f_x，f_y)的图。 

图5为表示图4所示的能谱H²(f_x，f_y)的f_x＝0的截面的图。 

图6为用于说明微细凹凸表面的倾斜角度的测定方法的示意图。 

图7为表示防眩膜的微细凹凸表面的倾斜角度分布的柱状图的一例的图。 

图8为用灰度等级的二元离散函数g(x，y)表示作为用于制作本发明的防眩膜的图形的图像数据的一部分的图。 

图9为用白和黑的层次表示将图8所示的灰度等级的二元离散函数g(x，y)进行离散傅立叶变换而得到的能谱G²(f_x，f_y)的图。 

图10为表示图9所示的能谱G²(f_x，f_y)的f_x＝0的截面的图。 

图11为示意地表示模具的制造方法的前半部分的优选的一例的图。 

图12为示意地表示模具的制造方法的后半部分的优选的一例的图。 

图13为示意地表示第1蚀刻工序中侧向蚀刻进行的状态的图。 

图14为示意地表示由第1蚀刻工序形成的凹凸面通过第2蚀刻工序钝化的状态的图。 

图15为用二元函数表示从实施例2的模具制作时使用的图形得到的图像数据的灰度等级的图。 

图16为用二元函数表示从比较例1的模具制作时使用的图形得到的图像数据的灰度等级的图。 

图17为用二元函数表示从比较例2的模具制作时使用的图形得到的图像数据的灰度等级的图。 

图18为表示从防眩膜B～F的微细凹凸表面形状的标高的二次函数得到的能谱的f_x＝0的截面的图。 

图19为表示实施例2、比较例1和比较例2中使用的图形的能谱的f_x＝0的截面的图。 

具体实施方式

<防眩膜> 

以下对本发明优选的实施方式进行详细说明。 

本发明的防眩膜为在透明支承体上形成了具有微细的凹凸表面形状(微细凹凸表面)的防眩层的防眩膜，其特征在于，上述微细凹凸表面的标高的空间频率0.01μm^-1处的能谱H₁ ²与空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²之比H₁ ²/H₂ ²为3～15的范围内。目前为止，对于防眩膜的微细凹凸表面的周期，用JIS B 0601中记载的粗糙度曲线要素的平均长度RSm、截面曲线要素的平均长度PSm和起伏曲线要素的平均长度WSm等进行评价。但是，对于这样的现有的评价方法，不能正确地评价微细凹凸表面含有的多个周期。因此，对于晃眼与微细凹凸表面的相关性和防眩性与微细凹凸表面的相关性也不能正确地评价，难以制作兼具晃眼的抑制和足够的防眩性能的防眩膜。 

本发明人等发现，在透明支承体上形成了具有微细凹凸表面的防眩层而成的防眩膜中，如果使微细凹凸表面表示特定的空间频率分布，在显现足够的防眩效果的同时，充分地防止晃眼。即，根据本发明，通过使微细凹凸表面的标高的空间频率0.01μm^-1处的能谱H₁ ²与空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²之比H₁ ²/H₂ ²为特定的范围内，提供在显示优异的防眩性能的同时防止泛白所致的辨识性的降低、而且当配置在高清晰的图像显示装置的表面时不产生晃眼而显现高对比度的防眩膜。 

首先，对防眩膜的微细凹凸表面的标高的能谱进行说明。图1为示意地表示本发明的防眩膜的表面的立体图。如图1所示，本发明的防眩膜1具有在其表面形成了微细的凹凸2的防眩层。其中，本发明中所说的“微细凹凸表面的标高”，意味着膜1表面的任意的点P处距离微细凹凸表面的最低点的高度中具有该高度的假想的平面(作为基准，标高为0μm)的膜的主法线方向5(上述假想的平面的法线方向)上的直线距离。如图1所示，用(x，y)表示膜面内的正交坐标时，微细凹凸表面的标高可以表示为坐标(x，y)的二元函数h(x，y)。图1中用投影面3表示膜整体的面。 

微细凹凸表面的标高可以从采用共焦显微镜、干涉显微镜、原子间力显微镜(AFM)等装置测定的表面形状的三维信息求出。对于测定机要求的水平分辨能力至少为5μm以下，优选为2μm以下，此外，垂直分辨能力至少为0.1μm以下，优选为0.01μm以下。作为适合该测定的非接触三 维表面形状/粗糙度测定机，可以列举New View 5000系列(ZygoCorporation公司制，在日本可由ZygoKK(株)购得)、三维显微镜PLμ2300(Sensofar公司制)等。由于标高的能谱的分辨能力必须为0.01μm^-1以下，因此测定面积优选至少为200μm×200μm以上，更优选为500μm×500μm以上。 

其次，对由二元函数h(x，y)求出标高的能谱的方法进行说明。首先，由二元函数h(x，y)，通过式(1)定义的二元傅立叶变换求出二元函数H(f_x，f_y)。 

$H(f_x,f_y)\&equiv;\underset{-\&infin;}{\overset{\&infin;}{\&Integral;}}\underset{-\&infin;}{\overset{\&infin;}{\&Integral;}}h(x,y)\exp [-2\mathrm{\&pi;i}(f_{x}x+f_{y}y)]\mathrm{dxdy}$ 式(1) 

其中，f_x和f_y分别为x方向和y方向的频率，具有长度的倒数的因次。此外，式(1)中的π为圆周率，i为虚数单位。通过将得到的二元函数H(f_x，f_y)平方，能够求出能谱H²(f_x，f_y)。该能谱H²(f_x，f_y)表示防眩膜的微细凹凸表面的空间频率分布。 

以下进一步具体说明求取防眩膜的微细凹凸表面的能谱的方法。采用上述的共焦显微镜、干涉显微镜、原子间力显微镜等实测测定的表面形状的三维信息一般作为离散的值、即对应多个测定点的标高而得到。图2是表示离散地得到表示标高的函数h(x，y)的状态的示意图。如图2所示，用(x，y)表示膜面内的正交坐标，在膜投影面3上用虚线表示x轴方向上每Δx分割的线和y轴方向上每Δy分割的线，在实际的测定中，微细凹凸表面的标高作为膜投影面3上的各虚线的每个交点的离散的标高值而得到。 

得到的标高值的数由测定范围和Δx及Δy决定，如图2所示，将x轴方向的测定范围记为X＝MΔx，将y轴方向的测定范围记为Y＝NΔy时，则得到的标高值的数为(M+1)×(N+1)个。 

如图2所示，将膜投影面3上的着眼点A的坐标记为(jΔx，kΔy)(其中，j为0～M，k为0～N。)时，则对应于着眼点A的膜面上的点P的标高可以表示为h(jΔx，kΔy)。 

