TW201534988A

TW201534988A - 防眩膜

Info

Publication number: TW201534988A
Application number: TW104103841A
Authority: TW
Inventors: Tsutomu Furuya
Original assignee: Sumitomo Chemical Co
Priority date: 2014-02-12
Filing date: 2015-02-05
Publication date: 2015-09-16
Also published as: KR20150095197A; JP2015152659A; CN104834035A

Abstract

本發明提供一種防眩膜，即使其為低霧度，於寬廣的觀察角度下亦具有優異防眩性，且當配置在影像顯示裝置時，可充分地抑制泛白及閃斑的產生。本發明之防眩膜係具備：透明支撐體、以及形成於該透明支撐體上之具有細微的表面凹凸形狀之防眩層，該防眩膜之總霧度為0.1%以上3%以下，表面霧度為0.1%以上2%以下，以正反射光射入方式所測得之視感反射率RSCI與以正反射光去除方式所測得之視感反射率RSCE之比RSCE/RSCI為0.1以下，從表面凹凸形狀的標高與防眩層的折射率所計算之複變振幅的功率譜之特定的2個空間頻率中之強度比，分別位於預定範圍內。

Description

防眩膜

本發明係關於一種防眩性優異之防眩(防眩光)膜。

液晶顯示器或電漿顯示面板、映像管(陰極射線管：CRT(Cathode Ray Tube))顯示器、有機電激發光(EL：Electroluminescence)顯示器等影像顯示裝置，為了防止因外光映射至該顯示面所導致之視覺辨識性的惡化，係將防眩膜配置在該顯示面。

防眩膜主要是探討具備表面凹凸形狀之透明膜。該防眩膜係藉由表面凹凸形狀使外光產生散射反射(外光散射光)以降低映射，而顯現防眩性。然而，當外光散射光較強時，有時會產生影像顯示裝置的顯示面整體變白，或是顯示呈現濁化之所謂「泛白」。此外，有時會產生影像顯示裝置的像素與防眩膜的表面凹凸互相干涉，形成亮度分布而變得不易觀看之所謂「閃斑」。從上述情況來看，對於防眩膜，係要求可確保優異防眩性，並且可充分地防止該「泛白」和「閃斑」的產生。

該防眩膜係例如於專利文獻1中，揭示有一種即使配置在高精細的影像顯示裝置時，亦不會產生閃斑，且可充分地防止泛白的產生防眩膜，其係在透明基材上形成有細微的表面凹凸形狀，該表面凹凸形狀之任意的剖面曲線上之平均長度PSm為12μm以下，該剖面曲線上之算術平均高度Pa與平均長度PSm之比Pa/PSm為0.005以上0.012以下，且該表面凹凸形狀之傾斜角度2°以下的面之比率為50%以下，該傾斜角度6°以下的面之比率為90%以上之防眩膜。

專利文獻1所揭示之防眩膜，係將任意的剖面曲線上之平均長度PSm降低得非常小，以消除具有容易產生閃斑之50μm附近的週期之表面凹凸形狀，藉此可有效地抑制該閃斑。然而，專利文獻1所揭示之防眩膜，在欲降低霧度時(欲達到低霧度時)，從斜向觀察配置有該防眩膜之影像顯示裝置的顯示面時，防眩性有時會降低。因此，專利文獻1所揭示之防眩膜，就於寬廣的觀察角度下之防眩性之觀點來看，仍有改良的空間。

[先前技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本特開2007-187952號公報

本發明之目的在於提供一種防眩膜，即使其為低霧度，於寬廣的觀察角度下亦具有優異防眩性，且當配置在影像顯示裝置時，可充分地抑制泛白及閃斑的產生之防眩膜。

本發明係為了解決上述課題而進行精心探討之結果，完成本發明。亦即，本發明係提供一種防眩膜，其係具備：透明支撐體、以及形成於該透明支撐體上之具有細微的表面凹凸形狀之防眩層，該防眩膜之特徵為：總霧度為0.1%以上3%以下，表面霧度為0.1%以上2%以下，以正反射光射入方式所測得之視感反射率R_SCI與以正反射光去除方式所測得之視感反射率R_SCE之比R_SCE/R_SCI，為0.1以下，藉由下述功率譜算出方法所求取之複變振幅的功率譜，係滿足以下(1)至(3)的全部條件。

(1)功率譜的空間頻率0.002μm^-1中之強度H(0.002)與功率譜的空間頻率0.01μm^-1中之強度H(0.01)之比H(0.01)/H(0.002)，為0.02以上0.6以下；(2)功率譜的空間頻率0.002μm^-1中之強度H(0.002)與功率譜的空間頻率0.02μm^-1中之強度H(0.02)之比H(0.02)/H(0.002)，為0.005以上0.05以下；(3)功率譜的空間頻率0.002μm^-1中之強度H(0.002)與功率譜的空間頻率0.04μm^-1中之強度H(0.04)之比H(0.04)/H(0.002)，為0.0005以上0.01以下。

〈功率譜算出方法〉

(A)從前述表面凹凸形狀之標高的平均來決定虛擬平面的平均面；(B)決定：屬於包含前述表面凹凸形狀的標高為最低之點且與前述平均面平行之虛擬平面的最低標高面、以及屬於包含前述表面凹凸形狀的標高為最高之點且與前述平均面平行之虛擬平面的最高標高面；(C)對於從與前述最低標高面垂直之主法線方向入射並從前述最高標高面射出之波長550nm的平面波，求取從前述表面凹凸形狀的標高與防眩層的折射率來計算前述最高標高面的複變振幅時之該複變振幅的功率譜。

此外，本發明之防眩膜中，使用暗部與亮部的寬度分別為0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm之5種光學梳所測得之穿透鮮明度的和Tc較佳為375%以上，使用暗部與亮部的寬度分別為0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm之4種光學梳並以光的入射角45°所測得之反射鮮明度的和Rc(45)較佳為180%以下，使用暗部與亮部的寬度分別為0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm之4種光學梳並以光的入射角60°所測得之反射鮮明度的和Rc(60)較佳為240%以下。

此外，本發明之防眩膜中，由前述正反射光去除方式所測得之視感反射率R_SCE較佳為0.5%以下。

根據本發明，可提供一種防眩膜即使其為低霧度，於寬廣的觀察角度下亦具有優異防眩性，且當配置在影像顯示裝置時，可充分地抑制泛白及閃斑的產生。

1‧‧‧防眩膜

2‧‧‧凹凸

5‧‧‧主法線方向

12‧‧‧積分球

13‧‧‧光源

14‧‧‧防眩膜的視感反射率測定樣本

15‧‧‧光阱

40‧‧‧模具用基材

41‧‧‧經過第1電鍍步驟及研磨步驟後之模具用基材表面(鍍覆層)

46‧‧‧藉由第1蝕刻處理所形成之第1表面凹凸形狀

47‧‧‧藉由第2蝕刻處理使形狀鈍化後之表面凹凸形狀

50‧‧‧感光性樹脂膜

51‧‧‧經曝光之區域

52‧‧‧未曝光之區域

60‧‧‧遮罩

70‧‧‧鍍鉻後的表面凹凸形狀之形狀鈍化後的表面

71‧‧‧鍍鉻層

80‧‧‧送出輥

81、101‧‧‧透明支撐體

82‧‧‧塗布層

82b‧‧‧端部區域

83‧‧‧塗布區

85‧‧‧活化能射線照射裝置

87‧‧‧輥狀的模具

86、89‧‧‧軋輥

90‧‧‧膜捲取裝置

100‧‧‧單位單元

101、111‧‧‧鉻遮光圖案

102‧‧‧防眩層

103‧‧‧最低標高面

104‧‧‧最高標高面

113‧‧‧光罩

115‧‧‧燈箱

116‧‧‧光源

117‧‧‧玻璃板

119‧‧‧距離樣本約30cm的位置

P‧‧‧任意點

第1圖(a)及(b)係示意顯示用以測定視感反射率R_SCI及視感反射率R_SCE之光學系統之圖。

第2圖係用以簡單地說明防眩膜之表面凹凸形狀的標高之圖。

第3圖係用以簡單地說明防眩膜之表面凹凸形狀的標高與座標(x,y)之關係之圖。

第4圖係用以簡單地說明防眩膜之表面凹凸形狀的標高h(x,y)與標高基準面及最高標高面之關係之圖。

第5圖係顯示離散地得到防眩膜之表面凹凸形狀的標高之狀態之示意圖。

第6圖係顯示從由作為離散函數所得之表面凹凸形狀的標高所計算之複變振幅的二維功率譜中，計算一維功率譜之狀態之示意圖。

第7圖係相對於空間頻率f來顯示由防眩膜之表面凹凸形狀的標高所計算之複變振幅的一維功率譜H(f)之圖。

第8圖(a)至(e)係示意顯示模具的製造方法(前半部分)之較佳一例之圖。

第9圖(a)至(d)係示意顯示模具的製造方法(後半部分)之較佳一例之圖。

第10圖係示意顯示本發明之防眩膜的製造方法所使用之製造裝置之較佳一例之圖。

第11圖係示意顯示本發明之防眩膜的製造方法中之較佳的預硬化步驟之圖。

第12圖係示意顯示閃斑評估用之單位單元(Unit Cell)之圖。

第13圖係示意顯示閃斑評估裝置之圖。

第14圖係表示實施例1至3及比較例1所使用之圖案A的一部分之圖。

第15圖係表示實施例4所使用之圖案B的一部分之圖。

第16圖係表示實施例5所使用之圖案C的一部分之圖。

第17圖係表示比較例2所使用之圖案D的一部分之圖。

以下係因應需要參考圖式來說明本發明的較佳實施形態，該圖式所顯示之尺寸等，為了容易觀看而呈任意比率。

本發明之防眩膜，其特徵在於：以正反射光射入方式所測得之視感反射率R_SCI與以正反射光去除方式所測得之視感反射率R_SCE之比R_SCE/R_SCI為0.1以下，藉由下述功率譜算出方法所求取之功率譜的空間頻率0.002μm^-1之強度，與空間頻率0.01μm^-1、0.02μm^-1、0.04μm^-1中之強度之比，分別為前述範圍。

首先，關於本發明之防眩膜，係說明視感反射率R_SCI及視感反射率R_SCE、以及複變振幅的功率譜之求取法。

[視感反射率R_SCI及視感反射率R_SCE]

第1圖(a)係示意顯示用於以正反射光射入方式測定視感反射率R_SCI之光學系統之圖，第1圖(b)係示意顯示用於以正反射光去除方式測定視感反射率R_SCE之光學系統之圖。第1圖(a)及第1圖(b)中，係顯示擴散照明方式的光學系統。擴散照明方式係使用積分球等，從所有方向將測定樣本均等地照明之方法，第1圖(a)及第1圖(b)中，設置有積分球12(以可將光幾乎完全地擴散反射之硫酸鋇等的白色塗料塗布內面之球)。從光源13射出之光係於積分球12的內部擴散，並於測定樣本14的表面反射。第1圖(b)中，在相對於受光部位於正反射方向之積分球12的位置，設置有光阱15(第1圖(b)中，為安裝有具有圓錐形的空孔之固定具，使進入於圓錐形的空孔之光於空孔內被吸收而無法返回積分球12中之機制)，使相對於受光部位於正反射方向之光，不會照射到測定樣本的表面。

如第1圖(a)所示之未使用光阱之光學系統，係稱為正反射光進入模式(SCI模式)。另一方面，如第1圖(b)所示之使用光阱之光學系統，係稱為正反射光去除模式(SCE模式)。從兩模式中所測得之樣本的反射光譜中，依據JIS Z 8722所記載之方法算出之視感反射率，為以正反射光射入方式所測得之視感反射率R_SCI與以正反射光去除方式所測得之視感反射率R_SCE。

當以正反射光射入方式所測得之視感反射率R_SCI與以正反射光去除方式所測得之視感反射率R_SCE之比R_SCE/R_SCI高於0.1時，於防眩膜的表面中，使用環境中的環境光往使用者方向之反射光較強，結果使具備該防眩膜之影像顯示裝置產生泛白。此外，該影像顯示裝置會有產生亮處對比降低之傾向。比R_SCE/R_SCI尤佳為0.08以下，更佳為0.06以下。此外，以正反射光去除方式所測得之視感反射率R_SCE較佳為0.5%以下，尤佳為0.4%以下，更佳為0.3%以下。

