CN104834035A - 防眩膜 - Google Patents

Abstract

本发明的目的在于提供一种防眩膜，其尽管为低雾度但在宽观察角度内具有优异的防眩性，且在配置于图像显示装置时可充分抑制泛白及晃眼的发生。本发明的防眩膜具备透明支承体、和形成于该支承体上的具有微细的表面凹凸形状的防眩层，其中，该防眩膜的总雾度为0.1％以上且3％以下，表面雾度为0.1％以上且2％以下，以包含正反射光方式测定的视感反射率R_SCI和以去除正反射光方式测定的视感反射率R_SCE之比R_SCE/R_SCI为0.1以下，由表面凹凸形状的标高和防眩层的折射率计算的复振幅的功率谱在特定的2个空间频率下的强度比分别在给定的范围内。

Description

防眩膜

技术领域

本发明涉及防眩性优异的防眩(antiglare)膜。

背景技术

对于液晶显示器、等离子体显示器面板、布劳恩管(阴极射线管：CRT)显示器、有机场致发光(EL)显示器等图像显示装置而言，为了避免因外部光线映入其显示面而引起的视觉辨认性(視認性)的劣化，在该显示面配置有防眩膜。

作为防眩膜，主要考察了具备表面凹凸形状的透明膜。这样的防眩膜通过利用表面凹凸形状使外部光线发生散射反射(外部光线散射光)来减少映入，从而显示防眩性。然而，在外部光线散射光强烈的情况下，可能会导致图像显示装置的显示面整体发白、显示色彩不鲜明这样的所谓“泛白(白ちゃけ)”的发生。另外，还可能发生图像显示装置的像素与防眩膜的表面凹凸发生干涉、产生亮度分布而导致而难以辨认的所谓“晃眼(ギラツキ)”。基于以上背景，对于防眩膜，要求在确保优异的防眩性的同时、充分防止该“泛白”及“晃眼”的发生。

作为这样的防眩膜，例如在专利文献1中，作为在配置于高精细的图像显示装置时也不会发生晃眼、且可充分防止泛白的产生的防眩膜，公开了下述防眩膜：其在透明基材上形成有微细的表面凹凸形状，且该表面凹凸形状的任意剖面曲线的平均长度PSm为12μm以下，该剖面曲线的算术平均高度Pa与平均长度PSm之比Pa/PSm为0.005以上且0.012以下，该表面凹凸形状的倾角为2°以下的面的比例为50％以下、该倾角为6°以下的面的比例为90％以上。

专利文献1中公开的防眩膜通过使任意剖面曲线的平均长度PSm非常小，来消除容易导致晃眼发生的具有50μm附近的周期的表面凹凸形状，从而能够有效地抑制该晃眼。但是，对于专利文献1中公开的防眩膜而言，如果要进一步减小雾度(如果要达到低雾度)，则可能会导致从斜向观察配置有该防眩膜的图像显示装置显示面时的防眩性降低。因此，专利文献1中公开的防眩膜在宽观察角度的防眩性方面，尚存在改良的余地。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-187952号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明的目的在于提供一种防眩膜，其尽管为低雾度但在宽观察角度内具有优异的防眩性，且在配置于图像显示装置时可充分抑制泛白及晃眼的发生。

解决问题的方法

本发明人为了解决上述问题而进行了深入研究，结果完成了本发明。即，本发明提供一种防眩膜，其具备透明支承体、和形成于该支承体上的具有微细的表面凹凸形状的防眩层，

该防眩膜的总雾度为0.1％以上且3％以下、表面雾度为0.1％以上且2％以下，

以包含正反射光(正反射光)方式测定的视感反射率R_SCI和以去除正反射光方式测定的视感反射率(視感反射率)R_SCE之比R_SCE/R_SCI为0.1以下，

利用下述功率谱计算方法求出的复振幅的功率谱满足下述(1)～(3)的全部条件：

(1)功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度H(0.002)与功率谱在空间频率0.01μm^-1下的强度H(0.01)之比H(0.01)/H(0.002)为0.02以上且0.6以下；

(2)功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度H(0.002)与功率谱在空间频率0.02μm^-1下的强度H(0.02)之比H(0.02)/H(0.002)为0.005以上且0.05以下；

(3)功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度H(0.002)与功率谱在空间频率0.04μm^-1下的强度H(0.04)之比H(0.04)/H(0.002)为0.0005以上且0.01以下。

<功率谱计算方法>

(A)由上述表面凹凸形状的平均标高确定作为假想的平面的平均面；

(B)确定包含上述表面凹凸形状的标高最低的点且与上述平均面平行的作为假想的平面的最低标高面、和包含上述表面凹凸形状的标高最高的点且与上述平均面平行的作为假想的平面的最高标高面；

(C)对于从垂直于上述最低标高面的主法线方向入射并从上述最高标高面出射的波长550nm的平面波由上述表面凹凸形状的标高和防眩层的折射率计算上述最高标高面的复振幅，求出此时该复振幅的功率谱。

进而，对于本发明的防眩膜而言，优选

使用暗部和明部的宽度分别为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的五种光梳测定的透射清晰度之和Tc为375％以上，

使用暗部和明部的宽度分别为0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的四种光梳以光的入射角45°测定的反射清晰度之和Rc(45)为180％以下，

使用暗部和明部的宽度分别为0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的四种光梳以光的入射角60°测定的反射清晰度之和Rc(60)为240％以下。

另外，在本发明的防眩膜中，优选上述以去除正反射光方式测定的视感反射率R_SCE为0.5％以下。

发明效果

根据本发明，可提供一种尽管为低雾度，但在宽观察角度内具有充分的防眩性，且在配置于图像显示装置时可充分抑制泛白及晃眼的发生的防眩膜。

附图说明

[图1]示意性地示出用以测定视感反射率R_SCI及视感反射率R_SCE的光学系统的图。

[图2]用以简单地说明防眩膜的表面凹凸形状的标高的图。

[图3]用以简单地说明防眩膜的表面凹凸形状的标高与坐标(x,y)的关系的图。

[图4]用以简单地说明防眩膜的表面凹凸形状的标高h(x,y)与标高基准面和最高标高面的关系的图。

[图5]示意图，示出了离散性地得到防眩膜的表面凹凸形状的标高的状态。

[图6]示意图，示出了由根据以离散函数形式得到的表面凹凸形状的标高计算的复振幅的二维功率谱计算一维功率谱的状态。

[图7]示出了根据防眩膜的表面凹凸形状的标高计算得到的复振幅的一维功率谱H(f)相对于空间频率f的图。

[图8]示意性地示出了模具的制造方法(前半部分)的优选的一例的图。

[图9]示意性地示出了模具的制造方法(后半部分)的优选的一例的图。

[图10]示意性地示出了本发明的防眩膜的制造方法中使用的制造装置的优选的一例的图。

[图11]示意性地示出了本发明的防眩膜的制造方法中优选的预固化工序的图。

[图12]示意性地示出了用于晃眼评价的单元格子(unit cell)的图。

[图13]示意性地示出了晃眼评价装置的图。

[图14]示出了在实施例1～3及比较例1中使用的图案A的一部分的图。

[图15]示出了在实施例4中使用的图案B的一部分的图。

[图16]示出了在实施例5中使用的图案C的一部分的图。

[图17]示出了在比较例2中使用的图案D的一部分的图。

符号说明

12  积分球,

13  光源,

14  防眩膜的视感反射率测定样品,

15  光阱,

40  模具用基材,

41  经过了第1镀敷工序及研磨工序的模具用基材表面(镀层),

46  通过第1蚀刻处理而形成的第1表面凹凸形状,

47  通过第2蚀刻处理而进行了形状钝化的表面凹凸形状,

50  感光性树脂膜,

60  掩模,

70  镀铬后的表面凹凸形状发生了形状钝化的表面,

71  镀铬层,

80  导出辊,

81  透明支承体,

83  涂敷区,

86  活性能量射线照射装置,

87  筒状的模具,

88,89  夹持辊,

90  膜卷绕装置

103 最低标高面,

104 最高标高面。

具体实施方式

以下，根据需要结合附图对本发明的优选实施方式进行说明，但该附图所示的尺寸等是为了便于观察而任意设定的。

本发明的防眩膜的特征在于，以包含正反射光方式测定的视感反射率R_SCI和以去除正反射光方式测定的视感反射率R_SCE之比R_SCE/R_SCI为0.1以下，利用上述功率谱计算方法求出的功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度、和在空间频率0.01μm^-1、0.02μm^-1及0.04μm^-1下的强度之比分别在上述的范围。

首先，针对本发明的防眩膜，对视感反射率R_SCI及视感反射率R_SCE、以及复振幅的功率谱的求解方法进行说明。

[视感反射率R_SCI及视感反射率R_SCE]

图1(a)示意性地示出了用来以包含正反射光方式测定视感反射率R_SCI的光学系统，图1(b)示意性地示出了用来以去除正反射光方式测定视感反射率R_SCE的光学系统。图1(a)及(b)中显示的是漫射照明(拡散照明)方式的光学系统。漫射照明方式是使用积分球等从全部方向均等地对测定样品进行照明的方法，在图1(a)及(b)中，设置有积分球12(利用几乎可使光完全漫反射的硫酸钡等白色涂料涂布内表面而成的球)。从光源13射出的光在积分球12的内部发生漫射，在测定样品14的表面发生反射。图1(b)中，相对于光接收部，在位于正反射方向上的积分球12的位置设置有光阱15(在图1(b)中，其为如下结构：装配有具有圆锥形空洞的夹具，进入到圆锥形空洞中的光在空洞内被吸收，不会返回到积分球12中)，使得相对于光接收部而言正反射方向的光不会照射至测定样品表面。

图1(a)所示的未使用光阱的光学系统被称为包含正反射光模式(SCI模式)。另一方面，图1(b)所示的使用了光阱的光学系统被称为去除正反射光模式(SCE模式)。根据在两模式下测定的样品的反射光谱、按照JIS Z8722记载的方法计算的视感反射率是以包含正反射光方式测定的视感反射率R_SCI、和以去除正反射光方式测定的视感反射率R_SCE。

该以包含正反射光方式测定的视感反射率R_SCI和以去除正反射光方式测定的视感反射率R_SCE之比R_SCE/R_SCI大于0.1的情况下，在防眩膜的表面，使用环境中环境光向使用者方向的反射光增强，其结果，会导致设置有该防眩膜的图像显示装置发生泛白。另外，存在导致该图像显示装置发生明处对比度降低的倾向。更优选比值R_SCE/R_SCI为0.08以下、进一步优选为0.06以下。另外，以去除正反射光方式测定的视感反射率R_SCE优选为0.5％以下、更优选为0.4％以下、进一步优选为0.3％以下。

[复振幅的功率谱]

针对由防眩膜的表面凹凸形状的标高和防眩层的折射率计算的复振幅的功率谱进行说明。图2是示意性地示出了本发明的防眩膜的表面的剖面图。如图2所示，本发明的防眩膜1具有透明支承体101、和形成于该透明支承体101上的防眩层102，防眩层102在透明支承体101的相反侧具备具有微细的凹凸2的表面凹凸形状。

这里，本发明中的所述“表面凹凸形状的标高”是指，表面凹凸形状上的任意点P与上述最低标高面在本发明的防眩膜的主法线方向5(对于上述最低标高面而言的法线方向)上的直线距离。假想性地确定的最低标高面的任意点的标高为0μm，其是求算表面凹凸形状上的任意点的标高时的基准，在图2中，以最低标高面103表示。

实际上，如图3示意性地示出的，防眩膜具备在二维平面上具有微细的表面凹凸形状的防眩层。由此，如图3所示，以(x,y)表示膜面内的正交坐标时，表面凹凸形状的标高可以表示为坐标(x,y)的二元函数h(x,y)。

表面凹凸形状的标高可以根据利用共聚焦显微镜、干涉显微镜、原子力显微镜(AFM)等装置测定的表面形状的三维信息求出。测量机所要求的水平分辨率优选为5μm以下、进一步优选为2μm以下。另外，该测量机所要求的垂直分辨率优选为0.1μm以下、进一步优选为0.01μm以下。作为适用于该测定的非接触三维表面形状-粗糙度测量仪，可列举New View 5000系列(Zygo Corporation公司制)、三维显微镜PLμ2300(Sensofar公司制)等。就测定面积而言，由于需要使标高的功率谱的分辨率为0.002μm^-1以下，因此优选测定面积至少为500μm×500μm、更优选为750μm×750μm以上。

图4中示意性地示出了表面凹凸形状的标高h(x,y)与最低标高面103及最高标高面104之间的关系。这里，将最高标高面104的标高设为h_max(μm)。需要说明的是，该图4示出了包含本防眩膜的标高最高的点和标高最低的点的剖面图。