在这里，测定间隔Δx和Δy依赖于测定机器的水平分辨能力，为了高 精度地评价微细凹凸表面，如上所述优选Δx和Δy均为5μm以下，更优选为2μm以下。此外，测定范围X和Y，如上所述，均优选200μm以上，均更优选500μm以上。 

这样，在实际的测定中，表示微细凹凸表面的标高的函数作为具有(M+1)×(N+1)个值的离散函数h(x，y)而得到。由通过测定得到的离散函数h(x，y)和由式(2)定义的离散傅立叶变换求出离散函数H(f_x，f_y)，通过将离散函数H(f_x，f_y)平方，求出能谱的离散函数H²(f_x，f_y)。式(2)中的1为-(M+1)/2～(M+1)/2的整数，m为-(N+1)/2～(N+1)/2的整数。此外，Δf_x和Δf_y分别为x方向和y方向的频率间隔，由式(3)和式(4)定义。 

$H(f_x,f_y)=H(\mathrm{l\&Delta;}{f}_x,\mathrm{m\&Delta;}{f}_y)\&equiv;\frac{1}{\sqrt{(M+1)(N+1)}}\underset{j=0}{\overset{M}{\mathrm{\&Sigma;}}}\underset{k=0}{\overset{N}{\mathrm{\&Sigma;}}}h(\mathrm{j\&Delta;x},\mathrm{k\&Delta;y})\exp [-2\mathrm{\&pi;i}(\mathrm{jl\&Delta;x\&Delta;}{f}_x+\mathrm{km\&Delta;y\&Delta;}{f}_y)]$ 式(2) 

$\mathrm{\&Delta;}{f}_x\&equiv;\frac{1}{(M+1)\mathrm{\&Delta;x}}$ 式(3) 

${\mathrm{\&Delta;f}}_y\&equiv;\frac{1}{(N+1)\mathrm{\&Delta;y}}$ 式(4) 

图3为用二元的离散函数h(x，y)表示本发明的防眩膜的微细凹凸表面的标高的图。图3中标高用白和黑的层次表示。图3所示的离散函数h(x，y)具有512×512个值，水平分辨能力Δx和Δy为1.66μm。 

此外，图4为用白和黑的层次表示将图3所示的二元函数h(x，y)进行离散傅立叶变换而得到的能谱H²(f_x，f_y)的图。图4所示的能谱H²(f_x，f_y)也是具有512×512个值的离散函数，水平分辨能力Δf_x和Δf_y为0.0012μm^-1。 

如图3所示，本发明的防眩膜的微细凹凸表面的凹凸无规地形成，因此图4的能谱以原点为中心而对称。因此，空间频率0.01μm^-1处的能谱H₁ ²与空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²，可以由通过作为二元函数的能谱H²(f_x，f_y)的原点的截面而求得。图5示出图4所示的能谱H²(f_x，f_y)的f_x＝0的截面。由此可知空间频率0.01μm^-1处的能谱H₁ ²为4.8，空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²为0.35，比H₁ ²/H₂ ²为14。 

如上所述，本发明的防眩膜，其特征在于，上述微细凹凸表面的标高的空间频率0.01μm^-1处的能谱H₁ ²与空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²之比H₁ ²/H₂ ²为3～15。能谱之比H₁ ²/H₂ ²小于3，表示防眩膜的微细凹凸表面所含的100μm以上的长周期的凹凸形状少，小于25μm的短周期的凹凸形状多。在这种情况下，不能有效地防止外部光的映入，无法得到足够的防眩性能。此外，与其相对，能谱之比H₁ ²/H₂ ²大于15，表示微细凹凸表面所含的100μm以上的长周期的凹凸形状多，小于25μm的短周期的凹凸形状少。在这种情况下，将防眩膜配置在高清晰的图像显示装置时，有产生晃眼的倾向。此外，微细凹凸表面所含的小于10μm的短周期成分，对防眩性无效果，使入射到微细凹凸表面的光散射而成为泛白的原因，因此优选该短周期成分少。具体地，如果将空间频率0.1μm^-1处的能谱记为H₃ ²，则能谱之比H₃ ²/H₂ ²优选为0.1以下，更优选为0.01以下。对于图5所示的能谱，空间频率0.1μm^-1处的能谱H₃ ²为0.00076。由其可知比H₃ ²/H₂ ²为0.0022。 

本发明人等还发现，在防眩膜中，如果使微细凹凸表面表示特定的倾斜角度分布，在显示优异的防眩性能并有效地防止泛白方面更为有效。即，本发明的防眩膜，优选微细凹凸表面的倾斜角度为5°以下的面的比例为95％以上。如果微细凹凸表面的倾斜角度为5°以下的面的比例小于95％，则凹凸表面的倾斜角度变得急陡，将来自周围的光集光，容易产生显示面全体变白的泛白。为了抑制这样的集光效果，防止泛白，微细凹凸表面的倾斜角度为5°以下的面的比例越高越好，优选为97％以上，更优选为99％以上。 

在这里，本发明所说的“微细凹凸表面的倾斜角度”，意味着图1所示的防眩膜1表面的任意点P处，在此处的增加了凹凸的局部法线6相对于膜的主法线方向5所成的角度ψ。对于微细凹凸表面的倾斜角度，也与标高一样，可由采用共焦显微镜、干涉显微镜、原子间力显微镜(AFM)等装置测定的表面形状的三维信息求出。 

在这里，图6为用于说明微细凹凸表面的倾斜角度的测定方法的示意图。对具体的倾斜角度的确定方法进行说明时，如图6所示，确定点线表示的假想的平面FGHI上的着眼点A，在通过其的x轴上的着眼点A的附 近取相对于点A大致对称的点B和D，而且在通过点A的y轴上的着眼点A的附近取相对于点A大致对称的点C和E，确定与这些点B、C、D、E对应的膜面上的点Q、R、S、T。再有，图6中，用(x，y)表示膜面内的正交坐标，用z表示膜厚度方向的坐标。平面FGHI是由通过y轴上的点C的与x轴平行的直线和同样通过y轴上的点E的与x轴平行的直线、通过x轴上的点B的与y轴平行的直线和同样通过x轴上的点D的与y轴平行的直线的各个交点F、G、H、I形成的面。此外，图6中，相对于平面FGHI，以实际的膜面的位置在上方的方式进行绘制，但因着眼点A的所取位置的不同而不同，当然有时实际的膜面的位置在平面FGHI的上方，也有时在下方。 