[複變振幅的功率譜]

接著說明從表面凹凸形狀的標高與防眩層的折射率所計算之複變振幅的功率譜。第2圖係示意顯示本發明之防眩膜的表面之剖面圖。如第2圖所示，本發明之防眩膜1係具有透明支撐體101以及形成於該透明支撐體的上方之防眩層102，防眩層102係於與透明支撐體101相反之側具備具有微細之凹凸2之表面凹凸形狀。

在此，本發明中所謂「表面凹凸形狀的標高」，係意味著表面凹凸形狀上的任意點P與前述最低標高面之在本發明之防眩膜的主法線方向5(前述最低標高面之法線方向)上之直線距離。虛擬地決定之最低標高面之任意點的標高為0μm，為求取表面凹凸形狀上之任意點的標高之基準，係在第2圖中以最低標高面103顯示。

實際上，如第3圖示意顯示般，防眩膜具備於二維平面上具有細微的表面凹凸形狀之防眩層。因此，表面凹凸形狀的標高係如第3圖所示，當以(x,_y)來表示膜面內的正交座標時，可由座標(x,y)的二維函數h(x,y)來表示。

表面凹凸形狀的標高係可從藉由共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM：Atomic Force Microscope)等裝置所測得之表面形狀的三維資訊所求出。測定機所要求之水平分解能較佳為5μm以下，更佳為2μm以下。此外，該測定機所要求之垂直分解能較佳為0.1μm以下，更佳為0.01μm以下。適合於此測定之非接觸式三維表面形狀-粗糙度測定機，可列舉New View 5000系列(Zygo Corporation公司製)、三維顯微鏡PL μ 2300(Sensofar公司製)等。由於標高之功率譜的分解能必須為0.02μm^-1以下，所以測定面積較佳為至少500μm×500μm以上，尤佳為750μm×750μm以上。

第4圖係示意顯示表面凹凸形狀的標高h(x,y)與最低標高面103及最高標高面104之關係。在此，以最高標高面104的標高作為h_max(μm)。此外，第4圖係顯示包含本防眩膜之標高最高的點與標高最低的點之剖面圖。

座標(x,y)之標高基準面103與最高標高面104之間的光路徑長d(x,y)，係可使用與標高相關之二維函數h(x,y)並以式(1)表示。

[數1]d(x,y)=n _AG h(x,y)+n _air[h _max-h(x,y)]…式(1)

在此，n_AG為防眩層的折射率，n_AIR為空氣的折射率。以1使空氣的折射率n_AIR近似時，式(1)可表示為式(2)。

[數2]d(x,y)=(n _AG-1)h(x,y)+h _max…式(2)

以下說明朝主法線方向5(垂直於最低標高面之主法線方向)傳遞之單一波長λ的平面波，從透明支撐體側(最低標高面103側)入射並射出至防眩層側(最高標高面104側)時之該平面波的複變振幅。所謂複變振幅是指以複數來表示波動的振幅時，不包含時間要素之部分。單一波長λ之平面波的振幅，一般可藉由下述式(3)而以複數來表示。

在此，式(3)中的A為平面波的最大振幅，π為圓周率，i為虛數單位，z為z軸方向(主法線方向5)的座標(距原點之光路徑長)，ω為角頻率，t為時間，φ₀為初期相位。

式(3)中，未取決於時間的項為複變振幅。因此，關於以式(3)表示之平面波之最高標高面104的座標(x,y)中之複變振幅φ(x,y)，係於式(3)之未取決於時間的項中，能夠以將上述光路徑長d(x,y)代入於z之下述式(4)表示。

[數4]

再者，式(4)中，平面波的最大振幅A及初期的相位φ₀係非取決於座標(x,y)，在欲規定座標(x,y)中之表面凹凸形狀的分布之本發明中成為常數，故在以下內容中設為A=1及φ₀=0。此外，代入上述式(2)時，複變振幅φ(x,y)係能以下述式(5)來表示。本發明中，係以λ=550nm為基準。

接著說明求取複變振幅的功率譜之方法。首先，從以式(5)表示之二維函數φ(x,y)中，藉由以式(6)所定義之二維傅立葉轉換來求取二維函數Ψ(f_x,f_y)。

在此，f_x及f_y分別為x方向及y方向的頻率，且具有長度的倒數之維度。藉由對所得之二維函數Ψ(f_x,f_y)的絕對值進行平方運算，即可藉由式(7)來求取二維功率譜H(f_x,f_y)。

[數7]H(f _x,f _y)=|Ψ(f _x,f _y)|²…式(7)

此二維功率譜H(f_x,f_y)係表示從防眩膜之表面凹凸形狀的標高所計算之複變振幅的空間頻率分布。由於防眩膜為等向性，因此表示複變振幅的二維功率譜之二維函數H(f_x,f_y)，係可藉由僅取決於距原點(0,0)之距離f之一維函數H(f)來表示。接著顯示從二維函數H(f_x,f_y)求取一維函數H(f)之方法。首先根據式(8)，以極座標來表示複變振幅的二維功率譜之二維函數H(f_x,f_y)。

[數8]H(f _x,f _y)=H(f cos θ,f sin θ)…式(8)

在此，θ為傅立葉空間中的偏角。一維函數H(f)係可根據式(9)來計算以極座標表示之二維函數H(fcos θ,fsin θ)的旋轉平均而求取。以下，亦將從複變振幅的二維功率譜之二維函數H(f_x,f_y)的旋轉平均所求取之一維函數H(f)，稱為一維功率譜H(f)。

本發明之防眩膜的特徵為：從表面凹凸形狀的標高所計算之複變振幅的一維功率譜H(f)的空間頻率0.002μm^-1中之強度H(0.002)與功率譜的空間頻率0.01μm^-1中之強度H(0.01)之比H(0.01)/H(0.002)、強度H(0.002)與空間頻率0.02μm^-1中之強度H(0.02)之比H(0.02)/H(0.002)、以及強度H(0.002)與空間頻率0.04μm^-1中之強度H(0.04)之比H(0.04)/H(0.002)，皆係在既定範圍內。

以下更具體地說明用以求取從防眩膜所具有之表面凹凸形狀的標高所計算之複變振幅的二維功率譜之方法。藉由上述共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡等裝置所實際測得之表面形狀的三維資訊，一般而言為離散值，亦即得到作為對應於多數個測定點之標高。第5圖係顯示離散地得到表示標高之函數h(x,y)之狀態的示意圖。如第5圖所示，當以(x,y)表示膜面內的正交座標，並以虛線來表示膜投影面3上之於x軸方向以每△x所分割的線以及於y軸方向以每△y所分割的線時，在實際的測定中，表面凹凸形狀的標高係可求得為膜投影面3上之各虛線所分割之每個面積△x×△y的離散標高值。

所得之標高值的數目，是由測定範圍與△x及△y所決定，如第5圖所示，當以x軸方向的測定範圍為X=M△x，以y軸方向的測定範圍為Y=N△y時，所得之標高值的數目為M×N個。

如第5圖所示，當將膜投影面3上之著眼點A的座標設為(m△x,n△y)[在此，m為0以上M-1以下，n為0以上N-1以下]時，對應於著眼點A之膜面上之點P的標高係可表示為h(m△x,n△y)。

在此，測定間隔△x及△y係取決於測定機器的水平分解能，為了精確度佳地評估表面凹凸形狀，如上述般，△x及△y較佳是皆為5μm以下，更佳為2μm以下。此外，測定範圍X及Y係如上述般，較佳是皆為500μm以上，尤佳為750μm以上。

如此，在實際的測定中，表示表面凹凸形狀的標高之函數係可求得為具有M×N個值之離散函數h(x,y)。因此，以式(5)從表面凹凸形狀的二維函數(x,y)所求取之複變振幅φ(x,y)，亦可求得為離散函數，藉由該複變振幅φ(x,y)的二維傅利葉轉換所求取之二維函數Ψ(f_x,f_y)，亦藉由離散地計算式(6)之離散傅利葉轉換，求得為如式(10)般之離散函數。

在此，式(10)中的j為-M/2以上M/2以下之整數，k為-N/2以上N/2以下之整數。此外，△f_x及△f_y分別為x方向及y方向的頻率間隔，並藉由式(11)及式(12)所定義。

二維功率譜H(f_x,f_y)係藉由對由式(10)所求取之離散函數Ψ(f_x,f_y)的絕對值進行平方運算，而如式(13)所示求得。

求得為離散函數之二維功率譜H(f_x,f_y)，亦表示從防眩膜所具有之表面凹凸形狀的標高所計算之複變振幅的空間頻率分布。此外，由於防眩膜為等向性，故表示複變振幅的二維功率譜之二維離散函數H(f_x,f_y)，亦可藉由僅取決於距原點(0,0)之距離f之一維離散函數H(f)來表示。從二維離散函數H(f_x,f_y)求取一維函數H(f)時，只需與式(9)相同地計算旋轉平均即可。二維離散函數H(f_x,f_y)的離散旋轉平均，可藉由式(14)來計算。前述功率譜算出方法係算出由該一維離散函數H(f)所表示之一維功率譜者。

在此，M≧N時，l為0以上N/2以下的整數，M<N時，l為0以上M/2以下的整數。△f為距原點之距離的間隔，△f=(△f_x+△f_y)/2。此外，Θ(x)係藉由式(15)所定義之黑維塞(Heaviside)函數。f_jk為(j,k)中之距原點之距離，並藉由式(16)所計算。

[數15]

關於式(14)所示之計算，使用第6圖來說明。函數Θ(f_jk-(l-1/2)△f)係當f_jk未達(l-1/2)△f時為0，而在(l-1/2)△f以上時為1，函數Θ(f_jk-(l+1/2)△f)則係當f_jk未達(l+1/2)△f時為0，而在(l+1/2)△f以上時為1，所以式(14)之Θ(f_jk-(l-1/2)△f)-Θ(f_jk-(l+1/2)△f)係只有在f_jk為(l-1/2)△f以上且未達(l+1/2)△f時為1，其他情形下均為0。在此，由於f_jk為在頻率空間中距原點O(f_x=0,f_y=0)之距離，所以式(14)的分母係計算距原點O之距離f_jk位於(l-1/2)△f以上且未達(l+1/2)△f之所有點(第6圖中之黑圓點)的個數。此外，式(14)的分子，係計算距原點O之距離f_jk位於(l-1/2)△f以上且未達(l+1/2)△f之所有點之H(f_x,f_y)的合計值(第6圖中之黑圓點之H(f_x,f_y)的合計值)。

一般而言，藉由前述方法所求取之一維功率譜，係包含測定時的雜訊。在此，於求取一維功率譜時，為了去除該雜訊的影響，較佳係測定防眩膜上的複數處之表面凹凸形狀的標高，並將從各個表面凹凸形狀的標高所求取之一維功率譜的平均值用作為一維功率譜H(f)。測定防眩膜上之表面凹凸形狀的標高之複數處的數目，較佳為3處以上，尤佳為5處以上。

第7圖係顯示從如此得到之表面凹凸形狀的標高所計算之複變振幅的一維功率譜H(f)之圖。第7圖的一維功率譜H(f)係將從防眩膜上的5處不同處之表面凹凸形狀的標高所求取之一維功率譜予以平均所得之值。

本發明之防眩膜的特徵在於：從表面凹凸形狀的標高所計算之複變振幅的一維功率譜H(f)的空間頻率0.002μm^-1中之強度H(0.002)與空間頻率0.01μm^-1中之強度H(0.01)之比H(0.01)/H(0.002)為0.02以上0.6以下，強度H(0.002)與空間頻率0.02μm^-1中之強度H(0.02)之比H(0.02)/H(0.002)為0.005以上0.05以下，強度H(0.002)與空間頻率0.04μm^-1中之強度H(0.04)之比H(0.04)/H(0.002)為0.0005以上0.01以下。在此，由於一維功率譜H(f)係求得為離散函數，所以在求取特定空間頻率f₁中的強度H(f₁)時，可如式(17)所示般進行內插計算。