坐标(x,y)处的最低标高面103与最高标高面104之间的光路长d(x,y)可以使用与标高相关的二元函数h(x,y)、以式(1)表示。

[数学式1]

d(x,y)＝n_AGh(x,y)+n_air[h_max-h(x,y)]  …式(1)

这里，n_AG为防眩层的折射率、n_air为空气的折射率。其中，将空气的折射率n_air近似为1时，式(1)可以如式(2)那样表示。

[数学式2]

d(x,y)＝(n_AG-1)h(x,y)+h_max  …式(2)

接下来，针对在主法线方向5(垂直于最低标高面的主法线方向)上传播的单一波长λ的平面波从透明支承体侧(最低标高面103侧)入射并在防眩层侧(最高标高面104侧)出射的情况下该平面波的复振幅进行说明。所述复振幅是指，在以复因数表示波动的振幅的情况下，不含时间要素的部分。单一波长λ的平面波的振幅通常可利用下述式(3)进行复因数表示。

[数学式3]

$\mathrm{Aexp}(\frac{2\mathrm{\&pi;iz}}{\mathrm{\&lambda;}}-\mathrm{\&omega;t}+{\mathrm{\&phi;}}_0)=\mathrm{Aexp}(\frac{2\mathrm{\&pi;iz}}{\mathrm{\&lambda;}}+{\mathrm{\&phi;}}_0)\exp (-\mathrm{\&omega;t})$   …式(3)

这里，式(3)中的A为平面波的最大振幅、π为圆周率、i为虚数单位、z为z轴方向(主法线方向5)的坐标(相对于原点的光路长)、ω为角频率、t为时间、为初期的相位。

式(3)中不依赖于时间的项为复振幅。因此，式(3)所示的对于平面波而言的最高标高面104的坐标(x,y)处的复振幅ψ(x,y)，在式(3)的不依赖于时间的项中，可以以将上述光路长d(x,y)代入z而得到的下述式(4)表示。

[数学式4]

$\mathrm{\&psi;}(x,y)=\mathrm{Aexp}[\frac{2\mathrm{\&pi;i}}{\mathrm{\&lambda;}}d(x,y)+{\mathrm{\&phi;}}_0]=\mathrm{Aexp}\left({\mathrm{\&phi;}}_0\right)\exp \left[\frac{2\mathrm{\&pi;i}}{\mathrm{\&lambda;}}d(x,y)\right]$   …式(4)

进一步，式(4)中，平面波的最大振幅A及初期的相位不依赖于坐标(x,y)，在欲规定坐标(x,y)处的表面凹凸形状的分布的本发明中，其是常数，因此，以下设为A＝1及另外，在代入上述式(2)时，复振幅ψ(x,y)可以以下述式(5)表示。需要说明的是，本发明中以λ＝550nm为基准。

[数学式5]

$\mathrm{\&psi;}(x,y)=\exp \left[\frac{2\mathrm{\&pi;i}}{\mathrm{\&lambda;}}\right\{(n_{\mathrm{AG}}-1)h(x,y)+h_{\max }\left\}\right]$   …式(5)

接着，针对求解复振幅的功率谱的方法进行说明。首先，由式(5)表示的二元函数ψ(x,y)、通过由式(6)定义的二维傅里叶变换求解二元函数Ψ(f_x,f_y)。

[数学式6]

$\mathrm{\&Psi;}(f_x,f_y)=\underset{-\&infin;}{\overset{\&infin;}{\&Integral;}}\underset{-\&infin;}{\overset{\&infin;}{\&Integral;}}\mathrm{\&psi;}(x,y)\exp \left[2\mathrm{\&pi;i}(f_{x}x+f_{y}y)\right]\mathrm{dxdy}$   …式(6)

这里，f_x及f_y分别为x方向及y方向的频率，具有长度的倒数的量纲。通过将所得二元函数Ψ(f_x,f_y)的绝对值取二次方，可以根据式(7)而求出二维功率谱H(f_x,f_y)。

[数学式7]

H(f_x,f_y)＝|Ψ(f_x,f_y)|²  …式(7)

该二维功率谱H(f_x,f_y)表示由防眩膜的表面凹凸形状的标高计算的复振幅的空间频率分布。由于防眩膜为各向同性，因此，表示复振幅的二维功率谱的二元函数H(f_x,f_y)可以由仅依赖于相对于原点(0,0)的距离f的一元函数H(f)表示。下面，示出由二元函数H(f_x,f_y)求解一元函数H(f)的方法。首先，基于式(8)、利用极坐标表示作为复振幅的二维功率谱的二元函数H(f_x,f_y)。

[数学式8]

H(f_x,f_y)＝H(f cosθ,f sinθ)  …式(8)

这里，θ为傅里叶空间中的偏角。一元函数H(f)可以通过基于式(9)计算极坐标表示的二元函数H(fcosθ,fsinθ)的旋转平均而求出。以下，也将由作为复振幅的二维功率谱的二元函数H(f_x,f_y)的旋转平均求出的一元函数H(f)称为一维功率谱H(f)。

[数学式9]

$H\left(f\right)\&equiv;\frac{1}{2\mathrm{\&pi;}}\underset{0}{\overset{2\mathrm{\&pi;}}{\&Integral;}}H(f\cos \mathrm{\&theta;},f\sin \mathrm{\&theta;})\mathrm{d\&theta;}$   …式(9)

本发明的防眩膜的特征在于，由表面凹凸形状的标高计算的复振幅的一维功率谱H(f)在空间频率0.002μm^-1下的强度H(0.002)与空间频率0.01μm^-1下的强度H(0.01)之比H(0.01)/H(0.002)、强度H(0.002)与空间频率0.02μm^-1下的强度H(0.02)之比H(0.02)/H(0.002)、以及强度H(0.002)与空间频率0.04μm^-1下的强度H(0.04)之比H(0.04)/H(0.002)均在特定的范围内。

以下，对于求算由防眩膜所具有的表面凹凸形状的标高计算的复振幅的二维功率谱的方法进行更为具体的说明。上述的通过共聚焦显微镜、干涉显微镜、原子力显微镜等实际测定的表面形状的三维信息，通常以离散的值、即多个与测定点对应的标高的形式而得到。图5为示出了离散性地得到表示标高的函数h(x,y)的状态的示意图。如图5所示，在以(x,y)表示膜面内的正交坐标、并以虚线表示膜投影面3上按x轴方向上每隔Δx分割的线和y轴方向上每隔Δy分割的线时，在实际的测定中，表面凹凸形状的标高以膜投影面3上被各虚线分割而成的每个面积Δx×Δy的离散性的标高值的形式得到。

所得标高值的个数由测定范围、和Δx及Δy决定，如图5所示，将x轴方向的测定范围设为X＝MΔx、y轴方向的测定范围设为Y＝NΔy时，所得标高值的个数为M×N个。

如图5所示，将膜投影面3上的着眼点A的坐标设为(mΔx,nΔy)[这里，m为0以上且M-1以下、n为0以上且N-1以下]时，与着眼点A对应的膜面上的点P的标高可以以h(mΔx,nΔy)表示。

这里，测定间隔Δx及Δy依赖于测定设备的水平分辨率，为了高精度地评价表面凹凸形状，优选Δx及Δy均为5μm以下、更优选为2μm以下。另外，如上所述，测定范围X及Y均优选为500μm以上、更优选为750μm以上。

这样，在实际的测定中，表示表面凹凸形状的标高的函数以具有M×N个值的离散函数h(x,y)的形式得到。由此，由表面凹凸形状的二元函数h(x,y)、通过式(5)而求出的复振幅ψ(x,y)也以离散函数的形式得到，由该复振幅ψ(x,y)经二维傅里叶变换而求出的二元函数Ψ(f_x,f_y)也可通过离散性地计算式(6)的离散傅里叶变换而如式(10)所示那样、以离散函数的形式被求出。

[数学式10]

$\begin{array}{c}\mathrm{\&Psi;}(\mathrm{j\&Delta;}{f}_x,\mathrm{k\&Delta;}{f}_y)=\underset{-\&infin;}{\overset{\&infin;}{\&Integral;}}\underset{-\&infin;}{\overset{\&infin;}{\&Integral;}}\mathrm{\&psi;}(x,y)\exp \left[2\mathrm{\&pi;i}(f_{x}x+f_{y}y)\right]\mathrm{dxdy}\\ \&ap;\underset{n=0}{\overset{N-1}{\mathrm{\&Sigma;}}}\underset{m=0}{\overset{M-1}{\mathrm{\&Sigma;}}}\mathrm{\&psi;}(\mathrm{m\&Delta;x},\mathrm{n\&Delta;y})\exp \left[2\mathrm{\&pi;i}(\mathrm{j\&Delta;}{f}_x\mathrm{n\&Delta;x}+\mathrm{k\&Delta;}{f}_y\mathrm{m\&Delta;y})\right]\mathrm{\&Delta;x\&Delta;y}\\ =\underset{n=0}{\overset{N-1}{\mathrm{\&Sigma;}}}\underset{m=0}{\overset{M-1}{\mathrm{\&Sigma;}}}\mathrm{\&psi;}(\mathrm{m\&Delta;x},\mathrm{n\&Delta;y})\exp \left[2\mathrm{\&pi;i}(\frac{\mathrm{jn}}{M}+\frac{\mathrm{km}}{N})\right]\mathrm{\&Delta;x\&Delta;y}\end{array}$   …式(10)

这里，式(10)中的j为-M/2以上且M/2以下的整数、k为-N/2以上且N/2以下的整数。另外，Δf_x及Δf_y分别为x方向及y方向的频率间隔，由式(11)及式(12)定义。

[数学式11]

${\mathrm{\&Delta;f}}_x\&equiv;\frac{1}{\mathrm{M\&Delta;x}}$   …式(11)

[数学式12]

${\mathrm{\&Delta;f}}_y\&equiv;\frac{1}{\mathrm{N\&Delta;y}}$   …式(12)

二维功率谱H(f_x,f_y)可通过将根据式(10)求出的离散函数Ψ(f_x,f_y)的绝对值取二次方、而如式(13)所示那样被求出。

[数学式13]

$H(\mathrm{j\&Delta;}{f}_x,\mathrm{k\&Delta;}{f}_y)={\left|\mathrm{\&Psi;}(\mathrm{j\&Delta;}{f}_x,\mathrm{k\&Delta;}{f}_y)\right|}^2={\left(\mathrm{\&Delta;x\&Delta;y}\right)}^2{\left|\underset{n=0}{\overset{N-1}{\mathrm{\&Sigma;}}}\underset{m=0}{\overset{M-1}{\mathrm{\&Sigma;}}}\mathrm{\&psi;}(\mathrm{m\&Delta;x},\mathrm{n\&Delta;y})\exp \right[2\mathrm{\&pi;i}(\frac{\mathrm{jn}}{M}+\frac{\mathrm{km}}{N})\left]\right|}^2$   …式(13)

以离散函数形式得到的二维功率谱H(f_x,f_y)也表示由防眩膜所具有的表面凹凸形状的标高计算的复振幅的空间频率分布。另外，防眩膜为各向同性，因此，表示复振幅的二维功率谱的二维离散函数H(f_x,f_y)也可以由仅依赖于相对于原点(0,0)的距离f的一维离散函数H(f)表示。由二维离散函数H(f_x,f_y)求解一维离散函数H(f)的情况下，也与式(9)同样地计算旋转平均即可。二维离散函数H(f_x,f_y)的离散性的旋转平均可利用式(14)计算。上述功率谱计算方法是用以计算由该一维离散函数H(f)表示的一维功率谱的方法。

[数学式14]

$H\left(\mathrm{l\&Delta;f}\right)=\frac{\underset{k=-N/2}{\overset{N/2-1}{\mathrm{\&Sigma;}}}\underset{j=-M/2}{\overset{M/2-1}{\mathrm{\&Sigma;}}}H(\mathrm{j\&Delta;}{f}_x,\mathrm{k\&Delta;}{f}_y)[\mathrm{\&Theta;}(f_{\mathrm{jk}}-(l-\frac{1}{2})\mathrm{\&Delta;f})-\mathrm{\&Theta;}(f_{\mathrm{jk}}-(l+\frac{1}{2}\mathrm{\&Delta;f}))]}{\underset{k=-N/2}{\overset{N/2-1}{\mathrm{\&Sigma;}}}\underset{j=-M/2}{\overset{M/2-1}{\mathrm{\&Sigma;}}}[\mathrm{\&Theta;}(f_{\mathrm{jk}}-(l-\frac{1}{2})\mathrm{\&Delta;f})-\mathrm{\&Theta;}(f_{\mathrm{jk}}-(l+\frac{1}{2}\mathrm{\&Delta;f}))]}$   …式(14)