于是，得到的表面形状数据的倾斜角度可如下求得：将对应于着眼点A的实际的膜面上的点P、与在其附近所取的4点B、C、D、E对应的实际的膜面上的点Q、R、S、T的合计5点形成的多边4平面，即4个三角形PQR、PRS、PST、PTQ的各法线矢量6a、6b、6c、6d平均，求出得到的平均法线矢量6的极角，由此可以得到。对于各测定点求取倾斜角度后，计算柱状图。 

图7为表示防眩膜的微细凹凸表面的倾斜角度分布的柱状图的一例的图。图7所示的图中，横轴为倾斜角度，以0.5°的刻度分割。例如，最左边的纵柱表示倾斜角度在0～0.5°的范围的集合的分布，以下随着向右，角度每次增大0.5°。图中，横轴的每2个刻度表示值的下限值，例如，横轴中“1”的部分表示倾斜角度在1～1.5°的范围的集合的分布。此外，纵轴表示倾斜角度的分布，是合计为1的值。在该例中，倾斜角度为5°以下的面的比例大致为100％。 

本发明的防眩膜，从配置在图像显示装置的表面时能有效地显现高对比度的观点出发，优选防眩层中不含0.4μm以上的微粒。现有的防眩膜采用如下方法等制造：通过将分散有微粒的树脂溶液涂布于基材片材上，调节涂布膜厚，使微粒在涂布膜表面露出，从而在片材上形成无规的凹凸。这样的通过使微粒分散而制造的防眩膜，为了消除晃眼，常常在粘结剂树脂和微粒之间设置折射率差，使光散射。将这样的防眩膜配置于图像显示装置的表面时，由于微粒和粘结剂树脂界面的光的散射，对比度降低。在 本发明的防眩膜中，由于适当地设计微细凹凸表面的频率分布，因此不必使光散射而消除晃眼。因此，优选不含成为对比度降低的原因的0.4μm以上的微粒。 

<防眩膜的制造方法> 

本发明的防眩膜，为了高精度地形成具有上述频率分布的微细凹凸表面，优选使用在能谱大于0μm^-1且小于等于0.04μm^-1中不具有最大值的图形来制作。其中，所谓“图形”，意味着用于形成本发明的防眩膜的微细凹凸表面的图像数据、具有透光部和遮光部的掩模等。 

图形的能谱，例如如果为图像数据，则在将图像数据转换为256灰度等级的灰色标度后，用二元函数g(x，y)表示图像数据的灰度等级，将得到的二元函数g(x，y)进行傅立叶变换而计算二元函数G(f_x，f_y)，将得到的二元函数G(f_x，f_y)平方而求得。此外，如果是具有透光部和遮光部的掩模，则用二元函数t(x，y)表示透射率，将得到的二元函数t(x，y)进行傅立叶变换而计算二元函数T(f_x，f_y)，将得到的二元函数T(f_x，f_y)平方而求得。其中，x和y表示图像数据面内或掩模面内的正交坐标，f_x和f_y表示x方向的频率和y方向的频率。 

与求取微细凹凸表面的标高的能谱的情形一样，对于求取图形的能谱的情形，一般是灰度等级的二元函数g(x，y)、透射率的二元函数t(x，y)作为离散函数而得到的情形。在这种情况下，与求取微细凹凸表面的标高的能谱的情形一样，通过离散傅立叶变换计算能谱即可。 

图8为用灰度等级的二元离散函数g(x，y)表示作为用于制作本发明的防眩膜的图形(后述的实施例1的模具制作时使用的图形)的图像数据的一部分的图。图8所示的二元离散函数g(x，y)具有512×512个值，水平分辨能力Δx和Δy为2μm。此外，作为图8所示的图形的图像数据为2mm×2mm的大小，以12800dpi制作。 

图9为用白和黑的层次表示将图8所示的灰度等级的二元离散函数g(x，y)进行离散傅立叶变换而得到的能谱G²(f_x，f_y)的图。图8所示的离散函数G²(f_x，f_y)也具有512×512个值，水平分辨能力Δf_x和Δf_y为0.0010μm^-1。如图8所示为了制造本发明的防眩膜而制作的图形是无规的，因此图9的能谱成为以原点为中心而对称。因此，图形的能谱的最大值可 以由通过能谱的原点的截面求得。图10为表示图9所示的能谱G²(f_x，f_y)的f_x＝0的截面的图。由此可知，图8所示的图形在空间频率0.045μm^-1处具有最大值，但在大于0μm^-1且小于等于0.04μm^-1中不具有最大值。 

在用于制作防眩膜的图形的能谱在大于0μm^-1且小于等于0.04μm^-1中具有最大值的情况下，结果得到的防眩膜的微细凹凸表面的频率分布不满足本发明的技术特征，因此不能兼备晃眼的消除和足够的防眩性。 

为了制作能谱在大于0μm^-1且小于等于0.04μm^-1中不具有最大值的图形，无规且均匀地配置小于20μm的点径即可。无规配置的点径可以是1种，也可以是多种。 

具有使用了上述图形的微细凹凸表面的防眩膜，可以采用印刷法、图形曝光法、压花法等制造。例如，对于印刷法，可以通过使用了光固化性树脂或热固化性树脂的苯胺印刷、丝网印刷、喷墨印刷等，在透明支承体上印刷上述图形而制作后，进行干燥，或者通过活性光线或加热使其固化，从而制造本发明的防眩膜。 

例如，在苯胺印刷中，制作基于上述图形的凸版即柔性版，在柔性版的凸部涂布光固化性树脂，将涂布的光固化性树脂转印到透明支承体上后，通过活性光线进行固化，从而可以在透明支承体上形成基于上述图形的微细凹凸。如果是丝网印刷，可以制作基于上述图形的孔版即丝网，使用该丝网和光固化性树脂，在透明支承体上印刷上述图形后，利用活性光线将光固化性树脂固化，从而可以在透明支承体上形成微细凹凸。如果是喷墨印刷，直接使用光固化性树脂在透明支承体上印刷上述图形，然后利用活性光线将光固化性树脂固化，从而可以在透明支承体上形成微细凹凸。采用这样的印刷法形成的微细凹凸一般倾斜角度急陡，存在在透明支承体上没有形成树脂层的部位，因此优选在采用印刷法形成的微细凹凸上进一步涂布光固化性树脂，使倾斜角度平滑，同时在透明支承体上全面形成树脂层。 