本發明之防眩膜係藉由將前述特定空間頻率中的強度比分別設為既定範圍，而可藉由後述霧度及反射率比的相乘效果，良好地防止泛白及閃斑的產生，並且顯現優異之防眩性。為了更有效地顯現該效果，比H(0.01)/H(0.002)較佳為0.02以上0.6以下，更佳為0.03以上0.3以下。同樣地，比H(0.02)/H(0.002)較佳為0.005以上0.05以下，更佳為0.007以上0.04以下，此外，比H(0.04)/H(0.002)較佳為0.0005以上0.01以下，更佳為0.001 以上0.005以下。

當比H(0.01)/H(0.002)低於前述範圍時，有助於斜向(30°)觀察防眩膜時的防眩效果之約100μm(相當於空間頻率0.01μm^-1)的週期之光學變動會變小，而使防眩性變得不足。當比H(0.01)/H(0.002)高於前述範圍時，約100μm的週期之光學變動變得過大，且防眩膜的表面凹凸形狀會變粗，而有霧度上升之傾向，故不佳。

當比H(0.02)/H(0.002)低於前述範圍時，有助於斜向(10°至30°)觀察防眩膜時的防眩效果之約50μm(相當於空間頻率0.02μm^-1)的週期之光學變動會變小，而使防眩性變得不足。當比H(0.02)/H(0.002)高於前述範圍時，約50μm的週期之光學變動變得過大，而容易產生閃斑。

當比H(0.04)/H(0.002)低於前述範圍時，有助於正面(0°至10°)觀察防眩膜時的防眩效果之約25μm(相當於空間頻率0.04μm^-1)的週期之光學變動會變小，而使防眩性變得不足。當比H(0.04)/H(0.002)高於前述範圍時，由約25μm的短週期之光學變動所導致之散射會增強，而容易產生泛白。

[總霧度、表面霧度]

本發明之防眩膜係為了顯現防眩性並防止泛白，相對於垂直入射光之總霧度為在0.1%以上3%以下的範圍，表面霧度為在0.1%以上2%以下的範圍。防眩膜的總霧度係可藉由依據JIS K7136所示之方法的方法來測定。配置有總霧度或表面霧度低於0.1%之防眩膜之影像顯示裝置，無法顯現充分的防眩性，故不佳。此外，總霧度高於3%時或表面霧度高於2%時之防眩膜，配置有該防眩膜之影像顯示裝置係容易產生泛白，故不佳。此外，該影像顯示裝置亦有對比不足之缺失。

從總霧度扣除表面霧度所求得之內部霧度係愈低愈佳。配置有該內部霧度高於2.5%之防眩膜之影像顯示裝置，係有其對比降低之傾向。

[穿透鮮明度Tc、反射鮮明度Rc(45)、及反射鮮明度Rc(60)]

本發明之防眩膜之以下述測定條件所求取之穿透鮮明度的和Tc，較佳為375%以上。穿透鮮明度的和Tc係藉由依據JIS K 7105之方法，使用既定寬度的光學梳來分別測定影像鮮明度，然後求取該合計而計算出。具體而言，使用暗部與亮部的寬度比為1：1且其寬度為0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm之5種的光學梳，分別測定影像鮮明度，並求取該合計而設為Tc。Tc低於375%之防眩膜係當配置在更精細的影像顯示裝置時，有時容易產生閃斑。Tc的上限雖係選自該最大值之500%以下的範圍，但當Tc過高時，得到正面的防眩性容易降低之影像顯示裝置，故例如以450%以下為佳。

本發明之防眩膜之以入射角45°的入射光所測得之反射鮮明度Rc(45)，較佳為180%以下。反射鮮明度Rc(45)係與前述Tc相同，藉由依據JIS K 7105之方法來測定，且使用前述5種光學梳中之其寬度為0.25mm、0.5mm、 1.0mm及2.0mm之4種光學梳，分別測定影像鮮明度，並求得該合計值而設為Rc(45)。當Rc(45)為180%以下時，配置有該防眩膜之影像顯示裝置之從正面及斜向觀察時的防眩性更良好，故較為理想。Rc(45)的下限並無特別限制，為了良好地抑制泛白或閃斑的產生，較佳為例如80%以上。

本發明之防眩膜之以入射角60°的入射光所測得之反射鮮明度Rc(60)，較佳為240%以下。反射鮮明度Rc(60)係除了變更入射角之外，其他係與反射鮮明度Rc(45)相同地藉由依據JIS K 7105之方法來測定。當Rc(60)為240%以下時，配置有該防眩膜之影像顯示裝置之從斜向觀察時的防眩性更良好，故較為理想。Rc(60)的下限並無特別限制，為了良好地抑制泛白或閃斑的產生，較佳為例如150%以上。

[防眩膜的製造方法]

本發明之防眩膜係例如以下列方式製造。第1方法係準備於成形表面形成有依據既定圖案之表面凹凸形狀之細微凹凸形成用模具，將該模具之凹凸面的形狀轉印至透明支撐體後，從模具剝離轉印有凹凸面的形狀之透明支撐體之方法。第2方法係準備包含微粒、樹脂(黏合劑)及溶劑且該微粒分散於樹脂溶液之組成物，將該組成物塗布於透明支撐體上，並因應必要進行乾燥而形成之塗布膜(包含微粒之塗布膜)，然後使塗布膜硬化之方法。第2方法中，藉由前述組成物的組成或前述塗布膜的乾燥條件等來調整塗布膜厚或微粒的凝聚狀態，藉此使微粒露出於塗布膜的表面，並將不規則的凹凸形成於透明支撐體上。從防眩膜的生產穩定性、生產重現性之觀點來看，較佳係藉由第1方法來製造本發明之防眩膜。

在此詳細說明本發明之防眩膜的製造方法之較佳的第1方法。

為了精確度佳地形成具有上述特性之表面凹凸形狀的防眩層，重要的是要準備之細微凹凸形成用模具(以下有時略稱為「模具」)。更具體而言，模具所具有之表面凹凸形狀(以下有時略稱為「模具凹凸表面」)係依據既定圖案所形成，此既定圖案較佳為，該一維功率譜的空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.01μm^-1中之強度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)為1.5以上6以下，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.02μm^-1中之強度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)為0.3以上5以下，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.04μm^-1中之強度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)為3以上13以下。在此所謂「圖案」，係意指用以形成防眩膜所具有之防眩層的表面凹凸形狀之影像資料或具有透光部與遮光部之遮罩等，以下略稱為「圖案」。

首先說明決定用以形成本發明之防眩膜所具有之防眩層的表面凹凸形狀之圖案之方法。

關於圖案之二維功率譜的求取方法，例如顯示該圖案為影像資料之情形。首先將該圖案資料轉換為2階調的二值化影像資料後，以二維函數g(x,y)來表示該階調。對所得之二維函數g(x,y)進行如下述式(18)所示般之傅利葉轉換而計算二維函數G(f_x,f_y)，並如下述式(19)所示般，對所得之二維函數G(f_x,f_y)的絕對值進行平方運算，以求得二維功率譜Γ(f_x,f_y)。在此，x及y係表示影像資料面內的正交座標。此外，f_x及f_y係分別表示x方向及y方向的頻率，且具有長度的倒數之維度。

式(18)中的π為圓周率，i為虛數單位。

[數19]Γ(f _x,f _y)=|G(f _x,f _y)|²…式(19)

此二維功率譜Γ(f_x,f_y)係表示圖案的空間頻率分布。通常，防眩膜係要求等向性，故本發明之防眩膜製造用的圖案亦為等向性。因此，表示圖案的二維功率譜之二維函數Γ(f_x,f_y)，可藉由僅取決於距原點(0,0)之距離f之一維函數Γ(f)來表示。接著說明從二維函數Γ(f_x,f_y)求取一維函數Γ(f)之方法。首先如式(20)般以極座標來表示圖案之階調的二維功率譜之二維函數Γ(f_x,f_y)。

[數20]Γ(f _x,f _y)=Γ(f cos θ,f sin θ)…式(20)

在此，θ為傅立葉空間中的偏角。一維函數Γ(f)係如式(21)般來計算以極座標表示之二維函數Γ(fcos θ,fsin θ)的旋轉平均而求取。以下，亦將從圖案之階調的二維功率譜之二維函數Γ(f_x,f_y)的旋轉平均所求取之一維函數Γ(f)，稱為一維功率譜Γ(f)。

為了精確度佳地得到本發明之防眩膜，較佳為，圖案之一維功率譜Γ(f)的空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.01μm^-1中之強度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)為1.5以上6以下，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.02μm^-1中之強度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)為0.3以上5以下，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.04μm^-1中之強度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)為3以上13以下。

求取圖案的二維功率譜時，階調的二維函數g(x,y)係通常求得為離散函數。此時可藉由離散傅利葉轉換來計算二維功率譜。圖案的一維功率譜係同樣地可從圖案的二維功率譜求取。

此外，為了將所得之表面凹凸形狀構成為均勻且連續之曲面，二維函數g(x,y)的平均值較佳為二維函數g(x,y)的最大值與二維函數g(x,y)的最小值之差的30%至70%。當藉由微影技術來製造模具凹凸表面時，此二維函數g(x,y)為圖案的開口率。關於藉由微影技術來製造模具凹凸表面之情形，係預先定義為在此所稱之圖案的開口率。微影技術所使用之光阻為正型光阻時之開口率，係意指在將影像資料描繪於該正型光阻的塗布膜時曝光的區域相對於該塗布膜的全表面區域之比率。另一方面，微影技術所使用之光阻為負型光阻時之開口率，係意指在將影像資料描繪於該負型光阻的塗布膜時未曝光的區域相對於該塗布膜的全表面區域之比率。微影技術為一次曝光時之開口率，係意指具有透光部與遮光部之遮罩的透光部之比率。

本發明之防眩膜係可將圖案之一維功率譜的強度比Γ(0.01)/Γ(0.002)、Γ(0.02)/Γ(0.002)、及Γ(0.04)/Γ(0.002)分別設為前述範圍來製造期望的模具，並使用該模具，藉由前述第1方法來製造。

為了製作具有如此的強度比之一維功率譜的圖案，首先，預先製作出將點不規則地配置而製作之圖案、或是藉由以亂數或計算機所生成之虛擬亂數來決定濃淡之具有隨機的亮度分布之圖案(預備圖案)，並從該預備圖案中，去除特定空間頻率範圍的成分。該特定空間頻率範圍的成分去除，只需使前述預備圖案通過帶通濾波器即可。

為了製造具有形成有依據既定圖案之表面凹凸形狀的防眩層之防眩膜，首先製造具有用以將依據該既定圖案所形成之表面凹凸形狀轉印至透明支撐體之模具凹凸表面之模具。使用該模具之前述第1方法，係以將防眩層製作在透明支撐體上者為特徵之壓印法。

前述壓印法係可例示使用光硬化性樹脂之光壓印法、以及使用熱塑性樹脂之熱壓印法等。當中就生產性之觀點來看，較佳為光壓印法。

光壓印法是將光硬化性樹脂層形成於透明支撐體上(透明支撐體的表面)，並一邊將該光硬化性樹脂層按壓於模具的模具凹凸表面一邊使之硬化，藉此將模具的模具凹凸表面形狀轉印至光硬化性樹脂層之方法。具體而言，使將光硬化型樹脂塗布於透明支撐體上所形成之光硬化型樹脂層，在密接於模具凹凸表面之狀態下，從透明支撐體側照射光線(該光線係使用可使光硬化型樹脂硬化者)使光硬化型樹脂(光硬化型樹脂層中所包含之光硬化型樹脂)硬化，然後從模具中，將形成有硬化後的光硬化型樹脂層之透明支撐體予以剝離。藉由該製造方法所得之防眩膜之該硬化後的光硬化型樹脂層係成為防眩層。從製造之容易度來看，光硬化型樹脂較佳為紫外線硬化型樹脂，使用該紫外線硬化型樹脂時，所照射的光係使用紫外線(以下將使用紫外線硬化型樹脂作為光硬化型樹脂之壓印法稱為「UV壓印法」)。為了製造與偏光膜一體化之防眩膜，可使用偏光膜作為透明支撐體，並於在此說明之壓印法中，將透明支撐體取代為偏光膜來實施。