这里，M≥N的情况下，l为0以上且N/2以下的整数，M<N的情况下，l为0以上且M/2以下的整数。Δf为距离原点的距离的间隔，设为Δf＝(Δf_x+Δf_y)/2。另外，Θ(x)为由式(15)定义的单位阶跃(Heaviside)函数。f_jk为(j,k)处距离原点的距离，可由式(16)计算。

[数学式15]

$\mathrm{\&Theta;}\left(x\right)\&equiv;\left\{\begin{array}{cc}0& (x<0)\\ 1& (x\&GreaterEqual;0)\end{array}\right.$   …式(15)

[数学式16]

$f_{\mathrm{jk}}\&equiv;\sqrt{{\left(\mathrm{j\&Delta;}{f}_x\right)}^2+{\left(\mathrm{k\&Delta;}{f}_y\right)}^2}$   …式(16)

结合图6对式(14)所示的计算进行说明。函数Θ(f_jk-(l-1/2)Δf)在f_jk小于(l-1/2)Δf时为0、在f_jk为(l-1/2)Δf以上时为1，函数Θ(f_jk-(l+1/2)Δf)在f_jk小于(l+1/2)Δf时为0、在f_jk为(l+1/2)Δf以上时为1，因此，式(14)中的Θ(f_jk-(l-1/2)Δf)-Θ(f_jk-(l+1/2)Δf)仅在f_jk为(l-1/2)Δf以上且小于(l-1/2)Δf时为1，在除此之外的情况下为0。这里，f_jk为频率空间中距离原点O(f_x＝0,f_y＝0)的距离，因此，式(14)的分母所计算出的是距离原点O的距离f_jk在(l-1/2)Δf以上且小于(l+1/2)Δf的位置上的全部点(图6中的黑色圆点)的个数。另外，式(14)的分子所计算出的是距离原点O的距离f_jk在(l-1/2)Δf以上且小于(l+1/2)Δf的位置上的全部点的H(f_x,f_y)的合计值(图6中的黑色圆点处的H(f_x,f_y)的合计值)。

一般而言，通过上述方法求出的一维功率谱包含测定中的干扰。这里，在求算一维功率谱时，为了排除该干扰的影响，优选测定防眩膜上多个部位的表面凹凸形状的标高，并将由各个表面凹凸形状的标高求出的一维功率谱的平均值用作一维功率谱H(f)。测定防眩膜上的表面凹凸形状的标高的部位的个数优选为3个部位以上、更优选为5个部位以上。

图7示出了根据由此得到的表面凹凸形状的标高计算出的复振幅的一维功率谱的H(f)。图7的一维功率谱H(f)是将由防眩膜上5个不同部位的表面凹凸形状的标高求出的一维功率谱取平均而得到的。

本发明的防眩膜的特征在于，根据表面凹凸形状的标高计算出的复振幅的一维功率谱H(f)在空间频率0.002μm^-1下的强度H(0.002)与空间频率0.01μm^-1下的强度H(0.01)之比H(0.01)/H(0.002)为0.02以上且0.6以下、强度H(0.002)与空间频率0.02μm^-1下的强度H(0.02)之比H(0.02)/H(0.002)为0.005以上且0.05以下、强度H(0.002)与空间频率0.04μm^-1下的强度H(0.04)之比H(0.04)/H(0.002)为0.0005以上且0.01以下。这里，一维功率谱H(f)是以离散函数的形式得到的，因此，为了求出特定空间频率f₁下的强度H(f₁)，如式(17)所示那样进行内插来计算即可。

[数学式17]

$H\left(f_1\right)=\left[\frac{H(l_1\mathrm{\&Delta;f}+\mathrm{\&Delta;f})-H\left(l_1\mathrm{\&Delta;f}\right)}{\mathrm{\&Delta;f}}\right](f_1-l_1\mathrm{\&Delta;f})+H\left(l_1\mathrm{\&Delta;f}\right)$   …式(17)

本发明的防眩膜通过使上述的特定空间频率下的强度比分别在指定的范围，利用与后述的雾度及反射率比的协同效应，可以良好地防止泛白及晃眼的发生，并且可显示出优异的防眩性。为了更有效地显示出上述效果，比值H(0.01)/H(0.002)优选为0.02以上且0.6以下、更优选为0.03以上且0.3以下。同样，比值H(0.02)/H(0.002)优选为0.005以上且0.05以下、进一步优选为0.007以上且0.04以下，另外，比值H(0.04)/H(0.002)优选为0.0005以上且0.01以下、进一步优选为0.001以上且0.005以下。

比值H(0.01)/H(0.002)低于上述范围的情况下，对于从斜向(30°以上)观察防眩膜时的防眩效果有利的100μm左右(以空间频率计相当于0.01μm^-1)的周期的光学性变化小，防眩性不足。比值H(0.01)/H(0.002)超过上述范围的情况下，100μm左右的周期的光学性变化变得过大，防眩膜的表面凹凸形状变得粗大，存在导致雾度上升的倾向，因此不优选。

比值H(0.02)/H(0.002)低于上述范围的情况下，对于从斜向(10°～30°)观察防眩膜时的防眩效果有利的50μm左右(以空间频率计相当于0.02μm^-1)周期的光学性变化小，防眩性不足。比值H(0.02)/H(0.002)超过上述范围的情况下，50μm左右周期的光学性变化变得过大，会导致晃眼的发生。

比值H(0.04)/H(0.002)低于上述范围的情况下，对于从正面(0°～10°)观察防眩膜时的防眩效果有利的25μm左右(以空间频率计相当于0.04μm^-1)的周期的光学性变化小，防眩性不足。比值H(0.04)/H(0.002)超过上述范围的情况下，25μm左右的短周期的光学性变化引起的散射增强，易产生泛白。

[总雾度、表面雾度]

为了显示防眩性、防止泛白，本发明的防眩膜是相对于垂直入射光的总雾度为0.1％以上且3％以下的范围、表面雾度为0.1％以上且2％以下的范围的膜。防眩膜的总雾度可基于JIS K7136所示的方法进行测定。配置有总雾度或表面雾度低于0.1％的防眩膜的图像显示装置无法显示出充分的防眩性，因此不优选。另外，总雾度超过3％的情况下、或表面雾度超过2％的情况下，配置有该防眩膜的图像显示装置会发生泛白，因此不优选。这样的图像显示装置还会发生其对比度也不足这样的不良情况。

用总雾度减去表面雾度而求出的内部雾度越低越优选。配置有该内部雾度高于2.5％的防眩膜的图像显示装置，存在对比度下降的倾向。

[透射清晰度(鮮明度)Tc、反射清晰度Rc(45)及反射清晰度Rc(60)]

本发明的防眩膜的在下述测定条件下求出的透射清晰度之和Tc优选为375％以上。透射清晰度之和Tc可以如下求出：利用基于JIS K 7105的方法、使用指定宽度的光梳分别测定图像清晰度，再求出其加合。具体而言，使用暗部和明部的宽度之比为1:1、且其宽度为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的五种光梳，分别测定图像清晰度，再求出其加合，设为Tc。在将Tc低于375％的防眩膜配置于更高精细的图像显示装置的情况下，有时容易发生晃眼。就Tc的上限而言，可以在作为其最大值的500％以下的范围内选择，但如果该Tc过高，则会得到从正面观察时的防眩性易降低的图像显示装置，因此该Tc优选为例如450％以下。

本发明的防眩膜的利用入射角45°的入射光测定的反射清晰度Rc(45)优选为180％以下。反射清晰度Rc(45)与上述Tc同样，可利用基于JIS K 7105的方法测定，使用上述五种光梳中宽度为0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的四种光梳分别测定图像清晰度，并求出其加合，设为Rc(45)。Rc(45)为180％以下时，配置有这样的防眩膜的图像显示装置的从正面及斜向观察时的防眩性变得更为良好，因此优选。Rc(45)的下限没有特殊限制，但为了良好地抑制泛白及晃眼的发生，优选为例如80％以上。

本发明的防眩膜的利用入射角60°的入射光测定的反射清晰度Rc(60)优选为240％以下。除了改变入射角以外，与反射清晰度Rc(45)同样地利用基于JIS K 7105的方法来测定反射清晰度Rc(60)。Rc(60)为240％以下时，配置有该防眩膜的图像显示装置的从斜向观察时的防眩性变得更为良好，因此优选。Rc(60)的下限没有特殊限制，但为了更为良好地抑制泛白及晃眼的发生，优选为例如150％以上。

[防眩膜的制造方法]

本发明的防眩膜例如可以如下所述地制造。第1方法包括：准备在成型表面形成有基于指定图案的表面凹凸形状的微细凹凸形成用模具，将该模具的凹凸面的形状转印于透明支承体之后，将转印有凹凸面的形状的透明支承体从模具剥离。第2方法包括：准备包含微粒、树脂(粘结剂)及溶剂、且所述微粒分散于树脂溶液中的组合物，将该组合物涂布于透明支承体上，并根据需要进行干燥，使由此形成的涂布膜(包含微粒的涂布膜)固化。第2方法中，根据上述组合物的组成、上述涂布膜的干燥条件等来调整涂布膜厚、微粒的凝聚状态，由此使微粒在涂布膜的表面露出，从而在透明支承体上形成无规的凹凸。从防眩膜的生产稳定性、生产再现性的观点出发，优选利用第1方法来制造本发明的防眩膜。

这里，针对作为本发明的防眩膜的制造方法优选的第1方法进行详细说明。

为了高精度地形成具有如上所述特性的表面凹凸形状的防眩层，要准备的微细凹凸形成用模具(以下也简称为“模具”)是重要的。更具体而言，模具所具有的表面凹凸形状(以下也称为“模具凹凸表面”)基于指定的图案而形成，而该指定图案而言，优选：其一维功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.01μm^-1下的强度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)为1.5以上且6以下、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.02μm^-1下的强度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)为0.3以上且5以下、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.04μm^-1下的强度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)为3以上且13以下。这里，所述“图案”是指，用以形成防眩膜所具有的防眩层的表面凹凸形状的图像数据、或具有透光部和遮光部的掩模等，以下简称为“图案”。

首先，针对确定用以形成本发明的防眩膜所具有的防眩层的表面凹凸形状的图案的方法进行说明。

例如，针对该图案为图像数据的情况来说明图案的二维功率谱的求解方法。首先，将该图像数据转换为2灰度等级(階調)的二值化图像数据之后，用二元函数g(x,y)表示该灰度等级。将得到的二元函数g(x,y)如下述式(18)所示那样进行傅里叶变换来计算二元函数G(f_x,f_y)，再如下述式(19)所示那样，对所得二元函数G(f_x,f_y)的绝对值取二次方，由此来求算二维功率谱Γ(f_x,f_y)。这里，x及y表示图像数据面内的正交坐标。另外，f_x及f_y分别表示x方向及y方向的频率，具有长度倒数的量纲。

[数学式18]

$G(f_x,f_y)=\underset{-\&infin;}{\overset{\&infin;}{\&Integral;}}\underset{-\&infin;}{\overset{\&infin;}{\&Integral;}}g(x,y)\exp \left[2\mathrm{\&pi;i}(f_{x}x+f_{y}y)\right]\mathrm{dxdy}$   …式(18)

式(18)中的π为圆周率、i为虚数单位。

[数学式19]

Γ(f_x,f_y)＝|G(f_x,f_y)|²  …式(19)

该二维功率谱Γ(f_x,f_y)表示图案的空间频率分布。通常，要求防眩膜为各向同性，因此，本发明的防眩膜制造用图案也为各向同性。由此，表示图案的二维功率谱的二元函数Γ(f_x,f_y)可以由仅依赖于距离原点(0,0)的距离f的一元函数Γ(f)表示。接下来，针对由二元函数Γ(f_x,f_y)求算一元函数Γ(f)的方法进行说明。首先，如式(20)那样、利用极坐标表示作为图案的灰度等级的二维功率谱的二元函数Γ(f_x,f_y)。

[数学式20]

Γ(f_x,f_y)＝Γ(f cosθ,f sinθ)  …式(20)

这里，θ为傅里叶空间中的偏角。一元函数Γ(f)可以通过如式(21)那样计算极坐标表示的二元函数Γ(fcosθ,fsinθ)的旋转平均而求出。以下，也将由作为图案的灰度等级的二维功率谱的二元函数Γ(f_x,f_y)的旋转平均求出的一元函数Γ(f)称为一维功率谱Γ(f)。

[数学式21]

$\mathrm{\&Gamma;}\left(f\right)\&equiv;\frac{1}{2\mathrm{\&pi;}}\underset{0}{\overset{2\mathrm{\&pi;}}{\&Integral;}}\mathrm{\&Gamma;}(f\cos \mathrm{\&theta;},f\sin \mathrm{\&theta;})\mathrm{d\&theta;}$   …式(21)