对于图形曝光法，在透明支承体上涂布了光固化性树脂后，通过使用了上述图形的利用激光进行的直描曝光、介由具有上述图形的掩模的全面曝光，进行图形曝光，根据需要显影后，通过活性光线或加热使其固化，从而可以制造本发明的防眩膜。对于利用激光进行的直描曝光，在透明支 承体上涂布光固化性树脂后，利用激光光将上述图形直描曝光，通过显影使曝光的部位残存或溶解，进而对残存的光固化性树脂照射活性光线而使其完全固化，由此可以在透明支承体上形成基于上述图形的微细凹凸。通过这样的利用激光进行的直描曝光形成的微细凹凸，一般倾斜角度急陡，因此优选在通过利用激光进行的直描曝光形成的微细凹凸上进一步涂布光固化性树脂，使倾斜角度平滑。在介由掩模的全面曝光中，制作具有上述图形的掩模，在透明支承体上涂布光固化性树脂后，介由该掩模将光固化性树脂曝光，在显影工序中使曝光的部位残存或溶解，进而对残存的光固化性树脂照射活性光线而使其完全固化，从而可以在透明支承体上形成基于上述图形的微细凹凸。在介由掩模的全面曝光中，也可以通过适当控制接近间隙来控制微细凹凸的倾斜角度，也可以通过将掩模制作成灰度等级掩模来控制曝光的程度，从而控制微细凹凸的倾斜角度。 

对于压花法，使用上述的图形制造具有微细凹凸表面的模具，将制造的模具的凹凸面转印到透明支承体上，其次从模具剥离转印了凹凸面的透明支承体，从而制造本发明的防眩膜。在这里，从高精度并且再现性良好地制造微细凹凸表面的观点出发，本发明的防眩膜优选采用压花法制造。 

在这里，作为压花法，可以例示使用光固化性树脂的UV压花法、使用热塑性树脂的热压花法，其中，从生产率的观点出发，优选UV压花法。 

UV压花法是通过在透明支承体的表面形成光固化性树脂层，边将该光固化性树脂层压到模具的凹凸面边使其固化，从而将模具的凹凸面转印到光固化性树脂层的方法。具体地，将紫外线固化型树脂涂布到透明支承体上，在使涂布的紫外线固化型树脂与模具的凹凸面密合的状态下从透明支承体侧照射紫外线，使紫外线固化型树脂固化，然后从模具剥离形成了固化后的紫外线固化型树脂层的透明支承体，从而将模具的形状转印于紫外线固化型树脂。 

使用UV压花法时，作为透明支承体，只要是基本上光学上透明的膜即可，可以列举例如三乙酰纤维素膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚碳酸酯膜、以降冰片烯系化合物为单体的非晶性环状聚烯烃等热塑性树脂的溶剂流延膜、挤出膜等树脂膜。 

此外，对使用UV压花法时的紫外线固化型树脂的种类并无特别限定， 可以使用市售的适宜产品。此外，也可以使用在紫外线固化型树脂中组合适当选择的光引发剂、即使是波长比紫外线长的可见光也可固化的树脂。具体地，可以分别单独使用三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯，或将它们的2种以上混合使用，优选使用将它们与Irgacure 907(汽巴特种化学品公司制)、Irgacure 184(汽巴特种化学品公司制)、Lucirin TPO(BASF公司制)等光聚合引发剂混合的产物。 

另一方面，热压花法是在加热状态下将由热塑性树脂形成的透明支承体压于模具，将模具的表面形状转印于透明支承体的方法。作为热压花法中使用的透明支承体，只要是基本上透明的支承体，可以是任何支承体，可以使用例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、三乙酰纤维素、以降冰片烯系化合物为单体的非晶性环状聚烯烃等热塑性树脂的溶剂流延膜、挤出膜等。这些透明树脂膜也适合用作上述说明的UV压花法中用于涂布紫外线固化型树脂的透明支承体。 

<防眩膜制作用的模具的制造方法> 

以下对本发明的防眩膜的制造中使用的模具的制造方法进行说明。对于本发明的防眩膜的制造中使用的模具的制造方法，只要是能得到使用了上述图形的规定的表面形状的方法，并无特别限制，但为了高精度且再现性良好地制造微细凹凸表面，优选基本上包含[1]第1镀敷工序、[2]研磨工序、[3]感光性树脂膜涂布工序、[4]曝光工序、[5]显影工序、[6]第1蚀刻工序、[7]感光性树脂膜剥离工序和[8]第2镀敷工序。图11为示意地表示模具的制造方法的前半部分的优选一例的图。图11中示意地表示各工序中模具的截面。边参照图11边对本模具的制造方法的各工序进行详细说明。 

[1]第1镀敷工序 

在本模具的制造方法中，首先，对用于模具的基材的表面实施镀铜或镀镍。这样，通过对模具用基材的表面实施镀铜或镀镍，能够改善后面的第2镀敷工序中镀铬的密合性、光泽性。即，作为背景技术，如上所述，在对铁等的表面实施镀铬时，或者采用喷砂法、喷珠粒法等在镀铬表面形成凹凸后再次实施镀铬时，表面容易粗糙，产生细小的裂纹，模具的表面的凹凸形状变得难以控制。对此，首先，通过对基材表面实施镀铜或镀镍， 能够消除这样的不利情况。这是因为，镀铜或镀镍的被覆性高，而且平滑化作用强，因此将模具用基材的微小的凹凸、空洞(cavity)等添埋而形成平坦且具有光泽的表面。由于这些镀铜或镀镍的特性，即使在后述的第2镀敷工序中实施镀铬，认为起因于基材上存在的微小凹凸、空穴的镀铬表面的粗糙得以消除，而且由于镀铜或镀镍的高被覆性，因此使细小的裂纹的产生减少。 

作为第1镀敷工序中使用的铜或镍，除了可以是各自的纯金属外，也可以是以铜为主体的合金或者以镍为主体的合金，因此，本说明书中所说的“铜”是包括铜和铜合金的含义，而“镍”是包括镍和镍合金的含义。镀铜和镀镍可以分别用电解镀进行，也可以用非电解镀进行，但通常采用电解镀。 

实施镀铜或镀镍时，如果镀层太薄，不能彻底排除基底表面的影响，因此其厚度优选为50μm以上。镀层厚度的上限不是临界值，从与成本的关系出发，一般至多500μm左右则足够。 

再有，本模具的制造方法中，作为基材的形成中适合使用的金属材料，从成本的观点出发，可以列举铝、铁等。此外，从处理的便利性出发，更优选轻质的铝。其中所说的铝、铁，除了可以各自是纯金属外，也可以是以铝或铁为主体的合金。 

此外，就基材的形状而言，只要是本领域中以往采用的适当的形状，则并无特别限制，可以是平板状，也可以是圆柱状或圆筒状的卷材。如果使用卷状的基材制作模具，具有能够以连续的卷状制造防眩膜的优点。 