UV壓印法所使用之紫外線硬化型樹脂的種類並無特別限定，可從市售的樹脂中，因應所使用之透明支撐體的種類或紫外線的種類來選擇適當者。該紫外線硬化型樹脂為包含藉由紫外線照射進行光聚合之單體(多官能單體)、寡聚物及聚合物、以及此等之混合物之概念。此外，亦可使用能夠以波長較紫外線更長之可見光而硬化之樹脂。該紫外線硬化型樹脂的較佳例等之說明如後述。

UV壓印法所使用之透明支撐體，例如可使用玻璃或塑膠膜等。塑膠膜係只要具有適度的透明性、機械強度者即可使用。具體而言，例如可列舉由TAC(三乙醯纖維素等之纖維素乙酸酯系樹脂；丙烯酸系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂等所構成之透明樹脂膜。此等透明樹脂膜亦可為溶劑壓鑄膜或是擠壓膜。

透明支撐體的厚度係例如為10至500μm，較佳為10至100μm，尤佳為10至60μm。透明支撐體的厚度在此範圍時，會有可得到具有充分的機械強度之防眩膜之傾向，具備該防眩膜之影像顯示裝置，更不易產生閃斑。

另一方面，熱壓印法是在加熱使其軟化狀態下將由熱塑性樹脂所形成之透明樹脂膜按壓於模具凹凸表面，而將該模具凹凸表面的表面凹凸形狀轉印至透明樹脂膜之方法。熱壓印法所使用之透明樹脂膜，只要是實質上呈光學透明者均可，具體可列舉例示作為UV壓印法所使用之透明樹脂膜者。

接著說明用以製造壓印法所使用之模具之方法。

模具的製造方法係只要在可使該模具的成形面成為能夠將依據上述既定圖案所形成之表面凹凸形狀轉印至透明支撐體上(可形成依據既定圖案所形成之表面凹凸形狀的防眩層)之模具凹凸表面的範圍內，則無特別限制，為了精碓度佳且重現性佳地製造該表面凹凸形狀的防眩層，較佳為微影技術。此外，該微影技術較佳係包含：[1]第1電鍍步驟、[2]第1研磨步驟、[3]感光性樹脂膜形成步驟、[4]曝光步驟、[5]顯影步驟、[6]第1蝕刻步驟、[7]感光性樹脂膜剝離步驟、[8]第2蝕刻步驟、[9]第2電鍍步驟、[10]第2研磨步驟。

第8圖係示意顯示模具的製造方法之前半部分的較佳一例之圖。第8圖係示意顯示各步驟中之模具的剖面。以下參考第8圖，詳細地說明本發明之防眩膜製造用模具之製造方法的各步驟。

[1]第1電鍍步驟

首先準備模具製造所使用之基材(模具用基材)，對該模具用基材的表面施以鍍銅。如此，藉由對模具用基材的表面施以鍍銅，可提升後述第2電鍍步驟中之鍍鉻的密接性和光澤性。由於鍍銅的被覆性高且平滑化作用強，所以可埋填模具用基材的微小凹凸或坑洞等而能夠形成平坦且具光澤的表面。因此，藉由對模具用基材的表面施以鍍銅，即使在後述第2電鍍步驟中施以鍍鉻，亦可消除被視為起因於基材上所存在的微小凹凸或坑洞之鍍鉻表面的粗糙化。因此，即使將依據既定圖案之表面凹凸形狀(微細凹凸表面形狀)製作在模具用基材成形面，亦可充分地防止因微小凹凸或坑洞等對底層(模具用基材)表面的影響所造成之偏離。

第1電鍍步驟的鍍銅所使用之銅亦可使用銅的純金屬或是使用以銅為主體之合金(銅合金)。因此，鍍銅所使用之「銅」，係含有銅及銅合金之涵義。鍍銅可為電解電鍍或無電解電鍍，但第1電鍍步驟的鍍銅較佳係採用電解電鍍。再者，第1電鍍步驟中的較佳鍍覆層，不僅由鍍銅層所構成者，亦可為鍍銅層及由銅以外的金屬所構成之鍍覆層所積層而成者。

在模具用基材的表面上施以鍍銅所形成之鍍覆層太薄時，無法完全排除底層表面的影響(微小凹凸或坑洞、龜裂等)，所以該厚度較佳為50μm以上。鍍覆層厚度的上限並無臨限性，考量到成本等，較佳約為500μm以下。

模具用基材，較佳是由金屬材料所構成之基材。此外，從成本之觀點來看，該金屬材料的材質較佳為鋁、鐵等。此外，從模具用基材的處理便利性來看，特佳係使用由輕量的鋁所構成之基材作為模具用基材。在此所謂的鋁或鐵，分別不須為純金屬，亦可分別為以鋁或鐵為主成分之合金。

此外，模具用基材的形狀係可因應本發明之防眩膜的製造方法構成為適當形狀。具體而言，可選自平板狀基材、圓柱狀基材或圓筒狀(輥形狀)基材等。於連續製造本發明之防眩膜時，模具較佳為輥形狀。該模具可由輥形狀的模具用基材來製造。

[2]第1研磨步驟

在後續第1研磨步驟中，係將上述第1電鍍步驟中施以鍍銅之模具用基材的表面(鍍覆層)進行研磨。於本發明之防眩膜的製造方法所使用之模具的製造方法中，較佳係進行該第1研磨步驟將模具用基材表面研磨至接近鏡面之狀態。用作為模具用基材之平板狀基材或輥形狀基材的市售品，為了達到期望之精確度，大多係施以切割或研磨等機械加工，因而在模具用基材表面殘留加工痕跡。因此，即使藉由第1電鍍步驟形成鍍覆層(較佳為鍍銅層)，亦可能殘留前述加工痕跡。此外，即使在第1電鍍步驟中施以電鍍，模具用基材的表面不見得會完全地平滑。亦即，即使對具有如此殘留有較深的加工痕跡之表面之模具用基材施以後述[3]至[10]的步驟，所得之模具表面的表面凹凸形狀可能與依據既定圖案之表面凹凸形狀不同，或是包含來自加工痕跡等之凹凸。當使用殘留有加工痕跡等的影響之模具來製造防眩膜時，可能無法充分顯現目的之防眩性等的光學特性，而有產生無法預期的影響之疑慮。

第1研磨步驟中所適用之研磨之方法並無特別限定，可因應作為研磨對象之模具用基材的形狀、性狀來選擇研磨方法。具體地例示適用於第1研磨步驟之研磨方法，可列舉出機械研磨法、電解研磨法、化學研磨法等。在此等中，機械研磨法可例示出超修整加工法、磨光法、流體研磨法、拋光研磨法等之任一種。此外，研磨步驟中可藉由使用切削工具進行鏡面切削，將模具用基材表面形成為鏡面。此時之切削工具的材質與形狀係可因應模具用基材之材質(金屬材料)的種類，使用超硬刀、CBN刀、陶瓷刀、金剛石刀等，從加工精確度之觀點來看，較佳係使用金剛石刀。研磨後的表面粗糙度係以依據JIS B 0601之中心線平均粗糙度Ra來表示，較佳為0.1μm以下，尤佳為0.05μm以下。當研磨後的中心線平均粗糙度Ra大於0.1μm時，會有在最終形成之模具的模具凹凸表面殘留該表面粗糙度的影響之疑慮。此外，中心線平均粗糙度Ra的下限並無特別限制。因此，可從第1研磨步驟中的加工時間(研磨時間)或加工成本之觀點來決定下限。

[3]感光性樹脂膜形成步驟

接著參考的8圖來說明感光性樹脂膜形成步驟。

感光性樹脂膜形成步驟中，係將在溶劑中溶解有感光性樹脂之溶液(感光性樹脂溶液)，塗布於藉由上述第1研磨步驟所得之施以鏡面研磨後之模具用基材40的表面41，並進行加熱及乾燥而形成感光性樹脂膜(光阻膜)。第8圖中，係示意顯示在模具用基材40的表面41上形成有感光性樹脂膜50之狀態(第8圖(b))。

感光性樹脂係可使用以往所知的感光性樹脂，亦可直接使用市售的光阻，或是因應需要藉由過濾等予以精製後使用。例如，就具有受光部分可硬化之性質的負型感光性樹脂而言，可使用於分子中具有丙烯醯基或甲基丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯的單體或預聚物、雙疊氮化物與二烯橡膠之混合物、聚乙烯肉桂酸酯系化合物等。此外，就具有藉由顯影使受光部分溶出而僅殘留未受光部分之性質的正型感光性樹脂，可使用酚樹脂系或酚醛樹脂系等。該正型或負型感光性樹脂，亦可從市場容易取得正型或負型光阻。此外，感光性樹脂溶液係可因應需要而調配增感劑、顯影促進劑、密合性改質劑、塗布性改質劑等各種添加劑，亦可使用將該添加劑混合於市售的光阻者作為感光性樹脂溶液。

為了將此等感光性樹脂溶液塗布於模具用基材40的表面41，為了形成更平滑的感光性樹脂膜，較佳係使用：選擇最適溶劑並將感光性樹脂溶解稀釋於該溶劑所得之感光性樹脂溶液。該溶劑可因應感光性樹脂的種類及該溶解性而選擇。具體而言，例如可選自溶纖劑系溶劑、丙二醇系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、酮系溶劑、高極性溶劑等。使用市售的光阻時，可因應該光阻所包含之溶劑的種類，或是進行適當的預備試驗，選擇最適光阻並用作為感光性樹脂溶液。

將感光性樹脂溶液塗布於模具用基材之經鏡面研磨的表面之方法，可從凹凸塗布、噴流塗布、浸泡塗布、旋轉塗布、輥塗布、線棒塗布、空氣刀塗布、刮刀塗布、淋幕塗布、環塗布等之一般所知的方法中，因應該模具用基材的形狀等來選擇。塗布後之感光性樹脂膜的厚度係指乾燥後的厚度，較佳設為1至10μm的範圍，尤佳設為6至9μm的範圍。

[4]曝光步驟

接著，曝光步驟係藉由使在上述感光性樹脂膜形成步驟中所形成之感光性樹脂膜50曝光，而將目的之圖案轉印至該感光性樹脂膜50之步驟。曝光步驟所使用之光源係可依據感光性樹脂膜所包含之感光性樹脂的感光強度或感度等來適當地選擇，例如可使用高壓汞燈的g射線(波長：436nm)、h射線(波長：405nm)、或i射線(波長：365nm)、半導體雷射(波長：830nm、532nm、488nm、405nm等)、YAG雷射(波長：1064nm)、KrF準分子雷射(波長：248nm)、ArF準分子雷射(波長：193nm)、F2準分子雷射(波長：157nm)等。曝光方式係可為使用對應於目的之圖案的遮罩進行一次曝光之方式，或是描繪方式。所謂目的之圖案如已說明般，係將一維功率譜之空間頻率的強度比Γ(0.01)/Γ(0.002)、Γ(0.02)/Γ(0.002)、及Γ(0.04)/Γ(0.002)，分別設定為既定的較佳範圍。

模具的製造方法中，為了精確度佳地形成該模具的表面凹凸形狀，較佳係在精密地控制之狀態下將目的之圖案曝光於感光性樹脂膜上。為了於該狀態下曝光，較佳係在電腦中製作目的之圖案作為影像資料，並藉由從經電腦控制的雷射頭所發出之雷射光，將依據該影像資料之圖案描繪(雷射描繪)於感光性樹脂膜上。進行雷射描繪時，例如可使用印刷版製作等之泛用的雷射描繪裝置。就該雷射描繪裝置之市售品而言，可列舉出Laser Stream FX(Think Laboratory股份有限公司製)等。