为了高精度地获得本发明的防眩膜，优选图案的一维功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.01μm^-1下的强度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)为1.5以上且6以下、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.02μm^-1下的强度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)为0.3以上且5以下、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.04μm^-1下的强度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)为3以上且13以下。

求取图案的二维功率谱的情况下，灰度等级的二元函数g(x,y)通常以离散函数的形式获得。此时，通过离散傅里叶变换来计算二维功率谱即可。图案的一维功率谱可根据图案的二维功率谱同样地求出。

另外，为了使所得表面凹凸形状为均匀且连续的曲面，优选使二元函数g(x,y)的平均值为二元函数g(x,y)的最大值与二元函数g(x,y)的最小值之差的30～70％。在通过光刻法制造模具凹凸表面的情况下，该二元函数g(x,y)为图案的开口率。针对通过光刻法制造模具凹凸表面的情况，预先定义这里的所述图案的开口率。用于光刻法的光刻胶(レジスト)为正性光刻胶的情况下，其开口率是指：在向该正性光刻胶的涂布膜描绘图像数据时，相对于该涂布膜的整个表面区域，曝光的区域所占的比例。另一方面，用于光刻法的光刻胶为负性光刻胶的情况下，其开口率是指：在向该负性光刻胶的涂布膜描绘图像数据时，相对于该涂布膜的整个表面区域，曝光的区域所占的比例。光刻法为一次性曝光的情况下，其开口率指的是具有透光部和遮光部的掩模的透光部所占比例。

本发明的防眩膜可以如下地获得：使图案的一维功率谱的强度比Γ(0.01)/Γ(0.002)、Γ(0.02)/Γ(0.002)、及Γ(0.04)/Γ(0.002)分别在上述范围内，制造所期望的模具，并使用该模具、利用上述第1方法来制造本发明的防眩膜。

为了制成具有这样的强度比的一维功率谱的图案，预先制作无规地配置点而成的图案、或由随机数或利用计算机生成的伪随机数决定浓淡的具有无规的亮度分布的图案(预备图案)，从该预备图案中除去特定的空间频率范围的成分。为了除去该特定的空间频率范围的成分，使上述预备图案通过带通滤波器即可。

为了制造具有形成有基于指定图案的表面凹凸形状的防眩层的防眩膜，要制造用以将基于该指定图案而形成的表面凹凸形状转印于透明支承体的具有模具凹凸表面的模具。使用这样的模具的上述第1方法是以在透明支承体上制作防眩层为特征的压花法。

作为上述压花法，可列举使用光固化性树脂的光压花法、使用热塑性树脂的热压花法等。其中，从生产性的观点出发，优选光压花法的。

光压花法是通过在透明支承体上(透明支承体的表面)形成光固化性树脂层，在将该光固化性树脂层推压至模具的模具凹凸表面的同时使其固化，由此将模具的模具凹凸表面的形状转印于光固化性树脂层的方法。具体如下：在使在透明支承体上涂布光固化性树脂而形成的光固化性树脂层密合于模具凹凸表面的状态下，从透明支承体侧照射光(该光使用的是可使光固化性树脂固化的光)，以使光固化性树脂(光固化性树脂层所含的光固化性树脂)固化，然后，将形成有固化后的光固化性树脂层的透明支承体从模具剥离。就通过这样的制造方法得到的防眩膜而言，固化后的光固化性树脂层成为防眩层。需要说明的是，从制造的容易程度方面考虑，作为光固化性树脂，优选紫外线固化性树脂，使用该紫外线固化性树脂的情况下，照射的光使用紫外线(以下，将使用紫外线固化性树脂作为光固化性树脂的压花法称为“UV压花法”)。为了制造与偏振膜一体化了的防眩膜，使用偏振膜作为透明支承体，在这里进行了说明的压花法中，将透明支承体置换为偏振膜来实施即可。

用于UV压花法的紫外线固化性树脂的种类没有特殊限制，可以根据所使用的透明支承体的种类、紫外线的种类从市售树脂中选择使用适当的树脂。这样的紫外线固化性树脂是包括通过照射紫外线而发生光聚合的单体(多官能单体)、低聚物及聚合物、以及它们的混合物的概念。另外，通过组合使用根据紫外线固化性树脂的种类而适当选择的光引发剂，也可以使用通过波长比紫外线长的可见光也能够固化的树脂。该紫外线固化性树脂的优选例等在后述说明。

作为用于UV压花法的透明支承体，可使用例如玻璃、塑料膜等。作为塑料膜，只要具有适当的透明性、机械强度即可使用。具体可列举例如：由TAC(三乙酸纤维素)等纤维素乙酸酯类树脂；丙烯酸类树脂；聚碳酸酯类树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯类树脂；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃类树脂等形成的透明树脂膜。这些透明树脂膜可以是溶剂流延膜，也可以是挤出膜。

透明支承体的厚度例如为10～500μm、优选为10～100μm、更优选为10～60μm。透明支承体的厚度在该范围时，存在获得具有充分机械强度的防眩膜的倾向，具备该防眩膜的图像显示装置更加不易发生晃眼。

另一方面，热压花法是将由热塑性树脂形成的透明树脂膜在经加热而软化的状态下推压于模具凹凸表面，将该模具凹凸表面的表面凹凸形状转印于透明树脂膜的方法。用于热压花法的透明树脂膜也只要是实质上光学透明的膜则可以为任意膜，具体而言，可列举作为用于UV压花法的透明树脂膜而列举的材料。

以下，针对制造用于压花法的模具的方法进行说明。

关于模具的制造方法，只要在使该模具的成型面成为能够将上述基于指定图案而形成的表面凹凸形状转印于透明支承体上(可形成基于指定图案而形成的表面凹凸形状的防眩层)的模具凹凸表面的范围，则没有特殊限制，但为了以高精度、再现性良好地制造该表面凹凸形状的防眩层，优选光刻法。进一步，该光刻法优选包括下述工序：[1]第1镀敷工序、[2]第1研磨工序、[3]感光性树脂膜形成工序、[4]曝光工序、[5]显影工序、[6]第1蚀刻工序、[7]感光性树脂膜剥离工序、[8]第2蚀刻工序、[9]第2镀敷工序、以及[10]第2研磨工序。

图8是示意性地示出了模具制造方法的前半部分的优选的一例。图8示意性地示出了各工序中的模具的剖面。以下，结合图8对本发明的防眩膜制造用模具的制造方法的各工序进行详细说明。

[1]第1镀敷工序

首先，制备用于模具制造的基材(模具用基材)，在该模具用基材的表面实施镀铜。通过这样地在模具用基材的表面实施镀铜，可使后述第2镀敷工序中的镀铬的密合性、光泽性提高。就镀铜而言，由于其包覆性高、且平滑化作用强，因此能够填埋模具用基材的微小的凹凸、空洞等而形成平坦且具有光泽的表面。由此，通过这样地在模具用基材表面实施镀铜，即使在后述的第2镀敷工序中实施镀铬，也可以消除被认为是由基材存在的微小凹凸、空洞引起的镀铬表面的粗糙。因此，即使在模具用基材成型面制成基于指定图案的表面凹凸形状(微细凹凸表面形状)，也能够充分防止因微小的凹凸、空洞等基底(模具用基材)表面的影响引起的偏差。

作为在第1镀敷工序的镀铜中使用的铜，可以使用铜的纯金属，也可以使用以铜为主成分的合金(铜合金)。因此，用于镀铜的“铜”是包含铜及铜合金的概念。镀铜可以是电镀、也可以是无电镀，但第1镀敷工序的镀铜优选采用电镀。进一步，第1镀敷工序中的优选的镀层不仅为由铜镀层构成的镀层，也可以是由铜镀层和由铜以外的金属形成的镀层层叠而成的镀层。

在模具用基材的表面上实施镀铜而形成的镀层如果过薄，则无法彻底排除基底表面的影响(微小的凹凸、空洞、裂纹等)，因此其厚度优选为50μm以上。镀层厚度的上限并不存在临界，但从成本等方面考虑，优选为500μm左右以下。

模具用基材优选为由金属材料制成的基材。进一步，从成本的观点出发，作为该金属材料的材质，优选铝、铁等。进一步，从模具用基材的操作的便利性方面考虑，特别优选将由轻质的铝制成的基材作为模具用基材。需要说明的是，这里的所述铝、铁也分别无需为纯金属，也可以是以铝或铁为主成分的合金。

模具用基材的形状只要是相对于本发明的防眩膜的制造方法而言适当的形状即可。具体而言，可以从平板状基材、圆柱状基材或圆筒状(筒状)基材等中选择。连续制造本发明的防眩膜的情况下，优选模具为筒状。这样的模具可由筒状的模具用基材制造。

[2]第1研磨工序

在接下来的第1研磨工序中，对在上述第1镀敷工序中实施了镀铜的模具用基材的表面(镀层)进行研磨。在本发明的防眩膜的制造方法中采用的模具的制造方法中，优选经过该第1研磨工序将模具用基材表面研磨至接近于镜面的状态。对于作为模具用基材使用的平板状基材、筒状基材的市售品，为了使其达到所期望的精度，多实施切削、磨削等机械加工，而由此会在模具用基材表面残留微细的加工痕迹。这样一来，即使通过第1镀敷工序而形成了镀敷(优选为镀铜)层，有时也会残留上述加工痕迹。另外，即使实施了第1镀敷工序中的镀敷，也未必会使模具用基材的表面达到完全平滑。即，即使对具有这样的残留有深度加工痕迹等的表面的模具用基材实施后述的[3]～[10]的工序，所得模具表面的表面凹凸形状也可能与基于指定图案的表面凹凸形状存在差异，或者，可能会包含由加工痕迹等引起的凹凸。使用残留有加工痕迹等的影响的模具来制造防眩膜的情况下，可能无法充分显示出目标的防眩性等光学特性，造成无法预期的影响。

第1研磨工序中采用的研磨方法没有特殊限定，可根据作为研磨对象的模具用基材的形状、性状而选择研磨方法。作为可应用于第1研磨工序的研磨方法的具体例，可列举机械研磨法、电解研磨法及化学研磨法等。其中，作为机械研磨法，可使用超精加工法、抛光、流体研磨法、抛光轮研磨法等中的任意方法。另外，也可以通过在研磨工序中使用切削工具进行镜面切削，从而使模具用基材的表面成为镜面。就此时的切削工具的材质、形状而言，可根据模具用基材的材质(金属材料)的种类而使用超硬刀具、CBN刀具、陶瓷刀具、金刚石刀具等，但从加工精度的观点出发，优选使用金刚石刀具。研磨后的表面粗糙度以基于JIS B 0601标准的中心线平均粗糙度Ra表示，优选为0.1μm以下、更优选为0.05μm以下。研磨后的中心线平均粗糙度Ra大于0.1μm时，可能会在最终得到的模具的模具凹凸表面残留该表面粗糙度的影响。另外，中心线平均粗糙度Ra的下限没有特殊限制。因此，从第1研磨工序中的加工时间(研磨时间)、加工成本的观点出发来确定下限即可。

[3]感光性树脂膜形成工序

以下，结合图8对感光性树脂膜形成工序进行说明。

在感光性树脂膜形成工序中，在上述的通过第1研磨工序而得到的实施了镜面研磨的模具用基材40的表面41涂布将感光性树脂溶解于溶剂而成的溶液(感光性树脂溶液)，并进行加热、干燥，由此形成感光性树脂膜(光刻胶膜)。图8中示意性地示出了在模具用基材40的表面41形成有感光性树脂膜50的状态(图8(b))。

作为感光性树脂，可使用传统公知的感光性树脂，也可以将已作为光刻胶而市售的树脂直接、或根据需要经过过滤等进行精制之后使用。例如，作为具有感光部分发生固化的性质的负型的感光性树脂，可使用分子中具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的(甲基)丙烯酸酯的单体或预聚物、双叠氮化物(bisazide)与二烯橡胶的混合物、聚肉桂酸乙烯酯类化合物等。另外，作为具有通过显影而发生感光部分的溶出、仅残留未感光部分的性质的正型的感光性树脂，可使用酚醛树脂类、线型酚醛型树脂类等。这样的正型或负型的感光性树脂也可以作为正性光刻胶或负性光刻胶而从市场上容易地获取。另外，感光性树脂溶液中还可以根据需要而配合敏化剂、显影促进剂、密合性改善剂、涂布性改良剂等各种添加剂，也可以将这样的添加剂与市售的光刻胶混合后作为感光性树脂溶液使用。