[2]研磨工序 

在接下来的研磨工序中，对在上述第1镀敷工序中实施了镀铜或镀镍的基材表面进行研磨。本模具的制造方法中，优选经过该工序将基材表面研磨到接近镜面的状态。这是因为，为了达到所需的精度，大多数情况下是对成为基材的金属板、金属卷实施切削、磨削等机械加工，由此在基材表面残留加工孔眼，在实施了镀铜或镀镍的状态下，有时也残留这些加工孔眼，而且在镀敷完的状态下并不一定表面变得完全平滑。即，即使对残留有这样深的加工孔眼等的表面实施了后述的工序，有时加工孔眼等的凹凸比实施了各工序后形成的凹凸还深，有可能残留加工孔眼等的影响，使 用这样的模具制造防眩膜时，有时对光学特性产生不能预期的影响。图11(a)示意地表示平板状的模具用基材7具有在第1镀敷工序中对其表面实施镀铜或镀镍(对该工序中形成的镀铜或镀镍的层没有图示)、进而通过研磨工序进行了镜面研磨的表面8的状态。 

对于对实施了镀铜或镀镍的基材表面进行研磨的方法，并无特别限制，可以使用机械研磨法、电解研磨法、化学研磨法的任何方法。作为机械研磨法，可以例示超精加工法、研磨法、流体研磨法、抛光(buff)研磨法等。研磨后的表面粗糙度，优选按照JIS B 0601的规定的中心线平均粗糙度Ra为0.1μm以下，更优选为0.05μm以下。如果研磨后的中心线平均粗糙度Ra大于0.1μm，有可能对最终的模具表面的凹凸形状残留研磨后的表面粗糙度的影响。此外，对于中心线平均粗糙度Ra的下限并无特别限制，从加工时间、加工成本的观点出发，自然存在限度，无特别指定的必要性。 

[3]感光性树脂膜涂布工序 

在接下来的感光性树脂膜涂布工序中，将感光性树脂溶解于溶剂得到的溶液涂布到通过上述研磨工序实施了镜面研磨的基材7的表面8，进行加热、干燥，从而形成感光性树脂膜。图11(b)示意地表示在基材7的表面8形成了感光性树脂膜9的状态。 

作为感光性树脂，可以使用以往公知的感光性树脂。例如，作为具有感光部分固化的性质的负型的感光性树脂，可以使用分子中具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的丙烯酸酯的单体、预聚物，双叠氮化物(bisazide)和二烯橡胶的混合物，聚肉桂酸乙烯酯系化合物等。此外，作为具有通过显影使感光部分洗脱、只残留未感光部分的性质的正型的感光性树脂，可以使用酚醛树脂系、酚醛清漆树脂系等。此外，感光性树脂中根据需要可以配合增感剂、显影促进剂、密合性改进剂、涂布性改进剂等各种添加剂。 

将这些感光性树脂涂布于基材7的表面8时，为了形成良好的涂膜，优选在适当的溶剂中稀释而涂布，可以使用溶纤剂系溶剂、丙二醇系溶剂、酯系溶剂、醇系溶剂、酮系溶剂、高极性溶剂等。 

作为涂布感光性树脂溶液的方法，可以使用凸液涂布(meniscus coat)、喷泉式涂布、浸涂、旋转涂布、辊式涂布、绕线棒涂布、气刀涂布、刮刀 涂布、帘式涂布等公知的方法。涂布膜的厚度优选在干燥后为1～6μm的范围。 

[4]曝光工序 

在接下来的曝光工序中，将上述能谱在大于0μm^-1且小于等于0.04μm^-1中不具有最大值的图形在上述感光性树脂膜涂布工序中形成的感光性树脂膜9上曝光。曝光工序中使用的光源可以按照涂布的感光性树脂的感光波长、感度等适当选择，可以使用例如高压水银灯的g线(波长：436nm)、高压水银灯的h线(波长：405nm)、高压水银灯的i线(波长：365nm)、半导体激光(波长：830nm、532nm、488nm、405nm等)、YAG激光(波长：1064nm)、KrF准分子激光(波长：248nm)、ArF准分子激光(波长：193nm)、F2准分子激光(波长：157nm)等。 

本模具的制造方法中为了高精度地形成表面凹凸形状，优选在曝光工序中在精密控制的状态下将上述图形在感光性树脂膜上曝光。本发明的模具的制造方法中，为了高精度地将上述图形在感光性树脂膜上曝光，优选在计算机上将图形作成图像数据，利用从计算机控制的激光头发出的激光光描画基于该图像数据的图形。进行激光描画时，可使用印刷版制作用的激光描画装置。作为这样的激光描画装置，可以举出例如Laser Stream FX((株)Think Laboratory制)等。 

图11(c)示意地表示将图形曝光于感光性树脂膜9的状态。用负型的感光性树脂形成感光性树脂膜时，曝光的区域10通过曝光进行树脂的交联反应，相对于后述的显影液的溶解性下降。因此，显影工序中没有曝光的区域11被显影液溶解，只有曝光的区域10残留在基材表面上而成为掩模。另一方面，用正型的感光性树脂形成感光性树脂膜时，曝光的区域10通过曝光，将树脂的结合切断，相对于后述的显影液的溶解性增加。由此，显影工序中曝光的区域10被显影液溶解，只有未曝光的区域11残留在基材表面上而成为掩模。 

[5]显影工序 

在接下来的显影工序中，将负型的感光性树脂用于感光性树脂膜9时，未曝光的区域11被显影液溶解，只有已曝光的区域10残存在模具用基材上，在接下来的第1蚀刻工序中作为掩模发挥作用。另一方面，将正型的 感光性树脂用于感光性树脂膜9时，只有已曝光的区域10被显影液溶解，未曝光的区域11残存在模具用基材上，作为接下来的第1蚀刻工序中的掩模发挥作用。 

对于显影工序中使用的显影液，可以使用以往公知的显影液。可以列举例如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、正硅酸钠、氨水等无机碱类，乙胺、正丙胺等伯胺类，二乙胺、二正丁胺等仲胺类，三乙胺、甲基二乙基胺等叔胺类，二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类，四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、三甲基羟乙基氢氧化铵等季铵盐，吡咯、哌啶等环状胺类等碱性水溶液，二甲苯、甲苯等有机溶剂等。 

对于显影工序中的显影方法并无特别限制，可以使用浸渍显影、喷射显影、刷涂显影、超声波显影等方法。 

图11(d)示意地表示将负型的感光性树脂用于感光性树脂膜9进行了显影处理的状态。图11(c)中未曝光的区域11被显影液溶解，只有已曝光的区域10残留在基材表面上而成为掩模12。图11(e)示意地表示将正型的感光性树脂用于感光性树脂膜9进行了显影处理的状态。图11(c)中曝光的区域10被显影液溶解，只有未曝光的区域11残留在基材表面上而成为掩模12。 