第8圖(c)係示意顯示圖案被曝光於感光性樹脂膜50之狀態。當感光性樹脂膜50中包含負型感光性樹脂時(例如使用負型光阻作為感光性樹脂溶液)，經曝光之區域51係接受曝光能量使感光性樹脂的交聯反應進行，使相對於後述顯影液之溶解性降低。因此，顯影步驟中未曝光之區域52係藉由顯影液所溶解，僅經曝光之區域51殘留於基材表面上而成為遮罩60。另一方面，當感光性樹脂膜50中包含正型感光性樹脂時(例如使用正型光阻作為感光性樹脂溶液)，經曝光之區域51中，接受曝光能量使感光性樹脂的鍵結被切斷等，而容易溶解於後述之顯影液。因此，顯影步驟中經曝光之區域51係藉由顯影液所溶解，僅未曝光之區域52殘留於基材表面上而成為遮罩60。

[5]顯影步驟

顯影步驟中，當感光性樹脂膜50中包含負型感光性樹脂時，未曝光之區域52藉由顯影液所溶解，經曝光之區域51係殘留於模具用基材上而成為遮罩60。另一方面，當感光性樹脂膜50中包含正型感光性樹脂時，僅經曝光之區域51係藉由顯影液所溶解，未曝光之區域52則殘留於模具用基材上而成為遮罩60。將既定的圖案形成作為感光性樹脂膜之模具用基材，係使殘存於模具用基材上的感光性樹脂膜發揮後述第1蝕刻步驟中之遮罩的作用。

顯影步驟中所用之顯影液係可從以往所知者，因應所使用之感光性樹脂的種類來選擇適當者。例如，該顯影液可列舉出氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水般之無機鹼類；乙胺、正丙胺般之一級胺類；二乙胺、二正丙胺般之二級胺類；三乙胺、甲基二乙胺般之三級胺類；二甲基乙醇胺、三乙醇胺般之醇胺類；氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化三甲基羥乙基銨般之四級銨化合物；溶解有吡咯、哌啶般之環狀胺等之鹼性水溶液；二甲苯、甲苯般之有機溶劑等。

顯影步驟中的顯影方法並無特別限制，可使用浸漬顯影、噴霧顯影、磁刷顯影、超音波顯影等。

第8圖(d)中，係示意顯示使用負型者作為感光性樹脂來進行顯影處理後之狀態。第8圖(d)中，未曝光之區域52係藉由顯影液所溶解，僅經曝光之區域51殘留於基材表面上，該區域的感光性樹脂膜成為遮罩60。第8圖(e)中，係示意顯示使用正型者作為感光性樹脂來進行顯影處理後之狀態。第8圖(e)中，經曝光之區域51係藉由顯影液所溶解，僅未曝光之區域52殘留於基材表面上，該區域的感光性樹脂膜成為遮罩60。

[6]第1蝕刻步驟

第1蝕刻步驟係將上述顯影步驟後殘存於模具用基材表面上之感光性樹脂膜用作為遮罩，於模具用基材表面中，主要對位於無遮罩之區域的鍍覆層進行蝕刻。

第9圖係示意顯示模具的製造方法的後半部分之較佳一例之圖。第9圖(a)中，係示意顯示藉由蝕刻步驟主要對無遮罩之區域的鍍覆層進行蝕刻後之狀態。遮罩60下部的鍍覆層，雖因感光性樹脂膜發揮作為遮罩60之作用而被蝕刻，但隨著蝕刻的進行，亦從無遮罩之處45被進行蝕刻。因此，在有遮罩60之區域與無遮罩之區域 45的交界附近，位於遮罩60下部的鍍覆層亦被蝕刻。如此，將在有遮罩60之區域與無遮罩之區域45的交界附近，遮罩60下部的鍍覆層亦被蝕刻者，稱為側蝕刻。

第1蝕刻步驟之蝕刻處理，通常使用氯化鐵(FeCl₃)液、氯化銅(CuCl₂)液、鹼蝕刻液(Cu(NH₃)₄Cl₂)等蝕刻液，並使模具用基材表面中之主要無遮罩60之區域的鍍覆層(金屬表面)腐蝕而進行。該蝕刻處理亦可使用鹽酸或硫酸等強酸作為蝕刻液，當該鍍覆層由電解電鍍所形成時，可使用藉由施加與電解電鍍時相反的電位所進行之反電解蝕刻來進行蝕刻處理。施以蝕刻處理時形成於模具用基材之表面凹凸形狀，係因模具用基材的構成材料(金屬材料)或鍍覆層的種類、感光性樹脂膜的種類及蝕刻步驟中之蝕刻處理的種類等而有所不同，無法一概而論，但當蝕刻量為10μm以下時，可從接觸於蝕刻液之模具用基材表面，大致等向地進行蝕刻。在此所謂蝕刻量，是指藉由蝕刻所去除之鍍覆層的厚度。

第1蝕刻步驟之蝕刻量較佳為1至20μm，尤佳為2至8μm，更佳為3至5μm。蝕刻量未達1μm時，模具上幾乎無法形成表面凹凸形狀而具有幾乎平坦之表面，即使使用該模具來製造防眩膜，防眩膜亦幾乎不具有表面凹凸形狀，配置該防眩膜之影像顯示裝置中，無法充分顯示出防眩性。此外，當蝕刻量過大時，最終所得之模具凹凸表面之凹凸的高低差容易增大。即使使用該模具來製造防眩膜，比R_SCE/R_SCI高於0.1，具備該防眩膜之影像顯示裝置中，有時無法充分防止泛白的產生。蝕刻步驟之蝕刻處理，可藉由1次的蝕刻處理來進行，或是將蝕刻處理分為2次以上來進行。在此，當將蝕刻處理分為2次以上來進行時，2次以上之蝕刻處理的合計蝕刻量，較佳為1至20μm。

[7]感光性樹脂膜剝離步驟

在後續之感光性樹脂膜剝離步驟中，係將在第1蝕刻步驟中發揮遮罩60之功用並殘存於模具用基材上之感光性樹脂膜予以去除之步驟，較佳係藉由該步驟完全地去除殘存於模具用基材上之感光性樹脂膜。感光性樹脂膜剝離步驟中，較佳係使用剝離液來溶解感光性樹脂膜。剝離液係可使用對例示作為顯影液者改變該濃度或pH等而調製者。或是使用與顯影步驟所使用之顯影液相同者，並改變與顯影步驟不同之溫度或浸漬時間等而將感光性樹脂膜予以剝離，感光性樹脂膜剝離步驟中，關於剝離液與模具用基材之接觸方法(剝離方法)並無特別限制，可使用浸漬顯影、噴霧顯影、磁刷顯影、超音波顯影等。

第9圖(b)係示意顯示藉由感光性樹脂膜剝離步驟，將第1蝕刻步驟中用作為遮罩60之感光性樹脂膜完全地溶解並予以去除之狀態。藉由以感光性樹脂膜所形成之遮罩60以及蝕刻處理，可將第1表面凹凸形狀46形成於模具用基材表面。

[8]第2蝕刻步驟

第2蝕刻步驟中，係藉由進一步的蝕刻處理(第2蝕刻處理)，將由第1蝕刻步驟所形成之第1表面凹凸形狀46予以鈍化之步驟。藉由此第2蝕刻處理，可消除由第1蝕刻步驟所形成之第1表面凹凸形狀46中之表面傾斜較陡的部分(以下將如此使表面凹凸形狀中之表面傾斜較陡的部分予以鈍化者稱為「形狀鈍化」)。第9圖(c)中，係示意顯示藉由第2蝕刻處理將模具用基材40的第1表面凹凸形狀46予以形狀鈍化，使表面傾斜較陡的部分被鈍化，而形成具有和緩的表面傾斜之第2表面凹凸形狀47之狀態。如此，進行第2蝕刻處理所得之模具，乃具有使用該模具所製造之本發明之防眩膜的光學特性更佳之效果。

第2蝕刻步驟之第2蝕刻處理亦可使用與第1蝕刻步驟相同之蝕刻液來進行蝕刻處理或反電解蝕刻。第2蝕刻處理後之形狀鈍化的程度(第1蝕刻步驟後之表面凹凸形狀之表面傾斜陡峭之部分的消失程度)，係因模具用基材的材質、第2蝕刻的手段、以及位於藉由第1蝕刻步驟所得之表面凹凸形狀之凹凸的大小及深度等而不同，無法一概而論，但控制鈍化程度(形狀鈍化程度)之最大因素為第2蝕刻處理中的蝕刻量。在此所謂蝕刻量亦與第1蝕刻步驟相同，是指藉由第2蝕刻處理所去除之基材的厚度。當第2蝕刻處理的蝕刻量較小時亦與藉由第1蝕刻步驟所得之表面凹凸形狀的形狀鈍化相關之效果不足。因此，使用形狀鈍化不足之模具所製造之防眩膜，有時容易產生泛白。另一方面，當第2蝕刻處理中的蝕刻量太大時，藉由第1蝕刻步驟所形成之表面凹凸形狀的凹凸幾乎消失，有時會成為具有大致平坦的表面之模具。使用如此具有大致平坦的表面之模具所製造之防眩膜，防眩性有時會不足。因此，第2蝕刻處理中的蝕刻量，較佳在1至50μm的範圍內，尤佳在6至21μm的範圍內，更佳在12至15μm的範圍內。關於第2蝕刻處理，與第1蝕刻步驟相同，可藉由1次的蝕刻處理來進行，或是將蝕刻處理分為2次以上來進行。在此，當將蝕刻處理分為2次以上來進行時，2次以上之蝕刻處理的蝕刻量合計，較佳為1至20μm。

[9]第2電鍍步驟

第2電鍍步驟中，係對經過前述[6]及[7]的步驟之模具用基材，較佳為經過前述[6]至[8]的步驟之模具用基材的表面施以電鍍(較佳為後述鍍鉻)。藉由進行第2電鍍步驟，可使模具用基材的表面凹凸形狀47鈍化，並藉由該鍍覆層來保護模具表面。第9圖(d)中，如上述般，係顯示將鍍鉻層71形成於藉由第2蝕刻處理所形成之第2表面凹凸形狀47上，以形成表面凹凸形狀的形狀鈍化(模具凹凸表面70)後之狀態。

藉由第2電鍍步驟所形成之鍍覆層，從具有光澤、硬度高、摩擦係數小且可賦予良好的脫模性來看，較佳為鍍鉻。在鍍鉻中，特佳為稱為所謂光澤鍍鉻或裝飾用鍍鉻等之可顯現出良好光澤之鍍鉻。鍍鉻一般是藉由電解來進行，但該鍍覆浴亦可使用含有無水鉻酸(CrO₃)與少量硫酸之水溶液作為電鍍液。藉由調節電流密度與電解時間，可控制鍍鉻層的厚度。

藉由對第2電鍍處理後之位於模具用基材表面之表面凹凸形狀施予鍍鉻，可得到使形狀鈍化且其表面硬度提升之模具。控制此時形狀鈍化的程度之最大因素為鍍鉻層的厚度。該厚度較薄時，有時容易產生泛白。另一方面，鍍鉻層的厚度較厚時，則防眩性不足。本發明者們係發現到：為了得到可充分防止泛白的產生且具有優異防眩性之影像顯示裝置之防眩膜，以使鍍鉻層的厚度成為既定範圍之方式來製造模具者乃為有效。亦即，鍍鉻層的厚度較佳在2至10μm的範圍內，尤佳在3至6μm的範圍內。

於第2電鍍步驟中所形成之鍍鉻層，較佳係形成為該維氏硬度成為800以上，尤佳形成為1000以上。當鍍鉻層的維氏硬度未達800時，使用模具來製造防眩膜時，會有該模具的耐久性降低之傾向。

[10]第2研磨步驟

模具製造的最後階段，為對上述第2電鍍步驟中施予鍍鉻後之模具用基材的表面(鍍鉻層)進行研磨之第2研磨步驟。鍍鉻層雖具有光澤、硬度高、摩擦係數小且具有良好的脫模性，但由於形成鍍鉻層時之高內部應力，於表面上會產生微龜裂。本發明之防眩膜的製造方法所使用之模具的製造方法中，較佳係進行該第2研磨步驟，以消除因鍍鉻的微龜裂之影響所致之些微表面形狀的粗糙化。使用因鍍鉻的微龜裂而造成殘留表面形狀的粗糙化之模具來製造防眩膜時，表面上的散射會增強，而有產生泛白之疑慮。此外，當微龜裂的產生密度形成分佈時，有時在使用該模具所製造之防眩膜上會產生散射較強與較弱之處，而產生不均。