为了将这些感光性树脂溶液涂布于模具用基材40的表面41，从形成更平滑的感光性树脂膜的观点考虑，优选选择最适合的溶剂，使用将感光性树脂溶解于这样的溶剂中并进行稀释而得到的感光性树脂溶液。这样的溶剂可根据感光性树脂的种类及其溶解性来选择。具体而言，可以从例如溶纤剂类溶剂、丙二醇类溶剂、酯类溶剂、醇类溶剂、酮类溶剂、高极性溶剂等中选择。使用市售的光刻胶的情况下，可以根据该光刻胶中所含的溶剂的种类、或进行适当的预备实验来选择最适合的光刻胶，并将其作为感光性树脂溶液使用。

作为在模具用基材的经过了镜面研磨的表面涂布感光性树脂溶液的方法，可以根据该模具用基材的形状等从下述公知的方法中选择：弯月面涂布、喷注式涂布、浸涂、旋涂、辊涂、绕线棒涂布、气刀涂布、刮涂、幕式淋涂、环涂法(ring coat)等。涂布后的感光性树脂膜的厚度以干燥后的厚度计优选为1～10μm的范围、更优选为6～9μm的范围。

[4]曝光工序

接下来的曝光工序是通过对上述在感光性树脂膜形成工序中形成的感光性树脂膜50进行曝光，从而将目标的图案转印至该感光性树脂膜50的工序。用于曝光工序的光源根据感光性树脂膜中所含的感光性树脂的感光波长、灵敏度等而适当选择即可，例如，可以使用：高压水银灯的g射线(波长:436nm)、h射线(波长:405nm)、或i射线(波长:365nm)、半导体激光(波长:830nm、532nm、488nm、405nm等)、YAG激光(波长:1064nm)、KrF准分子激光(波长:248nm)、ArF准分子激光(波长:193nm)、F2准分子激光(波长:157nm)等。曝光方式可以是使用与目标的图案相对应的掩模进行一次性曝光的方式，也可以是描绘方式。需要说明的是，所述目标的图案，正如上述已说明过的，是使一维功率谱在空间频率下的强度比Γ(0.01)/Γ(0.002)、Γ(0.02)/Γ(0.002)、及Γ(0.04)/Γ(0.002)分别在指定的优选范围的图案。

在模具的制造方法中，为了以更高精度形成该模具的表面凹凸形状，优选在于感光性树脂膜上精密地控制目标图案的状态下进行曝光。为了在这样的状态下进行曝光，优选在计算机上将目标的图案作成图像数据，利用由被计算机控制的激光器头发出的激光在感光性树脂膜上描绘(激光描绘)基于该图像数据的图案。进行激光描绘时，可以使用例如在印刷版制作等中通用的激光描绘装置。作为这样的激光描绘装置的市售品，可列举例如LaserStream FX((株)Think Laboratory制)等。

图8(c)示意性地示出了对感光性树脂膜50曝光图案的状态。感光性树脂膜50包含负型的感光性树脂的情况下(例如，使用负性光刻胶作为感光性树脂溶液的情况下)，发生了曝光的区域51接受曝光能而发生感光性树脂的交联反应，因而在后述显影液中的溶解性降低。由此，在显影工序中，未发生曝光的区域52被显影液溶解，仅发生了曝光的区域51残留于基材表面上，成为掩模60。另一方面，感光性树脂膜50包含正型的感光性树脂的情况下(例如，使用正性光刻胶作为感光性树脂溶液的情况下)，发生了曝光的区域51接受曝光能而发生感光性树脂的断键等，由此变得容易溶解于后述的显影液。由此，在显影工序中，发生了曝光的区域51被显影液溶解，仅未发生曝光的区域52残留于基材表面上，成为掩模60。

[5]显影工序

在显影工序中，在感光性树脂膜50包含负型的感光性树脂的情况下，未发生曝光的区域52被显影液溶解，发生了曝光的区域51残存于模具用基材上，成为掩模60。另一方面，感光性树脂膜50包含正型的感光性树脂的情况下，仅发生了曝光的区域51被显影液溶解，未发生曝光的区域52残存于模具用基材上，成为掩模60。对于以感光性树脂膜的形式形成了指定图案的模具用基材而言，在第1蚀刻工序中，残存于模具用基材上的感光性树脂膜作为后述第1蚀刻工序中的掩模发挥作用。

对于用于显影工序的显影液，可以根据所使用的感光性树脂的种类从传统公知的显影液中选择适当的显影液。例如，该显影液可列举：溶解有氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸钠、氨水这样的无机碱类；乙胺、正丙胺这样的伯胺类；二乙胺、二正丁基胺这样的仲胺；三乙胺、甲基二乙基胺这样的叔胺类；二甲基乙醇胺、三乙醇胺这样的醇胺类；四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、三甲基羟乙基氢氧化铵这样的季铵化合物；吡咯、哌啶这样的环状胺类等的碱性水溶液；二甲苯、甲苯这样的有机溶剂等。

显影工序中的显影方法没有特殊限制，可采用浸渍显影、喷射显影、刷式显影、超声波显影等。

图8(d)示意性地示出了使用负型的树脂作为感光性树脂而进行显影工序之后的状态。图8(d)中，未发生曝光的区域52被显影液溶解，仅发生了曝光的区域51残留于基材表面上，该区域的感光性树脂膜成为掩模60。图8(e)示意性地示出了使用正型的树脂作为感光性树脂而进行显影工序之后的状态。图8(e)中，发生了曝光的区域51被显影液溶解，仅未发生曝光的区域52残留于基材表面上，该区域的感光性树脂膜成为掩模60。

[6]第1蚀刻工序

第1蚀刻工序是使用上述在显影工序后残存于模具用基材表面上的感光性树脂膜作为掩模，对模具用基材表面中主要处于无掩模的区域的镀层进行蚀刻的工序。

图9示意性地示出了模具制造方法的后半部分的优选的一例。图9(a)示意性地示出了通过蚀刻工序主要将无掩模区域的镀层蚀刻之后的状态。由于感光性树脂膜作为掩模60发挥作用，因此掩模60的下部的镀层未被蚀刻，但随着蚀刻的进行，从无掩模的区域45开始的蚀刻得以进行。由此，在存在掩模60的区域和无掩模的区域45的边界附近，位于掩模60的下部的镀层也会被蚀刻。这样，将在存在掩模60的区域和无掩模的区域45的边界附近掩模60下部的镀层也被蚀刻的情况称为侧蚀刻。

第1蚀刻工序中的蚀刻处理通常通过如下操作进行：使用氯化铁(FeCl₃)液、氯化铜(CuCl₂)液、碱蚀刻液(Cu(NH₃)₄Cl₂)等蚀刻液，使模具用基材表面中主要位于无掩模60的区域的镀层(金属表面)腐蚀。作为该蚀刻处理，可以使用盐酸、硫酸等强酸作为蚀刻液，在通过电镀来形成该镀层时，也可以通过采用施加与电镀时相反的电位的反电解蚀刻来进行蚀刻处理。实施蚀刻处理时在模具用基材上形成的表面凹凸形状根据模具用基材的构成材料(金属材料)或镀层的种类、感光性树脂膜的种类、及蚀刻工序中蚀刻处理的种类等而异，不能一概而论，但在蚀刻量为10μm以下的情况下，从与蚀刻液接触的模具用基材表面起基本各向同性地被蚀刻。这里的所述蚀刻量是指，因蚀刻而被削减的镀层的厚度。

第1蚀刻工序中的蚀刻量优选为1～20μm、更优选为2～8μm、进一步优选为3～5μm。蚀刻量低于1μm的情况下，模具上基本不会形成表面凹凸形状，得到的是具有几乎平坦的表面的模具，因此即使使用该模具来制造防眩膜，所得防眩膜也基本不会具有表面凹凸形状。而就配置了这样的防眩膜的图像显示装置而言，无法显示出充分的防眩性。另外，在蚀刻量过大的情况下，易导致最终得到的模具凹凸表面的凹凸的高低差较大。即使使用该模具来制造防眩膜，也可能导致比值R_SCE/R_SCI高于0.1，而就配置了该防眩膜的图像显示装置而言，可能无法充分防止泛白的发生。蚀刻工序中的蚀刻处理可以仅通过1次的蚀刻处理进行，也可以分2次以上进行蚀刻处理。其中，在将蚀刻处理分2次以上进行的情况下，优选2次以上的蚀刻处理中的蚀刻量的总和为1～20μm。

[7]感光性树脂膜剥离工序

接下来的感光性树脂膜剥离工序是将在第1蚀刻工序中作为掩模60发挥作用并残存于模具用基材上的感光性树脂膜除去的工序，优选通过该工序将残存于模具用基材上的感光性树脂膜完全除去。在感光性树脂膜剥离工序中，优选使用剥离液将感光性树脂膜溶解。作为剥离液，可使用通过将作为显影液而列举的材料的浓度、pH等进行变更而制备的溶液。或者，也可以使用与在显影工序中使用的显影液相同的溶液，通过相对于显影工序改变温度、浸渍时间等来将感光性树脂膜剥离。在感光性树脂膜剥离工序中，对于剥离液与模具用基材的接触方法(剥离方法)没有特殊限制，可采用浸渍剥离、喷射剥离、刷式剥离、超声波剥离等。

图9(b)示意性地示出了通过感光性树脂膜剥离工序将在第1蚀刻工序中作为掩模60使用的感光性树脂膜完全溶解而除去的状态。通过由感光性树脂膜构成的掩模60、和蚀刻处理，在模具用基材表面形成了第1表面凹凸形状46。

[8]第2蚀刻工序

第2蚀刻工序是用于通过进一步的蚀刻处理(第2蚀刻处理)使经第1蚀刻工序而形成的第1表面凹凸形状46钝化的工序。通过该第2蚀刻处理，在经第1蚀刻处理而形成的第1表面凹凸形状46处，表面倾斜急剧的部分消失(以下，将这样的使表面凹凸形状中表面倾斜急剧的部分钝化的情况称为“形状钝化”)。图9(c)示出了下述状态：通过利用第2蚀刻处理使模具用基材40的第1表面凹凸形状46发生形状钝化，从而，表面倾斜急剧的部分钝化，形成了具有缓和的表面倾斜的第2表面凹凸形状47。如上所述地进行第2蚀刻处理而得到的模具具有使使用该模具而制造的本发明的防眩膜的光学特性变得更为理想的效果。

第2蚀刻工序的第2蚀刻处理也可以采用使用与第1蚀刻工序同样的蚀刻液的蚀刻处理及反电解蚀刻。第2蚀刻处理后的形状钝化的程度(第1蚀刻工序后的表面凹凸形状中表面倾斜急剧的部分的消失程度)根据模具用基材的材质、第2蚀刻处理的方法、以及经第1蚀刻工序而得到的表面凹凸形状中凹凸的尺寸和深度等而异，因此不能一概而论，但在控制钝化的情况(形状钝化的程度)方面最重要的因素是第2蚀刻处理中的蚀刻量。这里的所述蚀刻量也与第1蚀刻工序的情况同样地，以因第2蚀刻处理而被削减的基材的厚度表示。如果第2蚀刻处理的蚀刻量小，则对于通过第1蚀刻工序而得到的表面凹凸形状的形状钝化的效果变得不充分。因此，使用形状钝化不充分的模具制造的防眩膜有时会发生泛白。另一方面，如果第2蚀刻处理中的蚀刻量过大，则经第1蚀刻工序而形成的表面凹凸形状的凹凸基本消失，可能会得到具有几乎平坦的表面的模具。使用这样的具有几乎平坦的表面的模具制造的防眩膜，其防眩性可能不充分。因此，第2蚀刻处理的蚀刻量优选在1～50μm的范围内、更优选在6～21μm的范围内、进一步优选在12～15μm的范围内。关于第2蚀刻处理，也与第1蚀刻工序同样地，可通过1次的蚀刻处理进行，也可以分2次以上进行蚀刻处理。其中，在将蚀刻处理分2次以上进行的情况下，优选2次以上的蚀刻处理中的蚀刻量的总和为1～50μm。

[9]第2镀敷工序

第2镀敷工序中，对经过了上述[6]及[7]的工序的模具用基材、优选为经过了上述[6]～[8]的工序的模具用基材的表面实施镀敷(优选为后述的镀铬)。通过进行第2镀敷工序，在使模具用基材的表面凹凸形状47钝化的同时，可通过该镀敷来保护模具表面。图9(d)示出了通过在如上所述地经第2蚀刻处理而形成的第2表面凹凸形状47上形成镀铬层71，表面凹凸形状发生了形状钝化(模具凹凸表面70)的状态。

作为通过第2镀敷工序而形成的镀层，从具有光泽、硬度高、摩擦系数小、可获得良好的脱模性的方面考虑，优选镀铬。镀铬中，特别优选被称为所谓的光泽镀铬、装饰用镀铬等的显示良好光泽的镀铬。镀铬通常通过电解来进行，作为其镀敷浴，可使用包含无水铬酸(CrO₃)和少量的硫酸的水溶液作为镀敷液。通过调节电流密度和电解时间，可控制镀铬层的厚度。