[6]第1蚀刻工序 

在接下来的第1蚀刻工序中，使用上述显影工序后在模具用基材表面上残存的感光性树脂膜作为掩模，主要将无掩模的部位的模具用基材蚀刻。图12为示意地表示本模具的制造方法的后半部分的优选一例的图。图12(a)示意地表示通过第1蚀刻工序主要将无掩模的部位13的模具用基材7蚀刻的状态。掩模12的下部的模具用基材7没有从模具用基材表面被蚀刻，但随着蚀刻的进行，进行从无掩模的区域13的蚀刻。因此，在掩模12和无掩模的区域13的边界附近，掩模12的下部的模具用基材7也被蚀刻。在这样的掩模12和无掩模的区域13的边界附近，掩模12的下部的模具用基材7也被蚀刻，以下将此称为侧向蚀刻。图13中示意地示出侧向蚀刻的进行。图13的点线14阶段性地表示随蚀刻的进行而变化的模具用基材的表面。 

第1蚀刻工序中的蚀刻处理，通常通过使用氯化铁(FeCl₃)液、氯化铜(CuCl₂)液、碱蚀刻液(Cu(NH₃)₄Cl₂)等，将金属表面腐蚀而进行，但也可以使用盐酸、硫酸等强酸，也可以使用通过施加与电解镀时相反的电位的反电解蚀刻。在实施了蚀刻处理时的模具用基材上形成的凹形状，因基底金属的种类、感光性树脂膜的种类和蚀刻手法等而异，因此不能一概而论，蚀刻量为10μm以下时，从与蚀刻液接触的金属表面大致各向同性地被蚀刻。这里所说的蚀刻量，是由蚀刻削减的基材的厚度。 

 第1蚀刻工序中的蚀刻量优选为1～50μm。蚀刻量小于1μm时，金属表面几乎无法形成凹凸形状，成为大致平坦的模具，因此不显示防眩性。此外，蚀刻量超过50μm时，金属表面形成的凹凸形状的高低差增大，使用得到的模具制作的防眩膜泛白，因此不优选。第1蚀刻工序中的蚀刻处理可以采用1次的蚀刻处理来进行，也可以分2次以上来进行蚀刻处理。在这里，分2次以上进行蚀刻处理时，2次以上的蚀刻处理中的蚀刻量的合计优选为1～50μm。 

[7]感光性树脂膜剥离工序 

在接下来的感光性树脂膜剥离工序中，将第1蚀刻工序中作为掩模使用的残存的感光性树脂膜完全溶解除去。在感光性树脂膜剥离工序中使用剥离液将感光性树脂膜溶解。作为剥离液，可以使用与上述的显影液同样的液体，通过改变pH、温度、浓度和浸渍时间等，将使用了负型的感光性树脂膜时的曝光部的感光性树脂膜、使用了正型的感光性树脂膜时的非曝光部的感光性树脂膜完全溶解除去。对于感光性树脂膜剥离工序中的剥离方法，也无特别限制，可以使用浸渍显影、喷射显影、刷涂显影、超声波显影等方法。 

图12(b)示意地表示通过感光性树脂膜剥离工序将第1蚀刻工序中作为掩模使用的感光性树脂膜完全溶解除去的状态。通过感光性树脂膜形成的掩模12和蚀刻，在模具用基材表面形成第1表面凹凸形状15。 

[8]第2镀敷工序 

接着，通过实施镀铬，使表面的凹凸形状钝化。图12(c)中示出在如上所述通过第1蚀刻工序的蚀刻处理形成的表面凹凸形状上形成铬镀层16，使表面17钝化的状态。 

本模具的制造方法中，在平板、卷材等的表面采用有光泽、硬度高、 摩擦系数小、能赋予良好的脱模性的镀铬。镀铬的种类并无特别限制，优选使用称为所谓光泽镀铬、装饰用镀铬等的显现良好光泽的镀铬。通常通过电解进行镀铬，作为其镀浴，使用含有铬酸酐(CrO₃)和少量硫酸的水溶液。可以通过调节电流密度和电解时间来控制镀铬的厚度。 

上述的特开2002-189106号公报、特开2004-45472号公报、特开2004-90187号公报等中公开了采用镀铬，但因模具的镀敷前的基底和镀铬的种类，常常在镀敷后表面粗糙，或产生大量由镀铬引起的微小的裂纹，其结果，制作的防眩膜的光学特性向不优选的方向发展。镀敷表面粗糙的状态的模具，不适合用于制造防眩膜。原因在于，一般为了消除不光滑，在镀铬后对镀敷表面进行研磨，如后所述，本发明中不优选镀敷后的表面的研磨。本模具的制造方法中，通过对基底金属实施镀铜或镀镍，将容易因镀铬产生的这样的不利情况消除。 

再有，在第2镀敷工序中，不优选实施镀铬以外的镀敷。原因在于，对于铬以外的镀敷，硬度、耐磨损性降低，因此作为模具的耐久性降低，使用中凹凸磨损，或者模具损伤。由这样的模具得到的防眩膜，难以获得足够的防眩功能的可能性高，此外，在膜上产生缺陷的可能性也升高。 

此外，如上述的特开2004-90187号公报等中公开的那样研磨镀敷后的表面，对于本模具的制造方法也不优选。其基于以下等理由：通过研磨，最外表面产生平坦的部分，因此有可能导致光学特性的恶化，而且形状的控制因素增加，因此再现性好的形状控制变得困难。 

这样，对于本模具的制造方法，优选实施镀铬后，不研磨表面而将镀铬面直接地用作模具的凹凸面。原因在于，通过对形成了微细表面凹凸形状的表面实施镀铬，使凹凸形状钝化，同时获得其表面硬度提高的模具。此时的凹凸的钝化情况，因基底金属的种类、由第1蚀刻工序得到的凹凸的尺寸和深度、以及镀敷的种类、厚度等而异，因此不能一概而论，在控制钝化情况方面最大的因素仍是镀敷厚度。如果镀铬的厚度薄，使镀铬加工前得到的凹凸的表面形状钝化的效果不足，将其凹凸形状转印到透明膜而得到的防眩膜的光学特性不会太好。另一方面，如果镀敷厚度过厚，则生产率变差，此外，产生称为结状物的突起状的镀敷缺陷，因此不优选。因此，镀铬的厚度优选为1～10μm的范围内，更优选为3～6μm的范围内。 