第2研磨步驟中所適用之研磨之方法，較佳係不會對第2電鍍步驟中所形成之模具凹凸表面70造成影響，而能夠選擇性地研磨因微龜裂所導致之表面形狀的粗糙化之方法。具體而言，例示該研磨方法，可列舉出磨光法、流體研磨法、噴磨法等。第2研磨步驟中，鍍鉻層被消除的量之研磨量，較佳為0.03μm以上0.2μm以下。研磨量低於0.03μm時，消除因微龜裂所導致之表面形狀的粗糙化之效果不足。另一方面，研磨量高於0.2μm時，於模具凹凸表面70會產生平坦的區域。使用產生平坦的區域之模具來製造防眩膜時，會有防眩性不足之疑慮。

以下係說明作為用以製造本發明之防眩膜之較佳的前述光壓印法。如已說明般，光壓印法特佳為UV壓印法，在此說明使用活化能射線硬化型樹脂之壓印法。

為了連續地製造本發明之防眩膜，當藉由光壓印法來製造本發明之防眩膜時，較佳係包含下述步驟：[P1]將含有活化能射線硬化型樹脂之塗布液塗布於連續地運送之透明支撐體上，以形成塗布層之塗布步驟，[P2]在將模具的表面壓抵於塗布層的表面之狀態下，從透明支撐體側照射活化能射線之主硬化步驟。

此外，當藉由光壓印法來製造本發明之防眩膜時，[P3]於塗布步驟[P1]後、硬化步驟[P2]前，較佳係包含：將活化能射線照射在塗布層的寬度方向之兩方的端部區域之預硬化步驟。

以下係參考圖式來詳細說明各步驟。第10圖係示意顯示本發明之防眩膜的製造方法所使用之製造裝置之較佳一例之圖。第10圖中的箭頭係表示膜的運送方向或輥的旋轉方向。

[P1]塗布步驟

塗布步驟中，係將含有活化能射線硬化型樹脂之塗布液塗布於透明支撐體上以形成塗布層。塗布步驟例如為第10圖所示，係在塗布區83，將含有活化能射線硬化型樹脂組成物之塗布液塗布於由送出輥80所送出之透明支撐體81。

塗布液往透明支撐體81之塗布，例如可藉由凹版塗布法、微凹版塗布法、棒塗布法、刮刀塗布、空氣刀塗布、唇板塗布法、壓鑄膜塗布法等來進行。

(透明支撐體)

透明支撐體81係只要是具透光性者即可，例如可使用玻璃或塑膠膜等。塑膠膜係可為具有適度的透明性、機械強度者。具體而言，已在UV壓印法中所例示者的任一種均可使用，再者，為了藉由光壓印法連續地製造本發明之防眩膜，係選擇具有適度的可撓性者。

以改良塗布液的塗布性、透明支撐體與塗布層之接著性者為目的，亦可對透明支撐體81的表面(塗布層側表面)施以各種表面處理。表面處理係可列舉電暈放電處理、輝光放電處理、酸表面處理、鹼表面處理、紫外線照射處理等。此外，於透明支撐體81上，例如可形成引體層等之其他層，且將塗布液塗布於該其他層上。

此外，當本發明之防眩膜與偏光膜形成一體化而製造時，為了提升透明支撐體與偏光膜之接著性，較佳係藉由各種表面處理預先使透明支撐體的表面(與塗布層相反側之表面)形成親水化。該表面處理亦可於防眩膜的製造後進行。

(塗布液)

塗布液係含有活化能射線硬化型樹脂，通常更含有光聚合起始劑(自由基聚合起始劑)。可因應需要，含有透光性微粒、有機溶劑等溶劑、勻化劑、分散劑、抗帶電劑、防污劑、介面活性劑等各種添加劑。

(1)活化能射線硬化型樹脂

活化能射線硬化型樹脂係例如可較佳地使用含有多官能(甲基)丙烯酸酯化合物者。所謂多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，係指於分子中具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基之化合物。就多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的具體例而言，可列舉出例如多元醇與(甲基)丙烯酸之酯化物、(甲基)丙烯酸胺甲酸乙酯化合物、聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯酸環氧酯化合物等之含有2個以上的(甲基)丙烯醯基之多官能聚合性化合物等。

多元醇係例如可列舉乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇、丙二醇(propylene glycol)、二丙二醇、三丙二醇、四丙二醇、聚丙二醇、丙二醇(propanediol)、丁二醇、戊二醇、己二醇、新戊二醇、2-乙基-1,3-己二醇、2,2'-硫代二乙醇、1,4-環己烷二乙醇等之二元醇；三羥甲基丙烷、甘油、新戊四醇、二甘油、二新戊四醇、二(三羥甲基)丙烷等之三元以上的醇。

就多元醇與(甲基)丙烯酸之酯化物的具體例而言，可列舉二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯、三(甲基)丙烯酸三羥甲基乙烷酯、三(甲基)丙烯酸四羥甲基甲烷酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯、四(甲基)丙烯酸四羥甲基甲烷酯、三(甲基)丙烯酸五甘油酯、三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸甘油酯、三(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯等。

就(甲基)丙烯酸胺甲酸乙酯化合物而言，可列舉於1分子中具有複數個異氰酸基之有機異氰酸酯、及具有羥基之(甲基)丙烯酸衍生物的胺甲酸乙酯化反應物。於1分子中具有複數個異氰酸基之有機異氰酸酯，可列舉六亞甲二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、二甲苯基二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯等之於1分子中具有2個異氰酸基之有機異氰酸酯、將此等有機異氰酸酯進行三聚異氰酸酯改質、加成改質、縮二脲改質之於1分子中具有3個異氰酸基之有機異氰酸酯等。具有羥基之(甲基)丙烯酸衍生物，可列舉(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧丙酯、三丙烯酸新戊四醇酯等。

就聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物而言，較佳者為使含羥基的聚酯與(甲基)丙烯酸進行反應所得之聚酯(甲基)丙烯酸酯。可較佳地使用之含羥基的聚酯，其係藉由多元醇與羧酸或是具有複數個羧基之化合物及/或該酐的酯化反應所得之含羥基的聚酯。多元醇可例示與前述化合物為相同者。此外，除了多元醇之外，可列舉酚類之雙酚A等。羧酸例如可列舉甲酸、乙酸、丁基羧酸、苯甲酸等。具有複數個羧基之化合物及/或該酐，例如可列舉順丁烯二酸、鄰苯二甲酸、反丁烯二酸、伊康酸、己二酸、對苯二甲酸、順丁烯二酸酐、鄰苯二甲酸酐、偏苯三甲酸、環己烷二羧酸酐等。

以上之多官能(甲基)丙烯酸酯化合物中，從其硬化物的強度提升和取得容易性之觀點來看，較佳為二(甲基)丙烯酸己二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯、三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯等之酯化物；六亞甲二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥乙酯之加成物；異佛爾酮二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥乙酯之加成物；甲苯二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥乙酯之加成物；經加成物改質之異佛爾酮二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥乙酯之加成物；及經縮二脲改質之異佛爾酮二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸2-羥乙酯之加成物。再者，此等多官能(甲基)丙烯酸酯化合物係可分別單獨使用或併用2種以上。

活化能射線硬化型樹脂係除了上述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物之外，亦可含有單官能(甲基)丙烯酸酯化合物。單官能(甲基)丙烯酸酯化合物，例如可列舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧丙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、丙烯醯嗎啉、N-乙烯吡咯啶酮、(甲基)丙烯酸四氫呋喃酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸乙醯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧丁酯、(甲基)丙烯酸乙基卡必醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧酯、經環氧乙烷改質之(甲基)丙烯酸苯氧酯、(甲基)丙烯酸環氧丙烷酯、(甲基)丙烯酸壬酚酯、經環氧乙烷改質之(甲基)丙烯酸酯、經環氧丙烷改質之(甲基)丙烯酸壬酚酯、(甲基)丙烯酸甲氧二乙二醇酯、 2-(甲基)丙烯醯氧乙基-2-羥丙基鄰苯二甲酸酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧三乙二醇酯等之(甲基)丙烯酸酯類等。此等化合物係可分別單獨使用或與併用2種以上。

活化能射線硬化型樹脂亦可含有聚合性寡聚物。藉由含有聚合性寡聚物，即可調整硬化物的硬度。聚合性寡聚物係例如可列舉前述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，亦即多元醇與(甲基)丙烯酸之酯化物、(甲基)丙烯酸胺甲酸乙酯化合物、聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物或(甲基)丙烯酸環氧酯化合物等之二聚物、三聚物之類的寡聚物。

此外，就其他聚合性寡聚物而言，可列舉於分子中具有至少2個異氰酸基之聚異氰酸酯與具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之多元醇的反應所得之(甲基)丙烯酸胺甲酸乙酯寡聚物。聚異氰酸酯係例如可列舉六亞甲二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯之聚合物等，具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之多元醇係藉由多元醇與(甲基)丙烯酸的酯化反應所得之含羥基的(甲基)丙烯酸酯，多元醇係例如可列舉1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、二乙二醇、三乙二醇、新戊二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、三羥甲基丙烷、甘油、新戊四醇、二新戊四醇等。此具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之多元醇，該多元醇之醇性羥基的一部分與(甲基)丙烯酸進行酯化反應，並且醇性羥基殘存於分子中。

再者，就其他聚合性寡聚物的例而言，可列舉藉由具有複數個羧基之化合物及/或該酐、與具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之多元醇的反應所得之聚酯(甲基)丙烯酸酯寡聚物。具有複數個羧基之化合物及/或該酐，可例示與前述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物中所述者為相同者。此外，具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之多元醇，可例示與上述(甲基)丙烯酸胺甲酸乙酯寡聚物中所述者為相同者。

除了上述聚合性寡聚物之外，就(甲基)丙烯酸胺甲酸乙酯寡聚物的例而言，可列舉使異氰酸酯類與含羥基的聚酯、含羥基的聚醚或含羥基的(甲基)丙烯酸酯之羥基進行反應所得之化合物等。可較佳地使用之含羥基的聚酯，係藉由多元醇與羧酸或是具有複數個羧基之化合物及/或該酐的酯化反應所得之含羥基的聚酯。多元醇、及具有複數個羧基之化合物及/或該酐，係分別可例示與多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物中所述者為相同者。可較佳地使用之含羥基的聚醚，係藉由將1種或2種以上的環氧烷及/或ε-己內酯加成於多元醇所得之含羥基的聚醚。多元醇係可例示與前述含羥基的聚酯中所使用者為相同者。可較佳地使用之含羥基的(甲基)丙烯酸酯係可例示與聚合性寡聚物的(甲基)丙烯酸胺甲酸乙酯寡聚物中所述者為相同者。就異氰酸酯類而言，較佳為於分子中具有1個以上的異氰酸基之化合物，特佳為甲苯二異氰酸酯、六亞甲二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等之二元的異氰酸酯化合物。

此等聚合性寡聚物化合物係可分別單獨使用或組合2種以上使用。

(2)光聚合起始劑

光聚合起始劑係可因應使用在本發明之防眩膜的製造之活化能射線的種類來適當地選擇。此外，當使用電子束作為活化能射線時，亦可將不含光聚合起始劑之塗布液使用在本發明之防眩膜的製造。

光聚合起始劑係例如可使用苯乙酮系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、二苯基酮系光聚合起始劑、噻吨酮系光聚合起始劑、三嗪系光聚合起始劑、噁二唑系光聚合起始劑等。此外，光聚合起始劑係例如亦可使用2,4,6-三甲基苯甲醯二苯基膦氧化物、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-雙咪唑、10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、苄、9,10-菲醌、樟腦醌、苯基乙醛酸甲酯、二茂鈦化合物等。光聚合起始劑的用量係相對於活化能射線硬化型樹脂100重量份，通常為0.5至20重量份，較佳為1至5重量份。