通过对第2蚀刻处理后的模具用基材表面的表面凹凸形状实施镀铬，可以获得发生了形状钝化、同时其表面硬度得到了提高的模具。在控制此时的形状钝化的程度方面最重要的因素是镀铬层的厚度。如果该厚度薄，则形状钝化的程度不充分，使用这样的模具而得到的防眩膜可能会发生泛白。另一方面，如果镀铬层的厚度过厚，则会导致防眩性变得不充分。本发明人等发现，对于用以获得可充分防止泛白的发生、具有优异防眩性的图像显示装置的防眩膜而言，以使镀铬层的厚度达到指定范围的方式制造模具是有效的。即，镀铬层的厚度优选在2～10μm的范围内、更优选在3～6μm的范围内。

对于经第2镀敷工序而形成的镀铬层而言，优选以使维氏硬度达到800以上的方式形成、更优选以使维氏硬度达到1000以上的方式形成。镀铬层的维氏硬度低于800的情况下，使用模具来制造防眩膜时，存在导致该模具的耐久性降低的倾向。

[10]第2研磨工序

模具制造的最后阶段是对在上述第2镀敷工序中实施了镀铬的模具用基材的表面(镀铬层)进行研磨的第2研磨工序。镀铬具有光泽、硬度高、摩擦系数小、具有良好的脱模性，但由于形成镀铬层时的高内部应力，会导致表面产生微裂纹。在用于本发明的防眩膜的制造方法的模具的制造方法中，优选经过该第2研磨工序而消除由镀铬的微裂纹引起的微少的表面形状的粗糙。使用残留有由镀铬的微裂纹引起的表面形状的粗糙的模具来制造防眩膜的情况下，存在导致在表面的散射增强、发生泛白的隐患。另外，微裂纹的发生密度存在分布的情况下，使用该模具制造的防眩膜产生散射强的部位和散射弱的部位，可能引发不均。

适用于第2研磨工序的研磨方法优选为不会对经第2镀敷工序而形成的模具凹凸表面70造成些许影响、仅选择性地研磨由微裂纹引起的表面形状的粗糙的方法。作为这样的研磨方法的具体例，可列举抛光、流体研磨法、喷砂研磨法等。作为第2研磨工序中镀铬层被削减的量的研磨量优选为0.03μm以上且0.2μm以下。研磨量低于0.03μm的情况下，消除由微裂纹引起的表面形状的粗糙的效果变得不充分。另一方面，研磨量超过0.2μm的情况下，会导致在模具凹凸表面70产生平坦的区域。使用产生了平坦区域的模具来制造防眩膜的情况下，存在导致防眩性变得不充分的隐患。

以下，针对作为用以制造本发明的防眩膜的方法而优选的上述光压花法进行说明。如上所述，作为光压花法，特别优选UV压花法，这里，针对使用活性能量射线固化性树脂的压花法进行具体说明。

为了连续地制造本发明的防眩膜而通过光压花法制造本发明的防眩膜的情况下，优选包括下述工序:

[P1]涂敷工序：在被连续搬运的透明支承体上涂敷含有活性能量射线固化性树脂的涂敷液，从而形成涂敷层；

[P2]主固化工序：在将模具表面推压于涂敷层表面的状态下，从透明支承体侧照射活性能量射线。

另外，在通过光压花法制造本发明的防眩膜的情况下，更优选包括下述工序：

[P3]预固化工序：在涂敷工序[P1]之后、固化工序[P2]之前，对涂敷层的宽度方向的两侧的端部区域照射活性能量射线。

以下，结合附图对各工序进行详细说明。图10示意性地示出了用于本发明的防眩膜的制造方法的制造装置的优选的一例。图10中的箭头表示膜的搬运方向或辊的旋转方向。

[P1]涂敷工序

涂敷工序中，在透明支承体上涂敷含有活性能量射线固化性树脂的涂敷液，从而形成涂敷层。涂敷工序如图10所示那样，相对于从导出辊80被导出的透明支承体81，在涂敷区83涂布含有活性能量射线固化性树脂组合物的涂敷液。

涂敷液在透明支承体81上的涂敷可通过例如凹版涂布法、微凹版涂布法、棒涂法、刮刀涂布法、气刀涂布法、舐涂法、模涂法等进行。

(透明支承体)

透明支承体81只要是具有透光性的支承体即可，可使用例如玻璃、塑料膜等。作为塑料膜，只要具有适度的透明性、机械强度即可。具体而言，可使用上述作为用于UV压花法的透明支承体而列举的支承体中的任意支承体，进一步，为了通过光压花法连续地制造本发明的防眩膜，可选择具有适度的挠性的材料。

出于改良涂敷液的涂敷性、改良透明支承体与涂敷层的粘接性的目的，可以对透明支承体81的表面(涂敷层侧表面)实施各种表面处理。作为表面处理，可列举：电晕放电处理、辉光放电处理、酸表面处理、碱表面处理、紫外线照射处理等。另外，也可以在透明支承体81上形成例如底涂层等其它层，并在该其它层上涂敷涂敷液。

另外，作为本发明的防眩膜，制造与偏振膜一体化了防眩膜的情况下，为了提高透明支承体与偏振膜之间的粘接性，优选预先通过各种表面处理对透明支承体的表面(与涂敷层相反一侧的表面)进行亲水化。该表面处理也可以在防眩膜的制造后进行。

(涂敷液)

涂敷液含有活性能量射线固化性树脂，通常进一步包含光聚合引发剂(自由基聚合引发剂)。也可以根据需要而包含透光性微粒、有机溶剂等溶剂、流平剂、分散剂、抗静电剂、防污剂、表面活性剂等各种添加剂。

(1)活性能量射线固化性树脂

作为活性能量射线固化性树脂，可优选使用例如含有多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的树脂。所述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，是分子中具有至少2个(甲基)丙烯酰氧基的化合物。作为多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的具体例，可列举例如：多元醇与(甲基)丙烯酸形成的酯化合物、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物、聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物、环氧(甲基)丙烯酸酯化合物等包含2个以上(甲基)丙烯酰基的多官能聚合性化合物等。

作为多元醇，可列举例如：乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇、丙二醇(プロピレングリコール)、二丙二醇、三丙二醇、四丙二醇、聚丙二醇、丙二醇(プロパンジオール)、丁二醇、戊二醇、己二醇、新戊二醇、2-乙基-1,3-己二醇、2,2’-硫代双乙醇、1,4-环己烷二甲醇这样的2元醇；三羟甲基丙烷、丙三醇、季戊四醇、二丙三醇、二季戊四醇、双三羟甲基丙烷这样的3元以上的醇。

作为多元醇与(甲基)丙烯酸形成的酯化物，具体可列举：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、五聚甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。

作为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，可列举1分子中具有多个异氰酸酯基的有机异氰酸酯与具有羟基的(甲基)丙烯酸衍生物的氨酯化反应物。作为1分子中具有多个异氰酸酯基的有机异氰酸酯，可列举：六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、二环己基甲烷二异氰酸酯等1分子中具有2个异氰酸酯基的有机异氰酸酯、这些有机异氰酸酯经异氰脲酸酯改性、加合物改性、缩二脲改性而成的1分子中具有3个异氰酸酯基的有机异氰酸酯等。作为具有羟基的(甲基)丙烯酸衍生物，可列举：(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯、季戊四醇三丙烯酸酯。

作为聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物，优选为使含羟基聚酯与(甲基)丙烯酸反应而得到的聚酯(甲基)丙烯酸酯。优选使用的含羟基聚酯是由多元醇与羧酸、或具有多个羧基的化合物和/或其酸酐经酯化反应而得到的含羟基聚酯。作为多元醇，可列举与前述化合物相同的多元醇。另外，除多元醇以外，还可列举作为酚类的双酚A等。作为羧酸，可列举甲酸、乙酸、丁基羧酸、苯甲酸等。作为具有多个羧基的化合物和/或其酸酐，可列举：马来酸、邻苯二甲酸、富马酸、衣康酸、己二酸、对苯二甲酸、马来酸酐、邻苯二甲酸酐、偏苯三甲酸、环己烷二甲酸酐等。

在如上所述的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物中，从其固化物的强度提高及获取的容易性方面考虑，优选己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等酯化合物；六亚甲基二异氰酸酯与(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯的加成物；异佛尔酮二异氰酸酯与(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯的加成物；甲苯二异氰酸酯与(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯的加成物；加合物改性异佛尔酮二异氰酸酯与(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯的加成物；以及缩二脲改性异佛尔酮二异氰酸酯与(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯的加成物。进一步，这些多官能(甲基)丙烯酸酯化合物可以分别单独使用，或将2种以上组合使用。

活性能量射线固化性树脂中除了上述的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物以外，也可以含有单官能(甲基)丙烯酸酯化合物。作为单官能(甲基)丙烯酸酯化合物，可列举例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酰吗啉、N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、乙酰基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁基酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性苯氧基(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性(甲基)丙烯酸酯、壬基酚(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性壬基酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-2-羟基丙基邻苯二甲酸酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯类。这些化合物可以分别单独使用，或将2种以上组合使用。

另外，活性能量射线固化性树脂也可以含有聚合性低聚物。通过含有聚合性低聚物，可以调整固化物的硬度。聚合性低聚物可以是例如上述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物、即多元醇与(甲基)丙烯酸形成的酯化合物、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物、聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物或环氧(甲基)丙烯酸酯等的二聚物、三聚物等这样的低聚物。

作为其它的聚合性低聚物，可列举：由分子中具有至少2个异氰酸酯基的多异氰酸酯和具有至少1个(甲基)丙烯酰氧基的多元醇经反应而得到的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物。作为多异氰酸酯，可列举：六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯的聚合物等，作为具有至少1个(甲基)丙烯酰氧基的多元醇，可列举由多元醇与(甲基)丙烯酸经酯化反应而得到的含羟基(甲基)丙烯酸酯，且多元醇为例如1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、二乙二醇、三乙二醇、新戊二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、三羟甲基丙烷、甘油、季戊四醇、二季戊四醇等。该具有至少1个(甲基)丙烯酰氧基的多元醇是多元醇的醇性羟基的一部分与(甲基)丙烯酸发生酯化反应、并且有醇性羟基残存于分子中的多元醇。

另外，作为其它的聚合性低聚物的例子，可列举由具有多个羧基的化合物和/或其酸酐与具有至少1个(甲基)丙烯酰氧基的多元醇经反应而得到的聚酯(甲基)丙烯酸酯低聚物。作为具有多个羧基的化合物和/或其酸酐，可列举与在上述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的聚酯(甲基)丙烯酸酯中记载的相同的化合物和/或其酸酐。另外，作为具有至少1个(甲基)丙烯酰氧基的多元醇，可列举与在上述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物中记载的相同的多元醇。

除了如上所述的聚合性低聚物以外，作为氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物的例子，可以进一步列举：使异氰酸酯类与含羟基聚酯、含羟基聚醚或含羟基(甲基)丙烯酸酯的羟基反应而得到的化合物。优选使用的含羟基聚酯是由多元醇与羧酸或具有多个羧基的化合物和/或其酸酐经酯化反应而得到的含羟基聚酯。作为多元醇、具有多个羧基的化合物和/或其酸酐，分别可列举与在多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物中记载的相同的化合物。优选使用的含羟基聚醚是通过在多元醇上加成1种或2种以上的氧化烯烃和/或ε-己内酯而得到的含羟基聚醚。多元醇可以是与可用于上述含羟基聚酯的多元醇相同的多元醇。作为优选使用的含羟基(甲基)丙烯酸酯，可列举与在聚合性低聚物的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物中记载的相同的含羟基(甲基)丙烯酸酯。作为异氰酸酯类，优选分子中具有1个以上异氰酸酯基的化合物，特别优选甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯等2价异氰酸酯化合物。

这些聚合性低聚物化合物分别可以单独使用、或将2种以上组合使用。

(2)光聚合引发剂

光聚合引发剂可根据适用于本发明的防眩膜制造的活性能量射线的种类而适当选择。另外，使用电子束作为活性能量射线的情况下，有时也将不含有光聚合引发剂的涂敷液用于本发明的防眩膜制造。

作为光聚合引发剂，可使用例如：苯乙酮系光聚合引发剂、苯偶姻系光聚合引发剂、二苯甲酮系光聚合引发剂、噻吨酮系光聚合引发剂、三嗪系光聚合引发剂、噁二唑系光聚合引发剂等。另外，作为光聚合引发剂，还可以使用例如：2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、2,2’-双(邻氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-双咪唑、10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、苯偶酰、9,10-菲醌、樟脑醌、苯甲酰甲酸甲酯、二茂钛化合物等。相对于活性能量射线固化性树脂100重量份，光聚合引发剂的使用量通常为0.5～20重量份、优选为1～5重量份。