该第2镀敷工序中形成的铬镀层，优选以维氏硬度达到800以上的方式形成，更优选以达到1000以上的方式形成。铬镀层的维氏硬度小于800时，模具使用时的耐久性降低，而且因镀铬而使硬度降低，这是因为镀敷处理时镀浴组成、电解条件等产生异常的可能性高，对缺陷的发生状况也造成不优选的影响的可能性高。 

此外，用于制作本发明的防眩膜的模具的制造方法中，优选上述[7]感光性树脂膜剥离工序和[8]第2镀敷工序之间包含通过蚀刻处理使由第1蚀刻工序形成的凹凸面钝化的第2蚀刻工序。第2蚀刻工序中，通过蚀刻处理使由将感光性树脂膜用作掩模的第1蚀刻工序形成的第1表面凹凸形状15钝化。通过该第2蚀刻处理，由第1蚀刻处理形成的第1表面凹凸形状15中的表面倾斜急陡的部分消失，使用得到的模具制造的防眩膜的光学特性向优选的方向变化。图14中示出了通过第2蚀刻工序，基材7的第1表面凹凸形状15钝化，使表面倾斜急陡的部分钝化，形成具有缓和的表面倾斜的第2表面凹凸形状18的状态。 

第2蚀刻工序的蚀刻处理也与第1蚀刻工序一样，通常通过使用氯化铁(FeCl₃)液、氯化铜(CuCl₂)液、碱蚀刻液(Cu(NH₃)₄Cl₂)等，将表面腐蚀而进行，但也可以使用盐酸、硫酸等强酸，也可以使用通过施加与电解镀时相反的电位的反电解蚀刻。实施了蚀刻处理后的凹凸的钝化情况，因基底金属的种类、蚀刻手法和由第1蚀刻工序得到的凹凸的尺寸和深度等而异，因此不能一概而论，控制钝化情况方面最大的因素是蚀刻量。这里所说的蚀刻量，也与第1蚀刻工序一样是被蚀刻削减的基材的厚度。如果蚀刻量小，使由第1蚀刻工序得到的凹凸的表面形状钝化的效果不足，将其凹凸形状转印到透明膜而得到的防眩膜的光学特性不会太好。另一方面，如果蚀刻量过大，几乎不会成为凹凸形状，成为大致平坦的模具，因此无法显示防眩性。因此，蚀刻量优选为1～50μm的范围内，更优选为4～20μm的范围内。对于第2蚀刻工序中的蚀刻处理，也与第1蚀刻工序一样，可以采用1次的蚀刻处理来进行，也可以分2次以上来进行蚀刻处理。在这里，分2次以上进行蚀刻处理时，2次以上的蚀刻处理中的蚀刻量的合计优选为1～50μm。 

以下举出实施例对本发明进一步详细说明，但本发明并不限于这些实 施例。例中，表示含量乃至使用量的％和份如无特别说明则为重量基准。此外，以下的例中模具或防眩膜的评价方法如下所述。 

[1]防眩膜的表面形状的测定 

使用三维显微镜PLμ2300(Sensofar公司制)，测定防眩膜的表面形状。为了防止样品的翘曲，使用光学上透明的胶粘剂贴合到玻璃基板上以使凹凸面成为表面后，供于测定。测定时，物镜的倍率为10倍进行测定。水平分辨能力Δx和Δy均为1.66μm，测定面积为850μm×850μm。 

(能谱之比H₁ ²/H₂ ²和H₃ ²/H₂ ²) 

由以上得到的测定数据，将防眩膜的微细凹凸表面的标高作为二元函数h(x，y)求出，将得到的二元函数h(x，y)进行离散傅立叶变换求出二元函数H(f_x，f_y)。将二元函数H(f_x，f_y)平方，计算能谱的二元函数H²(f_x，f_y)，由f_x＝0的截面曲线即H²(0，f_y)求出空间频率0.01μm^-1处的能谱H₁ ²与空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²，计算能谱之比H₁ ²/H₂ ²。此外，求出空间频率0.1μm^-1处的能谱H₃ ²，对能谱之比H₃ ²/H₂ ²进行计算。 

(微细凹凸表面的倾斜角度) 

以上述得到的测定数据为基础，基于上述的算法进行计算，制作凹凸面的倾斜角度的柱状图，由其求出每个倾斜角度的分布，计算倾斜角度为5°以下的面的比例。 

[2]防眩膜的光学特性的测定 

(浊度) 

防眩膜的浊度采用JIS K 7136中规定的方法进行测定。具体地，使用按照该规格的浊度计HM-150型(村上色彩技术研究所制)测定浊度。为了防止防眩膜的翘曲，使用光学上透明的胶粘剂贴合到玻璃基板上以使凹凸面成为表面后，供于测定。一般地浊度越大，应用于图像显示装置时图像越暗，其结果，正面对比度容易降低。因此，优选浊度低。 

[3]防眩膜的防眩性能的评价 

(映入、泛白的目视评价) 

为了防止来自防眩膜的背面的反射，将防眩膜贴合于黑色丙烯酸树脂板以使凹凸面成为表面，在带有荧光灯的明亮的室内从凹凸面侧目视观察，目视评价有无荧光灯的映入、泛白的程度。映入、泛白和质感分别用 1到3的3等级按以下基准进行评价。 

映入1：没有观察到映入。 

2：观察到少量映入。 

3：清楚地观察到映入。 

泛白1：没有观察到泛白。 

2：观察到少量泛白。 

3：清楚地观察到泛白。 

(晃眼的评价) 

采用以下的方法评价晃眼。即，从市售的液晶电视(LC-32GH3(夏普(株)制)剥离表背两面的偏振板。代替这些原始偏振板，背面侧和显示面侧均通过胶粘剂贴合偏振板SUMIKARAN SRDB31E(住友化学(株)制)以使各自的吸收轴与原始的偏振板的吸收轴一致，进而在显示面侧偏振板上通过胶粘剂贴合以下的各例中所示的防眩膜以使凹凸面成为表面。在该状态下，从距离样品约30cm的位置进行目视观察，由此用7等级对晃眼的程度进行官能评价。水平1是完全没有发现晃眼的状态，水平7相当于观察时严重晃眼的状态，水平3是相当少地观察到晃眼的状态。 

[4]防眩膜制造用的图形的评价 

使制作的图形数据为256灰度等级的灰色标度的图像数据，用二元的离散函数g(x，y)表示灰度等级。离散函数g(x，y)的水平分辨能力Δx和Δy均为2μm。将得到的二元函数g(x，y)进行离散傅立叶变换，求出二元函数G(f_x，f_y)。将二元函数G(f_x，f_y)平方，计算能谱的二元函数G²(f_x，f_y)，由f_x＝0的截面曲线G²(0，f_y)，求出空间频率大于0μm^-1并且绝对值最小的空间频率下的最大值。 