塗布液係為了改良相對於透明支撐體之塗布性，有時亦包含有機溶劑等溶劑。有機溶劑係可考量到黏度等，從以下溶劑等中選擇使用，亦即己烷、環己烷、辛烷等之脂肪族烴；甲苯、二甲苯等之芳香族烴；乙醇、1-丙醇、異丙醇、1-丁醇、環己醇等之醇類；丁酮、甲基異丁酮、環己酮等之酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸異丁酯等之酯類；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、二乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚等之二醇醚類；乙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等之酯化二醇醚類；2-甲氧乙醇、2-乙氧乙醇、2-丁氧乙醇等之溶纖劑類；2-(2-甲氧基乙氧基)乙醇、2-(2-乙氧基乙氧基)乙醇、2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇等之卡必醇類等。此等溶劑係可單獨使用或因應需要而混合複數種以上而使用。在塗布後，必須使上述有機溶劑蒸發。因此，沸點較佳是在60℃至160℃的範圍內。此外，20℃時的飽和蒸氣壓係較佳為在0.1kPa至20kPa的範圍內。

當塗布液包含溶劑時，於上述塗布步驟後、第1硬化步驟前，較佳係設置使溶劑蒸發以進行乾燥之乾燥步驟。乾燥係例如前述第10圖所示之例子般，可使具備塗布層之透明支撐體81通過乾燥區84內而進行。乾燥溫度可因應要使用之溶劑或透明支撐體的種類來適當地選擇。一般而言為20℃至120℃的範圍，但並不限定於此。此外，當具有複數個乾燥爐時，可於每個乾燥爐改變溫度。乾燥後之塗布層的厚度，較佳為1至30μm。

然後將與塗布層積層而形成積層體。

[P2]硬化步驟

本步驟為在將具有所希望的表面凹凸形狀之模具凹凸表面(成形面)推抵於塗布層的表面之狀態下，從透明支撐體側照射活化能射線以使塗布層硬化，藉此將硬化後的樹脂層形成於透明支撐體上之步驟。藉此可使塗布層硬化，並且將模具凹凸表面的表面凹凸形狀轉印至塗布層表面。在此所使用之模具為輥形狀者且為係在已說明之模具製造方法中使用輥形狀的模具用基材所製造者。

本步驟係例如為第10圖所示，例如可使用配置在透明支撐體81側之紫外線照射裝置等活化能射線照射裝置86，將活化能射線照射在具有通過塗布區83(進行乾燥時為乾燥區84，進行後述預硬化步驟時為藉由活化能射線照射裝置86進行照射之預硬化區)之塗布層之積層體而進行。

首先，使用軋輥88等壓合裝置，將輥形狀的模具87推抵於進行硬化步驟後之積層體之塗布層的表面，於該狀態下，使用活化能射線照射裝置86，從透明支撐體81側照射活化能射線以使塗布層82硬化。在此，所謂「使塗布層硬化」，是指該塗布層所包含之活化能射線硬化型樹脂接受活化能射線的能量而產生硬化反應者。軋輥的使用係對於防止氣泡混入於積層體的塗布層與模具之間者為有效。活化能射線照射裝置係可使用1台或複數台。

於活化能射線的照射後，積層體係以出口側的軋輥89為支點從模具87中剝離。所得之透明支撐體與硬化後之塗布層，該硬化後之塗布層成為防眩層而得到本發明之防眩膜。所得之防眩膜係通常藉由膜捲取裝置90所捲取。此時，以保護防眩層者為目的，可透過具有再剝離性之黏著劑層，一邊將由聚對苯二甲酸乙二酯或聚乙烯等所構成之保護膜貼合於防眩層表面一邊捲取。在此係說明所使用之模具為輥形狀者之情形，但亦可使用輥形狀以外的模具。此外，從模具中剝離後，可進行追加的活化能射線照射。

本步驟所使用之活化能射線係可因應塗布液中所含有之活化能射線硬化型樹脂的種類，從紫外線、電子束、近紫外線、可見光、近紅外線、紅外線、X射線等來適當地選擇，在此等中，較佳為紫外線、電子束，尤其從處理簡便且容易得到高能量之觀點來看，特佳為紫外線(如上述般，光壓印法較佳為UV壓印法)。

紫外線的光源，例如可使用低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、碳電弧燈、無電極燈、金屬鹵化物燈、氙燈等。此外，亦可使用ArF準分子雷射、KrF準分子雷射、準分子雷射燈或是同步輻射光等。此等中，較佳可使用超高壓汞燈、高壓汞燈、低壓汞燈、無電極燈、氙電弧燈、金屬鹵化物燈。

此外，電子束可列舉具有從科克勞夫-沃吞(Cockcroft-Walton)型、範德格拉夫(Van de Graaf)型、共振變壓型、絕緣芯變壓器型、直線型、高頻高壓型、高頻率型等之各種電子束加速器所射出之具有50至1000keV、較佳為100至300keV的能量之電子束。

當活化能射線為紫外線時，紫外線之UVA的積算光量較佳為100mJ/cm²以上3000mJ/cm²以下，尤佳為200mJ/cm²以上2000mJ/cm²以下。此外，透明支撐體有時亦會吸收短波長側的紫外線，故以抑制該吸收為目的，以使包含可見光之波長區域的紫外線UVV(395至445nm)的積算光量成為較佳之方式調整照射量。該UVV的積算光量較佳為100mJ/cm²以上3000mJ/cm²以下，尤佳為200mJ/cm²以上2000mJ/cm²以下。當積算光量未達100mJ/cm²時，會有塗布層的硬化不足而使所得之防眩層的硬度降低，或是未硬化的樹脂附著於導引輥而成為製程污染的原因之傾向。此外，當積算光量超過3000mJ/cm²時，由於從紫外線照射裝置所釋出的熱，有時會使透明支撐體收縮而成為變皺之原因。

[P3]預硬化步驟

本步驟係為在前述硬化步驟之前先將活化能射線照射在塗布層之透明支撐體的寬度方向之兩方的端部區域，以使該兩端部區域預硬化之步驟。第11圖係示意顯示預硬化步驟之剖面圖。第11圖中，塗布層之寬度方向(與搬送方向正交之方向)之兩方的端部區域82b，為從包含塗布層的端部之端部具有既定寬度之區域。

預硬化步驟中，藉由使端部區域預先硬化，可在端部區域進一步提升與透明支撐體之密接性，於硬化步驟後的步驟中，可防止硬化樹脂的一部分剝落並落下而污染製程。端部區域82b係可設為從塗布層82的端部例如為5mm以上50mm以下的區域。

活化能射線往塗布層的端部區域之照射，參考第10圖及第11圖，例如可使用分別設置在塗布層82側的兩端部附近之紫外線照射裝置等活化能射線照射裝置 85，將活化能射線照射在具有通過塗布區83(進行乾燥時為乾燥區84)之塗布層82之透明支撐體81而進行。活化能射線照射裝置85係只要是可將活化能射線照射在塗布層82的端部區域82b者即可，亦可設置在透明支撐體81側。

活化能射線的種類及光源係與主硬化步驟相同。當活化能射線為紫外線時，紫外線之UVA的積算光量，較佳為10mJ/cm²以上400mJ/cm²以下，尤佳為50mJ/cm²以上400mJ/cm²以下。藉由以50mJ/cm²以上來照射，可更有效地防止主硬化步驟中的變形。超過400mJ/cm²時，硬化反應過度地進行之結果，於硬化部分與未硬化部分之交界中，有時起因於膜厚差或內部應力的扭曲而產生樹脂剝離。

[本發明之防眩膜的用途]

以上所得之本發明之防眩膜係使用在影像顯示裝置等者，通常是作為觀看側偏光板的觀看側保護膜貼合於偏光膜而使用(亦即配置在影像顯示裝置的表面)。此外，如已說明般，當使用偏光膜作為透明支撐體時，可得到偏光膜一體型之防眩膜，因此亦可將該偏光膜一體型的防眩膜使用在影像顯示裝置。具備本發明之防眩膜之影像顯示裝置係於寬廣的觀察角度下具有充分的防眩性，且可良好地防止泛白及閃斑的產生。

[實施例]

以下係列舉出實施例來更詳細地說明本發明。例中，關於表示含量或用量之%及份，若無特別記載時則為重量基準。此外，以下例子之模具或防眩膜的評估方法係如下所述。

[1]防眩膜之表面形狀的測定

(從表面凹凸形狀的標高所計算之複變振幅的功率譜)

使用三維顯微鏡PL μ 2300(Sensofar公司製)，來測定成為測定樣本之防眩膜的防眩層之表面凹凸形狀的標高。為了防止樣本的翹曲，係使用光學呈透明之黏著劑，將測定樣本之與防眩層相反側的面貼合於玻璃基板後，再提供於測定。測定時，將物鏡的倍率設為10倍來進行測定。水平分解能△x及△y均為1.66μm，測定面積為1270μm×950μm。從所得之測定資料的中央部，取樣512個×512個(測定面積為850μm×850μm)的資料，並求得防眩膜所具有之表面凹凸形狀(防眩層的表面凹凸形狀)的標高而作為二維函數h(x,y)。接著從二維函數h(x,y)計算複變振幅而作為二維函數φ(x,y)。計算複變振幅時之波長λ係設為550nm。對該複變振幅φ(x,y)進行離散傅利葉轉換而求取二維函數Ψ(f_x,f_y)。對二維函數Ψ(f_x,f_y)的絕對值進行平方運算，以計算二維功率譜的二維函數H(f_x,f_y)，並計算作為從原點之距離f的函數之一維功率譜的一維函數H(f)。對於各樣本，對5處的表面凹凸形狀測定標高，並將從此等資料所計算之一維功率譜的一維函數H(f)之平均值，設為各樣本之一維功率譜的一維函數H(f)。

[2]防眩膜之光學特性的測定

(霧度)

防眩膜的總霧度係使用光學性透明之黏著劑，將測定樣本之與防眩層相反側的面貼合於玻璃基板，對貼合於該玻璃基板之防眩膜，從玻璃基板側使光入射，並藉由依據JIS K 7136之方法，使用村上色彩技術研究所股份有限公司製的霧度計「HM-150」型來進行測定。表面霧度係可求取防眩膜的內部霧度，並藉由下式：表面霧度=總霧度-內部霧度

從總霧度減去內部霧度而求取。內部霧度係以甘油將霧度大致為0的三乙醯纖維素膜貼合於測定總霧度後之測定樣本的防眩層面後，與總霧度同樣地進行測定。

(穿透鮮明度)

藉由依據JIS K 7105之方法，使用Suga Test Instruments股份有限公司製的攝像性測定器「ICM-IDP」來測定防眩膜的穿透鮮明度。此時，為了防止防眩膜的翹曲，亦使用光學性透明之黏著劑，將測定樣本之與防眩層相反側的面貼合於玻璃基板後，提供作為測定用。於此狀態下，從玻璃基板側使光入射並進行測定。在此之測定值係使用暗部與亮部的寬度分別為0.125mm、0.25mm、0.5mm、1.0mm、2.0mm之5種光學梳，並設為分別測得之值的合計值。

(以光的入射角45°所測得之反射鮮明度)

藉由依據JIS K 7105之方法，使用Suga Test Instruments股份有限公司製的攝像性測定器「ICM-IDP」來測定防眩膜的反射鮮明度。此時，為了防止防眩膜的翹曲，亦使用光學呈透明之黏著劑，將測定樣本之與防眩層相反側的面貼合於黑色丙烯酸基板後，提供作為測定用。於此狀態下，從防眩層側以45°使光入射並進行測定。在此之測定值係使用暗部與亮部的寬度分別為0.25mm、0.5mm、1.0mm、2.0mm之4種光學梳，並設為分別測得之值的合計值。

(以光的入射角60°所測得之反射鮮明度)

藉由依據JIS K 7105之方法，使用Suga Test Instruments股份有限公司製的攝像性測定器「ICM-IDP」來測定防眩膜的反射鮮明度。此時，為了防止防眩膜的翹曲，亦使用光學性透明之黏著劑，將測定樣本之與防眩層相反側的面貼合於黑色丙烯酸基板後，提供作為測定用。於此狀態下，從防眩層側以60°使光入射並進行測定。在此之測定值係使用暗部與亮部的寬度分別為0.25mm、0.5mm、1.0mm、2.0mm之4種光學梳，並設為分別測得之值的合計值。