为了改良涂敷液相对于透明支承体的涂敷性，涂敷液中有时也包含有机溶剂等溶剂。作为有机溶剂，可以考虑到粘度等而从下述溶剂中选择使用：己烷、环己烷、辛烷等脂肪族烃；甲苯、二甲苯等芳香族烃；乙醇、1-丙醇、异丙醇、1-丁醇、环己醇等醇类；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸异丁酯等酯类；乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、二乙二醇单乙基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚等二醇醚类；乙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯等酯化二醇醚类；2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇等溶纤剂类；2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇、2-(2-乙氧基乙氧基)乙醇、2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇等卡必醇类等。这些溶剂可以单独使用，也可以根据需要而将多种混合使用。涂敷后，需要使上述有机溶剂蒸发。为此，优选沸点在60℃～160℃的范围。另外，优选20℃下的饱和蒸气压在0.1kPa～20kPa的范围。

涂敷液包含溶剂的情况下，优选在上述涂敷工序之后、第1固化工序之前设置使溶剂蒸发而进行干燥的干燥工序。干燥可以如图10所示的例子那样，通过使具备涂敷层的透明支承体81在干燥区84内通过来进行。干燥温度可根据所使用的溶剂、透明支承体的种类而适当选择。通常在20℃～120℃的范围，但并不限定于此。另外，干燥炉具有多个的情况下，可以针对每个干燥炉改变温度。干燥后的涂敷层的厚度优选为1～30μm。

由此，可形成透明支承体和涂敷层层叠而成的层叠体。

[P2]固化工序

本工序是通过在将具有所期望的表面凹凸形状的模具凹凸表面(成型面)推压于涂敷层表面的状态下从透明支承体侧照射活性能量射线，使涂敷层固化，从而在透明支承体上形成固化的树脂层的工序。由此，可以在使涂敷层固化的同时，将模具凹凸表面的表面凹凸形状转印于涂敷层表面。这里使用的模具是筒状的模具，是利用上述说明过的模具制造方法、使用筒状的模具用基材而制造的模具。

本工序可以如图10所示那样，例如，通过利用配置于透明支承体81侧的紫外线照射装置等活性能量射线照射装置86对在涂敷区83(进行干燥的情况下，为干燥区84，进行后述的预固化工序的情况下，进一步包括进行基于活性能量射线照射装置86的照射的预固化区)通过的具有涂敷层的层叠体照射活性能量射线而进行。

首先，利用夹持辊88等压合装置将筒状的模具87推压于经过了固化工序后的层叠体的涂敷层的表面，并在该状态下，使用活性能量射线照射装置86从透明支承体81侧照射活性能量射线，从而使涂敷层82固化。这里，所述“使涂敷层固化”是指，使该涂敷层中所含的活性能量射线固化性树脂接受活性能量射线的能量而发生固化反应。使用夹持辊对于防止气泡混入层叠体的涂敷层与模具之间而言是有效的。活性能量射线照射装置可以使用1台，也可以使用多台。

照射活性能量射线之后，层叠体以出口侧的夹持辊89为支点从模具87剥离。就所得透明支承体与固化的涂敷层而言，该固化的涂敷层成为防眩层，得到本发明的防眩膜。所得防眩膜通常被膜卷绕装置90卷绕。此时，出于保护防眩层的目的，可以在隔着具有再剥离性的粘合剂层在防眩层表面贴合由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯等构成的保护膜的同时进行卷绕。需要说明的是，这里所使用的模具已针对筒状模具的情况进行了说明，但也可以使用筒状以外的模具。另外，也可以在从模具剥离之后进行追加的活性能量射线照射。

作为本工序中使用的活性能量射线，可根据涂敷液中包含的活性能量射线固化性树脂的种类而从紫外线、电子束、近紫外线、可见光、近红外线、红外线、X射线等中适当选择，这些中，优选紫外线及电子束，从操作简便、可获得高能量方面考虑，特别优选紫外线(如上所述，作为光压花法，优选UV压花法)。

作为紫外线的光源，可使用例如：低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、碳弧灯、无极灯、金属卤化物灯、氙弧灯等。另外，还可以使用ArF准分子激光、KrF准分子激光、准分子灯或同步辐射光等。这些中，优选使用超高压水银灯、高压水银灯、低压水银灯、无极灯、氙弧灯、金属卤化物灯。

另外，作为电子束，可列举由科克罗夫特-沃尔顿(Cockcroft Walton)型、范德格拉夫(Van de Graaff)型、谐振变压型、绝缘芯变压型、直线型、地那米(Dynamitron)型、高频型等的各种电子束加速器释放的具有50～1000keV、优选100～300keV的能量的电子束。

活性能量射线为紫外线的情况下，紫外线的UVA下的累计光量优选为100mJ/cm²以上且3000mJ/cm²以下、更优选为200mJ/cm²以上且2000mJ/cm²以下。另外，由于也存在透明支承体吸收短波长侧的紫外线的情况，因此，为了抑制该吸收，有时也对照射量加以调整、使得包含可见光的波长范围的紫外线UVV(395～445nm)下的累计光量达到优选。所述的UVV下的累计光量优选为100mJ/cm²以上且3000mJ/cm²以下、更优选为200mJ/cm²以上且2000mJ/cm²以下。累计光量低于100mJ/cm²的情况下，涂敷层的固化不充分，存在导致所得防眩层的硬度降低、或未固化的树脂附着于导辊等而成为引起工序污染的原因的倾向。另外，累计光量超过3000mJ/cm²的情况下，由紫外线照射装置放射的热可能会成为导致透明支承体收缩而起皱的原因。

[P3]预固化工序

本工序是在上述固化工序之前向涂敷层的透明支承体的宽度方向的两侧的端部区域照射活性能量射线，从而使该两端部区域预固化的工序。图11是示意性地示出了预固化工序的剖面图。在图11中，涂敷层的宽度方向(与搬运方向垂直的方向)的端部区域82b是包含涂敷层的端部在内并从端部起指定宽度的区域。

在预固化工序中，通过预先使端部区域固化，可以使端部区域内与透明支承体81的密合性进一步提高，从而在固化工序后的工序中防止因固化树脂的一部分发生剥离落下而污染工序。端部区域82b可以设为从涂敷层82的端部起的例如5mm以上且50mm以下的区域。

对涂敷层的端部区域进行的活性能量射线的照射参见图10及图11，例如，可以通过利用分别设置于涂敷层82侧的两端部附近的紫外线照射装置等活性能量射线照射装置85对在涂敷区83(进行干燥的情况下，为干燥区84)通过后的具有涂敷层82的透明支承体81照射活性能量射线而进行。活性能量射线照射装置85只要是能够对涂敷层82的端部区域82b照射活性能量射线的装置即可，可以设置于透明支承体81侧。

关于活性能量射线的种类及光源，与主固化工序同样。活性能量射线为紫外线的情况下，紫外线的UVA下的累计光量优选为10mJ/cm²以上且400mJ/cm²以下、更优选为50mJ/cm²以上且400mJ/cm²以下。通过以50mJ/cm²以上的累计光量进行照射，可以更为有效地防止主固化工序中的变形。需要说明的是，累计光量超过400mJ/cm²时，固化反应过度进行，其结果，可能导致在固化部分与未固化部分的边界，由膜厚差、内部应力的畸变而引发树脂剥离。

[本发明的防眩膜的用途]

如上所述地得到的本发明的防眩膜可用于图像显示装置等，通常可作为视觉辨认侧偏振板的视觉辨认侧保护膜而贴合于偏振膜来使用(即，配置于图像显示装置的表面)。另外，如上所述，在使用偏振膜作为透明支承体的情况下，为了得到偏振膜一体型的防眩膜，也可以将这样的偏振膜一体型的防眩膜用于图像显示装置。具备本发明的防眩膜的图像显示装置在宽观察角度内具有充分的防眩性，并且可以良好地防止泛白及晃眼的发生。

[实施例]

以下，结合实施例对本发明进行更为详细的说明。例中，表示含有量或使用量的“％”及“份”在没有特殊说明的情况下为重量基准。以下例中的模具或防眩膜的评价方法如下所述。

[1]防眩膜的表面形状的测定

(根据表面凹凸形状的标高计算的复振幅的功率谱)

使用三维显微镜PLμ2300(Sensofar公司制)测定了作为测定样品的防眩膜的防眩层的表面凹凸形状的标高。为了防止样品的翘曲，使用光学透明的粘合剂，将测定样品的与防眩层相反一侧的面贴合于玻璃基板后，用于测定。测定时，将物镜的倍率设为10倍进行了测定。水平分辨率Δx及Δy均为1.66μm、测定面积为1270μm×950μm。从所得测定数据的中央部取样512个×512个(以测定面积计为850μm×850μm)数据，以二元函数h(x,y)的形式求出防眩膜所具有的表面凹凸形状(防眩层的表面凹凸形状)的标高。接着，由二元函数h(x,y)计算出二元函数ψ(x,y)形式的复振幅。计算复振幅时的波长λ为550nm。将该二元函数ψ(x,y)进行离散傅里叶变换，求出了二元函数Ψ(f_x,f_y)。将二元函数Ψ(f_x,f_y)的绝对值取平方，计算出二维功率谱的二元函数H(f_x,f_y)，计算出作为相对于原点的距离f的函数的一维功率谱的一元函数H(f)。针对各样品，对5个部位的表面凹凸形状测定标高，并将根据这些数据计算出的一维功率谱的一元函数H(f)的平均值作为各样品的一维功率谱的一元函数H(f)。

[2]防眩膜的光学特性的测定

(雾度)

防眩膜的总雾度如下地测定：对于防眩膜，使用光学透明的粘合剂，将测定样品的与防眩层相反一侧的面贴合于玻璃基板，并对贴合于该玻璃基板的防眩膜，从玻璃基板侧入射光，利用基于JIS K 7136的方法、使用(株)村上色彩技术研究所制造的雾度计“HM-150”型进行了测定。通过求出防眩膜的内部雾度、并根据下式用总雾度减去内部雾度，由此可以求出表面雾度。

表面雾度＝总雾度-内部雾度

内部雾度如下地测定：利用甘油在经过总雾度的测定后的测定样品的防眩层面贴合雾度基本为0的三乙酸纤维素膜，然后利用与总雾度相同的方法进行了测定。

(透射清晰度)

利用基于JIS K 7105的方法、使用Suga Test Instruments(株)制的映像性测定仪“ICM-1DP”测定了防眩膜的透射清晰度。此时，也为了防止样品的翘曲而使用了光学透明的粘合剂，并将测定样品的与防眩层相反一侧的面贴合于玻璃基板后用于测定。该状态下，使光从玻璃基板侧入射，进行了测定。这里的测定值，是使用暗部和明部的宽度分别为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的五种光梳分别测定得到的值的合计值。

(在光入射角45°下测定的反射清晰度)

利用基于JIS K 7105的方法、使用Suga Test Instruments(株)制的映像性测定仪“ICM-1DP”测定了防眩膜的反射清晰度。此时，也为了防止样品的翘曲而使用了光学透明的粘合剂，并将测定样品的与防眩层相反一侧的面贴合于黑色丙烯酸类树脂基板后用于测定。该状态下，使光从防眩层面侧以45°入射，进行了测定。这里的测定值，是使用暗部和明部的宽度分别为0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的四种光梳分别测定得到的值的合计值。

(在光入射角60°下测定的反射清晰度)

利用基于JIS K 7105的方法、使用Suga Test Instruments(株)制的映像性测定仪“ICM-1DP”测定了防眩膜的反射清晰度。此时，也为了防止样品的翘曲而使用了光学透明的粘合剂，并将测定样品的与防眩层相反一侧的面贴合于黑色丙烯酸类树脂基板后用于测定。该状态下，使光从防眩层面侧以60°入射，进行了测定。这里的测定值，是使用暗部和明部的宽度分别为0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的四种光梳分别测定得到的值的合计值。

(视感反射率R_SCI及视感反射率R_SCE)

使用分光测色计CM2002(Konica Minolta Sensing制)，测定了以包含正反射光方式测定的视感反射率R_SCI和以去除正反射光方式测定的视感反射率R_SCE。去除来自测定样品的与防眩层相反一侧的反射。为了防止测定样品的翘曲，使用光学透明的粘合剂将测定样品的与防眩层相反一侧的面贴合于黑色丙烯酸类树脂板后用于测定。

[3]防眩膜的防眩性能的评价

(映入、泛白的目测评价)