<实施例1> 

准备其表面实施了铜巴拉德镀敷(銅バラ一ドめつき)的直径200mm的铝卷(根据JIS的A5056)。铜巴拉德镀层由铜镀层/薄银镀层/表面铜镀层组成，镀层整体的厚度设定为约200μm。对其镀铜表面进行镜面研磨，在经研磨的镀铜表面涂布感光性树脂，进行干燥而形成感光性树脂膜。接着，用激光光将图8所示的图形反复并列而成的图形曝光于感光性树脂膜上，进行显影。采用激光光的曝光、和显影，使用Laser Stream FX((株) Think Laboratory制)进行。将正型的感光性树脂用于感光性树脂膜。 

然后，用氯化铜液进行第1蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为7μm。从第1蚀刻处理后的卷材除去感光性树脂膜，再次用氯化铜液进行第2蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为18μm。然后，进行镀铬加工，制作模具A。此时，镀铬厚度设定为4μm。 

用醋酸乙酯溶解光固化性树脂组合物GRANDIC 806T(大日本油墨化学工业(株)制)，成为50重量％浓度的溶液，进而相对于100重量份固化性树脂成分添加5重量份光聚合引发剂Lucirin TPO(BASF公司制，化学名：2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基膦化氧)，调制涂布液。将该涂布液涂布到厚度80μm的三乙酰纤维素(TAC)膜上，使干燥后的涂布厚度为10μm，在设定为60℃的干燥机中干燥3分钟。用橡胶辊将干燥后的膜压到先前得到的模具A的凹凸面以使光固化性树脂组合物层成为模具侧而使它们密合。在该状态下从TAC膜侧照射强度20mW/cm²的来自高压水银灯的光以使以h线换算光量计达到200mJ/cm²，使光固化性树脂组合物层固化。然后，从模具与固化树脂一起剥离TAC膜，制作由表面具有凹凸的固化树脂和TAC膜的层合体构成的透明的防眩膜A。 

<实施例2> 

除了使用图15所示的图形作为利用激光进行曝光的图形以外，与实施例1同样地得到模具B。作为图15所示图形的图像数据为1mm×1mm的大小，以6400dpi制作。除了使用得到的模具B以外，与实施例1同样地制作防眩膜B。 

<比较例1> 

除了使用图16所示的图形作为利用激光进行曝光的图形以外，与实施例1同样地得到模具C。作为图16所示图形的图像数据为2mm×2mm的大小，以12800dpi制作。除了使用得到的模具C以外，与实施例1同样地制作防眩膜C。 

<比较例2> 

除了使用图17所示的图形作为利用激光进行曝光的图形，将第1蚀刻处理的蚀刻量设定为10μm，将第2蚀刻处理的蚀刻量设定为30μm，除此以外，与实施例1同样地得到模具D。作为图17所示图形的图像数据 为20mm×20mm的大小，以3200dpi制作。除了使用得到的模具D以外，与实施例1同样地制作防眩膜D。 

<比较例3> 

准备其表面实施了铜巴拉德镀敷的直径200mm的铝卷(根据JIS的A5056)。铜巴拉德镀层由铜镀层/薄银镀层/表面铜镀层组成，镀层整体的厚度设定为约200μm。对其镀铜表面进行镜面研磨，在经研磨的镀铜面，使用喷射装置((株)不二制作所制)，以喷射压力0.05MPa(表压，下同)、珠粒使用量8g/cm²(每1cm²卷的表面积的使用量，下同)喷射氧化锆珠粒TZ-SX-17(东曹(株)制，平均粒径：20μm)，使表面产生凹凸。对得到的带凹凸的镀铜铝卷进行镀铬加工，制作金属模具E。此时，镀铬厚度设定为6μm。除了使用得到的模具E以外，与实施例1同样地制作防眩膜E。 

<比较例4> 

对直径300mm的铝卷(根据JIS的A5056)的表面进行镜面研磨，在经研磨的铝面，使用喷射装置((株)不二制作所制)，以喷射压力0.1MPa(表压，下同)、珠粒使用量8g/cm²(每1cm²辊的表面积的使用量，下同)喷射氧化锆珠粒TZ-SX-17(东曹(株)制，平均粒径：20μm)，使表面产生凹凸。对得到的带凹凸的铝卷进行非电解镀镍加工，制作模具F。此时，非电解镀镍厚度设定为15μm。除了使用得到的模具F以外，与实施例1同样地制作防眩膜F。 

将结果示于表1。此外，图18中示出由表示防眩膜B～F的微细凹凸表面的标高的二次函数得到的能谱的f_x＝0的截面。此外，图19中示出由防眩膜B～D的制作中使用的图形得到能谱的f_x＝0的截面。由图19可知，防眩膜B的制作中使用的图形的能谱在空间频率大于0μm^-1且小于等于0.04μm^-1中不具有最大值。此外，可知防眩膜C和D的制作中使用的图形的能谱在空间频率大于0μm^-1且小于等于0.04μm^-1中具有最大值。 

表1 

由表1所示的结果可知，全部满足本发明的要件的防眩膜A和B，没有发生晃眼，显示足够的防眩性，也没有产生泛白。此外，浊度也低，因此配置于图像显示装置时也不引起对比度的降低。由能谱在大于0μm^-1且小于等于0.04μm^-1中具有最大值的图形制作的防眩膜C和D，由于能谱之比H₁ ²/H₂ ²不满足本发明的要件，因此显示足够的防眩性，也没有发生泛白，但产生了晃眼。此外，没有使用规定的图形制作的防眩膜E和F，由于能谱之比H₁ ²/H₂ ²不满足本发明的要件，因此不能兼具足够的防眩性和晃眼的抑制。 

Claims (4)

1.防眩膜，其为在透明支承体上形成了具有微细的凹凸表面的防眩层而成的防眩膜，其特征在于：上述微细凹凸表面的标高的空间频率0.01μm^-1处的能谱H₁ ²与空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²之比H₁ ²/H₂ ²为3～15的范围内。

2.权利要求1所述的防眩膜，其中，上述微细凹凸表面的标高的空间频率0.1μm^-1处的能谱H₃ ²与空间频率0.04μm^-1处的能谱H₂ ²之比H₃ ²/H₂ ²为0.01以下。

3.权利要求1或2所述的防眩膜，其中，上述微细凹凸表面的倾斜角度为5°以下的面的比例为95％以上。

4.权利要求1所述的防眩膜，其中，上述防眩层不含0.4μm以上的微粒。