(視感反射率R_SCI與視感反射率R_SCE)

使用分光測色計CM2002(Konica Minolta Sensing公司製)，來測定以正反射光射入方式所測得之視感反射率R_SCI與以正反射光去除方式所測得之視感反射率R_SCE。將測定樣本之與防眩層相反側的反射予以去除。為了防止防眩膜的翹曲，係使用光學性透明之黏著劑，將測定樣本之與防眩層相反側的面貼合於黑色丙烯酸基板後，提供作為測定用。

[3]防眩膜之防眩性能的評估

(映射、泛白的目視評估)

為了防止來自防眩膜背面之反射，將測定樣本之與防眩層相反側的面貼合於黑色丙烯酸基板以貼合防眩膜，在點亮螢光燈之明亮室內，從防眩層側以目視來觀察，並以目視來評估螢光燈之映射的有無、泛白的程度。關於映射，係分別評估從正面觀察時之映射的程度與從斜向30°觀察時之映射的程度。映射及泛白係分別以1至3的3階段，藉由以下基準來評估。

映射1：未觀察到映射。

2：觀察到些許映射。

3：明顯地觀察到映射。

泛白1：未觀察到泛白。

2：觀察到些許泛白。

3：明顯地觀察到泛白。

(閃斑的評估)

閃斑係以下列步驟來評估。亦即，首先準備具有第12圖的俯視圖所示之單位單元之圖案的光罩。在該圖中，單位單元100係於透明基板上形成有線寬10μm且為鑰匙形狀的鉻遮光圖案101，未形成該鉻遮光圖案101之部分係成為開口部102。在此，單位單元的尺寸為211μm×70μm(圖中的縱×橫)，因此，係使用開口部的尺寸為201μm×60μm(圖中的縱×橫)者。圖示之單位單元於縱橫向排列多數個，而形成光罩。

如第13圖的示意剖面圖所示，以光罩113 的鉻遮光圖案111為上方放置在燈箱115，並以使該防眩層成為表面之方式，以黏著劑將防眩膜110貼合於玻璃板117而構成樣本，將樣本放置在光罩113。於燈箱115中配置有光源116。於該狀態下，於距離樣本約30cm的位置119進行目視觀察，藉此以7階段對閃斑的程度進行官能評估。等級1相當於完全未觀察到閃斑之狀態，等級7相當於觀察到極嚴重的閃斑之狀態，等級4為觀察到些許的閃斑之狀態。

(對比的評估)

從市售的液晶電視(Sony股份有限公司製的"KDL-32EX550")中將表裏兩面的偏光板予以剝離。然後將住友化學股份有限公司製的偏光板"Sumikalan SRDB31E"，以各自的吸收軸與原先偏光板的吸收軸一致之方式，隔介黏著劑貼合於背面側與顯示面側以取代原先的偏光板，然後以使凹凸面成為表面之方式，隔介黏著劑將以下各例所示之防眩膜貼合於顯示面側偏光板上。於暗室內啟動如此所得之液晶電視，並使用Topcon股份有限公司製的亮度計"BM5A"型，測定黑顯示狀態及白顯示狀態時的亮度，並算出對比。在此，對比係以白顯示狀態的亮度相對於黑顯示狀態的亮度之比來表示。結果係在未貼合防眩膜之狀態下所測得之對比，相對於在貼合防眩膜之狀態下所測得之對比之比率來顯示。

[5]防眩膜製造用圖案的評估

將所製作之圖案資料構成為2階調的二值化影像資料，並以二維的離散函數g(x,y)來表示階調。離散函數g(x,y)的水平分解能△x及△y均為2μm。對所得之二維函數g(x,y)進行離散傅利葉轉換而求取二維函數G(f_x,f_y)。對二維函數G(f_x,f_y)的絕對值進行平方運算，以計算出二維功率譜的二維函數Γ(f_x,f_y)，並計算作為從原點之距離f的函數之一維功率譜的一維函數Γ(f)。

<實施例1>

(防眩膜製造用模具的製作)

首先準備在直徑300mm的鋁輥(依據JIS之A6063)的表面施以銅巴拉德電鍍者。銅巴拉德電鍍是由鍍銅層/薄鍍銀層/表面鍍銅層所形成者，鍍覆層整體的厚度係設定為大約200μm。對該鍍銅表面進行鏡面研磨，將感光性樹脂塗布於經研磨的鍍銅表面，並進行乾燥而形成感光性樹脂膜。接著將重複排列有第14圖所示之圖案A的圖案，於感光性樹脂膜上藉由雷射光進行曝光與顯影。依據雷射光所進行之曝光與顯影係使用Laser Stream FX(Think Laboratory股份有限公司製)來進行。感光性樹脂膜係使用包含正型感光性樹脂者。在此，圖案A是從具有不規則的明亮分布之圖案中，通過複數個高斯函數型的帶通濾波器所製作者，開口率為45%，一維功率譜的空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.01μm^-1中之強度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)為4.8，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.02μm^-1中之強度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)為0.4，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.04μm^-1中之強度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)為5.5。

然後以氯化銅液進行第1蝕刻處理。此時之蝕刻量係設定為4μm。從第1蝕刻處理後的輥中去除感光性樹脂膜，並再次以氯化銅液進行第2蝕刻處理。此時之蝕刻量係設定為13μm。然後進行鍍鉻加工。此時，鍍鉻厚度係設定為4μm。以下列條件對施以鍍鉻之輥進行磨光研磨，而製作模具A。

研磨材料：Micro Polish(粒度0.05μm的氧化鋁研磨材料(武藏野電子股份有限公司製)

研磨布：布(紅色)(武藏野電子股份有限公司製)

輥轉速：60rpm

按壓壓力：1.1kPa

(防眩膜的製作)

首先準備：以下各成分係以固體成分濃度60%溶解於乙酸乙酯，並在硬化後可形成顯示1.53的折射率之膜之紫外線硬化性樹脂組成物A。

三丙烯酸新戊四醇酯 60份

多官能丙烯酸胺甲酸乙酯(六亞甲二異氰酸酯與三丙烯酸新戊四醇酯之反應生成物) 40份

二苯基(2,4,6-三甲氧基苄基)膦氧化物 5份

以使乾燥後之塗布層的厚度成為5μm之方式，將該紫外線硬化性樹脂組成物A塗布於厚度60μm的三乙醯纖維素(TAC)膜上，在設定為60℃之乾燥機中進行3分鐘的乾燥。將乾燥後的膜，以使乾燥後的塗布層成為模具側之方式，藉由橡膠輥按壓於先前所得之模具A的成形面(具有表面凹凸形狀之面)並使之密合。在此狀態下，從TAC膜側，以經h射線換算的光量成為200mJ/cm²之方式，將來自強度20mW/cm²之高壓汞燈的光予以照射，使塗布層硬化而製造防眩膜。然後，將所得之防眩膜從模具中剝離，而製作出於TAC膜上具備防眩層之透明防眩膜A。

<實施例2>

除了將第1蝕刻步驟中的蝕刻量設為3μm之外，其他與實施例1之模具A的製作相同而製作出模具B，且除了將模具A取代為模具B之外，其他與實施例1相同地製作防眩膜。將該防眩膜設為防眩膜B。

<實施例3>

除了將第1蝕刻步驟中的蝕刻量設為5μm之外，其他與實施例1之模具A的製作相同而製作出模具C，且除了將模具A取代為模具C之外，其他與實施例1相同地製作防眩膜。將該防眩膜設為防眩膜C。

<實施例4>

除了藉由雷射光使重複排列有第15圖所示之圖案B的圖案曝光之外，其他與實施例1之模具A的製作相同而製作出模具D，且除了將模具A取代為模具D之外，其他與實施例1相同地製作防眩膜。將該防眩膜設為防眩膜D。在此，圖案B是從具有不規則的明亮分布之圖案中，通過複數個高斯函數型的帶通濾波器所製作者，開口率為45%，一維功率譜的空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.01μm^-1中之強度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)為2.7，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.02μm^-1中之強度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)為0.5，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.04μm^-1中之強度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)為3.7。

<實施例5>

除了藉由雷射光使重複排列有第16圖所示之圖案C的圖案曝光之外，其他與實施例1之模具A的製作相同而製作出模具E，且除了將模具A取代為模具E之外，其他與實施例1相同地製作防眩膜。將該防眩膜設為防眩膜E。在此，圖案C是從具有隨機的明亮分布之圖案中，通過複數個高斯函數型的帶通濾波器所製作者，開口率為45%，一維功率譜的空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.01μm^-1中之強度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)為3.5，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.02μm^-1中之強度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)為0.42，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.04μm^-1中之強度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)為5.5。

<比較例1>

除了將第1蝕刻步驟中的蝕刻量設為6μm之外，其他與實施例1之模具A的製作相同而製作出模具F，且除了將模具A取代為模具F之外，其他與實施例1相同地製作防眩膜。將該防眩膜設為防眩膜F。

<比較例2>

除了使用直徑200mm的鋁輥(依據JIS之A6063)，並藉由雷射光使重複排列有第17圖所示之圖案D的圖案曝光於感光性樹脂膜上之外，其他與實施例1之模具A的製作相同而製作出模具G，且除了將模具A取代為模具G之外，其他與實施例1相同地製作防眩膜。將該防眩膜設為防眩膜G。在此，圖案D是從具有不規則的明亮分布之圖案中，通過複數個高斯函數型的帶通濾波器所製作者，開口率為45.0%，一維功率譜的空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.01μm^-1中之強度Γ(0.01)之比Γ(0.01)/Γ(0.002)為4.2，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.02μm^-1中之強度Γ(0.02)之比Γ(0.02)/Γ(0.002)為14，空間頻率0.002μm^-1中之強度Γ(0.002)與空間頻率0.04μm^-1中之強度Γ(0.04)之比Γ(0.04)/Γ(0.002)為208。

<比較例3>

對直徑300mm的鋁輥(依據JIS之A5056)的表面進行鏡面研磨，並使用噴砂裝置(不二製作所股份有限公司製)，以噴砂壓力0.1MPa(計示壓，以下亦同)、顆粒用量8g/cm²(輥表面積每1cm²之用量，以下亦同)，將二氧化鋯顆粒TZ-SX-17(Tosoh股份有限公司製，平均粒徑：20μm)噴砂至經研磨的鋁面，於鋁輥表面形成凹凸。對所得之附有凹凸的鋁輥進行無電解鍍鎳加工，而製作出模具H。此時，無電解鍍鎳厚度係設定為15μm。除了將模具A取代為模具H之外，其他與實施例1相同地製作防眩膜。將該防眩膜設為防眩膜H。

<比較例4>

首先準備在直徑200mm的鋁輥(依據JIS之A5056)的表面施以銅巴拉德電鍍者。銅巴拉德電鍍是由鍍銅層/薄鍍銀層/表面鍍銅層所形成者，鍍覆層整體的厚度約200μm。對該鍍銅表面進行鏡面研磨，並使用噴砂裝置(不二製作所股份有限公司製)，以噴砂壓力0.05MPa(計示壓，以下亦同)、顆粒用量6g/cm²，將二氧化鋯顆粒TZ-SX-17(Tosoh股份有限公司製，平均粒徑：20μm)噴砂至該研磨面，於鋁輥表面形成凹凸。對所得之附有凹凸的鋁輥進行鍍鉻加工，而製作出模具I。此時，鍍鉻厚度係設定為6μm。除了將模具A取代為模具I之外，其他與實施例1相同地製作防眩膜。將該防眩膜設為防眩膜I。

[評估結果]

第1表係顯示以上之實施例及比較例所得之防眩膜的評估結果。

符合本發明的要件之防眩膜A至E(實施例1至5)，即使為低霧度，不論觀察角度為正面或斜向均具有優異防眩性，並且泛白及閃斑的抑制效果亦充足。另一方面，防眩膜F(比較例1)產生泛白。防眩膜G(比較例2)從斜向觀察時防眩性不足。防眩膜H(比較例3)容易產生閃斑。防眩膜I(比較例4)從斜向觀察時防眩性不足。

[產業上之可利用性]

本發明之防眩膜係於液晶顯示器等之影像顯示裝置中為有用。