为了防止来自防眩膜的背面的反射，将作为测定样品的防眩膜的与防眩层相反一侧的面贴合于黑色丙烯酸类树脂板，在带有荧光灯的明亮的室内、从防眩层侧进行肉眼观察，对荧光灯的映入的程度、泛白的程度进行了目测评价。关于映入，分别针对从正面观察防眩膜时的映入程度和从斜向30°观察防眩膜时的映入程度进行了评价。映入及泛白分别按照1～3的三个等级、基于下述基准进行了评价。

映入1：未观察到映入。

2：稍微观察到映入。

3：明确地观察到映入。

泛白1：未观察到泛白。

2：稍微观察到泛白。

3：明确地观察到泛白。

(晃眼的评价)

按照下述程序评价了晃眼。即，首先，准备了如图12中以平面图示出的那样的具有单元格子图案的光掩模。该图中，单元格子100在透明的基板上、以线宽10μm形成有钩形的铬遮光图案101，未形成该铬遮光图案101的部分成为开口部102。这里，所采用的单元格子的尺寸为：211μm×70μm(图的纵×横)，因此开口部的尺寸为201μm×60μm(图的纵×横)。由多个图示的单元格子经纵横排列，形成光掩模。

然后，如图13的示意性剖面图所示那样，使光掩模113的铬遮光图案111朝上地置于灯箱115上，将利用粘合剂将防眩膜110以使其防眩层成为表面的方式贴合于玻璃板117而得到的样品置于光掩模113上。灯箱115中配置有光源116。在该状态下，于距离样品约30cm的位置119进行肉眼观察，由此分7个等级对晃眼的程度进行了感官评价。水平1对应于完全未确认到晃眼的状态、水平7对应于显著观察到晃眼的状态，水平4是极微弱地观察到晃眼的状态。

(对比度的评价)

从市售的液晶电视[索尼(株)制“KDL-32EX550”]剥离正反两面的偏振板。代替这些原始偏振板，在背面侧及显示面侧均经由粘合剂贴合住友化学(株)制偏振板“Sumikaran SRDB831E”、并使这些偏振板各自的吸收轴与原始的偏振板的吸收轴一致，然后，经由粘合剂将以下各例所示的防眩膜以其凹凸面成为表面的方式贴合在显示面侧偏振板上。将由此得到的液晶电视在暗室内启动，利用(株)TOPCON制亮度计“BM5A”型测定黑显示状态及白显示状态下的亮度，并计算出对比度。这里，对比度以白显示状态的亮度相对于黑显示状态的亮度之比表示。作为结果，将在贴合有防眩膜的状态下测定的对比度以相对于在未贴合防眩膜的状态下测定的对比度之比示出。

[4]防眩膜制造用图案的评价

使制作的图案数据为2灰度等级的二值化图像数据，用二元的离散函数g(x,y)表示灰度等级。使离散函数g(x,y)的水平分辨率Δx及Δy均为2μm。将得到的二元函数g(x,y)进行离散傅里叶变换，求出二元函数G(f_x,f_y)。将二元函数G(f_x,f_y)的绝对值取平方，计算出二维功率谱的二元函数Γ(f_x,f_y)，计算出作为相对于原点的距离f的函数的一维功率谱的一元函数Γ(f)。

<实施例1>

(防眩膜制造用模具的制作)

准备了对直径300mm的铝辊(基于JIS的A6063)表面实施重复镀铜(銅バラードめっき)而成的材料。重复镀铜由铜镀层/薄的银镀层/表面铜镀层构成，镀层整体的厚度设定为约200μm。对该镀铜表面进行镜面研磨，在经过研磨后的镀铜表面涂布感光性树脂并进行干燥，形成了感光性树脂膜。接着，利用激光将由图14所示的图案A重复排列而成的图案在感光性树脂膜上进行曝光，并进行了显影。使用Laser Stream FX((株)Think Laboratory制)进行了基于激光的曝光、及显影。作为感光性树脂膜，使用了包含正型的感光性树脂的树脂膜。这里，图案A是使具有无规亮度分布的图案通过多个高斯函数型的带通滤波器而制作的，其开口率为45％，一维功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.01μm^-1下的强度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)为4.8、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.02μm^-1下的强度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)为0.4、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.04μm^-1下的强度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)为5.5。

随后，利用氯化铜液进行了第1蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为4μm。从第1蚀刻处理后的辊除去感光性树脂膜，再次利用氯化铜液进行了第2蚀刻处理。此时的蚀刻量设定为13μm。然后，进行了镀铬加工。此时，镀铬厚度设定为4μm。在以下条件下对实施了镀铬的辊进行抛光研磨，制作了模具A。

研磨材料：Micropolish(粒度0.05μm的氧化铝研磨材料)(MusashinoElectronic株式会社制)

研磨布：Cross(Red)(Musashino Electronic株式会社制)

辊转速：60rpm

按压力：1.1kPa

(防眩膜的制作)

下述各成分按照60％的固体成分浓度溶解于乙酸乙酯，准备了在固化后可形成显示1.53的折射率的膜的紫外线固化性树脂组合物A。

季戊四醇三丙烯酸酯                     60份

多官能氨酯化丙烯酸酯                   40份

(六亚甲基二异氰酸酯与季戊四醇三丙烯酸酯的反应产物)

二苯基(2,4,6-三甲氧基苯甲酰基)氧化膦   5份

将该紫外线固化性树脂组合物A以使干燥后的涂布层的厚度达到5μm的方式涂布于厚度60μm的三乙酸纤维素(TAC)膜上，在设定于60℃的干燥器中干燥3分钟。利用橡胶辊将干燥后的膜以使干燥后的涂敷层成为模具侧的方式推压于上述得到的模具A的成型面(具有表面凹凸形状的面)并使其密合。在该状态下，从TAC膜侧照射强度20mW/cm²的来自高压水银灯的光、并使该光以h射线换算光量计达到200mJ/cm²，使涂敷层固化，由此制造了防眩膜。然后，将所得防眩膜从模具剥离，制作了在TAC膜上具备防眩层的透明的防眩膜A。

<实施例2>

除了将第1蚀刻工序中的蚀刻量设定为3μm以外，与实施例1的模具A的制作同样地制作了模具B，将模具A替换为模具B，除此以外，与实施例1同样地制作了防眩膜。将该防眩膜作为防眩膜B。

<实施例3>

除了将第1蚀刻工序中的蚀刻量设定为5μm以外，与实施例1的模具A的制作同样地制作了模具C，将模具A替换为模具C，除此以外，与实施例1同样地制作了防眩膜。将该防眩膜作为防眩膜C。

<实施例4>

除了利用激光将由图15所示的图案B重复排列而成的图案在感光性树脂膜上进行了曝光以外，与实施例1的模具A的制作同样地制作了模具D，将模具A替换为模具D，除此以外，与实施例1同样地制作了防眩膜。将该防眩膜作为防眩膜D。这里，图案B是使具有无规亮度分布的图案通过多个高斯函数型的带通滤波器而制作的，其开口率为45％，一维功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.01μm^-1下的强度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)为2.7、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.02μm^-1下的强度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)为0.5、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.04μm^-1下的强度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)为3.7。

<实施例5>

除了利用激光将由图16所示的图案C重复排列而成的图案在感光性树脂膜上进行了曝光以外，与实施例1的模具A的制作同样地制作了模具E，将模具A替换为模具E，除此以外，与实施例1同样地制作了防眩膜。将该防眩膜作为防眩膜E。这里，图案C是使具有无规亮度分布的图案通过多个高斯函数型的带通滤波器而制作的，其开口率为45％，一维功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.01μm^-1下的强度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)为3.5、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.02μm^-1下的强度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)为0.42、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.04μm^-1下的强度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)为5.5。

<比较例1>

除了将第1蚀刻工序中的蚀刻量设定为6μm以外，与实施例1的模具A的制作同样地制作了模具F，将模具A替换为模具F，除此以外，与实施例1同样地制作了防眩膜。将该防眩膜作为防眩膜F。

<比较例2>

使用了直径200mm的铝辊(基于JIS的A6063)、并利用激光将由图17所示的图案D重复排列而成的图案在感光性树脂膜上进行了曝光以外，与实施例1的模具A的制作同样地制作了模具G，将模具A替换为模具G，除此以外，与实施例1同样地制作了防眩膜。将该防眩膜作为防眩膜G。这里，图案D是使具有无规亮度分布的图案通过多个高斯函数型的带通滤波器而制作的，其开口率为45.0％，一维功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.01μm^-1下的强度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)为4.2、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.02μm^-1下的强度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)为14、空间频率0.002μm^-1下的强度Γ(0.002)与空间频率0.04μm^-1下的强度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)为208。

<比较例3>

对直径300mm的铝辊(基于JIS的A5056)的表面进行镜面研磨，使用喷砂装置((株)不二制作所制)对研磨后的铝面以喷砂压力0.1MPa(表压、下同)、珠使用量8g/cm²(辊的单位表面积1cm²的使用量、下同)喷砂氧化锆珠TZ-SX-17(东曹(株)制、平均粒径:20μm)，为铝辊表面赋予了凹凸。对得到的带凹凸的铝辊进行无电解镀镍加工，制作了模具H。此时，将无电解镀镍厚度设定为15μm。将模具A替换为模具H，除此以外，与实施例1同样地制作了防眩膜。将该防眩膜作为防眩膜H。

<比较例4>

准备了对直径200mm的铝辊(基于JIS的A5056)的表面实施重复镀铜而成的材料。重复镀铜由铜镀层/薄的银镀层/表面铜镀层构成，镀层整体的厚度为约200μm。对该镀铜表面进行镜面研磨，再使用喷砂装置((株)不二制作所制)对该研磨面以喷砂压力0.05MPa(表压、下同)、珠使用量6g/cm²喷砂氧化锆珠“TZ-SX-17”(东曹(株)制、平均粒径:20μm)，为铝辊表面赋予了凹凸。对得到的带凹凸的镀铜铝辊进行镀铬加工，制作了模具I。此时，将镀铬厚度设定为6μm。将模具A替换为模具I，除此以外，与实施例1同样地制作了防眩膜。将该防眩膜作为防眩膜I。

[评价结果]

对于上述实施例及比较例中得到的防眩膜的评价结果如表1所示。

[表1]

满足本发明的要件的防眩膜A～E(实施例1～5)虽然为低雾度，但其无论是正面还是斜向的观察角度均具有优异的防眩性，泛白及晃眼的抑制效果也充分。另一方面，防眩膜F(比较例1)发生了泛白。防眩膜G(比较例2)的从斜向观察时的防眩性不足。防眩膜H(比较例3)容易发生晃眼。防眩膜I(比较例4)的从斜向观察时的防眩性不足。

产业实用性

本发明的防眩膜适用于液晶显示器等图像显示装置。

Claims (3)

1.一种防眩膜，其具备透明支承体、和形成于该透明支承体上的具有微细的表面凹凸形状的防眩层，其中，

该防眩膜的总雾度为0.1％以上且3％以下，表面雾度为0.1％以上且2％以下，

以包含正反射光方式测定的视感反射率R_SCI和以去除正反射光方式测定的视感反射率R_SCE之比R_SCE/R_SCI为0.1以下，

利用下述功率谱计算方法求出的复振幅的功率谱满足下述(1)～(3)的全部条件：

(1)功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度H(0.002)与功率谱在空间频率0.01μm^-1下的强度H(0.01)之比H(0.01)/H(0.002)为0.02以上且0.6以下；

(2)功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度H(0.002)与功率谱在空间频率0.02μm^-1下的强度H(0.02)之比H(0.02)/H(0.002)为0.005以上且0.05以下；以及

(3)功率谱在空间频率0.002μm^-1下的强度H(0.002)与功率谱在空间频率0.04μm^-1下的强度H(0.04)之比H(0.04)/H(0.002)为0.0005以上且0.01以下，

所述功率谱计算方法包括：

(A)由所述表面凹凸形状的平均标高确定作为假想的平面的平均面；

(B)确定包含所述表面凹凸形状的标高最低的点且与所述平均面平行的作为假想的平面的最低标高面、和包含所述表面凹凸形状的标高最高的点且与所述平均面平行的作为假想的平面的最高标高面；

(C)对于从垂直于所述最低标高面的主法线方向入射并从所述最高标高面出射的波长550nm的平面波由所述表面凹凸形状的标高和防眩层的折射率计算所述最高标高面的复振幅，求出此时该复振幅的功率谱。

2.根据权利要求1所述的防眩膜，其中，

使用暗部和明部的宽度为0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的五种光梳测定的透射清晰度之和Tc为375％以上，

使用暗部和明部的宽度为0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的四种光梳以光的入射角45°测定的反射清晰度之和Rc(45)为180％以下，

使用暗部和明部的宽度为0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的四种光梳以光的入射角60°测定的反射清晰度之和Rc(60)为240％以下。

3.根据权利要求1或2所述的防眩膜，其中，

该防眩膜的所述视感反射率R_SCE为0.5％以下。